JP3100084B2 - Ultra-fine particles of manufacturing equipment - Google Patents

Ultra-fine particles of manufacturing equipment

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薫 梅屋
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Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、無機材料または金属材料の超微粒子を製造する装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for producing ultrafine particles of an inorganic material or a metal material. 本発明は具体的にはRFプラズマ法による無機材料または金属材料の粉末からこれらの超微粒子を製造する装置における粉末原料の放出装置の改良に関する。 The present invention relates to an improvement of the release device of the powder material in the apparatus for manufacturing these ultrafine particles from the powder of an inorganic material or a metal material by RF plasma method in particular.

【0002】また本発明は、無機材料または金属材料の超微粒子で表面が被覆された無機材料または金属材料の粒子の製造装置にも関する。 [0002] The invention also relates to apparatus for producing particles of an inorganic material or an inorganic material or a metal material surface with ultrafine particles are coated metallic material.

【0003】 [0003]

【従来の技術】RFプラズマを用いる超微粒子の製造はこれまでに多くの先行技術文献中に示されている。 Manufacture of ultrafine particles using RF plasma has been shown in many prior art documents so far. これらの技術文献中で、例えば特開昭62−171902号公報、特開昭63−85007号公報には原料供給管がプラズマ焔とは離れた場所に設けられている装置が示されているが、この装置では生成する超微粒子の装置への付着により円滑な操業が妨げられることから、これら装置を改良するものとして特開平2−203932号公報において、原料供給管をプラズマ焔中に設けた装置が提案されている。 In these technical literature, for example, JP 62-171902 and JP-but raw material supply pipe in JP-A-63-85007 is shown an apparatus which is provided away from the plasma flame , since the smooth operation is prevented due to the adhesion to the device of the ultrafine particles produced by this device, is provided in Japanese Patent Laid-Open 2-203932 discloses as to improve these devices, the raw material supply pipe into the plasma flame device There has been proposed.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする課題】上述した先行技術文献の前二者における課題であった円滑な操業の達成という観点からすれば後者の文献に記載の装置は或る程度の成果を得るものであったが、原料供給管をプラズマ焔中に設けるという点で致命的な欠点を有する。 [0005] described in the latter document from the viewpoint of achieving a smooth operation which has been a problem in the two parties before the prior art documents mentioned above device intended to obtain the result of a certain degree there was however, it has a fatal defect in that provision of the raw material supply pipe into the plasma flame. すなわち、プラズマ焔中では不可避的に供給管自体が加熱され、これが気化して超微粒子中にコンタミネーションを起すことになる。 That is, in the plasma flame is inevitably supply pipe itself is heated, which would cause contamination and vaporized into ultrafine particles. そして超微粒子の用途によってはかかるコンタミネーションは生成された超微粒子に決定的な欠陥をもたらすのである。 The contamination according by ultrafine particles use is to bring about a decisive defect in ultrafine particles produced.

【0005】 [0005]

【課題を解決するための手段】上記した課題を解決するために本発明者らは鋭意研究した結果RFプラズマ法によって形成されるプラズマ焔の直上に特定の構成の粉末原料の放出装置の放出口を設けることによって高能率でかつなんらの原料の放出装置によるコンタミネーションの危険なしに超微粒子を製造しうることを見出して本発明を完成した。 The present inventors to solve the problems described above SUMMARY OF THE INVENTION The outlet of the discharge device of a particular configuration of the powdered material directly above the plasma flame formed by the intensive research result RF plasma method the without risk of contamination due to the release device of high efficiency in and any of the raw material it found that can be produced ultrafine particles and have completed the present invention by providing.

【0006】すなわち、本発明は、RFプラズマ法によって形成されるプラズマ焔の直上に、無機材料または金属材料の粉末原料の放出装置の放出口が設置され、供給される粉末原料はキャリヤガスにより旋回運動が与えられてプラズマ焔中に供給されるようにされた、該粉末原料から無機材料または金属材料の超微粒子を製造する装置に関する。 Namely, the present invention is directly above the plasma flame formed by the RF plasma method, outlet of the discharge device of the powder raw material of an inorganic material or a metal material is installed, the powder raw material supplied is turning the carrier gas movement is provided to be supplied into the plasma flame, an apparatus for producing ultrafine particles of an inorganic material or a metal material from the powder material.

