JP3038457B2 - Silver halide photographic light-sensitive material and photographic image forming method using the same - Google Patents

Silver halide photographic light-sensitive material and photographic image forming method using the same

Info

Publication number
JP3038457B2
JP3038457B2 JP4257576A JP25757692A JP3038457B2 JP 3038457 B2 JP3038457 B2 JP 3038457B2 JP 4257576 A JP4257576 A JP 4257576A JP 25757692 A JP25757692 A JP 25757692A JP 3038457 B2 JP3038457 B2 JP 3038457B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
atom
embedded image
silver halide
substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP4257576A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH06180476A (en
Inventor
利秀 江副
和信 加藤
一巳 新居
寿 岡村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP4257576A priority Critical patent/JP3038457B2/en
Publication of JPH06180476A publication Critical patent/JPH06180476A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3038457B2 publication Critical patent/JP3038457B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料に関し、特に写真製版用に用いられる超硬調ハロゲ
ン化銀写真感光材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic material and, more particularly, to a super-high contrast silver halide photographic material used for photolithography.

【0002】[0002]

【従来の技術】ヒドラジン化合物をハロゲン化銀写真乳
剤や現像液に添加することは、米国特許第3,730,
727号(アスコルビン酸とヒドラジンとを組合せた現
像液)、同3,227,552号(直接ポジカラー像を
得るための補助現像薬としてヒドラジンを使用)、同
3,386,831号(ハロゲン化銀感材の安定剤とし
て脂肪族カルボン酸のβ−モノ−フェニルヒドラジドを
含有)、同2,419,975号や、ミース(Mees) 著
ザ・セオリー・オブ・フォトグラフィック・プロセス
(The Theory of Photographic Process)第3版(196
6年)281頁等で知られている。これらの中で、特
に、米国特許第2,419,975号では、ヒドラジン
化合物の添加により硬調なネガチブ画像を得ることが、
開示されている。同特許明細書には塩臭化銀乳剤にヒド
ラジン化合物を添加し、12.8というような高いpHの
現像液で現像すると、ガンマ(γ)が10をこえる極め
て硬調な写真特性が得られることが記載されている。し
かし、pHが13に近い強アルカリ現像液は、空気酸化さ
れ易く不安定で、長時間の保存や使用に耐えない。ヒド
ラジン化合物を含むハロゲン化銀感光材料を、より低い
pHの現像液で現像し、硬調な画像を作成する工夫が試み
られている。
BACKGROUND OF THE INVENTION The addition of hydrazine compounds to silver halide photographic emulsions and developers is disclosed in U.S. Pat.
No. 727 (a developing solution combining ascorbic acid and hydrazine), No. 3,227,552 (using hydrazine as an auxiliary developing agent for directly obtaining a positive color image), No. 3,386,831 (silver halide) (Containing β-mono-phenylhydrazide of an aliphatic carboxylic acid as a stabilizer for a light-sensitive material), 2,419,975, and Mees, The Theory of Photographic Process
(The Theory of Photographic Process) Third Edition (196
6) 281 pages. Among them, in particular, US Pat. No. 2,419,975 discloses that a high contrast negative image can be obtained by adding a hydrazine compound.
It has been disclosed. The patent discloses that when a hydrazine compound is added to a silver chlorobromide emulsion and developed with a developer having a high pH such as 12.8, extremely hard photographic characteristics with a gamma (γ) exceeding 10 can be obtained. Is described. However, a strong alkaline developer having a pH close to 13 is liable to be oxidized by air and is unstable, and cannot withstand long-term storage or use. Silver halide photosensitive materials containing hydrazine compounds
There have been attempts to develop a high-contrast image by developing with a pH developer.

【0003】特開平1−179939、および特開平1
−179940には、ハロゲン化銀乳剤粒子に対する吸
着基を有する造核現像促進剤と、同じく吸着基を有する
造核剤とを含む感材を用いて、pH11.0以下の現像液
で現像する処理方法が記載されている。しかしながら、
吸着基を有する化合物は、ハロゲン化銀乳剤に添加する
と、ある限界量を越えると感光性を損ったり、現像を抑
制したり、あるいは他の有用な吸着製添加物の作用を妨
げたりする害を有するため、使用量が制限され、充分な
硬調性を発現できない。
[0003] JP-A-1-179939 and JP-A-Hei-1
No. 179940, a process of developing with a developer having a pH of 11.0 or less using a sensitizing material containing a nucleation development accelerator having an adsorptive group for silver halide emulsion grains and a nucleating agent also having an adsorptive group. A method is described. However,
When a compound having an adsorptive group is added to a silver halide emulsion, if it exceeds a certain limit amount, it may impair photosensitivity, inhibit development, or hinder the action of other useful adsorptive additives. Therefore, the amount used is limited, and sufficient high contrast cannot be exhibited.

【0004】米国特許第4998604号、同4994
365号には、エチレンオキシドの繰り返し単位を有す
るヒドラジン化合物、およびピリジニウム基を有するヒ
ドラジン化合物が開示されている。しかしながら、これ
らの実施例で明らかなように、硬調性が充分でなく、実
用的な現像処理条件で硬調性と必要なDmaxを得ることは
困難である。また、ヒドラジン誘導体を用いた造核硬調
感材は、現像液のpHの変化に伴う写真性の変化幅が大き
い。現像液のpHは、現像液の空気酸化、および水の蒸発
による濃厚化による上昇、または空気中の二酸化炭素の
吸収による低下などにより、大きく変動する。従って、
写真性能の現像液pH依存性を小さくする工夫が試みられ
ている。以上の様に、従来の技術ではpH11未満の現像
液で処理しても充分な硬調性を示し、かつ写真性能の現
像液pH依存性の小い感材を得ることはできなかった。
US Pat. Nos. 4,998,604 and 4,994
No. 365 discloses a hydrazine compound having a repeating unit of ethylene oxide and a hydrazine compound having a pyridinium group. However, as is apparent from these examples, the high contrast is not sufficient, and it is difficult to obtain the high contrast and the necessary Dmax under practical development conditions. The nucleation hard contrast material using a hydrazine derivative has a large change in photographic properties due to a change in pH of a developer. The pH of the developer greatly varies due to an increase due to air oxidation of the developer and concentration due to evaporation of water, or a decrease due to absorption of carbon dioxide in the air. Therefore,
Attempts have been made to reduce the developer pH dependence of photographic performance. As described above, in the prior art, even when processed with a developer having a pH of less than 11, it was not possible to obtain a light-sensitive material exhibiting sufficient contrast and having a small dependence of photographic performance on the pH of the developer.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、第1に安定な現像液を用いてガンマが10を越える
極めて硬調なネガ階調の写真性を得ることができるハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することである。本発明の
第2の目的は、写真性能の現像液pH依存性の小さいハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することである。本発明の
第3の目的は、pH11以下の現像液で硬調化できるハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is firstly to provide a silver halide photographic material capable of obtaining extremely hard negative gradation photographic properties having a gamma exceeding 10 using a stable developing solution. It is to provide a photosensitive material. A second object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material in which the photographic performance has little dependence on the developer pH. A third object of the present invention is to provide a silver halide photographic material which can be hardened with a developer having a pH of 11 or less.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は、
支持体上に、少なくとも一つの感光性ハロゲン化銀乳剤
層を有し、該層および/又は、隣接する親水性コロイド
層に、一般式(I)で表わされるヒドラジン誘導体の少
なくとも一種と一般式(II)、(III)、(IV)、(V)
及び(VI)で表わされる化合物から選ばれる少なくとも
一種の化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。
SUMMARY OF THE INVENTION The above objects of the present invention are as follows.
At least one photosensitive silver halide emulsion layer is provided on a support, and at least one hydrazine derivative represented by the general formula (I) and a general formula (I) II), (III), (IV), (V)
And at least one compound selected from the compounds represented by (VI).

【0007】[0007]

【化7】 Embedded image

【0008】R1 は脂肪族基、芳香族基または、複素環
基を表わし、置換されていてもよい。Gは−CO−基、
−SO2 −基、−SO−基、−COCO−基、チオカル
ボニル基、イミノメチレン基または−P(O)(R4
−基を表わし、R2 はGで置換された炭素原子が少なく
とも1つの電子吸引基で置換された置換アルキル基を表
わす。R4 は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基またはアミノ基を表わす。
R 1 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and may be substituted. G is a -CO- group,
—SO 2 — group, —SO— group, —COCO— group, thiocarbonyl group, iminomethylene group or —P (O) (R 4 )
R 2 represents a substituted alkyl group in which a carbon atom substituted by G is substituted by at least one electron-withdrawing group. R 4 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group or an amino group.

【0009】[0009]

【化8】 Embedded image

【0010】式中、Yはハロゲン化銀に吸着する基を表
わす。Xは水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子から選ばれた原子または原子群よりなる2価の
連結基を表わす。Aは2価の連結基を表わす。Bはアミ
ノ基、アンモニウム基および含窒素ヘテロ環を表わし、
アミノ基は置換されていてもよい。mは1、2又は3を
表わし、nは0又は1を表わす。
In the formula, Y represents a group adsorbed on silver halide. X represents a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom,
It represents a divalent linking group consisting of an atom or an atom group selected from sulfur atoms. A represents a divalent linking group. B represents an amino group, an ammonium group and a nitrogen-containing heterocycle,
The amino group may be substituted. m represents 1, 2 or 3, and n represents 0 or 1.

【0011】[0011]

【化9】 Embedded image

【0012】式中、R1 、R2 は各々水素原子又は脂肪
族残基を表わす。R1 とR2 は互に結合して環を形成し
てもよい。R3 は二価の脂肪族基を表わす。X1 は窒
素、酸素もしくは硫黄原子を含む二価のヘテロ環を表わ
す。nは0または1を表わす。Mは水素原子、アルカリ
金属、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホ
スホニウム塩又は、アミジノ基を表わす。
In the formula, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or an aliphatic residue. R 1 and R 2 may combine with each other to form a ring. R 3 represents a divalent aliphatic group. X 1 represents a divalent hetero ring containing a nitrogen, oxygen or sulfur atom. n represents 0 or 1. M represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt, or an amidino group.

【0013】[0013]

【化10】 Embedded image

【0014】式中、R11およびR12は各々水素原子、炭
素数1〜30のアルキル基、炭素数3〜30のアルケニ
ル基または炭素数7〜30のアラルキル基を表わす。但
しR11とR12が同時にアルキル基を表わす時は、R11
12の炭素数は10以上を表わす。またR11とR12は同
時に水素原子を表わすことはなく、互いに結合して環を
形成してもよい。nは2〜50の整数を表わす。R13
14、R15およびR16は各々水素原子または炭素数1〜
4のアルキル基を表わす。
In the formula, R 11 and R 12 each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 30 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms. However, when R 11 and R 12 simultaneously represent an alkyl group, R 11 +
R 12 represents 10 or more carbon atoms. R 11 and R 12 do not represent a hydrogen atom at the same time, and may combine with each other to form a ring. n represents an integer of 2 to 50. R 13 ,
R 14 , R 15 and R 16 each represent a hydrogen atom or a carbon atom
4 represents an alkyl group.

【0015】[0015]

【化11】 Embedded image

【0016】R11とR12は一般式(IV)におけると同じ
であり、R11′とR12′はR11とR12と同意義を表わ
す。
R 11 and R 12 are the same as those in formula (IV), and R 11 ′ and R 12 ′ have the same meaning as R 11 and R 12 .

【0017】[0017]

【化12】 Embedded image

【0018】X、Y、Bは一般式(II)におけると同じ
であり、A0 は少なくとも2つのアルキレンオキシユニ
ットを有する2価の連結基を表わす。mは1、2または
3を表し、nは0または1を表す。
X, Y and B are the same as those in formula (II), and A 0 represents a divalent linking group having at least two alkyleneoxy units. m represents 1, 2 or 3, and n represents 0 or 1.

【0019】次に一般式(I)で表わされる化合物につ
いてさらに詳細に説明する。一般式(I)において、R
1 で表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアル
キル基、アルケニル基またはアルキニル基である。R1
で表わされる芳香族基としては、単環又は2環のアリー
ル基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基があげら
れる。R1 のヘテロ環としては、N、O、又はS原子の
うち少なくともひとつを含む3〜10員の飽和もしくは
不飽和のヘテロ環であり、これらは単環であってもよい
し、さらに他の芳香族もしくはヘテロ環と縮合環を形成
してもよい。ヘテロ環として好ましくは、5ないし6員
の芳香族ヘテロ環基であり、例えば、ピリジン基、イミ
ダゾリル基、キノリニル基、ベンズイミダゾリル基、ピ
リミジル基、ピラゾリル基、イソキノリニル基、チアゾ
リン基、ベンズチアゾリル基を含むものが好ましい。R
1 として好ましいのは、芳香族基、含窒素複素環および
一般式(b)で表わされる基である。
Next, the compound represented by formula (I) will be described in more detail. In the general formula (I), R
The aliphatic group represented by 1 is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. R 1
The aromatic group represented by is a monocyclic or bicyclic aryl group, for example, a phenyl group and a naphthyl group. The hetero ring of R 1 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated hetero ring containing at least one of N, O, and S atoms, which may be a single ring, A condensed ring may be formed with an aromatic or hetero ring. The heterocycle is preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic group, and includes, for example, a pyridine group, an imidazolyl group, a quinolinyl group, a benzimidazolyl group, a pyrimidyl group, a pyrazolyl group, an isoquinolinyl group, a thiazoline group, and a benzothiazolyl group. Are preferred. R
Preferred as 1 is an aromatic group, a nitrogen-containing heterocyclic ring and a group represented by the general formula (b).

