JP3034584B2 - Absolute encoder - Google Patents
Absolute encoderInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、アブソリュート型エンコーダに関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an absolute encoder.
[従来の技術] スケールを円柱状とし、その円柱軸のまわりの回転態
位を絶対的に検出するアブソリュート型エンコーダが意
図されている。2. Description of the Related Art An absolute encoder is intended that has a cylindrical scale and absolutely detects a rotational state around the cylindrical axis.
このようなエンコーダによれば、例えば、軸受に軸支
された回転軸そのものをスケールとし、上記回転軸の回
転態位を絶対的に検出することにより、回転軸と連結さ
れたモーターの駆動を極めて精密に制御することが可能
になる。According to such an encoder, for example, the driving of the motor connected to the rotating shaft is extremely performed by absolutely detecting the rotating state of the rotating shaft, using the rotating shaft itself supported by the bearing as a scale. It becomes possible to control precisely.
[発明が解決しようとする課題] アブソリュート型エンコーダでは、スケールに形成さ
れるパターンはコード化されたパターンであり、複数の
トラックに形成される。上記のような円柱状のスケール
を用いるアブソリュート型エンコーダにおいては、コー
ドパターンを構成する複数のトラックはスケールの母線
方向に配列されることになる。[Problems to be Solved by the Invention] In the absolute encoder, the pattern formed on the scale is a coded pattern and is formed on a plurality of tracks. In an absolute encoder using a columnar scale as described above, a plurality of tracks forming a code pattern are arranged in the generatrix direction of the scale.
このようなエンコーダも、なるべく小型でコンパクト
に構成したいという要請があるが、そのためにはコード
パターンのトラック配列間隔を詰める必要がある。There is also a demand for such an encoder to be configured as small and compact as possible, but for that purpose, it is necessary to reduce the track arrangement interval of the code pattern.
一方においてアブソリュート型エンコーダでは、コー
ドパターンに光照射する光源とコードパターンにより変
調された反射光を光電変換する光電変換素子との対は、
コードパターンにおけるトラック数と同数必要であり、
コードパターンのトラック間隔があまり小さくなると光
源・光電変換素子対相互の配列間隔も小さくなって、光
源・光電変換素子対の配列が困難になる。また、あるト
ラックによる反射光が隣接トラック用の光電変換素子に
入射して上記隣接トラックによる光電変換信号のS/N比
を低下させるという、隣接トラック間の情報干渉の問題
もある。On the other hand, in an absolute encoder, a pair of a light source that irradiates light to a code pattern and a photoelectric conversion element that performs photoelectric conversion of reflected light modulated by the code pattern is:
The number of tracks in the code pattern must be the same,
If the track interval of the code pattern is too small, the arrangement interval between the light source / photoelectric conversion element pairs also becomes small, and it becomes difficult to arrange the light source / photoelectric conversion element pairs. In addition, there is also a problem of information interference between adjacent tracks that reflected light from a certain track is incident on a photoelectric conversion element for an adjacent track and lowers the S / N ratio of a photoelectric conversion signal from the adjacent track.
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであっ
て、上記不具合を有効に解消しつつ小型・コンパクトに
実現できる新規なアブソリュート型エンコーダの提供を
目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a novel absolute encoder that can be realized in a small and compact form while effectively eliminating the above-mentioned problems.
[課題を解決するための手段] 本発明のアブソリュート型エンコーダは、円柱状のス
ケールの回転態位を検出するためのエンコーダであっ
て、円柱状のスケールと複数の光源と複数の光電変換素
子とを有する。[Means for Solving the Problems] An absolute encoder according to the present invention is an encoder for detecting a rotation state of a cylindrical scale, and includes a cylindrical scale, a plurality of light sources, and a plurality of photoelectric conversion elements. Having.
「円柱状のスケール」は、周面に、ピッチの異なる複
数トラックのコードパターンを形成され、円柱軸のまわ
りに回転する。円柱軸は、円柱周面の母線方向に平行な
回転対称軸である。In the “cylindrical scale”, a code pattern of a plurality of tracks having different pitches is formed on a peripheral surface, and rotates around a cylindrical axis. The cylinder axis is a rotationally symmetric axis parallel to the generatrix direction of the cylinder peripheral surface.
