JP3052910B2 - Magnetoresistive magnetic head - Google Patents

Magnetoresistive magnetic head

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JP3052910B2
JP3052910B2 JP9250748A JP25074897A JP3052910B2 JP 3052910 B2 JP3052910 B2 JP 3052910B2 JP 9250748 A JP9250748 A JP 9250748A JP 25074897 A JP25074897 A JP 25074897A JP 3052910 B2 JP3052910 B2 JP 3052910B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
に使用する磁気抵抗効果型磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetoresistive head used in a magnetic disk drive.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスク装置に使用する磁気抵抗効
果型磁気ヘッドは、磁気抵抗効果膜を再生用のヘッドと
して安定的に機能させるために、磁気抵抗効果膜に対し
て横方向と縦方向との両方向のバイアス磁界を印加する
必要がある。
2. Description of the Related Art In a magnetoresistive head used in a magnetic disk drive, in order to make the magnetoresistive film function stably as a reproducing head, the magnetoresistive film is moved horizontally and vertically with respect to the magnetoresistive film. It is necessary to apply a bias magnetic field in both directions.

【0003】横方向バイアス磁界は、再生ヘッドの動作
点をR−H特性曲線(磁気抵抗効果曲線)の最も直線的
な範囲にシフトさせるために必要なバイアス磁界であ
り、再生出力の線形性を保つのを目的としている。この
横方向バイアス磁界は、磁気記録媒体の記録面に垂直な
磁界であり、磁気抵抗効果膜の表面に対しては平行な方
向に印加され、シャントバイアス法(磁気抵抗効果素子
とシャント導体との両方に電流を流し、シャント導体か
ら発生する磁界で磁気抵抗効果素子にバイアスをかける
方法)やSALバイアス法(軟磁性隣接層バイアス法:
磁気抵抗効果素子と軟磁性隣接層との両方に電流を流
し、軟磁性隣接層から発生する磁界で磁気抵抗効果素子
にバイアスをかける方法)等の方法がある。
The lateral bias magnetic field is a bias magnetic field required to shift the operating point of the reproducing head to the most linear range of the RH characteristic curve (magnetoresistance effect curve), and the linearity of the reproducing output is reduced. It is intended to keep. This lateral bias magnetic field is a magnetic field perpendicular to the recording surface of the magnetic recording medium, and is applied in a direction parallel to the surface of the magnetoresistive film, so that the shunt bias method (the shunt conductor between the magnetoresistive element and the shunt conductor) is applied. A current is applied to both, and a bias is applied to the magnetoresistive element by a magnetic field generated from the shunt conductor, and a SAL bias method (a soft magnetic adjacent layer bias method:
A method in which a current is applied to both the magnetoresistive element and the soft magnetic adjacent layer, and a bias is applied to the magnetoresistive element with a magnetic field generated from the soft magnetic adjacent layer).

【0004】縦方向バイアス磁界は、磁気記録媒体の記
録面に平行に、かつ磁気抵抗効果膜の長手方向に平行に
印加される磁界であり、磁気抵抗効果膜を単磁区化する
ことによって、多磁区作用から生じるバルクハウゼンノ
イズを抑制する機能を有している。
The longitudinal bias magnetic field is a magnetic field applied in parallel to the recording surface of the magnetic recording medium and in parallel with the longitudinal direction of the magnetoresistive film. It has a function of suppressing Barkhausen noise generated by magnetic domain action.

【0005】縦方向バイアス磁界の印加手段は、従来か
ら大別して二つの手段が用いられている。その一つは、
例えば特開昭62−40610号公報に開示されている
ように、鉄−マンガン(FeMn)合金等の反強磁性膜
を用い、磁気抵抗効果膜とので交換結合させる手段であ
り、他の一つは、特開平2−220213号公報に開示
されているように、コバルト−クロム−白金(CoCr
Pt)合金等の保持力の高い硬磁性膜と、軟磁性膜であ
る磁気抵抗効果膜とを強磁性結合または静磁性結合させ
る手段である。
[0005] Conventionally, two means have been used for applying a longitudinal bias magnetic field. One of them is
For example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-40610, this is a means for using an antiferromagnetic film such as an iron-manganese (FeMn) alloy to exchange-couple with a magnetoresistive effect film. Discloses cobalt-chromium-platinum (CoCr) as disclosed in JP-A-2-220213.
This is a means for ferromagnetically coupling or magnetostatically coupling a hard magnetic film having a high coercive force such as Pt) alloy and a magnetoresistive film which is a soft magnetic film.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
磁気抵抗効果型磁気ヘッドのうち、縦方向バイアス磁界
の印加手段として前者の反強磁性膜を用いるものは、後
者の硬磁性膜を用いるものに比して、大きな再生出力を
得ることができるが、バルクハウゼンノイズを充分に抑
制することができないという問題点を有している。ま
た、磁気ディスク装置の高密度化に伴ってリードTW
(実効読み取りトラック幅)が小さくなるため、再生出
力が低下してバルクハウゼンノイズが増加するという問
題点も有している。
Among the above-described conventional magnetoresistive heads, the former using the antiferromagnetic film as the means for applying the longitudinal bias magnetic field uses the latter hard magnetic film. Although a large reproduction output can be obtained as compared with the conventional one, there is a problem that Barkhausen noise cannot be sufficiently suppressed. Also, with the increase in the density of the magnetic disk drive, the read TW
Since the (effective reading track width) is reduced, there is also a problem that the reproduction output is reduced and Barkhausen noise is increased.