【0020】[0020]

【化13】 Embedded image

【0021】(式中、、Xb は芳香族基または含窒素複
素環基を表わし、Rb 1 〜Rb 4 は各々水素原子、ハロ
ゲン原子、またはアルキル基を表わし、Xb およびRb
1 〜Rb 4 は可能な場合には置換基を有していてもよ
い。rおよびsは0または1を表わす。)R1 としてよ
り好ましくは芳香族基であり、特にアリール基が好まし
い。R1 は置換基で置換されていてもよい。置換基の例
としては、例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置換
アミノ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、アルキルお
よびアリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキ
シカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基などの他、以下の一般式(c)で表わされる基
が挙げられる。
[0021] (wherein ,, X b represents an aromatic group or a nitrogen-containing heterocyclic group, R b 1 to R b 4 each represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group,, X b and R b
May have a substituent in the case 1 to R b 4 is possible. r and s represent 0 or 1. ) R 1 is more preferably an aromatic group, particularly preferably an aryl group. R 1 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include, for example, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, an aryloxy group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonyl group, and a sulfinyl. Group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group or carboxyl group, alkyl and aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group, carbonamide group,
In addition to a sulfonamide group, a nitro group, an alkylthio group, an arylthio group and the like, a group represented by the following general formula (c) can be mentioned.

【0022】[0022]

【化14】 Embedded image

【0023】式(c)中、Yc は−CO−、−SO
2 −、−P(O)(Rc3)−(式中Rc3はアルコキシ
基、またはアリールオキシ基を表わす。)または−OP
(O)(Rc3)−を表わし、Lは単結合、−O−、−S
−、または−NRc4−(式中Rc4は水素原子、アルキル
基、アリール基を表わす。)を表わす。Rc1およびRc2
は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表わ
し、同じであっても異なっても良く、また互いに結合し
て環形成しても良い。またR1 は一般式(c)を1つま
たは複数個含むことができる。
In the formula (c), Y c is -CO-, -SO
2- , -P (O) (R c3 )-(where R c3 represents an alkoxy group or an aryloxy group) or -OP
(O) (R c3 )-, where L is a single bond, -O-, -S
— Or —NR c4 — (wherein R c4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group). R c1 and R c2
Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, which may be the same or different, and may be bonded to each other to form a ring. R 1 may include one or more of the general formula (c).

【0024】一般式(c)において、Rc1で表わされる
脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケ
ニル基またはアルキニル基である。Rc1で表わされる芳
香族基としては、単環又は2環のアリール基であり、例
えばフェニル基、ナフチル基があげられる。Rc1のヘテ
ロ環としては、N、O、又はS原子のうち少なくともひ
とつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環
であり、これらは単環であってもよいし、さらに他の芳
香族もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテ
ロ環として好ましくは、5ないし6員の芳香族ヘテロ環
基であり、例えば、ピリジン基、イミダゾリル基、キノ
リニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジル基、ピラ
ゾリル基、イソキノリニル基、チアゾリル基、ベンズチ
アゾリル基を含むものが好ましい。Rc1は置換基で置換
されていてもよい。置換基としては、例えば以下のもの
があげられる。これらの基は更に置換されていてもよ
い。例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ
基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド
基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、ア
ルキルおよびアリールオキシカルボニル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンア
ミド基、スルホンアミド基、ニトロ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基などである。これらの基は可能なと
きは互いに連結して環を形成してもよい。
In the general formula (c), the aliphatic group represented by R c1 is a linear, branched or cyclic alkyl, alkenyl or alkynyl group. The aromatic group represented by R c1 is a monocyclic or bicyclic aryl group, such as a phenyl group and a naphthyl group. The hetero ring of R c1 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated hetero ring containing at least one of N, O, and S atoms, which may be a single ring, or other ring. A condensed ring may be formed with an aromatic or hetero ring. The heterocyclic ring is preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group, and includes, for example, a pyridine group, an imidazolyl group, a quinolinyl group, a benzimidazolyl group, a pyrimidyl group, a pyrazolyl group, an isoquinolinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group. Are preferred. R c1 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include the following. These groups may be further substituted. For example, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group,
Alkynyl, alkoxy, aryl, substituted amino, acylamino, sulfonylamino, ureido, urethane, aryloxy, sulfamoyl, carbamoyl, alkylthio, arylthio, sulfonyl, sulfinyl, hydroxy , Halogen atom, cyano group, sulfo group or carboxyl group, alkyl and aryloxycarbonyl group, acyl group,
Examples thereof include an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbonamido group, a sulfonamido group, a nitro group, an alkylthio group, and an arylthio group. When possible, these groups may be linked to each other to form a ring.

【0025】一般式(c)におけるRc2で表わされる脂
肪族基は、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケ
ニル基またはアルキニル基である。Rc2で表わされる芳
香族基としては、単環又は2環のアリール基であり、例
えばフェニル基が挙げられる。Rc2は置換基で置換され
ていてもよい。置換基としては例えば一般式(c)にお
けるRc1と置換基として列挙したものが挙げられる。ま
た、Rc1とRc2は可能な場合には互いに連結して環を形
成してもよい。Rc2としては水素原子がより好ましい。
一般式(c)におけるYc としては−CO−、−SO2
−が特に好ましく、Lは単結合および−NRc4−が好ま
しい。
The aliphatic group represented by R c2 in the general formula (c) is a linear, branched or cyclic alkyl, alkenyl or alkynyl group. The aromatic group represented by R c2 is a monocyclic or bicyclic aryl group, such as a phenyl group. R c2 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include those listed as R c1 and the substituent in the general formula (c). R c1 and R c2 may be linked to each other to form a ring, if possible. R c2 is more preferably a hydrogen atom.
In formula (c), Y c represents —CO— or —SO 2
Is particularly preferred, and L is preferably a single bond or -NR c4- .

【0026】一般式(c)におけるRc4で表わされる脂
肪族基は、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、アルケニ
ル基又はアルキニル基である。Rc4で表わされる芳香族
基としては、単環又は2環のアリール基であり、例えば
フェニル基が挙げられる。Rc4は置換基で置換されてい
てもよい。置換基としては例えば一般式(c)における
c1の置換基として列挙したものがあげられる。Rc4
しては水素原子がより好ましい。
The aliphatic group represented by R c4 in the general formula (c) is a linear, branched or cyclic alkyl, alkenyl or alkynyl group. The aromatic group represented by R c4 is a monocyclic or bicyclic aryl group, such as a phenyl group. R c4 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include those listed as the substituent of R c1 in the general formula (c). R c4 is more preferably a hydrogen atom.

【0027】一般式(I)のGとしては−CO−基が最
も好ましい。一般式(I)のR2 は、Gで置換された炭
素原子が少なくとも1つの電子吸引基で置換された置換
アルキル基を表わし、好ましくは、2つの電子吸引基
で、特に好ましくは3つの電子吸引基で置換された置換
アルキル基を表わす。R2 のGで置換された炭素原子を
置換する電子吸引基は好ましくはσp値が0.2以上、
σm値が0.3以上のもので例えば、ハロゲン、シア
ノ、ニトロ、ニトロソポリハロアルキル、ポリハロアリ
ール、アルキルもしくはアリールカルボニル基、ホルミ
ル基、アルキルもしくはアリールオキシカルボニル基、
アルキルカルボニルオキシ基、カルバモイル基、アルキ
ルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくは
アリールスルホニル基、アルキルもしくはアリールスル
ホニルオキシ基、スルファモイル基、ホスフィノ基、ホ
スフィンオキシド基、ホスホン酸エステル基、ホスホン
酸アミド基、アリールアゾ基、アミジノ基、アンモニオ
基、スルホニオ基、電子欠乏性複素環基を表わす。一般
式(I)のR2 は特に好ましくはトリフルオロメチル基
を表わす。
The G in the general formula (I) is most preferably a -CO- group. R 2 in the general formula (I) represents a substituted alkyl group in which a carbon atom substituted by G is substituted with at least one electron-withdrawing group, preferably two electron-withdrawing groups, and particularly preferably three electron-withdrawing groups. Represents a substituted alkyl group substituted with a suction group. The electron withdrawing group for substituting the carbon atom substituted with G in R 2 preferably has a σp value of 0.2 or more,
σm value of 0.3 or more, for example, halogen, cyano, nitro, nitrosopolyhaloalkyl, polyhaloaryl, alkyl or arylcarbonyl group, formyl group, alkyl or aryloxycarbonyl group,
Alkylcarbonyloxy group, carbamoyl group, alkyl or arylsulfinyl group, alkyl or arylsulfonyl group, alkyl or arylsulfonyloxy group, sulfamoyl group, phosphino group, phosphine oxide group, phosphonate ester group, phosphonamide group, arylazo group, It represents an amidino group, an ammonio group, a sulfonio group, or an electron-deficient heterocyclic group. R 2 in the general formula (I) particularly preferably represents a trifluoromethyl group.

【0028】一般式(I)のR1 、R2 、はその中にカ
プラー等の不動性写真用添加剤において常用されている
バラスト基またはポリマーが組み込まれているものでも
よい。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対
して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アル
コキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキ
シ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことがで
きる。またポリマーとして例えば特開平1−10053
0号に記載のものが挙げられる。
R 1 and R 2 in the general formula (I) may have a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more, which is relatively inert to photographic properties. For example, the ballast group is selected from an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, an alkylphenoxy group, and the like. Can be. Further, as a polymer, for example,
No. 0.

【0029】一般式(I)のR1 、R2 はその中にハロ
ゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれ
ているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素
基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリア
ゾール基などの米国特許第4,385,108号、同
4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200,231号、同59−201,04
5号、同59−201,046号、同59−201,0
47号、同59−201,048号、同59−201,
049号、同61−170,733号、同61−27
0,744号、同62−948号、同63−234,2
44号、同63−234,245号、同63−234,
246号に記載された基が挙げられる。以下に本発明に
用いられる化合物を列記するが本発明はこれに限定され
るものではない。
R 1 and R 2 in the general formula (I) may have a group in which a group for enhancing the adsorption to the surface of the silver halide grain is incorporated. Examples of such an adsorbing group include thiourea group, heterocyclic thioamide group, mercapto heterocyclic group, triazole group and the like, US Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,347, and JP-A-59-195,233.
Nos. 59-200, 231 and 59-201, 04
No. 5, 59-201, 046, 59-201, 0
No. 47, 59-201, 048, 59-201,
Nos. 049, 61-170, 733, 61-27
Nos. 0,744, 62-948, 63-234,2
No. 44, No. 63-234, No. 245, No. 63-234,
No. 246. The compounds used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

【0030】[0030]

【化15】 Embedded image

【0031】[0031]

【化16】 Embedded image

【0032】[0032]

【化17】 Embedded image

【0033】[0033]

【化18】 Embedded image

【0034】[0034]

【化19】 Embedded image

【0035】[0035]

【化20】 Embedded image

【0036】[0036]

【化21】 Embedded image

【0037】[0037]

【化22】 Embedded image

【0038】[0038]

【化23】 Embedded image

【0039】本発明のヒドラジン誘導体は対応するヒド
ラジンを、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの縮合
剤存在下に、対応するカルボン酸と反応させたり、スル
ホニルクロリド、アシルクロリドなどの酸ハライドある
いは酸無水物、活性エステルなどと反応させることによ
って合成した。またさらにEWGがR3 SO2 −のとき
は、対応するハロアセチルヒドラジド誘導体とR3 SO
2 Hを塩基の存在下に反応させる方法も利用した。
The hydrazine derivative of the present invention is obtained by reacting the corresponding hydrazine with the corresponding carboxylic acid in the presence of a condensing agent such as dicyclohexylcarbodiimide, or by reacting the corresponding hydrazine with an acid halide such as sulfonyl chloride or acyl chloride, acid anhydride, active ester or the like. The compound was synthesized by reacting Further, when the EWG is R 3 SO 2 —, the corresponding haloacetylhydrazide derivative and R 3 SO 2
A method of reacting 2 H in the presence of a base was also used.

