JP3063615B2 - Method for producing triarylsulfonium salt - Google Patents

Method for producing triarylsulfonium salt

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JP3063615B2
JP3063615B2 JP08075341A JP7534196A JP3063615B2 JP 3063615 B2 JP3063615 B2 JP 3063615B2 JP 08075341 A JP08075341 A JP 08075341A JP 7534196 A JP7534196 A JP 7534196A JP 3063615 B2 JP3063615 B2 JP 3063615B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、遠紫外線、エキシ
マレーザー、電子線、X線等の高エネルギー線を吸収し
て分解する際に、酸を発生して縮合反応や分解、脱離反
応を引き起こし、このため光カチオン重合やレジスト材
料の成分等として好適に使用されるトリアリールスルホ
ニウム塩の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for generating an acid when absorbing and decomposing high energy rays such as far ultraviolet rays, excimer lasers, electron beams and X-rays to perform a condensation reaction, a decomposition reaction and a desorption reaction. Accordingly, the present invention relates to a method for producing a triarylsulfonium salt which is suitably used as a cationic photopolymerization or a component of a resist material.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
アリールスルホニウム塩の一般的な合成法としては、ジ
アリールスルホキシドと芳香族系化合物とを酸存在下で
縮合する方法(S.Smiles and R.L.R
ossignol,J.Chem.Soc.,745
(1908),F.Krollpfeoffer,an
d W.Hahn, Chem.Ber.,86.10
49(1953),G.H.Wiegand,W.E.
McEwen,J.Org.Chem.,33,267
1(1968))等が採用されているが、これらの方法
は縮合反応が酸性条件下で行われるために酸により分解
する置換基、即ち酸不安定基の導入が困難であり、更に
ジアルキルアミノ基のような窒素含有の置換基を導入す
る場合、窒素上に酸が捕捉され、その電子供与性を失っ
て失活するためにジアリールスルホキシドへの求核攻撃
が起こり難くなり、目的物を得ることが困難となる。ま
た、フェノール誘導体を試薬として用いた場合には、フ
ェノールの活性部位がo位、p位の2カ所にあるため、
置換位置の異なるスルホニウム塩が生成する可能性があ
る。
2. Description of the Related Art
As a general method for synthesizing an arylsulfonium salt, a method of condensing a diarylsulfoxide with an aromatic compound in the presence of an acid (S. Smiles and RLR)
ossignol, J. et al. Chem. Soc. , 745
(1908), F.C. Krollpfeoffer, an
d W. Hahn, Chem. Ber. , 86.10
49 (1953); H. Wiegand, W.C. E. FIG.
McEwen, J .; Org. Chem. , 33,267
1 (1968)) and the like. However, in these methods, since the condensation reaction is carried out under acidic conditions, it is difficult to introduce a substituent which is decomposed by an acid, that is, an acid labile group. When a nitrogen-containing substituent such as a group is introduced, an acid is trapped on the nitrogen, losing its electron donating property and deactivating it, so that nucleophilic attack on diaryl sulfoxide is less likely to occur, and the desired product is obtained. It becomes difficult. When a phenol derivative is used as a reagent, the active site of phenol is located at two positions, o-position and p-position.
Sulfonium salts having different substitution positions may be formed.

【0003】また、上記方法以外にも、アリールグリニ
ヤ試薬のTHF、ジエチルエーテル等の溶媒をヘプタン
−ベンゼン等の脂肪族−芳香族炭化水素系の溶媒に交換
した後、ジフェニルスルホキシド等と反応させる方法
(B.S.Wildi,S.W.Taylor and
H.A.Potratz,J.Am.Chem.So
c.,73.1965(1951))、アリールグリニ
ヤ試薬のTHF、ジエチルエーテル等の溶媒をヘプタン
−ベンゼン等の脂肪族−芳香族炭化水素系の溶媒に交換
した後、塩化チオニルと反応させる方法(Resear
ch Disclosure 290,082(198
8))等が提案されているが、これらの方法の場合、ま
ずアリールグリニヤ試薬のTHFやジエチルエーテル溶
媒を減圧留去し、その後にヘプタン−ベンゼン溶媒で希
釈するという繁雑な工程が必要である。その上、溶媒の
交換が不十分な場合には、アリールスルホニウム塩の収
率が低いか、又はアリールスルホニウム塩が全く合成で
きない、というような収率及び再現性の問題がある。
In addition to the above method, a solvent such as THF or diethyl ether of an aryl Grignard reagent is exchanged for an aliphatic-aromatic hydrocarbon solvent such as heptane-benzene, and then reacted with diphenyl sulfoxide or the like. Method (BS Wildi, SW Taylor and
H. A. Potratz, J .; Am. Chem. So
c. , 73.1965 (1951)), a method in which a solvent such as THF or diethyl ether of an aryl Grignard reagent is exchanged for an aliphatic-aromatic hydrocarbon solvent such as heptane-benzene, and then reacted with thionyl chloride (Research).
ch Disclosure 290,082 (198
8)) and the like, however, these methods require a complicated step of first distilling off the THF or diethyl ether solvent of the aryl Grignard reagent under reduced pressure and then diluting with a heptane-benzene solvent. is there. In addition, when the exchange of the solvent is insufficient, there are problems of yield and reproducibility such that the yield of the arylsulfonium salt is low or the arylsulfonium salt cannot be synthesized at all.

【0004】更に、低温条件下でジアリールスルホキシ
ドにトリアルキルシリルスルホネートを反応させた後
に、更にアリールグリニヤ試薬を反応させる方法(R.
D.Miller,A.F.Renaldo,and
H.Ito,J.Org.Chem.,53.5574
(1988))も提案されているが、この方法の場合、
各試薬を低温条件下(−70℃)で滴下し、0〜10℃
で反応の熟成を行うことを要し、温度管理が非常に繁雑
であり、また、ドライアイス−メタノール浴のような冷
浴や反応の熟成のための水浴も必要となる。従って、低
温装置や繁雑な冷却剤の交換等が必要になり、工業化学
的、コスト的な面からは適切な方法とはいえない。更
に、この方法において、酸不安定基を持つジアリールス
ルホキシドを原料にした場合は、トリアルキルシリルス
ルホネートの酸性不純物のために、酸不安定基の切断が
起こり、アリールスルホニウム塩の合成が困難である。
Further, a method of reacting a diaryl sulfoxide with a trialkylsilyl sulfonate under a low temperature condition and further reacting with an aryl Grignard reagent (R.
D. Miller, A .; F. Renaldo, and
H. Ito, J. et al. Org. Chem. , 53.5574
(1988)), but in this method,
Each reagent was added dropwise under low temperature conditions (-70 ° C),
And the temperature control is very complicated, and a cooling bath such as a dry ice-methanol bath and a water bath for aging the reaction are also required. Therefore, a low-temperature device or complicated replacement of the coolant is required, which is not an appropriate method in terms of industrial chemistry and cost. Furthermore, in this method, when a diaryl sulfoxide having an acid labile group is used as a raw material, the acid labile group is cleaved due to an acidic impurity of a trialkylsilyl sulfonate, and it is difficult to synthesize an aryl sulfonium salt. .

【0005】また、本発明者らは、先に、酸不安定基を
有するジアリールスルホキシドにトリアルキルシリルス
ルホネートを反応させた後に、アリールグリニヤ試薬を
反応させる系に、トリエチルアミン又はピリジン等の有
機塩基を加えることにより、酸不安定基の分解を抑えて
酸不安定基を有するスルホニウム塩を合成する方法を提
案している。しかし、この方法の場合、原料のジアリー
ルスルホキシドの単離収率が低く、このためスルホニウ
ム塩の収率が劣る場合があり、また、反応系に有機塩基
を用いるので塩基性不純物の混入の可能性がある等の問
題がある。従って、このような有機塩基を用いずに高収
率で目的とするトリアリールスルホニウム塩を製造する
ことが望まれる。また、従来法においては、例えば、グ
リニヤ試薬を別の反応器で調製した後、これを反応系に
添加する等、全反応工程を一つの反応器で行い難く、こ
の点の改善も要望される。
In addition, the present inventors have previously made a system in which a diaryl sulfoxide having an acid labile group is reacted with a trialkylsilyl sulfonate and then an aryl Grignard reagent is reacted with an organic base such as triethylamine or pyridine. To suppress the decomposition of the acid labile group and to synthesize a sulfonium salt having an acid labile group. However, in this method, the isolation yield of the raw material diaryl sulfoxide is low, so that the yield of the sulfonium salt may be inferior.In addition, since an organic base is used in the reaction system, there is a possibility that basic impurities may be mixed. Problem. Therefore, it is desired to produce the desired triarylsulfonium salt in high yield without using such an organic base. Further, in the conventional method, for example, after preparing a Grignard reagent in a separate reactor and adding it to the reaction system, it is difficult to perform all the reaction steps in one reactor, and improvement of this point is also demanded. .

