JP3059303B2 - Manufacturing method of ceramic multilayer substrate - Google Patents

Manufacturing method of ceramic multilayer substrate

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JP3059303B2 JP16311992A JP16311992A JP3059303B2 JP 3059303 B2 JP3059303 B2 JP 3059303B2 JP 16311992 A JP16311992 A JP 16311992A JP 16311992 A JP16311992 A JP 16311992A JP 3059303 B2 JP3059303 B2 JP 3059303B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、導体回路を備えるセラ
ミックス製のグリーンシートを積層圧着した後、それら
を焼成しかつ研磨する多層基板の製造方法に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multi-layer substrate in which ceramic green sheets having conductive circuits are laminated and pressed, and then fired and polished.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の多層基板を製造する場
合、先ずグリーンシートにはタングステン等の導電性金
属ペーストが印刷され、このペーストによってスルーホ
ール内導体回路や配線回路パターンが形成される。そし
て、前記グリーンシートは積層及び圧着され、その後グ
リーンシートには脱脂、仮焼成及び本焼成が施される。
2. Description of the Related Art Conventionally, when manufacturing this type of multilayer substrate, first, a conductive metal paste such as tungsten is printed on a green sheet, and a conductor circuit in a through-hole and a wiring circuit pattern are formed by the paste. Then, the green sheet is laminated and pressed, and thereafter, the green sheet is subjected to degreasing, preliminary firing, and main firing.

【0003】脱脂以降の工程において、タングステンの
周囲に炭素が多く存在していると、その残留炭素によっ
てタングステンが炭化され、タングステンカーバイド
(WC,WC2 )が生成されてしまう。前記炭化物はタ
ングステン単体金属より比抵抗が大きいため、導体回路
に抵抗増大をもたらすことが知られている。
In the process after degreasing, if a large amount of carbon exists around tungsten, tungsten is carbonized by the residual carbon, and tungsten carbide (WC, WC 2 ) is generated. It is known that the carbide has a higher specific resistance than the tungsten single metal, and thus increases the resistance of the conductor circuit.

【0004】また、この場合の炭素源としては、グリー
ンシートの外部及び内部からのものの二種が考えられ
る。ここで、前記二種のものとは、グリーンシート中に
含まれるバインダ等に由来する炭素と、焼成炉内に存在
する一酸化炭素に由来する炭素とである。
[0004] In this case, two types of carbon sources, one from the outside and the inside of the green sheet, can be considered. Here, the two types are carbon derived from a binder or the like contained in the green sheet and carbon derived from carbon monoxide present in the firing furnace.

【0005】そのため、従来においては、グリーンシー
ト表面に露出している導体回路を、例えばダミーのグリ
ーンシート層で被覆した状態にて脱脂及び焼成を施して
いる。この方法は、主として外部由来の炭素の影響をな
くすことにより、タングステンのカーバイド化の防止を
図るものである。
[0005] Therefore, in the related art, the conductor circuit exposed on the surface of the green sheet is degreased and fired while being covered with, for example, a dummy green sheet layer. This method is intended to prevent tungsten from becoming carbide mainly by eliminating the influence of external carbon.

【0006】そして、前記ダミー層は、焼成後の後加工
(平面研磨、GC研磨及びポリッシング等)によって、
多層基板の表裏面から除去される。
[0006] The dummy layer is subjected to post-processing after baking (plane polishing, GC polishing, polishing, etc.).
It is removed from the front and back surfaces of the multilayer substrate.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、ダミー層を
配置して焼成したとしても、内部由来の炭素の影響を軽
減することは難しい。そのため、タングステンのカーバ
イド化を充分に防止することが困難であった。
However, even if a dummy layer is arranged and fired, it is difficult to reduce the influence of carbon originating from inside. Therefore, it has been difficult to sufficiently prevent tungsten from becoming carbide.

【0008】また、前記方法では、焼成後の後加工にお
いて、ダミー層の肉厚以上の厚さを除去する必要があ
る。しかし、緻密な焼結体を研磨によって除去するには
甚だ長時間を要するため、工程上あまり効率が良いとは
言い難かった。
Further, in the above method, it is necessary to remove a thickness greater than the thickness of the dummy layer in post-processing after firing. However, since it takes an extremely long time to remove the dense sintered body by polishing, it is hard to say that the process is very efficient.