【0040】以下に具体例を示す。 合成例:例示化合物16の合成 窒素雰囲気下、原料化合物A(63.2g)とテトラヒ
ドロフラン(200ml)の混合溶液にトリエチルアミン
(15.3ml)を加え、その混合溶液を5℃に冷却し、
トリフルオロ酢酸無水物(16.9ml)を添加し、室温
で一夜攪拌した。反応液を0.1NHCl水溶液に注ぎ
酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗った。そ
れを、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、酢酸エチルを留
去しシリカゲルクロマトグラフィーにて単離精製し、目
的物(52.1g)を得た。化合物の構造は、nmr スペ
クトル、irスペクトルにより確認した。原料化合物Aの
構造を以下に示す。
The following is a specific example. Synthesis Example: Synthesis of Exemplified Compound 16 Under a nitrogen atmosphere, triethylamine (15.3 ml) was added to a mixed solution of raw material compound A (63.2 g) and tetrahydrofuran (200 ml), and the mixed solution was cooled to 5 ° C.
Trifluoroacetic anhydride (16.9 ml) was added and stirred at room temperature overnight. The reaction solution was poured into 0.1N HCl aqueous solution, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated saline. It was dried over anhydrous magnesium sulfate, ethyl acetate was distilled off, and the residue was isolated and purified by silica gel chromatography to obtain the desired product (52.1 g). The structure of the compound was confirmed by an nmr spectrum and an ir spectrum. The structure of the starting compound A is shown below.

【0041】[0041]

【化24】 Embedded image

【0042】次に一般式(II)で表わされる化合物につ
いてさらに詳細に説明する。Yが表わすハロゲン化銀に
吸着する基としては含窒素複素環化合物があげられる。
Yが含窒素複素環化合物を表わす場合は一般式(II)の
化合物は下記一般式(II−a)で表わされる。
Next, the compound represented by formula (II) will be described in more detail. Examples of the group adsorbed on silver halide represented by Y include a nitrogen-containing heterocyclic compound.
When Y represents a nitrogen-containing heterocyclic compound, the compound of the general formula (II) is represented by the following general formula (II-a).

【0043】[0043]

【化25】 Embedded image

【0044】式中、lは0または1を表わし、mは1、
2または3を表わし、nは0または1を表わす。
〔(X)n −A−B〕m は前記一般式(II)におけるそ
れと同義であり、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子の少なくとも一種の原子から構成される5また
は6員の複素環を形成するのに必要な原子群を表わす。
またこの複素環は炭素芳香環または複素芳香環と縮合し
ていてもよい。
In the formula, 1 represents 0 or 1, m represents 1,
Represents 2 or 3, and n represents 0 or 1.
[(X) n -AB] m has the same meaning as that in formula (II), and Q represents a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom,
A group of atoms necessary to form a 5- or 6-membered heterocyclic ring composed of at least one kind of sulfur atom.
This heterocyclic ring may be condensed with a carbon aromatic ring or a heteroaromatic ring.

【0045】Qによって形成される複素環としては例え
ばそれぞれ置換または無置換のインダゾール類、ベンズ
イミダゾール類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサ
ゾール類、ベンズチアゾール類、イミダゾール類、チア
ゾール類、オキサゾール類、トリアゾール類、テトラゾ
ール類、アザインデン類、ピラゾール類、インドール
類、トリアジン類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリ
ン類等があげられる。
Examples of the heterocyclic ring formed by Q include substituted or unsubstituted indazoles, benzimidazoles, benzotriazoles, benzoxazoles, benzthiazoles, imidazoles, thiazoles, oxazoles, triazoles, Examples include tetrazoles, azaindenes, pyrazoles, indoles, triazines, pyrimidines, pyridines, quinolines and the like.

【0046】Mは水素原子、アルカリ金属原子(例えば
ナトリウム原子、カリウム原子、等)、アンモニウム基
(例えばトリメチルアンモニウム基、ジメチルベンジル
アンモニウム基、等)、アルカリ条件下でM=Hまたは
アルカリ金属原子となりうる基(例えばアセチル基、シ
アノエチル基、メタンスルホニルエチル基、等)を表わ
す。また、これらの複素環はニトロ基、ハロゲン原子
(例えば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト基、シ
アノ基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、t−ブチル基、
シアノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル
基、等)、アリール基(例えばフェニル基、4−メタン
スルホンアミドフェニル基、4−メチルフェニル基、
3,4−ジクロルフェニル基、ナフチル基、等)、アル
ケニル基(例えばアリル基、等)、アラルキル基(例え
ばベンジル基、4−メチルベンジル基、フェネチル基、
等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、
等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、4−メ
トキシフェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例えばメ
チルチオ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、
アリールチオ基(例えばフェニルチオ基)、スルホニル
基(例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、
p−トルエンスルホニル基、等)、カルバモイル基(例
えば無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、フ
ェニルカルバモイル基、等)、スルファモイル基(例え
ば無置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、
フェニルスルファモイル基、等)、カルボンアミド基
(例えばアセトアミド基、ベンズアミド基、等)、スル
ホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼ
ンスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミド基、
等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基、等)、スルホニルオキシ基(例えばメ
タンスルホニルオキシ基、等)、ウレイド基(例えば無
置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド
基、フェニルウレイド基、等)、チオウレイド基(例え
ば無置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、
等)、アシル基(例えばアセチル基、ベンゾイル基、
等)、ヘテロ環基(例えば1−モルホリノ基、1−ピペ
リジノ基、2−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チエ
ニル基、1−ピラゾリル基、1−イミダゾリル基、2−
テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、
等)、オキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル
基、フェノキシカルボニル基、等)、オキシカルボニル
アミノ基(例えばメトキシカルボニルアミノ基、フェノ
キシカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルオキシカ
ルボニルアミノ基、等)、アミノ基(例えば無置換アミ
ノ基、ジメチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、ア
ニリノ基、等)、カルボン酸またはその塩、スルホン酸
またはその塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよ
い。
M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom (for example, sodium atom, potassium atom, etc.), an ammonium group (for example, trimethylammonium group, dimethylbenzylammonium group, etc.), or M = H or an alkali metal atom under alkaline conditions. (For example, acetyl, cyanoethyl, methanesulfonylethyl, etc.). These heterocycles may be nitro group, halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), mercapto group, cyano group, and substituted or unsubstituted alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, t-group). Butyl group,
Cyanoethyl group, methoxyethyl group, methylthioethyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, 4-methanesulfonamidophenyl group, 4-methylphenyl group,
3,4-dichlorophenyl group, naphthyl group, etc.), alkenyl group (eg, allyl group, etc.), aralkyl group (eg, benzyl group, 4-methylbenzyl group, phenethyl group,
Etc.), an alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group,
Etc.), an aryloxy group (for example, phenoxy group, 4-methoxyphenoxy group, etc.), an alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, methoxyethylthio group),
Arylthio group (for example, phenylthio group), sulfonyl group (for example, methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group,
a carbamoyl group (eg, an unsubstituted carbamoyl group, a methylcarbamoyl group, a phenylcarbamoyl group, etc.), a sulfamoyl group (eg, an unsubstituted sulfamoyl group, a methylsulfamoyl group,
Phenylsulfamoyl group, etc.), carbonamide group (eg, acetamido group, benzamide group, etc.), sulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, p-toluenesulfonamide group,
), Acyloxy group (eg, acetyloxy group, benzoyloxy group, etc.), sulfonyloxy group (eg, methanesulfonyloxy group, etc.), ureido group (eg, unsubstituted ureido group, methylureido group, ethylureido group, phenyl) Ureido group, etc.), thioureido group (for example, unsubstituted thioureido group, methylthioureido group,
Etc.), acyl group (for example, acetyl group, benzoyl group,
Heterocyclic group (eg, 1-morpholino group, 1-piperidino group, 2-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-thienyl group, 1-pyrazolyl group, 1-imidazolyl group, 2-
Tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group,
Oxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, etc.), oxycarbonylamino group (eg, methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group, 2-ethylhexyloxycarbonylamino group, etc.), amino group (eg, Unsubstituted amino group, dimethylamino group, methoxyethylamino group, anilino group, etc.), carboxylic acid or a salt thereof, sulfonic acid or a salt thereof, and hydroxy group.

【0047】Xが表わす2価の連結基としては、例え
ば、−S−、−O−、−N(R1)−、−C(O)O−、
−OC(O)−、−C(O)N(R2)−、−N(R3)C
(O)−、−SO2 N(R4)−、−N(R5)SO2 −、
−N(R6)C(O)N(R7)−、−N(R8)C(S)N
(R9)−、−N(R10)C(O)O−、−SO2 −、−
C(O)−、−(O)S(O)O−、−O(O)S
(O)−、等があげられるが、これらの連結基はQとの
間に直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレ
ン基、1−メチルエチレン基、等)を介して結合されて
いてもよい。R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R
7 、R8 、R9 およびR10は水素原子、それぞれ置換も
しくは無置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、n−ブチル基、等)、置換もしくは無
置換のアリール基(例えばフェニル基、2−メチルフェ
ニル基、等)、置換もしくは無置換のアルケニル基(例
えばプロペニル基、1−メチルビニル基、等)、または
置換もしくは無置換のアラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基、等)を表わす。
Examples of the divalent linking group represented by X include -S-, -O-, -N (R 1 )-, -C (O) O-,
-OC (O) -, - C (O) N (R 2) -, - N (R 3) C
(O) -, - SO 2 N (R 4) -, - N (R 5) SO 2 -,
-N (R 6) C (O ) N (R 7) -, - N (R 8) C (S) N
(R 9) -, - N (R 10) C (O) O -, - SO 2 -, -
C (O)-,-(O) S (O) O-, -O (O) S
(O) —, and the like, and these linking groups are linear or branched alkylene groups (for example, methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, hexylene group, 1-methylethylene group) , Etc.). R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R
7 , R 8 , R 9 and R 10 are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, etc.), a substituted or unsubstituted aryl group (eg, Phenyl group, 2-methylphenyl group, etc.), substituted or unsubstituted alkenyl group (eg, propenyl group, 1-methylvinyl group, etc.), or substituted or unsubstituted aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, etc.) ).

【0048】Aは2価の連結基を表わし、2価の連結基
としては直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシ
レン基、1−メチルエチレン基、等)、直鎖または分岐
のアルケニレン基(例えばビニレン基、1−メチルビニ
レン基、等)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例え
ばベンジリデン基、等)、アリーレン基(例えばフェニ
レン、ナフチレン、等)等が挙げられる。Aで表わされ
る上記の基はXとAは任意の組合せで更に置換されてい
てもよい。Bの置換もしくは無置換のアミノ基は一般式
(II−b)で表わされるものである。
A represents a divalent linking group. As the divalent linking group, a linear or branched alkylene group (for example, methylene, ethylene, propylene, butylene, hexylene, 1-methylethylene, Etc.), linear or branched alkenylene groups (eg, vinylene group, 1-methylvinylene group, etc.), linear or branched aralkylene groups (eg, benzylidene group, etc.), arylene groups (eg, phenylene, naphthylene, etc.), etc. Is mentioned. In the above group represented by A, X and A may be further substituted in any combination. The substituted or unsubstituted amino group of B is represented by the general formula (II-b).

【0049】[0049]

【化26】 Embedded image

【0050】式中、R11、R12は同一であっても異なっ
てもよく、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数
1〜30のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル
基を表わし、これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−オクチル
基、アリル基、3−ブテニル基、ベンジル基、1−ナフ
チルメチル基、等)、分岐(例えばiso プロピル基、t
−オクチル基、等)または環状(例えばシクロヘキシル
基、等)、でもよい。
In the formula, R 11 and R 12 may be the same or different and each represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group or aralkyl group having 1 to 30 carbon atoms. The group may be straight-chain (for example, methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, n-octyl, allyl, 3-butenyl, benzyl, 1-naphthylmethyl, etc.), branched (for example, iso propyl group, t
-Octyl group, etc.) or cyclic (eg, cyclohexyl group, etc.).