「光源」は、円柱状のスケールに形成されたコードパ
ターンにおけるトラック数と同数設けられる。各光源は
トラックの1本づつと1:1に対応する。The “light sources” are provided in the same number as the number of tracks in the code pattern formed on the columnar scale. Each light source corresponds to one track one by one.
「光電変換素子」は、光源と同数で、各々が光源の各
々と対応して光源・光電変換素子対を構成する。任意の
光源が対応するトラックに光を照射するとこの光源とと
もに光源・光電変換素子対を構成する光電変換素子は上
記トラックにより変調された反射光の強弱を光電変換す
る。The number of “photoelectric conversion elements” is equal to the number of light sources, and each of them constitutes a light source / photoelectric conversion element pair corresponding to each of the light sources. When an arbitrary light source irradiates a corresponding track with light, the photoelectric conversion element forming a light source / photoelectric conversion element pair with this light source photoelectrically converts the intensity of reflected light modulated by the track.
「コードパターン」は、スケール周面の母線方向へ複
数トラックが配列するように形成される。コードパター
ンとしては、グレーコード、2進化10進符号等を利用で
きる。The “code pattern” is formed such that a plurality of tracks are arranged in the generatrix direction of the scale peripheral surface. As the code pattern, a gray code, a binary-coded decimal code, or the like can be used.
トラック数に等しい数の「光源・光電変換素子対」群
は、スケールの周面に各トラックと対向するように、且
つ、全体としてスケールの円柱軸を螺旋の軸として螺旋
状に配列される。The number of “light source / photoelectric conversion element pairs” groups equal to the number of tracks are spirally arranged on the peripheral surface of the scale so as to face each track, and as a whole, using the cylindrical axis of the scale as a spiral axis.
上記光源の少なくとも一部は「点光源もしくは線状光
源」であり、これら点光源もしくは線状光源により、対
応するトラックの格子パターンに対応する拡大的影絵パ
ターンを発生させる。後述するように、線状光源が用い
られるとき、線状光源の長手方向はトラック方向に略平
行に設定される。At least a part of the light source is a "point light source or linear light source", and the point light source or the linear light source generates an enlarged shadow pattern corresponding to a lattice pattern of a corresponding track. As will be described later, when a linear light source is used, the longitudinal direction of the linear light source is set substantially parallel to the track direction.
また、コードパターンは周知のフォトリソグラフィ法
等の方法で形成できるが、少なくともピッチの細かいも
のは「マグネティックリソグラフィ」による形成が適し
ている(請求項2)。Further, the code pattern can be formed by a known method such as a photolithography method. However, at least a fine pattern is preferably formed by "magnetic lithography" (claim 2).
[作用] 上述の如く、本発明のアブソリュート型エンコーダに
おいては、光源・光電変換素子対群が全体として、スケ
ールの円柱軸を螺旋の軸として螺旋状に配列されるの
で、相互に隣接するトラックに応じた光源・光電変換素
子対はスケール周面の同一母線上になく、従ってトラッ
ク間隔が小さくても光源・光電変換素子対の配列が容易
であり、隣接トラックの情報を受光しないように光電変
換素子を配設することができる。[Operation] As described above, in the absolute encoder according to the present invention, the light source / photoelectric conversion element pair group is helically arranged with the cylindrical axis of the scale as the helical axis as a whole. The corresponding light source / photoelectric conversion element pair is not on the same generatrix on the circumference of the scale, so even if the track interval is small, the arrangement of the light source / photoelectric conversion element pair is easy, and the photoelectric conversion is performed so as not to receive the information of the adjacent track Elements can be provided.
なお、点光源により格子パターンを照射して拡大的影
絵パターンを発生させることに関しては特開昭63−4761
6号公報により、また線状光源により格子パターンを照
射して拡大的影絵パターンを発生させることに関しては
特開平1−297513号公報により既に良く知られているの
で、この点に就いての説明は必要最小限に留める。Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-4761 discloses a method of generating an enlarged shadow pattern by irradiating a lattice pattern with a point light source.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-297513 discloses a method of generating an enlarged shadow picture pattern by irradiating a lattice pattern with a linear light source according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-297513. Keep it to a minimum.