【0007】更にまた本発明は上記のようにして形成された超微粒子流と、この超微粒子で表面を被覆しようとする無機材料また金属材料の母材粒子とを接触させ、もって超微粒子で表面が被覆された母材粒子を製造するための装置すなわち、RFプラズマ法によって形成されるプラズマ焔の直上に、無機材料また金属材料の粉末原料の放出装置の放出口が設置され、供給される粉末原料はキャリヤガスにより旋回運動が与えられてプラズマ焔中に供給されるようにされ、そしてプラズマ焔の下流に超微粒子によって表面を被覆しようとする無機材料または金属材料母材の粉末を導入する装置を備え、生成した超微粒子と導入された母材の粉末とが接触せしめられるようにされた、母材の粒子の表面を超微粒子で被覆する装置にも関する。 [0007] Furthermore, the present invention is contacted with ultrafine particles flow which is formed as described above, the base particles of an inorganic material also metal material to be coated the surface with this ultrafine particles, with the surface with ultrafine particles There apparatus for producing the coated base particles other words, directly above the plasma flame formed by the RF plasma method, outlet of the discharge device of the powder raw material of inorganic material also metal material is installed, the powder to be supplied material is to orbiting motion by the carrier gas is supplied into the given plasma flame, and apparatus for introducing a powder of inorganic or metal material matrix to be coated the surface by ultra-fine particles downstream of the plasma flame the provided, the generated ultrafine particles and powders of the introduced preform is to be contacted, also relates to an apparatus for coating the surface of the particles of the base material in ultrafine particles.

【0008】本発明の装置は、上記の構成によって超微粒子の製造および母材の粒子の表面に超微粒子が被覆された粒子が、原料供給管がプラズマ焔に接することによる原料供給管の構成材料の超微粒子中へのコンタミネーションの危険がなく超微粒子を円滑に製造しうるものである。 [0008] device of the present invention, the surface ultra fine particles are coated particles of the particles of the ultrafine particles produced and the base material by the configuration described above, the constituent material of the raw material supplying tube by the material supply pipe is in contact with the plasma flame in which the risk of contamination of the ultra-fine particles in may be prepared smoothly ultrafine particles without.

【0009】本発明の装置によって製造される無機材料または金属材料の超微粒子としては、種々の無機物質、 [0009] As the ultra-fine particles of an inorganic material or a metal material produced by the apparatus of the present invention, various inorganic materials,
例えば酸化物であるAl 23 、BeO、SiO 2 、Mg Al 2 O 3, for example oxide, BeO, SiO 2, Mg
O、ZrO 2 、Y 23 、CaOなど、窒化物であるSi 3 O, ZrO 2, Y 2 O 3, CaO , etc., Si 3 is a nitride
4 、AlN、BNなど、炭化物であるWC、SiCなど、ほう素化物であるBP、BNなど、酸窒化物であるSIALON(サイアロン)など、単体元素であるC、 N 4, AlN, BN, etc., WC is a carbide, such as SiC, boron BP is hydrides, BN, etc., an acid nitride such as SIALON (sialon) is a unitary elements C,
Bなどおよび種々の金属例えばSi、Al、Ni C B etc. and various metals such as Si, Al, Ni C
o、Fe、Ti、Cu、Au、Ag、Wなどおよび金属間化合物および合金の種々のもの、例えばFe−Ni− o, Fe, Ti, Cu, Au, Ag, W, etc. and intermetallic compounds and various alloys ones, for example, Fe-Ni-
Si合金、Fe−Cr−Al合金、Fe−Cr−Mo合金、Fe−Ni−Cr合金、Ni−Cr合金、Al−T Si alloy, Fe-Cr-Al alloy, Fe-Cr-Mo alloy, Fe-Ni-Cr alloy, Ni-Cr alloy, Al-T
i合金など、並びにこれらの材料を複合したものなどの超微粒子が挙げられる。 Such as i alloys, as well as ultra-fine particles such as those obtained by combining these materials.

【0010】もう一つの本発明の装置によって得られる無機材料または金属材料母材の粒子の表面を超微粒子で被覆した粒子の、該母材の粒子を構成する材料としては、耐火物またはセラミックスと呼ばれる総べての無機物質、例えば酸化物であるAl [0010] The particles coated with another surface of the inorganic or metal material matrix of the particles obtained by the apparatus of the present invention with ultra fine particles, as the material constituting the particles of the base material is a refractory or ceramic all inorganic substance called, Al for example oxides 23 、ZrO 2 、Si 2 O 3, ZrO 2, Si
2 、BeO、MgO、CaO、Y 23など、窒化物であるSi 34 、AlN、BNなど、炭化物であるSi O 2, BeO, MgO, CaO, etc. Y 2 O 3, Si 3 N 4, AlN is a nitride, BN, etc., a carbide Si
C、WCなど、ほう素化物であるBP、BNなど、酸窒化物であるSIALON(サイアロン)など、種々の粘土鉱物、例えばカオリナイト、モンモリロナイトなど、 C, WC, etc., boron is hydrides BP, BN, etc., such as SIALON (sialon) is oxynitride, various clay minerals such as kaolinite, montmorillonite, etc.,
各種のフェライトなどの磁性材料、ガーネット、コランダム、などの天然または人工鉱物、単体元素、例えばダイヤモンド、黒鉛など、単体金属、例えばSi、Ni、 Magnetic material such as various ferrites, garnets, natural or artificial mineral, single element of corundum, such as, for example, a diamond, graphite, etc., elemental metals, such as Si, Ni,
Co、Fe、Ti、Al、Cu、Ag、Au、Wなど、 Co, Fe, Ti, Al, Cu, Ag, Au, W, etc.,
および金属間化合物および合金、例えばFe−Ni−S And intermetallic compounds and alloys such as Fe-Ni-S
i合金、Fe−Cr−Al合金、Fe−Cr−Mo合金、Fe−Ni−Cr合金、Ni−Cr合金などの材料並びにこれらの材料を複合したものの粉末が挙げられる。 i alloy, Fe-Cr-Al alloy, Fe-Cr-Mo alloy, Fe-Ni-Cr alloy powder and the like but a composite of materials and these materials, such as Ni-Cr alloy.

【0011】上記した構成の本発明の超微粒子の製造装置の一つの具体例は、図1で示される。 [0011] One embodiment of ultrafine particles of a manufacturing apparatus of the present invention having the above-described structure, shown in Figure 1.

【0012】図1において、装置の全体はプラズマトーチA、反応チャンバーB、冷却部C、原料粉末放出装置Dおよび製品回収部Eより成るものである。 [0012] In FIG. 1, the entire apparatus may be formed of the plasma torch A, the reaction chamber B, the cooling station C, a raw material powder discharge device D and product recovery section E.

【0013】プラズマトーチAは水冷式の石英二重管とその外側を取巻く高周波発振コイルとで構成され、コイルへの高周波電流の印加によって石英二重管内にプラズマ焔が生成する。 [0013] The plasma torch A consists of a high-frequency oscillation coil surrounding the outer and water-cooled quartz double tube, plasma flame is generated in a quartz double tube by application of high frequency current to the coil. このプラズマトーチの上部にガス導入口を設けてプラズマ焔が集束するようにすることが好ましい。 It is preferred that the plasma flame is so as to converge the gas inlet provided in the upper portion of the plasma torch.

【0014】このプラズマ焔の直上に原料粉末放出装置Dが設置される。 [0014] raw material powder discharge device D directly above the plasma flame is established. この原料粉末放出装置は図2で示される構成を有する。 The raw material powder emitting device has a structure shown in FIG. この原料粉末放出装置は適当な材質例えば銅製の三重管より成り、外側管には冷却水が流れるように、中間管には旋回流発生用のガスが流れるように、そして内管には原料粉末が搬送用ガスと共にプラズマトーチ内に導入されるように構成されている。 The raw material powder discharge device consists of a triple tube of suitable material eg copper, so that the cooling water flows in the outer tube, as the intermediate tube flow gas for swirl flow generation, and the inner tube material powder There has been configured to be introduced into the plasma torch together with carrier gas. すなわち、冷却水は入口aから外側管内に導入され、原料放出装置を冷却して出口bから排出される。 That is, the cooling water is introduced from the inlet a to the outer tube, and is discharged from the outlet b of the raw material discharge device is cooled. 中間管には旋回流発生用のガスがガス入口cから導入されるがその導入方向はガス流路の断面のリング状の空間に対して接線方向となるようにされ、そのことによって導入されたガス流は旋回しながら下降し、その出口で旋回流となって放出される。 The intermediate tube but gas is introduced from the gas inlet c its introduction direction for the swirl flow generation is to be tangential to the annular space of the cross section of the gas channel, which is introduced by the gas stream descends while swirling, is released as swirling flow at the exit. 原料粉末は内管の上部からキャリアガスと共に導入され、その出口で上記した旋回流となって放出された中間管からのガスの働きで旋回運動が与えられてプラズマ焔中に供給されることになる。 The raw material powder is introduced with a carrier gas from the upper part of the inner tube, that pivoting movement by the action of gas from the intermediate pipe which is released as swirl flow described above in that the outlet is fed into the given plasma flame Become. この原料粉末放出装置Dを示す図2において、A−Aで切断した断面は図3で示され、B−Bで切断した断面は図4で示される。 2 showing this material powder discharge device D, a cross section taken along the A-A is shown in Figure 3, a cross section taken along the B-B is shown in FIG.
上記原料粉末放出装置の材質が耐熱材料の場合には冷却水は不要である。 If the material of the raw material powder discharge apparatus of the refractory material is cooling water is not required.