【0051】又、R11とR12は連結して環を形成しても
よく、その中に1つまたはそれ以上のヘテロ原子(例え
ば酸素原子、硫黄原子、窒素原子など)を含んだ飽和の
ヘテロ環を形成するように環化されていてもよく、例え
ばピロリジル基、ピペリジル基、モルホリノ基などを挙
げることができる。又、R11、R12の置換基としては例
えば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン
原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子であ
る。)、ヒドロキシ基、炭素数20以下のアルコキシカ
ルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基など)、炭素数20以下のアルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、
フェネチルオキシ基など)、炭素数20以下の単環式の
アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、p−トリルオ
キシ基など)、炭素数20以下のアシルオキシ基(例え
ばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など)、炭
素数20以下のアシル基(例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メシル基など)、カルバモイル
基(例えばカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニ
ル基など)、スルファモイル基(例えばスルファモイル
基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノス
ルホニル基、ピペリジノスルホニル基など)、炭素数2
0以下のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プ
ロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メシルアミ
ノ基など)、スルホンアミド基(エチルスルホンアミド
基、p−トルエンスルホンアミド基など)、炭素数20
以下のカルボンアミド基(例えばメチルカルボンアミド
基、フェニルカルボンアミド基など)、炭素数20以下
のウレイド基(例えばメチルウレイド基、フェニルウレ
イド基など)、アミノ基などが挙げられる。Bのアンモ
ニウム基は一般式(II−c)で表わされるものである。
Further, R 11 and R 12 may be linked to each other to form a ring, and a saturated ring containing one or more hetero atoms (eg, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, etc.) therein. It may be cyclized to form a heterocycle, and examples thereof include a pyrrolidyl group, a piperidyl group, and a morpholino group. Examples of the substituent of R 11 and R 12 include a carboxyl group, a sulfo group, a cyano group, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom), a hydroxy group, and an alkoxycarbonyl having 20 or less carbon atoms. Group (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, etc.), alkoxy group having 20 or less carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, benzyloxy group,
Phenethyloxy group), monocyclic aryloxy group having 20 or less carbon atoms (eg, phenoxy group, p-tolyloxy group, etc.), acyloxy group having 20 or less carbon atoms (eg, acetyloxy group, propionyloxy group, etc.), carbon An acyl group (eg, an acetyl group, a propionyl group, a benzoyl group, a mesyl group, etc.), a carbamoyl group (eg, a carbamoyl group, an N, N-dimethylcarbamoyl group, a morpholinocarbonyl group, a piperidinocarbonyl group, etc.), and sulfamoyl Group (for example, sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, morpholinosulfonyl group, piperidinosulfonyl group, etc.), having 2 carbon atoms
0 or less acylamino group (for example, acetylamino group, propionylamino group, benzoylamino group, mesylamino group, etc.), sulfonamide group (ethylsulfonamide group, p-toluenesulfonamide group, etc.), carbon number 20
Examples thereof include the following carbonamide groups (eg, a methylcarbonamide group, a phenylcarbonamide group, etc.), ureido groups having 20 or less carbon atoms (eg, a methylureido group, a phenylureido group, etc.), and amino groups. The ammonium group of B is represented by the general formula (II-c).

【0052】[0052]

【化27】 Embedded image

【0053】式中、R13、R14、R15は上述の一般式
(II−b)におけるR11およびR12と同様の基であり、
- はアニオンを表わし、例えばハライドイオン(例え
ばCl- 、Br- 、I- など)、スルホナートイオン
(例えばトリフルオロメタンスルホナート、パラトルエ
ンスルホナート、ベンゼンスルホナート、パラクロロベ
ンゼンスルホナートなど)、スルファトイオン(例えば
エチルスルファート、メチルスルファートなど)、パー
クロラート、テトラフルオロボラートなどが挙げられ
る。pは0または1を表わし、化合物が分子内塩を形成
する場合は0である。
In the formula, R 13 , R 14 and R 15 are the same groups as R 11 and R 12 in the above formula (II-b),
Z represents an anion, for example, a halide ion (eg, Cl , Br , I −, etc.), a sulfonate ion (eg, trifluoromethanesulfonate, paratoluenesulfonate, benzenesulfonate, parachlorobenzenesulfonate, etc.), sulfonate Fat ion (for example, ethyl sulfate, methyl sulfate, etc.), perchlorate, tetrafluoroborate and the like can be mentioned. p represents 0 or 1, and is 0 when the compound forms an internal salt.

【0054】Bの含窒素ヘテロ環は、少なくとも1つ以
上の窒素原子を含んだ5または6員環であり、それらの
環は置換基を有していてもよく、また他の環と縮合して
いてもよい。含窒素ヘテロ環としては例えばイミダゾリ
ル基、ピリジル基、チアゾリル基などが挙げられる。
The nitrogen-containing heterocyclic ring of B is a 5- or 6-membered ring containing at least one or more nitrogen atoms, and these rings may have a substituent and may be condensed with another ring. May be. Examples of the nitrogen-containing hetero ring include an imidazolyl group, a pyridyl group, and a thiazolyl group.

【0055】一般式(II)のうち好ましいものとして
は、下記一般式(II−m)、(II−n)、(II−o)ま
たは(II−p)で表わされる化合物が挙げられる。
Preferred examples of the general formula (II) include compounds represented by the following general formulas (II-m), (II-n), (II-o) and (II-p).

【0056】[0056]

【化28】 Embedded image

【0057】式中、−(X)n −A−B、M、mは前記
一般式(II−a)のそれと同義である。Z1 、Z2 およ
びZ3 は前記一般式(II−a)における−(X)n −A
−Bと同義であるか、又はハロゲン原子、炭素数20以
下のアルコキシ基(例えばメトキシ基)、ヒドロキシ
基、ヒドロキシアミノ基、置換および未置換のアミノ基
を表わし、その置換基としては前記一般式(II−b)に
おけるR11、R12の置換基の中から選ぶことができる。
但しZ1 、Z2 及びZ3 の内の少なくとも1つは−
(X)n −A−Bと同義である。またこれら複素環は一
般式(II)の複素環に適用される置換基で置換されても
よい。次に一般式(II)で表わされる化合物例を示すが
本発明はこれに限定されるものではない。
In the formula,-(X) n -AB, M, and m have the same meanings as those in formula (II-a). Z 1 , Z 2 and Z 3 are each represented by — (X) n -A in formula (II-a).
Has the same meaning as -B, or represents a halogen atom, an alkoxy group having 20 or less carbon atoms (eg, a methoxy group), a hydroxy group, a hydroxyamino group, a substituted or unsubstituted amino group, and the substituent is represented by the general formula It can be selected from the substituents of R 11 and R 12 in (II-b).
Provided that at least one of Z 1 , Z 2 and Z 3 is-
(X) Synonymous with n- AB. Further, these heterocycles may be substituted with a substituent applied to the heterocycle of the formula (II). Next, examples of the compound represented by the general formula (II) are shown, but the present invention is not limited thereto.

【0058】[0058]

【化29】 Embedded image

【0059】[0059]

【化30】 Embedded image

【0060】[0060]

【化31】 Embedded image

【0061】[0061]

【化32】 Embedded image

【0062】[0062]

【化33】 Embedded image

【0063】式中、R1 、R2 は各々水素原子又は脂肪
族残基を表わす。R1 とR2 は互に結合して環を形成し
てもよい。R3 は二価の脂肪族基を表わす。Xは窒素、
酸素もしくは硫黄原子を含む二価のヘテロ環を表わす。
nは0または1を表わす。Mは水素原子、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホス
ホニウム塩又はアミジノ基を表わす。R1 、R2 の脂肪
族残基としては、各々炭素1〜12のアルキル基、アル
ケニル基およびアルキニル基が好ましくそれぞれ適当な
基で置換されていてもよい。アルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、デシル基、ドデシル基、イソプロピル基、sec −
ブチル基、シクロヘキシル基などである。アルケニル基
としては例えばアリル基、2−ブテニル基、2−ヘキセ
ニル基、2−オクテニル基などである。アルキル基とし
ては例えばプロパルギル基、2−ペンチニル基などがあ
る。置換基としては、フェニル基、置換フェニル基、ア
ルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、カルボキ
シル基、スルホ基、アルキルアミノ基、アミド基等であ
る。
In the formula, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or an aliphatic residue. R 1 and R 2 may combine with each other to form a ring. R 3 represents a divalent aliphatic group. X is nitrogen,
Represents a divalent hetero ring containing an oxygen or sulfur atom.
n represents 0 or 1. M represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt or an amidino group. As the aliphatic residue of R 1 and R 2 , an alkyl group, an alkenyl group and an alkynyl group each having 1 to 12 carbon atoms are preferable, and each may be substituted with an appropriate group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a decyl group, a dodecyl group, an isopropyl group and a sec-
Butyl group, cyclohexyl group and the like. Examples of the alkenyl group include an allyl group, a 2-butenyl group, a 2-hexenyl group, and a 2-octenyl group. Examples of the alkyl group include a propargyl group and a 2-pentynyl group. Examples of the substituent include a phenyl group, a substituted phenyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkylamino group, and an amide group.

【0064】R1 とR2 とで環を形成する場合として
は、炭素又は窒素・酸素の組合せからなる5員又は6員
の炭素環又はヘテロ環で、特に飽和の環が好ましく、例
えばピロリジル、ピペリジル、モルホリル、ピペラジ
ル、4−メチル−ピペラジル、などがあげられる。R1
とR2 として特に好ましいものは炭素原子数1〜3のア
ルキル基で更に好ましくはエチル基である。
In the case where R 1 and R 2 form a ring, a 5- or 6-membered carbon or heterocyclic ring composed of carbon or a combination of nitrogen and oxygen, particularly a saturated ring is preferable. Piperidyl, morpholyl, piperazyl, 4-methyl-piperazyl and the like. R 1
And R 2 are particularly preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably an ethyl group.

【0065】R3 の二価の脂肪族基としては−R4 −又
は−R4 S−が好ましい。ここでR4 は二価の脂肪族残
基で、好ましくは炭素数1〜6の飽和及び不飽和のもの
で、例えば−CH2 −、−CH2 CH2 −、−(CH2)
3 −、−(CH2)4 −、−(CH2)6 −、−CH2 CH
=CHCH2 −、−CH2 C=CCH2 −、−CH2
H(CH3)CH2 −などである。
[0065] As the divalent aliphatic group of R 3 -R 4 - or -R 4 S- are preferred. Here, R 4 is a divalent aliphatic residue, preferably a saturated or unsaturated one having 1 to 6 carbon atoms, for example, —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, — (CH 2 )
3 -, - (CH 2) 4 -, - (CH 2) 6 -, - CH 2 CH
= CHCH 2 -, - CH 2 C = CCH 2 -, - CH 2 C
H (CH 3 ) CH 2 — and the like.

【0066】R4 の好ましい炭素数としては2〜4のも
ので、R4 としてさらに好ましくは−CH2 CH2 −及
び−CH2 CH2 CH2 である。なお(X)n のnが0
のときのR3 は−R4 −だけを表わす。
R 4 has preferably 2 to 4 carbon atoms, and more preferably R 4 is —CH 2 CH 2 — and —CH 2 CH 2 CH 2 . Note that n of (X) n is 0
R 3 in the formula represents only —R 4 —.

【0067】Xのヘテロ環としては、窒素、酸素又は硫
黄を含む5及び6員のヘテロ環でベンゼン環に縮合して
いてもよい。ヘテロ環として好ましくは芳香族のもので
例えば、テトラゾール、トリアゾール、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、イミダゾール、チアゾール、オ
キサゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、
ベンズオキサゾールなどである。このうち特にテトラゾ
ールとチアジアゾールが好ましい。
As the hetero ring of X, a 5- or 6-membered hetero ring containing nitrogen, oxygen or sulfur may be fused to the benzene ring. Heterocycles are preferably aromatic and include, for example, tetrazole, triazole, thiadiazole, oxadiazole, imidazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzothiazole,
Benzoxazole and the like. Of these, tetrazole and thiadiazole are particularly preferred.

【0068】Mのアルカリ金属としては、Na+
+ 、Li+ などである。アルカリ土類金属としては、
Ca++、Mg++、などがある。Mの四級アンモニウム塩
としては、炭素数4〜30からなるもので、例えば(C
3)4 + 、(C2 5)4 + 、(C4 9)4 + 、C
6 5 CH2 + (CH3)3 、C1633+ (CH3)3
などである。四級ホスホニウム塩としては、(C4 9)
4 + 、C163 + (CH3)3 、C6 3 CH2 +
(CH3)などである。
As the alkali metal of M, Na + ,
K + , Li + and the like. As alkaline earth metals,
Ca ++ , Mg ++ , and the like. Examples of the quaternary ammonium salt of M include those having 4 to 30 carbon atoms, such as (C
H 3) 4 N +, ( C 2 H 5) 4 N +, (C 4 H 9) 4 N +, C
6 H 5 CH 2 N + ( CH 3) 3, C 16 H 33 N + (CH 3) 3
And so on. As the quaternary phosphonium salt, (C 4 H 9 )
4 P + , C 16 H 3 P + (CH 3 ) 3 , C 6 H 3 CH 2 P +
(CH 3 ).

【0069】一般式(III) で表わされる化合物の無機酸
塩としては例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあ
り、有機酸塩としては酢酸塩、プロピオン酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンス
ルホン酸塩などがある。以下に一般式(III) で表わされ
る化合物の具体例を挙げる。
The inorganic acid salt of the compound represented by the general formula (III) includes, for example, hydrochloride, sulfate, phosphate and the like, and the organic acid salt includes acetate, propionate, methanesulfonate, benzene and the like. Sulfonates, p-toluenesulfonates and the like. Specific examples of the compound represented by the general formula (III) are shown below.