【0007】本発明の目的は、上述したような横方向バ
イアス磁界と縦方向バイアス磁界の印加手段を有する磁
気抵抗効果型磁気ヘッドにおいて、磁気抵抗効果膜のバ
ルクハウゼンノイズを抑制することができ、しかも高い
再生出力を得ることができる磁気抵抗効果型磁気ヘッド
を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a magnetoresistive head having the above-described means for applying a lateral bias magnetic field and a longitudinal bias magnetic field, which can suppress Barkhausen noise of the magnetoresistive film. Moreover, it is an object of the present invention to provide a magnetoresistive head capable of obtaining a high reproduction output.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の第一の磁気抵抗
効果型磁気ヘッドは、アルミニウム−チタニウム−カー
ボンの非磁性基板の上にニッケル−鉄合金の下部磁気シ
ールド膜を形成し、前記下部磁気シールド膜の上に酸化
アルミニウム膜の第一の再生ギャップを形成し、前記第
一の再生ギャップの中央部の上にコバルト−ジルコニウ
ム−モリブデン合金の軟磁性隣接層膜を形成し、前記軟
磁性隣接層膜上にタンタリウムの非磁性導電膜を形成
し、前記非磁性導電膜の上にニッケルー鉄合金の磁性抵
抗効果膜を形成し、前記磁性抵抗効果膜の上にリードト
ラック幅以上の間隔を設けて幅Wの1対のニッケル−マ
ガン合金の縦バイアス効果膜を形成し、前記1対の縦バ
イアス効果膜に対応して前記縦バイアス効果膜および前
記第一の再生ギャップの端部の上に前記リードトラック
幅と同じ間隔の1対の電極を形成し、前記1対の電極の
上に酸化アルミニウムの第二の再生ギャップを形成し、
前記第二の再生ギャップの上にニッケル−鉄合金の上部
磁気シールド膜を形成した再生素子を再生用ヘッドとし
て用い、薄膜ヘッドを記録用ヘッドとして用いた磁気抵
抗効果型磁気ヘッドであって、前記1対の縦バイアス効
果膜のそれぞれの幅Wを2.0μm〜4.0μmとした
ものであり、特に、前記1対の縦バイアス効果膜の各外
側端を前記磁性抵抗効果膜の外側端に一致させるか、ま
たは、前記1対の縦バイアス効果膜の間隔を前記1対の
電極の間隔と等しくしたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a magnetoresistive head having a lower magnetic shield film of a nickel-iron alloy formed on a non-magnetic substrate of aluminum-titanium-carbon. Forming a first read gap of an aluminum oxide film on the magnetic shield film, forming a soft magnetic adjacent layer film of a cobalt-zirconium-molybdenum alloy on a central portion of the first read gap, A non-magnetic conductive film of tantalum is formed on the adjacent layer film, a magnetoresistive film of a nickel-iron alloy is formed on the non-magnetic conductive film, and a gap equal to or more than a read track width is formed on the magnetoresistive film. To form a pair of nickel-maganium alloy vertical bias effect films having a width W. The vertical bias effect film and the first reproducing gap correspond to the pair of vertical bias effect films. Said forming a pair of electrodes of the same interval as the read track width, a second read gap oxide aluminum is formed on said pair of electrodes on the end,
A magneto-resistance effect type magnetic head using a reproducing element in which a nickel-iron alloy upper magnetic shield film is formed on the second reproducing gap as a reproducing head, and using a thin film head as a recording head. The width W of each of the pair of longitudinal bias effect films is set to 2.0 μm to 4.0 μm. In particular, each outer end of the pair of longitudinal bias effect films is connected to the outer end of the magnetoresistive film. In this case, the distance between the pair of vertical bias effect films is equal to the distance between the pair of electrodes.

【0009】本発明の第二の磁気抵抗効果型磁気ヘッド
は、アルミニウム−チタニウム−カーボンの非磁性基板
の上にニッケル−鉄合金の下部磁気シールド膜を形成
し、前記下部磁気シールド膜の上に酸化アルミニウム膜
の第一の再生ギャップを形成し、前記第一の再生ギャッ
プの中央部の上にリードトラック幅以上の間隔を設けて
幅Wの1対のニッケル−マガン合金の縦バイアス効果膜
を形成し、前記1対の縦バイアス効果膜の上にニッケル
ー鉄合金の磁性抵抗効果膜を形成し、前記磁性抵抗効果
膜の上にタンタリウムの非磁性導電膜を形成し、前記非
磁性導電膜の上にコバルト−ジルコニウム−モリブデン
合金の軟磁性隣接層膜を形成し、前記軟磁性隣接層膜お
よび前記第一の再生ギャップの端部の上に前記1対の縦
バイアス効果膜に対応して前記リードトラック幅と同じ
間隔の1対の電極を形成し、前記1対の電極の上に酸化
アルミニウムの第二の再生ギャップを形成し、前記第二
の再生ギャップの上にニッケル−鉄合金の上部磁気シー
ルド膜を形成した再生素子を再生用ヘッドとして用い、
薄膜ヘッドを記録用ヘッドとして用いた磁気抵抗効果型
磁気ヘッドであって、前記1対の縦バイアス効果膜のそ
れぞれの幅Wを2.0μm〜4.0μmとしたものであ
り、特に、前記1対の縦バイアス効果膜の各外側端を前
記磁性抵抗効果膜の外側端に一致させるか、または、前
記1対の縦バイアス効果膜の間隔を前記1対の電極の間
隔と等しくしたものである。
In a second magnetoresistive head according to the present invention, a nickel-iron alloy lower magnetic shield film is formed on an aluminum-titanium-carbon nonmagnetic substrate, and the lower magnetic shield film is formed on the lower magnetic shield film. A first read gap of an aluminum oxide film is formed, and a pair of nickel-maganium alloy longitudinal bias effect films having a width W is provided on a central portion of the first read gap at a distance equal to or greater than a read track width. Forming a nickel-iron alloy magnetoresistive effect film on the pair of longitudinal bias effect films; forming a tantalum nonmagnetic conductive film on the magnetoresistive effect film; Forming a soft magnetic adjacent layer film of a cobalt-zirconium-molybdenum alloy on the soft magnetic adjacent layer film and the pair of longitudinal bias effect films on the edge of the first read gap. Forming a pair of electrodes at the same interval as the lead track width, forming a second reproducing gap of aluminum oxide on the pair of electrodes, and forming a nickel-iron on the second reproducing gap. Using the read element with the upper magnetic shield film of alloy as the read head,
A magnetoresistive magnetic head using a thin film head as a recording head, wherein each of the pair of longitudinal bias effect films has a width W of 2.0 μm to 4.0 μm. The outer ends of the pair of longitudinal bias effect films are made to coincide with the outer ends of the magnetoresistive effect film, or the interval between the pair of longitudinal bias effect films is equal to the interval between the pair of electrodes. .

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0011】図1は本発明の磁気抵抗効果型磁気ヘッド
の第一の実施形態の再生部を示す断面図、図5は図1の
実施形態における縦バイアス効果膜の幅(交換結合幅)
とAsym変動との関係を示す特性図、図6は図1の実
施形態における縦バイアス効果膜の幅(交換結合幅)と
ウィグルとの関係を示す特性図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a reproducing section of a first embodiment of a magnetoresistive magnetic head according to the present invention, and FIG. 5 is a width (exchange coupling width) of a longitudinal bias effect film in the embodiment of FIG.
FIG. 6 is a characteristic diagram showing the relationship between the width of the vertical bias effect film (exchange coupling width) and the wiggle in the embodiment of FIG.

【0012】図1の実施形態は、アルミニウム−チタニ
ウム−カーボン(AlTiC)の非磁性基板1の上に、
膜厚が2000nmのニッケル−鉄(NiFe)合金の
下部磁気シールド膜2を電気めっき法で形成し、その上
に膜厚が70nmの酸化アルミニウム(Al2 3 )膜
(再生ギャップ)3をスパッタリング法で形成してい
る。
FIG. 1 shows an embodiment in which a nonmagnetic substrate 1 of aluminum-titanium-carbon (AlTiC) is provided.
A lower magnetic shield film 2 of a nickel-iron (NiFe) alloy having a thickness of 2000 nm is formed by electroplating, and an aluminum oxide (Al 2 O 3 ) film (reproduction gap) 3 having a thickness of 70 nm is sputtered thereon. It is formed by the method.

【0013】更に、再生ギャップ3の中央部の上に、膜
厚が27nmのコバルト−ジルコニウム−モリブデン
(CoZrMo)合金の軟磁性隣接層膜(SAL膜)4
を、SAL膜4の上に、膜厚が10nmのタンタリウム
(Ta)の非磁性導電膜5を、非磁性導電膜5の上に、
膜厚が20nmのニッケルー鉄(NiFe)合金の磁性
抵抗効果膜6をそれぞれスパッタリング法で形成してい
る。
Further, a soft magnetic adjacent layer film (SAL film) 4 of a cobalt-zirconium-molybdenum (CoZrMo) alloy having a thickness of 27 nm is formed on the central portion of the reproducing gap 3.
A nonmagnetic conductive film 5 of tantalum (Ta) having a thickness of 10 nm on the SAL film 4 and a nonmagnetic conductive film 5
A magnetoresistive film 6 of a nickel-iron (NiFe) alloy having a thickness of 20 nm is formed by a sputtering method.

【0014】更に磁性抵抗効果膜6の上に、リードトラ
ック幅Vよりも大きな間隔を設けて幅Wの1対のニッケ
ル−マガン(NiMn)合金の縦バイアス効果膜7を膜
厚50nmに形成し、縦バイアス効果膜7および再生ギ
ャップ3の両端部の上に、膜厚100nmの金(Au)
の電極8をスパッタリング法で形成している。(1対の
電極8の間隔Vは、リードトラック幅と同じである。) 更に電極8の上に膜厚が90nmの酸化アルミニウム
(Al23 )の再生ギャップ9をスパッタリング法で
形成し、その上に、膜厚が3000nmのニッケル−鉄
(NiFe)合金の上部磁気シールド膜10を電気めっ
き法で形成している。
Further, a pair of nickel-maganium (NiMn) alloy vertical bias effect films 7 having a width W are formed to a film thickness of 50 nm on the magnetoresistive effect film 6 at intervals larger than the read track width V. A 100 nm-thick gold (Au) film on both ends of the vertical bias effect film 7 and the reproducing gap 3.
Are formed by the sputtering method. (The interval V between the pair of electrodes 8 is the same as the read track width.) Further, a reproducing gap 9 of aluminum oxide (Al 2 O 3 ) having a thickness of 90 nm is formed on the electrodes 8 by a sputtering method. An upper magnetic shield film 10 of a 3000 nm thick nickel-iron (NiFe) alloy is formed thereon by electroplating.

【0015】上述のように構成した再生素子を再生用ヘ
ッドとて用いし、従来から用いられている薄膜ヘッドを
記録用ヘッドとして用いて磁気抵抗効果型磁気ヘッドを
構成する。
Using the reproducing element constructed as described above as a reproducing head, a conventional thin film head is used as a recording head to form a magnetoresistive head.

【0016】縦バイアス効果膜7の幅(これを交換結合
幅という)Wは、磁気抵抗効果型磁気ヘッドのバルクハ
ウゼンノイズに対して影響を及ぼす。その状況を確認す
るため、図1の構成において、縦バイアス効果膜7の両
外側端を磁性抵抗効果膜6の外側端に一致させ、縦バイ
アス効果膜7の幅Wをそれぞれ1.5μm・2.0μm
・3.0μm・4.0μm・5.5μm・6.5μmと
した磁気抵抗効果型磁気ヘッドを試作してそれらのバル
クハウゼンノイズを代表する値のAsym変動(特定の
周波数で1000回のライト・リードを繰返し、その出
力電圧波形の非対称性を求めてその最大値と最小値の差
を求めた値:波形非対称変動)を測定した。図5はその
結果を示す特性図である。
The width W of the longitudinal bias effect film 7 (which is called an exchange coupling width) affects Barkhausen noise of the magnetoresistive head. In order to confirm the situation, in the configuration of FIG. 1, both outer ends of the vertical bias effect film 7 are made to coincide with the outer ends of the magnetoresistive film 6, and the width W of the vertical bias effect film 7 is set to 1.5 μm · 2. 0.0 μm
Prototypes of 3.0 μm, 4.0 μm, 5.5 μm, and 6.5 μm magnetoresistive effect type magnetic heads, and asym variations of the values representative of their Barkhausen noise (1000 write operations at a specific frequency) The reading was repeated, the asymmetry of the output voltage waveform was obtained, and the difference between the maximum value and the minimum value was obtained: the waveform asymmetry fluctuation) was measured. FIG. 5 is a characteristic diagram showing the result.

【0017】図5から明らかなように、縦バイアス効果
膜7の幅(交換結合幅)Wが2.0μmおよび3.0μ
mおよび4.0μmのときは、Asym変動が10%以
下であるが、縦バイアス効果膜7の幅Wが1.5μmお
よび5.5μmおよび6.5μmのときは、Asym変
動は13〜18%である。従って縦バイアス効果膜7の
幅Wを2.0μm〜4.0μmとすることにより、磁性
抵抗効果膜6の磁区の乱れを少なくしてバルクハウゼン
ノイズを抑制することができることが理解できる。
As is apparent from FIG. 5, the width (exchange coupling width) W of the vertical bias effect film 7 is 2.0 μm and 3.0 μm.
When the width W of the longitudinal bias effect film 7 is 1.5 μm, 5.5 μm and 6.5 μm, the Asym fluctuation is 13 to 18% when m and 4.0 μm. It is. Therefore, it can be understood that by setting the width W of the vertical bias effect film 7 to 2.0 μm to 4.0 μm, disturbance of the magnetic domains of the magnetoresistive effect film 6 can be reduced and Barkhausen noise can be suppressed.

【0018】上記の試作品についてバルクハウゼンノイ
ズの他の検出手段であるウィグル(特定の周波数で10
0回のライト・リードを繰返したときの出力電圧の平均
値と標準偏差の比)を測定した結果を示したのが図6で
ある。
With respect to the above prototype, a wiggle (10% at a specific frequency) which is another means of detecting Barkhausen noise is used.
FIG. 6 shows the result of measuring the average value of the output voltage and the standard deviation (the ratio of the standard deviation to the output voltage) when writing and reading are repeated 0 times.

【0019】この場合も図5と同様に、縦バイアス効果
膜7の幅Wが2.0μmおよび3.0μmおよび4.0
μmのときはウィグルが1.0%以下であるが、縦バイ
アス効果膜7の幅Wが1.5μmおよび5.5μmおよ
び6.5μmのときはウィグルが1.7〜2.5%であ
る。従って縦バイアス効果膜7の幅Wを2.0μm〜
4.0μmとすることにより、ウィグルが小さくなって
バルクハウゼンノイズを抑制できることがわかる。
In this case, similarly to FIG. 5, the width W of the vertical bias effect film 7 is 2.0 μm, 3.0 μm, and 4.0.
In the case of μm, the wiggle is 1.0% or less, but when the width W of the longitudinal bias effect film 7 is 1.5 μm, 5.5 μm, and 6.5 μm, the wiggle is 1.7 to 2.5%. . Therefore, the width W of the vertical bias effect film 7 is set to 2.0 μm or less.
It can be seen that by setting the thickness to 4.0 μm, the wiggle becomes small and Barkhausen noise can be suppressed.

【0020】図2は本発明の第二の実施形態を示す断面
図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention.

【0021】本実施形態の構成は、図1の実施形態と基
本的には同じであるが、中間層であるSAL膜14およ
び非磁性導電膜15および磁性抵抗効果膜16および縦
バイアス効果膜17の積層順序が異っている。それらの
上下の下部磁気シールド膜12および再生ギャップ13
並びに電極18および再生ギャップ19および上部磁気
シールド膜20の積層順序とそれらの膜厚は図1の実施
形態と同じである。
The structure of this embodiment is basically the same as that of the embodiment of FIG. 1, except that the SAL film 14, the nonmagnetic conductive film 15, the magnetoresistive film 16, and the longitudinal bias effect film 17 which are intermediate layers are formed. Are different in the stacking order. The upper and lower lower magnetic shield films 12 and the read gap 13
The order of lamination of the electrode 18, the reproducing gap 19, and the upper magnetic shield film 20, and their thicknesses are the same as those in the embodiment of FIG.

【0022】SAL膜14および非磁性導電膜15およ
び磁性抵抗効果膜16および縦バイアス効果膜17の積
層順序は、まず始めに再生ギャップ13の上に1対の縦
バイアス効果膜17を形成し、その上に磁性抵抗効果膜
16および非磁性導電膜15およびSAL膜14をこの
順序で形成している。これらの各膜の厚さは、実施形態
と同じである。また、二つの縦バイアス効果膜17の幅
Wは、2.0μm〜4.0μmである。
The stacking sequence of the SAL film 14, the non-magnetic conductive film 15, the magnetoresistive effect film 16, and the vertical bias effect film 17 is as follows: first, a pair of vertical bias effect films 17 are formed on the reproducing gap 13; The magnetoresistive film 16, the nonmagnetic conductive film 15, and the SAL film 14 are formed thereon in this order. The thickness of each of these films is the same as in the embodiment. The width W of the two longitudinal bias effect films 17 is 2.0 μm to 4.0 μm.

【0023】このように構成することにより、図1の実
施形態と同じ作用・効果が得られる。
With this configuration, the same operation and effect as in the embodiment of FIG. 1 can be obtained.

【0024】図3は本発明の第三の実施形態を示す断面
図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a third embodiment of the present invention.

【0025】本実施形態の構成は、上下の下部磁気シー
ルド膜22および再生ギャップ23並びに電極28およ
び再生ギャップ29および上部磁気シールド膜30の間
に、SAL膜24および非磁性導電膜25および磁性抵
抗効果膜26および縦バイアス効果膜27を図1の実施
形態と同じ積層順序で積層したものであるが、縦バイア
ス効果膜27の構成が若干異なっている。すなわち、1
対の縦バイアス効果膜27の間隔を電極8の間隔Vと一
致させ、それらの幅Wを2.0μm〜4.0μmとした
ものである。従って縦バイアス効果膜27の外側端は磁
性抵抗効果膜26の外側端と一致せずにそれらの内側と
なる。1対の電極28の幅は、リードトラック幅と一致
している。
The structure of this embodiment is such that the SAL film 24, the non-magnetic conductive film 25, and the magnetic resistance are provided between the upper and lower lower magnetic shield films 22 and the reproducing gap 23, and between the electrode 28, the reproducing gap 29 and the upper magnetic shield film 30. Although the effect film 26 and the vertical bias effect film 27 are stacked in the same stacking order as the embodiment of FIG. 1, the configuration of the vertical bias effect film 27 is slightly different. That is, 1
The interval between the pair of vertical bias effect films 27 is made equal to the interval V between the electrodes 8, and their width W is set to 2.0 μm to 4.0 μm. Therefore, the outer end of the vertical bias effect film 27 does not coincide with the outer end of the magnetoresistive effect film 26, but is inside them. The width of the pair of electrodes 28 matches the width of the lead track.

【0026】本実施形態も、図1の実施形態と同じ作用
・効果が得られる。
In this embodiment, the same operation and effect as in the embodiment of FIG. 1 can be obtained.

【0027】図4は本発明の第四の実施形態を示す断面
図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a fourth embodiment of the present invention.

【0028】本実施形態の構成は、すべての層を図2の
実施形態と同じ積層順序で積層したものであるが、縦バ
イアス効果膜37の構成を図3の実施形態と同じとした
ものである。すなわち、二つの縦バイアス効果膜37の
間隔を図3の実施形態と同じく電極8の間隔Vと一致さ
せ、またそれらの幅Wを2.0μm〜4.0μmとした
ものである。従って縦バイアス効果膜37の外側端は磁
性抵抗効果膜36の外側端と一致せずにそれらの内側と
なる。1対の電極38の幅は、リードトラック幅と一致
している。
The structure of this embodiment is such that all the layers are stacked in the same stacking order as the embodiment of FIG. 2, but the structure of the vertical bias effect film 37 is the same as that of the embodiment of FIG. is there. That is, the interval between the two vertical bias effect films 37 is made equal to the interval V between the electrodes 8 as in the embodiment of FIG. 3, and the width W thereof is set to 2.0 μm to 4.0 μm. Therefore, the outer end of the vertical bias effect film 37 does not coincide with the outer end of the magnetoresistive effect film 36 but is inside them. The width of the pair of electrodes 38 matches the width of the lead track.

【0029】本実施形態も、図1の実施形態と同じ作用
・効果が得られる。
In this embodiment, the same operation and effect as in the embodiment of FIG. 1 can be obtained.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気抵抗
効果型磁気ヘッドは、再生用ヘッドの再生素子を形成す
るため、上下の再生ギャップの間にSAL膜および非磁
性導電膜および磁性抵抗効果膜および一対の縦バイアス
効果膜および一対の電極を積層するとき、一対の縦バイ
アス効果膜の幅を2.0μm〜4.0μmとすることに
より、磁性抵抗効果膜の磁区の乱れを少なくしてバルク
ハウゼンノイズを抑制することが可能になるという効果
があり、従って安定でしかも高い再生出力の磁気抵抗効
果型磁気ヘッドを得ることができるという効果がある。
As described above, in the magneto-resistance effect type magnetic head of the present invention, the SAL film, the non-magnetic conductive film and the magnetic resistance are formed between the upper and lower reproducing gaps in order to form the reproducing element of the reproducing head. When the effect film, the pair of longitudinal bias effect films, and the pair of electrodes are stacked, the width of the pair of longitudinal bias effect films is set to 2.0 μm to 4.0 μm to reduce disturbance of the magnetic domains of the magnetoresistive effect film. Thus, there is an effect that Barkhausen noise can be suppressed, so that a magnetoresistive head having a stable and high reproduction output can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施形態の再生部を示す断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view showing a reproducing unit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第二の実施形態の再生部を示す断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view showing a reproducing unit according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第三の実施形態の再生部を示す断面図
である。
FIG. 3 is a sectional view showing a reproducing unit according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第四の実施形態の再生部を示す断面図
である。
FIG. 4 is a sectional view showing a reproducing unit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】図1の実施形態における縦バイアス効果膜の幅
とAsym変動率との関係を示す特性図である。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing a relationship between a width of a vertical bias effect film and an asym variation rate in the embodiment of FIG. 1;

【図6】図1の実施形態における縦バイアス効果膜の幅
とウィグルとの関係を示す特性図である。
FIG. 6 is a characteristic diagram showing a relationship between a width of a vertical bias effect film and a wiggle in the embodiment of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・11・21・31 非磁性基板 2・12・22・32 下部磁気シールド膜 3・13・23・33 再生ギャップ 4・14・24・34 SAL膜 5・15・25・35 非磁性導電膜 6・16・26・36 磁性抵抗効果膜 7・17・27・37 縦バイアス効果膜 8・18・28・38 電極 9・19・29・39 再生ギャップ 10・20・30・40 上部磁気シールド膜 1.11.12.31 Non-magnetic substrate 2.12.22.32 Lower magnetic shield film 3.13.23.33 Reproduction gap 4.14.24.34 SAL film 5.15.25.35 Non-magnetic conductive film 6.16.26.36 Magnetoresistive film 7.17.27.37 Longitudinal bias effect film 8.18.28.38 Electrode 9.19.29.39 Reproduction gap 10.20.30.40 Upper magnetic shield film

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 アルミニウム−チタニウム−カーボンの
非磁性基板の上にニッケル−鉄合金の下部磁気シールド
膜を形成し、前記下部磁気シールド膜の上に酸化アルミ
ニウム膜の第一の再生ギャップを形成し、前記第一の再
生ギャップの中央部の上にコバルト−ジルコニウム−モ
リブデン合金の軟磁性隣接層膜を形成し、前記軟磁性隣
接層膜上にタンタリウムの非磁性導電膜を形成し、前記
非磁性導電膜の上にニッケルー鉄合金の磁性抵抗効果膜
を形成し、前記磁性抵抗効果膜の上にリードトラック幅
以上の間隔を設けて幅Wの1対のニッケル−マガン合金
の縦バイアス効果膜を形成し、前記1対の縦バイアス効
果膜に対応して前記縦バイアス効果膜および前記第一の
再生ギャップの端部の上に前記リードトラック幅と同じ
間隔の1対の電極を形成し、前記1対の電極の上に酸化
アルミニウムの第二の再生ギャップを形成し、前記第二
の再生ギャップの上にニッケル−鉄合金の上部磁気シー
ルド膜を形成した再生素子を再生用ヘッドとして用い、
薄膜ヘッドを記録用ヘッドとして用いた磁気抵抗効果型
磁気ヘッドであって、 前記1対の縦バイアス効果膜のそれぞれの幅Wを2.0
μm〜4.0μmとしたことを特徴とする磁気抵抗効果
型磁気ヘッド。
1. A nickel-iron alloy lower magnetic shield film is formed on an aluminum-titanium-carbon nonmagnetic substrate, and a first reproduction gap of an aluminum oxide film is formed on the lower magnetic shield film. Forming a soft magnetic adjacent layer film of a cobalt-zirconium-molybdenum alloy on a central portion of the first read gap, forming a non-magnetic conductive film of tantalum on the soft magnetic adjacent layer film, A nickel-iron alloy magnetoresistive film is formed on the magnetic conductive film, and a pair of nickel-maggan alloy longitudinal bias effect films having a width W is provided on the magnetoresistive film with an interval equal to or greater than the lead track width. And forming a pair of electrodes at the same interval as the read track width on the longitudinal bias effect film and the end of the first read gap corresponding to the pair of longitudinal bias effect films. A reproducing element having a second reproducing gap of aluminum oxide formed on the pair of electrodes and a nickel-iron alloy upper magnetic shield film formed on the second reproducing gap; Used as
A magnetoresistive head using a thin film head as a recording head, wherein each of the pair of longitudinal bias effect films has a width W of 2.0.
A magnetoresistance effect type magnetic head having a thickness of from μm to 4.0 μm.
【請求項2】 前記1対の縦バイアス効果膜の各外側端
を前記磁性抵抗効果膜の外側端に一致させたことを特徴
とする請求項1記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
2. The magnetoresistive head according to claim 1, wherein each outer end of the pair of longitudinal bias effect films is made to coincide with the outer end of the magnetoresistive effect film.
【請求項3】 前記1対の縦バイアス効果膜の間隔を前
記1対の電極の間隔と等しくしたことを特徴とする請求
項1記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
3. The magnetoresistive head according to claim 1, wherein the interval between the pair of longitudinal bias effect films is equal to the interval between the pair of electrodes.
【請求項4】 アルミニウム−チタニウム−カーボンの
非磁性基板の上にニッケル−鉄合金の下部磁気シールド
膜を形成し、前記下部磁気シールド膜の上に酸化アルミ
ニウム膜の第一の再生ギャップを形成し、前記第一の再
生ギャップの中央部の上にリードトラック幅以上の間隔
を設けて幅Wの1対のニッケル−マガン合金の縦バイア
ス効果膜を形成し、前記1対の縦バイアス効果膜の上に
ニッケルー鉄合金の磁性抵抗効果膜を形成し、前記磁性
抵抗効果膜の上にタンタリウムの非磁性導電膜を形成
し、前記非磁性導電膜の上にコバルト−ジルコニウム−
モリブデン合金の軟磁性隣接層膜を形成し、前記軟磁性
隣接層膜および前記第一の再生ギャップの端部の上に前
記1対の縦バイアス効果膜に対応して前記リードトラッ
ク幅と同じ間隔の1対の電極を形成し、前記1対の電極
の上に酸化アルミニウムの第二の再生ギャップを形成
し、前記第二の再生ギャップの上にニッケル−鉄合金の
上部磁気シールド膜を形成した再生素子を再生用ヘッド
として用い、薄膜ヘッドを記録用ヘッドとして用いた磁
気抵抗効果型磁気ヘッドであって、 前記1対の縦バイアス効果膜のそれぞれの幅Wを2.0
μm〜4.0μmとしたことを特徴とする磁気抵抗効果
型磁気ヘッド。
4. A nickel-iron alloy lower magnetic shield film is formed on an aluminum-titanium-carbon nonmagnetic substrate, and a first reproduction gap of an aluminum oxide film is formed on the lower magnetic shield film. Forming a pair of nickel-maganium alloy vertical bias effect films having a width W at intervals above the central portion of the first read gap with a width equal to or greater than the read track width; A magnetoresistive film of a nickel-iron alloy is formed thereon, a nonmagnetic conductive film of tantalum is formed on the magnetoresistive film, and cobalt-zirconium- is formed on the nonmagnetic conductive film.
Forming a soft magnetic adjacent layer film of a molybdenum alloy, and having the same distance as the read track width corresponding to the pair of longitudinal bias effect films on the soft magnetic adjacent layer film and the end of the first read gap; Were formed, a second reproducing gap of aluminum oxide was formed on the pair of electrodes, and an upper magnetic shield film of a nickel-iron alloy was formed on the second reproducing gap. A magnetoresistive head using a reproducing element as a reproducing head and a thin film head as a recording head, wherein each of the pair of longitudinal bias effect films has a width W of 2.0.
A magnetoresistance effect type magnetic head having a thickness of from μm to 4.0 μm.
【請求項5】 前記1対の縦バイアス効果膜の各外側端
を前記磁性抵抗効果膜の外側端に一致させたことを特徴
とする請求項4記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
5. The magnetoresistive head according to claim 4, wherein each outer end of the pair of longitudinal bias effect films is made to coincide with the outer end of the magnetoresistive effect film.
【請求項6】 前記1対の縦バイアス効果膜の間隔を前
記1対の電極の間隔と等しくしたことを特徴とする請求
項4記載の磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
6. The magnetoresistive head according to claim 4, wherein the interval between the pair of longitudinal bias effect films is equal to the interval between the pair of electrodes.
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