JP3054699B2 - Ｏ−シリル化含水酸基環状エーテルの製造方法 - Google Patents
Ｏ−シリル化含水酸基環状エーテルの製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＯ−シリル化含水酸
基環状エーテルの製造方法に関するものである。
基環状エーテルの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年の遺伝子工学の広範な展開により、
各種の核酸誘導体が機能性物質或いは医薬品として注目
を集め、これらの合成における出発物質あるいは中間体
として核酸の基本骨格を構成するヌクレオシドの誘導体
が盛んに研究されている。これまでの技術はデオキシリ
ボ核酸を中心としたものであり、デオキシリボヌクレオ
シドは分子内に第一級、第二級の水酸基を各１個含んで
いるのに対して、現在その用途を拡げつつあるリボ核酸
中のリボヌクレオシドは分子内に第一級１個、第二級２
個の計３個の水酸基を有している。このためＲＮＡ合成
の出発物質としてはデオキシリボヌクレオシドに似せる
ために２’−位水酸基をあらかじめ保護した化合物が好
適である。なかでも重要な２’−Ｏ−シリル化リボヌク
レオシドは、従来、あらかじめ反応性の高い第一級水酸
基を保護した化合物を調製し、残る２個の水酸基に対し
てシリル化を行い、生成物をクロマトグラフィー等で分
別することによりこれを製造していた。この方法では選
択性を高くすることは困難であり、煩雑な処理なしに目
的化合物を得ることはでなかった。また、アルドピラノ
ース化合物においても前記リボヌクレオシドの場合と同
様に、１つの第一級水酸基と複数の第二級水酸基が存在
する。その６位の第一級水酸基とその４位の第二級水酸
基のみを反応に関与させる場合には、他の反応性水酸基
はこれを保護しておくのが望ましいが、４，６−位以外
の水酸基に保護基を導入する簡便な方法はなかった。
各種の核酸誘導体が機能性物質或いは医薬品として注目
を集め、これらの合成における出発物質あるいは中間体
として核酸の基本骨格を構成するヌクレオシドの誘導体
が盛んに研究されている。これまでの技術はデオキシリ
ボ核酸を中心としたものであり、デオキシリボヌクレオ
シドは分子内に第一級、第二級の水酸基を各１個含んで
いるのに対して、現在その用途を拡げつつあるリボ核酸
中のリボヌクレオシドは分子内に第一級１個、第二級２
個の計３個の水酸基を有している。このためＲＮＡ合成
の出発物質としてはデオキシリボヌクレオシドに似せる
ために２’−位水酸基をあらかじめ保護した化合物が好
適である。なかでも重要な２’−Ｏ−シリル化リボヌク
レオシドは、従来、あらかじめ反応性の高い第一級水酸
基を保護した化合物を調製し、残る２個の水酸基に対し
てシリル化を行い、生成物をクロマトグラフィー等で分
別することによりこれを製造していた。この方法では選
択性を高くすることは困難であり、煩雑な処理なしに目
的化合物を得ることはでなかった。また、アルドピラノ
ース化合物においても前記リボヌクレオシドの場合と同
様に、１つの第一級水酸基と複数の第二級水酸基が存在
する。その６位の第一級水酸基とその４位の第二級水酸
基のみを反応に関与させる場合には、他の反応性水酸基
はこれを保護しておくのが望ましいが、４，６−位以外
の水酸基に保護基を導入する簡便な方法はなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、含水酸基環
状エーテル化合物において、それに含まれる第一級水酸
基とその水酸基に隣接する第二級水酸基以外の水酸基の
少なくとも１つが保護された化合物を簡便に製造する方
法を提供することをその課題とする。
状エーテル化合物において、それに含まれる第一級水酸
基とその水酸基に隣接する第二級水酸基以外の水酸基の
少なくとも１つが保護された化合物を簡便に製造する方
法を提供することをその課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに
至った。即ち、本発明によれば、下記一般式（１）
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに
至った。即ち、本発明によれば、下記一般式（１）
【化７】 （式中、Ｒ１は後記二官能性ケイ素化合物と反応性を有
しない置換基を示し、Ｙ１及びＹ２はメチレン基、ヒド
ロキシメチレン基又は後記二官能性ケイ素化合物と反応
性を有しない置換基を有するメチレン基を示し、ｔ及び
ｑは０又は１の数を示す）で表される含水酸基環状エー
テルに、下記一般式（２） Ｒ２Ｒ３ＳｉＸ１ ２ （２） （式中，Ｒ２及びＲ３は芳香族基又は炭素数が３以上の
分岐状脂肪族基を示し、Ｘ１は酸の残基を示す）で表さ
れる二官能性ケイ素化合物を反応させた後、下記一般式
（３） Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＸ２ （３） （式中、Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は芳香族基又は脂肪族基を
示し、Ｘ２は脱離基を示す）で表される一官能性ケイ素
化合物を反応させ、次いで塩基の共存下でフッ化水素酸
を反応させることを特徴とする下記一般式（４）
しない置換基を示し、Ｙ１及びＹ２はメチレン基、ヒド
ロキシメチレン基又は後記二官能性ケイ素化合物と反応
性を有しない置換基を有するメチレン基を示し、ｔ及び
ｑは０又は１の数を示す）で表される含水酸基環状エー
テルに、下記一般式（２） Ｒ２Ｒ３ＳｉＸ１ ２ （２） （式中，Ｒ２及びＲ３は芳香族基又は炭素数が３以上の
分岐状脂肪族基を示し、Ｘ１は酸の残基を示す）で表さ
れる二官能性ケイ素化合物を反応させた後、下記一般式
（３） Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＸ２ （３） （式中、Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は芳香族基又は脂肪族基を
示し、Ｘ２は脱離基を示す）で表される一官能性ケイ素
化合物を反応させ、次いで塩基の共存下でフッ化水素酸
を反応させることを特徴とする下記一般式（４）
【化８】 ［式中、Ｒ１、Ｙ１、Ｙ２、ｔ、ｑ、Ｒ４、Ｒ５及びＲ
６は前記と同じ意味を有するが、Ｙ１又はＹ２がヒドロ
キシメチレン基の場合にはそのヒドロキシ基はＯＳｉＲ
４Ｒ５Ｒ６（Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前記と同じ意味を有
する）に変換されているものとする］で表されるＯ−シ
リル化含水酸基環状エーテルの製造方法が提供される。
また、本発明によれば、下記一般式（５）
６は前記と同じ意味を有するが、Ｙ１又はＹ２がヒドロ
キシメチレン基の場合にはそのヒドロキシ基はＯＳｉＲ
４Ｒ５Ｒ６（Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前記と同じ意味を有
する）に変換されているものとする］で表されるＯ−シ
リル化含水酸基環状エーテルの製造方法が提供される。
また、本発明によれば、下記一般式（５）
【化９】 （式中、Ｂは未保護又は保護された核酸塩基である）で
表されるリボヌクレオシドに、下記一般式（２） Ｒ２Ｒ３ＳｉＸ１ ２ （２） （式中、Ｒ２及びＲ３は芳香族基又は炭素数が３以上の
分岐状脂肪族基を示し、Ｘ１は酸の残基を示す）で表さ
れる二官能性ケイ素化合物を反応させた後、下記一般式
（３） Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＸ２ （３） （式中、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は芳香族基又は脂肪族基を
示し、Ｘ２は脱離基を示す）で表される一官能性ケイ素
化合物を反応させ、次に塩基の共存下でフッ化水素酸を
反応させることを特徴とする下記一般式（６）