本発明のエンコーダにおいてスケールに形成されるコ
ードパターンはスケール周面の反射率が変化するもので
ある。コードパターンの各トラックは、スケール周面の
母線に直交する方向に反射率が単周期的に変化して所謂
格子パターンをなしている。この格子パターンにおいて
反射率が単周期的に変化している方向を格子パターンに
おける格子配列方向と呼ぶ。In the encoder of the present invention, the code pattern formed on the scale changes the reflectance of the peripheral surface of the scale. Each track of the code pattern has a so-called lattice pattern in which the reflectivity changes in a single cycle in a direction orthogonal to the generatrix of the scale peripheral surface. The direction in which the reflectance changes in a single period in this lattice pattern is referred to as the lattice arrangement direction in the lattice pattern.
かかる格子パターンにおける反射率変化の周期即ち格
子ピッチξが、線状光源における格子配列方向に対応す
る発光部長さdに対し、 (1/10)≦(d/ξ)≦2 (1) なる条件を満足すると拡大的影絵パターンを発生させる
ことができる。「拡大的影絵パターン」は、線状光源の
位置に理想的な点光源を配備して格子パターンを幾何光
学的な影絵として拡大したかのように発生し、線状光源
に対して格子パターンが格子配列方向へ変位すると拡大
的影絵パターンも影絵関係を保ったまま同方向へ移動す
る。従って格子パターンの移動量を拡大的影絵パターン
により影絵の拡大倍率に応じて拡大できる。The period of the reflectance change in such a grating pattern, that is, the grating pitch に 対 し, is: (1/10) ≦ (d / ξ) ≦ 2 (1) Is satisfied, an enlarged shadow picture pattern can be generated. The “expanded shadow pattern” occurs as if the ideal point light source was deployed at the position of the linear light source and the grid pattern was enlarged as a geometric optical shadow image. When displaced in the lattice arrangement direction, the enlarged shadow pattern moves in the same direction while maintaining the shadow relationship. Therefore, the moving amount of the lattice pattern can be enlarged by the enlarged shadow pattern in accordance with the magnification of the shadow picture.
線状光源は、例えば半導体レーザーの発光部の長手方
向を格子パターンの格子配列方向に対応させることによ
り実現できる。またLED等からのインコヒーレントな光
でも、第3図(A)に示すような長さdのスリット長を
持つアパーチュアや、長さdの単軸径もしくは長軸径を
持つ楕円形の開口を持つアパーチュア(B)、直径dの
円形の開口を持つアパーチュア(C)を介して取り出す
ことによって、拡大的影絵パターンを発生させるように
することができる。即ちこの場合、スリットや開口部の
長さdが上記(1)の条件を満足するようにし、開口部
の長さdの方向を格子パターンの格子配列方向(トラッ
ク方向)に対応させてアパーチュアを介して取り出した
光を格子パターンに照射すればよいのである。The linear light source can be realized, for example, by making the longitudinal direction of the light emitting portion of the semiconductor laser correspond to the lattice arrangement direction of the lattice pattern. Also, incoherent light from an LED or the like, an aperture having a slit length of length d as shown in FIG. 3A or an elliptical opening having a single-axis diameter or a long-axis diameter of length d. By taking out through the aperture (B) having the aperture (C) and the aperture (C) having the circular opening having the diameter d, it is possible to generate an enlarged shadow picture pattern. That is, in this case, the aperture d is set so that the length d of the slit or the opening satisfies the condition (1), and the direction of the length d of the opening corresponds to the grid arrangement direction (track direction) of the grid pattern. What is necessary is just to irradiate the light extracted through the grating pattern.
上記点光源は半導体レーザーの発光部の短手方向を格
子パターンの格子配列方向に対応させることにより実現
でき、このような点光源からの光で格子パターンを照射
しても拡大的影絵パターンを発生させることができる。The above-mentioned point light source can be realized by making the short side direction of the light emitting part of the semiconductor laser correspond to the lattice arrangement direction of the lattice pattern. Even if the lattice pattern is irradiated with light from such a point light source, an enlarged shadow pattern is generated. Can be done.
[実施例] 以下、具体的な実施例に即して説明する。[Example] Hereinafter, a description will be given according to a specific example.
第1図に示す実施例は、軸受6に支持された回転軸5
をスケールとするアブソリュート型エンコーダである。The embodiment shown in FIG. 1 shows a rotary shaft 5 supported by a bearing 6.
This is an absolute encoder with a scale of.
スケールとして用いられる軸5には、第2図の(A)
に示すようにコードパターン3が形成されている。コー
ドパターンは複数のトラックにより構成され、個々のト
ラックは固有の格子ピッチを持った格子パターンが回転
軸5の周面の母線に直交する方向を格子配列方向として
回転軸5を囲撓するように形成した構成となっている。The axis 5 used as a scale includes (A) in FIG.
The code pattern 3 is formed as shown in FIG. The code pattern is composed of a plurality of tracks, and each track has a lattice pattern having a unique lattice pitch so that the direction perpendicular to the generatrix of the peripheral surface of the rotation shaft 5 is a lattice arrangement direction and surrounds the rotation shaft 5. It has a formed configuration.
第2図(A)に示すように軸受6の側から回転軸5の
先端部側へむかって複数のトラックが配列され、各トラ
ックをなす格子パターンのピッチは回転軸先端部へ向か
うに連れて細かくなっている。As shown in FIG. 2 (A), a plurality of tracks are arranged from the bearing 6 side to the tip of the rotary shaft 5, and the pitch of the lattice pattern forming each track increases toward the tip of the rotary shaft. It is fine.
第1図において符号7は光源を示し、符号8は光電変
換素子を示している。In FIG. 1, reference numeral 7 indicates a light source, and reference numeral 8 indicates a photoelectric conversion element.
複数個の光源7は、コードパターン3の形成されたス
ケール周面部分に対向するように、且つスケールの円柱
軸を螺旋の軸として螺旋状に配設されている。個々の光
源がコードパターン3における個々のトラックと対応し
ていることは言うまでもない。The plurality of light sources 7 are helically disposed so as to face the peripheral surface of the scale on which the code pattern 3 is formed, and to use the cylindrical axis of the scale as a helical axis. It goes without saying that each light source corresponds to each track in the code pattern 3.
同様に複数個の光電変換素子8も、スケール周面部分
に対向するように、且つスケールの円柱軸を螺旋の軸と
して螺旋状に配設されている。Similarly, the plurality of photoelectric conversion elements 8 are helically disposed so as to face the peripheral surface of the scale and to use the cylindrical axis of the scale as a helical axis.
光源7の一つ一つには、光電変換素子8の一々が対応
し、光源とこれに対応する光電変換素子とは光源・光電
変換素子対を構成している。Each of the light sources 7 corresponds to one of the photoelectric conversion elements 8, and the light source and the corresponding photoelectric conversion element constitute a light source / photoelectric conversion element pair.
従って光源・光電変換素子対の各々はトラックの各々
と対応する。Therefore, each light source / photoelectric conversion element pair corresponds to each track.
任意の光源から放射された光は、対応するトラックを
照射し、反射光は上記トラックをなす格子パターンの反
射率の変化により変調され、この変調された反射光の強
弱をこの光源と対をなす光電変換素子により光電変換す
ることによりトラックに応じたビット信号を得る。Light emitted from an arbitrary light source irradiates the corresponding track, and the reflected light is modulated by a change in the reflectance of the grating pattern forming the track, and the intensity of the modulated reflected light forms a pair with the light source. By performing photoelectric conversion by the photoelectric conversion element, a bit signal corresponding to a track is obtained.
光源には半導体レーザーやLED等を使用できる。光源
・光電変換素子対における光源と光電変換素子の配置
は、従来の光学的エンコーダの場合と同様でよく、個々
の対を螺旋状の配置する点に本発明の特徴がある。A semiconductor laser, LED, or the like can be used as a light source. The arrangement of the light source and the photoelectric conversion element in the light source / photoelectric conversion element pair may be the same as in the case of the conventional optical encoder, and the present invention is characterized in that each pair is spirally arranged.
またピッチの細かいトラックに対しては、点光源や線
状光源として半導体レーザーや、LEDと第3図のアパー
チュアとの組合せによる線状光源を用いて各トラックご
とに拡大的影絵パターンを発生させる。拡大的影絵パタ
ーンは、スケールの回転に伴い移動するので拡大的影絵
パターンの明暗の移動により、ピッチの細かいトラック
に対応する光電変換素子からも良好なビット信号を得る
ことができる。For tracks with a fine pitch, an enlarged shadow pattern is generated for each track using a semiconductor laser as a point light source or a linear light source, or a linear light source formed by a combination of an LED and the aperture shown in FIG. Since the enlarged shadow pattern moves with the rotation of the scale, a good bit signal can be obtained from the photoelectric conversion element corresponding to the track with a fine pitch by moving the light and dark of the enlarged shadow pattern.
説明中の実施例においては、コードパターン3は、マ
グネティックリソグラフィにより形成されている。In the embodiment being described, the code pattern 3 is formed by magnetic lithography.
マグネティックリソグラフィによりコードパターンを
形成するために、回転軸5にはその周面にCoCrやFe3O4
による磁化膜を数1000Åの厚さに形成してある。In order to form a code pattern by magnetic lithography, the rotating shaft 5 has CoCr or Fe 3 O 4
Is formed to a thickness of several thousand degrees.
この磁化膜に磁気ヘッドによりコードパターンを書き
込んで、コードパターンと対応する磁化パターンを形成
する。A code pattern is written on the magnetized film by a magnetic head to form a magnetized pattern corresponding to the code pattern.
このように形成された磁化パターンに磁性コロイド流
体を塗布して磁化パターンを顕像化する。磁性コロイド
流体は、粒径が50乃至200Å程度の酸化鉄微粉末を界面
活性剤中に分散させたものであり、これを磁化パターン
に塗布すると酸化鉄微粉末が磁化パターンの磁区の境界
部に吸着されて磁化パターンを顕像化する。このように
磁性コロイド流体による顕像化は磁区の境界部に生じる
ので、第2図(B)に示すようにコードパターンの格子
ピッチの細かい部分はコードパターン自体を書き込む。
また格子ピッチが大きい部分では第2図(C)に示すよ
うに、コードパターンの1単位をなす部分をトラック配
列方向(回転軸方向)に平行な複数の平行線により、恰
もこの単位部分をハッチで塗りつぶすようにコードパタ
ーンの書き込みを行う。The magnetized pattern is visualized by applying a magnetic colloid fluid to the magnetized pattern thus formed. The magnetic colloid fluid is obtained by dispersing iron oxide fine powder having a particle size of about 50 to 200 mm in a surfactant. The magnetic pattern is visualized by being adsorbed. Since the visualization by the magnetic colloid fluid occurs at the boundary of the magnetic domain, the code pattern itself is written in a portion having a finer grid pitch as shown in FIG. 2 (B).
In the part where the lattice pitch is large, as shown in FIG. 2 (C), the part forming one unit of the code pattern is hatched by a plurality of parallel lines parallel to the track arrangement direction (rotation axis direction). Write the code pattern so as to fill it with.
磁化パターンが顕像化されたら界面活性剤を蒸発さ
せ、顕像化されているパターンの上に透明樹脂を層形成
してパターンを定着するか、あるいは顕像化されている
パターンの上に薄い金属反射膜を形成してパターンを定
着する。この場合、金属反射膜は、酸化鉄微粉末による
顕像化パターンの凹凸が膜の表面にそのまま現れる程度
の薄さに形成する。このようにして所望のスケールが得
られる。When the magnetized pattern is visualized, the surfactant is evaporated and a transparent resin layer is formed on the visualized pattern to fix the pattern, or a thin layer is formed on the visualized pattern. A pattern is fixed by forming a metal reflection film. In this case, the metal reflection film is formed so thin that irregularities of the visualized pattern by the fine iron oxide powder appear on the surface of the film as it is. In this way, the desired scale is obtained.
[発明の効果] 以上、本発明によれば新規なアブソリュート型エンコ
ーダを提供できる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, a novel absolute encoder can be provided.
このエンコーダでは、上述の如く複数の光源・光電変
換素子対をスケールの回りに螺旋上に配設するので、ど
の光源・光電変換素子対も隣接トラックからの情報に干
渉されることなく対応トラックの格子パターンを情報化
でき、また隣接トラックの間隔を光源・光電変換素子対
より小さくできるので、小型でコンパクトなエンコーダ
を実現でき、ピッチの細かいトラックでは拡大的影絵パ
ターンを発生させて光電変換するので、スケールの極め
て微小な回転量を検出できる。In this encoder, as described above, a plurality of light source / photoelectric conversion element pairs are spirally arranged around the scale, so that any light source / photoelectric conversion element pair is not affected by information from an adjacent track, and the corresponding track is not affected. The grid pattern can be converted to information, and the distance between adjacent tracks can be made smaller than that of the light source / photoelectric conversion element pair. Thus, a compact and compact encoder can be realized.For tracks with fine pitch, an enlarged shadow pattern is generated and photoelectric conversion is performed. , A very small amount of rotation of the scale can be detected.
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の1実施例を示す図、第2図は上記実施
例におけるスケール上のコードパターンを説明するため
の図、第3図は拡大的影絵パターンを発生させる光をイ
ンコヒーレント光光源から得るためのアパーチュアを説
明するための図である。 3……コードパターン、5……スケールとしての軸受、
6……軸受、7……複数の光源、8……複数の光電変換
素子BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram for explaining a code pattern on a scale in the above embodiment, and FIG. FIG. 4 is a diagram for explaining an aperture for obtaining light to be generated from an incoherent light source. 3 ... code pattern, 5 ... bearing as scale,
6 bearings 7 multiple light sources 8 multiple photoelectric conversion elements
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 明渡 純 東京都新宿区早稲田3丁目18番1号 丸 茂ハイツ203号 (72)発明者 山口 友行 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 平1−297513(JP,A) 特開 昭63−47616(JP,A) 実開 昭47−31448(JP,U) 実開 昭54−17289(JP,U) 実開 昭60−61612(JP,U) 実開 昭50−13648(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01D 5/249 G01D 5/36 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Jun Akito 3-18-1 Waseda, Shinjuku-ku, Tokyo 203 Maru Shigeru Heights 203 (72) Inventor Tomoyuki Yamaguchi 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo No. Ricoh Co., Ltd. (56) References JP-A-1-297513 (JP, A) JP-A-63-47616 (JP, A) JP-A 47-31448 (JP, U) JP-A 54-17289 (JP, U) Japanese Utility Model Showa 60-61612 (JP, U) Japanese Utility Model Showa 50-13648 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01D 5/249 G01D 5 / 36
Claims (2)
複数トラックのコードパターンが形成され、円柱軸の周
りに回転するスケールと、 上記コードパターンのトラック数と同数の光源と、 これら光源と同数で、各々が光源の各々と対応する光電
変換素子とを有し、 上記コードパターンをなす複数トラックは、スケール周
面の母線方向へ配列するように形成され、 各トラックに光照射する光源と、この光源により光照射
されたトラック部分からの反射光の強弱を光電変換する
光電変換素子との対の個々が、トラックの個々と1:1に
対向するように、且つ、光源・光電変換素子対群が全体
としてスケールの円柱軸を螺旋の軸として螺旋状に配列
されており、 前記複数の光源の少なくとも一部は、トラック方向に略
平行な線状光源もしくは点光源であって、対応するトラ
ックの格子パターンにより拡大的影絵パターンを発生さ
せるものであることを特徴とするアブソリュート型エン
コーダ。1. A scale having a columnar shape and a plurality of tracks having different pitches formed on a peripheral surface thereof and rotating around a cylindrical axis; a light source having the same number of tracks as the code pattern; The same number as the light sources, each having a photoelectric conversion element corresponding to each of the light sources, the plurality of tracks forming the code pattern are formed so as to be arranged in the generatrix direction of the scale peripheral surface, and irradiate each track with light. Each pair of a light source and a photoelectric conversion element that photoelectrically converts the intensity of reflected light from a track portion irradiated by the light source with the light source and the photoelectric conversion element so as to face each track in a 1: 1 relationship. The conversion element pair group is spirally arranged with the scale cylindrical axis as a spiral axis as a whole, and at least a part of the plurality of light sources is a linear light source or a point light source substantially parallel to a track direction. Absolute type encoder, characterized in that there is, those which generate expansive shadow pattern by the grating pattern of the corresponding track.
ダにおいて、 コードパターンのうち、少なくともピッチの細かいもの
がマグネティックリソグラフィにより形成されているこ
とを特徴とするアブソリュート型エンコーダ。2. An absolute encoder according to claim 1, wherein at least a fine pitch of the code patterns is formed by magnetic lithography.
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-
1990
- 1990-10-19 JP JP2282536A patent/JP3034584B2/en not_active Expired - Lifetime
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