【0070】[0070]

【化34】 Embedded image

【0071】[0071]

【化35】 Embedded image

【0072】[0072]

【化36】 Embedded image

【0073】[0073]

【化37】 Embedded image

【0074】[0074]

【化38】 Embedded image

【0075】次に上記一般式(IV)、(V)で表わされ
る化合物についてさらに詳しく説明する。
Next, the compounds represented by formulas (IV) and (V) will be described in more detail.

【0076】R1 およびR2 は同じであっても異ってい
てもよく、各々水素原子、炭素数1〜30のアルキル基
(置換基を有するものを含む。例えばメチル基、エチル
基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、
2−エチルヘキシル基、メトキシエチル基、エチルチオ
エチル基、ジメチルアミノエチル基、n−デジル基、n
−ドデシル基、フェノキシエチル基、2,4−ジ−t−
アミルフェノキシエチル基、n−オクタデシル基、等)
炭素数3〜30のアルケニル基(置換基を有するものを
含む。例えばアリル基、ブテニル基、ペンテニル基、
等)または炭素数7〜30のアラルキル基(置換基を有
するものを含む。例えばフェネチル基、ベンジル基、4
−メトキシベンジル基、4−t−ブチルベンジル基、
2,4−ジ−t−アミルフェネチル基、等)を表わす。
R 1 and R 2 may be the same or different and are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms (including those having a substituent, for example, a methyl group, an ethyl group, -Butyl group, n-hexyl group, n-octyl group,
2-ethylhexyl group, methoxyethyl group, ethylthioethyl group, dimethylaminoethyl group, n-decyl group, n
-Dodecyl group, phenoxyethyl group, 2,4-di-t-
Amylphenoxyethyl group, n-octadecyl group, etc.)
An alkenyl group having 3 to 30 carbon atoms (including those having a substituent; for example, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group,
Etc.) or an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms (including those having a substituent. For example, a phenethyl group, a benzyl group,
-Methoxybenzyl group, 4-t-butylbenzyl group,
2,4-di-t-amylphenethyl group, etc.).

【0077】またR1 とR2 は一体化して置換されてい
てもよいアルキレンとなり窒素原子とともに環を形成し
てもよい。(例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、2
−メチルピペリジン環、ヘキサメチレンイミン環、
等)。R3 、R4 、R5 およびR6 は同じであっても異
っていてもよく各々水素原子、炭素数1〜4の低級アル
キル基(好ましくは置換基を有さない低級アルキル基。
例えば、メチル基、エチル基、n−ブチル基、等)を表
わす。
Further, R 1 and R 2 may be unified as alkylene which may be substituted, and may form a ring together with a nitrogen atom. (For example, pyrrolidine ring, piperidine ring, 2
-Methyl piperidine ring, hexamethylene imine ring,
etc). R 3 , R 4 , R 5 and R 6 may be the same or different, and each may be a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (preferably a lower alkyl group having no substituent.
For example, a methyl group, an ethyl group, an n-butyl group, etc.).

【0078】ここでR1 およびR2 が置換基を有する場
合その置換基としては例えばハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子、等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、等)、アリー
ルオキシ基(例えばフェノキシ基、2,4−ジ−t−ア
ミルフェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチ
ルチオ基、等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ
基、等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基、等)、アミノ基(例えば無置換ア
ミノ基、ジメチルアミノ基、等)、カルボンアミド基
(例えばアセトアミド基、等)、スルホンアミド基(例
えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド
基、等)、オキシカルボニルアミノ基(例えばメトキシ
カルボニルアミノ基、等)、ウレイド基(例えば無置換
ウレイド、3,3−ジメチルウレイド基、等)、チオウ
レイド基(例えば無置換チオウレイド基、3−フェニル
チオウレイド基、等)、アシル基(例えばアセチル基、
ベンゾイル基、等)オキシカルボニル基(例えばメトキ
シカルボニル基、等)、カルバモイル基(例えばメチル
カルバモイル基、4−メチルフェニルカルバモイル基、
等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル基、
等)、スルファモイル基(例えばメチルスルファモイル
基、4−メトキシフェニルスルファモイル基、等)、カ
ルボン酸またはその塩、スルホン酸またはその塩等があ
げられる。
When R 1 and R 2 have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom (eg, a chlorine atom and a bromine atom), a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, and an alkoxy group (eg, a methoxy group) ), An aryloxy group (eg, a phenoxy group, a 2,4-di-t-amylphenoxy group, etc.), an alkylthio group (eg, a methylthio group, etc.), an arylthio group (eg, a phenylthio group, etc.), an acyloxy group ( For example, an acetyloxy group,
Benzoyloxy group, etc.), amino group (eg, unsubstituted amino group, dimethylamino group, etc.), carbonamide group (eg, acetamido group, etc.), sulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.) ), An oxycarbonylamino group (eg, methoxycarbonylamino group, etc.), a ureido group (eg, unsubstituted ureido, 3,3-dimethylureide group, etc.), a thioureido group (eg, unsubstituted thioureido group, 3-phenylthioureido group) , Etc.), an acyl group (for example, an acetyl group,
Benzoyl group, etc.) oxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group (eg, methylcarbamoyl group, 4-methylphenylcarbamoyl group,
Etc.), a sulfonyl group (for example, a methanesulfonyl group,
And the like, a sulfamoyl group (eg, a methylsulfamoyl group, a 4-methoxyphenylsulfamoyl group, and the like), a carboxylic acid or a salt thereof, a sulfonic acid or a salt thereof, and the like.

【0079】一般式(IV)、(V)中、好ましくはR1
およびR2 は各々炭素数1〜30のアルキル基または炭
素数7〜30のアラルキル基を表わし、R3 、R4 、R
5 およびR6 は水素原子を表わし、nは3〜20の整数
を表わす。一般式(IV)、(V)中、より好ましくはR
1 およびR2 は各々炭素数5〜20のアルキル基を表わ
す。以下に一般式(IV)、(V)で表わされる化合物の
具体例を示すが、本発明の化合物はこれに限定されるも
のではない。
In formulas (IV) and (V), preferably, R 1
And R 2 each represents an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R
5 and R 6 represent a hydrogen atom, and n represents an integer of 3 to 20. In the general formulas (IV) and (V), more preferably R
1 and R 2 each represent an alkyl group having 5 to 20 carbon atoms. Specific examples of the compounds represented by formulas (IV) and (V) are shown below, but the compounds of the present invention are not limited thereto.

【0080】[0080]

【化39】 Embedded image

【0081】[0081]

【化40】 Embedded image

【0082】[0082]

【化41】 Embedded image

【0083】[0083]

【化42】 Embedded image

【0084】[0084]

【化43】 Embedded image

【0085】[0085]

【化44】 Embedded image

【0086】[0086]

【化45】 Embedded image

【0087】[0087]

【化46】 Embedded image

【0088】次に一般式(VI)の化合物について説明す
る。式中、A0 以外の説明は一般式(II)の説明と同様
である。A0 は少なくとも2つのアルキレンオキシユニ
ットを有する2価の連結基を表わすが好ましくは
Next, the compound of the formula (VI) will be described. In the formula, the description other than A 0 is the same as the description of the general formula (II). A 0 represents a divalent linking group having at least two alkyleneoxy units, but is preferably

【0089】[0089]

【化47】 Embedded image

【0090】を表わす。R1 ′、R2 ′、R3 ′および
4 ′は各々水素原子、炭素数1〜4のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル
基、等)を表わし、qは2〜50の整数を表わす。以下
に一般式(VI)で示される化合物の具体例をあげるが本
発明はこれらに限定されるものではない。
Represents the following. R 1 ′, R 2 ′, R 3 ′ and R 4 ′ each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, etc.). , Q represents an integer of 2 to 50. Specific examples of the compound represented by the general formula (VI) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0091】[0091]

【化48】 Embedded image

【0092】[0092]

【化49】 Embedded image

【0093】[0093]

【化50】 Embedded image

【0094】[0094]

【化51】 Embedded image

【0095】[0095]

【化52】 Embedded image

【0096】[0096]

【化53】 Embedded image

【0097】[0097]

【化54】 Embedded image

【0098】これらの一般式(II)、(III)、(IV)、
(V)、(VI)の添加量は、化合物の種類によって最適
添加量が異なるが1.0×10-3〜0.5g/m2、好ま
しくは5.0×10-3〜0.3g/m2の範囲で用いるの
が望ましい。これらの促進剤は適当な溶媒(H2 O、メ
タノールやエタノールなどのアルコール類、アセトン、
ジメチルホルムアミド、メチルセルソルブなど)に溶解
して塗布液に添加される。これらの添加剤を複数の種類
を併用してもよい。
These general formulas (II), (III), (IV),
Although the optimum amount of (V) and (VI) varies depending on the type of the compound, it is 1.0 × 10 −3 to 0.5 g / m 2 , preferably 5.0 × 10 −3 to 0.3 g. / M 2 is desirably used. These accelerators can be used in suitable solvents (H 2 O, alcohols such as methanol and ethanol, acetone,
Dimethylformamide, methylcellosolve, etc.) and added to the coating solution. A plurality of these additives may be used in combination.

【0099】本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超
硬調の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や、pH1
1以上の高アルカリ現像液を用いる必要はなく、安定な
現像液を用いることができる。すなわち、本発明のハロ
ゲン化銀感光材料は、保恒剤としての亜硫酸イオンを
0.15モル/リットル以上含み、pH11.0〜9.0
の現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることが
できる。好ましくはpH10.7〜9.2の現像液を使う
ことにより、安定した処理システムを構築することがで
きる。本発明の方法において用いうる現像主薬には特別
な制限はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えば
ハイドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン、4,4−ジメチル−1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例
えばN−メチル−p−アミノフェノール)などを単独あ
るいは組み合わせてもちいることができる。
In order to obtain ultra-high contrast photographic characteristics using the silver halide light-sensitive material of the present invention, a conventional infectious developer or a pH 1
It is not necessary to use one or more high alkali developing solutions, and a stable developing solution can be used. That is, the silver halide light-sensitive material of the present invention contains 0.15 mol / L or more of sulfite ion as a preservative and has a pH of 11.0 to 9.0.
By using the developing solution, a negative image having a sufficiently high contrast can be obtained. By using a developer having a pH of preferably 10.7 to 9.2, a stable processing system can be constructed. There is no particular limitation on the developing agent that can be used in the method of the present invention, and examples thereof include dihydroxybenzenes (eg, hydroquinone) and 3-pyrazolidones (eg, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 4,4-dimethyl-1-phenyl-). 3-pyrazolidone), aminophenols (eg, N-methyl-p-aminophenol) and the like can be used alone or in combination.

【0100】本発明のハロゲン化銀感光材料は特に、主
現像主薬としてジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主
薬として3−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類
を含む現像液で処理されるのに適している。好ましくは
この現像液においてジヒドロキ、ベンゼン類は0.05
〜0.5モル/リットル、3−ピラゾリドン類またはア
ミノフェノール類は0.06モル/リットル以下の範囲
で併用される。
The silver halide light-sensitive material of the present invention is particularly suitable to be processed with a developing solution containing dihydroxybenzenes as a main developing agent and 3-pyrazolidones or aminophenols as an auxiliary developing agent. Preferably, in this developer, dihydroxy and benzene are contained in an amount of 0.05 to 0.05%.
0.5 mol / l, 3-pyrazolidones or aminophenols are used together in the range of 0.06 mol / l or less.

【0101】また米国特許4,269,929号に記載
されているように、アミン類を現像液に添加することに
よって現像速度を高め、現像時間の短縮化を実現するこ
ともできる。現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸
塩、炭酸塩、ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、
臭化物、沃化物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましく
はニトロインダゾール類またはベンゾトリアゾール類)
の如き現像抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むこと
ができる。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色
調剤、現像促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述
のポリアルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フ
ィルムの銀汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイ
ミダゾールスルホン酸類など)を含んでもよい。定着液
としては一般に用いられる組成のものを用いることがで
きる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸塩のほ
か、定着剤としての効果が知られている有機硫黄化合物
を用いることができる。定着液には硬膜剤として水溶性
アルミニウム塩などを含んでもよい。
As described in US Pat. No. 4,269,929, the development speed can be increased by adding amines to the developer to shorten the development time. Other developers include pH buffers such as alkali metal sulfites, carbonates, borates, and phosphates,
Bromides, iodides, and organic antifoggants (particularly preferably nitroindazoles or benzotriazoles)
And an antifoggant or the like. If necessary, a water softener, a dissolution aid, a color tone agent, a development accelerator, a surfactant (particularly preferably the above-mentioned polyalkylene oxides), an antifoaming agent, a hardening agent, a silver stain preventing agent for a film. (For example, 2-mercaptobenzimidazolesulfonic acids). As the fixing solution, those having a commonly used composition can be used. As the fixing agent, in addition to thiosulfate and thiocyanate, an organic sulfur compound known to have an effect as a fixing agent can be used. The fixing solution may contain a water-soluble aluminum salt as a hardening agent.