【0006】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
トリアリールスルホニウム塩を簡便且つ高収率で製造す
ることができるトリアリールスルホニウム塩の製造方法
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances,
An object of the present invention is to provide a method for producing a triarylsulfonium salt, which can produce a triarylsulfonium salt easily and in a high yield.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは上記目的を達成するため種々検討を行った結
果、下記一般式(1)で示されるアリールグリニヤ試薬
の過剰量を塩化チオニルと反応させ、次いで下記一般式
(2)で示されるトリオルガノシリルスルホネート又は
トリオルガノシリルハライドを反応させることにより、
有機塩基を用いることなく下記一般式(3)で示される
トリアリールスルホニウム塩を高収率で製造すること、
この場合、全反応を上記アリールグリニヤ試薬の調製に
用いた反応器内で行うことができ、反応装置、反応操作
が簡略化されることを見出した。
Means for Solving the Problems and Embodiments of the Invention The present inventors have conducted various studies in order to achieve the above object, and as a result, have found that an excess amount of the aryl Grignard reagent represented by the following general formula (1) is obtained. By reacting with thionyl chloride and then with a triorganosilyl sulfonate or triorganosilyl halide represented by the following general formula (2):
Producing a triarylsulfonium salt represented by the following general formula (3) in high yield without using an organic base;
In this case, it has been found that the entire reaction can be carried out in the reactor used for the preparation of the above-mentioned aryl Grignard reagent, and the reaction device and the reaction operation are simplified.

【0008】[0008]

【化3】 (但し、式中R1〜R5は水素原子又は一価の有機基を示
し、これらは互いに同一でも異なってもよい。R6は互
いに同一又は異なった一価炭化水素基を示し、Xは臭素
原子又は塩素原子を示し、Yは置換又は非置換のアルキ
ルスルホネート又はアリールスルホネート又はハロゲン
原子を示す。)
Embedded image (Wherein, R 1 to R 5 represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, which may be the same or different. R 6 represents the same or different monovalent hydrocarbon group, and X represents Represents a bromine atom or a chlorine atom, and Y represents a substituted or unsubstituted alkylsulfonate or arylsulfonate or a halogen atom.)

【0009】即ち、トリアリールスルホニウム塩の製造
に当たり、強いアルカリである上記アリールグリニヤ試
薬を原料に用いることにより、有機塩基を用いなくても
酸不安定基の分解を抑えることができ、その上、合成過
程で例えば、ビス(p−tert−ブトキシフェニル)
スルホキシドのようなスルホキシド化合物の単離やトリ
オルガノシリルスルホネートの滴下の際の繁雑な冷浴の
変更等が不要となるために、グリニヤ試薬を調製した反
応器で全ての反応を行うこともでき、工程上の操作も非
常に簡便となることを知見し、本発明をなすに至ったも
のである。
That is, in the production of a triarylsulfonium salt, the decomposition of an acid labile group can be suppressed without using an organic base by using the above-mentioned aryl Grignard reagent which is a strong alkali as a raw material. In the synthesis process, for example, bis (p-tert-butoxyphenyl)
In order to eliminate the need for isolation of a sulfoxide compound such as sulfoxide or a complicated change of a cooling bath at the time of dropping of triorganosilyl sulfonate, all the reactions can be carried out in a reactor prepared with a Grignard reagent, The inventors have found that the operation in the process becomes very simple, and have accomplished the present invention.

【0010】従って、本発明は上記一般式(1)で示さ
れるアリールグリニヤ試薬を塩化チオニルと反応させ、
次いで上記一般式(2)で示されるトリオルガノシリル
スルホネート又はトリオルガノシリルハライドを反応さ
せて、上記一般式(3)で示されるトリアリールスルホ
ニウム塩を製造することを特徴とするトリアリールスル
ホニウム塩の製造方法を提供する。
Accordingly, the present invention is to react the aryl Grignard reagent represented by the above general formula (1) with thionyl chloride,
Then, a triorganosilylsulfonate or a triorganosilyl halide represented by the above general formula (2) is reacted to produce a triarylsulfonium salt represented by the above general formula (3). A manufacturing method is provided.

【0011】以下、本発明につき更に詳細に説明する
と、本発明で用いるアリールグリニヤ試薬は下記一般式
(1)で示されるものである。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail. The aryl Grignard reagent used in the present invention is represented by the following general formula (1).

【0012】[0012]

【化4】 Embedded image

【0013】ここで、R1〜R5は、水素原子又は一価の
有機基であり、互いに同一でも異なっていてもよい。こ
の場合、一価の有機基としては、炭素数1〜14、特に
1〜10の一価炭化水素基(例えばアルキル基、アリー
ル基等)、炭素数1〜8、特に1〜6のアルコキシ基、
炭素数2〜8、特に2〜6のアセタール基又はケタール
基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、アルキル基の
炭素数が1〜6、特に1〜4のジアルキルアミノ基、R
2N−R´−(Rは炭素数1〜6、特に1〜4のアルキ
ル基、R´は炭素数1〜6、特に1〜3のアルキレン
基)で示されるジアルキルアミノアルキル基、炭素数1
〜8、特に1〜6のアルキルチオ基、炭素数6〜14、
特に6〜10のアリールチオ基等が挙げられる。また、
Xは臭素原子又は塩素原子を示す。
Here, R 1 to R 5 are a hydrogen atom or a monovalent organic group, and may be the same or different. In this case, examples of the monovalent organic group include a monovalent hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms, particularly 1 to 10 carbon atoms (eg, an alkyl group and an aryl group), and an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms. ,
An acetal group or a ketal group having 2 to 8 carbon atoms, particularly 2 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, a dialkylamino group having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl group, particularly 1 to 4 carbon atoms;
A dialkylaminoalkyl group represented by 2 N-R'- (R is an alkyl group having 1 to 6, particularly 1 to 4 carbon atoms, R 'is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 3 carbon atoms); 1
To 8, especially 1 to 6 alkylthio groups, 6 to 14 carbon atoms,
Particularly, there may be mentioned 6 to 10 arylthio groups. Also,
X represents a bromine atom or a chlorine atom.

【0014】なお、R1〜R5のアルキル基としては、直
鎖状、分枝状又は環状のいずれでもよいが、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル
基、シクロへキシル基等が挙げられ、中でもメチル基、
エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基がより
好ましく用いられる。アルコキシ基としては、直鎖状、
分枝状又は環状のいずれでもよいが、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキ
シ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ヘ
キシロキシ基、シクロヘキシロキシ基等が挙げられ、中
でもメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、te
rt−ブトキシ基がより好ましく用いられる。アセター
ル基又はケタール基としては、テトラヒドロピラニルオ
キシ基、テトラヒドロフラニルオキシ基、1−エトキシ
エチルオキシ基、1−プロポキシエトキシ基等が挙げら
れ、中でもテトラヒドロピラニルオキシ基、1−エトキ
シエチルオキシ基が好ましく用いられる。ジアルキルア
ミノ基としてはN,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジ
エチルアミノ基、N,N−ジブチルアミノ基等や、N,
N−ジメチルアミノエチル基、N,N−ジブチルアミノ
ブチル基等が用いられ、中でもN,N−ジメチルアミノ
基がより好ましく用いられる。更にアリール基やアリー
ルオキシ基、アリールチオ基等も好適に用いられるが、
グリニヤ試薬として安定に存在できる置換基であれば上
記置換基以外のものでもよい。
The alkyl group for R 1 to R 5 may be linear, branched or cyclic, but may be a methyl group,
Ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group and the like, among which methyl group,
Ethyl, isopropyl and tert-butyl groups are more preferably used. As the alkoxy group, linear,
Although it may be branched or cyclic, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, a hexyloxy group, a cyclohexyloxy group, and the like, Among them, methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, te
An rt-butoxy group is more preferably used. Examples of the acetal group or ketal group include a tetrahydropyranyloxy group, a tetrahydrofuranyloxy group, a 1-ethoxyethyloxy group, a 1-propoxyethoxy group, and the like, among which a tetrahydropyranyloxy group and a 1-ethoxyethyloxy group are exemplified. It is preferably used. Examples of the dialkylamino group include an N, N-dimethylamino group, an N, N-diethylamino group, an N, N-dibutylamino group,
An N-dimethylaminoethyl group, an N, N-dibutylaminobutyl group and the like are used, and among them, an N, N-dimethylamino group is more preferably used. Further, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group and the like are also preferably used,
A substituent other than the above substituents may be used as long as the substituent can be stably present as the Grignard reagent.

【0015】また、その置換位置もo、m、p位のいず
れでもよいが、o位に立体障害の大きい置換基を有する
アリールスルホニウム塩を得ることが困難なため、m
位、p位が好ましい。
The substitution position may be any of the o, m and p positions. However, it is difficult to obtain an arylsulfonium salt having a substituent having a large steric hindrance at the o position.
And p-positions are preferred.

【0016】上記アリールグリニヤ試薬は、下記式で示
すアリール化合物とマグネシウムを用いて常法によりT
HF溶媒等の有機溶媒中で調製することができる。
The above-mentioned aryl Grignard reagent is prepared by a conventional method using an aryl compound represented by the following formula and magnesium.
It can be prepared in an organic solvent such as HF solvent.

【0017】[0017]

【化5】 (但し、式中R1〜R5、Xは上記と同様の意味を示
す。)
Embedded image (In the formula, R 1 to R 5 and X have the same meanings as described above.)