表されるリボヌクレオシドに、下記一般式（２） Ｒ２Ｒ３ＳｉＸ１ ２ （２） （式中、Ｒ２及びＲ３は芳香族基又は炭素数が３以上の
分岐状脂肪族基を示し、Ｘ１は酸の残基を示す）で表さ
れる二官能性ケイ素化合物を反応させた後、下記一般式
（３） Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＸ２ （３） （式中、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は芳香族基又は脂肪族基を
示し、Ｘ２は脱離基を示す）で表される一官能性ケイ素
化合物を反応させ、次に塩基の共存下でフッ化水素酸を
反応させることを特徴とする下記一般式（６）
【化１０】 （式中、Ｂ、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前記と同じ意味を有
する）で表される２’−Ｏ−シリル化リボヌクレオシド
の製造方法が提供される。さらに、本発明によれば、下
記一般式（７）
する）で表される２’−Ｏ−シリル化リボヌクレオシド
の製造方法が提供される。さらに、本発明によれば、下
記一般式（７）
【化１１】 （式中、Ｒ７は後記二官能性ケイ素化合物と反応性を有
しない置換基を示し、Ｒ８及びＲ９はヒドロキシル基又
は後記二官能性ケイ素化合物と反応性を有しない置換基
を示すが、Ｒ８およびＲ９のうち少なくとも一方はヒド
ロキシル基である）で表されるアルドピラノース化合物
に、下記一般式（２） Ｒ２Ｒ３ＳｉＸ１ ２ （２） （式中，Ｒ２及びＲ３は芳香族基又は炭素数が３以上の
分岐状脂肪族基を示し、Ｘ１は酸の残基を示す）で表さ
れる二官能性ケイ素化合物を反応させた後、下記一般式
（３） Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＸ２ （３） （式中、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は芳香族基又は脂肪族基を
示し、Ｘ２は脱離基を示す）で表される一官能性ケイ素
化合物を反応させ、次に塩基の共存下でフッ化水素酸を
反応させることを特徴とする下記一般式（８）
しない置換基を示し、Ｒ８及びＲ９はヒドロキシル基又
は後記二官能性ケイ素化合物と反応性を有しない置換基
を示すが、Ｒ８およびＲ９のうち少なくとも一方はヒド
ロキシル基である）で表されるアルドピラノース化合物
に、下記一般式（２） Ｒ２Ｒ３ＳｉＸ１ ２ （２） （式中，Ｒ２及びＲ３は芳香族基又は炭素数が３以上の
分岐状脂肪族基を示し、Ｘ１は酸の残基を示す）で表さ
れる二官能性ケイ素化合物を反応させた後、下記一般式
（３） Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＸ２ （３） （式中、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は芳香族基又は脂肪族基を
示し、Ｘ２は脱離基を示す）で表される一官能性ケイ素
化合物を反応させ、次に塩基の共存下でフッ化水素酸を
反応させることを特徴とする下記一般式（８）
【化１２】 ［式中、Ｒ７は前記と同じ意味を有するが、Ｒ８及びＲ
９のうちの少なくとも一方はＯＳｉＲ４Ｒ５Ｒ
６（Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前記と同じ意味を有する）で
あり、Ｒ８及びＲ９の一方がＯＳｉＲ４Ｒ５Ｒ６でない
場合にはそのＲ８又はＲ９は二官能性ケイ素化合物と反
応性を有しない置換基を意味する ］で表されるＯ−シ
リル化アルドピラノース化合物の製造方法が提供され
る。
９のうちの少なくとも一方はＯＳｉＲ４Ｒ５Ｒ
６（Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前記と同じ意味を有する）で
あり、Ｒ８及びＲ９の一方がＯＳｉＲ４Ｒ５Ｒ６でない
場合にはそのＲ８又はＲ９は二官能性ケイ素化合物と反
応性を有しない置換基を意味する ］で表されるＯ−シ
リル化アルドピラノース化合物の製造方法が提供され
る。
【０００５】
【発明の実施の形態】前記一般式（１）で表される含水
酸基環状エーテルには、リボヌクレオシド及びアルドピ
ラノース化合物が包含される。前記一般式（１）におけ
るＲ1は前記一般式（２）の二官能性ケイ素化合物と反
応性を有しない置換基である。このようなものには、保
護又は未保護の核酸塩基、糖化合物残基の他、アルキル
基や、アルコキシ基、置換アミノ基、置換メルカプト
基、アシル基、アシルオキシ基等の各種のものが包含さ
れ、その具体的化合物に対応して適宜のものが選ばれ
る。前記一般式（１）におけるＹ1及びＹ2はメチレン基
（ＣＨ2）、ヒドロキシルメチレン基（ＣＨＯＨ）又は
前記二官能性ケイ素化合物と反応性を有しない置換基を
示す。この場合の二官能性ケイ素化合物と反応性を有し
ない置換基としては、前記した如き各種のものが挙げら
れる。ｔ及びｑは０又は１の数を示すが、ｔ及びｑが０
の場合には、各（Ｙ1)t 及び（Ｙ2)q は単なる継手を示
し、ｔ及びｑが１の場合には、各Ｙ1及びＹ2に隣接する
２つの炭素原子は各Ｙ1及びＹ2を介して結合する。
酸基環状エーテルには、リボヌクレオシド及びアルドピ
ラノース化合物が包含される。前記一般式（１）におけ
るＲ1は前記一般式（２）の二官能性ケイ素化合物と反
応性を有しない置換基である。このようなものには、保
護又は未保護の核酸塩基、糖化合物残基の他、アルキル
基や、アルコキシ基、置換アミノ基、置換メルカプト
基、アシル基、アシルオキシ基等の各種のものが包含さ
れ、その具体的化合物に対応して適宜のものが選ばれ
る。前記一般式（１）におけるＹ1及びＹ2はメチレン基
（ＣＨ2）、ヒドロキシルメチレン基（ＣＨＯＨ）又は
前記二官能性ケイ素化合物と反応性を有しない置換基を
示す。この場合の二官能性ケイ素化合物と反応性を有し
ない置換基としては、前記した如き各種のものが挙げら
れる。ｔ及びｑは０又は１の数を示すが、ｔ及びｑが０
の場合には、各（Ｙ1)t 及び（Ｙ2)q は単なる継手を示
し、ｔ及びｑが１の場合には、各Ｙ1及びＹ2に隣接する
２つの炭素原子は各Ｙ1及びＹ2を介して結合する。
【０００６】前記一般式（５）で表されるリボヌクレオ
シドの場合、その置換基Ｂは、前記二官能性ケイ素化合
物と反応性を有しない置換基であり、未保護又は保護さ
れた核酸塩基を包含する。この場合の核酸塩基は、ピリ
ミジン塩基やプリン塩基を包含する。Ｂが糖と結合する
グリコシド結合はβ型でもα型であってもよい。また、
保護基は、その核酸塩基に含まれているアミノ基やアミ
ド基、水酸基等の官能基を保護するもので、それらの官
能基の保護に慣用されているものを用いることができ
る。例えば、アミノ基やアミド基の保護には、ベンゾイ
ル基やイソブチリル基、フェノキシアセチル基等のアシ
ル基を用いることができ、水酸基の保護には、ベンジル
基や、フェネチル基等のアリールアルキル基を用いるこ
とができる。核酸塩基の具体例としては、例えば、アデ
ニン、グアニン、シトシン、ウラシル、チミン、ヒポキ
サンチン、キサンチン、プソイドウラシル等が挙げられ
る。前記一般式（５）のリボヌクレオシドの具体例とし
ては、例えば、ウリジン、アデノシン、シチジン、グア
ノシン、イノシン、キサントシン、ブソイドウリジン及
びそれらのＮ−ベンゾイル化物やＮ−イソブチリル化
物、フェノキシアセチル化物等が挙げられる。
シドの場合、その置換基Ｂは、前記二官能性ケイ素化合
物と反応性を有しない置換基であり、未保護又は保護さ
れた核酸塩基を包含する。この場合の核酸塩基は、ピリ
ミジン塩基やプリン塩基を包含する。Ｂが糖と結合する
グリコシド結合はβ型でもα型であってもよい。また、
保護基は、その核酸塩基に含まれているアミノ基やアミ
ド基、水酸基等の官能基を保護するもので、それらの官
能基の保護に慣用されているものを用いることができ
る。例えば、アミノ基やアミド基の保護には、ベンゾイ
ル基やイソブチリル基、フェノキシアセチル基等のアシ