【0102】本発明の方法における処理温度は普通18
℃から50℃の間に選ばれる。写真処理には自動現像機
を用いるのが好ましいが、本発明の方法により、感光材
料を自動現像機に入れてから出てくるまでのトータルの
処理時間を90秒〜120秒に設定しても、充分に超硬
調のネガ階調の写真特性が得られる。本発明の現像液に
は銀汚れ防止剤として特開昭56−24,347号に記
載の化合物を用いることができる。現像液中に添加する
溶解助剤として特開昭61−267759号に記載の化
合物を用いることができる。さらに現像液に用いるpH緩
衝剤として特開昭60−93,433号に記載の化合物
あるいは特開昭62−186259号に記載の化合物を
用いることができる。
The processing temperature in the method of the present invention is usually 18
Between 50 ° C and 50 ° C. Although it is preferable to use an automatic developing machine for photographic processing, according to the method of the present invention, even if the total processing time from when the photosensitive material is put into the automatic developing machine to when it comes out is set to 90 seconds to 120 seconds. Thus, a photographic characteristic of a negative tone with a sufficiently high contrast can be obtained. In the developer of the present invention, compounds described in JP-A-56-24347 can be used as silver stain inhibitors. Compounds described in JP-A-61-267759 can be used as a dissolution aid to be added to the developer. Further, the compounds described in JP-A-60-93,433 or the compounds described in JP-A-62-186259 can be used as a pH buffer used in the developer.

【0103】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤のハ
ロゲン組成は任意であるが、高い写真感度が必要とされ
る線画撮影用及び網点作成用感光材料については塩化銀
含有率が80モル%以下であることが好ましい。
The halogen composition of the silver halide emulsion used in the present invention is arbitrary. However, the photosensitive material for line drawing and halftone dot production which requires high photographic sensitivity has a silver chloride content of 80 mol% or less. It is preferred that

【0104】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤の調
製方法は、ハロゲン化銀写真感光材料の分野で公知の種
々の手法が用いられる。例えばピ・グラフキデ (P.Glaf
kides)著「シミー・エ・フィジク・フォトグラフィック
(Chimie et Physique Photographique)」(ポール・モ
ンテル(Paul Montel)社刊1967年)、ジー・エフ・
デュフィン (G.F.Duffin) 著「フォトグラフィック・エ
モルジョン・ケミストリー (Photographic Emulsion Ch
emistry)(ザ・フォーカル・プレス)(The Focal Pres
s)刊1966年)、ブイ・エル・ツエリクマン(V.L.Ze
likman et al)著「メーキング・アンド・コーティング
・フォトグラフィック・エマルジョン(Making and Coa
ting Photographic Emulsion)」(ザ・フォーカル・プ
レス(The Focal Press)刊1964年)などに記載され
ている方法を用いて調製することができる。
As a method for preparing a silver halide emulsion used in the present invention, various methods known in the field of silver halide photographic materials are used. For example, P. Glaf
Chiides et Physique Photographique, by Paul Montel (1967), G.F.
GFDuffin, Photographic Emulsion Chemistry
emistry) (The Focal Pres)
s) 1966), V. El-Zelikmann (VLZe)
Making and Coating Photographic Emulsion (Making and Coa) by likman et al)
ting Photographic Emulsion "(The Focal Press, 1964) and the like.

【0105】本発明の乳剤は単分散乳剤が好ましく変動
係数が20%以下、特に好ましくは15%以下である。
ここで変動係数は下記(式1)として定義される。
The emulsion of the present invention is preferably a monodispersed emulsion, and the coefficient of variation is preferably 20% or less, particularly preferably 15% or less.
Here, the variation coefficient is defined as (Equation 1) below.

【0106】[0106]

【数1】 (Equation 1)

【0107】単分散ハロゲン化銀乳剤中の粒子の平均粒
子サイズは0.5μm以下である。水溶性銀塩(硝酸銀
水溶液)と水溶性ハロゲン塩を反応させる方法として
は、片側混合法、同時混合法、それらの組合わせのいず
れを用いてもよい。同時混合法の一つの形式として、ハ
ロゲン化銀の生成される液相中のpAg を一定に保つ方
法、すなわちコントロールダブルジェット法を用いるこ
ともできる。またアンモニオ、チオエーテル、四置換チ
オ尿素などのいわゆるハロゲン化銀溶剤を使用して粒子
形成させることが好ましい。より好ましくは四置換チオ
尿素化合物であり、特開昭53−82408号、同55
−77737号に記載されている。好ましいチオ尿素化
合物は、テトラメチルチオ尿素、1,3−ジメチル−2
−イミダゾリジンチオンである。コントロールダブルジ
ェット法およびハロゲン化銀溶剤を使用した粒子形成方
法では、結晶形が規則的で粒子サイズ分布の狭いハロゲ
ン化銀乳剤を作ることが容易であり、本発明に使いられ
る乳剤を作るのに有用な手段である。単分散乳剤は立方
体、八面体、十四面体のような規則的な結晶形を有する
のが好ましく、特に立方体が好ましい。ハロゲン化銀粒
子は内部と表層が均一な相から成っていても、異なる相
からなっていてもよい。本発明に用いるハロゲン化銀乳
剤にはハロゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程に
おいてカドミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロ
ジウム塩もしくはその錯塩、イリジウム塩もしくはその
錯塩を共存させてもよい。
The average grain size of the grains in the monodispersed silver halide emulsion is 0.5 μm or less. As a method of reacting a water-soluble silver salt (aqueous silver nitrate solution) with a water-soluble halogen salt, any of a one-side mixing method, a simultaneous mixing method, and a combination thereof may be used. As one type of the double jet method, a method of keeping pAg constant in a liquid phase in which silver halide is formed, that is, a control double jet method can be used. Further, it is preferable to form grains using a so-called silver halide solvent such as ammonium, thioether, or tetra-substituted thiourea. More preferred are tetra-substituted thiourea compounds, described in JP-A-53-82408 and JP-A-55-82408.
-77737. Preferred thiourea compounds are tetramethylthiourea, 1,3-dimethyl-2
-Imidazolidinethione. According to the control double jet method and the grain forming method using a silver halide solvent, it is easy to produce a silver halide emulsion having a regular crystal form and a narrow grain size distribution. It is a useful tool. The monodispersed emulsion preferably has a regular crystal form such as a cubic, octahedral, or tetradecahedral, and particularly preferably a cubic. In the silver halide grains, the inside and the surface layer may be composed of a uniform phase or may be composed of different phases. In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite, a lead salt, a thallium salt, a rhodium salt or a complex salt thereof, an iridium salt or a complex salt thereof may coexist in the process of forming silver halide grains or physical ripening. Good.

【0108】本発明において、線画撮影用および網点作
成用感光材料として特に適したハロゲン化銀乳剤は銀1
モルあたり10-8〜10-5モルのイリジウム塩もしくは
その錯塩を存在させて製造された乳剤である。上記にお
いては、ハロゲン化銀乳剤の製造工程の物理熟成終了
前、とくに粒子形成時に上記の量のイリジウム塩を加え
ることが望ましい。ここで用いられるイリジウム塩は水
溶性のイリジウム塩またはイリジウム錯塩で、例えば三
塩化イリジウム、四塩化イリジウム、ヘキサクロロイリ
ジウム(III)酸カリウム、ヘキサクロロイリジウム(I
V)酸カリウム、ヘキサクロロイリジウム(III))酸ア
ンモニウムなどがある。
In the present invention, a silver halide emulsion particularly suitable as a light-sensitive material for line drawing and halftone dot formation is silver 1 emulsion.
It is an emulsion prepared in the presence of 10 -8 to 10 -5 mol of iridium salt or its complex salt per mol. In the above, it is desirable to add the above amount of iridium salt before the completion of physical ripening in the production process of the silver halide emulsion, particularly at the time of grain formation. The iridium salt used here is a water-soluble iridium salt or an iridium complex salt, for example, iridium trichloride, iridium tetrachloride, potassium hexachloroiridium (III), hexachloroiridium (I
V) potassium and ammonium hexachloroiridium (III)).

【0109】本発明の単分散乳剤は、化学増感として、
硫黄増感、還元増感、金増感等の知られている方法を用
いることができ、単独または組合せで用いられる。硫黄
増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物のほ
か、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ尿素
類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることができ
る。具体例は米国特許1,574,944号、同2,2
78,947号、同2,410,689号、同2,72
8,668号、同3,501,313号、同3,65
6,955号に記載されたものである。好ましい硫黄化
合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物であり、化学増感
時のpAg としては好ましくは8.3以下、より好ましく
は、7.3〜8.0の範囲である。さらに Moisar,Klei
n Gelatine.Proc.Syme.2nd, 301〜309(197
6)らによって報告されているようなポリビニルピロリ
ドンとチオ硫酸塩を併用する方法も良好な結果を与え
る。貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので
金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、
たとえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有
しても差支えない。その具体例は米国特許2,448,
060号、英国特許618,061号などに記載されて
いる。本発明の感光材料に用いられる各種添加剤に関し
ては、特に制限は無く、例えば下記箇所に記載されたも
のを好ましく用いることが出来る。 項目 該当箇所 1)分光増感色素 特開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目 から同右下欄4行目、同2−103536号公報第 16頁右下欄3行目から同第17頁左下欄20行目 、さらに特開平1−112235号、同2−124 560号、同3−7928号、特願平3−1895 32号及び同3−411064号に記載の分光増感 色素。 2)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目か ら同右下欄7行目、及び特開平2−18542号公 報第2頁左下欄13行目から同第4頁右下欄18行 目。 3)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19 行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行 目から5行目、さらに特開平1−237538号公 報に記載のチオスルフィン酸化合物。 4)ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄12 行目から同20行目。 5)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行 目から同第19頁左上欄1行目。 6)マット剤、滑り剤 特開平2−103536号公報第19頁左上欄15 可塑剤 行目から同第19頁右上欄15行目。 7)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行 目から同第17行目。 8)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行 目から同18行目の染料、同2−294638号公 報及び特願平3−185773号に記載の固体染料 。 9)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目か ら20行目。 10)黒ポツ防止剤 米国特許第4956257号及び特開平1−118 832号公報に記載の化合物。 11)レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表 される化合物(特に化合物例1ないし50)、同3 −174143号公報第3頁ないし第20頁に記載 の一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)、化 合物例1ないし75、さらに特願平3−69466 号、同3−15648号に記載の化合物。 12)モノメチン化合物 特開平2−287532号公報の一般式(II)の化 合物(特に化合物例II−1ないしII−26)。 13)ジヒドロキシ 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から第 ベンゼン類 12頁左下欄の記載、及びEP452772A号公 報に記載の化合物。
The monodispersed emulsion of the present invention can be used as a chemical sensitizer.
Known methods such as sulfur sensitization, reduction sensitization, and gold sensitization can be used, and they are used alone or in combination. As the sulfur sensitizer, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines and the like can be used in addition to the sulfur compounds contained in gelatin. Specific examples are described in U.S. Pat.
No. 78,947, No. 2,410,689, No. 2,72
8,668, 3,501,313, 3,65
No. 6,955. Preferred sulfur compounds are thiosulfates and thiourea compounds, and the pAg at the time of chemical sensitization is preferably 8.3 or less, more preferably 7.3 to 8.0. Moisar, Klei
n Gelatine. Proc. Syme. 2nd, 301-309 (197
The method of using polyvinylpyrrolidone and thiosulfate in combination, as reported by 6), also gives good results. Among the noble metal sensitization methods, the gold sensitization method is a typical one and uses a gold compound, mainly a gold complex salt. Precious metals other than gold,
For example, complex salts such as platinum, palladium, and iridium may be contained. A specific example is described in US Pat. No. 2,448,
060, British Patent 618,061 and the like. There are no particular restrictions on the various additives used in the light-sensitive material of the present invention, and for example, those described in the following places can be preferably used. Item Applicable part 1) Spectral sensitizing dye JP-A-2-12236, page 8, lower left column, line 13 to lower right column, line 4, JP-A-2-103536, page 16, lower right column, line 3, line 3 to line 4 Spectral sensitizing dyes described in page 17, lower left column, line 20, further described in JP-A-1-112235, JP-A-2-124560, JP-A-3-7928, JP-A-3-18932 and JP-A-3-41164. . 2) Surfactant JP-A-2-12236, page 9, upper right column, line 7 to lower right column, line 7, and JP-A-2-18542, page 2, lower left column, line 13 to line 4 Line 18 in the lower right column of the page. 3) Antifoggants JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 19 to page 18, upper right column, line 4 and lower right column, lines 1 to 5, furthermore, JP-A-1-237538. Thiosulfinic acid compounds described in the official bulletin. 4) Polymer latex JP-A-2-103536, page 18, lower left column, lines 12 to 20. 5) Compound having an acid group From page 6, lower right column, line 6 to page 19, upper left column, line 1 of JP-A-2-103536. 6) Matting agent, slip agent JP-A-2-103536, page 19, upper left column, line 15 plasticizer to line, page 19, upper right column, line 15; 7) Hardener JP-A-2-103536, page 18, upper right column, line 5 to line 17. 8) Dyes Dyes described in JP-A-2-103536, page 17, lower right column, lines 1 to 18 and solid dyes described in JP-A-2-29438 and Japanese Patent Application No. 3-185773. 9) Binder JP-A-2-18542, page 3, lower right column, line 1 to line 20. 10) Black spot inhibitors Compounds described in U.S. Pat. No. 4,956,257 and JP-A-1-118832. 11) Redox compound A compound represented by the general formula (I) of JP-A-2-301743 (especially, compound examples 1 to 50), and a compound represented by the general formula (3) of JP-A-3-174143, pp. 3 to 20: (R-1), (R-2) and (R-3), compounds described in Compound Examples 1 to 75, and further described in Japanese Patent Application Nos. 3-69466 and 3-15648. 12) Monomethine compounds Compounds of the general formula (II) described in JP-A-2-287532 (especially compound examples II-1 to II-26). 13) Dihydroxy Compounds described in JP-A-3-39948, page 11, upper left column to benzenes, page 12, lower left column, and EP 452772A.

