JP3048160B2 - Wafer scale semiconductor device - Google Patents

Wafer scale semiconductor device

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JP3048160B2
JP3048160B2 JP1300339A JP30033989A JP3048160B2 JP 3048160 B2 JP3048160 B2 JP 3048160B2 JP 1300339 A JP1300339 A JP 1300339A JP 30033989 A JP30033989 A JP 30033989A JP 3048160 B2 JP3048160 B2 JP 3048160B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔目次〕 概要 産業上の利用分野 従来の技術 (第3、4図) 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段 作用 実施例 本発明の原理説明 (第1図) 本発明の一実施例 (第2図) 発明の効果 〔概要〕 ウエハ・スケール半導体装置に関し、 不良チップを電気的に絶縁することができ、不良チッ
プに流れる異常電流を完全に防止することきのできるウ
エハ・スケール半導体装置を提供することを目的とし、 ウエハ上の複数のチップを構成要素とし、欠陥をもつ
チップを回避してチップ間の通信経路を再構成し、ウエ
ハ全体に所定の機能をもたせるウエハ・スケール半導体
装置において、前記チップに、チップ同士をつなぐ信号
線を遮断する遮断手段を設け、前記遮断手段は、あるチ
ップに不良があったとき、該不良チップの高電位側電源
へのボンディングを行わないことにより該不良チップに
入出力される信号線を遮断するようにしたことを特徴と
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Table of Contents] Overview Industrial application field Conventional technology (FIGS. 3 and 4) Problems to be solved by the invention Means for solving the problem Actions Example Principle of the present invention (No. 1) One embodiment of the present invention (FIG. 2) Effects of the Invention [Overview] Regarding a wafer scale semiconductor device, a defective chip can be electrically insulated, and an abnormal current flowing through the defective chip can be completely prevented. The purpose of the present invention is to provide a wafer-scale semiconductor device capable of performing operations, comprising a plurality of chips on a wafer as constituent elements, avoiding defective chips, reconfiguring a communication path between the chips, and setting a predetermined path for the entire wafer. In the wafer scale semiconductor device having the function of (1), the chip is provided with a cutoff means for cutting off a signal line connecting the chips, and the cutoff means is provided when a chip has a defect. Characterized by being adapted to block the signal line input to and output from the defective chip by not performing the bonding to the defective chip high-potential-side power supply.

また、前記遮断手段は、前記信号線の経路中に設けら
れ、ゲートが高電位側電源に接続されたトランジスタ
と、該トランジスタのゲートと低電位側電源との間に接
続された抵抗と、を備えたことを特徴とする。
Further, the blocking means is provided in a path of the signal line, a transistor having a gate connected to a high-potential-side power supply, and a resistor connected between the gate of the transistor and the low-potential-side power supply. It is characterized by having.

〔産業上の利用分野〕[Industrial applications]

本発明は、ウエハ・スケール半導体装置に関し、詳し
くは、1枚の半導体ウェハ上に形成された全チップを結
合して構成されるウエハ・スケール・インテグレーショ
ン(wafer scale integration:WSI)における欠陥回避
技術の改良に関する。
The present invention relates to a wafer scale semiconductor device, and more particularly, to a defect avoidance technology in wafer scale integration (WSI) configured by combining all chips formed on one semiconductor wafer. Regarding improvement.

ウエハ・スケール・インテグレーション(WSI)はウ
エハの全領域に回路を集積するものであり、この技術に
ついては次のような利点がある。
Wafer scale integration (WSI) integrates circuits over the entire area of the wafer, and this technology offers the following advantages:

どのようなLSI(large scale integrated circuit)
よりも大規模の回路を集積できる。
What kind of LSI (large scale integrated circuit)
Larger-scale circuits can be integrated.

システムを1枚のウエハ上に集積することによって、
回路間の相互配線長が短くなり、信号延長時間を短くで
きる。
By integrating the system on one wafer,
The interconnection length between circuits is shortened, and the signal extension time can be shortened.

組み立て工程削減による実装上の信頼性や欠陥救済技
術によってシステムの信頼性を向上することができる。
The reliability of the mounting can be improved by reducing the number of assembling steps, and the reliability of the system can be improved by the defect relief technique.

WSIは基本構成回路を複数接続した繰り返し論理回路
やメモリをモノリシックに構成するのに適している。モ
ノリシックWSIの場合、必ず欠陥部分を含むような幅広
い領域に回路を集積することになるから、冗長構成をも
たせ、欠陥を迂回してシステムを構成する欠陥回避技術
が不可欠である。
The WSI is suitable for monolithically configuring a repetitive logic circuit or memory in which a plurality of basic constituent circuits are connected. In the case of a monolithic WSI, circuits must be integrated in a wide area that always includes a defective part. Therefore, a defect avoidance technique for providing a redundant configuration and bypassing the defect to configure a system is indispensable.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来のWSIの一種であるウエハ・スケール・メモリで
は、オリエンテーション主フラットの方向をX方向、そ
れに直交する方向をY方向とすると、各チップ間のX方
向及びY方向はローカル・ラインで結合し、入力端から
信号を加えると、該信号は欠陥チップを迂回して良品チ
ップのみをシリアルに通過して出力端に現れるように構
成され、また、更にY方向では各チップ列毎にコマンド
・ライン並びにWCKラインからなるグローバル・ライ
ン、VCCライン、VSSライン、VBBラインなどでパラレル
に結合することが行われている(特公昭58-18778号公
報、特公昭62-6267号各公報参照)。なお、前記各チッ
プ間は単純にローカル・ラインで結合してあるのではな
く、その間に論理回路が介在することは勿論であり、ま
た、欠陥チップを迂回して良品チップのみをシリアルに
結ぶことをスパイラル通路を構成すると称している。
In a wafer-scale memory, which is a type of conventional WSI, if the direction of the orientation main flat is the X direction and the direction orthogonal thereto is the Y direction, the X and Y directions between chips are connected by a local line. When a signal is applied from the input terminal, the signal is configured to bypass the defective chip and pass only the non-defective chips serially to appear at the output terminal. Further, in the Y direction, a command line and a command line are provided for each chip column. A parallel connection is performed by a global line composed of WCK lines, V CC lines, V SS lines, V BB lines, etc. (see JP-B-58-18778 and JP-B-62-6267). . Note that the above chips are not simply connected by a local line, but a logic circuit is interposed therebetween.It is also necessary to connect only good chips serially, bypassing defective chips. Is referred to as constituting a spiral passage.

従来のウエハ・スケール・メモリは、例えば第3図に
示される。第3図はウエハ・スケール・メモリのチップ
部の一部を模式的に表した図であり、図中のブロックは
各チップ1を示している。各チップ1間は双方向情報を
やりとりするための信号線2〜5が接続されている。上
記ウエハ・スケール・メモリの各チップ間の信号のやり
とりを具体的に説明する。第4図はAチップ11とBチッ
プ12との間の信号のやりとりを説明するための図であ
り、チップの入出力段のハード的構成を示している。第
4図において、破線で囲んだAチップ11は、Pチャネル
トランジスタTrlおよびNチャネルトランジスタTr2から
なるインバータ13と、PチャネルトランジスタTr3およ
びNチャネルトランジスタTr4からなるインバータ14
と、インバータ14に入力される入力レベルをロウクラン
プするためのNチャネルトランジスタTr5と、により構
成されている。同様に、Bチップ12は信号線15を介して
Aチップ11のインバータ14に信号を出力するPチャネル
トランジスタTr6およびNチャネルトランジスタTr7から
なるインバータ16と、Aチップ11のインバータ13からの
信号が信号線17を介して入力されるPチャネルトランジ
スタTr8およびNチャネルトランジスタTr9からなるイン
バータ18と、インバータ18に入力される入力レベルをロ
ウクランプするためのNチャネルトランジスタTr10と、
により構成されている。なお、インバータ14、18の前段
にトランジスタTr5、Tr10を挿入してロウ側にクランプ
しているのは入力信号としてどのような信号が入力され
るか分からず、Tr5、Tr10を挿入して電圧レベルをクラ
ンプし回路動作の安定化を図るためである。
A conventional wafer scale memory is shown, for example, in FIG. FIG. 3 is a diagram schematically showing a part of a chip portion of the wafer scale memory, and the blocks in the figure show each chip 1. Signal lines 2 to 5 for exchanging bidirectional information are connected between the chips 1. The exchange of signals between the chips of the wafer scale memory will be specifically described. FIG. 4 is a diagram for explaining the exchange of signals between the A chip 11 and the B chip 12, and shows a hardware configuration of an input / output stage of the chip. In FIG. 4, an A chip 11 surrounded by a broken line includes an inverter 13 including a P-channel transistor Trl and an N-channel transistor Tr2, and an inverter 14 including a P-channel transistor Tr3 and an N-channel transistor Tr4.
And an N-channel transistor Tr5 for low-clamping the input level input to the inverter 14. Similarly, the B chip 12 has an inverter 16 composed of a P-channel transistor Tr6 and an N-channel transistor Tr7 for outputting a signal to the inverter 14 of the A chip 11 via a signal line 15, and a signal from the inverter 13 of the A chip 11 An inverter 18 composed of a P-channel transistor Tr8 and an N-channel transistor Tr9 input via a line 17, an N-channel transistor Tr10 for low-clamping an input level input to the inverter 18,
It consists of. The reason that the transistors Tr5 and Tr10 are inserted before the inverters 14 and 18 and clamped to the low side is because it is not known what kind of signal is input as an input signal, and the voltage level is inserted by inserting Tr5 and Tr10. In order to stabilize the circuit operation.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、このような従来のウエハ・スケール半
導体装置にあっては、情報を伝達する側のチップと情報
を受け取る側のチップとは、第4図に示したように単に
信号線15、17により接続されている構成となっていたた
め、仮にあるチップが不良のときには電気的に接続され
ているその隣のチップから不良チップに異常電流が流れ
てしまうという問題点があった。例えば、第4図に示し
たAチップ11に欠陥がある場合、このような不良チップ
はボンディングしないようにするといった対策が採られ
るが、ボンディングしないようにしたとしても隣のBチ
ップ12の高電位電源VCCから信号線15、17を経由してA
チップ11側に異常電流が流れ込んでしまうという事態は
避けられなかった。
However, in such a conventional wafer scale semiconductor device, the chip for transmitting information and the chip for receiving information are simply connected by the signal lines 15 and 17 as shown in FIG. Therefore, when a certain chip is defective, there is a problem that an abnormal current flows from the next electrically connected chip to the defective chip. For example, if the A chip 11 shown in FIG. 4 has a defect, a measure is taken to prevent such a defective chip from being bonded. However, even if the bonding is not performed, the high potential of the adjacent B chip 12 is used. A from power supply V CC via signal lines 15 and 17
The situation that an abnormal current flows into the chip 11 was inevitable.

そこで本発明は、不良チップを電気的に絶縁すること
ができ、不良チップに流れる異常電流を完全に防止する
ことのできるウエハ・スケール半導体装置を提供するこ
とを目的としている。
Therefore, an object of the present invention is to provide a wafer-scale semiconductor device that can electrically insulate a defective chip and completely prevent abnormal current flowing through the defective chip.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明によるウエハ・スケール半導体装置は上記目的
達成のため、ウエハ上の複数のチップを構成要素とし、
欠陥をもつチップを回避してチップ間の通信経路を再構
成し、ウエハ全体に所定の機能をもたせるウエハ・スケ
ール半導体装置において、前記チップに、チップ同士を
つなぐ信号線を遮断する遮断手段を設け、前記遮断手段
は、あるチップに不良があったとき、該不良チップの高
電位側電源へのボンディングを行わないことにより該不
良チップに入出力される信号線を遮断するようにしたこ
とを特徴とする。
A wafer-scale semiconductor device according to the present invention has a plurality of chips on a wafer as constituent elements to achieve the above object,
In a wafer-scale semiconductor device in which a communication path between chips is reconfigured by avoiding a chip having a defect and a predetermined function is provided to the entire wafer, the chip is provided with a cutoff means for cutting off a signal line connecting the chips. The interrupting means interrupts a signal line input / output to / from the defective chip by not performing bonding of the defective chip to a high-potential-side power supply when a certain chip has a defect. And

また、前記遮断手段は、前記信号線の経路中に設けら
れ、ゲートが高電位側電源に接続されたトランジスタ
と、該トランジスタのゲートと低電位側電源との間に接
続された抵抗と、を備えたことを特徴とする。
Further, the blocking means is provided in a path of the signal line, a transistor having a gate connected to a high-potential-side power supply, and a resistor connected between the gate of the transistor and the low-potential-side power supply. It is characterized by having.

〔作用〕[Action]

本発明では、チップの入出力回路にチップ同士をつな
ぐ信号線をカットする遮断手段が設けられ、不良チップ
があると遮断手段により不良チップが電気的に切り離さ
れる。
In the present invention, the input / output circuit of the chip is provided with a cut-off means for cutting a signal line connecting the chips, and when there is a defective chip, the defective chip is electrically disconnected by the cut-off means.

したがって、不良チップの周囲のチップから不良チッ
プに流入する異常電流が確実に防止される。
Therefore, an abnormal current flowing from a chip around the defective chip to the defective chip is reliably prevented.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.

原理説明 第1図は本発明の原理を説明するための図である。第
1図において、21はウエハ・スケール・メモリ(ウエハ
・スケール半導体装置)、22〜25はウエハ・スケール・
メモリ21のチップであり、チップ22〜25は信号線31〜38
によりそれぞれ接続され、信号線31〜38にはあるチップ
に不良があった場合その不良チップを電気的に切り離す
ためのスイッチ(遮断手段)41〜48が設けられている。
Explanation of principle FIG. 1 is a diagram for explaining the principle of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 21 denotes a wafer scale memory (wafer scale semiconductor device), and reference numerals 22 to 25 denote a wafer scale memory.
The memory 21 is a chip, and the chips 22 to 25 are signal lines 31 to 38.
, And switches (cutoff means) 41 to 48 for electrically disconnecting the defective chip when a certain chip has a defect are provided on the signal lines 31 to 38.

したがって、チップ−チップ間のやりとりの信号線31
〜38にスイッチ41〜48を設け、異常電流源チップ25があ
ると異常チップ25に接続されるスイッチ45〜48により異
常チップ25を切り離しているため、異常チップ25はその
周辺のチップ23、24から絶縁され、周辺のチップ23、24
から異常チップ25への異常電流の流入が完全に防止され
る。
Therefore, the signal line 31 for chip-to-chip exchange
38, switches 41 to 48 are provided, and if there is an abnormal current source chip 25, the abnormal chip 25 is separated by the switches 45 to 48 connected to the abnormal chip 25. Insulated from surrounding chips 23, 24
The abnormal current from flowing into the abnormal chip 25 is completely prevented.

一実施例 上記原理に基づく実際の装置を実施例として説明す
る。第2図は本発明に係るウエハ・スケール半導体装置
の一実施例を示す図であり、第2図に示した従来例と同
一構成部分には同一番号・符号を付している。第2図は
ウエハ・スケール半導体装置内の一部のチップ(Aチッ
プ51、Bチップ52)を抽出した図であり、Aチップ51の
出力段はPチャネルトランジスタTr1およびNチャネル
トランジスタTr2からなるインバータ13と、信号線17経
路中に設けられ、ゲートが高電位側電源VCCに接続され
たNチャネルトランジスタTr11(遮断手段)と、トラン
ジスタTr11のゲートと低電位側電源VSS(あるいはVBB
との間に接続された高低抗R1と、により構成され、ま
た、Aチップ51の入力段はPチャネルトランジスタTr3
およびNチャネルトランジスタTr4からなるインバータ1
4と、インバータ14に入力される入力レベルをロウクラ
ンプするためのNチャネルトランジスタTr5と、信号線1
5経路中に設けられ、ゲートが電源VCCに接続されたNチ
ャネルトランジスタTr12(遮断手段)と、トランジスタ
Tr12のゲートと電源VSSとの間に接続された高抵抗R2
と、により構成されている。
One Embodiment An actual device based on the above principle will be described as an embodiment. FIG. 2 is a view showing one embodiment of a wafer scale semiconductor device according to the present invention, and the same components as those of the conventional example shown in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals and symbols. FIG. 2 is a diagram in which some chips (A chip 51 and B chip 52) in the wafer scale semiconductor device are extracted, and the output stage of the A chip 51 has an inverter composed of a P-channel transistor Tr1 and an N-channel transistor Tr2. 13, an N-channel transistor Tr11 (blocking means) provided in the path of the signal line 17 and having a gate connected to the high-potential-side power supply V CC , and a gate of the transistor Tr11 and the low-potential-side power supply V SS (or V BB )
And an input stage of the A chip 51 is a P-channel transistor Tr3.
And an inverter 1 consisting of an N-channel transistor Tr4
4, an N-channel transistor Tr5 for low-clamping the input level input to the inverter 14, and a signal line 1
An N-channel transistor Tr12 (interrupting means) provided in five paths and having a gate connected to the power supply V CC ,
High resistance R2 connected between the gate of Tr12 and the power supply V SS
, And is constituted.

同様に、Bチップ52の出力段は信号線15を介してAチ
ップ11のインバータ14に信号を出力するPチャネルトラ
ンジスタTr6およびNチャネルトランジスタTr7からなる
インバータ16と、信号線15経路中に設けられ、ゲートが
電源VCCに接続されたNチャネルトランジスタTr13(遮
断手段)と、トランジスタTr13のゲートと電源VSS(あ
るいはVBB)との間に接続された高抵抗R3と、により構
成され、また、Bチップ52の入力段は、Aチップ11のイ
ンバータ13からの信号が信号線17を介して入力されるP
チャネルトランジスタTr8およびNチャネルトランジス
タTr9からなるインバータ18と、インバータ18に入力さ
れる入力レベルをロウクランプするためのNチャネルト
ランジスタTr10と、信号線17経路中に設けられ、ゲート
が電源VCCに接続されたNチャネルトランジスタTr14
(遮断手段)と、トランジスタTr14のゲートと電源VSS
との間に接続された高抵抗R4と、により構成されてい
る。したがって、Aチップ51からBチップ52への信号線
17にはトランジスタTr11、Tr14と、それぞれのトランジ
スタTr11、Tr14のゲートに高低抗R1、R4が接続され、B
チップ52からAチップ51への信号線15にはトランジスタ
Tr12、Tr13と、それぞれのトランジスタTr11、Tr14のゲ
ートに高抵抗R2、R3が接続される。なお、第2図はウエ
ハ・スケール・メモリが有する多数のチップのうち、隣
り合う一対のチップ(Aチップ51、Bチップ52)の入出
力段のみを示したものであり、実際には第3図に示した
ように前後、左右隣り合う全てのチップに同様の信号線
とトランジスタおよび高抵抗からなるスイッチが接続さ
れている。
Similarly, the output stage of the B chip 52 is provided in a path of the signal line 15 and an inverter 16 including a P-channel transistor Tr6 and an N-channel transistor Tr7 for outputting a signal to the inverter 14 of the A chip 11 via the signal line 15. An N-channel transistor Tr13 (blocking means) having a gate connected to the power supply V CC , and a high resistance R3 connected between the gate of the transistor Tr13 and the power supply V SS (or V BB ), , The input stage of the B chip 52 receives the signal from the inverter 13 of the A chip 11 via the signal line 17 to the P stage.
An inverter 18 composed of a channel transistor Tr8 and an N-channel transistor Tr9, an N-channel transistor Tr10 for low-clamping the input level input to the inverter 18, and a signal line 17 provided in the path, and a gate connected to the power supply V CC N-channel transistor Tr14
(Cutoff means), the gate of transistor Tr14 and power supply V SS
And a high resistance R4 connected between them. Therefore, the signal line from the A chip 51 to the B chip 52
17 is connected to transistors Tr11 and Tr14, and high and low resistances R1 and R4 are connected to the gates of the transistors Tr11 and Tr14, respectively.
The signal line 15 from the chip 52 to the A chip 51 is a transistor
High resistances R2 and R3 are connected to the gates of Tr12 and Tr13 and the respective transistors Tr11 and Tr14. FIG. 2 shows only an input / output stage of a pair of adjacent chips (A chip 51 and B chip 52) among a large number of chips of the wafer scale memory. As shown in the figure, a similar signal line, a switch composed of a transistor and a high resistance is connected to all chips adjacent to the front, rear, left and right.

以上の構成において、Aチップ51にVSSとVBBのショー
トがあると仮定し、Aチップ51のVCCをボンディングし
ないようにしたとすると、トランジスタTr11、Tr12のゲ
ートは高低抗R1、R2を介してVSS(あるいはVBB)に接続
されているため、VCCをボンティングしないことにより
トランジスタTr11、Tr12のゲートがLレベルに落ち、ト
ランジスタTr11、Tr12はカットオフ状態となる。これに
より、Aチップ51とBチップ52とは電気的に完全に絶縁
され、Bチップ52からAチップ51への異常電流の流入が
防止される。特に、本実施例では信号線17、15にトラン
ジスタTr11〜Tr14を挿入し、そのゲートをVCCに接続す
るとともに、そのゲートを高低抗R1〜R4を介してVSS
接続するようにしているため、欠陥チップのボンディン
グを避けることそれ自体が直ちに信号線のカットにつな
がることになり、従来例に比べて作業工程の増加を招く
こともない。したがって、簡単な回路構成により、ボン
ディングの有無では遮断できなかったウェハ内の異常電
流を確実に防止することができ、ウエハ・スケール半導
体装置の欠陥回避技術を向上させることができる。
In the above configuration, assuming that there is a short circuit between V SS and V BB in the A chip 51 and does not bond the V CC of the A chip 51, the gates of the transistors Tr11 and Tr12 have high and low resistances R1 and R2. because it is connected to V SS (or V BB) through the gate of the transistor Tr11, Tr12 by not Bonding the V CC falls to L level, the transistors Tr11, Tr12 is cut off. As a result, the A chip 51 and the B chip 52 are completely electrically insulated from each other, and the flow of an abnormal current from the B chip 52 to the A chip 51 is prevented. In particular, in the present embodiment inserts a transistor Tr11~Tr14 to the signal lines 17 and 15, as well as a gate connected to V CC, and so as to connect the gate to V SS via a high resistance R1~R4 Therefore, avoiding bonding of a defective chip itself directly leads to cutting of the signal line, and does not cause an increase in the number of working steps as compared with the conventional example. Therefore, with a simple circuit configuration, it is possible to reliably prevent abnormal current in the wafer that could not be cut off with or without bonding, and to improve the defect avoidance technology of the wafer-scale semiconductor device.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明によれば、不良チップを電気的に絶縁すること
ができ、不良チップに流れる異常電流を完全に防止する
ことができる。
According to the present invention, a defective chip can be electrically insulated, and abnormal current flowing through the defective chip can be completely prevented.

【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の原理説明図、 第2図は本発明に係るウエハ・スケール半導体装置の一
実施例を示すチップの入出力回路図、 第3、4図は従来のウエハ・スケール半導体装置を示す
図であり、 第3図はそのチップ間の接続状態を示す図、 第4図はそのチップの入出力回路図である。 13、14、16、18……インバータ、15、17……信号線、21
……ウエハ・スケール・メモリ(ウエハ・スケール半導
体装置)、22〜24……正常チップ、25……異常チップ、
31〜38……信号線、41〜48……スイッチ(遮断手段)、
51……Aチップ、52……Bチップ、Tr1、Tr3、Tr6、Tr8
……Pチャネルトランジスタ、Tr2、Tr4、Tr5、Tr7、Tr
9、Tr10……Nチャネルトランジスタ、Tr11〜Tr14……
Nチャネルトランジスタ(遮断手段)、R1〜R4……高抵
抗、VCC……高電位側電源、VSS(VBB)……低電位側電
源。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view for explaining the principle of the present invention, FIG. 2 is an input / output circuit diagram of a chip showing one embodiment of a wafer-scale semiconductor device according to the present invention, and FIGS. FIG. 3 is a diagram showing a conventional wafer scale semiconductor device, FIG. 3 is a diagram showing a connection state between chips, and FIG. 4 is an input / output circuit diagram of the chip. 13, 14, 16, 18 ... inverter, 15, 17 ... signal line, 21
…… Wafer-scale memory (wafer-scale semiconductor device), 22-24… Normal chip, 25 …… Abnormal chip,
31-38: signal line, 41-48: switch (cutoff means),
51 A chip, 52 B chip, Tr1, Tr3, Tr6, Tr8
...... P-channel transistor, Tr2, Tr4, Tr5, Tr7, Tr
9, Tr10: N-channel transistor, Tr11 to Tr14 ...
N-channel transistor (blocking means), R1 to R4: high resistance, V CC: high-potential power supply, V SS (V BB ): low-potential power supply.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 27/04 M ──────────────────────────────────────────────────の Continued on front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H01L 27/04 M

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ウエハ上の複数のチップを構成要素とし、
欠陥をもつチップを回避してチップ間の通信経路を再構
成し、ウエハ全体に所定の機能をもたせるウエハ・スケ
ール半導体装置において、 前記チップに、チップ同士をつなぐ信号線を遮断する遮
断手段を設け、 前記遮断手段は、 あるチップに不良があったとき、該不良チップの高電位
側電源(VCC)へのボンディングを行わないことにより
該不良チップに入出力される信号線を遮断するようにし
たこと を特徴とするウエハ・スケール半導体装置。
A plurality of chips on a wafer as constituent elements;
In a wafer scale semiconductor device in which a communication path between chips is reconfigured by avoiding a chip having a defect and a predetermined function is provided to the entire wafer, the chip is provided with a cutoff means for cutting off a signal line connecting the chips. The interrupting means is configured to interrupt a signal line input / output to / from the defective chip by not bonding the defective chip to a high-potential-side power supply (V CC ) when the defective chip is defective. A wafer-scale semiconductor device.
【請求項2】前記遮断手段は、前記信号線(15、17)の
経路中に設けられ、ゲートが高電位側電源(VCC)に接
続されたトランジスタ(Tr11、Tr12、Tr13、Tr14)と、 該トランジスタ(Tr11、Tr12、Tr13、Tr14)のゲートと
低電位側電源(VSS)との間に接続された抵抗(R1、R
2、R3、R4)と、 を備えたことを特徴とする請求項(1)記載のウエハ・
スケール半導体装置。
2. The circuit according to claim 1, wherein said shut-off means is provided in a path of said signal line, and has a gate connected to a high-potential-side power supply (V cc ) and transistors (Tr11, Tr12, Tr13, Tr14). The resistors (R1, R2) connected between the gates of the transistors (Tr11, Tr12, Tr13, Tr14) and the low-potential-side power supply (V SS )
2, R3, R4), and the following.
Scale semiconductor device.
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