【0009】本発明は上記の事情に鑑みて成されたもの
であり、その目的は、タングステンからなる導体回路の
低抵抗化が図れると共に、焼成後における研磨等の後工
程を容易に行うことができるセラミックス多層基板の製
造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to reduce the resistance of a conductor circuit made of tungsten and to easily perform a post-process such as polishing after firing. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a ceramic multilayer substrate that can be performed.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明では、導体回路を備えるセラミックス製の
グリーンシートを積層圧着した後、それらを焼成しかつ
研磨する多層基板の製造方法において、前記グリーンシ
ートの焼成収縮率に略等しい第一の導電性金属ペースト
を用いて前記グリーンシートに導体回路を形成した後、
グリーンシートを積層し、前記焼成収縮率とは異なる第
二の導電性金属ペーストを用いて前記導体回路上に炭素
吸収層を形成した後、その炭素吸収層を介して前記グリ
ーンシートの最外層にダミーグリーンシートを配置し、
前記二種のグリーンシートを圧着した後、セラミックス
の焼結温度よりも低い温度で仮焼成を行っている。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a method of manufacturing a multi-layer substrate in which ceramic green sheets having conductive circuits are laminated and pressed, and then fired and polished. After forming a conductive circuit on the green sheet using a first conductive metal paste substantially equal to the firing shrinkage of the green sheet,
After laminating a green sheet, forming a carbon absorbing layer on the conductive circuit using a second conductive metal paste different from the firing shrinkage, the outermost layer of the green sheet through the carbon absorbing layer Place a dummy green sheet,
After the two types of green sheets are pressed, a preliminary firing is performed at a temperature lower than the sintering temperature of the ceramics.

【0011】[0011]

【作用】本発明の方法では、グリーンシートと第一の導
電性金属ペーストとの間には焼成収縮率の差を殆ど設け
ず、それらと第二の導電性金属ペーストとの間には焼成
収縮率の差を設けている。従って、上述のように配置し
て仮焼成を施すと、最外層のグリーンシートと炭素吸収
層との界面に剥離が生じ、グリーンシートからダミーグ
リーンシートを容易に除去することができる。そのた
め、研磨すべき部分がダミーグリーンシートの肉厚分だ
け少なくなり、焼成後の後工程が極めて容易になる。
According to the method of the present invention, there is almost no difference in firing shrinkage between the green sheet and the first conductive metal paste, and the firing shrinkage does not occur between the green sheet and the second conductive metal paste. There is a rate difference. Therefore, when the pre-baking is performed with the arrangement as described above, the interface between the outermost green sheet and the carbon absorbing layer is peeled off, and the dummy green sheet can be easily removed from the green sheet. Therefore, the portion to be polished is reduced by the thickness of the dummy green sheet, and the post-process after firing is extremely easy.

【0012】また、ダミーグリーンシートと炭素吸収層
とを両方を配置したことにより、グリーンシートの内部
外部を問わず、確実に炭素を吸収することができる。従
って、タングステンのカーバイド化が確実に阻止され、
導体回路の低抵抗化が達成される。
[0012] Further, by arranging both the dummy green sheet and the carbon absorbing layer, carbon can be reliably absorbed regardless of the inside and outside of the green sheet. Therefore, tungsten carbide is reliably prevented,
The resistance of the conductor circuit is reduced.

【0013】以下に、本発明のセラミックス多層基板の
製造方法について工程順に詳細に説明する。グリーンシ
ートの主成分であるセラミックスとしては、平均粒径が
1.0μm〜1.5μm程度の窒化アルミニウム、アル
ミナ等の微粉末が用いられる。
Hereinafter, the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate of the present invention will be described in detail in the order of steps. Fine powders of aluminum nitride, alumina, or the like having an average particle size of about 1.0 μm to 1.5 μm are used as ceramics as a main component of the green sheet.

【0014】前記セラミックス粉末には、バインダ、焼
結助剤及び溶剤等が適宜配合され、この混合物を混練し
て得られる高粘度スラリーからグリーンシート及びダミ
ーグリーンシートが成形される。この場合、グリーンシ
ートについては、必要に応じてスルーホール形成用孔が
透設される。一方、ダミーグリーンシートには、特にス
ルーホール形成用孔を透設する必要はない。
A binder, a sintering aid, a solvent and the like are appropriately blended with the ceramic powder, and a green sheet and a dummy green sheet are formed from a high-viscosity slurry obtained by kneading the mixture. In this case, through holes for the green sheet are provided as necessary. On the other hand, it is not necessary to provide a through hole for the dummy green sheet.

【0015】次に、本発明にて使用される二種の導電性
金属ペーストについて説明する。各ペーストの主成分で
ある導電性金属の粉末には、バインダ及び分散剤等が添
加される。そして、前記混合物は所定の密度及び粘度に
調製された後に、グリーンシートまたはダミーグリーン
シートへの印刷に供される。
Next, two types of conductive metal pastes used in the present invention will be described. A binder, a dispersant, and the like are added to the conductive metal powder that is a main component of each paste. After the mixture is adjusted to a predetermined density and viscosity, it is subjected to printing on a green sheet or a dummy green sheet.

【0016】前記第一の導電性金属ペーストは平均粒径
1.0μm以上のタングステン粉末を含み、前記第二の
導電性金属ペーストは平均粒径0.8μm以下のタング
ステン粉末を含むことが望ましい。
It is preferable that the first conductive metal paste contains tungsten powder having an average particle size of 1.0 μm or more, and the second conductive metal paste contains tungsten powder having an average particle size of 0.8 μm or less.

【0017】この条件を満たしていないと、焼成収縮率
の差を利用して、グリーンシートと炭素吸収層との界面
において剥離を生じさせることが困難になるからであ
る。また、上述のように、炭素吸収層の形成には後者の
ペーストを用いることが好適である。その理由は、微細
な粉末を含むペーストを用いた場合、炭素吸収層の単位
体積あたりの炭素吸収能が向上するからである。
If this condition is not satisfied, it becomes difficult to cause separation at the interface between the green sheet and the carbon absorbing layer by utilizing the difference in the firing shrinkage. As described above, it is preferable to use the latter paste for forming the carbon absorption layer. The reason is that when a paste containing fine powder is used, the carbon absorption capacity per unit volume of the carbon absorption layer is improved.

【0018】前記グリーンシートには第一の導電性金属
ペーストが印刷され、そのペーストによりスルーホール
内導体回路や配線回路パターンが形成される。一方、ダ
ミーグリーンシートには第二の導電性金属ペーストが印
刷され、そのペーストにより炭素吸収層が形成される。
前記炭素吸収層は、少なくとも前記グリーンシートにお
ける導体回路の形成面積よりも広範囲であることが良
い。
A first conductive metal paste is printed on the green sheet, and a conductive circuit in a through hole and a wiring circuit pattern are formed by the paste. On the other hand, a second conductive metal paste is printed on the dummy green sheet, and the paste forms a carbon absorbing layer.
It is preferable that the carbon absorption layer has a wider area than at least the formation area of the conductor circuit in the green sheet.

【0019】また、前記炭素吸収層の厚さは20μm〜
50μmであることが望ましい。この厚さが20μm未
満であると、充分にタングステンカーバイドの生成を阻
止することができない。一方、この厚さを50μmより
厚くしたとしても、炭素吸収効果に顕著な差は見られな
い。
The carbon absorption layer has a thickness of 20 μm or less.
Desirably, it is 50 μm. If the thickness is less than 20 μm, the formation of tungsten carbide cannot be sufficiently prevented. On the other hand, even if the thickness is made larger than 50 μm, there is no remarkable difference in the carbon absorption effect.

【0020】そして、前記グリーンシートは適宜積層さ
れ、更にその最外層には前記ダミーグリーンシートが配
置される。このとき、グリーンシートに形成された導体
回路は、ダミーグリーンシートの炭素吸収層によって被
覆された状態となる。次いで、これらは積層プレス機等
により圧着されて、グリーンシート積層体となる。その
後、積層体は不活性雰囲気下,600℃〜900℃の温
度で脱脂され、同雰囲気下,1300℃〜1650℃の
温度で仮焼成される。
The green sheets are appropriately laminated, and the dummy green sheet is disposed on the outermost layer. At this time, the conductor circuit formed on the green sheet is covered with the carbon absorbing layer of the dummy green sheet. Next, these are pressed by a laminating press or the like to form a green sheet laminate. Thereafter, the laminated body is degreased at a temperature of 600 ° C. to 900 ° C. in an inert atmosphere, and is temporarily calcined at a temperature of 1300 ° C. to 1650 ° C. under the same atmosphere.

【0021】積層体から剥離したダミーグリーンシート
を取り除いた後、前記積層体には不活性雰囲気下,17
00℃〜1900℃の温度にて本焼成が施される。その
後、焼結した積層体の表裏両面には後加工として平面研
磨、GC研磨及びポリッシングが施される。以上の工程
を経ることによって、所望のセラミックス多層基板が製
造される。
After removing the dummy green sheet peeled from the laminate, the laminate is placed under an inert atmosphere under an inert atmosphere.
The main firing is performed at a temperature of 00C to 1900C. Thereafter, both the front and back surfaces of the sintered laminate are subjected to plane polishing, GC polishing and polishing as post-processing. Through the above steps, a desired ceramic multilayer substrate is manufactured.

【0022】[0022]

【実施例】以下、本発明を窒化アルミニウム製の多層基
板の製造方法に具体化した一実施例について図面に基づ
き詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which the present invention is embodied in a method for manufacturing a multilayer substrate made of aluminum nitride will be described in detail with reference to the drawings.

【0023】本実施例では、平均粒径が1.0μmの窒
化アルミニウム粉末に、バインダとしてのアクリル系ポ
リマー11重量%、焼結助剤としての酸化イットリウム
4重量%、可塑剤としてのジブチルフタレート4重量%
及び溶剤としてのエタノール40重量%を混合した。そ
して、この混合物を混練して得られる高粘度スラリーを
キャスティング法により成形し、厚さ0.4mmのグリー
ンシート1とした。更に、前記グリーンシート1には、
パンチングマシンを用いてスルーホール形成用孔2を透
設した。
In this embodiment, 11% by weight of an acrylic polymer as a binder, 4% by weight of yttrium oxide as a sintering aid, and 4% by weight of dibutyl phthalate as a plasticizer were added to aluminum nitride powder having an average particle size of 1.0 μm. weight%
And 40% by weight of ethanol as a solvent. Then, a high-viscosity slurry obtained by kneading the mixture was molded by a casting method to obtain a green sheet 1 having a thickness of 0.4 mm. Further, the green sheet 1 includes:
The holes 2 for forming through-holes were penetrated using a punching machine.

【0024】一方、前記グリーンシート1のうち、スル
ーホール形成用孔2を透設しないものをダミーグリーン
シート1aとして用いた。また、本実施例では、先ずペ
ーストを形成するための導電性金属として、平均粒径が
1.1μmのタングステン粉末と、0.4μmのタング
ステン粉末とを選択した。そして、各タングステン粉末
に対して、それぞれバインダ及び分散剤等を添加して、
第一のペーストP1 ,第二のペーストP2 とした。これ
らのペーストP1 ,P2 は、所定の密度及び粘度に調製
した後に印刷に供した。
On the other hand, of the green sheets 1, those through which the through-hole forming holes 2 are not provided were used as dummy green sheets 1 a. In this embodiment, first, tungsten powder having an average particle diameter of 1.1 μm and tungsten powder having an average particle diameter of 0.4 μm were selected as conductive metals for forming a paste. Then, a binder and a dispersant are added to each tungsten powder,
The first paste P1 and the second paste P2 were used. These pastes P1 and P2 were subjected to printing after being adjusted to a predetermined density and viscosity.

【0025】次いで、前記グリーンシート1に第一のペ
ーストP1 を印刷して、そのグリーンシート1にスルー
ホール内導体回路3aと配線回路パターン3bとを適宜
形成した(図1(a) 参照)。
Next, the first paste P1 was printed on the green sheet 1, and the conductor circuit 3a in the through-hole and the wiring circuit pattern 3b were appropriately formed on the green sheet 1 (see FIG. 1A).

【0026】一方、前記ダミーグリーンシート1aの片
側面に第二のペーストP2 をベタ塗り印刷して、厚さ3
0μmの炭素吸収層Lを形成した(図1(b) 参照)。そ
して、前記グリーンシート1を複数枚(実施例では4
枚)積層した後、更にその最上層及び最下層のグリーン
シート1の表面にそれぞれ前記ダミーグリーンシート1
aを配置した。このとき、グリーンシート1から露出し
ていたスルーホール内導体回路3aの上端面または下端
面は、炭素吸収層Lによって完全に被覆された状態とな
る。
On the other hand, one side of the dummy green sheet 1a is solid-coated and printed with a second paste P2 to have a thickness of 3 mm.
A carbon absorption layer L having a thickness of 0 μm was formed (see FIG. 1B). Then, a plurality of green sheets 1 (4 in the embodiment)
After stacking, the dummy green sheet 1 is further placed on the surface of the uppermost and lowermost green sheets 1 respectively.
a was arranged. At this time, the upper end surface or the lower end surface of the conductor circuit 3a in the through hole exposed from the green sheet 1 is completely covered with the carbon absorption layer L.

【0027】次いで、グリーンシート1及びダミーグリ
ーンシート1aを積層プレス機により圧着して、図1
(c)に示すようなグリーンシート積層体4とした。前
記積層体4を焼成炉内に装入した後、窒素雰囲気下にて
800℃,5時間の脱脂を施し、更に同雰囲気下にて1
560℃,10時間の仮焼成を施した。そして、この脱
脂仮焼成工程によりグリーンシート1中の有機物を分解
除去させると共に、グリーンシート1、ダミーグリーン
シート1a、導体回路3a,3b及び炭素吸収層Lを焼
結させた。尚、この段階でダミーグリーンシート1a及
び炭素吸収層Lが積層体4から剥離する。
Next, the green sheet 1 and the dummy green sheet 1a are pressure-bonded by a laminating press, and
A green sheet laminate 4 as shown in (c) was obtained. After loading the laminate 4 in a firing furnace, the laminate 4 was degreased at 800 ° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere, and further dehydrated in the same atmosphere for 1 hour.
Preliminary baking was performed at 560 ° C. for 10 hours. Then, the organic matter in the green sheet 1 was decomposed and removed by the degreasing temporary firing step, and the green sheet 1, the dummy green sheet 1a, the conductor circuits 3a and 3b, and the carbon absorption layer L were sintered. At this stage, the dummy green sheet 1a and the carbon absorption layer L are separated from the laminate 4.

【0028】ダミーグリーンシート1a及び炭素吸収層
Lを取り除いた後、前記積層体4のみを窒素雰囲気下に
て1800℃で1時間本焼成して、積層体4を完全に焼
結させた。
After removing the dummy green sheet 1a and the carbon absorbing layer L, only the laminate 4 was fully baked at 1800 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere, and the laminate 4 was completely sintered.

【0029】その後、図1(d)に示すように、焼結し
た積層体4の表裏両面に対して後加工を施した。後加工
では、平面研磨、SiC研粒によるGC研磨及びダイヤ
モンド研粒によるポリッシングの3種の工程を行うこと
とした。
Thereafter, as shown in FIG. 1D, the front and back surfaces of the sintered laminate 4 were subjected to post-processing. In the post-processing, three types of processes, namely, planar polishing, GC polishing by SiC granulation, and polishing by diamond granulation were performed.

【0030】以上の工程を経ることによって、導体回路
3a,3bを備える所望の窒化アルミニウム多層基板を
得た。また、比較例では、第二のペーストP2 による炭
素吸収層Lを有しないダミーグリーンシート1aを用
い、前記実施例と同様に複数枚のグリーンシート1の最
外層に配置しかつ圧着させた。そして、この積層体を前
記実施例の条件に準じて脱脂しかつ仮焼成した。尚、こ
の方法では、前記工程を経てもダミーグリーンシート1
aは剥離しない。
Through the above steps, a desired aluminum nitride multilayer substrate having the conductor circuits 3a and 3b was obtained. Further, in the comparative example, a dummy green sheet 1a having no carbon absorption layer L made of the second paste P2 was used, and was arranged and pressed on the outermost layer of the plurality of green sheets 1 in the same manner as in the previous example. Then, the laminate was degreased and calcined according to the conditions of the above example. In addition, in this method, even after the above steps, the dummy green sheet 1
a does not peel off.

【0031】そして、ダミーグリーンシート1aを備え
たままの積層体を前記実施例と同じ条件にて本焼成した
後、更に後加工を施して多層基板とした。このようにし
て得られた各基板の良否を比較検討するために、以下の
調査を行った。
Then, the laminated body provided with the dummy green sheets 1a was fully baked under the same conditions as in the above-described embodiment, and further subjected to post-processing to obtain a multilayer substrate. In order to compare and evaluate the quality of each substrate thus obtained, the following investigation was conducted.

【0032】カーバイド化防止効果の有効性を調べるた
めに、脱脂仮焼成後のグリーンシート1に含まれる遊離
炭素の量(重量%)、脱脂仮焼成後の導体回路3a,3
bにおけるタングステン化合物(W,W2 C,WC)の
存在比及び基板のシート抵抗値(mΩ/□)を測定し
た。
In order to examine the effectiveness of the effect of preventing the formation of carbide, the amount (% by weight) of free carbon contained in the green sheet 1 after the degreased calcination and the conductor circuits 3a and 3 after the degreased calcination were examined.
The abundance ratio of the tungsten compound (W, W 2 C, WC) and the sheet resistance value (mΩ / □) of the substrate were measured.

【0033】また、後加工の容易性を調べるために、基
板1枚あたりの後加工時間(分/1枚)及び後加工すべ
き厚さ(μm)を測定した。これらの結果を表1に示
す。
Further, in order to examine the easiness of the post-processing, the post-processing time (min / one sheet) per substrate and the thickness to be post-processed (μm) were measured. Table 1 shows the results.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】表1から明らかなように、実施例では、脱
脂仮焼成後のグリーンシート1に含まれる遊離炭素の量
が比較例の1/5に減少していた。そして、実施例の導
体回路3a,3bにおいては、タングステン単体金属が
95%を占め、殆どタングステンにカーバイド化が起き
ていないことが判明した。一方、比較例の導体回路3
a,3bにおいては、タングステンの35%がカーバイ
ド化していた。
As is clear from Table 1, in the example, the amount of free carbon contained in the green sheet 1 after the degreasing temporary firing was reduced to 1/5 of the comparative example. Then, in the conductor circuits 3a and 3b of the embodiment, it was found that the elemental metal of tungsten occupies 95%, and almost no carbide is formed in tungsten. On the other hand, the conductor circuit 3 of the comparative example
In a and 3b, 35% of tungsten was turned into carbide.

【0036】次いで、各基板のシート抵抗を測定した結
果、実施例では8mΩ/□であったのに対し、比較例で
はその約2倍の15mΩ/□であった。また、表1に示
されるように、後加工すべき厚さについても実施例の方
が1/8以上も少なくなるため、基板1枚あたりの後加
工時間も比較例の1/6程度で良いことが判明した。
Next, the sheet resistance of each substrate was measured. As a result, the sheet resistance was 8 mΩ / □ in the example, but was 15 mΩ / □, which was about twice that in the comparative example. Further, as shown in Table 1, since the thickness to be post-processed is also reduced by 1/8 or more in the example, the post-processing time per substrate may be about 1/6 of the comparative example. It has been found.

【0037】以上の結果から総合的に判断すると、実施
例の基板が全てにおいて優れていることは明白である。
よって、本発明の製造方法によれば、タングステンのカ
ーバイド化及び導体回路3a,3bの低抵抗化を確実に
達成できることが判る。
Judging from the above results, it is clear that all the substrates of the examples are excellent.
Therefore, it is understood that according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to reliably achieve tungsten carbide and low resistance of the conductor circuits 3a and 3b.

【0038】しかも、本発明の製造方法によると、ダミ
ーグリーンシート1aをいくら厚肉化しても、後加工に
要する時間に特に悪影響することはない。従って、積層
体4の反り防止を目的として、従来よりも肉厚のグリー
ンシート1aを配置する場合等に、極めて好都合にな
る。
Moreover, according to the manufacturing method of the present invention, no matter how much the thickness of the dummy green sheet 1a is increased, the time required for post-processing is not adversely affected. Therefore, it is extremely convenient to arrange a green sheet 1a thicker than before in order to prevent the laminate 4 from warping.

【0039】尚、本発明は上記実施例のみに限定される
ことはなく、以下のように変更することが可能である。
例えば、 (a)前記炭素吸収層Lをグリーンシート1側に印刷し
ても良い。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can be modified as follows.
For example, (a) the carbon absorption layer L may be printed on the green sheet 1 side.

【0040】(b)積層体4の側面にも炭素吸収層L及
びダミーグリーンシート1aを配置して焼成を行っても
良い。このような配置方法にすると、より確実にタング
ステンのカーバイド化を防止することができる。
(B) The carbon absorbing layer L and the dummy green sheet 1a may be arranged on the side surface of the laminate 4 and fired. With such an arrangement method, tungsten carbide can be more reliably prevented.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明のセラミッ
クス多層基板の製造方法によれば、タングステンからな
る導体回路の低抵抗化が図れると共に、焼成後における
研磨等の後工程を容易に行うことができるという優れた
効果を奏する。
As described in detail above, according to the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate of the present invention, the resistance of a conductor circuit made of tungsten can be reduced, and post-processing such as polishing after firing can be easily performed. It has an excellent effect that it can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)〜(d)は実施例の窒化アルミニウム多
層基板の製造方法を示す工程説明図である。
FIGS. 1A to 1D are process explanatory views showing a method for manufacturing an aluminum nitride multilayer substrate of an example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 グリーンシート、1a ダミーグリーンシート、3
a 導体回路としてのスルーホール内導体回路、3b
導体回路としての配線回路パターン、P1 (第一の)
導電性金属ペースト、P2 (第二の)導電性金属ペー
スト、L 炭素吸収層。
1 green sheet, 1a dummy green sheet, 3
a conductor circuit in through hole as conductor circuit, 3b
Wiring circuit pattern as conductor circuit, P1 (first)
Conductive metal paste, P2 (second) conductive metal paste, L 2 carbon absorbing layer.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】導体回路(3a,3b)を備えるセラミッ
クス製のグリーンシート(1)を積層圧着した後、それ
らを焼成しかつ研磨する多層基板の製造方法において、 前記グリーンシート(1)の焼成収縮率に略等しい第一
の導電性金属ペースト(P1 )を用いて前記グリーンシ
ート(1)に導体回路(3a,3b)を形成した後、グ
リーンシート(1)を積層し、前記焼成収縮率とは異な
る第二の導電性金属ペースト(P2 )を用いて前記導体
回路(3a,3b)上に炭素吸収層(L)を形成した
後、その炭素吸収層(L)を介して前記グリーンシート
(1)の最外層にダミーグリーンシート(1a)を配置
し、前記二種のグリーンシート(1,1a)を圧着した
後、セラミックスの焼結温度よりも低い温度で仮焼成を
行うことを特徴とするセラミックス多層基板の製造方
法。
1. A method of manufacturing a multilayer substrate, comprising laminating and pressing ceramic green sheets (1) having conductor circuits (3a, 3b), and firing and polishing them. Conductor circuits (3a, 3b) are formed on the green sheet (1) using a first conductive metal paste (P1) substantially equal to the shrinkage rate, and then the green sheet (1) is laminated, and the firing shrinkage rate is reduced. After forming a carbon absorbing layer (L) on the conductor circuits (3a, 3b) using a second conductive metal paste (P2) different from the above, the green sheet is interposed via the carbon absorbing layer (L). (1) A dummy green sheet (1a) is disposed in the outermost layer, and after the two types of green sheets (1, 1a) are pressed, pre-sintering is performed at a temperature lower than the sintering temperature of ceramics. Toss Method of manufacturing a ceramic multilayer substrate.
【請求項2】前記第一の導電性金属ペースト(P1 )は
平均粒径1.0μm以上のタングステン粉末を含み、前
記第二の導電性金属ペースト(P2 )は平均粒径0.8
μm以下のタングステン粉末を含むことを特徴とする請
求項1に記載のセラミックス多層基板の製造方法。
2. The first conductive metal paste (P1) contains tungsten powder having an average particle size of 1.0 μm or more, and the second conductive metal paste (P2) has an average particle size of 0.8 μm.
The method for producing a ceramic multilayer substrate according to claim 1, further comprising a tungsten powder of μm or less.
【請求項3】前記炭素吸収層(L)の厚さは20μm〜
50μmであることを特徴とする請求項1または2に記
載のセラミックス多層基板の製造方法。
3. The carbon absorption layer (L) has a thickness of 20 μm or more.
The method according to claim 1, wherein the thickness of the ceramic multilayer substrate is 50 μm.
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