【0015】このようにしてプラズマトーチ内に導入された原料粉末は生成したプラズマ焔内において、および反応チャンバーB内において気化し、冷却部C内において急冷されて超微粒子を生成する。 [0015] In this way, the plasma raw material powder introduced into the torch in a generated plasma flame, and vaporized in the reaction chamber B, quenched in a cooling section C to produce ultrafine particles. このようにして生成した超微粒子は製品回収部Eにおいて回収され取り出される。 Ultrafine particles produced in this manner are taken out are recovered in the product recovery section E.

【0016】本発明の装置のもう一つの具体例は図5で示される。 [0016] Another embodiment of the apparatus of the present invention is shown in FIG. この装置では、図1で示した装置に更にプラズマ焔の下流に超微粒子によって表面を被覆しようとする無機材料または金属材料母材の粉末を導入するための装置Fが設けられている。 In this apparatus, apparatus F for introducing a powder of inorganic or metal material matrix to be coated the surface by downstream ultrafine particles further plasma flame in the apparatus shown in FIG 1 is provided. この装置Fから導入される母材粉末はガス流で搬送されて反応チャンバーB内で生成した超微粒子と流動状態で接触し、母材粉末の粒子の表面が超微粒子で被覆されることになる。 The base powder is introduced from the unit F is in contact in a fluidized state and ultrafine particles generated in the reaction chamber B is conveyed in a gas stream, so that the surface of the base powder particles are coated with ultrafine particles .

【0017】次に実施例によって本発明を更に詳細に説明する。 [0017] Next will be described in more detail by way of examples the invention.

【0018】実施例1 この実施例で用いた装置は下記の構成を有する。 The apparatus used in this example embodiment 1 has the following configuration. すなわち、図1において、プラズマトーチAは内径55mm、外径70mm、長さ220mmの石英二重管から成り、この外側には高周波発振コイルが取付けられている。 That is, in FIG. 1, the plasma torch A is an inner diameter 55 mm, having an outer diameter of 70mm, an consists quartz double tube of length 220 mm, this is outwardly mounted high-frequency oscillation coil. そしてこのプラズマトーチの上部にガス導入口が設けられている。 The gas inlet is provided in the upper portion of the plasma torch. 反応チャンバーBは水冷式のステンレス二重管から成り、その内径は110mm、長さは200mmである。 The reaction chamber B is made of stainless double tube of water-cooled, an inner diameter 110 mm, a length of 200 mm. また冷却部Cは水冷式のステンレス二重管から成り、その内径は440mm、長さは800mmである。 The cooling unit C is made of stainless double tube of water-cooled, an inner diameter 440 mm, a length of 800 mm. 冷却部Cの下部に製品回収部Eが設けられ、吸引ポンプに接続されていて冷却部C内の超微粒子を吸引し、回収部E内に設けられたフィルター上で超微粒子が取り出される。 Product recovery unit E is provided below the cooling station C, a is connected to a suction pump to suck the ultrafine particles in the cooling station C, a ultrafine particle is taken out on a filter provided in the recovery section E.

【0019】プラズマ焔の直上に設置される原料粉末放出装置Dは銅製の三重管で内管の直径2mm、中間管の直径4mm、外側管の直径20mmを有し、外側管には冷却水の入口および出口が設けられている。 The plasma raw material powder emitting device D to be installed directly above the flame diameter 2mm of the inner tube in the triple pipe of copper, diameter 4mm intermediate tube has a diameter 20mm of the outer tube, the cooling water in the outer tube inlet and outlet are provided.

【0020】この装置の、高周波発振コイルに4MHz、 [0020] of the device, 4MHz to the high-frequency oscillation coil,
80KVAの高周波電流を印加し、プラズマトーチの上部のガス導入口からアルゴンガス40リットル/分、酸素ガス50リットル/分を噴出させてアルゴン−酸素プラズマを発生させた。 A high-frequency current is applied for 80 kVA, argon gas 40 l / min from the top of the gas inlet of the plasma torch, is ejected oxygen gas 50 l / min argon - was generated oxygen plasma. そして原料粉末の酸化イットリウム(比表面積4.0m 2 /g、比表面積径313nm)20g The raw material powder of yttrium oxide (specific surface area 4.0 m 2 / g, a specific surface area diameter 313 nm) 20 g
/分をキャリアガス10リットル/分と共に原料粉末放出装置Dの内管より供給すると共に、旋回流発生のためにアルゴンガス10リットル/分を同装置の中間管より供給した。 / Min is supplied from the inner tube of the raw material powder discharge device D together with the carrier gas 10 l / min, argon gas 10 l / min was supplied from the intermediate tube of the apparatus for the swirling flow generating. 高温プラズマ中で気化した酸化イットリウムは、チャンバー内で凝縮し、生成した酸化イットリウム超微粒子はフィルター上に集められ回収した。 Yttrium oxide vaporized in a hot plasma is condensed in the chamber, resulting yttrium oxide ultrafine particles were collected collected on a filter.

【0021】上記した操作によって比表面積(BET [0021] The specific surface area by the operation described above (BET
法)25m 2 /g、比表面積径50nmの酸化イットリウム超微粒子が得られた。 Act) 25m 2 / g, specific surface area diameter 50nm yttrium oxide ultrafine particles were obtained. これを電子顕微鏡で観察したところ、超微粒子は球形で未蒸発の原料粒子は認められなかった。 This was observed by an electron microscope, ultrafine particles material particles unevaporated spherical was not observed.

【0022】比較例1 上記実施例1と同様の操作を行なったが、旋回流発生のためのアルゴンガスは供給せず、その代りにキャリアガスとしてアルゴンガスを20リットル/分の量で用いた。 [0022] While performing the same operation as in Comparative Example 1 Example 1, the argon gas for the swirl flow generation is not supplied, was used in an amount of argon gas at 20 L / min as a carrier gas instead .

【0023】この条件によって比表面積12m 2 /g、比表面積径104nmの酸化イットリウム超微粒子が得られた。 The specific surface area of 12m 2 / g, yttrium oxide ultrafine particles with a specific surface area diameter 104nm obtained by this condition. これを電子顕微鏡により観察したところ、多数の未蒸発の原料粒子が認められた。 This was observed by an electron microscope, a large number of unevaporated material particles was observed.

【0024】実施例 2 この実施例では、窒化ケイ素に酸化アルミニウムを被覆した。 [0024] In this embodiment example 2 were coated with aluminum oxide to silicon nitride. この実施例で用いた装置は、下記の構成を有する。 Apparatus used in this embodiment has the following configuration. すなわち、図5において、プラズマトーチAは内径55mm、外径70mm、長さ220mmの石英二重管から成り、この外側には高周波発振コイルが取付けられている。 That is, in FIG. 5, the plasma torch A is an inner diameter 55 mm, having an outer diameter of 70mm, an consists quartz double tube of length 220 mm, this is outwardly mounted high-frequency oscillation coil. そして、このプラズマトーチの上部にガス導入口が設けられている。 The gas inlet is provided in the upper portion of the plasma torch. 反応チャンバーBは、内径110mm、 The reaction chamber B has an inner diameter 110 mm,
長さは200mmのステンレス二重管から成り、その中央部に設けられた粉体供給口から、Fから供給される母材粒子がキャリアガスに担持されて導入される。 Length made of stainless double tube of 200 mm, from the powder feed opening provided at the central portion, base particles supplied from F is introduced is carried on a carrier gas. また冷却部Cは水冷式のステンレス二重管から成り、その内径は440mm、長さは800mmである。 The cooling unit C is made of stainless double tube of water-cooled, an inner diameter 440 mm, a length of 800 mm. 冷却部Cの下部に製品回収部Eが設けられ、吸引ポンプに接続されていて、 Product recovery unit E is provided below the cooling unit C, and is connected to a suction pump,
CおよびDの場所において流動状態で超微粒子で被覆された母材粒子を吸引して、回収部E内に設けられたフィルター上で集められ回収される。 Was aspirated C and D base particles coated with ultrafine particles in a fluidized state at a place, it is collected collected on a filter provided in the recovery section E.

【0025】プラズマ焔の直上に設置される原料粉末放出装置は、銅製の三重管で内管の直径2mm、中間管の直径4mm、外側管の直径20mmを有し、外側管には冷却水の入口および出口が設けられている。 The raw material powder emitting device installed directly above the plasma flame, the diameter 2mm of the inner tube in the triple pipe of copper, diameter 4mm intermediate tube has a diameter 20mm of the outer tube, the cooling water in the outer tube inlet and outlet are provided.

【0026】この装置の、高周波発振コイルに4MHz、 [0026] of the device, 4MHz to the high-frequency oscillation coil,
80KVAの高周波電流を印加し、プラズマトーチの上部のガス導入口からアルゴンガス40リットル/分、酸素ガス50リットル/分を噴出させてアルゴン−酸素プラズマを発生させた。 A high-frequency current is applied for 80 kVA, argon gas 40 l / min from the top of the gas inlet of the plasma torch, is ejected oxygen gas 50 l / min argon - was generated oxygen plasma. そして被覆すべき酸化アルミニウムの原料粉末(平均粒径2μm)を10g/分の割合でアルゴンガス10リットル/分と共に原料粉末放出装置D The raw material powder emitting device material powder of the aluminum oxide to be coated (average particle diameter 2 [mu] m) with argon gas 10 l / min at a rate of 10 g / min D
の内管より供給するとともに、旋回流発生のためにアルゴンガス10リットル/分を同装置の中間管より供給した。 Supplies from the inner tube, the argon gas 10 l / min was supplied from the intermediate tube of the apparatus for the swirling flow generating.

【0027】一方、被覆されるべき母材粒子の窒化ケイ素(平均粒径1μm)は、供給装置Fにより30g/分の割合で供給されたキャリアガスのアルゴンガス15リットル/分に担持させて供給した。 On the other hand, the silicon nitride of the base particles to be coated (average particle size 1 [mu] m) is supplied supported on the argon gas 15 l / min of 30g / min of the supplied carrier gas at a rate by feeder F did.

【0028】このようにして酸化アルミニウムの超微粒子で表面が被覆された窒化ケイ素粒子を製造し、これをEから取り出した。 [0028] In this way the surface ultrafine particles of aluminum oxide to produce a coated silicon nitride grains and were removed it from E.

【0029】この酸化アルミニウムの超微粒子で表面が被覆された窒化ケイ素粒子について、電子顕微鏡で観察したところ、窒化ケイ素の表面は酸化アルミニウムの超微粒子(0.05〜0.01μm、主として0.03μ [0029] The silicon nitride particles whose surface is coated with ultra-fine particles of aluminum oxide, was observed with an electron microscope, the surface of the silicon nitride ultrafine particles of aluminum oxide (0.05~0.01Myuemu, mainly 0.03μ
m)で被覆されていた。 It was coated with m). また、酸化アルミニウムの超微粒子で表面が被覆された窒化ケイ素粒子からなる粉末中には、未蒸発の被覆すべき酸化アルミニウム原料粒子は認められなかった。 Also, the powder made of silicon nitride particles to the surface of ultrafine particles is coated aluminum oxide, aluminum oxide raw material particles to be coated of unevaporated was observed.

【0030】比較例2 上記実施例2と同様の操作を行なったが、旋回流発生のためのアルゴンガスは供給せず、その代りにキャリアガスとしてアルゴンガスを20リットル/分の量で用いた。 [0030] Although conducted in the same manner as Comparative Example 2 Example 2, the argon gas for the swirl flow generation is not supplied, was used in an amount of argon gas at 20 L / min as a carrier gas instead .

【0031】この条件によって製造した酸化アルミニウムの超微粒子で表面が被覆された窒化ケイ素粒子について、電子顕微鏡で観察したところ、窒化ケイ素の表面は酸化アルミニウムの超微粒子(0.1〜0.03μm、主として0.05μm)で被覆されていた。 [0031] The silicon nitride particles to the surface of ultrafine particles is coated aluminum oxide produced by this condition, was observed with an electron microscope, the surface of the silicon nitride ultrafine particles (0.1~0.03Myuemu of aluminum oxide, was coated with a mainly 0.05 .mu.m). また、酸化アルミニウムの超微粒子で表面が被覆された窒化ケイ素粒子からなる粉末中には、多数の未蒸発の被覆すべき酸化アルミニウム原料粒子が認められた。 Also, the powder made of silicon nitride particles to the surface of ultrafine particles is coated aluminum oxide, a number of aluminum oxide raw material particles to be coated of unvaporized was observed.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の装置の概要を示す図面である。 1 is a diagram showing an outline of the apparatus of the present invention.

【図2】本発明の装置における原料粉末放出装置部分を示す図面である。 It illustrates a raw material powder discharge device portion in the apparatus of the present invention; FIG.

【図3】図2のA−Aで切断した断面図面である。 3 is a cross-sectional drawing taken along the A-A of FIG.

【図4】図2のB−Bで切断した断面図面である。 4 is a section cut drawing in the B-B FIG.

【図5】本発明の他の一つの装置の概要を示す図面である。 5 is a diagram showing an outline of another one of the device of the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 秋山 聡 埼玉県川越市稲荷町17−22 沢田コーポ 202 (72)発明者 濱田 美明 埼玉県川越市末広町3−4−8 (72)発明者 黒田 英輔 埼玉県川越市西小仙波町2−16−4 (72)発明者 梅屋 薫 宮城県仙台市太白区八木山本町1−30− 13 (56)参考文献 特開 平4−45845(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl. 7 ,DB名) B01J 19/00 - 19/32 B22F 1/00 C23C 14/00 - 14/58 C04B 41/87 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Akiyama, Satoshi Kawagoe City, Saitama Prefecture Inaricho 17-22 Sawada Corporation 202 (72) inventor Yoshiaki Hamada Kawagoe, Saitama Prefecture Suehiro-cho 3-4-8 (72) inventor Eisuke Kuroda Kawagoe City, Saitama Prefecture Nishikosenba-cho 2-16-4 (72) inventor Kaoru Umeya Sendai, Miyagi Prefecture Taebaek-ku, Yagiyamahon-cho, 1-30- 13 (56) reference Patent flat 4-45845 (JP, a) (58) investigated the field (Int.Cl. 7, DB name) B01J 19/00 - 19/32 B22F 1/00 C23C 14/00 - 14/58 C04B 41/87

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】 (57) [the claims]
  1. 【請求項1】 RFプラズマ法によって形成されるプラズマ焔の直上に、無機材料または金属材料の粉末原料の放出装置の放出口が設置され、供給される粉末原料はキャリヤガスにより旋回運動が与えられてプラズマ焔中に供給されるようにされた、該粉末原料から無機材料または金属材料の超微粒子を製造する装置。 To 1. A directly above the plasma flame formed by the RF plasma method, placed outlet of the discharge device of the powder raw material of an inorganic material or a metal material, the powder raw material supplied is given pivoting movement by the carrier gas Te is to be fed into the plasma flame, an apparatus for producing ultrafine particles of an inorganic material or a metal material from the powder material.
  2. 【請求項2】 RFプラズマ法によって形成されるプラズマ焔の直上に、無機材料または金属材料の粉末原料の放出装置の放出口が設置され、供給される粉末原料はキャリヤガスにより旋回運動が与えられてプラズマ焔中に供給されるようにされ、そしてプラズマ焔の下流に超微粒子によって表面を被覆しようとする無機材料または金属材料母材の粉末を導入する装置を備え、生成した超微粒子と導入された母材の粉末とが互に流動状態で接触せしめられるようにされた、母材の粒子の表面を超微粒子で被覆する装置。 To 2. A directly above the plasma flame formed by the RF plasma method, placed outlet of the discharge device of the powder raw material of an inorganic material or a metal material, the powder raw material supplied is given pivoting movement by the carrier gas Te is to be fed into the plasma flame, and downstream of the plasma flame with a device for introducing a powder of inorganic or metal material matrix to be coated surface by ultrafine particles, are introduced resulting ultrafine particles and a powder of the base material is mutually to be contacted in a fluidized state, an apparatus for coating the surface of the particles of the base material in ultrafine particles.
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