ル基を用いることができ、水酸基の保護には、ベンジル
基や、フェネチル基等のアリールアルキル基を用いるこ
とができる。核酸塩基の具体例としては、例えば、アデ
ニン、グアニン、シトシン、ウラシル、チミン、ヒポキ
サンチン、キサンチン、プソイドウラシル等が挙げられ
る。前記一般式（５）のリボヌクレオシドの具体例とし
ては、例えば、ウリジン、アデノシン、シチジン、グア
ノシン、イノシン、キサントシン、ブソイドウリジン及
びそれらのＮ−ベンゾイル化物やＮ−イソブチリル化
物、フェノキシアセチル化物等が挙げられる。
【０００７】前記アルドピラノース化合物を表す一般式
（７）において、Ｒ7は前記二官能性ケイ素化合物と反
応性を有しない置換基であり、アルコキシ基、芳香族オ
キシ基、アシルオキシ基、置換アミノ基、置換メルカプ
ト基、糖残基等を包含する。アルコキシ基におけるアル
キル基としては、炭素数１〜２０、好ましくは１〜６、
より好ましくは１〜４のアルキル基が挙げられる。芳香
族オキシ基における芳香族基には、アリール基やアリー
ルアルキル基が包含される。アシル基には、前記炭素数
１〜２０、好ましくは１〜６、より好ましくは１〜４の
アルキル基を有するものやアリール基を有するものが包
含される。置換アミノ基及び置換メルカプト基における
その置換基には、アルキル基、アリール基及びアリール
アルキル基が包含される。この場合のアルキル基には鎖
状及び環状アルキル基が包含される。アルキル基の炭素
数は１〜８、好ましくは１〜４であり、その具体例とし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、シクロヘキ
シル等が挙げられる。アリール基としては、フェニル、
トリル等が挙げられる。アリールアルキル基としては、
ベンゼン、フェネチル等が挙げられる。糖残基には、各
種糖化合物からそれに含まれる１つの水酸基を除いた糖
残基が包含される。この場合の糖化合物には、糖アルコ
ール、単糖及び少糖等が包含される。単糖しては、グル
コースやフルクトース等が挙げられ、少糖としては、単
糖が２〜５個、好ましくは２〜３個結合した構造のもの
が挙げられる。このような少糖には、ショ糖、トレハロ
ース、乳糖、麦芽糖、セロビオース、ゲンチオビオー
ス、多糖の加水分解により得られた少糖等が挙げられ
る。前記一般式（７）におけるＲ8及びＲ9はヒドロキシ
ル基又は前記二官能性ケイ素化合物と反応性を有しない
置換基を示すが、Ｒ8及びＲ9のうちの少なくとも一方は
ヒドロキシル基である。二官能性ケイ素化合物と反応性
を有しない置換基としては、前記で示した各種のものが
挙げられる。本発明で用いる前記一般式（７）で表され
る好ましいアルドピラノース化合物を例示すると、グル
コース、ガラクトース、マンノース、乳糖等の単糖又は
少糖のアルキルグリコシド、アリールグリコシド及びそ
れらグリコシドの２−アセチルアミド誘導体等が挙げら
れる。
（７）において、Ｒ7は前記二官能性ケイ素化合物と反
応性を有しない置換基であり、アルコキシ基、芳香族オ
キシ基、アシルオキシ基、置換アミノ基、置換メルカプ
ト基、糖残基等を包含する。アルコキシ基におけるアル
キル基としては、炭素数１〜２０、好ましくは１〜６、
より好ましくは１〜４のアルキル基が挙げられる。芳香
族オキシ基における芳香族基には、アリール基やアリー
ルアルキル基が包含される。アシル基には、前記炭素数
１〜２０、好ましくは１〜６、より好ましくは１〜４の
アルキル基を有するものやアリール基を有するものが包
含される。置換アミノ基及び置換メルカプト基における
その置換基には、アルキル基、アリール基及びアリール
アルキル基が包含される。この場合のアルキル基には鎖
状及び環状アルキル基が包含される。アルキル基の炭素
数は１〜８、好ましくは１〜４であり、その具体例とし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、シクロヘキ
シル等が挙げられる。アリール基としては、フェニル、
トリル等が挙げられる。アリールアルキル基としては、
ベンゼン、フェネチル等が挙げられる。糖残基には、各
種糖化合物からそれに含まれる１つの水酸基を除いた糖
残基が包含される。この場合の糖化合物には、糖アルコ
ール、単糖及び少糖等が包含される。単糖しては、グル
コースやフルクトース等が挙げられ、少糖としては、単
糖が２〜５個、好ましくは２〜３個結合した構造のもの
が挙げられる。このような少糖には、ショ糖、トレハロ
ース、乳糖、麦芽糖、セロビオース、ゲンチオビオー
ス、多糖の加水分解により得られた少糖等が挙げられ
る。前記一般式（７）におけるＲ8及びＲ9はヒドロキシ
ル基又は前記二官能性ケイ素化合物と反応性を有しない
置換基を示すが、Ｒ8及びＲ9のうちの少なくとも一方は
ヒドロキシル基である。二官能性ケイ素化合物と反応性
を有しない置換基としては、前記で示した各種のものが
挙げられる。本発明で用いる前記一般式（７）で表され
る好ましいアルドピラノース化合物を例示すると、グル
コース、ガラクトース、マンノース、乳糖等の単糖又は
少糖のアルキルグリコシド、アリールグリコシド及びそ
れらグリコシドの２−アセチルアミド誘導体等が挙げら
れる。
【０００８】本発明で反応原料として用いる二官能性ケ
イ素化合物を示す前記一般式（２）において、そのＲ2
及びＲ3は芳香族基又は炭素数３以上の分岐状脂肪族基
を示す。芳香族基としては、フェニル、トリル、ナフチ
ル等のアリール基や、ベンジル、フェネチル等のアリー
ルアルキル基が挙げられる。炭素数３以上の分岐状脂肪
族基には、ｉｓｏ−体、ｓｅｃ−体及びｔｅｒｔ−体が
包含され、また、鎖状及び環状のものが包含される。そ
の炭素数は３〜８、好ましくは３〜４である。その炭素
数の上限値は１２程度である。このような分岐状脂肪族
基としては、ｉｓｏ−プロピル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅ
ｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｉｓｏ−ペンチル、ネ
オペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ｉｓｏ−へキシル、
ｔｅｒｔ−へキシル、ｉｓｏ−オクチル、ｔｅｒｔ−オ
クチル、１，１，２−トリメチルプロピル（別名、テキ
シル）、シクロヘキシル等が挙げられる。好ましい分岐
状脂肪族基は、ｔｅｒｔ−ブチルである。Ｘ1は酸の残
基を示すが、この場合の酸には無機酸及び有機酸が包含
され、硝酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸
等を好ましく用いることができる。
イ素化合物を示す前記一般式（２）において、そのＲ2
及びＲ3は芳香族基又は炭素数３以上の分岐状脂肪族基
を示す。芳香族基としては、フェニル、トリル、ナフチ
ル等のアリール基や、ベンジル、フェネチル等のアリー
ルアルキル基が挙げられる。炭素数３以上の分岐状脂肪
族基には、ｉｓｏ−体、ｓｅｃ−体及びｔｅｒｔ−体が
包含され、また、鎖状及び環状のものが包含される。そ
の炭素数は３〜８、好ましくは３〜４である。その炭素
数の上限値は１２程度である。このような分岐状脂肪族
基としては、ｉｓｏ−プロピル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅ
ｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｉｓｏ−ペンチル、ネ
オペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ｉｓｏ−へキシル、
ｔｅｒｔ−へキシル、ｉｓｏ−オクチル、ｔｅｒｔ−オ
クチル、１，１，２−トリメチルプロピル（別名、テキ
シル）、シクロヘキシル等が挙げられる。好ましい分岐
状脂肪族基は、ｔｅｒｔ−ブチルである。Ｘ1は酸の残
基を示すが、この場合の酸には無機酸及び有機酸が包含
され、硝酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸
等を好ましく用いることができる。
【０００９】本発明で反応原料として用いる一官能性ケ
イ素化合物を示す前記一般式（３）において、Ｒ4、Ｒ5
及びＲ6は、芳香族基又は脂肪族基を示す。芳香族基と
しては、フェニル、トリル、ナフチル、ベンジル、フェ
ネチル等が挙げられる。脂肪族基には、鎖状及び環状の
ものが包含され、鎖状のものには直鎖状のもの及び分岐
状のものが包含される。その脂肪族基の炭素数は１〜
８、好ましくは１〜６である。その炭素数の上限値は１
２程度である。このような脂肪族基には、メチル、エチ
ル、ビニル、プロビル、イソプロピル、プロペニル、ブ
チル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、
イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ｉｓｏ−へキ
シル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、オクチル、
ｉｓｏ−オクチル、シクロオクチル、１，１，２−トリ
メチルプロピル等が挙げられる。前記Ｘ2は酸の残基等
の脱離基を示し、その具体例としては、Ｘ1に関して示
したものの他、イミダゾール、Ｎ−メチルトリフルオロ
アセトアミド、３−ペンテン−２−オン等を挙げること
ができる。
イ素化合物を示す前記一般式（３）において、Ｒ4、Ｒ5
及びＲ6は、芳香族基又は脂肪族基を示す。芳香族基と
しては、フェニル、トリル、ナフチル、ベンジル、フェ
ネチル等が挙げられる。脂肪族基には、鎖状及び環状の
ものが包含され、鎖状のものには直鎖状のもの及び分岐
状のものが包含される。その脂肪族基の炭素数は１〜
８、好ましくは１〜６である。その炭素数の上限値は１
２程度である。このような脂肪族基には、メチル、エチ
ル、ビニル、プロビル、イソプロピル、プロペニル、ブ
チル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、
イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ｉｓｏ−へキ
シル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、オクチル、
ｉｓｏ−オクチル、シクロオクチル、１，１，２−トリ
メチルプロピル等が挙げられる。前記Ｘ2は酸の残基等
の脱離基を示し、その具体例としては、Ｘ1に関して示
したものの他、イミダゾール、Ｎ−メチルトリフルオロ
アセトアミド、３−ペンテン−２−オン等を挙げること
ができる。
【００１０】前記一般式（６）で表される２’−Ｏ−シ
リル化リボヌクレオシドを製造するには、前記一般式
（５）で表されるリボヌクレオシドに、前記一般式
（２）で表される二官能性ケイ素化合物を反応させて
３’位水酸基と５’位水酸基を環状にシリル化して、下
記一般式（９）で表される環状シリル化物を得る。次
に、前記一般式（３）で表される一官能性ケイ素化合物
を反応させて、その２’位水酸基をＯＳｉＲ4Ｒ5Ｒ6に
変換させ、下記一般式（１０）で表される鎖状シリル化
物を得る。次に塩基の共存下でフッ化水素酸を作用させ
て二官能性ケイ素基を除去する。塩基としてはピリジン
等の環状アミン及びトリブチルアミンやトリエチルアミ
ン等の鎖状アミンが挙げられる。前記反応において、そ
の反応温度は−１０〜５０℃、好ましくは１０〜３０℃
の温度で実施される。反応圧力は特に制約されず、一般
的には常圧が採用される。前記反応は有機溶媒中で好ま
しく実施される。有機溶媒としては、原料リボヌクレオ
シドを溶解ないし分散し得るものであればよく、任意の
ものが使用可能であるが、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
の極性有機溶媒の使用が好ましい。前記一般式（２）の
二官能性ケイ素化合物の使用割合は、前記一般式（５）
のリボヌクレオシド１モル当り、０．９〜２モル、好ま
しくは１．０〜１．１モルの割合である。本発明の方法
を実施する場合、二官能性ケイ素化合物としては、あら
かじめ反応系外で合成したものを用いることができる
他、反応系内で生成させたものを用いることもできる。
リル化リボヌクレオシドを製造するには、前記一般式
（５）で表されるリボヌクレオシドに、前記一般式
（２）で表される二官能性ケイ素化合物を反応させて
３’位水酸基と５’位水酸基を環状にシリル化して、下
記一般式（９）で表される環状シリル化物を得る。次
に、前記一般式（３）で表される一官能性ケイ素化合物
を反応させて、その２’位水酸基をＯＳｉＲ4Ｒ5Ｒ6に
変換させ、下記一般式（１０）で表される鎖状シリル化
物を得る。次に塩基の共存下でフッ化水素酸を作用させ
て二官能性ケイ素基を除去する。塩基としてはピリジン
等の環状アミン及びトリブチルアミンやトリエチルアミ
ン等の鎖状アミンが挙げられる。前記反応において、そ
の反応温度は−１０〜５０℃、好ましくは１０〜３０℃
の温度で実施される。反応圧力は特に制約されず、一般
的には常圧が採用される。前記反応は有機溶媒中で好ま
しく実施される。有機溶媒としては、原料リボヌクレオ
シドを溶解ないし分散し得るものであればよく、任意の
ものが使用可能であるが、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
の極性有機溶媒の使用が好ましい。前記一般式（２）の
二官能性ケイ素化合物の使用割合は、前記一般式（５）
のリボヌクレオシド１モル当り、０．９〜２モル、好ま
しくは１．０〜１．１モルの割合である。本発明の方法
を実施する場合、二官能性ケイ素化合物としては、あら
かじめ反応系外で合成したものを用いることができる
他、反応系内で生成させたものを用いることもできる。
【００１１】
【化１３】
【化１４】
【００１２】前記一般式（８）で表されるＯ−シリル化
アルドピラノース化合物を製造するには、前記一般式
（７）で表されるアルドピラノース化合物に、前記一般
式（２）で表される二官能性ケイ素化合物を反応させて
４位水酸基と６位水酸基を環状にシリル化して、その環
状シリル化物を得る。次に、前記一般式（３）で表され
る一官能性ケイ素化合物を反応させて、アルドピラノー
ス化合物中に含まれる４位及び６位水酸基以外の反応性
水酸基をＯＳｉＲ4Ｒ5Ｒ6に変換させる。次に塩基の共
存下でフッ化水素酸を作用させて二官能性ケイ素基を除
去する。塩基としてはピリジン等の環状アミン及びトリ
ブチルアミンやトリエチルアミン等の鎖状アミンが挙げ
られる。前記反応において、その反応温度は−１０〜５
０℃、好ましくは１０〜３０℃の温度で実施される。反
応圧力は特に制約されず、一般的には常圧が採用され
る。前記反応は有機溶媒中で好ましく実施される。有機
溶媒としては、原料糖化合物を溶解ないし分散し得るも
のであればよく、任意のものが使用可能であるが、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等の極性有機溶媒の使用が好まし
い。前記一般式（２）の二官能性ケイ素化合物の使用割
合は、前記一般式（７）のアルドピラノース化合物１モ
ル当り、０．９〜２モル、好ましくは１．０〜１．１モ
ルの割合である。本発明の方法を実施する場合、二官能
性ケイ素化合物としては、あらかじめ反応系外で合成し
たものを用いることができる他、反応系内で生成させた
ものを用いることもできる。反応系内で生成させるに
は、酸の銀塩とジアルキルジクロルシランとを反応させ
ればよい。
アルドピラノース化合物を製造するには、前記一般式
（７）で表されるアルドピラノース化合物に、前記一般
式（２）で表される二官能性ケイ素化合物を反応させて
４位水酸基と６位水酸基を環状にシリル化して、その環
状シリル化物を得る。次に、前記一般式（３）で表され
る一官能性ケイ素化合物を反応させて、アルドピラノー
ス化合物中に含まれる４位及び６位水酸基以外の反応性
水酸基をＯＳｉＲ4Ｒ5Ｒ6に変換させる。次に塩基の共
存下でフッ化水素酸を作用させて二官能性ケイ素基を除
去する。塩基としてはピリジン等の環状アミン及びトリ
ブチルアミンやトリエチルアミン等の鎖状アミンが挙げ
られる。前記反応において、その反応温度は−１０〜５
０℃、好ましくは１０〜３０℃の温度で実施される。反
応圧力は特に制約されず、一般的には常圧が採用され
る。前記反応は有機溶媒中で好ましく実施される。有機
溶媒としては、原料糖化合物を溶解ないし分散し得るも
のであればよく、任意のものが使用可能であるが、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等の極性有機溶媒の使用が好まし
い。前記一般式（２）の二官能性ケイ素化合物の使用割
合は、前記一般式（７）のアルドピラノース化合物１モ
ル当り、０．９〜２モル、好ましくは１．０〜１．１モ
ルの割合である。本発明の方法を実施する場合、二官能
性ケイ素化合物としては、あらかじめ反応系外で合成し
たものを用いることができる他、反応系内で生成させた
ものを用いることもできる。反応系内で生成させるに
は、酸の銀塩とジアルキルジクロルシランとを反応させ
ればよい。
【００１３】前記アルドピラノース化合物を原料として
Ｏ−シリル化アルドピラノース化合物を製造する場合
に、その３位の置換基Ｒ9がヒドロキシル基であるアル
ドピラノース化合物を原料として用い、これに二官能性
ケイ素化合物を反応させて得られる環状シリル化物の構
造式を下記式（１１）として示し、また、この置換シリ
ル化合物に一官能性ケイ素化合物を反応させて得られる
シリル化物の構造式を下記式（１２）として示し、その
シリル化物の二官能性ケイ素化合物を除去して得られる
Ｏ−シリル化物の構造式を下記式（１３）として示す。
Ｏ−シリル化アルドピラノース化合物を製造する場合
に、その３位の置換基Ｒ9がヒドロキシル基であるアル
ドピラノース化合物を原料として用い、これに二官能性
ケイ素化合物を反応させて得られる環状シリル化物の構
造式を下記式（１１）として示し、また、この置換シリ
ル化合物に一官能性ケイ素化合物を反応させて得られる
シリル化物の構造式を下記式（１２）として示し、その
シリル化物の二官能性ケイ素化合物を除去して得られる
Ｏ−シリル化物の構造式を下記式（１３）として示す。
【００１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【００１５】また、前記のようにしてＯ−シリル化アル
ドピラノース化合物を製造する場合に、その２位の置換
基Ｒ8がヒドロキシル基であるアルドピラノース化合物
を原料として用いるときには、そのＲ8がＯＳｉＲ4Ｒ5
Ｒ6であるＯ−シリル化ピラノース化合物が得られ、そ
の２位及び３位の各置換基Ｒ8及びＲ9がいずれもヒドロ
キシル基であるアルドピラノース化合物をとして用いる
ときには、そのＲ8及びＲ9の両方がＯＳｉＲ4Ｒ5Ｒ6で
あるＯ−シリル化ピラノース化合物が得られる。
ドピラノース化合物を製造する場合に、その２位の置換
基Ｒ8がヒドロキシル基であるアルドピラノース化合物
を原料として用いるときには、そのＲ8がＯＳｉＲ4Ｒ5
Ｒ6であるＯ−シリル化ピラノース化合物が得られ、そ
の２位及び３位の各置換基Ｒ8及びＲ9がいずれもヒドロ
キシル基であるアルドピラノース化合物をとして用いる
ときには、そのＲ8及びＲ9の両方がＯＳｉＲ4Ｒ5Ｒ6で
あるＯ−シリル化ピラノース化合物が得られる。
【００１６】
【発明の効果】本発明のＯ−シリル化物の製造法は、中
間物質の煩雑な単離操作を含まず、１つの反応器内にお
いて反応原料を順次添加することによりその全ての反応
を実施することでき、原料であるリボヌクレオシドやア
ルドピラノース化合物等の含水酸基環状エーテルから一
挙に目的物を合成することができる。従って、本発明に
よれば、目的物を簡便かつ安価に製造することができ
る。
間物質の煩雑な単離操作を含まず、１つの反応器内にお
いて反応原料を順次添加することによりその全ての反応
を実施することでき、原料であるリボヌクレオシドやア
ルドピラノース化合物等の含水酸基環状エーテルから一
挙に目的物を合成することができる。従って、本発明に
よれば、目的物を簡便かつ安価に製造することができ
る。
【００１７】
【実施例】次に実施例によって本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明は、これらの実施例によってなんら限
定されるものではない。
明するが、本発明は、これらの実施例によってなんら限
定されるものではない。
【００１８】実施例１ 無水条件下、ウリジン０．５ｍｍｏｌをＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応容器の空間は乾燥
窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル
ビス（トリフルオロメタンスルホナート）を加え、室温
で４分反応させた後、６．５倍モルのピリジンを加え更
に３０分反応させた。次に１．０５倍モルのｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート
を加えて２時間反応させた。テトラヒドロフラン１２ｍ
ｌを加えた後３倍モルのフッ化水素酸を加えて終夜放置
した。エバポレータを用いて濃縮し、残さからシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより主生成物１６２ｍｇ
を得た。この物質の各種クロマトグラフィー上の挙動及
び1ＨＮＭＲ等を用いた機器分析の結果は、別途合成さ
れた構造既知の標品と一致し、２’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルウリジンであることが確認された。
ルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応容器の空間は乾燥
窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル
ビス（トリフルオロメタンスルホナート）を加え、室温
で４分反応させた後、６．５倍モルのピリジンを加え更
に３０分反応させた。次に１．０５倍モルのｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート
を加えて２時間反応させた。テトラヒドロフラン１２ｍ
ｌを加えた後３倍モルのフッ化水素酸を加えて終夜放置
した。エバポレータを用いて濃縮し、残さからシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより主生成物１６２ｍｇ
を得た。この物質の各種クロマトグラフィー上の挙動及
び1ＨＮＭＲ等を用いた機器分析の結果は、別途合成さ
れた構造既知の標品と一致し、２’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルウリジンであることが確認された。
【００１９】実施例２ 無水条件下、アデノシン０．５ｍｍｏｌをＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応容器の空間は乾
燥窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒｔ−ブチルシリ
ルビス（トリフルオロメタンスルホナート）を加え、室
温で４分反応させた後、６．５倍モルのピリジンを加え
更に３０分反応させた。次に１．０５倍モルのｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホナー
トを加えて２時間反応させた。テトラヒドロフラン１２
ｍｌを加えた後３倍モルのフッ化水素酸を加えて終夜放
置した。エバポレータを用いて濃縮し、残さからシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより主生成物１７１ｍ