【0110】以下、本発明を実施例によって具体的に説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0111】[0111]

【実施例】【Example】

実施例1 (乳剤調製) 乳剤A:0.13Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり
1×10-7モルに相当する(NH4)3 RhCl6 を含み
0.04Mの臭化カリウムと0.09Mの塩化ナトリウ
ムを含むハロゲン塩水溶液を、塩化ナトリウムと、1,
3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼ
ラチン水溶液に、攪拌しながら38℃で12分間ダブル
ジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.15μ
m、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を得ること
により核形成を行なった。続いて同様に0.87Mの硝
酸銀水溶液と、0.26Mの臭化カリウムと、0.65
Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジ
ェット法により、20分間かけて添加した。その後1×
10-3モルのKI溶液を加えてコンバージョンを行ない
常法に従ってフロキュレーション法により水洗し、ゼラ
チン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調整し、さ
らに銀1モルあたりチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金
酸8mgを加え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理
を施し、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを加え
た。得られた粒子は平均粒子サイズ0.27μm、塩化
銀含量70モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変
動係数10%)。
Example 1 (Emulsion preparation) Emulsion A: 0.13 M aqueous silver nitrate solution and 0.04 M potassium bromide containing 0.04 M potassium bromide containing (NH 4 ) 3 RhCl 6 corresponding to 1 × 10 −7 mol per mol of silver. An aqueous solution of a halogen salt containing 09 M sodium chloride was mixed with sodium chloride,
To a gelatin aqueous solution containing 3-dimethyl-2-imidazolidinethione was added by a double jet method at 38 ° C. for 12 minutes with stirring, and the average particle size was 0.15 μm.
nucleation was performed by obtaining silver chlorobromide grains having a silver chloride content of 70 mol%. Subsequently, similarly, a 0.87 M silver nitrate aqueous solution, 0.26 M potassium bromide, 0.65 M
A halogen salt aqueous solution containing M sodium chloride was added by a double jet method over 20 minutes. Then 1 ×
Conversion was carried out by adding 10 -3 mol of KI solution, washed with water by a flocculation method in accordance with a conventional method, adjusted to pH 6.5 and pAg 7.5 by adding 40 g of gelatin, and further adjusted to 5 mg of sodium thiosulfate per 1 mol of silver. 8 mg of chloroauric acid was added, the mixture was heated at 60 ° C. for 60 minutes, subjected to a chemical sensitization treatment, and 4-hydroxy-6-methyl-
150 mg of 1,3,3a, 7-tetrazaindene were added. The obtained grains were silver chlorobromide cubic grains having an average grain size of 0.27 μm and a silver chloride content of 70 mol%. (Coefficient of variation 10%).

【0112】(塗布試料の作成)これらの乳剤に表1に
示すように本発明の化合物を添加した。本発明のヒドラ
ジン誘導体の比較化合物としては下記のものを用いた。
(Preparation of Coated Samples) The compounds of the present invention were added to these emulsions as shown in Table 1. The following compounds were used as comparative compounds of the hydrazine derivative of the present invention.

【0113】[0113]

【化55】 Embedded image

【0114】[0114]

【表1】 [Table 1]

【0115】さらに、下記構造式(S1)の増感色素を銀
1モルあたり3.4×10-4モル、1−フェニル−5−
メルカプトテトラゾールを2×10-4モル、下記構造式
(a)で表わされる短波シアニン色素を5×10-4
ル、(b)で表わされる水溶性ラテックス(200mg/
m2)、ポリエチルアクリレートの分散物(200mg/
m2)、および硬膜剤として1,3−ジビニルスルホニル
−2−プロパノール(200mg/m2)を添加した。
Further, a sensitizing dye represented by the following structural formula (S 1 ) was added in an amount of 3.4 × 10 -4 mol / mol of silver, and 1-phenyl-5-mol.
2 × 10 −4 mol of mercaptotetrazole, 5 × 10 −4 mol of short-wave cyanine dye represented by the following structural formula (a), water-soluble latex represented by (b) (200 mg /
m 2 ), a dispersion of polyethyl acrylate (200 mg /
m 2 ) and 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol (200 mg / m 2 ) as a hardener.

【0116】[0116]

【化56】 Embedded image

【0117】保護層としてゼラチン1.0g/m2、粒子
サイズ約3.5μの不定型なSiO2 マット剤40mg/
m2、メタノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリルアミ
ド100mg/m2、ハイドロキノン200mg/m2、シリコ
ーンオイル及び塗布助剤として下記構造式で示されるフ
ッ素界面活性剤とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ムを含む層を乳剤層と同時に塗布行なった。
As a protective layer, 1.0 g / m 2 of gelatin, 40 mg of an amorphous SiO 2 matting agent having a particle size of about 3.5 μm /
m 2, including methanol silica 0.1 g / m 2, polyacrylamides 100 mg / m 2, hydroquinone 200 mg / m 2, a fluorine surfactant and sodium dodecyl benzene sulfonate represented by the following structural formula as a silicone oil and a coating aid The layers were coated simultaneously with the emulsion layers.

【0118】[0118]

【化57】 Embedded image

【0119】またバック層およびバック層保護層は次に
示す処方にて塗布した。
The back layer and the back layer protective layer were applied according to the following formulation.

【0120】 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 40mg/m2 ゼラチン硬化剤[Formation of Back Layer] Gelatin 3 g / m 2 Latex Polyethyl acrylate 2 g / m 2 Surfactant Sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40 mg / m 2 Gelatin hardener

【0121】[0121]

【化58】 Embedded image

【0122】染料 染料〔a〕、〔b〕、及び〔c〕の
混合物
Dye Mixture of dyes [a], [b] and [c]

【0123】[0123]

【化59】 Embedded image

【0124】 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径 4.5μ) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクナートナトリウム塩 15mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 [Back protective layer] Gelatin 0.8 mg / m 2 polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 4.5 μ) 30 mg / m 2 dihexyl-α-sulfosacnate sodium salt 15 mg / m 2 dodecylbenzenesulfonic acid sodium salt 15 mg / m 2 sodium acetate 40 mg / m 2

【0125】(写真特性の評価)これらの試料を、32
00°Kのタングステン光で光学クサビを通して露光
後、次の現像液1で34℃25秒間現像し、定着、水
洗、乾燥した。定着液としては、富士写真フイルム
(株)社製、GR−F1を用いた。
(Evaluation of photographic characteristics)
After being exposed through an optical wedge with tungsten light of 00 ° K, the film was developed with the following developer 1 at 34 ° C for 25 seconds, fixed, washed with water, and dried. GR-F1 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used as the fixing solution.

【0126】 現像液1 ハイドロキノン 30.0g N−メチル−p−アミノフェノール 0.3 水酸化ナトリウム 10.0 亜硫酸カリウム 60.0 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム 1.0 臭化カリウム 10.0 5−メチルベンゾトリアゾール 0.4 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スル ホン酸 0.3 3−(5−メルカプトテトラゾール)ベンゼン スルホン酸ナトリウム 0.2 トルエンスルホン酸ナトリウム 8.0 水を加えて1リットル pH10.3に合わせるDeveloper 1 Hydroquinone 30.0 g N-methyl-p-aminophenol 0.3 Sodium hydroxide 10.0 Potassium sulfite 60.0 Disodium ethylenediaminetetraacetate 1.0 Potassium bromide 10.0 5-Methylbenzo Triazole 0.4 2-Mercaptobenzimidazole-5-sulfonic acid 0.3 Sodium 3- (5-mercaptotetrazole) benzenesulfonate 0.2 Sodium toluenesulfonate 8.0 Add water to 1 liter to pH 10.3 Match

【0127】また、現像液1に水酸化カリウム溶液を加
えpH10.6に調整した現像液2、及び現像液1に酢酸
を加えpH10.0に調整した現像液3を用いて同様に現
像処理を行った。
Similarly, the developing treatment was carried out using a developing solution 2 adjusted to pH 10.6 by adding a potassium hydroxide solution to the developing solution 1 and a developing solution 3 adjusted to pH 10.0 by adding acetic acid to the developing solution 1. went.

【0128】得られた写真特性を表2に示す。ここでG
は式2で定義する。
Table 2 shows the obtained photographic characteristics. Where G
Is defined by Equation 2.

【0129】[0129]

【数2】 (Equation 2)

【0130】また、感度を表すS1.5 は濃度1.5を与
える露光量の対数値である。
S 1.5 representing the sensitivity is a logarithmic value of the exposure amount giving a density of 1.5.

【0131】[0131]

【表2】 [Table 2]

【0132】表2に示されるように、本発明の試料はpH
11未満の現像液で処理しても硬調な画像を与え、かつ
現像液のpH変動に対する写真感度の変化も小さいことが
わかる。
As shown in Table 2, the samples of the present invention have pH values
It can be seen that even when processed with a developing solution of less than 11, a high-contrast image is obtained, and the change in photographic sensitivity with respect to a change in pH of the developing solution is small.

【0133】実施例2 表1の塗布サンプルを次の現像液1のかわりに現像液4
で現像処理すること以外は実施例1と同様に行った。
Example 2 The coating sample shown in Table 1 was used instead of the following developer 1 in a developer 4
Except that the developing process was carried out.

【0134】 現像液4 ハイドロキノン 30.0g N−メチル−p−アミノフェノール 0.3 水酸化ナトリウム 10.0 亜硫酸カリウム 60.0 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム 1.0 臭化カリウム 10.0 5−メチルベンゾトリアゾール 0.4 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スル ホン酸 0.3 3−(5−メルカプトテトラゾール)ベンゼン スルホン酸ナトリウム 0.2 トルエンスルホン酸ナトリウム 8.0 N−ジメチル−n−ヘキサノールアミン 15.0 水を加えて1リットル pH9.8に合わせるDeveloper 4 Hydroquinone 30.0 g N-methyl-p-aminophenol 0.3 Sodium hydroxide 10.0 Potassium sulfite 60.0 Disodium ethylenediaminetetraacetate 1.0 Potassium bromide 10.0 5-Methylbenzo Triazole 0.4 2-Mercaptobenzimidazole-5-sulfonate 0.3 Sodium 3- (5-mercaptotetrazole) benzenesulfonate 0.2 Sodium toluenesulfonate 8.0 N-dimethyl-n-hexanolamine 15. 0 Add water to adjust to 1 liter pH 9.8

【0135】得られた写真特性を表3に示す。Table 3 shows the obtained photographic characteristics.

【0136】[0136]

【表3】 [Table 3]

【0137】表3に示されるように、現像液にアミン化
合物を添加することにより、現像液のpHをさらに下げて
硬調な写真性能を得ることができる。
As shown in Table 3, by adding an amine compound to the developer, the pH of the developer can be further lowered to obtain a high contrast photographic performance.

【0138】実施例3 下記の様にして調整した乳剤を使用すること、増感色素
として下記(S2)の化合物を使うこと、本発明の化合物
を表4に示す様に添加すること現像時間を45秒にする
こと以外は実施例1と同様に行った。
Example 3 Using an emulsion prepared as described below, using a compound of the following (S 2 ) as a sensitizing dye, and adding a compound of the present invention as shown in Table 4 Was carried out in the same manner as in Example 1 except that the time was changed to 45 seconds.

