JP3095259B2 - NO oxidation removal method - Google Patents
NO oxidation removal methodInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ＮＯを酸化させて除去
する方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for oxidizing and removing NO.
【０００２】[0002]
【従来の技術】排ガス中に含まれるＮＯの除去は、化石
燃料の利用率向上によるＣＯ2 排出量削減や移動発生源
による大気汚染防止等にきわめて有効である。2. Description of the Related Art The removal of NO contained in exhaust gas is extremely effective for reducing CO 2 emissions by improving the utilization rate of fossil fuels and preventing air pollution from mobile sources.
【０００３】従来、ＮＯの除去法として、ゼオライト系
触媒を用いて還元する方法が研究されている。さらに最
近は、プラズマ化学反応を用いる方法の研究も進められ
ている。これは、ＮＯ含有のガスをプラズマ化し、この
プラズマで発生したＯラジカル等によりガス中のＮＯを
酸化させ、その後、アルカリと反応させて除去する方法
である。Hitherto, as a method for removing NO, a reduction method using a zeolite catalyst has been studied. More recently, research on a method using a plasma chemical reaction has been advanced. This is a method of converting a gas containing NO into plasma, oxidizing NO in the gas by O radicals or the like generated by the plasma, and then reacting the gas with alkali to remove the NO.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで従来方法で
は、電子ビーム照射、極短パルス放電、無声放電あるい
は部分放電を起こさせて、プラズマを形成していた。し
かしながら、これらのいずれの場合も、未だＮＯを迅速
に酸化させることはできず、ＮＯ除去率に劣っていた。In the conventional method, however, plasma is formed by irradiating an electron beam, an extremely short pulse discharge, a silent discharge or a partial discharge. However, in any of these cases, NO could not be rapidly oxidized yet, and the NO removal rate was poor.
【０００５】本発明の目的は、上記課題を解消し、ＮＯ
を効率良く酸化させて除去できるＮＯの酸化除去方法を
提供することにある。[0005] An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a NO
It is an object of the present invention to provide a method for removing and oxidizing NO which can efficiently oxidize and remove NO.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、相対向するアース極と放電極間に放電を生
じさせ、その放電中にＮＯ含有ガスを流してＮＯを酸化
除去する方法において、アース極と放電極間に流すＮＯ
含有ガスにＣＨ化合物を添加し、そのアース極及び放電
極間に−１０ｋＶ以上の方形波の高電圧を発生させると
共にその方形波の電圧の立ち上がり期間および立ち下が
り期間にアース極及び放電極間に方形波パルスストリー
マ放電を発生させてＮＯを酸化させるようにしたもので
ある。また、ＮＯの含有した排ガスにＣＨ化合物を添加
し、その排ガスをアース極に水膜を形成した水膜式電気
集塵装置に流し、その水膜式電気集塵装置のアース極と
放電極間に方形波パルスストリーマ放電を発生させて、
ＮＯをＮＯ 2 に酸化すると共にＮＯ 2 を水膜に吸収
させるようにすることが望ましい。In order to achieve the above object, the present invention provides a discharge between a ground electrode and a discharge electrode facing each other, and a NO-containing gas flows during the discharge to oxidize and remove NO. In the method, the NO flowing between the earth electrode and the discharge electrode
CH compound is added to the contained gas, and its earth electrode and discharge
If a square wave high voltage of -10 kV or more is generated between the poles
Both rise and fall times of the square wave voltage
Pulse stream between the earth and discharge electrodes during the
It oxidizes NO by generating electric discharge.
is there. Addition of CH compound to NO-containing exhaust gas
Water film on the ground electrode
Pour into the dust collector and connect it to the earth electrode of the water film type electric dust collector.
Generate a square wave pulse streamer discharge between the discharge electrodes,
Oxidizes NO to NO 2 and absorbs NO 2 into water film
It is desirable to make it.
【０００７】[0007]
【作用】上記の構成によれば、アース極と放電極間に、
−１０ｋＶ以上の方形波の高電圧を発生させると共にそ
の方形波の電圧の立ち上がり期間および立ち下がり期間
に方形波パルスストリーマ放電を発生させることで、ア
ース極と放電極間のコロナ空間に−１０ｋＶ以上の高い
電界がかけられ、また電圧の立ち上がり期間および立ち
下がり期間の極短い期間にイオンの加速が抑制され電子
のみが加速された非常に広範囲で非平衡プラズマが形成
される。このようなプラズマによりＯ，Ｏ 3 などのラ
ジカルや活性種が多量に発生すると共に高エネルギの電
子によりＮＯも活性化され、これによりＮＯのＮＯ 2
への酸化が迅速に行われる。また、水膜式の電気集塵装
置に適用することで、酸化されたＮＯ 2 を水膜で吸収
除去することが可能となる。 According to the above construction, between the earth electrode and the discharge electrode,
A high voltage of -10 kV or more square wave is generated and
Rise and fall periods of the square wave voltage
By generating a square wave pulse streamer discharge
Higher than -10 kV in the corona space between the source and discharge electrodes
An electric field is applied, and the voltage rises and rises
The acceleration of ions is suppressed during the extremely short falling period,
Non-equilibrium plasma is formed over a very wide area with only accelerated
Is done. With such a plasma, lamination of O, O 3, etc.
A large amount of radicals and active species
NO is also activated by the child, and as a result, NO 2
Oxidation to is carried out quickly. In addition, a water film type electric dust collector
Oxidized NO 2 is absorbed by the water film
It can be removed.
【０００８】[0008]
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【０００９】図１において、１は反応セルで、その内部
にはブロア２によりライン３を介してＮＯ含有の処理ガ
スが流される。また、ライン４より更にＣＨ化合物が添
加されて流されるようになっている。５は高電圧電源
で、反応セル１に立ち上がり期間、立ち下がり期間の急
峻な方形波高電圧を印加する。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a reaction cell in which a processing gas containing NO flows through a line 3 by a blower 2. Further, a CH compound is further added from the line 4 to flow. Reference numeral 5 denotes a high voltage power supply for applying a square wave high voltage having a sharp rising period and a falling period to the reaction cell 1.
【００１０】図２に反応セル１の構造例を示す。これは
針−平板電極型のものであり、処理ガス用の流路６内に
放電極７とアース極８とが対向配設されている。放電極
７は針状とされ、流路６の軸線に沿って設けられる。ア
ース極８は金網あるいは多孔板状とされ、流路６を遮る
ように設けられる。このセル１構造においては、放電極
７に前記の高電圧電源５が接続され、アース極８は接地
されている。FIG. 2 shows an example of the structure of the reaction cell 1. This is a needle-plate electrode type, in which a discharge electrode 7 and a ground electrode 8 are disposed opposite to each other in a flow path 6 for a processing gas. The discharge electrode 7 has a needle shape and is provided along the axis of the flow path 6. The grounding electrode 8 has a wire mesh or a perforated plate shape and is provided so as to block the flow path 6. In this cell 1 structure, the high-voltage power supply 5 is connected to the discharge electrode 7 and the ground electrode 8 is grounded.
【００１１】図３には高電圧電源５の構造例を示す。こ
の電源５では、商用の交流電圧がトランス９で昇圧さ
れ、整流器１０で整流されたのち、並列接続したコンデ
ンサ１１，１２に印加されており、前記交流電圧が負の
周期のときコンデンサ１１，１２が充電される。そし
て、コンデンサ１２の充電電圧がロータリースパークギ
ャップスイッチ１３を介して出力端子１４に出力され
る。スパークギャップスイッチ１３では、４つの固定端
子間を可動端子が回転する。ここでは、コンデンサ１２
が充電されると、そのコンデンサ１２と負荷とを接続
し、つづいてこの接続を切り離して負荷を接地するよう
になっており、これにより、負荷である放電極７および
アース極８間に負極性の方形波高電圧が発生することと
なる。FIG. 3 shows a structural example of the high voltage power supply 5. In the power supply 5, a commercial AC voltage is boosted by a transformer 9, rectified by a rectifier 10, and then applied to capacitors 11 and 12 connected in parallel. When the AC voltage has a negative cycle, the capacitors 11 and 12 are turned off. Is charged. Then, the charging voltage of the capacitor 12 is output to the output terminal 14 via the rotary spark gap switch 13. In the spark gap switch 13, the movable terminal rotates between the four fixed terminals. Here, the capacitor 12
Is charged, the capacitor 12 is connected to the load, and then the connection is cut off to ground the load, whereby the negative polarity is provided between the discharge electrode 7 and the ground electrode 8 which are the load. Will be generated.
【００１２】しかして、高電圧電源５により放電・アー
スの両極７，８間に方形波高電圧を印加し、ＣＨ化合物
を添加したＮＯ含有ガスを流すと、極７，８間では印加
電圧の立ち上り期間および立ち下がり期間に電流が流れ
て方形波パルスストリーマ放電が発生し、放電極７近傍
の広い範囲に非平衡プラズマが形成される。そして、こ
のプラズマで発生したＯ，Ｏ3 などのラジカルや活性種
が処理ガス中のＮＯと反応して、ＮＯがＮＯ2 に酸化さ
れる。When a high-voltage power supply 5 applies a square-wave high voltage between the discharge and ground electrodes 7 and 8 to flow a NO-containing gas containing a CH compound, the applied voltage rises between the electrodes 7 and 8. During the period and the falling period, a current flows to generate a square wave pulse streamer discharge, and non-equilibrium plasma is formed in a wide range near the discharge electrode 7. Then, radicals and active species such as O and O 3 generated by the plasma react with NO in the processing gas, and NO is oxidized to NO 2 .
【００１３】このように本実施例では、放電極７および
アース極８間に方形波高電圧を印加して放電を発生させ
たので、その電圧の立ち上がり時、立ち下がり時のオー
バシュートを利用して、放電極７近傍の広い範囲をプラ
ズマ化することができる。このため、Ｏ、Ｏ3 などのラ
ジカルを多量に発生させてＮＯの酸化を早めることがで
きる。また、ＮＯ含有ガスにさらにＣＨ化合物を添加し
て流したので、ＮＯの酸化反応を著しく促進させること
もできる。As described above, in this embodiment, since a high voltage is applied between the discharge electrode 7 and the earth electrode 8 to generate a discharge, the overshoot at the time of the rise and fall of the voltage is utilized. A wide area near the discharge electrode 7 can be turned into plasma. Therefore, a large amount of radicals such as O and O 3 can be generated to accelerate the oxidation of NO. Further, since the CH compound is further added to the NO-containing gas and flown, the oxidation reaction of NO can be remarkably promoted.
【００１４】また、実施例では、放電極７およびアース
極８にそれらの間の充放電を利用して方形波高電圧を印
加したので、エネルギー効率を向上させることもでき
る。従来の極短パルス放電の場合には、極短パルスを得
る必要上、電源構造は負荷と並列に抵抗を接続した構造
としなければならない。このため、極短パルスの印加時
にはこの抵抗に大部分の電流が流れて熱エネルギーとな
ってしまうが、本例ではこのような抵抗をなんら必要と
しない。Further, in the embodiment, since the square wave high voltage is applied to the discharge electrode 7 and the earth electrode 8 by using charging and discharging between them, the energy efficiency can be improved. In the case of the conventional ultrashort pulse discharge, the power supply structure must have a structure in which a resistor is connected in parallel with the load in order to obtain an ultrashort pulse. For this reason, when an extremely short pulse is applied, most of the current flows through this resistor to become thermal energy, but this example does not require any such resistor.
【００１５】なお上記実施例では、反応セル１に針−平
板電極型のものを用いたが、これら電極構造としては他
の形状でもよい。また、高電圧電源５に設けるスイッチ
としては、ロータリースパークギャップスイッチ１３以
外に、他の構造のものでもよい。In the above embodiment, a needle-plate electrode type is used for the reaction cell 1, but these electrodes may have other shapes. The switch provided in the high-voltage power supply 5 may have a structure other than the rotary spark gap switch 13.
【００１６】次に、上記装置を用いた実験について詳述
する。Next, an experiment using the above apparatus will be described in detail.
【００１７】ここでは、図２の反応セル１を恒温槽中に
設置し、このセル１に図３の電源５より周波数 200Hzの
負極性方形波高電圧を印加し、この状態で反応セル１に
サンプルガスを流した。ここでサンプルガスには、ＮＯ
をＮ2 で希釈した標準ガスと乾燥空気とを混ぜたものを
使用した。また、サンプルガスの温度は 240℃に調整し
た。さらに、セル１における電極間隔を 40[mm] とし
た。Here, the reaction cell 1 shown in FIG. 2 is set in a thermostat, and a negative square wave high voltage having a frequency of 200 Hz is applied to the cell 1 from the power source 5 shown in FIG. The gas was flushed. Here, the sample gas contains NO
A mixture of a standard gas diluted with N 2 and dry air was used. The temperature of the sample gas was adjusted to 240 ° C. Further, the electrode interval in the cell 1 was set to 40 [mm].
【００１８】図４に、印加電圧 (定常時の値) に対する
反応セル１出口部でのＮＯ、ＮＯ 2 、ＮＯX (＝ＮＯ
＋ＮＯ2 ) 濃度の変化を示す。図中の、□−□はＮＯX
濃度を、○−○はＮＯ濃度を、△−△はＮＯ2 濃度をそ
れぞれ示す。ここでサンプルガスの組成は、ＮＯ濃度 1
60[ppm] 、ＮＯX 濃度 165[ppm] 、乾燥空気中のＯ 2
濃度 10[%]とした。また、流量は室温において 1.2[l/m
in] 、滞留時間 (両極７，８間を 240℃のガスが通過す
る時間) は 0.67[s]に設定した。FIG. 4 shows that NO, NO 2 , NO X (= NO) at the outlet of the reaction cell 1 with respect to the applied voltage (the value in a steady state).
+ NO 2 ) concentration changes. In the figure, □-□ indicates NO X
Indicates the concentration, −-− indicates the NO concentration, and △-△ indicates the NO 2 concentration. Here, the composition of the sample gas is NO concentration 1
60 [ppm], NO X concentration 165 [ppm], in dry air O 2
The concentration was 10%. The flow rate is 1.2 [l / m
in] and the residence time (time during which the gas at 240 ° C passes between the electrodes 7 and 8) were set to 0.67 [s].
【００１９】図では、印加電圧を増加させていくと、Ｎ
Ｏ (○−○曲線) は減少し、電圧−18[kV]のとき減少量
は約 30[ppm]となっている。逆に、ＮＯ2 (△−△曲
線) は増加し、電圧−18[kV]のとき生成量は約 30[ppm]
となっており、電圧増加に伴いＮＯがＮＯ2 に酸化反応
していることがわかる。また、ＮＯX (□−□曲線)
も、僅かであるが減少しており(10 [ppm] 程度) 、ＮＯ
がＮＯ2 以外に変化していることもわかる。なお、−18
[kV]のとき、電源５の損失を含んだ入力電力は10[W] で
あった。In the figure, as the applied voltage is increased, N
O (○-○ curve) decreases, and when the voltage is -18 [kV], the decrease amount is about 30 [ppm]. Conversely, NO 2 (△-△ curve) increases, and when the voltage is -18 [kV], the generated amount is about 30 [ppm].
It can be seen that NO is oxidizing to NO 2 as the voltage increases. NO X (□-□ curve)
Also slightly decreased (about 10 [ppm]), and NO
Is changed to a value other than NO 2 . Note that -18
At [kV], the input power including the loss of the power supply 5 was 10 [W].
【００２０】図５には、サンプルガスに更にエチレン
(Ｃ2 Ｈ4 ) を添加した場合のＮＯ X 等濃度の変化を
示す。ここでは、サンプルガスの組成、流量、滞留時間
など諸条件を図４の場合と同一に設定し、エチレンを 4
000 [ppm] 添加した。FIG. 5 shows that the sample gas further contains ethylene.
Shows the change of the NO X such as density in the case of addition of (C 2 H 4). Here, various conditions such as the composition, flow rate, and residence time of the sample gas were set the same as in FIG.
000 [ppm] was added.
【００２１】図では、−18[kV]の印加電圧でＮＯ (○−
○曲線) が４[ppm] にまで減少し、ＮＯ2 (△−△曲
線) が 120[ppm] に増大しており、ＮＯの酸化がエチレ
ン無添加時 (図４の場合) よりも急速に進んでいること
がわかる。また、ＮＯX (□−□曲線) は−18[kV]のと
き約 40 [ppm] 減少して、ＮＯ2 とほぼ同量の125[ppm]
となっており、ＮＯのほぼ全量がＮＯ2 に変化している
こともわかる。In the figure, NO (○ −) is applied at an applied voltage of −18 [kV].
○ curve) decreased to 4 [ppm], NO 2 (△-△ curve) increased to 120 [ppm], and the oxidation of NO was more rapid than when ethylene was not added (in the case of FIG. 4). You can see that it is progressing. In addition, NO X (□-□ curve) decreases by about 40 [ppm] at -18 [kV], and the same amount of NO 2 as 125 [ppm]
It can also be seen that almost all of the NO has changed to NO 2 .
【００２２】図６の(a) (b) には、それぞれエチレン添
加量をパラメータとしたＮＯ濃度、ＮＯX 濃度の変化を
示す。ここで、サンプルガスの諸元は、ＮＯ濃度 155[p
pm]、ＮＯX 濃度 165[ppm] 、Ｏ2 濃度 10[%]に調整し
た。またエチレン濃度は、4000 [ppm]、2000 [ppm]、15
00 [ppm]、０ [ppm]に変化させた。流量は 1.2[l/min]
に設定し、滞留時間は放電極７を２つ直列接続して 1.3
4[s]に増大させた。[0022] (a) (b) of FIG. 6, NO concentration as a parameter ethylene amount, respectively, showing a variation of the NO X concentration. Here, the specifications of the sample gas are as follows: NO concentration 155 [p
pm], NO X concentration 165 [ppm], and adjusted to the O 2 concentration 10 [%]. The ethylene concentration was 4000 [ppm], 2000 [ppm], 15 [ppm].
00 [ppm] and 0 [ppm]. The flow rate is 1.2 [l / min]
The residence time was set to 1.3 by connecting two discharge electrodes 7 in series.
Increased to 4 [s].
【００２３】図６(a) では、エチレンの添加量が大きい
ほどＮＯ減少量も多くなっているが、その差はほとんど
なく、いずれの場合も−10[kV]以上の印加電圧でＮＯが
ほぼ完全になくなっている。これに対し、エチレン無添
加時には (◇−◇曲線) 、ＮＯ減少量は小さく、印加電
圧−18[kV]、入力電力 12[W]において 90 [ppm] まで減
少したのみである。従って、エチレンを添加すれば、そ
の濃度に依存せずＮＯをほぼ完全に酸化できることがわ
かる。In FIG. 6 (a), the larger the amount of ethylene added, the larger the amount of NO reduction. However, there is almost no difference, and in each case, NO is substantially reduced at an applied voltage of -10 [kV] or more. Completely gone. On the other hand, when ethylene was not added (◇-◇ curve), the NO reduction amount was small, and only decreased to 90 [ppm] at an applied voltage of -18 [kV] and an input power of 12 [W]. Therefore, it can be seen that when ethylene is added, NO can be almost completely oxidized irrespective of its concentration.
【００２４】また、図６(b) では、エチレンを添加した
いずれの場合も、−10[kV]以上でＮＯX がほぼ一定値
(約130[ppm]) となっている。これに対し、エチレン無
添加時には (◇−◇曲線) 、−18[kV]において 140 [pp
m]まで減少している。ＮＯX はほぼ全量がＮＯ2 である
ため、ＮＯの若干量はＮＯ2 より更に高次の酸化物に変
化しているか、あるいはＮ2 、Ｏ2 に還元されているこ
とがわかる。なお、エチレン添加時のＮＯX の除去率は
21[%]であった。Further, in FIG. 6 (b), in both cases with the addition of ethylene, substantially constant value NO X at -10 [kV] or more
(About 130 [ppm]). On the other hand, when ethylene was not added (◇-◇ curve), 140 pp at -18 kV
m]. NO X almost since the total amount is NO 2, a slight amount of NO is found to have been reduced further if they were changed into oxides of higher order than NO 2, or N 2, O 2. Note that the removal rate of the NO X when the ethylene addition
It was 21 [%].
【００２５】図７(a) (b) には、サンプルガス中のＯ2
濃度を 15[%]、５[%] に変化させた場合のＮＯX 濃度の
変化を示す。ここで、Ｏ2 ＝ 15[%]の場合のＮＯX 初期
濃度は 275[ppm] 、Ｏ2 ＝５[%]の場合は 230[ppm] で
ある。また、エチレン濃度は両方の場合とも、 1500[pp
m]に調整した。流量は 1.2[l/min]に設定し、電極には
図２の放電極７を２本直列接続して、滞留時間を 1.34
[s]とした。FIGS. 7A and 7B show O 2 in the sample gas.
The concentration of 15 [%] shows the change of the NO X concentration in the case of changing the 5%. Here, when O 2 = 15 [%], the initial NO X concentration is 275 [ppm], and when O 2 = 5 [%], it is 230 [ppm]. In both cases, the ethylene concentration was 1500 [pp
m]. The flow rate was set to 1.2 [l / min], and two discharge electrodes 7 of FIG.
[s].
【００２６】酸素濃度が 15[%]、５[%] の両方の場合と
も、ＮＯの急速な酸化反応が見られる。ＮＯX も減少し
ているが、 15[%]、５[%] のどちらの酸素濃度において
も、電圧が−14[kV]以上のときのＮＯX 濃度はほぼ一定
値となり、それ以上電圧を上げてもＮＯX は減らなかっ
た。ＮＯX 除去率は、酸素濃度が 15[%]のとき 24[%]、
５[%] のとき 22[%]であった。In both cases where the oxygen concentration is 15% or 5%, a rapid oxidation reaction of NO is observed. Although NO X also decreased, the NO X concentration became almost constant when the voltage was -14 [kV] or more, regardless of the oxygen concentration of 15 [%] or 5 [%]. NO X did not decrease even if it was raised. NO X removal rate, 24 [%] when the oxygen concentration is 15 [%],
When it was 5 [%], it was 22 [%].
【００２７】図８は本発明方法が適用される水膜式集塵
装置を示したものである。FIG. 8 shows a water film type dust collector to which the method of the present invention is applied.
【００２８】２１はケースで、その内部中央には放電線
２２が吊り下げられている。ケース２１と放電線２２と
の間には高電圧電源２３より方形波高電圧が印加され
る。ケース２１の下部側面には処理ガス導入用の管２４
が接続され、上部側面には排気用の管２５が接続されて
いる。そして、ケース２１の下方には水槽２６，２７が
設けられ、その水槽２６，２７内の水がポンプ２８で汲
上げられ、ケース２１内にその上部から導入され、内面
に沿って流されるようになっている。Reference numeral 21 denotes a case, and a discharge wire 22 is suspended from the center of the case. A high-voltage power supply 23 applies a square wave high voltage between the case 21 and the discharge line 22. A tube 24 for introducing a processing gas is provided on the lower side surface of the case 21.
, And an exhaust pipe 25 is connected to the upper side surface. Then, water tanks 26 and 27 are provided below the case 21, and the water in the water tanks 26 and 27 is pumped up by the pump 28, introduced into the case 21 from the top thereof, and allowed to flow along the inner surface. Has become.
【００２９】以上の構成において、ケース２１内に処理
ガスを導入すると、その処理ガスはケース２１および放
電線２２間を下方から上方に流れて排気される。このと
き、ケース２１・放電線２２間には方形波高電圧が印加
され、この電圧の立ち上がり期間および立ち下がり期間
に放電が生じている。また、水槽２６，２７内の水がポ
ンプ２８によりケース２１内面に沿って流されたのち水
槽２６に回収されることで、ケース２１内面には水膜が
形成されている。従って、ケース２１および放電線２２
間を流れる処理ガスは、放電によりプラズマ化し、その
ガス中のＮＯがＮＯ2 等に酸化変化する。そして、この
ＮＯ2 は印加電圧が定常値となったとき、ケース２１内
面側の水膜に吸収されてケース２１外に取り出される。In the above configuration, when a processing gas is introduced into the case 21, the processing gas flows between the case 21 and the discharge wire 22 from below to above and is exhausted. At this time, a square wave high voltage is applied between the case 21 and the discharge line 22, and a discharge occurs during a rising period and a falling period of this voltage. Further, water in the water tanks 26 and 27 is caused to flow along the inner surface of the case 21 by the pump 28 and then collected in the water tank 26, so that a water film is formed on the inner surface of the case 21. Therefore, the case 21 and the discharge wire 22
The processing gas flowing between them is turned into plasma by discharge, and NO in the gas is oxidized to NO 2 or the like. When the applied voltage becomes a steady value, the NO 2 is absorbed by the water film on the inner surface side of the case 21 and is taken out of the case 21.
【００３０】このように本発明方法を水膜式集塵装置に
適用すれば、ＮＯを酸化し同時に除去することができ、
ＮＯX の処理を良好に行うことができる。As described above, if the method of the present invention is applied to a water film type dust collector, NO can be oxidized and removed at the same time.
The process of the NO X can be performed well.
【００３１】[0031]
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、アース極
と放電極間に、−１０ｋＶ以上の方形波の高電圧を発生
させると共にその方形波の電圧の立ち上がり期間および
立ち下がり期間に方形波パルスストリーマ放電を発生さ
せることで、ＮＯのＮＯ2 への酸化が迅速に行われる。In summary, according to the present invention, the earth electrode
Generates a high voltage of -10 kV or more between the discharge electrode and
And the rising period of the square wave voltage and
A square wave pulse streamer discharge is generated during the falling period.
By doing so, the oxidation of NO to NO 2 is performed quickly.
【００３２】また、両極間を流れるＮＯ含有ガスにＣＨ
化合物を添加すれば、ＮＯの酸化反応を著しく促進させ
ることができる。Further, the NO-containing gas flowing between the two electrodes is CH
The addition of the compound can significantly accelerate the NO oxidation reaction.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】本発明方法を実施するための装置を示す概略構
成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an apparatus for carrying out a method of the present invention.
【図２】反応セルの一例を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram illustrating an example of a reaction cell.
【図３】高電圧電源の一例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an example of a high-voltage power supply.
【図４】本発明方法によるＮＯX プラズマ化学反応特性
を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing NO x plasma chemical reaction characteristics according to the method of the present invention.
【図５】エチレンを添加したときのＮＯX プラズマ化学
反応特性を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing NO x plasma chemical reaction characteristics when ethylene is added.
【図６】ＮＯX プラズマ化学反応に対するエチレン濃度
の影響を示す図で、 (a)はエチレン濃度を変えたときの
ＮＯ濃度変化を示す図、 (b)はＮＯX 濃度変化を示す図
である。[6] a diagram showing the effect of ethylene concentration on NO X plasma chemical reaction, is a diagram illustrating figure, (b) is NO X concentration change indicative of NO concentration changes when varying (a) the ethylene concentration .
【図７】ＮＯX プラズマ化学反応に対する酸素濃度の影
響を示す図で、 (a)は酸素濃度を１５％としたときの
図、 (b)は５％としたときの図である。FIGS. 7A and 7B are diagrams showing the influence of oxygen concentration on NO X plasma chemical reaction. FIG. 7A is a diagram when the oxygen concentration is 15%, and FIG. 7B is a diagram when the oxygen concentration is 5%.
【図８】本発明方法が適用される水膜式集塵装置を示す
概略構成図である。FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing a water film type dust collector to which the method of the present invention is applied.
１ 反応セル ５ 高電圧電源 ６ 流路 ７ 放電極 ８ アース極 1 reaction cell 5 high voltage power supply 6 flow path 7 discharge electrode 8 earth electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長濱 直 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川 島播磨重工業株式会社 東二テクニカル センター内 (72)発明者 釜瀬 幸広 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川 島播磨重工業株式会社 東二テクニカル センター内 (56)参考文献 特開 昭53−147671（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−46598（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−77479（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−16616（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 53/32 B01D 53/34 - 53/90 B01J 19/08 H05H 1/30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Nao Nagahama 3-1-1-15 Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawa-jima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. Tonii Technical Center (72) Inventor Yukihiro Kamase Toyosu, Koto-ku, Tokyo No. 1-115, Ishikawa Shima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toji Technical Center (56) References JP-A-53-147671 (JP, A) JP-A-58-46598 (JP, A) JP-A-62-77479 ( JP, A) JP-A-3-16616 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B01D 53/32 B01D 53/34-53/90 B01J 19/08 H05H 1 / 30
Claims (2)
生じさせ、その放電中にＮＯ含有ガスを流してＮＯを酸
化除去する方法において、アース極と放電極間に流すＮ
Ｏ含有ガスにＣＨ化合物を添加し、そのアース極及び放
電極間に−１０ｋＶ以上の方形波の高電圧を発生させる
と共にその方形波の電圧の立ち上がり期間および立ち下
がり期間にアース極及び放電極間に方形波パルスストリ
ーマ放電を発生させてＮＯを酸化させることを特徴とす
るＮＯの酸化除去方法。In a method for causing a discharge between an earth electrode and a discharge electrode facing each other and flowing a NO-containing gas during the discharge to oxidize and remove NO, a method is employed in which a nitrogen gas flows between the earth electrode and the discharge electrode.
Add a CH compound to the O-containing gas,
Generate high voltage of -10kV or more square wave between electrodes
Together with the rise and fall times of the square wave voltage
A square pulse train between the earth and discharge
A method for oxidizing and removing NO, which comprises generating NOx discharge to oxidize NO.
加し、その排ガスをアース極に水膜を形成した水膜式電
気集塵装置に流し、その水膜式電気集塵装置のアース極
と放電極間に方形波パルスストリーマ放電を発生させ
て、ＮＯをＮＯ 2 に酸化すると共にＮＯ 2 を水膜に
吸収させる請求項１記載のＮＯの酸化除去方法。2. A CH compound is added to an exhaust gas containing NO.
The exhaust gas is applied to the water electrode, and a water film is formed on the earth electrode.
Flow into the air precipitator, and the ground electrode of the water film type electric precipitator
To generate a square wave pulse streamer discharge between the
Te, the NO 2 in the water film as well as oxidation of NO to NO 2
The method for oxidizing and removing NO according to claim 1, wherein the NO is absorbed .
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