【0018】次に、本発明で使用するトリオルガノシリ
ルスルホネート又はトリオルガノシリルハライドは、下
記一般式(2)で示される。 (R63SiY …(2)
Next, the triorganosilyl sulfonate or triorganosilyl halide used in the present invention is represented by the following general formula (2). (R 6 ) 3 SiY (2)

【0019】ここで、R6は直鎖状、分枝状又は環状の
一価炭化水素基であり、互いに同一でも異なっていても
よい。この場合、一価炭化水素基としては、好ましくは
炭素数1〜6、特に1〜4のアルキル基、好ましくは炭
素数6〜14、特に6〜10のアリール基、好ましくは
炭素数7〜10、特に7〜8のアラルキル基等を挙げる
ことができるが、これらの中でもアルキル基が好適であ
る。
Here, R 6 is a linear, branched or cyclic monovalent hydrocarbon group, which may be the same or different. In this case, the monovalent hydrocarbon group is preferably an alkyl group having 1 to 6, particularly 1 to 4 carbon atoms, preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, particularly 6 to 10 carbon atoms, and preferably 7 to 10 carbon atoms. And particularly, 7 to 8 aralkyl groups and the like. Among them, an alkyl group is preferable.

【0020】Yは、置換又は非置換のアルキルスルホネ
ート又はアリールスルホネート又はハロゲン原子を示
し、例えば、メタンスルホネート、トリフルオロメタン
スルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、ベン
ゼンスルホネート、p−トルエンスルホネート、2,4
−ジメチルベンゼンスルホネート、4−tert−ブチ
ルベンゼンスルホネート、ペンタフルオロベンゼンスル
ホネート、4−フルオロベンゼンスルホネート、2,
2,2−トリフルオロエタンスルホネート等のスルホネ
ートや塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原
子を用いることが好ましい。このようなスルホネートや
ハロゲン原子を用いたトリオルガノシリルスルホネート
又はトリオルガノシリルハライドとして、具体的にはト
リメチルシリルクロリド、tert−ブチルジメチルシ
リルクロリド、トリエチルシリルブロミド、tert−
ブチルジメチルシリルブロミド、トリメチルシリルトリ
フルオロメタンスルホネート、トリメチルシリル−p−
トルエンスルホネート、トリメチルシリル−4−ter
t−ブチルベンゼンスルホネート、トリメチルシリルノ
ナフルオロブタンスルホネート、トリメチルシリルベン
ゼンスルホネート、tert−ブチルジメチルシリル−
p−トルエンスルホネート、ジメチル−iso−プロピ
ルシリルトリフルオロメタンスルホネート、トリメチル
シリル−2,2,2−トリフルオロエタンスルホネー
ト、トリメチルシリルペンタフルオロベンゼンスルホネ
ート、ジメチルフェニルシリルトリフルオロメタンスル
ホネート、トリエチルシリル−4−フルオロベンゼンス
ルホネート等を挙げることができるが、これらの中でも
特にトリメチルシリルクロリド、tert−ブチルジメ
チルシリルクロリド、トリメチルシリルトリフルオロメ
タンスルホネート、トリメチルシリル−p−トルエンス
ルホネート、tert−ブチルジメチルシリルトリフル
オロメタンスルホネート等が好適に用いられる。
Y represents a substituted or unsubstituted alkylsulfonate or arylsulfonate or a halogen atom, for example, methanesulfonate, trifluoromethanesulfonate, nonafluorobutanesulfonate, benzenesulfonate, p-toluenesulfonate, 2,4
-Dimethylbenzenesulfonate, 4-tert-butylbenzenesulfonate, pentafluorobenzenesulfonate, 4-fluorobenzenesulfonate, 2,
It is preferable to use a sulfonate such as 2,2-trifluoroethanesulfonate and a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. As such triorganosilyl sulfonates or triorganosilyl halides using a sulfonate or a halogen atom, specifically, trimethylsilyl chloride, tert-butyldimethylsilyl chloride, triethylsilyl bromide, tert-
Butyldimethylsilyl bromide, trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate, trimethylsilyl-p-
Toluenesulfonate, trimethylsilyl-4-ter
t-butylbenzenesulfonate, trimethylsilylnonafluorobutanesulfonate, trimethylsilylbenzenesulfonate, tert-butyldimethylsilyl-
p-toluenesulfonate, dimethyl-iso-propylsilyltrifluoromethanesulfonate, trimethylsilyl-2,2,2-trifluoroethanesulfonate, trimethylsilylpentafluorobenzenesulfonate, dimethylphenylsilyltrifluoromethanesulfonate, triethylsilyl-4-fluorobenzenesulfonate, etc. Among them, trimethylsilyl chloride, tert-butyldimethylsilyl chloride, trimethylsilyltrifluoromethanesulfonate, trimethylsilyl-p-toluenesulfonate, tert-butyldimethylsilyltrifluoromethanesulfonate and the like are particularly preferably used.

【0021】本発明のトリアリールスルホニウム塩の製
造方法は、上記アリールグリニヤ試薬をその調製に使用
したTHF溶媒等の有機溶媒の溶液のまま、あるいは更
にTHF等の有機溶媒で希釈した後、塩化チオニル又は
塩化チオニルのTHF溶液を滴下してジアリールスルホ
キシドを得、このジアリールスルホキシドを単離せず
に、即ち反応系にアリールグリニヤ試薬が残っている状
態で上記トリオルガノシリルスルホネート又はトリオル
ガノシリルハライドを滴下することで、下記一般式
(3)で示されるトリアリールスルホニウム塩を合成す
ることが好適である。
The method for producing a triarylsulfonium salt according to the present invention is characterized in that the aryl Grignard reagent is used as a solution in an organic solvent such as a THF solvent used for the preparation, or after further diluted with an organic solvent such as THF. A solution of thionyl or thionyl chloride in THF is added dropwise to obtain a diaryl sulfoxide, and the triorganosilyl sulfonate or triorganosilyl halide is isolated without isolating the diaryl sulfoxide, that is, with the aryl Grignard reagent remaining in the reaction system. It is preferable to synthesize a triarylsulfonium salt represented by the following general formula (3) by dropping.

【0022】[0022]

【化6】 (但し、式中R1〜R5及びYは上記と同様の意味を示
す。)
Embedded image (However, in the formula, R 1 to R 5 and Y have the same meaning as described above.)

【0023】上記アリールグリニヤ試薬と塩化チオニル
の反応は、アリールグリニヤ試薬1モルに対して塩化チ
オニルを好ましくは0.1〜0.4モル、特に0.2〜
0.3モルとすることが好ましい。塩化チオニルが0.
1モルより少ないとアリールスルホキシドの生成量が少
なくなり、塩化チオニルが0.4モルより多いと塩化チ
オニルとの反応後に残るアリールグリニヤ試薬の量が少
なくなり、結果としてトリアリールスルホニウム塩の生
成量が少なくなる。
In the reaction of the above-mentioned aryl Grignard reagent with thionyl chloride, thionyl chloride is used in an amount of preferably 0.1 to 0.4 mol, particularly 0.2 to 0.1 mol per mol of the aryl Grignard reagent.
Preferably it is 0.3 mol. Thionyl chloride is 0.
When the amount is less than 1 mol, the amount of arylsulfoxide formed is reduced. When the amount of thionyl chloride is more than 0.4 mol, the amount of the aryl Grignard reagent remaining after the reaction with thionyl chloride is reduced, and as a result, the amount of formed triarylsulfonium salt is reduced. Is reduced.

【0024】また、反応温度は、−70〜70℃、特に
0〜10℃とすることが好ましい。反応温度が低すぎる
場合はアリールグリニヤ試薬が固化し、固化を防ぐため
には多量の希釈溶媒が必要となる。また、反応温度が高
すぎる場合は置換基の種類により置換基が分解する可能
性がある。さらに、塩化チオニルは、そのままか、ある
いはTHF等の有機溶媒で希釈してから滴下することも
できるが、反応による急激な温度上昇を避けるためには
希釈してから滴下するのが好ましい。塩化チオニルを滴
下した後の反応の熟成は、2時間以下、特に0.5〜1
時間行うことが好ましい。
The reaction temperature is preferably -70 to 70 ° C, particularly preferably 0 to 10 ° C. If the reaction temperature is too low, the aryl Grignard reagent solidifies, and a large amount of diluting solvent is required to prevent the solidification. If the reaction temperature is too high, the substituent may be decomposed depending on the type of the substituent. Further, thionyl chloride can be added dropwise as it is or after being diluted with an organic solvent such as THF. However, in order to avoid a rapid rise in temperature due to the reaction, it is preferable to add the thionyl chloride dropwise. The aging of the reaction after the dropwise addition of thionyl chloride is not more than 2 hours, especially 0.5 to 1 hour.
It is preferable to carry out for a time.

【0025】上記反応の熟成後にトリオルガノシリルス
ルホネート又はトリオルガノシリルハライドを滴下する
際には、アリールグリニヤ試薬1モルに対してトリオル
ガノシリルスルホネート又はトリオルガノシリルハライ
ドを0.1〜1モル、特に0.5〜1モルの割合で滴下
するのが好ましい。トリオルガノシリルスルホネート又
はトリオルガノシリルハライドが0.1モルより少ない
とアリールスルホニウム塩の生成量が少なく、トリオル
ガノシリルスルホネート又はトリオルガノシリルハライ
ドが1モルより多いと酸不安定基を有するトリアリール
スルホニウム塩の合成の際には、トリオルガノシリルス
ルホネート又はトリオルガノシリルハライド中の酸性不
純物により酸不安定基の分解が進行する可能性がある。
また、その温度範囲は、上記塩化チオニルの反応の場合
と同様の理由により、−10〜20℃とすることが望ま
しい。
When the triorganosilyl sulfonate or triorganosilyl halide is added dropwise after aging of the above reaction, 0.1 to 1 mol of triorganosilyl sulfonate or triorganosilyl halide is added to 1 mol of the aryl Grignard reagent. In particular, it is preferable to drop at a rate of 0.5 to 1 mol. When the amount of triorganosilyl sulfonate or triorganosilyl halide is less than 0.1 mol, the amount of arylsulfonium salt formed is small, and when the amount of triorganosilyl sulfonate or triorganosilyl halide is more than 1 mol, triarylsulfonium having an acid labile group During the synthesis of the salt, the decomposition of the acid labile group may proceed due to acidic impurities in the triorganosilyl sulfonate or triorganosilyl halide.
Further, the temperature range is desirably -10 to 20C for the same reason as in the case of the reaction of thionyl chloride.

【0026】本発明の製造方法は、上記トリアリールス
ルホニウム塩の置換基の種類を変化させることにより、
トリアリールスルホニウム塩に光酸発生剤としての種々
の機能を効果的に導入することができる。
The production method of the present invention comprises changing the type of the substituent of the above triarylsulfonium salt,
Various functions as a photoacid generator can be effectively introduced into the triarylsulfonium salt.

【0027】即ち、本発明のトリアリールスルホニウム
塩の製造方法によれば、例えば酸不安定基であるter
t−ブトキシ基を持つトリス(4−tert−ブトキシ
フェニル)スルホニウム塩、同じく酸不安定基であるt
ert−ブトキシ基を2個持つトリス(3,4−ジ−t
ert−ブトキシフェニル)スルホニウム塩や、塩基性
成分としてのジアルキルアミノ基を持つトリス(4−ジ
メチルアミノフェニル)スルホニウム塩等のように機能
性置換基をスルホニウム塩に導入することができる。そ
して、例えば、酸不安定基であるtert−ブトキシ基
を有するスルホニウム塩は、高エネルギー線照射で生成
する酸の作用で酸不安定基が分解してアルカリ溶解性を
有するフェノール誘導体が生成し、照射前後でアルカリ
水溶液に対する溶解性が異なるため、大きな溶解コント
ラストを有し、微細加工技術に適した高解像性を有する
化学増幅ポジ型レジスト材料の成分として好適に用いる
ことができる。また、塩基性成分としてのアミノ基を持
つスルホニウム塩は、単純な塩基性物質を加えた時のよ
うな塩基性物質の揮発や、相溶性の悪さ、不均一な分散
等の問題がなく、アミノ基の効果が再現性良く現れ、化
学増幅ポジ型レジスト材料の成分として好適であり、こ
れらのスルホニウム塩は、特に遠紫外線リソグラフィー
において大いに威力を発揮し得るものである。
That is, according to the method for producing a triarylsulfonium salt of the present invention, for example, tertiary acid labile group
tris (4-tert-butoxyphenyl) sulfonium salt having a t-butoxy group;
tris (3,4-di-t) having two ert-butoxy groups
Functional substituents such as ert-butoxyphenyl) sulfonium salt and tris (4-dimethylaminophenyl) sulfonium salt having a dialkylamino group as a basic component can be introduced into the sulfonium salt. And, for example, a sulfonium salt having a tert-butoxy group which is an acid labile group, a phenol derivative having alkali solubility is generated by decomposition of the acid labile group by the action of an acid generated by irradiation with high energy rays, Since the solubility in an alkaline aqueous solution is different before and after irradiation, it can be suitably used as a component of a chemically amplified positive resist material having a large dissolution contrast and a high resolution suitable for fine processing technology. In addition, sulfonium salts having an amino group as a basic component have no problems such as volatilization of a basic substance, poor compatibility, uneven dispersion, and the like, which occur when a simple basic substance is added. The effect of the group appears with good reproducibility, and it is suitable as a component of a chemically amplified positive resist material. These sulfonium salts can exert great power especially in deep ultraviolet lithography.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明のトリアリールスルホニウム塩の
製造方法によれば、tert−ブトキシ基や、ジメチル
アミノ基等の機能性置換基を持つトリアリールスルホニ
ウム塩を、非常に簡便な方法で、且つ高収率で合成する
ことができる。
According to the method for producing a triarylsulfonium salt of the present invention, a triarylsulfonium salt having a functional substituent such as a tert-butoxy group or a dimethylamino group can be prepared by a very simple method and It can be synthesized in high yield.

【0029】[0029]

【実施例】以下、実施例及び比較例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるも
のではない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

【0030】[実施例1]トリフルオロメタンスルホン酸トリス(4−tert−
ブトキシフェニル)スルホニウムの合成 金属マグネシウム60.7g(2.5モル)、4−te
rt−ブトキシフェニルクロリド461g(2.5モ
ル)、THF700gを用いて常法によりグリニヤ試薬
を調製した。このグリニヤ溶液を放冷し、更に氷水浴に
て冷却した後、塩化チオニル59.5g(0.5モル)
をTHF100gで希釈した溶液を30℃を超えない温
度で滴下し、反応の熟成を約30分間行った。次に、ト
リメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート27
7.8g(1.25モル)を20℃を超えない温度で滴
下した。更に反応の熟成を1時間行った後、室温で一晩
放置した。この反応液を再び氷水浴で冷却した後、1
6.7%塩化アンモニウム水溶液1800g(NH4
l 300g+H2O 1500g)を30℃を超えな
い温度で加え、分液後、有機層にクロロホルム1000
gを加え、水1000gを用いて3回洗浄した。その
後、溶媒をロータリーエバポレーターにて減圧留去し、
得られた油状残査を再結晶して、収量141g(収率4
5%)、純度99%のトリフルオロメタンスルホン酸ト
リス(4−tert−ブトキシフェニル)スルホニウム
を単離した。
Example 1 Tris trifluoromethanesulfonate (4-tert-
Butoxyphenyl ) sulfonium Synthetic metal magnesium 60.7 g (2.5 mol), 4-te
A Grignard reagent was prepared by a conventional method using 461 g (2.5 mol) of rt-butoxyphenyl chloride and 700 g of THF. The Grignard solution was allowed to cool, and further cooled in an ice water bath, and then 59.5 g (0.5 mol) of thionyl chloride was used.
Was added dropwise at a temperature not exceeding 30 ° C., and the reaction was aged for about 30 minutes. Next, trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate 27
7.8 g (1.25 mol) were added dropwise at a temperature not exceeding 20 ° C. Further, the reaction was aged for 1 hour, and then left at room temperature overnight. After the reaction solution was cooled again in an ice water bath,
1800 g of 6.7% aqueous ammonium chloride solution (NH 4 C
l 300 g + H 2 O 1500 g) is added at a temperature not exceeding 30 ° C., and after liquid separation, chloroform 1000 is added to the organic layer.
g, and washed three times with 1000 g of water. Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure with a rotary evaporator,
The resulting oily residue was recrystallized to give 141 g (yield 4 g).
5%), 99% pure tris (4-tert-butoxyphenyl) sulfonium trifluoromethanesulfonate was isolated.

【0031】[比較例1]トリフルオロメタンスルホン酸トリス(4−tert−
ブトキシフェニル)スルホニウムの合成 マグネシウム24.3g(1モル)、4−tert−ブ
トキシフェニルクロリド203.2g(1.1モル)、
THF280gを用いて常法により調製したグリニヤ試
薬をTHF500gで希釈し、ドライアイスメタノール
浴で−60℃以下に冷却した。次いで塩化チオニル4
7.5g(0.4モル)をTHF70gで希釈した溶液
を0℃を超えない温度で1時間かけて滴下した。氷浴に
て1時間熟成を行った後、水36gを加えて過剰のグリ
ニヤ試薬を分解した。塩化メチレン1000gにさらに
飽和塩化アンモニウム水溶液400gと水300gを加
えて分液を行い、有機溶媒層の水洗を純水700gで2
回行った。有機溶媒層を硫酸マグネシウムで乾燥、濾過
し、溶媒を減圧留去した。得られた油状物を再結晶して
ビス(4−tert−ブトキシフェニル)スルホキシド
を収率60%で単離した。
Comparative Example 1 Tris (4-tert-trifluoromethanesulfonate )
Synthesis of butoxyphenyl) sulfonium 24.3 g (1 mol) of magnesium, 203.2 g (1.1 mol) of 4-tert-butoxyphenyl chloride,
A Grignard reagent prepared by a conventional method using 280 g of THF was diluted with 500 g of THF, and cooled to −60 ° C. or lower in a dry ice methanol bath. Then thionyl chloride 4
A solution obtained by diluting 7.5 g (0.4 mol) with 70 g of THF was added dropwise at a temperature not exceeding 0 ° C. over 1 hour. After aging for 1 hour in an ice bath, 36 g of water was added to decompose excess Grignard reagent. 400 g of a saturated aqueous solution of ammonium chloride and 300 g of water were further added to 1000 g of methylene chloride to carry out liquid separation, and the organic solvent layer was washed with 700 g of pure water.
I went there. The organic solvent layer was dried over magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained oil was recrystallized to isolate bis (4-tert-butoxyphenyl) sulfoxide in a yield of 60%.

【0032】このビス(4−tert−ブトキシフェニ
ル)スルホキシド30.0g(0.087モル)、ピリ
ジン13.4g(0.17モル)をTHF200gに溶
解させた溶液に、(トリメチルシリル)トリフルオロメ
タンスルホネート37.8g(0.17モル)を、0℃
を超えないように温度コントロールしながら撹拌、滴下
した。次いで反応温度を0〜5℃とし、10分間撹拌し
た。
A solution prepared by dissolving 30.0 g (0.087 mol) of bis (4-tert-butoxyphenyl) sulfoxide and 13.4 g (0.17 mol) of pyridine in 200 g of THF was added with (trimethylsilyl) trifluoromethanesulfonate 37. 0.8 g (0.17 mol) at 0 ° C
The mixture was stirred and added dropwise while controlling the temperature so as not to exceed. Then, the reaction temperature was set to 0 to 5 ° C., and the mixture was stirred for 10 minutes.

【0033】得られた反応溶液を、金属マグネシウム
4.2g(0.17モル)、THF50g及び4−te
rt−ブトキシフェニルクロライド34.3g(0.1
9モル)を用いて常法によって調製したグリニヤ試薬
を、反応温度が0℃を超えないようにコントロールしな
がら滴下した。
The obtained reaction solution was mixed with 4.2 g (0.17 mol) of metallic magnesium, 50 g of THF and 4-te
34.3 g of rt-butoxyphenyl chloride (0.1
(9 mol) was added dropwise while controlling the reaction temperature so as not to exceed 0 ° C.

【0034】次に、反応温度を0〜5℃となるようにし
て更に60分間撹拌し、反応を終了させた。
Next, the reaction temperature was adjusted to 0 to 5 ° C., and the mixture was further stirred for 60 minutes to complete the reaction.

【0035】得られた反応液に水を滴下して過剰のグリ
ニヤ試薬を分解させた後、生成した無機塩を取り除くた
めに濾過を行った。得られた濾液に、塩化メチレン60
0g、飽和塩化アンモニウム水溶液300g、水400
gを用いて分液し、次いで水400gを用いて2回洗浄
した。得られた有機層を減圧留去して油状物を得た。こ
の油状物を再結晶して、収率50%、純度99%のトリ
フルオロメタンスルホン酸トリス(4−tert−ブト
キシフェニル)スルホニウムを得た。この二段階の合成
法による収率は、第一段階が60%、第二段階が50%
であるので、最終的には収率30%であった。
After water was added dropwise to the obtained reaction solution to decompose excess Grignard reagent, filtration was performed to remove the generated inorganic salts. Methylene chloride 60 is added to the obtained filtrate.
0 g, saturated aqueous ammonium chloride solution 300 g, water 400
and then washed twice with 400 g of water. The obtained organic layer was distilled off under reduced pressure to obtain an oily substance. The oil was recrystallized to obtain tris (4-tert-butoxyphenyl) sulfonium trifluoromethanesulfonate having a yield of 50% and a purity of 99%. The yield of this two-step synthesis is 60% for the first step and 50% for the second step.
Therefore, the yield was finally 30%.

【0036】[実施例2]トリフルオロメタンスルホン酸トリス(3,4−ジ−t
ert−ブトキシフェニル)スルホニウムの合成 3,4−ジ−tert−ブトキシフェニルクロリド5
1.3g(0.2モル)と金属マグネシウム4.9g
(0.2モル)、THF100gを用いて常法によりグ
リニヤ試薬を調製した。このグリニヤ溶液を放冷し、更
に氷水浴にて冷却した後、塩化チオニル5.8g(0.
049モル)をTHF10gで希釈した溶液を30℃を
超えない温度で滴下し、反応の熟成を約30分間行っ
た。次にトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネ
ート26.7g(0.12モル)を20℃を超えない温
度で滴下した。更に反応の熟成を1時間行った後、室温
で一晩放置した。この反応液を再び氷水浴で冷却した
後、16.7%塩化アンモニウム水溶液200gを30
℃を超えない温度で加え、分液後、有機層にクロロホル
ム100gを加え、水100gを用いて3回洗浄した。
その後、溶媒をロータリーエバポレーターにて減圧留去
し、油状物を得た。この油状物を再結晶して、収量1
3.2g(収率32%)、純度99%のトリフルオロメ
タンスルホン酸トリス(3,4−ジ−tert−ブトキ
シフェニル)スルホニウムを単離した。
Example 2 Tris (3,4-di-t-trifluoromethanesulfonate )
Synthesis of tert-butoxyphenyl ) sulfonium 3,4-di-tert-butoxyphenyl chloride 5
1.3 g (0.2 mol) and 4.9 g of metallic magnesium
(0.2 mol), and a Grignard reagent was prepared by a conventional method using 100 g of THF. The Grignard solution was allowed to cool, and further cooled in an ice water bath, and then 5.8 g of thionyl chloride (0.
(049 mol) in 10 g of THF was added dropwise at a temperature not exceeding 30 ° C., and the reaction was aged for about 30 minutes. Next, 26.7 g (0.12 mol) of trimethylsilyltrifluoromethanesulfonate was added dropwise at a temperature not exceeding 20 ° C. Further, the reaction was aged for 1 hour, and then left at room temperature overnight. After the reaction solution was cooled again in an ice water bath, 200 g of a 16.7% aqueous ammonium chloride solution was added to 30 g of the reaction solution.
After adding at a temperature not exceeding ℃, and separating the solution, 100 g of chloroform was added to the organic layer, and the mixture was washed three times with 100 g of water.
Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain an oily substance. The oil was recrystallized to yield 1
3.2 g (yield 32%) of 99% pure tris (3,4-di-tert-butoxyphenyl) sulfonium trifluoromethanesulfonate was isolated.

【0037】[比較例2]トリフルオロメタンスルホン酸トリス(3,4−ジ−t
ert−ブトキシフェニル)スルホニウムの合成 3,4−ジ−tert−ブトキシフェニルクロリドと金
属マグネシウムとTHFとを用いて常法によりグリニヤ
試薬を調製し、更に塩化チオニルを反応させてビス
(3,4−ジ−tert−ブトキシフェニル)スルホキ
シドを収率64%で得た。次に、このビス(3,4−ジ
−tert−ブトキシフェニル)スルホキシド58.9
g(0.12モル)をTHF120gに溶解させ、氷水
浴にて冷却した。これにトリエチルアミン12.1g
(0.12モル)を加え、更にトリメチルシリルトリフ
ラート68.3g(0.31モル)を10℃を超えない
ようにコントロールしながら滴下した。この溶液に、
1,2−ジ−tert−ブトキシ−4−クロロベンゼン
61.6g(0.24モル)、金属マグネシウム5.8
g(0.24モル)及びTHF100gを用いて常法に
て調製したグリニヤ試薬を10℃を超えないようにコン
トロールしながら滴下した。更に反応温度を0〜10℃
として反応の熟成を30分間行った。反応液に20%塩
化アンモニウム水溶液700gを加えて反応の停止と分
液を行った後、有機層にクロロホルム300gを加え
た。有機層を水300gを用いて2回水洗した後、溶媒
を減圧留去して油状物を得た。この油状物をカラムクロ
マトグラフィーにかけて(シリカゲル:溶出液、クロロ
ホルム−メタノール)、収率20%で純度99%のトリ
フルオロメタンスルホン酸トリス(3,4−ジ−ter
t−ブトキシフェニル)スルホニウムを得た。この二段
階の合成法の最終的な収率は13%であった。
Comparative Example 2 Tris (3,4-di-t-trifluoromethanesulfonate )
Synthesis of tert-butoxyphenyl ) sulfonium A Grignard reagent was prepared by a conventional method using 3,4-di-tert-butoxyphenyl chloride, metallic magnesium and THF, and further reacted with thionyl chloride to obtain bis (3,4- Di-tert-butoxyphenyl) sulfoxide was obtained in a yield of 64%. Next, this bis (3,4-di-tert-butoxyphenyl) sulfoxide 58.9.
g (0.12 mol) was dissolved in 120 g of THF and cooled in an ice-water bath. To this 12.1 g of triethylamine
(0.12 mol), and 68.3 g (0.31 mol) of trimethylsilyl triflate was further added dropwise while controlling so as not to exceed 10 ° C. In this solution,
61.6 g (0.24 mol) of 1,2-di-tert-butoxy-4-chlorobenzene, metallic magnesium 5.8
g (0.24 mol) and 100 g of THF were added dropwise while controlling a Grignard reagent prepared by a conventional method so as not to exceed 10 ° C. Further, the reaction temperature is set to 0 to 10 ° C.
The reaction was aged for 30 minutes. After the reaction was stopped and separated by adding 700 g of a 20% aqueous ammonium chloride solution to the reaction solution, 300 g of chloroform was added to the organic layer. After the organic layer was washed twice with 300 g of water, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain an oil. This oil was subjected to column chromatography (silica gel: eluent, chloroform-methanol) to give tris (3,4-di-tert-trifluoromethanesulfonic acid) with a yield of 20% and a purity of 99%.
(t-butoxyphenyl) sulfonium was obtained. The final yield of this two-step synthesis was 13%.

【0038】[実施例3]トリフルオロメタンスルホン酸トリス(4−ジメチルア
ミノフェニル)スルホニウムの合成 4−ブロモ−N,N−ジメチルアニリン100g(0.
5モル)、金属マグネシウム12.1g(0.5モル)
とTHF250gを用いて常法によりグリニヤ試薬を調
製した。このグリニヤ溶液を放冷し、更に氷水浴にて冷
却した後、塩化チオニル14.3g(0.12モル)を
THF20gで希釈した溶液を30℃を超えない温度で
滴下し、反応の熟成を約30分間行った。次に、トリメ
チルシリルトリフルオロメタンスルホネート66.7g
(0.3モル)を20℃を超えない温度で滴下した。更
に、反応の熟成を1時間行った後、室温で一晩放置し
た。この反応液を再び氷水浴で冷却した後、14.6%
塩化アンモニウム水溶液820gを30℃を超えない温
度で加え、分液後、有機層にクロロホルム200gを加
え、水200gを用いて3回洗浄した。その後、溶媒を
ロータリーエバポレーターにて減圧留去し、得られた油
状残査を再結晶して、収量36.5g(収率56%)、
純度99%のトリフルオロメタンスルホン酸トリス(4
−ジメチルアミノフェニル)スルホニウムを単離した。
Example 3 Tris (4-dimethylatrifluoromethanesulfonate)
Synthesis of minophenyl) sulfonium 100 g of 4-bromo-N, N-dimethylaniline (0.
5 mol), 12.1 g (0.5 mol) of metallic magnesium
A Grignard reagent was prepared by a conventional method using and 250 g of THF. After cooling the Grignard solution and further cooling in an ice water bath, a solution obtained by diluting 14.3 g (0.12 mol) of thionyl chloride with 20 g of THF was added dropwise at a temperature not exceeding 30 ° C., and the reaction was matured. Performed for 30 minutes. Next, 66.7 g of trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate
(0.3 mol) was added dropwise at a temperature not exceeding 20 ° C. Further, the reaction was aged for 1 hour and then left at room temperature overnight. After the reaction solution was cooled again in an ice water bath, 14.6%
820 g of an aqueous ammonium chloride solution was added at a temperature not exceeding 30 ° C., and after liquid separation, 200 g of chloroform was added to the organic layer, followed by washing three times with 200 g of water. Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure by a rotary evaporator, and the obtained oily residue was recrystallized to give a yield of 36.5 g (56%).
Tris trifluoromethanesulfonic acid having a purity of 99% (4
-Dimethylaminophenyl) sulfonium was isolated.

【0039】[比較例3]トリフルオロメタンスルホン酸トリス(4−ジメチルア
ミノフェニル)スルホニウムの合成 4−ジメチルアミノフェニルブロミドと金属マグネシウ
ムとTHFとを用いて常法によりグリニヤ試薬を調製
し、このグリニヤ試薬を塩化チオニルと反応させること
により、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)スルホキ
シドを収率33%で得た。このビス(4−ジメチルアミ
ノフェニル)スルホキシド7.0g(0.024モル)
を塩化メチレン100gに溶解させた溶液を、ドライア
イスメタノール浴を用いて−70℃に冷却した後、トリ
メチルシリルトリフレート6.0g(0.027モル)
を−60℃を超えない温度で撹拌、滴下した。
Comparative Example 3 Tris (4-dimethylatrifluoromethanesulfonate)
Synthesis of minophenyl) sulfonium Bis (4-dimethylaminophenyl) sulfoxide is prepared by preparing a Grignard reagent by a conventional method using 4-dimethylaminophenyl bromide, metallic magnesium and THF, and reacting the Grignard reagent with thionyl chloride. Was obtained in a yield of 33%. 7.0 g (0.024 mol) of this bis (4-dimethylaminophenyl) sulfoxide
Was dissolved in 100 g of methylene chloride and cooled to −70 ° C. using a dry ice methanol bath, and then 6.0 g (0.027 mol) of trimethylsilyl triflate was dissolved.
Was stirred and dropped at a temperature not exceeding -60 ° C.

【0040】次いで、ドライアイスメタノール浴を氷水
浴に代えて反応温度を0〜5℃とし、10分間撹拌し
た。
Then, the reaction temperature was adjusted to 0 to 5 ° C. by replacing the dry ice methanol bath with an ice water bath, followed by stirring for 10 minutes.

【0041】得られた反応溶液を、ドライアイスメタノ
ール浴を用いて再度−70℃に冷却した後、4−ブロモ
−N,N−ジメチルアニリン9.9g(0.049モ
ル)、金属マグネシウム1.2g(0.049モル)と
THF20gを用いて常法により調製したグリニヤ試薬
を、反応温度が−60℃を超えない温度で撹拌、滴下し
た。
The resulting reaction solution was cooled again to -70 ° C. using a dry ice methanol bath, and then 9.9 g (0.049 mol) of 4-bromo-N, N-dimethylaniline and 1.19 g of metallic magnesium were added. A Grignard reagent prepared by an ordinary method using 2 g (0.049 mol) and 20 g of THF was stirred and added dropwise at a reaction temperature not exceeding -60 ° C.

【0042】次いで、再び氷水浴に代え、反応温度を0
〜5℃として60分間撹拌し、反応を終了させた。
Then, the reaction was replaced with an ice-water bath again, and the reaction temperature was set to 0.
The mixture was stirred at 分 間 5 ° C. for 60 minutes to complete the reaction.

【0043】この反応液に15%塩化アンモニウム水溶
液300gを加えて分液を行った後、有機溶媒層の水洗
を水150gで2回行った。得られた有機層をロータリ
ーエバポレータを用いて溶媒を減圧留去し、油状物を得
た。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにかけて、収率40%で、純度99%のトリフルオ
ロメタンスルホン酸トリス(4−ジメチルアミノフェニ
ル)スルホニウムを得た。この二段階の合成法の最終的
な収率は、第一段階が33%、第二段階が40%である
ので、13%であった。
After 300 g of a 15% aqueous ammonium chloride solution was added to the reaction solution to carry out liquid separation, the organic solvent layer was washed twice with 150 g of water. The solvent was distilled off from the obtained organic layer under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain an oily substance. The obtained oil was subjected to silica gel column chromatography to obtain tris (4-dimethylaminophenyl) sulfonium trifluoromethanesulfonate with a yield of 40% and a purity of 99%. The final yield of this two-step synthesis was 13% since the first step was 33% and the second step was 40%.

【0044】[実施例4]p−トルエンスルホン酸トリス(4−tert−ブトキ
シフェニル)スルホニウムの合成 実施例1において、トリメチルシリルトリフルオロメタ
ンスルホネート277.8gの代わりに、p−トルエン
スルホン酸とトリメチルシリルクロリドとを用いて常法
により得たトリメチルシリル−p−トルエンスルホネー
ト(沸点113〜117℃/0.5〜0.6mmHg)
305g(1.25モル)を用いた以外は実施例1と同
様にして、カウンターアニオンにp−トルエンスルホン
酸を持つスルホニウム塩を合成し、収率45%で、純度
99%のp−トルエンスルホン酸トリス(4−tert
−ブトキシフェニル)スルホニウムを得た。
Example 4 Tris p-toluenesulfonate (4-tert-butoxy)
Synthesis of (cyclophenyl) sulfonium In Example 1, trimethylsilyl-p-toluenesulfonate (boiling point 113 to 117 ° C) obtained by a conventional method using p-toluenesulfonic acid and trimethylsilyl chloride instead of 277.8 g of trimethylsilyltrifluoromethanesulfonate. /0.5-0.6mmHg)
A sulfonium salt having p-toluenesulfonic acid as a counter anion was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 305 g (1.25 mol) of p-toluenesulfone having a yield of 45% and a purity of 99% was used. Tris acid (4-tert
-Butoxyphenyl) sulfonium was obtained.

【0045】[比較例4]p−トルエンスルホン酸トリス(4−tert−ブトキ
シフェニル)スルホニウムの合成 比較例1と同様に収率60%で得たビス(4−tert
−ブトキシフェニル)スルホキシド10.0g(0.0
29モル)、トリエチルアミン5.8g(0.058モ
ル)をTHF115gに溶解させた溶液に、(トリメチ
ルシリル)p−トルエンスルホネート14.2g(0.
058モル)を0℃を超えないように温度コントロール
しながら撹拌、滴下した。次いで反応温度を0〜5℃と
し、30分間撹拌した。
Comparative Example 4 Tris p-toluenesulfonic acid (4-tert-butoxy)
Synthesis of Cyphenyl) sulfonium Bis (4-tert) obtained in a yield of 60% as in Comparative Example 1.
-Butoxyphenyl) sulfoxide 10.0 g (0.0
29 mol), and a solution of 5.8 g (0.058 mol) of triethylamine dissolved in 115 g of THF was added with 14.2 g (0.2%) of (trimethylsilyl) p-toluenesulfonate.
(058 mol) was stirred and added dropwise while controlling the temperature so as not to exceed 0 ° C. Then, the reaction temperature was adjusted to 0 to 5 ° C., and the mixture was stirred for 30 minutes.

【0046】得られた反応溶液に、金属マグネシウム
1.4g(0.058モル)、THF16g及び4−t
ert−ブトキシフェニルクロライド11.8g(0.
064モル)を用いて常法によって調製したグリニヤ試
薬を、反応温度が0℃を超えないようにコントロールし
ながら滴下した。次に、反応温度を0〜5℃となるよう
に更に60分間撹拌し、反応を終了させた。
To the obtained reaction solution, 1.4 g (0.058 mol) of metallic magnesium, 16 g of THF and 4-t
ert-butoxyphenyl chloride 11.8 g (0.
(064 mol) was added dropwise while controlling the reaction temperature so as not to exceed 0 ° C. Next, the reaction was stirred for an additional 60 minutes so that the reaction temperature was 0 to 5 ° C., and the reaction was terminated.

【0047】得られた反応液に水を滴下して過剰のグリ
ニヤ試薬を分解させた後、生成した無機塩を取り除くた
めに濾過を行った。得られた濾液に、塩化メチレン60
0g、飽和塩化アンモニウム水溶液200g、水200
gを用いて分液し、次いで水500gを用いて3回洗浄
した。得られた有機層を減圧留去して油状物を得た。得
られた油状物を再結晶して、収率28%、純度99%の
p−トルエンスルホン酸トリス(4−tert−ブトキ
シフェニル)スルホニウムを得た。なお、原料のスルホ
キシドの単離収率は60%であるので、最終的な収率は
17%であった。
After the excess Grignard reagent was decomposed by adding water dropwise to the obtained reaction solution, filtration was performed to remove the generated inorganic salts. Methylene chloride 60 is added to the obtained filtrate.
0 g, saturated aqueous ammonium chloride solution 200 g, water 200
g, and then washed three times with 500 g of water. The obtained organic layer was distilled off under reduced pressure to obtain an oily substance. The obtained oil was recrystallized to obtain tris (4-tert-butoxyphenyl) sulfonium p-toluenesulfonate having a yield of 28% and a purity of 99%. Since the isolation yield of the raw material sulfoxide was 60%, the final yield was 17%.

【0048】[実施例5]p−トルエンスルホン酸トリス(4−ジメチルアミノフ
ェニル)スルホニウムの合成 4−ブロモ−N,N−ジメチルアニリン100g(0.
5モル)、金属マグネシウム12.1g(0.5モル)
とTHF500gを用いて常法によりグリニア試薬を調
製した。このグリニア溶液を放冷後、氷水浴にて冷却し
た。塩化チオニル14.3g(0.12モル)をTHF
20gで希釈した溶液を30℃を超えない温度で滴下し
た。反応の熟成を約30分間行った。次に、トリメチル
シリル−p−トルエンスルホネート73.3g(0.3
モル)を20℃を超えない温度で滴下した。更に反応の
熟成を1時間行った後、室温で一晩放置した。再びこの
反応液を氷水浴で冷却し、14.6%塩化アンモニウム
水溶液1500gを30℃を超えない温度で加え、分液
後、有機層にクロロホルム400gを加え、水200g
で3回洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーターにて
減圧留去し、得られた油状残渣を再結晶して、収量3
9.9g(収率59%)、純度99%のp−トルエンス
ルホン酸トリス(4−ジメチルアミノフェニル)スルホ
ニウムを単離した。
Example 5 Tris (4-dimethylaminophenyl ) p-toluenesulfonate
Synthesis of phenyl) sulfonium 100 g of 4-bromo-N, N-dimethylaniline (0.
5 mol), 12.1 g (0.5 mol) of metallic magnesium
And a 500-g portion of THF to prepare a Grignard reagent by a conventional method. After cooling the Grignard solution, it was cooled in an ice water bath. 14.3 g (0.12 mol) of thionyl chloride was added to THF
The solution diluted with 20 g was added dropwise at a temperature not exceeding 30 ° C. The reaction was aged for about 30 minutes. Next, 73.3 g of trimethylsilyl-p-toluenesulfonate (0.3
Mol) was added dropwise at a temperature not exceeding 20 ° C. Further, the reaction was aged for 1 hour, and then left at room temperature overnight. The reaction solution was cooled again in an ice-water bath, 1500 g of an aqueous 14.6% ammonium chloride solution was added at a temperature not exceeding 30 ° C. After liquid separation, 400 g of chloroform was added to the organic layer, and 200 g of water was added.
And washed three times. The solvent was distilled off under reduced pressure using a rotary evaporator, and the obtained oily residue was recrystallized to give a yield of 3
9.9 g (yield 59%) of tris (4-dimethylaminophenyl) sulfonium p-toluenesulfonate having a purity of 99% were isolated.

【0049】[比較例5]p−トルエンスルホン酸トリス(4−ジメチルアミノフ
ェニル)スルホニウムの合成 4−ジメチルアミノフェニルブロミドと金属マグネシウ
ムをTHF溶媒中、常法によりグリニア試薬を調製し、
塩化チオニルと反応させることによりビス(4−ジメチ
ルアミノフェニル)スルホキシドを収率33%で得た。
[Comparative Example 5] Tris (4-dimethylaminophen ) p-toluenesulfonate
Synthesis of phenyl ) sulfonium A Grignard reagent was prepared from 4-dimethylaminophenyl bromide and metallic magnesium in a THF solvent by a conventional method.
By reacting with thionyl chloride, bis (4-dimethylaminophenyl) sulfoxide was obtained in a yield of 33%.

【0050】上記ビス(4−ジメチルアミノフェニル)
スルホキシド7.0g(0.024モル)を塩化メチレ
ン200gに溶解させた溶液をドライアイスメタノール
浴を用いて−70℃に冷却した後、トリメチルシリル−
p−トルエンスルホネート6.6g(0.027モル)
を−60℃を超えない温度で撹拌、滴下した。
The above bis (4-dimethylaminophenyl)
A solution of 7.0 g (0.024 mol) of sulfoxide dissolved in 200 g of methylene chloride was cooled to -70 ° C using a dry ice methanol bath, and then trimethylsilyl-
6.6 g (0.027 mol) of p-toluenesulfonate
Was stirred and dropped at a temperature not exceeding -60 ° C.

【0051】次いで、ドライアイスメタノール浴を氷水
浴に代えて反応温度を0〜5℃として、10分間撹拌し
た。
Next, the reaction temperature was set to 0 to 5 ° C. by replacing the dry ice methanol bath with an ice water bath, followed by stirring for 10 minutes.

【0052】得られた反応溶液を再度ドライアイスメタ
ノール浴を用いて−70℃に冷却した後、4−ブロモ−
N,N−ジメチルアニリン10g(0.05モル)、金
属マグネシウム1.2g(0.05モル)とTHF20
gを用いて常法により調製したグリニア試薬を反応温度
が−60℃を超えない温度で撹拌、滴下した。
After the obtained reaction solution was cooled again to -70 ° C using a dry ice methanol bath, 4-bromo-
10 g (0.05 mol) of N, N-dimethylaniline, 1.2 g (0.05 mol) of metallic magnesium and THF20
The Grignard reagent prepared by a conventional method using g was stirred and added dropwise at a temperature at which the reaction temperature did not exceed -60 ° C.

【0053】次いで、再び氷水浴に代えて反応温度を0
〜5℃として60分間撹拌し、反応を終了させた。
Next, the reaction temperature was changed to 0 by replacing the ice water bath again.
The mixture was stirred at 分 間 5 ° C. for 60 minutes to complete the reaction.

【0054】この反応液に15%塩化アンモニウム水溶
液500gを加えて分液を行った後、有機溶媒層を水2
00gを用いて2回水洗を行った。得られた有機層をロ
ータリーエバポレーターを用いて溶媒を減圧留去し、油
状物を得た。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにかけて、収量6.1g(収率45%)、
純度99%のp−トルエンスルホン酸トリス(4−ジメ
チルアミノフェニル)スルホニウムを得た。
After 500 g of a 15% aqueous ammonium chloride solution was added to the reaction solution to carry out liquid separation, the organic solvent layer was separated with water 2
Water washing was performed twice using 00 g. The solvent was distilled off from the obtained organic layer under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain an oily substance. The resulting oil was subjected to silica gel column chromatography to give a yield of 6.1 g (45%).
99% pure tris (4-dimethylaminophenyl) sulfonium p-toluenesulfonate was obtained.

【0055】この二段階の合成法の収率は、第一段階が
33%、第二段階が45%であるので15%であった。
The yield of this two-step synthesis was 15% since the first step was 33% and the second step was 45%.

【0056】[実施例6〜9]実施例5で用いたトリメ
チルシリル−p−トルエンスルホネートの代わりにトリ
メチルシリル−p−フルオロベンゼンスルホネート、ト
リメチルシリル−2,2,2−トリフルオロエタンスル
ホネート、トリメチルシリルノナフルオロブタンスルホ
ネート、トリメチルシリルペンタフルオロベンゼンスル
ホネートを用いた以外は実施例5と同様にして合成を行
ったところ、それぞれ下記のような収率、純度で目的物
を得た。実施例6 p−フルオロベンゼンスルホン酸トリス(4−ジメチル
アミノフェニル)スルホニウム(純度99%,収率55
%)実施例7 2,2,2−トリフルオロエタンスルホン酸トリス(4
−ジメチルアミノフェニル)スルホニウム(純度99
%,収率48%)実施例8 ノナフルオロブタンスルホン酸トリス(4−ジメチルア
ミノフェニル)スルホニウム(純度99%,収率58
%)実施例9 ペンタフルオロベンゼンスルホン酸トリス(4−ジメチ
ルアミノフェニル)スルホニウム(純度99%,収率5
0%)
[Examples 6 to 9] Instead of trimethylsilyl-p-toluenesulfonate used in Example 5, trimethylsilyl-p-fluorobenzenesulfonate, trimethylsilyl-2,2,2-trifluoroethanesulfonate, trimethylsilylnonafluorobutane The synthesis was carried out in the same manner as in Example 5 except that sulfonate and trimethylsilylpentafluorobenzenesulfonate were used, and the desired products were obtained in the following yields and purities, respectively. Example 6 Tris (4-dimethylaminophenyl) sulfonium p-fluorobenzenesulfonate (99% purity, 55% yield)
%) Example 7 Tris 2,2,2-trifluoroethanesulfonic acid (4
-Dimethylaminophenyl) sulfonium (purity 99
%, Yield 48%) Example 8 Tris (4-dimethylaminophenyl) sulfonium nonafluorobutanesulfonate (purity 99%, yield 58)
%) Example 9 Tris (4-dimethylaminophenyl) sulfonium pentafluorobenzenesulfonate (purity: 99%, yield: 5%)
0%)

【0057】[比較例6〜9]比較例5で用いたトリメ
チルシリル−p−トルエンスルホネートの代わりにトリ
メチルシリル−p−フルオロベンゼンスルホネート、ト
リメチルシリル−2,2,2−トリフルオロエタンスル
ホネート、トリメチルシリルノナフルオロブタンスルホ
ネート、トリメチルシリルペンタフルオロベンゼンスル
ホネートを用いた以外は比較例5と同様にして合成を行
ったところ、それぞれ下記のような収率、純度で目的物
を得た。比較例6 p−フルオロベンゼンスルホン酸トリス(4−ジメチル
アミノフェニル)スルホニウム(純度98%,収率38
%) この二段階の合成法の収率は、第一段階が33%、第二
段階が38%であるので13%であった。比較例7 2,2,2−トリフルオロエタンスルホン酸トリス(4
−ジメチルアミノフェニル)スルホニウム(純度99
%,収率37%) この二段階の合成法の収率は、第一段階が33%、第二
段階が37%であるので12%であった。比較例8 ノナフルオロブタンスルホン酸トリス(4−ジメチルア
ミノフェニル)スルホニウム(純度99%,収率45
%) この二段階の合成法の収率は、第一段階が33%、第二
段階が45%であるので15%であった。比較例9 ペンタフルオロベンゼンスルホン酸トリス(4−ジメチ
ルアミノフェニル)スルホニウム(純度99%,収率4
1%) この二段階の合成法の収率は、第一段階が33%、第二
段階が28%であるので13%であった。 上記実施例及び比較例の製造方法における収率を表1に
示す。
[Comparative Examples 6 to 9] Instead of trimethylsilyl-p-toluenesulfonate used in Comparative Example 5, trimethylsilyl-p-fluorobenzenesulfonate, trimethylsilyl-2,2,2-trifluoroethanesulfonate, trimethylsilylnonafluorobutane The synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 5 except that sulfonate and trimethylsilylpentafluorobenzenesulfonate were used, and the desired products were obtained in the following yields and purities, respectively. Comparative Example 6 Tris (4-dimethylaminophenyl) sulfonium p-fluorobenzenesulfonate (98% purity, 38 yield)
%) The yield of this two-step synthesis was 13% since the first step was 33% and the second step was 38%. Comparative Example 7 Tris 2,2,2-trifluoroethanesulfonic acid (4
-Dimethylaminophenyl) sulfonium (purity 99
%, Yield 37%) The yield of this two-step synthesis method was 12% because the first step was 33% and the second step was 37%. Comparative Example 8 Tris (4-dimethylaminophenyl) sulfonium nonafluorobutanesulfonate (99% purity, 45% yield)
%) The yield of this two-step synthesis was 15% since the first step was 33% and the second step was 45%. Comparative Example 9 Tris (4-dimethylaminophenyl) sulfonium pentafluorobenzenesulfonate (purity 99%, yield 4
1%) The yield of this two-step synthesis was 13% since the first step was 33% and the second step was 28%. Table 1 shows the yields in the production methods of the above Examples and Comparative Examples.

【0058】[0058]

【表1】 [Table 1]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島田 順次 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28−1 信越化学工業株式会社 合成技術研究 所内 (72)発明者 石原 俊信 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28−1 信越化学工業株式会社 合成技術研究 所内 (56)参考文献 特開 平2−1469(JP,A) 特開 昭53−44533(JP,A) 特開 昭61−212554(JP,A) Reserch Disclosur e,No.290 p.414(1988) Journal of Organi c Chemistry,Vol.53 No.23 p.5571−5573(1988) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 381/12 CA(STN) REGISTRY(STN)────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Shimada sequentially 28-1 Nishifukushima, Oku-ku, Nakakushiro-gun, Niigata Pref. Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Synthetic Technology Research Laboratories (72) Inventor Toshinobu Ishihara Nishigata 28-1 Nishi-Fukushima Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Synthetic Technology Laboratory (56) References JP-A-2-1469 (JP, A) JP-A-53-44533 (JP, A) JP-A-61-212554 (JP) , A) Research Disclosure, No. 290 p. 414 (1988) Journal of Organic Chemistry, Vol. 53 No. 23 p. 5571-5573 (1988) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C07C 381/12 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (但し、式中R1〜R5は水素原子又は一価の有機基を示
し、これらは互いに同一でも異なってもよい。Xは臭素
原子又は塩素原子を示す。)で示されるアリールグリニ
ヤ試薬を塩化チオニルと反応させ、次いで下記一般式
(2) (R63SiY …(2) (但し、式中R6は互いに同一又は異なった一価炭化水
素基を示し、Yは置換又は非置換のアルキルスルホネー
ト又はアリールスルホネート又はハロゲン原子を示
す。)で示されるトリオルガノシリルスルホネート又は
トリオルガノシリルハライドを反応させることを特徴と
する下記一般式(3) 【化2】 (但し、式中R1〜R5及びYは上記と同様の意味を示
す。)で示されるトリアリールスルホニウム塩の製造方
法。
[Claim 1] The following general formula (1) (Wherein, R 1 to R 5 represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, which may be the same or different from each other, and X represents a bromine atom or a chlorine atom). With thionyl chloride, and then the following general formula (2) (R 6 ) 3 SiY (2) (wherein R 6 is the same or different monovalent hydrocarbon group, and Y is substituted or unsubstituted) A substituted alkylsulfonate, an arylsulfonate or a halogen atom) represented by the following general formula (3): (Wherein, R 1 to R 5 and Y have the same meanings as described above).
【請求項2】 上記一般式(1)中のR1〜R5が水素原
子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アセター
ル基、ケタール基、アリールオキシ基、ジアルキルアミ
ノ基、ジアルキルアミノアルキル基、アルキルチオ基又
はアリールチオ基である請求項1記載のトリアリールス
ルホニウム塩の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein R 1 to R 5 in the general formula (1) are a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an acetal group, a ketal group, an aryloxy group, a dialkylamino group, a dialkylaminoalkyl group, The method for producing a triarylsulfonium salt according to claim 1, which is an alkylthio group or an arylthio group.
【請求項3】 上記一般式(1)のアリールグリニヤ試
薬1モルに対し塩化チオニルを0.1〜0.4モル反応
させた後、該アリールグリニヤ試薬1モルに対し上記一
般式(2)のトリオルガノシリルスルホネート又はトリ
オルガノシリルハライドを0.1〜1モル反応させる請
求項1又は2記載のトリアリールスルホニウム塩の製造
方法。
3. After reacting 0.1 to 0.4 mol of thionyl chloride with respect to 1 mol of the aryl Grignard reagent of the general formula (1), 1 mol of the aryl Grignard reagent of the general formula (2) 3. The process for producing a triarylsulfonium salt according to claim 1, wherein 0.1 to 1 mol of the triorganosilylsulfonate or triorganosilyl halide is reacted.
【請求項4】 上記一般式(1)のアリールグリニヤ試
薬を調製した反応器に塩化チオニルを添加した後、その
反応生成物を単離することなく上記一般式(2)のトリ
オルガノシリルスルホネート又はトリオルガノシリルハ
ライドを添加する請求項1、2又は3記載のトリアリー
ルスルホニウム塩の製造方法。
4. The triorganosilyl sulfonate of the general formula (2) without adding a reaction product after adding thionyl chloride to the reactor in which the aryl Grignard reagent of the general formula (1) is prepared. 4. The method for producing a triarylsulfonium salt according to claim 1, wherein a triorganosilyl halide is added.
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