【0139】[0139]

【表4】 [Table 4]

【0140】(乳剤調整)コントロールダブルジェット
法を用いて粒子サイズ0.25μの立方体単分散沃臭化
銀乳剤(変動係数0.15、沃化銀1.0モル%、ヨー
ド分布は均一)を調製した。この沃臭化銀乳剤にはK3
IrCl6 を4×10-7モル/Agモル含有するように
添加した。この乳剤をフロキュレーション法により脱塩
を行ないその後50℃に保ち、銀1モル当り10-3モル
のヨウ化カリ溶液と、安定剤として4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1
モルあたり5×10-4モル加えた。
(Emulsion Adjustment) A cubic monodispersed silver iodobromide emulsion having a grain size of 0.25 μm (coefficient of variation: 0.15, silver iodide: 1.0 mol%, iodine distribution uniform) was obtained by the control double jet method. Prepared. The silver iodobromide emulsion contains K 3
IrCl 6 was added to contain 4 × 10 −7 mol / Ag mol. The emulsion was desalted by flocculation and kept at 50 DEG C., followed by 10 @ -3 mol of potassium iodide solution per mol of silver and 4-hydroxy-6 as a stabilizer.
-Methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was converted to silver 1
5 × 10 -4 mol was added per mol.

【0141】[0141]

【化60】 Embedded image

【0142】得られた写真特性を表5に示す。Table 5 shows the obtained photographic characteristics.

【0143】[0143]

【表5】 [Table 5]

【0144】表5に示されるように、本発明の試料はpH
11未満の現像液で処理しても硬調な画像を与え、かつ
現像液のpH変動に対する写真感度の変化も小さいことが
わかる。
As shown in Table 5, the samples of the present invention have pH values
It can be seen that even when processed with a developing solution of less than 11, a high-contrast image is obtained, and the change in photographic sensitivity with respect to a change in pH of the developing solution is small.

【0145】実施例4 (乳剤調整)30℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル
当り5.0×10-6モル(NH4)3RhCl6 の存在下
で硝酸銀水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同時に混合し
たのち、当業界でよく知られた方法にて、可溶性塩を除
去したのちゼラチンを加え、化学熟成せずに安定化剤と
して2−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−
テトラアザインデンを添加した。この乳剤は平均粒子サ
イズが0.08μの立方晶形をした単分散乳剤であっ
た。
Example 4 (Emulsion preparation) A silver nitrate aqueous solution and a sodium chloride aqueous solution were simultaneously mixed in an aqueous gelatin solution kept at 30 ° C. in the presence of 5.0 × 10 −6 mol (NH 4 ) 3 RhCl 6 per mol of silver. After that, a soluble salt was removed by a method well known in the art, and gelatin was added. As a stabilizer, 2-methyl-4-hydroxy-1,3,3a, 7- was used without chemical ripening.
Tetraazaindene was added. This emulsion was a cubic monodispersed emulsion having an average grain size of 0.08 μm.

【0146】(塗布試料の作成)これらの乳剤に表6に
示すように本発明の化合物を添加した。次にポリエチル
アクリレートラテックスを固形分で対ゼラチン30wt%
添加し、硬膜剤として、1,3−ビニルスルホニル−2
−プロパノールを加え、ポリエステル支持体上に3.8
g/m2のAg量になる様に塗布した。ゼラチンは1.8
g/m2であった。この上に保護層としてゼラチン1.5
g/m2、粒径2.5μのポリメチルメタクリレート0.
3g/m2の層を塗布した。
(Preparation of Coated Samples) The compounds of the present invention were added to these emulsions as shown in Table 6. Next, polyethyl acrylate latex is used as a solid content with respect to gelatin at 30 wt%.
1,3-vinylsulfonyl-2 as a hardening agent
-Add propanol, 3.8 on polyester support
It was applied so that the amount of Ag was g / m 2 . Gelatin is 1.8
g / m 2 . Gelatin 1.5 as a protective layer on this
g / m 2 , 2.5 μm particle size polymethyl methacrylate
A layer of 3 g / m 2 was applied.

【0147】(写真特性の評価)これらの試料を大日本
スクリーン(株)製明室プリンターP−607で、光学
クサビを通して露光し、実施例1に記述した現像液1、
2、3を用いて、38℃40秒現像処理し、定着、水
洗、乾燥した。得られた写真特性を表7に示す。ここで
Gは式3で定義する。
(Evaluation of Photographic Properties) These samples were exposed through an optical wedge by a light room printer P-607 manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.
Using 2 and 3, development processing was performed at 38 ° C. for 40 seconds, followed by fixing, washing and drying. Table 7 shows the obtained photographic characteristics. Here, G is defined by Equation 3.

【0148】[0148]

【数3】 (Equation 3)

【0149】また、感度を表すS1.5 は濃度1.5を与
える露光量の対数値である。
Further, S 1.5 representing the sensitivity is a logarithmic value of the exposure amount giving a density of 1.5.

【0150】[0150]

【表6】 [Table 6]

【0151】[0151]

【表7】 [Table 7]

【0152】表7に示されるように、本発明の試料はpH
11未満の現像液で処理しても硬調な画像を与え、かつ
現像液のpH変動に対する写真感度の変化も小さいことが
わかる。
As shown in Table 7, the sample of the present invention has a pH of
It can be seen that even when processed with a developing solution of less than 11, a high-contrast image is obtained, and the change in photographic sensitivity with respect to a change in pH of the developing solution is small.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−103536(JP,A) 特開 平4−76530(JP,A) 特開 平4−141651(JP,A) 特開 平2−294638(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03C 1/06 501 G03C 1/295 Continuation of the front page (56) References JP-A-2-103536 (JP, A) JP-A-4-76530 (JP, A) JP-A-4-141651 (JP, A) JP-A-2-294638 (JP) , A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G03C 1/06 501 G03C 1/295

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 支持体上に、少なくとも一つの感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層および/又は、それ
に隣接する親水性コロイド層に、一般式(I)で表わさ
れるヒドラジン誘導体の少なくとも一種と一般式(I
I)、(III)、(IV)、(V)及び(VI)で表わされる
化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 1 は脂肪族基、芳香族基または、複素環基を表わし、
置換されていてもよい。Gは−CO−基、−SO2
基、−SO−基、−COCO−基、チオカルボニル基、
イミノメチレン基または−P(O)(R4 )−基を表わ
し、R2 はGで置換された炭素原子が少なくとも1つの
電子吸引基で置換された置換アルキル基を表わす。R4
は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基またはアミノ基を表わす。 【化2】 式中、Yはハロゲン化銀に吸着する基を表わす。Xは水
素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から
選ばれた原子または原子群よりなる2価の連結基を表わ
す。Aは2価の連結基を表わす。Bはアミノ基、アンモ
ニウム基および含窒素ヘテロ環を表わし、アミノ基は置
換されていてもよい。mは1、2又は3を表わし、nは
0又は1を表わす。 【化3】 式中、R1 、R2 は各々水素原子又は脂肪族残基を表わ
す。R1 とR2 は互に結合して環を形成してもよい。R
3 は二価の脂肪族基を表わす。X1 は窒素、酸素もしく
は硫黄原子を含む二価のヘテロ環を表わす。nは0また
は1を表わす。Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ
土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又
は、アミジノ基を表わす。 【化4】 式中、R11およびR12は各々水素原子、炭素数1〜30
のアルキル基、炭素数3〜30のアルケニル基または炭
素数7〜30のアラルキル基を表わす。但しR11とR12
が同時にアルキル基を表わす時は、R11+R12の炭素数
は10以上を表わす。またR11とR12は同時に水素原子
を表わすことはなく、互いに結合して環を形成してもよ
い。nは2〜50の整数を表わす。R13、R14、R15
よびR16は各々水素原子または炭素数1〜4のアルキル
基を表わす。 【化5】 11とR12は一般式(IV)におけると同じであり、
11′とR12′はR11とR12と同意義を表わす。 【化6】 X、Y、Bは一般式(II)におけると同じであり、A0
は少なくとも2つのアルキレンオキシユニットを有する
2価の連結基を表わす。mは1、2または3を表し、n
は0または1を表す。
1. A hydrazine derivative represented by the general formula (I) having at least one light-sensitive silver halide emulsion layer on a support, and adding the emulsion layer and / or a hydrophilic colloid layer adjacent thereto to a hydrophilic colloid layer. At least one of the general formula (I
A silver halide photographic material containing at least one compound selected from the compounds represented by I), (III), (IV), (V) and (VI). Embedded image R 1 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group,
It may be substituted. G is -CO- group, -SO 2 -
Group, -SO- group, -COCO- group, thiocarbonyl group,
Represents an iminomethylene group or a —P (O) (R 4 ) — group, and R 2 represents a substituted alkyl group in which a carbon atom substituted by G is substituted by at least one electron-withdrawing group. R 4
Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group or an amino group. Embedded image In the formula, Y represents a group adsorbed on silver halide. X represents a divalent linking group consisting of an atom or an atom group selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. A represents a divalent linking group. B represents an amino group, an ammonium group and a nitrogen-containing heterocyclic ring, and the amino group may be substituted. m represents 1, 2 or 3, and n represents 0 or 1. Embedded image In the formula, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or an aliphatic residue. R 1 and R 2 may combine with each other to form a ring. R
3 represents a divalent aliphatic group. X 1 represents a divalent hetero ring containing a nitrogen, oxygen or sulfur atom. n represents 0 or 1. M represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt, or an amidino group. Embedded image In the formula, each of R 11 and R 12 is a hydrogen atom, and has 1 to 30 carbon atoms.
An alkenyl group having 3 to 30 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms. However, R 11 and R 12
And when simultaneously represents an alkyl group, the carbon number of R 11 + R 12 represents 10 or more. R 11 and R 12 do not represent a hydrogen atom at the same time, and may combine with each other to form a ring. n represents an integer of 2 to 50. R 13 , R 14 , R 15 and R 16 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Embedded image R 11 and R 12 are the same as in general formula (IV),
R 11 ′ and R 12 ′ have the same meaning as R 11 and R 12 . Embedded image X, Y and B are the same as those in the general formula (II), and A 0
Represents a divalent linking group having at least two alkyleneoxy units. m represents 1, 2 or 3, and n
Represents 0 or 1.
【請求項2】 塩化銀が80モル%以下のハロゲン化銀
乳剤を含む少なくとも一層の感光層を有することを特徴
とする請求項1のハロゲン化銀写真感光材料。
2. The silver halide photographic material according to claim 1, wherein the material has at least one photosensitive layer containing a silver halide emulsion containing 80 mol% or less of silver chloride.
【請求項3】 請求項1のハロゲン化銀写真感光材料
を、pH9.0以上11.0未満の現像液を用いて現像処
理することを特徴とする写真画像形成方法。
3. A method of forming a photographic image, comprising developing the silver halide photographic material of claim 1 using a developing solution having a pH of at least 9.0 and less than 11.0.
JP4257576A 1992-09-02 1992-09-02 Silver halide photographic light-sensitive material and photographic image forming method using the same Expired - Fee Related JP3038457B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4257576A JP3038457B2 (en) 1992-09-02 1992-09-02 Silver halide photographic light-sensitive material and photographic image forming method using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4257576A JP3038457B2 (en) 1992-09-02 1992-09-02 Silver halide photographic light-sensitive material and photographic image forming method using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06180476A JPH06180476A (en) 1994-06-28
JP3038457B2 true JP3038457B2 (en) 2000-05-08

Family

ID=17308193

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4257576A Expired - Fee Related JP3038457B2 (en) 1992-09-02 1992-09-02 Silver halide photographic light-sensitive material and photographic image forming method using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3038457B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06180476A (en) 1994-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0267598B1 (en) Superhigh contrast negative-type silver halide photographic material
US5139921A (en) Process for forming super high contrast negative images
JP2775560B2 (en) Silver halide photographic material
US5030547A (en) Silver halide photographic material
EP0324426B1 (en) Process for forming super high contrast negative images
JP3372365B2 (en) Silver halide photographic material and image forming method using the same
JP2604154B2 (en) Silver halide photographic material
JP2709646B2 (en) Silver halide photographic light-sensitive material and processing method thereof
JPH0816777B2 (en) Image forming method
JP3038457B2 (en) Silver halide photographic light-sensitive material and photographic image forming method using the same
JP2709647B2 (en) Image forming method
JPH075610A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH0627571A (en) Silver halide photographic sensitive material and processing method for the same
JP2525585B2 (en) Ultra-high contrast negative type silver halide photosensitive material
JP2835647B2 (en) Silver halide photographic material
JP2709759B2 (en) Silver halide photographic material
JP2887367B2 (en) Image forming method
JP2515115B2 (en) Negative type silver halide photographic light-sensitive material
JP3434082B2 (en) Silver halide photographic materials
JP2684243B2 (en) Silver halide photographic material
JP2604243B2 (en) Silver halide photographic material
JP2829466B2 (en) Silver halide photographic material
JP2890066B2 (en) Image forming method
US5518862A (en) Silver halide photographic material
JPH09160157A (en) Silver halide photographic sensitive material and image forming method

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080303

Year of fee payment: 8

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080303

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090303

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090303

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100303

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100303

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110303

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110303

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120303

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees