JP3034054B2 - Method for producing hexanitrohexaazaisoulitanium - Google Patents

Method for producing hexanitrohexaazaisoulitanium

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JP3034054B2
JP3034054B2 JP10507816A JP50781698A JP3034054B2 JP 3034054 B2 JP3034054 B2 JP 3034054B2 JP 10507816 A JP10507816 A JP 10507816A JP 50781698 A JP50781698 A JP 50781698A JP 3034054 B2 JP3034054 B2 JP 3034054B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンお
よびその製造方法に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to hexanitrohexaazaisowurtzitane and a method for producing the same.

〔背景技術〕(Background technology)

ヘキサアザイソウルチタン骨格を有する化合物とし
て、アリールメチルアミンとグリオキサールを縮合させ
ることによって得られる、種々のアリールメチル基を有
するヘキサアザイソウルチタン誘導体が知られている
[J.Org.Chem.,vol.55,1459−1466(1990)]。アシル
基を有するヘキサアザイソウルチタン化合物としては、
テトラアセチルジベンジルヘキサアザイソウルチタンが
知られており、この化合物は火薬原料であるヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタンの前駆体であるという報告
がある[The Militarily Critical Technologies L
ist,Office of the Under Secretary of Defense
for Acquisition,12−22,October(1992)、Tetrahe
dron Vol.51,No16、4711−4722(1995)]。また、テ
トラアセチルジエチルヘキサアザイソウルチタン等のエ
チル基を有するヘキサアザイソウルチタン誘導体も知ら
れている(Tetrahedron Vol.51,No16、4711−4722(199
5))、および、トリメチルシリルエチロキシカルボニ
ル基を有するヘキサアザイソウルチタンも知られている
(特開平6−321962号公報)。さらに、前記テトラアセ
チルジベンジルヘキサアザイソウルチタンやテトラアセ
チルジエチルヘキサアザイソウルチタン等のようにアセ
チル基を有する化合物の他に、ベンジル基または/およ
びエチル基を有するヘキサアザイソウルチタン誘導体が
公知である。
As a compound having a hexaazaisowurtzitanium skeleton, hexaazaisowurtzitane derivatives having various arylmethyl groups obtained by condensing arylmethylamine and glyoxal are known [J. Org. Chem., vol.55, 1459-1466 (1990)]. As a hexaazaisowurtzitane compound having an acyl group,
Tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitanium is known, and it has been reported that this compound is a precursor of hexanitrohexaazaisowurtzitane which is a raw material for explosives [The Militarily Critical Technologies L.
ist, Office of the Under Secretary of Defense
for Acquisition, 12-22, October (1992), Tetrahe
dron Vol.51, No16, 4711-4722 (1995)]. Further, hexaazaisowurtzitane derivatives having an ethyl group such as tetraacetyldiethylhexaazaisowurtzitanium are also known (Tetrahedron Vol. 51, No. 16, 4711-4722 (1992)).
5)) and hexaazaisowurtzitane having a trimethylsilylethyloxycarbonyl group are also known (JP-A-6-321962). Further, in addition to compounds having an acetyl group, such as the above-mentioned tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitanium and tetraacetyldiethylhexaazaisowurtzitanium, hexaazaisowurtzitane derivatives having a benzyl group and / or an ethyl group are also available. It is known.

ニトロ基での置換が容易なアシル基を有するヘキサア
ザイソウルチタンは、火薬原料である高密度ニトロ化合
物の前駆体として有用である。しかし、上述の化合物の
前駆体としてニトロ化合物を得るには次のように問題が
あった。例えば、ベンジル基を有するヘキサアザイソウ
ルチタン誘導体は、ニトロ化させた際にニトロ化芳香族
化合物が副生成物として生成するため、目的物であるヘ
キサニトロヘキサアザイソウルチタンを分離、精製する
のが煩雑である。また、トリメチルシリルエチロキシカ
ルボニル基を有するヘキサアザイソウルチタンはその製
造中に強酸である塩酸が発生し、原料であるヘキサベン
ジルヘキサアザイソウルチタンの分解を誘発する。さら
に、テトラアセチルジベンジルヘキサアザイソウルチタ
ンをニトロ化してヘキサニトロヘキサアザイソウルチタ
ンが得られるとの報告があるが、その具体的な製造方法
についてはまったく記載されていない(Tetrahedron Vo
l.51,No16、4711−4722(1995))。テトラアセチルジ
エチルヘキサアザイソウルチタンをニトロ化させてヘキ
サニトロヘキサアザイソウルチタンを製造するのは困難
との報告がなされている(Tetrahedron Vol.51,No16、4
711−4722(1995))。
Hexaazaisowurtzitane having an acyl group easily substituted with a nitro group is useful as a precursor of a high-density nitro compound as a raw material for explosives. However, obtaining a nitro compound as a precursor of the above-described compound has the following problems. For example, a hexaazaisoulitoltitanium derivative having a benzyl group generates a nitrated aromatic compound as a by-product when it is nitrated, so that the target hexanitrohexaazaisowurtzitane is separated and purified. It is complicated. In addition, during the production of hexaazaisowurtzitane having a trimethylsilylethyloxycarbonyl group, hydrochloric acid, which is a strong acid, is generated, which induces the decomposition of hexabenzylhexaazaisowurtzitane, which is a raw material. Furthermore, there is a report that hexaacetylhexaazaisowurtzitanium can be obtained by nitrating tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitanium, but there is no description of a specific production method thereof (Tetrahedron Vos).
l.51, No16, 4711-4722 (1995)). It has been reported that it is difficult to produce hexanitrohexaazaisowurtzitanium by nitrating tetraacetyldiethylhexaazaisowurtzitanium (Tetrahedron Vol. 51, No. 16, No. 4).
711-4722 (1995)).

従って、アシル基を有するヘキサアザイソウルチタン
誘導体を用いてヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン
を高収率で製造する方法が望まれていた。
Therefore, there has been a demand for a method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitanium in high yield using a hexaazaisowurtzitanium derivative having an acyl group.

〔発明の開示〕[Disclosure of the Invention]

本発明者らは、工業的に有利なヘキサニトロヘキサア
ザイソウルチタンの合成法を見出し、本発明を完成し
た。
The present inventors have found an industrially advantageous method for synthesizing hexanitrohexaazaisowurtzitanium, and have completed the present invention.

本発明の目的は、ヘキサアザイソウルチタン誘導体を
用いてヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンを高収率
で製造することにある。
An object of the present invention is to produce hexanitrohexaazaisowurtzitanium in high yield using a hexaazaisowurtzitanium derivative.

すなわち本発明は、一般式(I)で表されるニトロ基
を有するヘキサアザイソウルチタン誘導体およびその製
造方法を提供するものである。
That is, the present invention provides a hexaazaisowurtzitane derivative having a nitro group represented by the general formula (I) and a method for producing the same.

WAnN(6-n) (I) [式中、nは4または5、Aは炭素数1〜10のアシル基
であり、各々のアシル基は同一でも異なっていてもよ
く、Nはニトロ基、Wは下記の式(II)で表される6価
のヘキサアザイソウルチタン残基を表わす。] また、本発明は、一般式(III)で表されるニトロソ
基を有するヘキサアザイソウルチタン誘導体およびその
製造方法を提供するものである。
WA n N (6-n) (I) wherein n is 4 or 5, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, each acyl group may be the same or different, and N is nitro. The group W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). ] Further, the present invention provides a hexaazaisowurtzitane derivative having a nitroso group represented by the general formula (III) and a method for producing the same.

WAnNS(6-n) (III) [式中、nは4または5、Aは炭素数1〜10のアシル基
であり、各々のアシル基は同一でも異なっていてもよ
く、NSはニトロソ基、Wは下式(II)で表される6価の
ヘキサアザイソウルチタン残基を表わす。] 上記式(I)、(III)に於けるアシル基Aは、炭素
数1〜10のアシル基であればどのようなものでも用いる
ことができる。アシル基Aとしては、アセチル、ホルミ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、ヘキサノイル、2−フェニルアセチルなどが用いら
れる。好ましくは炭素数1〜5のアシル基、例えばホル
ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリルな
どが用いられ、更に好ましくは炭素数2〜4のアシル
基、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリルなどが用
いられる。式中のn個のアシル基はそれぞれ同一のもの
でも、異なったものでもよい。
WA n NS (6-n) (III) wherein n is 4 or 5, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, each acyl group may be the same or different, and NS is nitroso. The group W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). ] As the acyl group A in the above formulas (I) and (III), any acyl group having 1 to 10 carbon atoms can be used. As the acyl group A, acetyl, formyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, hexanoyl, 2-phenylacetyl and the like are used. Preferably, an acyl group having 1 to 5 carbon atoms, for example, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, valeryl and the like are used, and more preferably, an acyl group having 2 to 4 carbon atoms such as acetyl, propionyl, butyryl and the like are used. The n acyl groups in the formula may be the same or different.

これらのヘキサアザイソウルチタン誘導体は、アシル
基、ニトロソ基、ニトロ基の置換する位置の違いにより
複数の異性体をとることができるが、本発明はこれらの
いずれの構造であってもよい。
These hexaazaisowurtzitanium derivatives can take a plurality of isomers depending on the substitution position of the acyl group, nitroso group and nitro group, and the present invention may have any of these structures.

以下に、上記式(I)、(III)のヘキサアザイソウ
ルチタン誘導体の製造方法について述べる。
Hereinafter, a method for producing the hexaazaisowurtzitane derivative of the above formulas (I) and (III) will be described.

まず、一般式(I)のニトロ基を有するヘキサアザイ
ソウルチタン誘導体、および該誘導体からヘキサニトロ
ヘキサアザイソウルチタンを製造するには、反応式
(1)に示されているように、WAmH(6-m)をニトロ化す
ればよい。
First, in order to produce a hexaazaisoisotitanium derivative having a nitro group of the general formula (I) and hexanitrohexaazaisowurtzitanium from the derivative, as shown in the reaction formula (1), It suffices to nitrate m H (6-m) .

WAmH(6-m) → WAnN(6-n) (1) [式中、mは4〜6の整数、nは4〜5の整数、Aは炭
素数1〜10のアシル基であり、各々のアシル基は同一で
も異なっていてもよく、Hは水素原子、Nはニトロ基、
Wは6価のヘキサアザイソウルチタン残基を表わす。] また、一般式(III)のニトロソ基を有するヘキサア
ザイソウルチタンを製造するには、反応式(2)に示さ
れているように、WAnH(6-n)をニトロソ化すればよい。
WA m H (6-m) → WA n N (6-n) (1) wherein m is an integer of 4 to 6, n is an integer of 4 to 5, and A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms. Wherein each acyl group may be the same or different, H is a hydrogen atom, N is a nitro group,
W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitane residue. In addition, in order to produce hexaazaisowurtzitanium having a nitroso group represented by the general formula (III), WA n H (6-n) is nitrosated as shown in a reaction formula (2). Good.

WAnH(6-n) → WAnNS(6-n) (2) [式中、nは4〜5の整数、Aは炭素数1〜10のアシル
基であり、各々のアシル基は同一でも異なっていてもよ
く、Hは水素原子、NSはニトロソ基、Wは6価のヘキサ
アザイソウルチタン残基を表わす。] 上記反応式(1)および(2)の原料であるWAnH
(6-n)およびWAmH(6-m)にはどのような方法で製造された
誘導体を使用してもよい。例えば、WO 96/23792に記載
されているように、WB6をアシル化剤存在下で還元的脱
アリールメチル化した後、アシル化剤不存在下で還元的
脱アリールメチル化することにより製造されたWAnH
(6-n)、WAmH(6-m)を使用すると好ましい。この製造方法
については後に詳述する。
WA n H (6-n) → WA n NS (6-n) (2) wherein n is an integer of 4 to 5, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, and each acyl group is H may be the same or different, H represents a hydrogen atom, NS represents a nitroso group, and W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue. WA n H which is a raw material of the above reaction formulas (1) and (2)
Derivatives prepared by any method may be used for (6-n) and WA m H (6-m) . For example, as described in WO 96/23792, after reductive de-arylmethyl the WB 6 in the presence of an acylating agent, is prepared by reductive de-aryl methylation in the absence acylating agent WA n H
It is preferable to use (6-n) and WA m H (6-m) . This manufacturing method will be described later in detail.

反応式(1)および(2)の原料となるヘキサアザイ
ソウルチタン誘導体、WAnH(6-n)、WAmH(6-m)のアシル基
は、炭素数1〜10のアシル基である。各々のアシル基は
同一であっても異なっていてもよい。アシル基として
は、アセチル、ホルミル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、ヘキサノイル、2−フェニルア
セチルなどが用いられ、好ましくは炭素数1〜5のアシ
ル基、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、バレリルなどが用いられ、更に好ましくは炭素数
2〜4のアシル基、例えばアセチル、プロピオニル、ブ
チリルなどが用いられる。
The acyl group of the hexaazaisowurtzitane derivative, WA n H (6-n) or WA m H (6-m) , which is a raw material of the reaction formulas (1) and (2), is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms. It is. Each acyl group may be the same or different. As the acyl group, acetyl, formyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, hexanoyl, 2-phenylacetyl and the like are used, and preferably an acyl group having 1 to 5 carbon atoms such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, valeryl and the like are used. And more preferably an acyl group having 2 to 4 carbon atoms, for example, acetyl, propionyl, butyryl and the like.

また、これらのヘキサアザイソウルチタン誘導体は、
アシル基、水素原子の置換する位置の違いにより複数の
異性体をとることができるが、本発明はこれらのいずれ
の構造体であっても使用可能である。
In addition, these hexaazaisoulitanium derivatives
A plurality of isomers can be taken depending on the substitution position of the acyl group and the hydrogen atom, and the present invention can be used with any of these structures.

WAmH(6-m)には、WA4H2、WA5H1およびWA6があるが、こ
れらのいずれか1種のみを用いてもよいし、2種以上の
混合物として用いてもよい。
WA m H (6-m) includes WA 4 H 2 , WA 5 H 1, and WA 6 , and any one of them may be used alone, or a mixture of two or more may be used. Good.

反応式(1)のニトロ化工程に使用されるニトロ化剤
としてはWAmH(6-m)をニトロ化しうるニトロ化剤であれ
ばどのようなものを用いてもよい。例えば、硝酸のみ、
四酸化二窒素、硝酸とニトロ化促進剤の混合物、五酸化
二窒素等が挙げられる。これらのニトロ化剤を二種以上
混合して使用してもよい。上記ニトロ化剤のうち、硝酸
は、その一部または全部を硝酸銀などの金属硝酸塩、あ
るいはテトラフルオロホウ酸ニトロニウム等のニトロニ
ウム塩で置き換えてもよい。硝酸、四酸化二窒素、五酸
化二窒素を使用すると、ニトロ化反応の選択性を高める
ことができるので好ましい。
As the nitrating agent used in the nitration step of the reaction formula (1), any nitrating agent capable of nitrating WA m H (6-m) may be used. For example, only nitric acid,
Examples include nitrous oxide, a mixture of nitric acid and a nitration accelerator, and nitrous oxide. These nitrating agents may be used as a mixture of two or more. Among the above nitrating agents, nitric acid may be partially or entirely replaced with a metal nitrate such as silver nitrate or a nitronium salt such as nitronium tetrafluoroborate. The use of nitric acid, nitrous oxide, or nitrous oxide is preferred because the selectivity of the nitration reaction can be increased.

ニトロ化促進剤とは、ニトロニウムイオンの求電子性
を強めるものであり、通常、 A. トリフルオロ酢酸などのペルフルオロ構造を有する
有機酸、硫酸、発煙硫酸、ペルフルオロアルキルスルホ
ニルイミド、ポリリン酸、トリフルオロメタンスルホン
酸等に代表される有機または無機の強ブレーンステッド
酸; B. 無水トリフルオロ酢酸、無水酢酸などのカルボン酸
無水物; C. 五酸化二リン、五酸化二窒素、三酸化硫黄等の酸化
物; D. ペンフルオロアルキルスルホニルイミドの希土類
塩、ペルフルオロアルキルスルホ酸の希土類塩等のルイ
ス酸; などを使用することができる。これらのニトロ化促進剤
は二種類以上の混合して使用してもよい。上記A〜Cの
ニトロ化促進剤のうち、A.の強ブレーンステッド酸、お
よびC.の酸化物はニトロ化反応の速度を速めることから
好ましい。また、A.の強ブレーンステッド酸は、トリフ
ルオロ酢酸と同等かより強い酸性度(例えば、pKaで表
される酸性度)を有する酸であるとより好ましい。A.〜
C.の中でも、硫酸、トリフルオロ酢酸、ポリリン酸、五
酸化二リン、三酸化硫黄が特に好ましい。
The nitration accelerator enhances the electrophilicity of the nitronium ion, and is usually A. an organic acid having a perfluoro structure such as trifluoroacetic acid, sulfuric acid, fuming sulfuric acid, perfluoroalkylsulfonylimide, polyphosphoric acid, trifluorofluoride, etc. Organic or inorganic strong Bronsted acids such as methanesulfonic acid; B. carboxylic anhydrides such as trifluoroacetic anhydride and acetic anhydride; C. diphosphorus pentoxide, dinitrogen pentoxide, sulfur trioxide and the like Oxides; D. Lewis acids such as rare earth salts of penfluoroalkylsulfonylimides and rare earth salts of perfluoroalkylsulfonates; and the like. These nitration accelerators may be used as a mixture of two or more. Among the above nitration accelerators A to C, the strong Bronsted acid of A. and the oxide of C. are preferred because they increase the rate of the nitration reaction. The strong Bronsted acid of A. is more preferably an acid having an acidity equal to or stronger than trifluoroacetic acid (for example, an acidity represented by pKa). A. ~
Among C., sulfuric acid, trifluoroacetic acid, polyphosphoric acid, diphosphorus pentoxide, and sulfur trioxide are particularly preferable.

尚、ペルフルオロアルキルスルホニルイミドは、下記
の式(IX)で表される。
The perfluoroalkylsulfonylimide is represented by the following formula (IX).

RfSO2NHSO2Rf′ (IX) [式中、Rf及びRf′は、炭素数1〜8のペルフルオロア
ルキル基を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Nは窒
素原子、Hは水素原子を表わす。] ペルフルオロアルキルスルホニルイミドのペルフルオ
ロアルキル基は、直鎖状のペルフルオロアルキル基であ
ってもよいし、分岐状のペルフルオロアルキル基であっ
てもよく、1種以上のペルフルオロアルキルスルホニル
イミドを同時に使用してもよい。ペルフルオロアルキル
スルホニルイミドの例としては、例えばビス−(トリフ
ルオロメチルスルホニル)イミド、ビス−(ノナフルオ
ロブチルスルホニル)イミド、ビス−(ヘプタデカフル
オロオクチルスルホニル)イミドなどがあげられる。
RfSO 2 NHSO 2 Rf ′ (IX) [wherein, Rf and Rf ′ represent a perfluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms, S is a sulfur atom, O is an oxygen atom, N is a nitrogen atom, and H is a hydrogen atom. Represents The perfluoroalkyl group of the perfluoroalkylsulfonylimide may be a linear perfluoroalkyl group or a branched perfluoroalkyl group, and may be obtained by simultaneously using one or more kinds of perfluoroalkylsulfonylimide. Is also good. Examples of perfluoroalkylsulfonylimide include, for example, bis- (trifluoromethylsulfonyl) imide, bis- (nonafluorobutylsulfonyl) imide, bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) imide and the like.

また、下記の式(X)で表されるペルフルオロアルキ
ルスルホン酸の希土類塩もニトロ化促進剤として使用で
きる。
Further, a rare earth salt of perfluoroalkylsulfonic acid represented by the following formula (X) can also be used as a nitration accelerator.