ｇを得た。この物質の1ＨＮＭＲスペクトルの各ピーク
は化学シフト及びピーク面積について想定された構造に
合致するものであり、さらに二次元ＮＭＲスペクトルの
測定からｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基が２’水酸
基に結合していることが示され、この物質が２’−Ｏ−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアデノシンであること
が確認された。
チルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応容器の空間は乾
燥窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒｔ−ブチルシリ
ルビス（トリフルオロメタンスルホナート）を加え、室
温で４分反応させた後、６．５倍モルのピリジンを加え
更に３０分反応させた。次に１．０５倍モルのｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホナー
トを加えて２時間反応させた。テトラヒドロフラン１２
ｍｌを加えた後３倍モルのフッ化水素酸を加えて終夜放
置した。エバポレータを用いて濃縮し、残さからシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより主生成物１７１ｍ
ｇを得た。この物質の1ＨＮＭＲスペクトルの各ピーク
は化学シフト及びピーク面積について想定された構造に
合致するものであり、さらに二次元ＮＭＲスペクトルの
測定からｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基が２’水酸
基に結合していることが示され、この物質が２’−Ｏ−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアデノシンであること
が確認された。
【００２０】実施例３ 無水条件下、Ｎ−ベンゾイルアデノシン０．５ｍｍｏｌ
をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応
容器の空間は乾燥窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルシリルビス（トリフルオロメタンスルホナー
ト）を加え、室温で４分反応させた後、６．５倍モルの
ピリジンを加え更に３０分反応させた。次に１．０５倍
モルのｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオロメ
タンスルホナートを加えて２時間反応させた。テトラヒ
ドロフラン１２ｍｌを加えた後３倍モルのフッ化水素酸
を加えて終夜放置した。エバポレータを用いて濃縮し、
残さからシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより主
生成物２１７ｍｇを得た。この物質の1ＨＮＭＲスペク
トルの各ピークは化学シフト及びピーク面積について想
定された構造に合致するものであり、さらに二次元ＮＭ
Ｒスペクトルの測定からｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ル基が２’水酸基に結合していることが示され、この物
質が２’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−Ｎ−
ベンゾイルアデノシンであることが確認された。
をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応
容器の空間は乾燥窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルシリルビス（トリフルオロメタンスルホナー
ト）を加え、室温で４分反応させた後、６．５倍モルの
ピリジンを加え更に３０分反応させた。次に１．０５倍
モルのｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオロメ
タンスルホナートを加えて２時間反応させた。テトラヒ
ドロフラン１２ｍｌを加えた後３倍モルのフッ化水素酸
を加えて終夜放置した。エバポレータを用いて濃縮し、
残さからシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより主
生成物２１７ｍｇを得た。この物質の1ＨＮＭＲスペク
トルの各ピークは化学シフト及びピーク面積について想
定された構造に合致するものであり、さらに二次元ＮＭ
Ｒスペクトルの測定からｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ル基が２’水酸基に結合していることが示され、この物
質が２’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−Ｎ−
ベンゾイルアデノシンであることが確認された。
【００２１】実施例４ 無水条件下、Ｎ−ベンゾイルグアノシン０．５ｍｍｏｌ
をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応
容器の空間は乾燥窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルシリルビス（トリフルオロメタンスルホナー
ト）を加え、室温で４分反応させた後、６．５倍モルの
ピリジンを加え更に３０分反応させた。次に１．３倍モ
ルのｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタ
ンスルホナートを加えて２時間反応させた。テトラヒド
ロフラン１２ｍｌを加えた後３倍モルのフッ化水素酸を
加えて終夜放置した。エバポレータを用いて濃縮し、残
さからシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより主生
成物２１３ｍｇを得た。この物質の1ＨＮＭＲスペクト
ルの各ピークは化学シフト及びピーク面積について想定
された構造に合致するものであり、さらに二次元ＮＭＲ
スペクトルの測定からｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
基が２’水酸基に結合していることが示され、この物質
が２’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−Ｎ−ベ
ンゾイルグアノシンであることが確認された。
をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応
容器の空間は乾燥窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルシリルビス（トリフルオロメタンスルホナー
ト）を加え、室温で４分反応させた後、６．５倍モルの
ピリジンを加え更に３０分反応させた。次に１．３倍モ
ルのｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタ
ンスルホナートを加えて２時間反応させた。テトラヒド
ロフラン１２ｍｌを加えた後３倍モルのフッ化水素酸を
加えて終夜放置した。エバポレータを用いて濃縮し、残
さからシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより主生
成物２１３ｍｇを得た。この物質の1ＨＮＭＲスペクト
ルの各ピークは化学シフト及びピーク面積について想定
された構造に合致するものであり、さらに二次元ＮＭＲ
スペクトルの測定からｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
基が２’水酸基に結合していることが示され、この物質
が２’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−Ｎ−ベ
ンゾイルグアノシンであることが確認された。
【００２２】実施例５ 無水条件下、ウリジン０．５ｍｍｏｌをＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応容器の空間は乾燥
窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル
ビス（トリフルオロメタンスルホナート）を加え、室温
で４分反応させた後、６．５倍モルのピリジンを加え更
に３０分反応させた。次に１．１倍モルのジメチルテキ
シルシリルトリフルオロメタンスルホナートを加えて５
時間反応させた。テトラヒドロフラン１２ｍｌを加えた
後３倍モルのフッ化水素酸を加えて終夜放置した。エバ
ポレータを用いて濃縮し、残さからシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより主生成物１５０ｍｇを得た。こ
の物質の1ＨＮＭＲスペクトルの各ピークは化学シフト
及びピーク面積について想定された構造に合致するもの
であり、さらに二次元ＮＭＲスペクトルの測定からジメ
チルテキシルシリル基が２’水酸基に結合していること
が示され、この物質が２’−Ｏ−ジメチルテキシルシリ
ルウリジンであることが確認された。
ルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応容器の空間は乾燥
窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル
ビス（トリフルオロメタンスルホナート）を加え、室温
で４分反応させた後、６．５倍モルのピリジンを加え更
に３０分反応させた。次に１．１倍モルのジメチルテキ
シルシリルトリフルオロメタンスルホナートを加えて５
時間反応させた。テトラヒドロフラン１２ｍｌを加えた
後３倍モルのフッ化水素酸を加えて終夜放置した。エバ
ポレータを用いて濃縮し、残さからシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより主生成物１５０ｍｇを得た。こ
の物質の1ＨＮＭＲスペクトルの各ピークは化学シフト
及びピーク面積について想定された構造に合致するもの
であり、さらに二次元ＮＭＲスペクトルの測定からジメ
チルテキシルシリル基が２’水酸基に結合していること
が示され、この物質が２’−Ｏ−ジメチルテキシルシリ
ルウリジンであることが確認された。
【００２３】実施例６ 無水条件下、アデノシン０．５ｍｍｏｌをＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応容器の空間は乾
燥窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒｔ−ブチルシリ
ルビス（トリフルオロメタンスルホナート）を加え、室
温で４分反応させた後、６．５倍モルのピリジンを加え
更に３０分反応させた。次に１．１倍モルのトリイソプ
ロピルシリルトリフルオロメタンスルホナートを加えて
１２時間反応させた。テトラヒドロフラン１２ｍｌを加
えた後３倍モルのフッ化水素酸を加えて終夜放置した。
エバポレータを用いて濃縮し、残さからシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより主生成物１６８ｍｇを得
た。この物質の1ＨＮＭＲスペクトルの各ピークは化学
シフト及びピーク面積について想定された構造に合致す
るものであり、さらに二次元ＮＭＲスペクトルの測定か
らトリイソプロピルシリル基が２’水酸基に結合してい
ることが示され、この物質が２’−Ｏ−トリイソプロピ
ルシリルアデノシンであることが確認された。
チルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応容器の空間は乾
燥窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒｔ−ブチルシリ
ルビス（トリフルオロメタンスルホナート）を加え、室
温で４分反応させた後、６．５倍モルのピリジンを加え
更に３０分反応させた。次に１．１倍モルのトリイソプ
ロピルシリルトリフルオロメタンスルホナートを加えて
１２時間反応させた。テトラヒドロフラン１２ｍｌを加
えた後３倍モルのフッ化水素酸を加えて終夜放置した。
エバポレータを用いて濃縮し、残さからシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより主生成物１６８ｍｇを得
た。この物質の1ＨＮＭＲスペクトルの各ピークは化学
シフト及びピーク面積について想定された構造に合致す
るものであり、さらに二次元ＮＭＲスペクトルの測定か
らトリイソプロピルシリル基が２’水酸基に結合してい
ることが示され、この物質が２’−Ｏ−トリイソプロピ
ルシリルアデノシンであることが確認された。
【００２４】実施例７ 無水条件下、フェニル−２−アセトアミド−２−デオキ
シ−グルコピラノシド０．５ｍｍｏｌをＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応容器の空間は乾燥
窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル
ビス（トリフルオロメタンスルホナート）を加え、室温
で４分反応させた後、６．５倍モルのピリジンを加え更
に３０分反応させた。次に１．０５倍モルのｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート
を加えて２時間反応させた。テトラヒドロフラン１２ｍ
ｌを加えた後３倍モルのフッ化水素酸を加えて終夜放置
した。エバポレータを用いて濃縮し、残さからシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより主生成物１４０ｍｇ
を得た。この物質の各種クロマトグラフィー上の挙動及
び1ＨＮＭＲ等を用いた機器分析の結果、フェニル−２
−アセトアミド−２−デオキシ−３−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルグルコピラノシドであることが確認
された。
シ−グルコピラノシド０．５ｍｍｏｌをＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド３ｍｌに溶解し、反応容器の空間は乾燥
窒素で置換した。等モルのジ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル
ビス（トリフルオロメタンスルホナート）を加え、室温
で４分反応させた後、６．５倍モルのピリジンを加え更
に３０分反応させた。次に１．０５倍モルのｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート
を加えて２時間反応させた。テトラヒドロフラン１２ｍ
ｌを加えた後３倍モルのフッ化水素酸を加えて終夜放置
した。エバポレータを用いて濃縮し、残さからシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより主生成物１４０ｍｇ
を得た。この物質の各種クロマトグラフィー上の挙動及
び1ＨＮＭＲ等を用いた機器分析の結果、フェニル−２
−アセトアミド−２−デオキシ−３−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルグルコピラノシドであることが確認
された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07H 23/00 ＣＡＰＬＵＳ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1は後記二官能性ケイ素化合物と反応性を有
しない置換基を示し、Ｙ1及びＹ2はメチレン基、ヒドロ
キシメチレン基又は後記二官能性ケイ素化合物と反応性
を有しない置換基を有するメチレン基を示し、ｔ及びｑ
は０又は１の数を示す）で表される含水酸基環状エーテ
ルに、下記一般式（２） Ｒ2Ｒ3ＳｉＸ1 2 （２） （式中、Ｒ2及びＲ3は芳香族基又は炭素数が３以上の分
岐状脂肪族基を示し、Ｘ1は酸＜塩酸を除く＞の残基を
示す）で表される二官能性ケイ素化合物を反応させた
後、下記一般式（３） Ｒ4Ｒ5Ｒ6ＳｉＸ2 （３） （式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は芳香族基又は脂肪族基を示
し、Ｘ2は脱離基を示す）で表される一官能性ケイ素化
合物を反応させ、次いで塩基の共存下でフッ化水素酸を
反応させることを特徴とする下記一般式（４） 【化２】 〔式中、Ｒ1、Ｙ1、Ｙ2、ｔ、ｑ、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は前
記と同じ意味を有するが、Ｙ1又はＹ2がヒドロキシメチ
レン基の場合にはそのヒドロキシ基はＯＳｉＲ4Ｒ5Ｒ6
（Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は前記と同じ意味を有する）に変換
されているものとする〕で表されるＯ−シリル化含水酸
基環状エーテルの製造方法。 - 【請求項２】 下記一般式（５） 【化３】 （式中、Ｂは末保護又は保護された核酸塩基である）で
表されるリボヌクレオシドに、下記一般式（２） Ｒ2Ｒ3ＳｉＸ1 2 （２） （式中、Ｒ2及びＲ3は芳香族基又は炭素数が３以上の分
岐状脂肪族基を示し、Ｘ1は酸＜塩酸を除く＞の残基を
示す）で表される二官能性ケイ素化合物を反応させた
後、下記一般式（３） Ｒ4Ｒ5Ｒ6ＳｉＸ2 （３） （式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は芳香族基又は脂肪族基を示
し、Ｘ2は脱離基を示す）で表される一官能性ケイ素化
合物を反応させ、次に塩基の共存下でフッ化水素酸を反
応させることを特徴とする下記一般式（６） 【化４】 （式中、Ｂ、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は前記と同じ意味を有す
る）で表される２’−Ｏ−シリル化リボヌクレオシドの
製造方法。 - 【請求項３】 下記一般式（７） 【化５】 （式中、Ｒ7は後記二官能性ケイ素化合物と反応性を有
しない置換基を示し、Ｒ8及びＲ9はヒドロキシル基又は
後記二官能性ケイ素化合物と反応性を有しない置換基を
示すが、Ｒ8及びＲ9のうちの少なくとも一方はヒドロキ
シル基である）で表されるアルドピラノース化合物に、
下記一般式（２） Ｒ2Ｒ3ＳｉＸ1 2 （２） （式中、Ｒ2及びＲ3は芳香族基又は炭素数が３以上の分
岐状脂肪族基を示し、Ｘ1は酸＜塩酸を除く＞の残基を
示す）で表される二官能性ケイ素化合物を反応させた
後、下記一般式（３） Ｒ4Ｒ5Ｒ6ＳｉＸ2 （３） （式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は芳香族基又は脂肪族基を示
し、Ｘ2は脱離基を示す）で表される一官能性ケイ素化
合物を反応させ、次に塩基の共存下でフッ化水素酸を反
応させることを特徴とする下記一般式（８） 【化６】 （式中、Ｒ7は前記と同じ意味を有するが、Ｒ8及びＲ9
のうちの少なくとも一方はＯＳｉＲ4Ｒ5Ｒ6（Ｒ4、Ｒ5
及びＲ6は前記と同じ意味を有する）であり、Ｒ8及びＲ
9の一方がＯＳｉＲ4Ｒ5Ｒ6でない場合にはそのＲ8又は
Ｒ9は二官能性ケイ素化合物と反応性を有しない置換基
を意味する）で表されるＯ−シリル化アルドピラノース
化合物の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10224979A JP3054699B2 (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | Ｏ−シリル化含水酸基環状エーテルの製造方法 |
| US09/271,165 US6175005B1 (en) | 1998-08-07 | 1999-03-18 | Process for the preparation of cyclic ethers containing an o-silylated hydroxyl group |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10224979A JP3054699B2 (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | Ｏ−シリル化含水酸基環状エーテルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000053694A JP2000053694A (ja) | 2000-02-22 |
| JP3054699B2 true JP3054699B2 (ja) | 2000-06-19 |
Family
ID=16822209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10224979A Expired - Lifetime JP3054699B2 (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | Ｏ−シリル化含水酸基環状エーテルの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6175005B1 (ja) |
| JP (1) | JP3054699B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8737104B2 (en) * | 2011-01-17 | 2014-05-27 | Mitsubishi Electric Corporation | Switching power supply device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5552534A (en) * | 1991-08-22 | 1996-09-03 | The Trustees Of The University Of Pennsylvania | Non-Peptide peptidomimetics |
| US5892008A (en) * | 1997-12-16 | 1999-04-06 | Abbott Laboratories | Process for the preparation of 6-O-methyl erythromycin a using 9-hydroxy erythromycin derivatives |
-
1998
- 1998-08-07 JP JP10224979A patent/JP3054699B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-03-18 US US09/271,165 patent/US6175005B1/en not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．２３（１９９７）ｐ．４０３９−４０４２ |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8737104B2 (en) * | 2011-01-17 | 2014-05-27 | Mitsubishi Electric Corporation | Switching power supply device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000053694A (ja) | 2000-02-22 |
| US6175005B1 (en) | 2001-01-16 |
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