M(RfSO3 (X) [式中、Rfは、炭素数1〜8のペルフルオロアルキル基
を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Mは希土類元素
を表わす。] ペルフルオロアルキルスルホン酸の希土類塩の例とし
ては、例えばトリス−(トリフルオロメチルスルホン)
ランタン[III]、トリス−(トリフルオロメチルスル
ホン)イットリウム[III]、トリス−(トリフルオロ
メチルスルホン)ユウロピウム[III]、トリス−(ト
リフルオロメチルスルホン)イッテリビウム[III]、
トリス−(トリフルオロメチルスルホン)スカンジウム
[III]、トリス−(トリフルオロメチルスルホン)プ
ラセオジウム[III]などがあげられる。
M (RfSO 3 ) 3 (X) [wherein, Rf represents a C 1-8 perfluoroalkyl group, S represents a sulfur atom, O represents an oxygen atom, and M represents a rare earth element. Examples of rare earth salts of perfluoroalkylsulfonic acids include, for example, tris- (trifluoromethylsulfone)
Lanthanum [III], tris- (trifluoromethylsulfone) yttrium [III], tris- (trifluoromethylsulfone) europium [III], tris- (trifluoromethylsulfone) ytterbium [III],
Tris- (trifluoromethylsulfone) scandium [III] and tris- (trifluoromethylsulfone) praseodymium [III].

また、ペルフルオロアルキルスルホニルイミドの希土
類塩には下記の式(XI)で表される化合物が使用しう
る。
Further, a compound represented by the following formula (XI) can be used as the rare earth salt of perfluoroalkylsulfonylimide.

M(RfSO2NSO2Rf′) (XI) [式中、Rf及びRf′は、炭素数1〜8のペルフルオロア
ルキル基を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Nは窒
素原子、Mは希土類元素子を表わす。] ペルフルオロアルキルスルホニルイミドのペルフルオ
ロアルキル基は、直鎖状のペルフルオロアルキル基であ
ってもよいし、分岐状のペルフルオロアルキル基であっ
てもよく、1種以上のペルフルオロアルキルスルホニル
イミドを同時に使用してもよい。
M (RfSO 2 NSO 2 Rf ′) 3 (XI) wherein Rf and Rf ′ each represent a C 1-8 perfluoroalkyl group, S is a sulfur atom, O is an oxygen atom, N is a nitrogen atom, M represents a rare earth element. The perfluoroalkyl group of the perfluoroalkylsulfonylimide may be a linear perfluoroalkyl group or a branched perfluoroalkyl group, and may be obtained by simultaneously using one or more kinds of perfluoroalkylsulfonylimide. Is also good.

ペルフルオロアルキルスルホニルイミドの希土類塩
は、水に安定なルイス酸であり、このルイス酸触媒は、
反応後回収し再使用することができる。
Rare earth salts of perfluoroalkylsulfonylimides are water-stable Lewis acids, and this Lewis acid catalyst is
After the reaction, it can be recovered and reused.

ペルフルオロアルキルスルホニルイミドの希土類塩の
例としては、例えばトリス−[ビス−(トリフルオロメ
チルスルホニル)イミド]ランタン[III]、トリス−
[ビス−(トリフルオロメチルスルホニル)イミド]イ
ッテリビウム[III]、トリス−(ビス−(トリフルオ
ロメチルスルホニル)イミド]イットリウム[III]、
トリス−[ビス−(ノナフルオロブチルスルホニル)イ
ミド]イッテリビウム[III]、トリス−[ビス−(ノ
ナフルオロブチルスルホニル)イミド]イットリウム
[III]、トリス−[ビス−(ノナフルオロブチルスル
ホニル)イミドランタン[III]、トリス−[ビス−
(ヘプタデカフルオロオクチルスルホニル)イミド]ラ
ンタン[III]、トリス−[ビス−(ヘプタデカフルオ
ロオクチルスルホニル)イミド]イッテリビウム[II
I]、トリス−[ビス−(ヘプタデカフルオロオクチル
スルホニル)イミド]イットリウム[III]などの希土
類元素を含むルイス酸触媒があげられる。
Examples of rare earth salts of perfluoroalkylsulfonylimide include, for example, tris- [bis- (trifluoromethylsulfonyl) imide] lanthanum [III], tris-
[Bis- (trifluoromethylsulfonyl) imide] ytterbium [III], tris- (bis- (trifluoromethylsulfonyl) imide] yttrium [III],
Tris- [bis- (nonafluorobutylsulfonyl) imide] ytterbium [III], tris- [bis- (nonafluorobutylsulfonyl) imide] yttrium [III], tris- [bis- (nonafluorobutylsulfonyl) imido lanthanum [ III], Tris- [bis-
(Heptadecafluorooctylsulfonyl) imide] lanthanum [III], tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) imide] ytterbium [II
I] and a Lewis acid catalyst containing a rare earth element such as tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) imide] yttrium [III].

ペルフルオロアルキルスルホニルイミドの希土類塩
は、ペルフルオロアルキルスルホニルイミドと希土類元
素の塩であり、希土類元素であれば、どのような元素で
あってもよいが、希土類元素の好ましい例としては、ラ
ンタン、イッテリビウム、イットリウムなどが好まし
い。
The rare earth salt of perfluoroalkylsulfonylimide is a salt of perfluoroalkylsulfonylimide and a rare earth element, and any element may be used as long as it is a rare earth element. Preferred examples of the rare earth element include lanthanum, ytterbium, Yttrium and the like are preferred.

上記促進剤は、均一系のものでも不均一系のものでも
使用できる。例えば、下記のものを使用すると、促進剤
の回収が容易になるため好ましい。
The accelerator can be used either homogeneously or heterogeneously. For example, it is preferable to use the following because the recovery of the accelerator is facilitated.

E. Nafion−NR50(商品名、デュポン社)などの高分子
固体ブレーンステッド酸、ゼオライト等の無機固体ブレ
ーンステッド酸; F. 長鎖フルオロアルキル基を有するペルフルオロアル
キルスルホニルイミドの希土類等の無機固体のルイス
酸; G. 反応系に均一に溶解しない、液状のペルフルオロア
ルカンスルホン酸、ペルフルオロ骨格を有するオルゴス
ルホン酸; 上記ゼオライトの代表的な例にはアナルシウム(anal
cime)、ビカタイト(bikataite)、ブリュースタライ
ト(brewsterite)、チャバザイト(chabazite)、クリ
ノプチロバイト(clinoptilobite)、バチアーダイト
(bachiardite)、エジングトナイト(edingtonite)、
エピスチルバイト(epistilbite)、エリオナイト(eri
onite)、フォージャーサイト(faujasite)、フェリエ
ライト(ferrierite)、ギスモンジン(gismondine)、
グメリナイト(gmelinite)、ゴンナーダイト(gonnard
ite)、ハーモントム(harmontome)、ヒューランダイ
ト(heulandite)、キーゼルグール(kieselguhr)、ラ
ウモンタイト(laumontite)、レビナイト(levynit
e)、ロソド(losod)、メソライト(mesolite)、モル
デナイト(mordenite)、ナトロライト(natrolite)、
オメガ(omega)、ポーリンガイト(paulingite)、フ
ィリップサイト(philipsite)、スコレサイト(scolec
ite)、ソダライトヒドレート(sodalitehydrate)、ス
チルバイト(stilbite)、トムソナイト(thomsonit
e)、ユガワラライト(yugawaralite)があり、その
他、合成ゼオライト化合物の例として「A」、「N−
A」、「Lb」、「P」、「T」、「X」、「ZX−4」、
「ZX−5N、「ZSM−5」、「ZSM−11」、「MCM−22」、
「フォージャーサイトン、「リンデ タイプL」などが
使用される。
E. Inorganic solid Brönsted acid such as Nafion-NR50 (trade name, DuPont) and zeolite; F. Inorganic solid such as rare earth such as perfluoroalkylsulfonylimide having long-chain fluoroalkyl group Lewis acid; G. Liquid perfluoroalkanesulfonic acid which does not dissolve uniformly in the reaction system, orgosulfonic acid having a perfluoro skeleton; typical examples of the above zeolite include analium (anal)
cime), bicatite (bikataite), brewsterite (brewsterite), chabazite (chabazite), clinoptilobite (clinoptilobite), bachiardite (bachiardite), agingtonite (edingtonite),
Epistilbite, erionite (eri
onite), faujasite, ferrierite, gismondine,
Gmelinite, gonnardite
ite), harmontome, heulandite, kieselguhr, laumontite, levinite
e), losod, mesolite, mordenite, natrolite,
Omega (omega), Paulingite (paulingite), phillipsite (philipsite), scolesite (scolec)
ite), sodalite hydrate, stilbite, tomsonit
e), yugawaralite, and "A", "N-
A "," Lb "," P "," T "," X "," ZX-4 ",
"ZX-5N," ZSM-5 "," ZSM-11 "," MCM-22 ",
"Faujasiten, Linde Type L" and the like are used.

強ブレーンステッド酸として、スルホン酸基を有する
不溶性高分子物質、スルホン酸基を有するカチオン交換
樹脂も使用しうる。
As the strong Bronsted acid, an insoluble polymer substance having a sulfonic acid group and a cation exchange resin having a sulfonic acid group can also be used.

スルホン酸基を有する不溶性高分子物質、およびスル
ホン酸基を有するカチオン交換樹脂もまた、反応後回収
し再使用できる強酸性の固体触媒である。スルホン酸基
を有する不溶性高分子物質、およびスルホン酸基を有す
るカチオン交換樹脂の例には、ポリエチレンスルホン
酸、スルオン酸基を有する含フッ素ポリマー等があげら
れ、好ましくは下記一般式(X II)で表される構造式を
繰り返し単位とするスルホン酸基を有する含フッ素ポリ
マー等のスルホン酸基を有する不溶性高分子物質、カチ
オン交換樹脂等が挙げられる。スルホン酸基を有する不
溶性高分子物質、カチオン交換樹脂の好ましい例として
は、Nafion−NR50(商品名、デュポン社製)等が挙げら
れる。
Insoluble polymer substances having sulfonic acid groups and cation exchange resins having sulfonic acid groups are also strongly acidic solid catalysts that can be recovered and reused after the reaction. Examples of the insoluble polymer substance having a sulfonic acid group and the cation exchange resin having a sulfonic acid group include polyethylene sulfonic acid, a fluorine-containing polymer having a sulfonic acid group, and the like. Preferably, the following general formula (XII) And a sulfonic acid group-containing insoluble polymer such as a fluorinated polymer having a sulfonic acid group having a repeating unit represented by the following formula: and a cation exchange resin. Preferred examples of the insoluble polymer substance having a sulfonic acid group and the cation exchange resin include Nafion-NR50 (trade name, manufactured by DuPont) and the like.

反応(1)のニトロ化工程は無溶媒中で行うこともで
きるが、溶媒中で行うこともできる。溶媒としては、上
記の原料をニトロ化する際に悪影響を及ぼさないもので
あればどのようなものでも使用できる。例えば、ジクロ
ロメタン、クロロホルム等のハロゲン化物;アセトニト
リル、スルホラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等の極性溶媒;THF、ジエチルエーテル等のエ
ーテル化合物;酢酸エチル、酢酸メチル、プロピオン酸
エチル等のエステル化合物;アセトン、メチルエチルケ
トン、エチルイソブチルケトン等ケトン化合物等が使用
される。これらの溶媒は、いずれか一つのみを用いても
よいし、二種以上の溶媒を混合して用いてもよい。
The nitration step of the reaction (1) can be performed without a solvent, or can be performed in a solvent. As the solvent, any solvent can be used as long as it does not adversely affect the nitration of the above raw materials. For example, halides such as dichloromethane and chloroform; polar solvents such as acetonitrile, sulfolane, dimethylformamide, and dimethylacetamide; ether compounds such as THF and diethyl ether; ester compounds such as ethyl acetate, methyl acetate, and ethyl propionate; acetone, methyl ethyl ketone And ketone compounds such as ethyl isobutyl ketone. One of these solvents may be used alone, or a mixture of two or more solvents may be used.

反応式(1)の工程は、−20〜80℃、好ましくは0〜
60℃で行う。また、反応時間については、0.5〜10時
間、好ましくは1〜8時間である。
The step of the reaction formula (1) is performed at -20 to 80 ° C, preferably 0 to 80 ° C.
Perform at 60 ° C. The reaction time is 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 8 hours.

反応式(1)の工程で用いられるニトロ化剤の量は、
WAmH(6-m)に対するモル比で表現して、通常、2.0〜50
0、好ましくは3.0〜400で使用される。ニトロ化促進剤
の量は、WAmH(6-m)に対するモル比で表現して、1.0〜50
0、好ましくは1.5〜300で使用できる。
The amount of the nitrating agent used in the step of the reaction formula (1) is
Expressed as a molar ratio to WA m H (6-m) , usually 2.0 to 50
0, preferably 3.0-400. The amount of the nitration promoter is expressed as a molar ratio with respect to WA m H (6-m) from 1.0 to 50.
0, preferably 1.5 to 300 can be used.

本発明の反応式(2)の反応式で表されるニトロソ化
工程の原料であるWAnH(6-n)はどのような方法で製造さ
れたものを使用してもよい。例えば、WO 96/23792に記
載されているように、WB6をアシル化剤存在下で還元的
脱アリールメチル化した後、アシル化剤不存在下で還元
的脱アリールメチル化することにより製造されたWAnH
(6-n)を使用すると好ましい。この製造方法については
後に詳述する。
WA n H (6-n) as a starting material for the nitrosation step represented by the reaction formula (2) of the present invention may be produced by any method. For example, as described in WO 96/23792, after reductive de-arylmethyl the WB 6 in the presence of an acylating agent, is prepared by reductive de-aryl methylation in the absence acylating agent WA n H
It is preferable to use (6-n) . This manufacturing method will be described later in detail.

反応式(2)のニトロソ化工程の原料には、WA4H2
よびWA5H1があるが、いずれか一方のみを用いてもよい
し、2種の混合物として用いてもよい。WA4H2およびWA5
H1は、各々同様の方法でニトロソ化できるので、どのよ
うな割合で混合しても容易にニトロソ化合物とすること
ができる。
The raw materials for the nitrosation step of reaction formula (2) include WA 4 H 2 and WA 5 H 1 , and either one of them may be used or a mixture of two may be used. WA 4 H2 and WA 5
Since H 1 can be nitrosated by the same method, it can be easily converted into a nitroso compound by mixing at any ratio.

反応式(2)の工程で使用されるニトロソ化剤として
は、WAnH(6-n)をニトロソ化することによりWAnNS(6-n)
を製造できるものであればどのようなものでもよい。例
えば、亜硫酸、四酸化二窒素、ニトロソニウム塩や塩化
ニトロシル等のニトロソニウムイオンの求電子性を強め
たニトロソ化剤等が使用できる、亜硝酸はそのまま使用
してもよいが、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の
亜硝酸塩と酢酸や塩酸等の酸と混合したものをすること
もできる。ニトロソニウム塩としては、テトラフルオロ
ホウ酸ニトロソニウム、ヘキサフルオロリン酸ニトロソ
ニウム等のフッ素化物が陰イオンであるものがニトロソ
ニウムイオンの求電子性をより強めるので好ましい。ニ
トロソ化剤の添加量は、WAnH(6-n)に1モルに対し、1
〜200モル、好ましくは3〜150モル、さらに好ましくは
4〜100モルである。
Scheme (2) The step nitrosating agent used in, WA n H (6-n ) WA by nitrosating the n NS (6-n)
Any material can be used as long as it can be manufactured. For example, sulfurous acid, dinitrogen tetroxide, a nitrosonizing agent such as a nitrosonium salt or nitrosyl chloride, which has enhanced electrophilicity of nitrosonium ions, etc. can be used.Nitrous acid may be used as it is, but sodium nitrite, A mixture of nitrite such as potassium nitrite and an acid such as acetic acid and hydrochloric acid can also be used. As the nitrosonium salt, those in which a fluoride such as nitrosonium tetrafluoroborate or nitrosonium hexafluorophosphate is an anion are preferable because the electrophilicity of the nitrosonium ion is further enhanced. The addition amount of the nitrosating agent is 1 mol per mol of WA n H (6-n).
200200 mol, preferably 3-150 mol, more preferably 4-100 mol.

反応式(2)のニトロソ化工程は無溶媒でもよいが、
通常、溶媒中で反応させる。溶媒としては、反応に悪影
響を及ぼさないものであればどのようなものでも使用で
きる。例えば、ジクロロメタン、クロロホルムや四塩化
炭素等のハロゲン化物;アセトニトリル、スルホラン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の極性
溶媒;酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸;無水酢酸、
無水プロピオン酸等のカルボン酸無水物;THF、ジエチル
エーテル等のエーテル化合物;酢酸エチル、酢酸メチ
ル、プロピオン酸エチル等のエステル化合物;アセト
ン、メチルエチルケトン、エチルイソブチルケトン等ケ
トン化合物、水、ピリジン等が使用される。これらの溶
媒は、一種または二種以上混合して用いてもよい。
The nitrosation step of the reaction formula (2) may be solvent-free,
Usually, the reaction is carried out in a solvent. Any solvent can be used as long as it does not adversely affect the reaction. For example, halides such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride; acetonitrile, sulfolane,
Polar solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide; carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid; acetic anhydride;
Carboxylic anhydrides such as propionic anhydride; ether compounds such as THF and diethyl ether; ester compounds such as ethyl acetate, methyl acetate and ethyl propionate; ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone and ethyl isobutyl ketone; water and pyridine are used. Is done. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

反応式(2)のニトロソ化工程は、−50〜200℃、好
ましくは−30〜150℃、さらに好ましくは−20〜100℃の
範囲で行えばよい。
The nitrosation step in the reaction formula (2) may be performed at a temperature in the range of −50 to 200 ° C., preferably −30 to 150 ° C., and more preferably −20 to 100 ° C.

尚、反応式(3)で表されるように、(2)式によっ
て得られるWAnNS(6-n)をニトロ化剤でニトロ化すること
によっても、式(I)のニトロ基を有するヘキサアザイ
ソウルチタン誘導体を製造することができる。
As shown in the reaction formula (3), the nitro group of the formula (I) can be obtained by nitrating WA n NS (6-n) obtained by the formula (2 ) with a nitrating agent. Hexaazaisoulitanium derivatives can be produced.

WAnNS(6-n) → WAnN(6-n) (3) [式中、nは4〜5の整数、Aは炭素数1〜10のアシル
基であり、各々のアシル基は同一でも異なっていてもよ
く、NSはニトロソ基、Nはニトロ基、Wは6価のヘキサ
アザイソウルチタン残基を表わす。] 反応式(3)のニトロ化工程の原料には、WA4NS2及び
WA5NS1が挙げられるが、どちらか一方のみを用いてもよ
いし、2種の混合物として用いてもよい。WA4NS2および
WA5NS1は、各々同様の方法でニトロ化できるので、原料
中にはこれらがどのような割合で含まれていてもよい。
また、反応式(2)で生成する可能性のあるWA4NS1H1
未反応で残存しているWA4H2、WA5H1を含む混合物を原料
としてもよい。
WA n NS (6-n) → WA n N (6-n) (3) wherein n is an integer of 4 to 5, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, and each acyl group is NS may be the same or different, NS represents a nitroso group, N represents a nitro group, and W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue. The raw materials for the nitration step of reaction formula (3) include WA 4 NS 2 and
WA 5 NS 1 may be used, but either one may be used or two types may be used as a mixture. WA 4 NS 2 and
Since WA 5 NS 1 can be nitrated in the same manner, the raw materials may contain these in any ratio.
Also, WA 4 NS 1 H 1 , which may be generated by the reaction formula (2),
A mixture containing unreacted and remaining WA 4 H 2 and WA 5 H 1 may be used as a raw material.

本発明の反応式(3)のニトロ化剤や、溶媒、反応温
度等の反応条件は、反応式(1)のニトロ化工程で述べ
たものと同様のもの、および反応条件を用いることがで
きる。
The reaction conditions such as the nitrating agent of the reaction formula (3), the solvent and the reaction temperature of the present invention can be the same as those described in the nitration step of the reaction formula (1) and the reaction conditions. .

上記反応式(1)および(2)で原料とするWAnH
(6-n)は、次の反応式(4)によって得られる。
WA n H used as a raw material in the above reaction formulas (1) and (2)
(6-n) is obtained by the following reaction formula (4).

[式中mは4〜6の整数、Aは炭素数1〜10のアシル基
であり、各々のアシル基は同一でも異なっていてもよ
く、Bはアリールメチル基、Hは水素原子、Wは6価の
ヘキサアザイソウルチタン残基を表わす。] すなわち、WB6を1)アシル化剤の存在下で還元的に
脱アリールメチル化してWAmB(6-m)を合成し、2)更にW
AmB(6-m)を還元的に脱アリールメチル化することによっ
て得られる。
Wherein m is an integer of 4 to 6, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, each acyl group may be the same or different, B is an arylmethyl group, H is a hydrogen atom, and W is It represents a hexavalent hexaazaisowurtzitane residue. That is, WB 6 is 1) reductively dearylmethylated in the presence of an acylating agent to synthesize WA m B (6-m) , and 2)
It is obtained by reductive dearylmethylation of A m B (6-m) .

(4)の反応の1)アシル化剤の存在下での還元的脱
アリールメチル化の工程は、通常、還元剤存在下、還元
用触媒と接触させることにより行なわれる。この場合に
用いられる還元剤および触媒としては、WB6の脱アリー
ルメチル化反応を進行させ得るものならば、どのような
組み合わせでも用いることができる。還元剤としては、
水素、ギ酸などが使用することができ、好ましくは水素
が用いられる。触媒には、例えば、白金族に属する金
属、またはその誘導体が用いられ、好ましくは、Pd(OA
c)、PdCl2、Pd(NO3、PdO、Pd(OH)、Pd3P
b1、Pd3Te1などのPd誘導体およびPd金属;RuCl3などのRu
誘導体およびRu金属などが用いられ、さらに好ましく
は、Pd(OAc)、PdCl2などのPd誘導体およびPd金属が
使用される。これらの触媒は、そのまま使用してもよい
し、活性炭、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、ゼ
オライト、活性白土などの各種担体に担持させて使用す
ることもできる。反応に供する前にこれらの触媒を還元
処理してもよい。固体触媒の場合には、シリル化やアシ
ル化などの処理を行なうことで表面酸点を不活性化させ
たり、NaOHなどアルカリ性の物質を吸着させることによ
って固体表面の酸性度を変化させることもできる。触媒
の量は、その触媒の還元活性等によって変わり得るが、
WB6に対する触媒金属の重量比で表現して、通常、0.000
1〜20、好しくは、0.001〜10の範囲で使用することがで
きる。
The step of 1) reductive dearylmethylation in the presence of the acylating agent in the reaction (4) is usually carried out by contacting with a reducing catalyst in the presence of a reducing agent. As the reducing agent and catalyst to be used in this case, if as it can proceed the de-arylmethyl reaction of WB 6, it can be used in any combination. As a reducing agent,
Hydrogen, formic acid and the like can be used, and hydrogen is preferably used. As the catalyst, for example, a metal belonging to the platinum group or a derivative thereof is used, and preferably, Pd (OA
c) 2 , PdCl 2 , Pd (NO 3 ) 2 , PdO, Pd (OH) 2 , Pd 3 P
b 1 , Pd derivatives such as Pd 3 Te 1 and Pd metal; Ru such as RuCl 3
Derivatives and Ru metal are used, and more preferably, Pd derivatives such as Pd (OAc) 2 and PdCl 2 and Pd metal are used. These catalysts may be used as they are, or may be used by being supported on various carriers such as activated carbon, silica, alumina, silica-alumina, zeolite and activated clay. These catalysts may be subjected to a reduction treatment before the reaction. In the case of a solid catalyst, treatment such as silylation or acylation can be used to inactivate surface acid sites, or to change the acidity of the solid surface by adsorbing an alkaline substance such as NaOH. . The amount of the catalyst may vary depending on the reduction activity of the catalyst, etc.
Expressed as the weight ratio of catalyst metal to WB 6 , typically 0.000
It can be used in the range of 1 to 20, preferably 0.001 to 10.

(4)の1)の工程で用いられるアシル化剤として
は、2級アミンをアシル化できるものであればいずれで
あっても使用できるが、N−アセトキシコハク酸イミ
ド、N−プロピオニルオキシコハク酸イミド、N−(2
−フェニルアセトキシ)コハク酸イミドなどのN−ヒド
ロキシコハク酸イミドのカルボン酸エステル;無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、酢酸−ギ酸混合酸の
無水物などのカルボン酸無水物;アセチルイミダゾー
ル、プロピオニルイミダゾールなどのアシルイミダゾー
ル;フェニルブロミドと無水酢酸などのフェニルブロミ
ドと無水カルボン酸などが挙げられる。これらのアシル
化剤の中で、N−アセトキシコハク酸イミド、N−プロ
ピオニルオキシコハク酸イミドなどのN−ヒドロキシコ
ハク酸イミドのカルボン酸エステル(N−ヒドロキシコ
ハク酸イミドエステル)を使用すると、WA6の選択性が
向上するので好ましい。これらのアシル化剤は、いずれ
か一種のみを用いても良いし、二種以上混合して使用し
てもよい。特に、N−アセトキシコハク酸イミド、N−
プロピオニルオキシコハク酸イミドなどのN−ヒドロキ
シコハク酸イミドのカルボン酸エステルと、無水酢酸、
無水プロピオン酸などのカルボン酸無水物を混合して使
用すると、反応(4)の1)の工程の反応速度が向上す
る上、WA4H2、WA5H1の選択性も向上するため、特に好ま
しい。
As the acylating agent used in the step (1) of (4), any one can be used as long as it can acylate a secondary amine, and N-acetoxysuccinimide and N-propionyloxysuccinic acid can be used. Imide, N- (2
Carboxylic acid esters of N-hydroxysuccinimide such as -phenylacetoxy) succinimide; carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, and acetic acid-formic acid mixed acid anhydride; acetylimidazole, propionylimidazole Acylimidazole; phenyl bromide such as phenyl bromide and acetic anhydride; and carboxylic anhydride. When N-hydroxysuccinimide carboxylic acid ester (N-hydroxysuccinimide ester) such as N-acetoxysuccinimide and N-propionyloxysuccinimide is used among these acylating agents, WA 6 This is preferred because the selectivity of is improved. One of these acylating agents may be used alone, or two or more of them may be used in combination. In particular, N-acetoxysuccinimide, N-
A carboxylic acid ester of N-hydroxysuccinimide such as propionyloxysuccinimide, and acetic anhydride;
When a carboxylic anhydride such as propionic anhydride is mixed and used, the reaction rate in the step (1) of the reaction (4) is improved, and the selectivity of WA 4 H 2 and WA 5 H 1 is also improved. Particularly preferred.

添加するアシル化剤の量は、その反応方法や反応条件
によっても異なるが、WB6のアリールメチル基に対する
モル比で表現して4〜100、好ましくは、4.5〜50の範囲
で使用することができる。アシル化剤として、N−ヒド
ロキシコハク酸イミドエステルとカルボン酸無水物を混
合して用いる場合は、カルボン酸無水物の量を、N−ヒ
ドロキシコハク酸イミドのカルボン酸エステルに対する
モル比で表現して、0.01〜100、好ましくは、0.1〜10の
範囲とするとよい。
The amount of the acylating agent to be added varies depending on the reaction method and reaction conditions, 4 to 100 expressed by a molar ratio to the arylmethyl groups of WB 6, preferably, be used in the range of 4.5 to 50 it can. When an N-hydroxysuccinimide ester and a carboxylic anhydride are used as a mixture as an acylating agent, the amount of the carboxylic anhydride is represented by a molar ratio of the N-hydroxysuccinimide to the carboxylic ester. , 0.01 to 100, preferably 0.1 to 10.

(4)の1)の工程で用いられる溶媒は、WB6を溶解
したり、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればよい。
例えば、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレ
ン、クメン、シメン、ジイソプロピルベンゼン、フェニ
ルエチルエーテルなどの芳香族化合物;ジメチルアセト
アミドなどのアミド化合物;テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ジプ
ロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル
などの環状または直鎖状または分岐鎖状エーテル;メタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロルアルコ
ール、t−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコールな
どの脂肪族ケトンなどが挙げられる。これらの溶媒はい
ずれか一種のみを使用してもよいし、二種以上を混合し
て使用することもできる。上記溶媒のうち、ベンゼン、
トルエン、エチルベンゼン、キシレンなどの芳香族化合
物を用いるとWB6の脱アリールメチル化の反応速度が向
上するため好ましい。
The solvent used in step 1) of (4), or by dissolving the WB 6, it may be any solvent which does not adversely influence the reaction.
For example, aromatic compounds such as benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, cumene, cymene, diisopropylbenzene, and phenylethyl ether; amide compounds such as dimethylacetamide; tetrahydrofuran, dioxane, tetrahydropyran, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether; Cyclic or linear or branched ethers such as ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether; aliphatic ketones such as aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropyl alcohol and t-butyl alcohol; No. One of these solvents may be used alone, or two or more thereof may be used as a mixture. Of the above solvents, benzene,
Toluene, ethylbenzene, preferably to improve the reaction rate of the aromatic de arylmethyl of using the WB 6 compounds such as xylene.

溶媒の量は、用いる溶媒の溶解度や反応温度によって
も変わり得るが、使用するWB6に対する重量比で表現し
て、0.1〜100、好ましくは1〜100の範囲で使用するこ
とができる。
The amount of the solvent is may also vary depending on the solubility and the reaction temperature of the solvent used, expressed by weight relative to the WB 6 used, 0.1 to 100, preferably may be used in the range of 1 to 100.

反応圧力は、通常、0.01〜100、好ましくは0.1〜30MP
aの範囲であり、還元剤として水素を用いると、場合に
よっては圧力が高くなるほど反応速度が向上することが
あるため、水素の分圧で表現して、0.01〜50MPa、さら
に好ましくは、0.1〜20MPaの範囲に設定するとよい。水
素以外に、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス
が存在してもよい。
Reaction pressure is usually 0.01-100, preferably 0.1-30MP
When hydrogen is used as the reducing agent, the reaction rate may increase as the pressure increases in some cases, and therefore, expressed as a partial pressure of hydrogen, 0.01 to 50 MPa, more preferably 0.1 to 50 MPa. It is good to set in the range of 20MPa. In addition to hydrogen, an inert gas such as nitrogen, argon, and helium may be present.

反応温度は、通常、−20〜300℃、好ましくは0〜200
℃の範囲である。
The reaction temperature is generally -20 to 300 ° C, preferably 0 to 200 ° C.
It is in the range of ° C.

反応時間は、使用する触媒、アシル化剤、溶媒などの
条件によっても変わり得るが、通常、0.1〜500時間、好
ましくは1〜200時間の範囲である。
The reaction time may vary depending on conditions such as a catalyst, an acylating agent and a solvent to be used, but is usually in the range of 0.1 to 500 hours, preferably 1 to 200 hours.

(4)の反応の2)還元的に脱アリールメチル化工程
に用いられるWAmB(6-m)には、どのような方法で得られ
たものでも使用できる。
As the WA m B (6-m) used in the 2) reductive dearylmethylation step of the reaction (4), any obtained by any method can be used.

(4)の2)の工程には、WAmB(6-m)の脱アリールメ
チル化反応を進行させ得る方法であればどの様な方法を
用いても良い。通常、還元剤の存在下に、還元用触媒と
接触させることにより行なわれる。
In the step (2) of (4), any method may be used as long as the method allows the dearylmethylation reaction of WA m B (6-m) to proceed. Usually, it is carried out by contacting with a reducing catalyst in the presence of a reducing agent.

還元剤としては、水素、ヒドラジン、ギ酸などが使用
することができ、好ましくは、水素が用いられる。触媒
には、白金族に属する金属、またはその誘導体が用いら
れ、好ましくは、Pd(OAc)、PdCl2、Pd(NO3、P
dO、Pd(OH)、Pd3Pb1、Pd3Te1などのPd誘導体および
Pd金属;RuCl3などのRu誘導体およびRu金属などが用いら
れ、さらに好ましくは、Pd(OAc)、PdCl2などのPd誘
導体およびPd金属が使用される。これらの触媒は、その
まま使用してもよいし、活性炭、シリカ、アルミナ、シ
リカ−アルミナ、ゼオライト、活性白土などの各種担体
に担持させてから使用することもできる。反応に供する
前に触媒を還元処理してもよい。固体触媒の場合には、
シリル化やアシル化などの処理を行なうことで、表面酸
点を不活性化させたり、NaOHなどアルカリ性の物質を吸
着させることによって固体表面の酸性度を変化させるこ
ともできる。
As the reducing agent, hydrogen, hydrazine, formic acid and the like can be used, and preferably, hydrogen is used. As the catalyst, a metal belonging to the platinum group or a derivative thereof is used. Preferably, Pd (OAc) 2 , PdCl 2 , Pd (NO 3 ) 2 , P
Pd derivatives such as dO, Pd (OH) 2 , Pd 3 Pb 1 , Pd 3 Te 1 and
Pd metal; Ru derivatives such as RuCl 3 and Ru metals are used, and more preferably Pd derivatives such as Pd (OAc) 2 and PdCl 2 and Pd metals are used. These catalysts may be used as they are, or may be used after being supported on various carriers such as activated carbon, silica, alumina, silica-alumina, zeolite, and activated clay. Before the reaction, the catalyst may be subjected to a reduction treatment. In the case of a solid catalyst,
By performing a treatment such as silylation or acylation, the acidity of the solid surface can be changed by inactivating the surface acid sites or by adsorbing an alkaline substance such as NaOH.

触媒の使用量は、その触媒の還元活性等によっても変
わり得るが、WAmB(6-m)に対する使用する触媒金属の重
量比で表現して、0.0001〜10、好ましくは、0.001〜1
の範囲で使用することができる。
The amount of the catalyst used may vary depending on the reduction activity of the catalyst and the like, but is expressed as a weight ratio of the catalyst metal used to WA m B (6-m) , 0.0001 to 10, preferably 0.001 to 1
Can be used in the range.

(4)の2)の工程で用いられる溶媒は、WAmB(6-m)
を溶解したり、還元的脱アリールメチル化反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であればよい。例えば、酢酸、プロピ
オン酸、酪酸などのカルボン酸;ジメチルアセトアミド
などのアミド化合物;N,N−ジメチルアニリンなどのアミ
ン化合物などが挙げられる。これらの溶媒は一種のみで
用いてもよいし、二種以上を混合して使用することもで
きる。反応速度の点から酢酸、プロピオン酸などのカル
ボン酸を用いることが好ましい。
The solvent used in step (2) of (4) is WA m B (6-m)
Or any solvent which does not adversely affect the reductive dearylmethylation reaction. Examples thereof include carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid and butyric acid; amide compounds such as dimethylacetamide; amine compounds such as N, N-dimethylaniline. These solvents may be used alone or as a mixture of two or more. It is preferable to use a carboxylic acid such as acetic acid or propionic acid from the viewpoint of the reaction rate.

溶媒の量は、用いる溶媒の溶解度や反応温度によって
も変わり得るが、使用するWAmB(6-m)に対する重量比で
表現して、1〜500、好ましくは5〜100の範囲で使用す
ることができる。
The amount of the solvent may vary depending on the solubility of the solvent used and the reaction temperature, but is expressed in a weight ratio to the used WA m B (6-m) , and is used in the range of 1 to 500, preferably 5 to 100. be able to.

反応圧力は、通常、0.01〜100、好ましくは0.1〜10MP
aの範囲であり、還元剤として水素を用いる場合には、
水素の分圧で表現して、好ましくは0.01〜50MPa、さら
に好ましくは0.1〜10MPaの範囲とするとよい。水素以外
に、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガスが存在
してもよい。
Reaction pressure is usually 0.01-100, preferably 0.1-10MP
a, and when hydrogen is used as the reducing agent,
Expressed as a partial pressure of hydrogen, the pressure is preferably in the range of 0.01 to 50 MPa, more preferably 0.1 to 10 MPa. In addition to hydrogen, an inert gas such as nitrogen, argon, and helium may be present.

反応温度は、通常、−20〜30℃、好ましくは、0〜20
0℃の範囲である。
The reaction temperature is usually -20 to 30C, preferably 0 to 20C.
It is in the range of 0 ° C.

反応時間は、使用する触媒、アシル化剤、溶媒などの
条件によっても変わり得るが、通常、0.1〜500時間、好
ましくは1〜200時間である。
The reaction time may vary depending on the conditions such as the catalyst, acylating agent and solvent used, but is usually 0.1 to 500 hours, preferably 1 to 200 hours.

次に、一般式(I)(III)に示すヘキサアザイソウ
ルチタン誘導体からヘキサニトロヘキサアザイソウルチ
タンを製造する方法について述べる。一般式(I)(II
I)のヘキサアザイソウルチタン誘導体は、ニトロ化工
程により、容易にヘキサニトロヘキサアザイソウルチタ
ンを製造することができる。
Next, a method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane from the hexaazaisowurtzitane derivative represented by the general formulas (I) and (III) will be described. Formula (I) (II
By using the nitration step, hexanitroisazaitolosetitanium derivative (I) can easily produce hexanitrohexaazaisowurtzitane.

まず、下式(5)に示すとおり、一般式(I)をニト
ロ化することにより、ヘキサニトロヘキサアザイソウル
チタンを製造することができる。
First, as shown in the following formula (5), hexanitrohexaazaisowurtzitane can be produced by nitrating the general formula (I).

WAnN(6-n) → WN6 (5) 反応式(5)のニトロ化工程の原料には、WA4N2およ
びWA5N1が挙げられるが、どちらか一方のみを用いても
よいし、双方の混合物を用いてもよい。また、該原料中
には反応式(1)の工程で生成する可能性のあるWA4N1H
1、WA3N3、WA2N4、WA1N5、未反応として残存しているWA
4H2、WA5H1、WA6が含まれていてもよい。反応式(5)
の工程に用いるニトロ化促進剤、溶媒、反応温度の反応
条件は、反応式(1)のニトロ化工程で述べたものと同
様のもの、および反応条件を用いることができる。ニト
ロ化剤についても、反応式(1)の工程で述べたものと
同様のものを用いることができるが、硝酸とニトロ化促
進剤の混合物をニトロ化剤として使用すれば、ニトロ化
反応の速度を速めることができるので好ましい。ニトロ
化剤の量は、硝酸とニトロ化促進剤を混合してなるニト
ロ化剤を用いる場合、WAmH(6-m)に対するモル比で表現
して、硝酸の量が通常、6.0〜500、好ましくは9〜400
で使用される。反応温度については、通常−20〜140
℃、好ましくは、0〜120℃で行われる。反応時間につ
いては、0.5〜120時間、好ましくは1〜50時間で行うこ
とができる。
WA n N (6-n) → WN 6 (5) WA 4 N 2 and WA 5 N 1 may be mentioned as raw materials for the nitration step in the reaction formula (5). Alternatively, a mixture of both may be used. WA 4 N 1 H which may be formed in the step of reaction formula (1) is contained in the raw material.
1, WA 3 N 3, WA 2 N 4, WA 1 N 5, remaining as an unreacted WA
4 H 2 , WA 5 H 1 , and WA 6 may be included. Reaction formula (5)
The reaction conditions of the nitration accelerator, the solvent, and the reaction temperature used in the step (b) can be the same as those described in the nitration step of the reaction formula (1), and the reaction conditions. As the nitrating agent, those similar to those described in the step of the reaction formula (1) can be used. However, if a mixture of nitric acid and a nitration accelerator is used as the nitrating agent, the rate of the nitration reaction can be increased. Is preferred because it can be accelerated. When using a nitrating agent obtained by mixing nitric acid and a nitration accelerator, the amount of the nitrating agent is expressed as a molar ratio to WA m H (6-m) , and the amount of the nitric acid is usually 6.0 to 500. , Preferably 9-400
Used in. The reaction temperature is usually -20 to 140
C., preferably at 0-120.degree. The reaction time may be 0.5 to 120 hours, preferably 1 to 50 hours.

また、下式(6)に示すとおり、一般式(III)をニ
トロ化することにより、ヘキサニトロヘキサアザイソウ
ルチタンを製造することができる。
Also, as shown in the following formula (6), hexanitrohexaazaisowurtzitane can be produced by nitrating the general formula (III).

WAnNS(6-n) → WN6 (6) 反応式(6)のニトロ化工程の原料としては、WA4N
S2、WA5N1が挙げられるが、いずれか一方のみを原料と
してもよいし、2種の混合物を原料としてもよい。ま
た、この原料中には、反応式(2)の工程で生成する可
能性のあるWA4NS1H1、反応せずに残存しているWA4H2、W
A5H1が含まれていてもよい。反応式(6)の工程に用い
るニトロ化剤、溶媒、反応温度等の反応条件は、反応式
(1)のニトロ化工程で使用しうるもの、および反応条
件を用いることができる。
WA n NS (6-n) → WN 6 (6) As a raw material for the nitration step of the reaction formula (6), WA 4 N
S 2 and WA 5 N 1 may be mentioned, but either one of them may be used as a raw material or a mixture of two kinds may be used as a raw material. Further, in this raw material, WA 4 NS 1 H 1 which may be generated in the step of the reaction formula (2), WA 4 H 2 , W remaining without reacting
A 5 H 1 may be contained. As the reaction conditions such as the nitrating agent, the solvent, and the reaction temperature used in the step of the reaction formula (6), those usable in the nitration step of the reaction formula (1) and the reaction conditions can be used.

また、反応工程(1)および(5)、あるいは反応工
程(2)および(6)、さらに反応工程(2)および
(3)および(5)のように段階的に反応を行わなくて
も、下記反応式(7)に示すように、WAmH(6-m)を反応
式(5)および(6)と終始同一条件下でニトロ化する
ことによってヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンを
合成することもできる。
Further, even if the reaction is not performed stepwise as in the reaction steps (1) and (5), or the reaction steps (2) and (6), and the reaction steps (2), (3) and (5), As shown in the following reaction formula (7), hexanitrohexaazaisowurtzitanium is synthesized by nitrating WA m H (6-m) under the same conditions as in reaction formulas (5) and (6) throughout. You can also.

WAmH(6-n) → WN6 (7) [式中、nは4〜5の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、Hは水素原子、Nは
ニトロ基、Wは6価のヘキサアザイソウルチタン残基を
表わす。] 反応式(7)の原料、ニトロ化剤、溶媒については、
反応式(1)のニトロ化工程におけるのと同様のもの、
および反応条件を用いることができる。反応温度につい
ては、通常−20〜140℃、好ましくは、0〜120℃で行わ
れる。反応時間については、0.5〜120時間、好ましくは
1〜50時間で行うことができる。
WA m H (6-n) → WN 6 (7) wherein n is an integer of 4 to 5, A is independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, and H is a hydrogen atom , N represents a nitro group, and W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue. With respect to the raw material, nitrating agent and solvent of the reaction formula (7),
The same as in the nitration step of reaction formula (1),
And reaction conditions can be used. The reaction is carried out usually at -20 to 140C, preferably at 0 to 120C. The reaction time may be 0.5 to 120 hours, preferably 1 to 50 hours.

本発明で得られる式(I)および(III)のヘキサア
ザイソウルチタン誘導体は、高性能な爆薬であるヘキサ
ニトロヘキサアザイソウルチタンを得るための前駆体と
して有用である。
The hexaazaisowurtzitane derivatives of formulas (I) and (III) obtained in the present invention are useful as a precursor for obtaining hexanitrohexaazaisowurtzitane, which is a high-performance explosive.

〔実施例〕〔Example〕

以下に、実施例を用いて本発明を更に詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもので
はない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

〔実施例1〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硫酸17.50gを入れ、スターラーで撹拌しながら、98%硝
酸5.63gをゆっくり滴下した。その混酸中にテトラアセ
チルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、60℃まで
昇温し、昇温後24時間反応した。反応終了後、氷水250g
中に反応液を滴下し、静置したのちメンブランフィルタ
ーにて濾過した。得られた固体を精製水250gで洗浄し、
ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン1.28gを得た
(収率98%)。
[Example 1] WA 4 H 2 → WN 6 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 97%
17.50 g of sulfuric acid was added, and 5.63 g of 98% nitric acid was slowly added dropwise while stirring with a stirrer. 1.00 g of tetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the mixed acid, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was reacted for 24 hours after the temperature was raised. After the reaction is completed, 250 g of ice water
The reaction solution was added dropwise thereto, and the mixture was allowed to stand, and then filtered with a membrane filter. The obtained solid was washed with 250 g of purified water,
Hexanitrohexaazaisosoul titanium 1.28 g was obtained (98% yield).

生成物の構造解析は以下のようにして行った。 The structural analysis of the product was performed as follows.

赤外吸収(IR)スペクトルをKBr法で測定した結果、1
605cm-1付近にニトロ基を逆対称伸縮振動の吸収が、132
5cm-1付近と1270cm-1付近に2本のニトロ基の対称伸縮
振動の吸収が、945cm-1付近と880cm-1付近に2本のニト
ロ基の変角の吸収が、3030cm-1付近にW骨格のメチン基
の伸縮振動の吸収が各々確認された。
As a result of measuring the infrared absorption (IR) spectrum by the KBr method, 1
Absorption of anti-symmetric stretching vibration with nitro group near 605 cm -1
5 cm -1 absorption near and 1270cm symmetric stretching vibration of the two nitro groups in the vicinity of -1, the absorption of the bending of the two nitro groups in the vicinity of 945 cm -1 and near 880 cm -1, around 3030 cm -1 Absorption of stretching vibration of the methine group of the W skeleton was confirmed.

これらの吸収特性は、文献[COMBUSTION AND FLA
ME 87:145−151(1991)]に掲載されたヘキサニトロ
ヘキサアザイソウルチタンのIRスペクトルの特性吸収と
一致した。
These absorption properties are described in the literature [COMBUSTION AND FLA
ME 87: 145-151 (1991)], which is consistent with the characteristic absorption of the IR spectrum of hexanitrohexaazaisosoultitanium.

なお、原料として使用した、テトラアセチルヘキサア
ザイソウルチタンのアセチル基のカルボニル基(C=
O)の1680cm-1付近の吸収は消去している。
The carbonyl group of the acetyl group of tetraacetylhexaazaisowurtzitanium (C =
O) absorption around 1680 cm -1 has been eliminated.

この結果より、テトラアセチルヘキサアザイソウルチ
タンのアセチル基がニトロ基に変換され、ヘキサニトロ
ヘキサアザイソウルチタンが生成したことが判った。
From this result, it was found that the acetyl group of tetraacetylhexaazaisowurtzitanium was converted to a nitro group, and hexanitrohexaazaisowurtzitanium was formed.

なお、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンの諸特
性について報告されている文献[International Sympo
sium on Energetic Material Technology PROCEED
INGS、SEPTEMBER 24−27、76−81(1995)]に掲載さ
れている高速液体クロマトグラフィーと同じ条件で上記
生成物を分析したところ、文献と同じ保持時間を示し
た。
In addition, a document that reports on various properties of hexanitrohexaazaisosoul titanium [International Sympo
sium on Energetic Material Technology PROCEED
INGS, SEPTEMBER 24-27, 76-81 (1995)], the above product was analyzed under the same conditions as in the high performance liquid chromatography, and showed the same retention time as that in the literature.

また、EI−マススペクトルを測定した結果、フラグメ
ントイオンピークとして392(親イオン−NO2)、316、2
13、46(NO2)といったイオンピークが確認された。こ
れらのイオンピークも上記文献[International Sympo
sium on Energetic Material Technology PROCEED
INGS、SEPTEMBER 24−27、76−81(1995)]に掲載さ
れた特性ピークと一致した。
Further, as a result of measuring the EI-mass spectrum, 392 (parent ion-NO 2 ), 316, 2
Ion peaks of 13, 46 (NO 2 ) were confirmed. These ion peaks are also described in the above document [International Sympo
sium on Energetic Material Technology PROCEED
INGS, SEPTEMBER 24-27, 76-81 (1995)].

〔実施例2〕WA5H1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硫酸15.56gを入れ、スターラーで撹拌しながら、98%硝
酸5.00gをゆっくり滴下した。その混酸中にペンタアセ
チルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、60℃まで
昇温し、昇温後24時間反応した。反応終了後、氷水250g
中に反応液を滴下し、静置したのちメンブランフィルタ
ーにて濾過した。得られた固体を精製水250gで洗浄し、
ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン1.14gを得た
(収率98%)。
[Example 2] WA 5 H 1 → WN 6 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 97%
15.56 g of sulfuric acid was added, and while stirring with a stirrer, 5.00 g of 98% nitric acid was slowly added dropwise. 1.00 g of pentaacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the mixed acid, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was reacted for 24 hours. After the reaction is completed, 250 g of ice water
The reaction solution was added dropwise thereto, and the mixture was allowed to stand, and then filtered with a membrane filter. The obtained solid was washed with 250 g of purified water,
1.14 g of hexanitrohexaazaisosoul titanium was obtained (yield 98%).

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例3〕WA6→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硫酸14.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、98%硝
酸4.50gをゆっくり滴下した。その混酸中にヘキサアセ
チルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、60℃まで
昇温し、昇温後、24時間反応した。反応終了後氷水250g
中に反応液を滴下し、静置したのちメンブランフィルタ
ーにて濾過した。得られた固体を精製水250gで洗浄し、
ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン1.02gを得た
(収率98%)。
[Example 3] WA 6 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 97%
14.00 g of sulfuric acid was added, and while stirring with a stirrer, 4.50 g of 98% nitric acid was slowly added dropwise. 1.00 g of hexaacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the mixed acid, the temperature was raised to 60 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 24 hours. 250g of ice water after reaction
The reaction solution was added dropwise thereto, and the mixture was allowed to stand, and then filtered with a membrane filter. The obtained solid was washed with 250 g of purified water,
1.02 g of hexanitrohexaazaisosoul titanium was obtained (98% yield).

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例4〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸22.50gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリフ
ルオロ酢酸6.11gを添加した。その溶液に、テトラアセ
チルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃まで
昇温し、昇温後3時間反応した。反応終了後、反応液を
留去した後、得られた固体を10%NaHCO3水で中和し、水
洗、乾燥して、固体を回収した。その固体をアセトニト
リルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘ
キサニトロヘキサアザイソウルチタンが収率20%で生成
していることを確認した。
Example 4 WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
22.50 g of sulfuric acid was added, and while stirring with a stirrer, 6.11 g of trifluoroacetic acid was added. To the solution was added 1.00 g of tetraacetylhexaazaisowurtzitane, the temperature was raised to 100 ° C., and the reaction was performed for 3 hours after the temperature was raised. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was neutralized with 10% aqueous NaHCO 3 , washed with water and dried to collect a solid. The solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 20%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例5〕WA6→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸18.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリフ
ルオロ酢酸8.14gを添加した。その溶液に、ヘキサアセ
チルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃まで
昇温し、昇温後3時間反応した。反応終了後、反応液を
留去した後、得られた固体を10%NaHCO3水で中和し、水
洗、乾燥して、固体を回収した。その固体をアセトニト
リルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘ
キサニトロヘキサアザイソウルチタンが収率18%で生成
していることを確認した。
[Example 5] WA 6 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
18.00 g of sulfuric acid was added, and while stirring with a stirrer, 8.14 g of trifluoroacetic acid was added. To the solution was added 1.00 g of hexaacetylhexaazaisowurtzitane, the temperature was raised to 100 ° C., and the reaction was performed for 3 hours after the temperature was raised. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was neutralized with 10% aqueous NaHCO 3 , washed with water and dried to collect a solid. The solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 18%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例6〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸11.25gを入れ、スターラーで撹拌しながら、無水硫
酸7.14gを添加した。その溶液に、テトラアセチルヘキ
サアザイソウルチタン1.00gを加え、60℃まで昇温し、
昇温後24時間反応した。反応終了後、氷水250g中に反応
液を添加し、静置したのちメンブランフィルターにて濾
過した。得られた固体を精製水250gで洗浄し、ヘキサニ
トロヘキサアザイソウルチタン1.29gを得た(収率99
%)。
Example 6 WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C.
11.25 g of sulfuric acid was added, and while stirring with a stirrer, 7.14 g of sulfuric anhydride was added. To the solution was added 1.00 g of tetraacetylhexaazaisosoul titanium, and the temperature was raised to 60 ° C.
The reaction was performed for 24 hours after the temperature was raised. After completion of the reaction, the reaction solution was added to 250 g of ice water, allowed to stand, and then filtered through a membrane filter. The obtained solid was washed with 250 g of purified water to obtain 1.29 g of hexanitrohexaazaisosoul titanium (yield 99
%).

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例7〕WA6→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸18.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、無水硫
酸5.71gを添加した。その溶液に、ヘキサアセチルヘキ
サアザイソウルチタン1.00gを加え、60℃まで昇温し、
昇温後24時間反応した。反応終了後氷水250g中に反応液
を添加し、静置したのちメンブランフィルターにて濾過
した。得られた固体を精製水250gで洗浄し、ヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタン1.03gを得た(収率99
%)。
[Example 7] WA 6 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
18.00 g of sulfuric acid was added, and 5.71 g of sulfuric anhydride was added while stirring with a stirrer. To the solution, 1.00 g of hexaacetylhexaazaisosoul titanium was added, and the temperature was raised to 60 ° C.
The reaction was performed for 24 hours after the temperature was raised. After completion of the reaction, the reaction solution was added to 250 g of ice water, allowed to stand, and then filtered through a membrane filter. The obtained solid was washed with 250 g of purified water to obtain 1.03 g of hexanitrohexaazaisosoul titanium (yield 99
%).

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例8〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸22.50gを入れ、スターラーで撹拌しながら、五酸化
二りん12.67gを添加した。その溶液に、テトラアセチル
ヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に昇温
し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、氷水250ml
中に反応液を滴下し、静置後析出固体を濾過した後、濾
過分を水洗して固体を回収した。回収した固体をアセト
ニトリルに溶かし、高速液体クロマトグラフィーで分析
し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが収率11g
で生成していることを確認した。
Example 8 WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
22.50 g of sulfuric acid was added, and 12.67 g of diphosphorus pentoxide was added while stirring with a stirrer. To the solution was added 1.00 g of tetraacetylhexaazaisowurtzitane, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the mixture was reacted for 3 hours. After the reaction, 250 ml of ice water
The reaction solution was dropped into the mixture, and after standing, the precipitated solid was filtered. Then, the filtrate was washed with water to recover the solid. The recovered solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high-performance liquid chromatography, yielding 11 g of hexanitrohexaazaisowurtzitane.
Confirmed that it was generated by.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例9〕WA6→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸18.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、五酸化
二りん10.14gを添加した。その溶液にヘキサアセチルヘ
キサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に昇温し、
昇温後、3時間反応した。反応終了後、氷水250ml中に
反応液を滴下し、静置後析出個体を濾過した後、濾過分
を水洗して固体を回収した。回収した固体をアセトニト
リルに溶かし、アセトニトリルに溶かし高速液体クロマ
トグラフィーで分析し、ヘキサニトロヘキサアザイソウ
ルチタンが収率9gで生成していることを確認した。
Example 9 WA 6 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C.
18.00 g of sulfuric acid was added, and 10.14 g of diphosphorus pentoxide was added while stirring with a stirrer. To the solution was added 1.00 g of hexaacetylhexaazaisosoul titanium, and the temperature was raised to 100 ° C.
After the temperature was raised, the reaction was performed for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to 250 ml of ice water, and after standing, the precipitated solid was filtered. The filtrate was washed with water to collect a solid. The collected solid was dissolved in acetonitrile, dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography, and it was confirmed that hexanitrohexaazaisowurtzitanium was produced in a yield of 9 g.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例10〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸22.50gを入れ、スターラーで撹拌しながら、Nafion
−NR50を11.25gを添加した。その溶液にテトラアセチル
ヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に昇温
し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、水250ml中
に反応液を滴下し、静置し析出固体を濾過し、濾過分を
精製水250mlで水洗した。濾過した固体をアセトン50ml
中に添加し、撹拌した後濾過し、濾過分としてNafion−
NR50を回収した。濾過はエバポレータで減圧留去して、
反応生成固体を回収した。この固体をアセトニトリルに
溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキサニ
トロヘキサアザイソウルチタンが収率70%で生成してい
ることを確認した。
Example 10 WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
Add 22.50 g of sulfuric acid and stir with a stirrer.
11.25 g of NR50 was added. 1.00 g of tetraacetylhexaazaisowurtzitane was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the mixture was reacted for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. 50 ml of filtered solid acetone
And stirred, filtered, and filtered as Nafion-
NR50 was recovered. Filtration is performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator.
The reaction product solid was recovered. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography, and it was confirmed that hexanitrohexaazaisowurtzitanium was produced at a yield of 70%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例11〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸20.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、Nafion
−NR50を10gを添加した。その溶液にテトラアセチルヘ
キサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に昇温し、
昇温後、3時間反応した。反応終了後、水250ml中に反
応液を滴下し、静置して析出固体を濾過し、濾過分を精
製水250mlで水洗した。濾過した固体をアセトン50ml中
に添加し、撹拌した後濾過し、濾過分としてNafion−NR
50を回収した。濾過はエバポレータで減圧留去して、反
応生成固体を回収した。この固体をアセトニトリルに溶
かし高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタンが収率55%で生成している
ことを確認した。
[Example 11] WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
Add 20.00 g of sulfuric acid and stir with a stirrer.
10 g of -NR50 were added. To the solution was added 1.00 g of tetraacetylhexaazaisosoul titanium, and the temperature was raised to 100 ° C.
After the temperature was raised, the reaction was performed for 3 hours. After the completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. The filtered solid was added to 50 ml of acetone, filtered after stirring, and filtered as Nafion-NR.
50 were collected. Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 55%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例12〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸22.50gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリス
−[ビス−(ヘプタデカフルオロオクチルスルホニル)
イミド]イッテリビウム(III)を11.25gを添加した。
その溶液にテトラアセチルヘキサアザイソウルチタン1.
00gを加え、100℃に昇温し、昇温後、3時間反応した。
反応終了後、水250ml中に反応液を滴下し、静置し析出
固体を濾過し、濾過分を精製水250mlで水洗した。濾過
した固体をアセトン50mlを添加し、撹拌した後濾過し、
濾過分としてトリス−[ビス−(ヘプタデカフルオロオ
クチルスルホニル)イミド]イッテリビウム[III]を
回収した。濾過はエバポレータで減圧留去して、反応生
成固体を回収した。この固体をアセトニトリルに溶かし
高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキサニトロヘ
キサアザイソウルチタンが収率17%で生成していること
を確認した。
[Example 12] WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
22.50 g of sulfuric acid is added, and tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) is stirred with a stirrer.
[Imide] 11.25 g of ytterbium (III) was added.
Add tetraacetylhexaazaisoulitanium 1.
After adding 00 g, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 3 hours.
After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. The filtered solid was added with 50 ml of acetone, stirred and filtered,
Tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) imide] ytterbium [III] was recovered as a filtrate. Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 17%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例13〕WA5H1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸20.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリス
−[ビス−(ヘプタデカフルオロオクチルスルホニル)
イミド]イッテリビウム[III]を10gを添加した。その
溶液にペンタアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00g
を加え、100℃に昇温し、昇温後、3時間反応した。反
応終了後、水250ml中に反応液を滴下し、静置し析出固
体を濾過し、濾過分を精製水250mlで水洗した。濾過し
た固体をアセトン50mlを添加し、撹拌した後濾過し、濾
過分としてトリス−[ビス−(ヘプタデカフルオロオク
チルスルホニル)イミド]イッテリビウム[III]を回
収した。濾過はエバポレータで減圧留去して、反応生成
固体を回収した。この固体をアセトニトリルに溶かし高
速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキサニトロヘキ
サアザイソウルチタンが収率13%で生成していることを
確認した。
[Example 13] WA 5 H 1 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
Add 20.00 g of sulfuric acid, and stir with a stirrer. Tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl)]
10 g of [imido] ytterbium [III] was added. 1.00 g of pentaacetylhexaazaisoul titanium in the solution
Was added, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was performed for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. To the filtered solid, 50 ml of acetone was added, and the mixture was stirred and filtered, and tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) imide] ytterbium [III] was recovered as a filtered fraction. Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography, and it was confirmed that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 13%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例14〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸20.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリス
−[ビス−(ヘプタデカフルオロオクチルスルホニル)
イミド]ランタン[III]を4g添加した。その溶液にテ
トラアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、9
0℃に昇温し、昇温後、5時間反応した。反応終了後、
水250ml中に反応液を滴下し、静置し析出固体を濾過
し、濾過分を精製水250mlで水洗した。濾過した固体を
アセトン50mlを添加し、撹拌した後濾過し、濾過分とし
てトリス−[ビス−(ヘプタデカフルオロオクチルスル
ホニル)イミド]ランタン[III]を回収した。濾過は
エバポレータで減圧留去して、反応生成固体を回収し
た。この固体をアセトニトリルに溶かし高速液体クロマ
トグラフィーで分析し、ヘキサニトロヘキサアザイソウ
ルチタンが収率11%で生成していることを確認した。
Example 14 WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C.
Add 20.00 g of sulfuric acid, and stir with a stirrer. Tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl)]
4 g of [imido] lanthanum [III] was added. To the solution was added 1.00 g of tetraacetylhexaazaisosoul titanium, and 9
The temperature was raised to 0 ° C., and the reaction was performed for 5 hours after the temperature was raised. After the reaction,
The reaction solution was added dropwise to 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. 50 ml of acetone was added to the filtered solid, and the mixture was stirred and filtered, and tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) imide] lanthanum [III] was collected as a filtrate. Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 11%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例15〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸20.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリス
−[ビス−(ノナフルオロブチルスルホニル)イミド]
イットリウム[III]を8gを添加した。その溶液にテト
ラアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100
℃に昇温し、昇温後、2時間反応した。反応終了後、水
250ml中に反応液を滴下し、静置し析出固体を濾過し、
濾過分を精製水250mlで水洗した。濾過した固体をアセ
トン50mlを添加し、撹拌した後濾過し、濾過分としてト
リス−[ビス−(ノナフルオロブチルスルホニル)イミ
ド]イットリウム[III]を回収した。濾過はエバポレ
ータで減圧留去して、反応生成固体を回収した。この固
体をアセトニトリルに溶かし高速液体クロマトグラフィ
ーで分析し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが
収率16%で生成していることを確認した。
[Example 15] WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
Add 20.00 g of sulfuric acid, and stir with a stirrer. Tris- [bis- (nonafluorobutylsulfonyl) imide]
8 g of yttrium [III] was added. To the solution was added 1.00 g of tetraacetylhexaazaisosoul titanium, and 100
C., and reacted for 2 hours after the temperature was raised. After the reaction,
The reaction solution was dropped into 250 ml, and the mixture was allowed to stand and the precipitated solid was filtered.
The filtrate was washed with 250 ml of purified water. 50 ml of acetone was added to the filtered solid, and the mixture was stirred and filtered, and tris- [bis- (nonafluorobutylsulfonyl) imide] yttrium [III] was recovered as a filtrate. Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 16%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例16〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸22.50gを入れ、スターラーで撹拌しながら、ゼオラ
イトZSM−5を11.25gを添加した。その溶液にテトラア
セチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に
昇温し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、水250m
l中に反応液を滴下し、静置し析出固体を濾過し、濾過
分を精製水250mlで水洗した。濾過した固体にアセトン5
0ml中に添加し、撹拌した後濾過し、濾過分としてゼオ
ライトZSM−5を回収した。濾過はエバポレータで減圧
留去して、反応生成固体を回収した。この固体をアセト
ニトリルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析
し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが収率15%
で生成していることを確認した。
[Example 16] WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
22.50 g of sulfuric acid was added, and 11.25 g of zeolite ZSM-5 was added while stirring with a stirrer. 1.00 g of tetraacetylhexaazaisowurtzitane was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the mixture was reacted for 3 hours. After the reaction, water 250m
The reaction mixture was added dropwise to the mixture, and the mixture was allowed to stand. The precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. Acetone 5 on the filtered solid
It was added to 0 ml, stirred, filtered, and the zeolite ZSM-5 was recovered as a filtrate. Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography. Hexanitrohexaazaisowurtzitane yielded 15%.
Confirmed that it was generated by.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例17〕WA5H1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸20.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、モルデ
ナイトを15gを添加した。その溶液にペンタアセチルヘ
キサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に昇温し、
昇温後、6時間反応した。反応終了後、水250ml中に反
応液を滴下し、静置し析出固体を濾過し、濾過分を精製
水250mlで水洗した。濾過した固体にアセトン50mlを添
加し、撹拌した後濾過し、濾過分としてモルデナイトを
回収した。濾過はエバポレータで減圧留去して、反応生
成固体を回収した。この固体をアセトニトリルに溶かし
高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキサニトロヘ
キサアザイソウルチタンが収率8%で生成していること
を確認した。
Example 17 WA 5 H 1 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
20.00 g of sulfuric acid was added, and 15 g of mordenite was added while stirring with a stirrer. 1.00 g of pentaacetylhexaazaisole titanium was added to the solution, and the temperature was raised to 100 ° C.
After the temperature was raised, the reaction was performed for 6 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. Acetone (50 ml) was added to the filtered solid, and the mixture was stirred and filtered, and mordenite was collected as a filtrate. Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 8%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例18〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、N2O5
を10mol%含有する硝酸溶液20.00gに、テトラアセチル
ヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に昇温
し、昇温後で、3時間反応した。反応終了後、反応液を
留去した後、得られた固体を10%NaHCO3水で中和し、精
製水で洗浄、乾燥し、固体を回収した。その固体をアセ
トニトリルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析
し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが収率15%
で生成していることを確認した。
Example 18 WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and N 2 O 5
Was added to 20.00 g of a nitric acid solution containing 10 mol%, and the mixture was heated to 100 ° C., and reacted for 3 hours after the temperature was raised. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was neutralized with 10% aqueous NaHCO 3 , washed with purified water and dried, and the solid was recovered. The solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography. Hexanitrohexaazaisowurtzitane yielded 15%.
Confirmed that it was generated by.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例19〕WA6→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、N2O5
を10mol%含有する硝酸溶液20.00gを入れ、スターラー
で撹拌しながら、ヘキサアセチルヘキサアザイソウルチ
タン1.00gを加え、100℃に昇温し、昇温後、3時間反応
した。反応終了後、反応液を留去した後、得られた固体
を10%NaHCO3水で中和し、精製水で洗浄、乾燥し、固体
を回収した。その固体をアセトニトリルに溶かし高速液
体クロマトグラフィーで分析し、ヘキサニトロヘキサア
ザイソウルチタンが収率5%で生成していることを確認
した。
Example 19 WA 6 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and N 2 O 5
Was added, and while stirring with a stirrer, 1.00 g of hexaacetylhexaazaisowurtzitanium was added, the temperature was raised to 100 ° C., and the temperature was raised, followed by a reaction for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was neutralized with 10% aqueous NaHCO 3 , washed with purified water and dried, and the solid was recovered. The solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 5%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例20〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸22.50gを入れ、スターラーで撹拌しながら、ポリり
ん酸30.17gを添加した。その溶液にテトラアセチルヘキ
サアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に昇温し、昇
温後、3時間反応した。反応終了後、反応液を、氷水25
0mlの入ったビーカーに入れ、撹拌しポリリン酸由来の
化合物を溶解させ、不溶固体を濾過、水洗し、固体を回
収した。回収固体をアセトニトリルに溶かし高速液体ク
ロマトグラフィーで分析し、ヘキサニトロヘキサアザイ
ソウルチタンが収率16%で生成していることを確認し
た。
[Example 20] WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
22.50 g of nitric acid was added, and 30.17 g of polyphosphoric acid was added while stirring with a stirrer. 1.00 g of tetraacetylhexaazaisowurtzitane was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the mixture was reacted for 3 hours. After the reaction is completed, the reaction solution is
The mixture was placed in a beaker containing 0 ml, stirred to dissolve the compound derived from polyphosphoric acid, and the insoluble solid was filtered and washed with water to collect the solid. The recovered solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 16%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例21〕WA6→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸18.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、ポリり
ん酸24.14gを添加した。その溶液に、ヘキサアセチルヘ
キサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃で、3時間
反応した。反応終了後、反応液を、氷水250mlの入った
ビーカーに入れ、撹拌しポリリン酸由来の化合物を溶解
させ、不溶固体を濾過、水洗し、固体を回収した。回収
固体をアセトニトリルに溶かし高速液体クロマトグラフ
ィーで分析し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン
が収率9%で生成していることを確認した。
[Example 21] WA 6 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
18.00 g of nitric acid was added, and 24.14 g of polyphosphoric acid was added while stirring with a stirrer. To the solution, 1.00 g of hexaacetylhexaazaisowurtzitane was added, and reacted at 100 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was placed in a beaker containing 250 ml of ice water, stirred to dissolve the compound derived from polyphosphoric acid, and the insoluble solid was filtered and washed with water to collect the solid. The recovered solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography, and it was confirmed that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 9%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例22〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸22.50gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリフ
ルオロ酢酸無水物75.00gを添加した。その溶液にテトラ
アセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃
に昇温し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、反応
液を留去した後、得られた固体を10%NaHCO3水で洗浄
後、水洗し、アセトニトリルに溶かし高速液体クロマト
グラフィーで分析し、ヘキサニトロヘキサアザイソウル
チタンが収率8%で生成していることを確認した。
Example 22 WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
22.50 g of nitric acid was added, and while stirring with a stirrer, 75.00 g of trifluoroacetic anhydride was added. Add 1.00 g of tetraacetylhexaazaisole titanium to the solution, and add
, And reacted for 3 hours after the temperature was raised. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was washed with 10% aqueous NaHCO 3 , washed with water, dissolved in acetonitrile, and analyzed by high performance liquid chromatography to obtain hexanitrohexaazaisowurtzitanium. It was confirmed that it was produced at 8%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例23〕WA6→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸18.00gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリフ
ルオロ酢酸無水物60.00gを添加した。その溶液にヘキサ
アセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃
に昇温し、昇温後、3時間反応した。反応液を留去した
後、得られた固体を10NaHCO3水で洗浄水、水洗し、アセ
トニトリルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析
し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが収率3%
で生成していることを確認した。
[Example 23] WA 6 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
18.00 g of nitric acid was added, and while stirring with a stirrer, 60.00 g of trifluoroacetic anhydride was added. Add 1.00 g of hexaacetylhexaazaisosoul titanium to the solution, and add
, And reacted for 3 hours after the temperature was raised. After distilling off the reaction solution, the obtained solid was washed with 10NaHCO 3 water, washed with water, dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography, and the yield of hexanitrohexaazaisowurtzitanium was 3%.
Confirmed that it was generated by.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例24〕WA4H2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硝酸14.92gを入れ、スターラーで撹拌しながら、98%硝
酸4.80gをゆっくり滴下した。その混酸中にジニトロソ
テトラアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加
え、60℃まで昇温し、昇温後、24時間反応した。反応終
了後、氷水250g中に反応液を滴下し、静置したのち濾過
した。得られた固体を精製水250gで洗浄し、ヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタン1.09gを得た(収率98
%)。
[Example 24] WA 4 H 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 97%
4.92 g of nitric acid was added, and 4.80 g of 98% nitric acid was slowly added dropwise while stirring with a stirrer. 1.00 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the mixed acid, the temperature was raised to 60 ° C., and after the temperature was raised, reacted for 24 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to 250 g of ice water, allowed to stand, and then filtered. The obtained solid was washed with 250 g of purified water to obtain 1.09 g of hexanitrohexaazaisowurtzitanium (yield 98
%).

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例25〕WA5NS1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硝酸14.45gを入れ、スターラーで撹拌しながら、98%硝
酸4.64gをゆっくり滴下した。その混酸中にモノニトロ
ソペンタアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加
え、60℃まで昇温し、昇温後、24時間反応した。反応終
了後、氷水250g中に反応液を添加し、静置したのち濾過
した。得られた固体を精製水250gで洗浄し、ヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタン1.08gを得た(収率98
%)。
[Example 25] WA 5 NS 1 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 97%
4.45 g of nitric acid was added, and 4.64 g of 98% nitric acid was slowly added dropwise while stirring with a stirrer. 1.00 g of mononitrosopentaacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the mixed acid, the temperature was raised to 60 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 24 hours. After the completion of the reaction, the reaction solution was added to 250 g of ice water, allowed to stand, and then filtered. The obtained solid was washed with 250 g of purified water to obtain 1.08 g of hexanitrohexaazaisowurtzitanium (yield 98
%).

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例26〕WA5NS1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸18.58gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリフ
ルオロ酢酸8.40gを添加した。その溶液にモノニトロソ
ペンタアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加
え、100℃に昇温し、昇温後、3時間反応した。反応終
了後、反応液を留去した後、得られた固体を10NaHCO3
で中和し濾過した。濾過分を、水洗、乾燥しアセトニト
リルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析を行っ
たところ収率8%でヘキサニトロヘキサアザイソウルチ
タンが生成していることが確認された。
[Example 26] WA 5 NS 1 → WN 6 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
18.58 g of nitric acid was added, and 8.40 g of trifluoroacetic acid was added while stirring with a stirrer. 1.00 g of mononitrosopentaacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the mixture was reacted for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was neutralized with 10 NaHCO 3 aqueous solution and filtered. The filtrate was washed with water, dried, dissolved in acetonitrile, and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, it was confirmed that hexanitrohexaazaisowurtzitanium was produced in a yield of 8%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例27〕WA4NS2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸19.19gを入れ、スターラーで撹拌しながら、五酸化
二りん10.80gを添加した。その溶液にジニトロソテトラ
アセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃
に昇温し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、反応
液を留去し、水20mlを加え、濾過した後、得られた固体
を10NaHCO3水で中和し濾過した。濾過分を、水洗、乾燥
してアセトニトリルに溶かし高速液体クロマトグラフィ
ーで分析を行ったところ収率7%でヘキサニトロヘキサ
アザイソウルチタンが生成していることが確認された。
[Example 27] WA 4 NS 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
19.19 g of nitric acid was added, and 10.80 g of diphosphorus pentoxide was added while stirring with a stirrer. Add 1.00 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisosoul titanium to the solution,
, And reacted for 3 hours after the temperature was raised. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, 20 ml of water was added, and the mixture was filtered. The obtained solid was neutralized with 10 NaHCO 3 aqueous solution and filtered. The filtrate was washed with water, dried, dissolved in acetonitrile, and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, it was confirmed that hexanitrohexaazaisowurtzitanium was produced in a yield of 7%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例28〕WA4NS2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸19.19gを入れ、スターラーで撹拌しながら、ポリり
ん酸25.73%を添加した。その溶液にジニトロソテトラ
アセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃
に昇温し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、反応
液を、水20mlの入ったビーカーに入れ、攪拌、溶解さ
せ、不溶固体を濾過した後、水洗し、乾燥してアセトニ
トリルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析を行
ったところ収率11%でヘキサニトロヘキサアザイソウル
チタンが生成していることが確認された。
Example 28 WA 4 NS 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
19.19 g of nitric acid was added, and 25.73% of polyphosphoric acid was added while stirring with a stirrer. Add 1.00 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisosoul titanium to the solution,
, And reacted for 3 hours after the temperature was raised. After completion of the reaction, the reaction solution was placed in a beaker containing 20 ml of water, stirred and dissolved, and the insoluble solid was filtered, washed with water, dried, dissolved in acetonitrile, and analyzed by high performance liquid chromatography. It was confirmed that hexanitrohexaazaisoulitanium was produced at 11%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例29〕WA5NS1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸19.19gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリフ
ルオロ酢酸無水物63.96%を添加した。その溶液にモノ
ニトロソペンタアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00
gを加え、100℃に昇温し、昇温後、3時間反応した。反
応液を留去した後、得られた固体を10%NaHCO3水および
水で洗浄、乾燥し、アセトニトリルに溶かし高速液体ク
ロマトグラフィーで分析を行ったところ収率2%でヘキ
サニトロヘキサアザイソウルチタンが生成していること
が確認された。
Example 29 WA 5 NS 1 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
19.19 g of nitric acid was added, and 63.96% of trifluoroacetic anhydride was added while stirring with a stirrer. Mononitrosopentaacetylhexaazaisoul titanium 1.00
g was added, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was performed for 3 hours. After distilling off the reaction solution, the obtained solid was washed with 10% NaHCO 3 water and water, dried, dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, hexanitrohexaazaisomer was obtained in a yield of 2%. It was confirmed that titanium was generated.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例30〕WA5NS1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、N2O5
を10mol%含有する硝酸溶液20.00gを入れ、スターラー
で撹拌しながら、モノニトロソペンタアセチルヘキサア
ザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に昇温し、昇温
後、3時間反応した。反応終了後、反応液を留去した
後、得られた固体を10%NaHCO3水で中和し、精製水で洗
浄、乾燥し、固体を回収した。その固体をアセトニトリ
ルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキ
サニトロヘキサアザイソウルチタンが収率5%で生成し
ていることが確認した。
Example 30 WA 5 NS 1 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and N 2 O 5
Was added, and while stirring with a stirrer, 1.00 g of mononitrosopentaacetylhexaazaisowurtzitanium was added, the temperature was raised to 100 ° C., and the reaction was performed for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was neutralized with 10% aqueous NaHCO 3 , washed with purified water and dried, and the solid was recovered. The solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 5%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例31〕WA4NS2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸9.59gを入れ、スターラーで撹拌しながら、無水硫
酸6.09gを添加した。ジニトロソテトラアセチルヘキサ
アザイソウルチタン1.00gを加え、60℃まで昇温し、昇
温後24時間反応した。反応終了後、氷水250g中に反応液
を添加し、静置したのちメンブランフィルターにて濾過
した。得られた固体を精製水250gで洗浄し、ヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタン1.10gを得た(収率98
%)。
[Example 31] WA 4 NS 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
9.59 g of nitric acid was added, and 6.09 g of sulfuric anhydride was added while stirring with a stirrer. 1.00 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisoulitanium was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the reaction was performed for 24 hours after the temperature was raised. After completion of the reaction, the reaction solution was added to 250 g of ice water, allowed to stand, and then filtered through a membrane filter. The obtained solid was washed with 250 g of purified water to obtain 1.10 g of hexanitrohexaazaisowurtzitanium (yield 98
%).

生成物の構造解析を実施例1と同様に行い同定した。 The product was subjected to structural analysis in the same manner as in Example 1 and identified.

〔実施例32〕WA5NS1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸18.58gを入れ、スターラーで撹拌しながら、Nafion
−NR50を9.29g添加した。その溶液にモノニトロソペン
タアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100
℃に昇温し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、水
250ml中に反応液を滴下し、静置し析出固体を濾過し、
濾過分を精製水250mlで水洗した。濾過した固体にアセ
トン50mlを添加し、撹拌した後濾過し、濾過分としてNa
fion−NR50を回収した。濾液はエバポレータで減圧留去
して、反応生成固体を回収した。この固体をアセトニト
リルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘ
キサニトロヘキサアザイソウルチタンが収率49%で生成
していることを確認した。
[Example 32] WA 5 NS 1 → WN 6 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C.
Add 18.58 g of nitric acid and stir with a stirrer.
-9.29 g of NR50 was added. To the solution was added 1.00 g of mononitrosopentaacetylhexaazaisosoul titanium,
C., and reacted for 3 hours after the temperature was raised. After the reaction,
The reaction solution was dropped into 250 ml, and the mixture was allowed to stand and the precipitated solid was filtered.
The filtrate was washed with 250 ml of purified water. 50 ml of acetone was added to the filtered solid, and the mixture was stirred and filtered.
fion-NR50 was recovered. The filtrate was distilled off under reduced pressure by an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography, and it was confirmed that hexanitrohexaazaisowurtzitanium was produced in a yield of 49%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例33〕WA4NS2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸18.58gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリス
−[ビス−(ヘプタデカフルオロオクチルスルホニル)
イミド]イッテリビウム[III]を9.29gを添加した。そ
の溶液にジニトロソテトラアセチルヘキサアザイソウル
チタン1.00gを加え、100℃に昇温し、昇温後、3時間反
応した。反応終了後、水250ml中に反応液を滴下し、静
置し析出固体を濾過し、濾過分を精製水250mlで水洗し
た。濾過した固体にアセトン50mlを添加し、撹拌した後
濾過し、濾過分としてトリス−[ビス−(ヘプタデカフ
ルオロオクチルスルホニル)イミド]イットリウム[II
I]を回収した。濾過はエバポレータで減圧留去して、
反応生成固体を回収した。この固体をアセトニトリルに
溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキサニ
トロヘキサアザイソウルチタンが収率10%で生成してい
ることを確認した。
[Example 33] WA 4 NS 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
18.58 g of sulfuric acid is added, and tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) is added while stirring with a stirrer.
9.29 g of [imide] ytterbium [III] were added. 1.00 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. 50 ml of acetone was added to the filtered solid, and the mixture was stirred and filtered. Tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) imide] yttrium [II
I] was recovered. Filtration is performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator.
The reaction product solid was recovered. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 10%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例34〕WA4NS2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸18.58gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリス
−[ビス−(ヘプタデカフルオロオクチルスルホニル)
イミド]ユウロピウム[III]を3.29gを添加した。その
溶液にジニトロソテトラアセチルヘキサアザイソウルチ
タン1.00gを加え、100℃に昇温し、昇温後、8時間反応
した。反応終了後、水250ml中に反応液を滴下し、静置
し析出固体を濾過し、濾過分を精製水250mlで水洗し
た。濾過した固体をアセトン50ml中に添加し、撹拌した
後濾過し、濾過分としてトリス−[ビス−(ヘプタデカ
フルオロオクチルスルホニル)イミド]ユウロピウム
[III]を回収した。濾過はエバポレータで減圧留去し
て、反応生成固体を回収した。この固体をアセトニトリ
ルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキ
サニトロヘキサアザイソウルチタンが収率6%で生成し
ていることを確認した。
Example 34 WA 4 NS 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
18.58 g of sulfuric acid is added, and tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) is added while stirring with a stirrer.
3.29 g of [imido] europium [III] were added. 1.00 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. The filtered solid was added to 50 ml of acetone, stirred, filtered, and tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) imide] europium [III] was collected as a filtrate. Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 6%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例35〕WA4NS2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸18.58gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリス
−[ビス−(ノナフルオロブチルスルホニル)イミド]
イッテリビウム[III]を4.29g添加した。その溶液にジ
ニトロソテトラアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00
gを加え、90℃に昇温し、昇温後、4時間反応した。反
応終了後、水250ml中に反応液を滴下し、静置し析出固
体を濾過し、濾過分を精製水250mlで水洗した。濾過し
た固体をアセトン50mlを添加し、撹拌した後濾過し、濾
過分としてトリス−[ビス−(ノナフルオロブチルスル
ホニル)イミド]イッテリビウム[III]を回収した。
濾過はエバポレータで減圧留去して、反応生成固体を回
収した。この固体をアセトニトリルに溶かし高速液体ク
ロマトグラフィーで分析し、ヘキサニトロヘキサアザイ
ソウルチタンが収率18%で生成していることを確認し
た。
Example 35 WA 4 NS 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
18.58 g of sulfuric acid is added, and while stirring with a stirrer, tris- [bis- (nonafluorobutylsulfonyl) imide] is added.
4.29 g of ytterbium [III] was added. Add dinitrosotetraacetylhexaazaisoulitanium 1.00 to the solution
g was added, the temperature was raised to 90 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. 50 ml of acetone was added to the filtered solid, and the mixture was stirred and filtered, and tris- [bis- (nonafluorobutylsulfonyl) imide] ytterbium [III] was recovered as a filtrate.
Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 18%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例36〕WA4N2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硫酸13.80gを入れ、スターラーで撹拌しながら、98%硝
酸4.44gをゆっくり滴下した。。その混酸中にジニトロ
テトラアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加
え、60℃に昇温し、昇温後、24時間反応した。反応終了
後、氷水250g中に反応液を添加した。静置したのちメン
ブランフィルターにて濾過した。得られた固体を精製水
250gで洗浄し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン
1.01gを得た(収率98%)。
[Example 36] WA 4 N 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 97%
13.80 g of sulfuric acid was added, and while stirring with a stirrer, 4.44 g of 98% nitric acid was slowly added dropwise. . 1.00 g of dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the mixed acid, the temperature was raised to 60 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 24 hours. After the completion of the reaction, the reaction solution was added to 250 g of ice water. After leaving still, it was filtered through a membrane filter. The obtained solid is purified water
Wash with 250g, Hexanitrohexaaza soul titanium
1.01 g was obtained (98% yield).

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例37〕WA5N1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硫酸13.81gを入れ、スターラーで撹拌しながら、98%硝
酸4.46gをゆっくり滴下した。。その混酸中にモノニト
ロペンタアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加
え、60℃まで昇温し、昇温後、24時間反応した。反応終
了後、氷水250g中に反応液を添加し、静置したのちメン
ブランフィルターにて濾過した。得られた固体を精製水
250gで洗浄し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン
1.05gを得た(収率98%)。
[Example 37] WA 5 N 1 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 97%
13.81 g of sulfuric acid was added, and 4.46 g of 98% nitric acid was slowly added dropwise while stirring with a stirrer. . 1.00 g of mononitropentaacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the mixed acid, the temperature was raised to 60 ° C., and the reaction was performed for 24 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was added to 250 g of ice water, allowed to stand, and then filtered through a membrane filter. The obtained solid is purified water
Wash with 250g, Hexanitrohexaaza soul titanium
1.05 g was obtained (98% yield).

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例38〕WA5N1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硫酸17.87gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリフ
ルオロ酢酸8.09gを添加した。その溶液にモノニトロペ
ンタアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、1
00℃に昇温し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、
反応液を留去した後、得られた固体を10%NaHCO3水で中
和し濾過した。濾過分を、水洗、乾燥しアセトニトリル
に溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析を行ったと
ころ収率6%でヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン
が生成していることが確認された。
Example 38 WA 5 N 1 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 97%
17.87 g of sulfuric acid was added, and while stirring with a stirrer, 8.09 g of trifluoroacetic acid was added. To the solution was added 1.00 g of mononitropentaacetylhexaazaisosoul titanium, and 1
The temperature was raised to 00 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was performed for 3 hours. After the reaction,
After evaporating the reaction solution, the obtained solid was neutralized with 10% aqueous NaHCO 3 and filtered. The filtrate was washed with water, dried, dissolved in acetonitrile, and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, it was confirmed that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced in a yield of 6%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例39〕WA4N2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸17.75gを入れ、スターラーで撹拌しながら、五酸化
二りん10.00gを添加した。その溶液にジニトロテトラア
セチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に
昇温し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、反応液
を留去し、水20mlを加え、濾過した後、得られた固体を
10%NaHCO3水で中和し濾過した。濾過分を、水洗、乾燥
しアセトニトリルに溶かし高速液体クロマトグラフィー
で分析を行ったところ収率9%でヘキサニトロヘキサア
ザイソウルチタンが生成していることが確認された。
[Example 39] WA 4 N 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
17.75 g of sulfuric acid was added, and 10.00 g of diphosphorus pentoxide was added while stirring with a stirrer. 1.00 g of dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, 20 ml of water was added, and the mixture was filtered.
Neutralized with 10% aqueous NaHCO 3 and filtered. The filtrate was washed with water, dried, dissolved in acetonitrile, and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, it was confirmed that hexanitrohexaazaisowurtzitanium was produced in a yield of 9%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例40〕WA4N2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸17.75gを入れ、スターラーで撹拌しながら、ポリり
ん酸23.80gを添加した。その溶液にジニトロテトラアセ
チルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に昇
温し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、反応液
を、水20mlの入ったビーカーに入れ、撹拌、溶解させ、
不溶固体を濾過した後、水洗し、乾燥してアセトニトリ
ルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析を行った
ところ収率12%でヘキサニトロヘキサアザイソウルチタ
ンが生成していることが確認された。
[Example 40] WA 4 N 2 → WN 6 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
17.75 g of sulfuric acid was added, and 23.80 g of polyphosphoric acid was added while stirring with a stirrer. 1.00 g of dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was placed in a beaker containing 20 ml of water, stirred and dissolved,
The insoluble solid was filtered, washed with water, dried, dissolved in acetonitrile, and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, it was confirmed that hexanitrohexaazaisowurtzitanium was produced at a yield of 12%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例41〕WA5N1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸17.75gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリフ
ルオロ酢酸無水物59.57gを添加した。その溶液にモノニ
トロペンタアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを
加え、100℃に昇温し、昇温後、3時間反応した。反応
液を留去した後、得られた固体を10%NaHCO3水および水
で洗浄、乾燥し、アセトニトリルに溶かし高速液体クロ
マトグラフィーで分析を行ったところ収率3%でヘキサ
ニトロヘキサアザイソウルチタンが生成していることが
確認された。
[Example 41] WA 5 N 1 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 98%
17.75 g of sulfuric acid was added, and while stirring with a stirrer, 59.57 g of trifluoroacetic anhydride was added. 1.00 g of mononitropentaacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and the reaction was performed for 3 hours after the temperature was raised. After the reaction solution was distilled off, the obtained solid was washed with 10% aqueous NaHCO 3 and water, dried, dissolved in acetonitrile, and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, hexanitrohexaazaisoul was obtained in a yield of 3%. It was confirmed that titanium was generated.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例42〕WA5N1→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、N2O5
を10mol%含有する硝酸溶液20.00gを入れ、スターラー
で撹拌しながら、モノニトロペンタアセチルヘキサアセ
チルセキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に昇
温し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、反応液を
留去した後、得られた固体を10%NaHCO3水で中和し、精
製水で洗浄、乾燥し、固体を回収した。その固体をアセ
トニトリルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析
し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが収率6%
で生成していることを確認した。
Example 42 WA 5 N 1 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and N 2 O 5
Was added, and while stirring with a stirrer, 1.00 g of mononitropentaacetylhexaacetylsexaazaisoisotitanium was added, the temperature was raised to 100 ° C, and the reaction was performed for 3 hours after the temperature was raised. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was neutralized with 10% aqueous NaHCO 3 , washed with purified water and dried, and the solid was recovered. The solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography. Hexanitrohexaazaisowurtzitane yielded 6%.
Confirmed that it was generated by.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例43〕WA4N2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸8.94gを入れ、スターラーで撹拌しながら、無水硫
酸5.67gを添加した。ジニトロテトラアセチルヘキサア
ザイソウルチタン1.00gを加え、60℃まで昇温し、昇温
後24時間反応した。反応終了後、氷水250g中に反応液を
添加し、静置したのち濾過した。得られた固体を精製水
250gで洗浄し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン
1.06gを得た(収率98%)。
Example 43 WA 4 N 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C.
8.94 g of sulfuric acid was added, and 5.67 g of sulfuric anhydride was added while stirring with a stirrer. 1.00 g of dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitane was added, the temperature was raised to 60 ° C, and the reaction was performed for 24 hours after the temperature was raised. After the completion of the reaction, the reaction solution was added to 250 g of ice water, allowed to stand, and then filtered. The obtained solid is purified water
Wash with 250g, Hexanitrohexaaza soul titanium
1.06 g was obtained (98% yield).

生成物の構造解析は実施例1と同様に行い同定した。 Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1 and identified.

〔実施例44〕WA4N2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硝酸17.87gを入れ、スターラーで撹拌しながら、Nafion
−NR50を8.94g添加した。その溶液にジニトロテトラア
セチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加え、100℃に
昇温し、昇温後、3時間反応した。反応終了後、水250m
l中に反応液を滴下し、静置し析出固体を濾過し、濾過
分を精製水250mlで水洗した。濾過した固体にアセトン5
0mlを添加し、撹拌した後濾過し、濾過分としてNafion
−NR50を回収した。濾液はエバポレータで減圧留去し
て、反応生成固体を回収した。この固体をアセトニトリ
ルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキ
サニトロヘキサアザイソウルチタンが収率68%で生成し
ていることを確認した。
[Example 44] WA 4 N 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
Add 17.87 g of nitric acid and stir with a stirrer.
8.94 g of NR50 was added. 1.00 g of dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 3 hours. After the reaction, water 250m
The reaction mixture was added dropwise to the mixture, and the mixture was allowed to stand. The precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. Acetone 5 on the filtered solid
0 ml was added, and the mixture was stirred and filtered.
-NR50 was recovered. The filtrate was distilled off under reduced pressure by an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced in a yield of 68%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例45〕WA4N2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸17.75gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリス
−[ビス−(ヘプタデカフルオロオクチルスルホニル)
イミド]イッテリビウム[III]を8.87gを添加した。そ
の溶液にジニトロテトラアセチルヘキサアザイソウルチ
タン1.00gを加え、100℃に昇温し、昇温後、3時間反応
した。反応終了後、水250ml中に反応液を滴下し、静置
し析出固体を濾過し、濾過分を精製水250mlで水洗し
た。濾過した固体をアセトン50ml中に添加し、撹拌した
後濾過し、濾過分としてトリス−[ビス−(ヘプタデカ
フルオロオクチルスルホニル)イミド]イッテリビウム
[III]を回収した。濾過はエバポレータで減圧留去し
て、反応生成固体を回収した。この固体をアセトニトリ
ルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキ
サニトロヘキサアザイソウルチタンが収率18%で生成し
ていることを確認した。
[Example 45] WA 4 N 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
Add 17.75 g of sulfuric acid, and stir with a stirrer. Tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl)
8.87 g of [imide] ytterbium [III] was added. 1.00 g of dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the solution, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was carried out for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water. The filtered solid was added to 50 ml of acetone, stirred, filtered, and tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) imide] ytterbium [III] was collected as a filtered fraction. Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 18%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例46〕WA4N2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸17.75gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリス
−[ビス−(ヘプタデカフルオロオクチルスルホニル)
イミド]サマリウム[III]を4.57gを添加した。その溶
液にジニトロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタン
1.00gを加え、100℃に昇温し、昇温後、3時間反応し
た。反応終了後、水250ml中に反応液を滴下し、静置し
析出固体を濾過し、濾過分を精製水250mlで水洗した。
濾過した固体をアセトン50ml中に添加し、撹拌した後濾
過し、濾過分としてトリス−[ビス−(ヘプタデカフル
オロオクチルスルホニル)イミド]サマリウム[III]
を回収した。濾過はエバポレータで減圧留去して、反応
生成固体を回収した。この固体をアセトニトリルに溶か
し高速液体クロマトグラフィーで分析し、ヘキサニトロ
ヘキサアザイソウルチタンが収率8%で生成しているこ
とを確認した。
[Example 46] WA 4 N 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
Add 17.75 g of sulfuric acid, and stir with a stirrer. Tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl)
4.57 g of [imide] samarium [III] was added. Add dinitrotetraacetylhexaazaisoulitanium to the solution
1.00 g was added, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the reaction was performed for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into 250 ml of water, allowed to stand, the precipitated solid was filtered, and the filtrate was washed with 250 ml of purified water.
The filtered solid was added to 50 ml of acetone, stirred and filtered, and tris- [bis- (heptadecafluorooctylsulfonyl) imide] samarium [III] was filtered off.
Was recovered. Filtration was performed by evaporating under reduced pressure with an evaporator to collect a reaction product solid. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that hexanitrohexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 8%.

生成物の構造解析を実施例1と同様にして行ったとこ
ろ、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成され
ていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 1, and it was found that hexanitrohexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例47〕WA4F2→WN6 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硫酸7.50gを入れ、スターラーで撹拌しながら、98%硝
酸24.11gをゆっくり滴下した。その混酸中にジフォルミ
ルテトラアセチルヘキサアザイソウルチタン1.00gを加
え、100℃に昇温し、昇温後、1.5時間反応した。反応終
了後、氷水250g中に反応液を添加し、静置したのちメン
ブランフィルターにて濾過した。得られた固体を精製水
250gで洗浄し、ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン
0.87gを得た(収率78%)。
Example 47 WA 4 F 2 → WN 6 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 97%
7.50 g of sulfuric acid was added, and 24.11 g of 98% nitric acid was slowly added dropwise while stirring with a stirrer. 1.00 g of diformyltetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the mixed acid, the temperature was raised to 100 ° C., and after the temperature was raised, the mixture was reacted for 1.5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was added to 250 g of ice water, allowed to stand, and then filtered through a membrane filter. The obtained solid is purified water
Wash with 250g, Hexanitrohexaaza soul titanium
0.87 g was obtained (78% yield).

生成物の構造解析は実施例1と同様に行ったところ、
ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンが合成されてい
ることがわかった。
The structure of the product was analyzed in the same manner as in Example 1.
Hexanitrohexaazaisosoul titanium was found to be synthesized.

〔実施例48〕WA4H2→WA4NS2 テトラアセチルヘキサアザイソウルチタン3.36gと50
%酢酸100mlを200ml反応容器にいれ、0℃で撹拌しなが
らゆっくりと4mol/亜硫酸ナトリウム水溶液20mlを滴
下した。その後、30℃に昇温し、昇温後4時間反応し
た。反応溶液にクロロホルム500mlを加え、激しく攪拌
し抽出した。静置後、有機層を取り出し、溶媒を留去し
たことにより、ジニトロソテトラアセチルヘキサアザイ
ソウルチタンが3.73g(収率95%)生成していることが
確認された。ジニトロソテトラアセチルヘキサアザイソ
ウルチタンの分析結果を次に示す。
(Example 48) WA 4 H 2 → WA 4 NS 2 Tetraacetylhexaazaisosoul titanium 3.36 g and 50
% Acetic acid (100 ml) was placed in a 200 ml reaction vessel, and a 4 mol / sodium sulfite aqueous solution (20 ml) was slowly added dropwise while stirring at 0 ° C. Thereafter, the temperature was raised to 30 ° C., and the reaction was performed for 4 hours after the temperature was raised. 500 ml of chloroform was added to the reaction solution, and the mixture was vigorously stirred and extracted. After standing, the organic layer was taken out and the solvent was distilled off. As a result, it was confirmed that dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitane was produced in 3.73 g (yield 95%). The analysis results of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitane are shown below.

1HNMR(溶媒CDCl3、TMS標準)δ(ppm)2.05(s,6H,C
OCH3)、2.17(s,6H,COCH3)5.45(m,2H,CH)、6.62
(M,2H,CH)、730(s,2H,CH)1HNMRスペクトルより、4
個のアセチル基と6個のW骨格のメチン基を確認した。
1 H NMR (solvent CDCl 3 , TMS standard) δ (ppm) 2.05 (s, 6H, C
OCH 3 ), 2.17 (s, 6H, COCH 3 ) 5.45 (m, 2H, CH), 6.62
(M, 2H, CH), 730 (s, 2H, CH) 1 H
Acetyl groups and 6 methine groups of the W skeleton were confirmed.

赤外吸収(IR)スペクトルを測定した結果、1670cm-1
付近にアセチル基のカルボニル基(C=O)吸収、1500
cm-1付近、1380cm-1付近および1350cm-1付近にニトロソ
基に由来したと思われる吸収を確認した。
As a result of measuring an infrared absorption (IR) spectrum, 1670 cm −1
Near the carbonyl group of the acetyl group (C = O) absorption, 1500
cm around -1 was confirmed absorption that may have derived from nitroso group near 1380 cm -1 and near 1350 cm -1.

なおテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンで確認
される、3300〜3400cm-1の間にあるNHに由来する2本の
吸収は、完全に消去した。
The two absorptions derived from NH between 3300 and 3400 cm −1 , which were confirmed by tetraacetylhexaazaisowurtzitanium, were completely eliminated.

〔実施例49〕WA4H2→WA4NS2 テトラアセチルヘキサアザイソウルチタン3.36gと35
%塩酸100mlを200ml反応容器に入れ、0℃まで冷やす。
0℃で撹拌しながらゆっくりと4mol/亜硫酸ナトリウ
ム水溶液20mlを滴下した。その後、30℃に昇温し、昇温
後、4時間撹拌した。反応溶液にクロロホルム500mlを
加え、激しく撹拌した。静置後、有機層を取り出し、溶
媒を減圧留去することによりジニトロソテトラアセチル
ヘキサアザイソウルチタンが3.49g(収率89%)で生成
していることが確認された。
(Example 49) WA 4 H 2 → WA 4 NS 2 Tetraacetylhexaazaisosoul titanium 3.36 g and 35
100 ml of% hydrochloric acid is placed in a 200 ml reaction vessel and cooled to 0 ° C.
While stirring at 0 ° C., 20 ml of a 4 mol / sodium sulfite aqueous solution was slowly added dropwise. Thereafter, the temperature was raised to 30 ° C., and after the temperature was raised, the mixture was stirred for 4 hours. 500 ml of chloroform was added to the reaction solution, followed by vigorous stirring. After standing, the organic layer was taken out and the solvent was distilled off under reduced pressure. As a result, it was confirmed that dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitane was produced in 3.49 g (89% yield).

生成物の構造解析は実施例48と同様にして行いジニト
ロソテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 48, and it was found that dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized.

〔実施例50〕WA4H2→WA4NS2 テトラアセチルヘキサアザイソウルチタン3.36gと酢
酸100mlを200ml反応容器に入れ、0℃まで冷やす。0℃
で撹拌しながらゆっくりと四酸化二窒素ガス20g程度を
反応溶液中へゆっくり吹き込み、その後0℃で1時間撹
拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去し、水洗、乾燥す
ることによりジニトロソテトラアセチルヘキサアザイソ
ウルチタンが3.73g(収率95%)で生成していることが
確認された。
Example 50 WA 4 H 2 → WA 4 NS 2 3.36 g of tetraacetylhexaazaisowurtzitanium and 100 ml of acetic acid were placed in a 200 ml reaction vessel and cooled to 0 ° C. 0 ° C
About 20 g of dinitrogen tetroxide gas was slowly blown into the reaction solution while stirring, and then stirred at 0 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, washed with water and dried, whereby it was confirmed that dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitane was produced in 3.73 g (yield 95%).

生成物の構造解析は実施例48と同様にして行いジニト
ロソテトラアセチルアザイソウルチタンが合成されてい
ることがわかった。。
Structural analysis of the product was carried out in the same manner as in Example 48, and it was found that dinitrosotetraacetylazaisowurtzitanium was synthesized. .

〔実施例51〕WA4H2→WA4NS2 テトラアセチルヘキサアザイソウルチタン3.36gとピ
リジン100mlを200ml反応容器に入れ、0℃まで冷やす。
0℃で撹拌しながらゆっくりと4.8M塩化ニトロシルの酢
酸無水物溶液10mlを滴下した。その後、1時間撹拌し
た。反応終了後、反応溶液を氷水100gへ注ぐ。析出した
固体をろ別し、水洗、乾燥することによりジニトロソテ
トラアセチルヘキサアザイソウルチタンが2.75g(収率7
0%)で生成していることが確認された。
Example 51 WA 4 H 2 → WA 4 NS 2 3.36 g of tetraacetylhexaazaisowurtzitanium and 100 ml of pyridine were placed in a 200 ml reaction vessel and cooled to 0 ° C.
While stirring at 0 ° C., 10 ml of 4.8 M nitrosyl chloride in acetic anhydride was slowly added dropwise. Thereafter, the mixture was stirred for 1 hour. After the completion of the reaction, the reaction solution is poured into 100 g of ice water. The precipitated solid was collected by filtration, washed with water, and dried to give 2.75 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium (yield 7
0%).

生成物の構造解析は実施例48と同様にして行いジニト
ロソテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 48, and it was found that dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized. .

〔実施例52〕WA5H1→WA5NS1 ペンタアセチルヘキサアザイソウルチタン3.78gと50
%酢酸100mlを200ml反応容器に入れ、0℃まで冷やす。
0℃で撹拌しながらゆっくりと4mol/亜硝酸ナトリウ
ム水溶液20mlを滴下した。その後、30℃に昇温し、昇温
後、4時間撹拌した。反応溶液にクロロホルム500mlを
加え、激しく撹拌した。静置後、有機層を取り出し、溶
媒を減圧留去することによりモノニトロソペンタアセチ
ルヘキサアザイソウルチタンが3.79g(収率93%)で生
成していることが確認された。
(Example 52) WA 5 H 1 → WA 5 NS 1 Pentaacetylhexaazaisosoul titanium 3.78 g and 50
100 ml of 100% acetic acid is placed in a 200 ml reaction vessel and cooled to 0 ° C.
While stirring at 0 ° C., 20 ml of a 4 mol / sodium nitrite aqueous solution was slowly added dropwise. Thereafter, the temperature was raised to 30 ° C., and after the temperature was raised, the mixture was stirred for 4 hours. 500 ml of chloroform was added to the reaction solution, followed by vigorous stirring. After standing, the organic layer was taken out, and the solvent was distilled off under reduced pressure. As a result, it was confirmed that mononitrosopentaacetylhexaazaisowurtzitanium was produced in 3.79 g (93% yield).

生成物の構造解析は実施例48と同様にして行いモノニ
トロソペンタアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成
されていることがわかった。。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 48, and it was found that mononitrosopentaacetylhexaazaisowurtzitane was synthesized. .

〔実施例53〕WA4NS2→WA4N2 100ml反応容器に98%硝酸20.00gを入れ、それにジニ
トロソテトラアセチルヘキサアザイソウルチタン0.93g
を加え、室温で5時間反応した。その後、減圧で、硝酸
を留去し、水洗、乾燥しジニトロテトラアセチルヘキサ
アザイソウルチタンが0.96gで生成していることが確認
された(収率95%)。
Example 53] WA 4 NS 2 → WA 4 N 2 100ml reaction vessel was charged with 98% nitric acid 20.00 g, it dinitroso tetraacetyl hexamethylene A wood Seoul titanium 0.93g
Was added and reacted at room temperature for 5 hours. Thereafter, the nitric acid was distilled off under reduced pressure, washed with water and dried, and it was confirmed that 0.96 g of dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was produced (yield 95%).

ジニトロソテトラアセチルヘキサアザイソウルチタン
の分析結果を次に示す。
The analysis results of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitane are shown below.

1HNMR(溶媒DMSO−d6、TMS標準)δ(ppm)2.10(s,1
2H,COCH3)6.75(m,2H,CH)、7.35(7.35ppmにシングレ
ットのピークがあり、その低磁場側にショルダーを有す
るピーク4H,CH) 赤外吸収スペクトル(IR)を確認した結果、1680cm-1
付近にアセチル基のカルボニル基(C=O)に由来す
る、伸縮振動の吸収が確認され、1570cm-1付近と1300cm
-1付近にニトロ基の伸縮振動の吸収が確認された。この
ことにより、ニトロ基とアセチル基が存在していること
が判る。
1 HNMR (solvent DMSO-d 6, TMS standard) δ (ppm) 2.10 (s , 1
2H, COCH 3 ) 6.75 (m, 2H, CH), 7.35 (singlet peak at 7.35 ppm, peak 4H, CH with a shoulder on the low magnetic field side) As a result of confirming the infrared absorption spectrum (IR), 1680cm -1
From the carbonyl group of the acetyl group (C = O) in the vicinity, the absorption of stretching vibration is confirmed, 1570 cm -1 and around 1300cm
Absorption of stretching vibration of the nitro group was confirmed near -1 . This indicates that a nitro group and an acetyl group are present.

FD−マススペクトルを測定した結果、m/z426の親イオ
ンピースを確認した。
As a result of measuring the FD-mass spectrum, a parent ion piece of m / z 426 was confirmed.

分解温度を確認した結果、昇温速度10℃/minにおい
て、ピークトップ温度が314℃であった。
As a result of confirming the decomposition temperature, the peak top temperature was 314 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min.

〔実施例54〕WA4NS2→WA4N2 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、N2O4
を20mlを入れ、その中に、ジニトロソテトラアセチルヘ
キサアザイソウルチタン0.4gを加え、10℃で、5時間反
応した。反応終了後、反応液を留去して得られた固体を
10NaHCO3水で中和、水洗し、ジニトロテトラアセチルヘ
キサアザイソウルチタンを収率92%で生成していること
が確認された。
Example 54 WA 4 NS 2 → WA 4 N 2 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and N 2 O 4
Was added thereto, and 0.4 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added thereto and reacted at 10 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the solid obtained by distilling off the reaction solution was removed.
It was neutralized with 10NaHCO 3 water, washed with water, and it was confirmed that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was produced in a yield of 92%.

生成物の構造解析は実施例53と同様にして行い、ジニ
トロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。
The structure of the product was analyzed in the same manner as in Example 53, and it was found that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized.

〔実施例55〕WA5NS1→WA5N1 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硝酸30mlを入れ、その中に、モノニトロソペンタアセチ
ルヘキサアザイソウルチタン0.96gを加え、室温で5時
間反応した。反応終了後、反応液を留去して得られた固
体を、水洗、乾燥しモノニトロペンタアセチルヘキサア
ザイソウルチタンを収率90%で生成していることが確認
された。
[Example 55] WA 5 NS 1 → WA 5 N 1 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 97%
30 ml of nitric acid was added, and 0.96 g of mononitrosopentaacetylhexaazaisowurtzitanium was added thereto, and the mixture was reacted at room temperature for 5 hours. After completion of the reaction, the solid obtained by distilling the reaction solution was washed with water and dried to confirm that mononitropentaacetylhexaazaisowurtzitane was produced in a yield of 90%.

生成物の構造解析は実施例53と同様にして行い、モノ
ニトロペンタアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成
されていることがわかった。
Structural analysis of the product was performed in the same manner as in Example 53, and it was found that mononitropentaacetylhexaazaisowurtzitane was synthesized.

〔実施例56〕WA4NS2→WA4N2 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硫酸81gを入れ、スターラーで攪拌しながら、97%硝酸2
2.5gをゆっくり滴下した。その混酸中に、ジニトロソテ
トラアセチルヘキサアザイソウルチタン0.4gを加え、20
℃で30分撹拌した。反応終了後、反応液を静置し白色固
体を沈殿させ上澄み液を除き、氷20gを添加した後、濾
過した。濾過分を10%NaHCO3水および精製水で洗浄し、
乾燥した後、アセトニトリルに溶かしLC分析した結果、
ジニトロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが収
率20%で生成していることが確認された。
[Example 56] WA 4 NS 2 → WA 4 N 2 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 97%
Add 81 g of sulfuric acid, and stir with a stirrer.
2.5 g was slowly added dropwise. 0.4 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the mixed acid, and 20
Stirred at C for 30 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was allowed to stand to precipitate a white solid, the supernatant was removed, and 20 g of ice was added, followed by filtration. The filtrate is washed with 10% aqueous NaHCO 3 and purified water,
After drying, dissolved in acetonitrile and analyzed by LC,
It was confirmed that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 20%.

生成物の構造解析は実施例53と同様にして行い、ジニ
トロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。
The structure of the product was analyzed in the same manner as in Example 53, and it was found that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized.

〔実施例57〕WA4NS2→WA4N2 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、N2O5
を10mol%含有する硝酸溶液6.95gを入れ、スターラーで
撹拌しながら、ジニトロソテトラアセチルヘキサアザイ
ソウルチタン1.00gを加え、25℃で、1時間反応した。
反応終了後、反応液を留去して、得られた固体を10NaHC
O3水で中和し濾過した。濾過分を、水洗し、乾燥し、ア
セトニトリルに溶かしLC分析した結果、ジニトロテトラ
アセチルヘキサアザイソウルチタンが収率70%で生成し
ていることが確認された。
Example 57 WA 4 NS 2 → WA 4 N 2 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and N 2 O 5
Was added, and while stirring with a stirrer, 1.00 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added, followed by reaction at 25 ° C. for 1 hour.
After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was washed with 10NaHC.
Neutralized with O 3 water and filtered. The filtrate was washed with water, dried, dissolved in acetonitrile and analyzed by LC. As a result, it was confirmed that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was produced in a yield of 70%.

生成物の構造解析は実施例53と同様にして行い、ジニ
トロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。
The structure of the product was analyzed in the same manner as in Example 53, and it was found that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized.

〔実施例58〕WA4NS2→WA4N2 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硫酸18.22gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリフ
ルオロ酢酸5.21gを添加した。その溶液にジニトロソテ
トラアセチルヘキサアザイソウルチタン0.4gを加え、60
℃で、1時間反応した。反応終了後、反応液を留去した
後、得られた固体を10%NaHCO3水で中和し濾過した。濾
過分を、水洗、乾燥しアセトニトリルに溶かしLC分析し
た結果、ジニトロテトラアセチルヘキサアザイソウルチ
タンが収率42%で生成していることが確認された。
Example 58 WA 4 NS 2 → WA 4 N 2 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 97%
18.22 g of sulfuric acid was added, and while stirring with a stirrer, 5.21 g of trifluoroacetic acid was added. Add 0.4 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium to the solution and add 60 g
The reaction was performed at a temperature of 1 ° C for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was neutralized with 10% aqueous NaHCO 3 and filtered. The filtrate was washed with water, dried, dissolved in acetonitrile, and analyzed by LC. As a result, it was confirmed that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitane was produced in a yield of 42%.

生成物の構造解析は実施例53と同様にして行い、ジニ
トロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。
The structure of the product was analyzed in the same manner as in Example 53, and it was found that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized.

〔実施例59〕WA4NS2→WA4N2 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、98%
硫酸17.64gを入れ、スターラーで撹拌しながら、五酸化
二りん3.98gを添加した。その溶液にジニトロソテトラ
アセチルヘキサアザイソウルチタン0.4gを加え、30℃
で、30分攪拌した。反応終了後、反応液を留去し、水20
mlを加え、濾過した後、濾過分を水洗し、乾燥してアセ
トニトリルに溶かしLC分析した結果、ジニトロテトラア
セチルヘキサアザイソウルチタンが収率56%で生成して
いることが確認された。
[Example 59] WA 4 NS 2 → WA 4 N 2 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C, and 98%
17.64 g of sulfuric acid was added, and 3.98 g of diphosphorus pentoxide was added while stirring with a stirrer. Add 0.4 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium to the solution,
For 30 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and water 20
After adding ml, the mixture was filtered, washed with water, dried, dissolved in acetonitrile, and subjected to LC analysis. As a result, it was confirmed that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was produced in a yield of 56%.

生成物の構造解析は実施例53と同様にして行い、ジニ
トロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。
The structure of the product was analyzed in the same manner as in Example 53, and it was found that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized.

〔実施例60〕WA4NS2→WA4N2 200mlの反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97
%硝酸20.16gを入れ、スターラーで撹拌しながら、ポリ
りん酸44.33gを添加した。その溶液にジニトロソテトラ
アセチルヘキサアザイソウルチタン0.4gを加え、40℃
で、40分間反応した。反応終了後、反応液を、水20mlの
入ったビーカーに入れ、攪拌、溶解させ、不溶固体を濾
過した後、水洗し、乾燥してアセトニトリルに溶かしLC
分析した結果、ジニトロテトラアセチルヘキサアザイソ
ウルチタンが収率56%で生成していることが確認され
た。
Example 60 WA 4 NS 2 → WA 4 N 2 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C.
% Nitric acid 20.16 g was added, and 44.33 g of polyphosphoric acid was added while stirring with a stirrer. Add 0.4 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium to the solution, and add
And reacted for 40 minutes. After the completion of the reaction, the reaction solution was placed in a beaker containing 20 ml of water, stirred and dissolved, and the insoluble solid was filtered, washed with water, dried and dissolved in acetonitrile, and LC
As a result of the analysis, it was confirmed that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was produced at a yield of 56%.

生成物の構造解析は実施例53と同様にして行い、ジニ
トロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。
The structure of the product was analyzed in the same manner as in Example 53, and it was found that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized.

〔実施例61〕WA4NS2→WA4N2 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、97%
硝酸18.22gを入れ、スターラーで撹拌しながら、トリフ
ルオロ酢酸無水物60.73gを添加した。その溶液にジニト
ロソテトラアセチルヘキサアザイソウルチタン0.4gを加
え、30℃で、1時間反応した。反応終了後、反応液を留
去した後、得られた固体を10%NaHCO3水で中和、水洗、
乾燥しアセトニトリルに溶かしLC分析した結果、ジニト
ロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが収率72%
で生成していることが確認された。
Example 61 WA 4 NS 2 → WA 4 N 2 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and 97%
18.22 g of nitric acid was added, and 60.73 g of trifluoroacetic anhydride was added while stirring with a stirrer. 0.4 g of dinitrosotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was added to the solution and reacted at 30 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and the obtained solid was neutralized with 10% aqueous NaHCO 3 , washed with water,
After drying and dissolving in acetonitrile and performing LC analysis, dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitane yielded 72%.
It was confirmed that it was generated by.

生成物の構造解析は実施例53と同様にして行い、ジニ
トロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。
The structure of the product was analyzed in the same manner as in Example 53, and it was found that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized.

〔実施例62〕WA6→WA4N2 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、N2O5
を10mol%含有する硝酸溶液20gを入れ、その中に、ヘキ
サアセチルヘキサアザイソウルチタ0.4gを加え、60℃
で、8時間反応した。反応終了後、反応溶液中の有機成
分をクロロホルムで抽出(200ml×4回)し、クロロホ
ルムを減圧で留去して得られた固体を10%NaHCO3水で洗
浄し、多種のニトロ化混合物を得た。この固体をアセト
ニトリルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析
し、主成分を分析ジニトロテトラアセチルヘキサアザイ
ソウルチタンが収率43%で生成していることを確認し
た。
Example 62 WA 6 → WA 4 N 2 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and N 2 O 5
Of nitric acid solution containing 10 mol%, and 0.4 g of hexaacetylhexaazaisowurtzita was added thereto, and the mixture was heated at 60 ° C.
And reacted for 8 hours. After completion of the reaction, the organic component in the reaction solution was extracted with chloroform (200 ml × 4 times), and the solid obtained by distilling off chloroform under reduced pressure was washed with 10% aqueous NaHCO 3 to remove various nitrated mixtures. Obtained. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography, and it was confirmed that the main component, dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium, was analyzed with a yield of 43%.

生成物の構造解析は実施例53と同様にして行い、ジニ
トロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。
The structure of the product was analyzed in the same manner as in Example 53, and it was found that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized.

〔実施例63〕WA4H2→WA4N2 200ml反応容器を0℃のウォーターバスに浸け、N2O5
を10mol%含有する硝酸溶液20gを入れ、その中に、テト
ラアセチルヘキサアザイソウルチタン0.4gを加え、60℃
で、8時間反応した。反応終了後、反応溶液中の有機成
分をクロロホルムで抽出(200ml×4回)し、クロロホ
ルムを減圧で留去して得られた固体を10%NaHCO3水で洗
浄し、多種のニトロ化混合物を得た。この固体をアセト
ニトリルに溶かし高速液体クロマトグラフィーで分析
し、主成分を分析ジニトロテトラアセチルヘキサアザイ
ソウルチタンが収率40%で生成していることを確認し
た。
Example 63 WA 4 H 2 → WA 4 N 2 A 200 ml reaction vessel was immersed in a water bath at 0 ° C., and N 2 O 5
Of nitric acid solution containing 10 mol%, 0.4 g of tetraacetylhexaazaisowurtzitane is added thereto,
And reacted for 8 hours. After completion of the reaction, the organic component in the reaction solution was extracted with chloroform (200 ml × 4 times), and the solid obtained by distilling off chloroform under reduced pressure was washed with 10% aqueous NaHCO 3 to remove various nitrated mixtures. Obtained. This solid was dissolved in acetonitrile and analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that the main component, dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium, was analyzed in a yield of 40%.

生成物の構造解析は実施例53と同様にして行い、ジニ
トロテトラアセチルヘキサアザイソウルチタンが合成さ
れていることがわかった。
The structure of the product was analyzed in the same manner as in Example 53, and it was found that dinitrotetraacetylhexaazaisowurtzitanium was synthesized.

〔実施例64〕WBN6→WA4BN2 [式中、Aはアセチル基、BNはベンジル基、Wは式
(V)に示す6価のヘキサアザイソウルチタン残基を表
わす。] ヘキサベンジルヘキサアザイソウルチタン1.89g、10
%Pd−C 1.70g、N−アセトキシコハク酸イミド5.0
g、エチルベンゼン160ml、無水酢酸3.24g、および回転
子を内容量300mlのマイクロボンベに入れ、ボンベ内を
水素置換した。その後、ボンベ内に水素を5MPa迄圧入
し、スターラーで20時間反応した。ボンベ内より反応溶
液を取り出し、触媒を濾過し、濾紙上の固体をクロロホ
ルム200mlで洗浄した。濾液(反応溶液とクロロホルム
洗浄液)を溶媒留去し、残固体をクロロホルム200mlに
溶かし、それに28%アンモニア水200mlを加え、激しく3
0分間反応した。この操作により、N−アセトキシコハ
ク酸イミドが有機層から除去される。クロロホルム層を
取り出し、溶媒留去し、白色固体1.39gを得た。これ
を、エチルベンゼンで再結晶し、白色固体1.20g(収率8
7%)を得た。この固体の分析をFD−マススペクトル、1
Hおよび13C−NRM、13C−1H COSYを用いて構造解析を行
ない、テトラアセチルジベンジルヘキサアザイソウルチ
タンであることを確認した。テトラアセチルジベンジル
ヘキサアザイソウルチタンの分析結果を以下に示す。
[Example 64] WBN 6 → WA 4 BN 2 wherein A represents an acetyl group, BN represents a benzyl group, and W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the formula (V). Hexabenzylhexaazaisoul titanium 1.89g, 10
% Pd-C 1.70 g, N-acetoxysuccinimide 5.0
g, 160 ml of ethylbenzene, 3.24 g of acetic anhydride, and a rotator were placed in a 300-ml micro-bomb, and the inside of the bomb was replaced with hydrogen. Thereafter, hydrogen was injected into the cylinder up to 5 MPa and reacted with a stirrer for 20 hours. The reaction solution was taken out of the cylinder, the catalyst was filtered, and the solid on the filter paper was washed with 200 ml of chloroform. The filtrate (reaction solution and chloroform washing solution) was evaporated, and the remaining solid was dissolved in 200 ml of chloroform. 200 ml of 28% aqueous ammonia was added thereto.
Reacted for 0 minutes. By this operation, N-acetoxysuccinimide is removed from the organic layer. The chloroform layer was taken out and the solvent was distilled off to obtain 1.39 g of a white solid. This was recrystallized from ethylbenzene to give 1.20 g of white solid (yield 8
7%). The analysis of this solid was performed using the FD-mass spectrum, 1
Structural analysis was performed using H, 13 C-NRM, and 13 C- 1 H COSY to confirm that the substance was tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitane. The analysis results of tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitane are shown below.

FD−マススペクトル 517([M+H]+)。 FD-mass spectrum 517 ([M + H] +).

1H−NMRスペクトル(溶媒CDCl3、TMS標準)δ(ppm)
1.94(s,6H,COCH3),2.15(s,6H,COCH3),4.06(d,2H,C
H2),4.29(d,2H,CH2),5.09(d,2H,CH),5.70(d,2H,C
H),6.42(s,2H,CH),7.3〜7.5(m,10H,Ph)。
1 H-NMR spectrum (solvent CDCl 3 , TMS standard) δ (ppm)
1.94 (s, 6H, COCH 3 ), 2.15 (s, 6H, COCH 3 ), 4.06 (d, 2H, C
H 2), 4.29 (d, 2H, CH 2), 5.09 (d, 2H, CH), 5.70 (d, 2H, C
H), 6.42 (s, 2H, CH), 7.3 to 7.5 (m, 10H, Ph).

1H−NMRスペクトルにより、4個のアセチル基、2個
のベンジル基、6個のW骨格中のメチン基が確認され
た。
1 H-NMR spectrum confirmed four acetyl groups, two benzyl groups, and six methine groups in the W skeleton.

13C−NRM(溶媒CDCl3、TMS標準) δ(ppm)20.737
(CH3),22.111(CH3),56.428(CH2),69.678(CH),7
0.592(CH),128.056(Ph),128.673(Ph), 128.928(Ph),136.742(Ph),168.263(CO)。
13 C-NRM (solvent CDCl 3 , TMS standard) δ (ppm) 20.737
(CH 3), 22.111 (CH 3), 56.428 (CH 2), 69.678 (CH), 7
0.592 (CH), 128.056 (Ph), 128.673 (Ph), 128.928 (Ph), 136.742 (Ph), 168.263 (CO).

13C−NRMスペクトルにより、アセチル基、ベンジル基
のフェニル基およびメチレン基、W骨格中のメチン基が
確認される。
The 13 C-NRM spectrum confirms the acetyl group, the phenyl group and the methylene group of the benzyl group, and the methine group in the W skeleton.

1H−13C COSYにより、1Hの結合している13Cを同定し
た。
By 1 H- 13 C COZY, it was identified by 13 C bound of 1 H.

〔実施例65〕WA6BN2→WA4H2 [式中、Aはアセチル基、BNはベンジル基、Hは水素原
子、Wは式(V)に示す6価のヘキサアザイソウルチタ
ン残基を表わす。] テトラアセチルジベンジルヘキサアザイソウルチタン
3.67g,Pd(OAc)21.60g,酢酸150ml,および回転子を300m
lマイクロボンベに入れ、窒素置換した。その後、マイ
クロボンベに水素を0.5MPa迄圧入し、スターラーで15時
間反応した。マイクロボンベより反応溶液を取り出し、
触媒を濾過し、溶媒を減圧留去した後の残固体を酢酸エ
チル100mlで洗い、白色固定テトラアセチルヘキサアザ
イソウルチタン2.33g(収率99%)を得た。
[Example 65] WA 6 BN 2 → WA 4 H 2 [In the formula, A is an acetyl group, BN is a benzyl group, H is a hydrogen atom, and W is a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the formula (V). Represents a group. ] Tetraacetyldibenzylhexaazaisosoultitanium
3.67g, Pd (OAc) 2 1.60g, acetic acid 150ml, and rotor 300m
l Placed in a micro cylinder and replaced with nitrogen. Thereafter, hydrogen was injected into the microbomb to a pressure of 0.5 MPa, and reacted with a stirrer for 15 hours. Remove the reaction solution from the micro cylinder and
The catalyst was filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The remaining solid was washed with 100 ml of ethyl acetate to obtain 2.33 g (99% yield) of white fixed tetraacetylhexaazaisowurtzitanium.

テトラアセチルヘキサアザイソウルチタンの分析結果
を以下に示す。
The analysis results of tetraacetylhexaazaisosoultitanium are shown below.

1H−NMR(溶媒C2O、TMS標準)、δ(ppm)1.98(s,6
H,COCH3),2.00(s,6H,CH3),5.29(br,2H,CH),5.50
(br,2H,CH),6.35(m,2H,CH)。
1 H-NMR (solvent C 2 O, TMS standard), δ (ppm) 1.98 (s, 6
H, COCH 3 ), 2.00 (s, 6H, CH 3 ), 5.29 (br, 2H, CH), 5.50
(Br, 2H, CH), 6.35 (m, 2H, CH).

1H−NMRにより、4個のアセチル基とW骨格のメチン
基を確認した。赤外吸収スペクトル(IR)を測定した結
果3300〜3400cm-1の二本の2級アミン(N−H基)の伸
縮振動の吸収が確認された。また1660cm-1にアセチル基
のカルボニル(C=O)基の伸縮振動が確認された。こ
れらより、W骨格の置換基として、アセチル基とN−H
基が存在することが判る。
1 H-NMR confirmed four acetyl groups and a methine group in the W skeleton. As a result of measuring an infrared absorption spectrum (IR), absorption of stretching vibration of two secondary amines (N—H groups) at 3300 to 3400 cm −1 was confirmed. At 1660 cm −1 , stretching vibration of the carbonyl (C = O) group of the acetyl group was confirmed. From these, acetyl group and N—H are substituted as substituents of the W skeleton.
It can be seen that the group is present.

〔産業上の利用可能性〕[Industrial applicability]

本発明は、高性能爆薬であるヘキサニトロヘキサアザ
イソウルチタンの製造方法として有用である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is useful as a method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane, which is a high-performance explosive.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特許2844125(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 487/22 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (56) References Patent 2844125 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C07D 487/22 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (35)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】下記の一般式(I)、(III)または(I
V)で表されるヘキサアザイソウルチタン誘導体を、ニ
トロ化促進剤存在下、硝酸でニトロ化するヘキサニトロ
ヘキサアザイソウルチタンの製造方法において、ニトロ
化促進剤として、下記一般式(IX)で表されるペルフル
オロアルキルスルホニルイミド、五酸化二リン、三酸化
硫黄、五酸化二窒素及びポリリン酸、からなる群から選
ばれる少なくとも1種を使用することを特徴とする下記
の式(VI)で表されるヘキサニトロヘキサアザイソウル
チタンの製造方法。 WAnN(6-n) (I) [式中、nは4〜5の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、Nはニトロ基、Wは
下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウルチ
タン残基を表わす。] WAnNS(6-n) (III) [式中、nは4〜5の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、NSはニトロソ基、W
は下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウル
チタン残基を表わす。] WAmH(6-m) (IV) [式中、mは4〜6の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、Hは水素原子、Wは
下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウルチ
タン残基を表わす。] WN6 (VI) [式中、Nはニトロ基、Wは下記の式(II)で表される
6価のヘキサアザイソウルチタン残基を表わす。] RfSO2NHSO2Rf′ (IX) [式中、Rf及びRf′は、炭素数1〜8のペルフルオロア
ルキル基を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Nは窒
素原子、Hは水素原子を表わす。]
(1) The following general formula (I), (III) or (I)
In the method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitanium, which is obtained by nitrating a hexaazaisowurtzitanium derivative represented by V) with nitric acid in the presence of a nitration promoter, the following general formula (IX) is used as a nitration promoter. Wherein at least one selected from the group consisting of perfluoroalkylsulfonylimide, diphosphorus pentoxide, sulfur trioxide, dinitrogen pentoxide, and polyphosphoric acid represented by the following formula (VI) is used: A method for producing the represented hexanitrohexaazaisosoultitanium. WA n N (6-n) (I) wherein n is an integer of 4 to 5, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, N is a nitro group, and W is It represents a hexavalent hexaazaisowurtzitane residue represented by the following formula (II). WA n NS (6-n) (III) wherein n is an integer of 4 to 5, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, NS is a nitroso group, W is
Represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). WA m H (6-m) (IV) [wherein, m is an integer of 4 to 6, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, W is Represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). WN 6 (VI) [wherein, N represents a nitro group, and W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). ] RfSO 2 NHSO 2 Rf ′ (IX) [wherein, Rf and Rf ′ represent a perfluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms, S is a sulfur atom, O is an oxygen atom, N is a nitrogen atom, and H is a hydrogen atom. Represents ]
【請求項2】下記の一般式(I)、(III)または(I
V)で表されるヘキサアザイソウルチタン誘導体を、ニ
トロ化促進剤存在下、硝酸でニトロ化するヘキサニトロ
ヘキサアザイソウルチタンの製造方法において、ニトロ
化促進剤としてカルボン酸無水物を使用することを特徴
とする下記の式(VI)で表されるヘキサニトロヘキサア
ザイソウルチタンの製造方法。 WAnN(6-n) (I) [式中、nは4〜5の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、Nはニトロ基、Wは
下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウルチ
タン残基を表わす。] WAnNS(6-n) (III) [式中、nは4〜5の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、NSはニトロソ基、W
は下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウル
チタン残基を表わす。] WAmH(6-m) (IV) [式中、mは4〜6の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、Hは水素原子、Wは
下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウルチ
タン残基を表わす。] WN6 (VI) [式中、Nはニトロ基、Wは下記の式(II)で表される
6価のヘキサアザイソウルチタン残基を表わす。]
2. The compound represented by the following general formula (I), (III) or (I)
In the method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitanium, which is obtained by nitrating the hexaazaisowurtzitanium derivative represented by V) with nitric acid in the presence of a nitration promoter, a carboxylic anhydride is used as the nitration promoter. A method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitanium represented by the following formula (VI): WA n N (6-n) (I) wherein n is an integer of 4 to 5, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, N is a nitro group, and W is It represents a hexavalent hexaazaisowurtzitane residue represented by the following formula (II). WA n NS (6-n) (III) wherein n is an integer of 4 to 5, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, NS is a nitroso group, W is
Represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). WA m H (6-m) (IV) [wherein, m is an integer of 4 to 6, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, W is Represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). WN 6 (VI) [wherein, N represents a nitro group, and W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). ]
【請求項3】カルボン酸無水物が、無水トリフルオロ硫
酸であることを特徴とする請求項2に記載のヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein the carboxylic anhydride is trifluorosulfuric anhydride.
【請求項4】下記の一般式(I)、(III)または(I
V)で表されるヘキサアザイソウルチタン誘導体を、ニ
トロ化促進剤存在下、硝酸でニトロ化するヘキサニトロ
ヘキサアザイソウルチタンの製造方法において、ニトロ
化促進剤としてルイス酸を使用することを特徴とする下
記の式(VI)で表されるヘキサニトロヘキサアザイソウ
ルチタンの製造方法。 WAnN(6-n) (I) [式中、nは4〜5の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、Nはニトロ基、Wは
下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウルチ
タン残基を表わす。] WAnNS(6-n) (III) [式中、nは4〜5の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、NSはニトロソ基、W
は下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウル
チタン残基を表わす。] WAmH(6-m) (IV) [式中、mは4〜6の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、Hは水素原子、Wは
下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウルチ
タン残基を表わす。] WN6 (VI) [式中、Nはニトロ基、Wは下記の式(II)で表される
6価のヘキサアザイソウルチタン残基を表わす。]
4. A compound represented by the following general formula (I), (III) or (I)
The use of a Lewis acid as a nitration accelerator in a process for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane, in which a hexaazaisowurtzitanium derivative represented by V) is nitrated with nitric acid in the presence of a nitration accelerator, A method for producing hexanitrohexaazaisosoultitanium represented by the following formula (VI): WA n N (6-n) (I) wherein n is an integer of 4 to 5, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, N is a nitro group, and W is It represents a hexavalent hexaazaisowurtzitane residue represented by the following formula (II). WA n NS (6-n) (III) wherein n is an integer of 4 to 5, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, NS is a nitroso group, W is
Represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). WA m H (6-m) (IV) [wherein, m is an integer of 4 to 6, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, W is Represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). WN 6 (VI) [wherein, N represents a nitro group, and W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). ]
【請求項5】ルイス酸が、下記一般式(X)で表される
ペルフルオロアルキルスルホン酸の希土類塩であること
を特徴とする請求項4に記載のヘキサニトロヘキサアザ
イソウルチタンの製造方法。 M(RfSO3 (X) [式中、Rfは、炭素数1〜8のペルフルオロアルキル基
を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Mは希土類元素
を表す。]
5. The method according to claim 4, wherein the Lewis acid is a rare earth salt of perfluoroalkylsulfonic acid represented by the following general formula (X). M (RfSO 3 ) 3 (X) [wherein, Rf represents a C 1-8 perfluoroalkyl group, S represents a sulfur atom, O represents an oxygen atom, and M represents a rare earth element. ]
【請求項6】ルイス酸が、下記式(XI)で表されるペル
フルオロアルキルスルホニルイミドの希土類塩であるこ
とを特徴とする請求項4に記載のヘキサニトロヘキサア
ザイソウルチタンの製造方法。 M(RfSO2NSO2Rf′) (XI) [式中、Rf及びRf′は、炭素数1〜8のペルフルオロア
ルキル基を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Nは窒
素原子、Mは希土類元素を表わす。]
6. The method according to claim 4, wherein the Lewis acid is a rare earth salt of perfluoroalkylsulfonylimide represented by the following formula (XI). M (RfSO 2 NSO 2 Rf ′) 3 (XI) wherein Rf and Rf ′ each represent a C 1-8 perfluoroalkyl group, S is a sulfur atom, O is an oxygen atom, N is a nitrogen atom, M represents a rare earth element. ]
【請求項7】ニトロ化促進剤として強酸性の固体触媒を
使用することを特徴とする請求項1に記載のヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
7. The method according to claim 1, wherein a strongly acidic solid catalyst is used as a nitration accelerator.
【請求項8】強酸性の固体触媒が、ルイス酸触媒である
ことを特徴とする請求項7に記載のヘキサニトロヘキサ
アザイソウルチタンの製造方法。
8. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane according to claim 7, wherein the strongly acidic solid catalyst is a Lewis acid catalyst.
【請求項9】強酸性の固体触媒が、強ブレーンステッド
酸触媒であることを特徴とする請求項7に記載のヘキサ
ニトロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
9. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane according to claim 7, wherein the strongly acidic solid catalyst is a strong Bronsted acid catalyst.
【請求項10】強ブレーンステッド酸触媒が、スルホン
酸基をもつポリマーであることを特徴とする請求項9に
記載のヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンの製造方
法。
10. The method according to claim 9, wherein the strong Bronsted acid catalyst is a polymer having a sulfonic acid group.
【請求項11】強ブレーンステッド酸触媒が、ゼオライ
トであることを特徴とする請求項9に載のヘキサニトロ
ヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
11. The method according to claim 9, wherein the strong Bronsted acid catalyst is zeolite.
【請求項12】一般式(IV)で表されるヘキサアザイソ
ウルチタン誘導体を、ニトロ化剤でニトロ化して一般式
(I)で表されるヘキサアザイソウルチタン誘導体を製
造し、次に該誘導体をニトロ化促進剤の存在下、硝酸を
使用してニトロ化することを特徴とする一般式(VI)の
ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。 WAmH(6-m) (IV) [式中、mは4〜6の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、Hは水素原子、Wは
下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウルチ
タン残基を表わす。] WAnN(6-n) (I) [式中、nは4〜5の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、Nはニトロ基、Wは
下記の式(V)で表される6価のヘキサアザイソウルチ
タン残基を表わす。] WN6 (VI) [式中、Nはニトロ基、Wは下記の式(II)で表される
6価のヘキサアザイソウルチタン残基を表わす。]
12. A hexaazaisowurtzitanium derivative represented by the general formula (IV) is nitrated with a nitrating agent to produce a hexaazaisowurtzitanium derivative represented by the general formula (I). A method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane of the general formula (VI), wherein the derivative is nitrated with nitric acid in the presence of a nitration accelerator. WA m H (6-m) (IV) [wherein, m is an integer of 4 to 6, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, and W is It represents a hexavalent hexaazaisowurtzitane residue represented by the following formula (II). WA n N (6-n) (I) wherein n is an integer of 4 to 5, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, N is a nitro group, W is Represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (V). WN 6 (VI) [wherein, N represents a nitro group, and W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). ]
【請求項13】ニトロ化促進剤として、下記一般式(I
X)で表されるペルフルオロアルキルスルホニルイミ
ド、五酸化二リン、三酸化硫黄、五酸化二窒素及びポリ
リン酸、からなる群から選ばれる少なくとも1種を使用
することを特徴とする請求項12に記載のヘキサニトロヘ
キサアザイソウルチタンの製造方法。 RfSO2NHSO2Rf′ (IX) [式中、Rf及びRf′は、炭素数1〜8のペルフルオロア
ルキル基を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Nは窒
素原子、Hは水素原子を表わす。]
13. A nitration accelerator represented by the following general formula (I)
13. The method according to claim 12, wherein at least one selected from the group consisting of perfluoroalkylsulfonylimide represented by X), diphosphorus pentoxide, sulfur trioxide, dinitrogen pentoxide and polyphosphoric acid is used. For producing hexanitrohexaazaisowurtzitane. RfSO 2 NHSO 2 Rf ′ (IX) [wherein, Rf and Rf ′ represent a perfluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms, S is a sulfur atom, O is an oxygen atom, N is a nitrogen atom, and H is a hydrogen atom. Represents ]
【請求項14】ニトロ化促進剤として、カルボン酸無水
物を使用することを特徴とする請求項12に記載のヘキサ
ニトロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
14. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitanium according to claim 12, wherein a carboxylic anhydride is used as the nitration accelerator.
【請求項15】カルボン酸無水物が、無水トリフルオロ
酢酸であることを特徴とする請求項14に記載のヘキサニ
トロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
15. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane according to claim 14, wherein the carboxylic anhydride is trifluoroacetic anhydride.
【請求項16】ニトロ化化促進剤として、ルイス酸を使
用することを特徴とする請求項12に記載のヘキサニトロ
ヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
16. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane according to claim 12, wherein a Lewis acid is used as the nitration accelerator.
【請求項17】ルイス酸が、下記一般式(X)で表され
るペルフルオロアルキルスルホン酸の希土類塩であるこ
とを特徴とする請求項16に記載のヘキサニトロヘキサア
ザイソウルチタンの製造方法。 M(RfSO3 (X) [式中、Rfは、炭素数1〜8のペルフルオロアルキル基
を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Mは希土類元素
を表す。]
17. The method according to claim 16, wherein the Lewis acid is a rare earth salt of perfluoroalkylsulfonic acid represented by the following general formula (X). M (RfSO 3 ) 3 (X) [wherein, Rf represents a C 1-8 perfluoroalkyl group, S represents a sulfur atom, O represents an oxygen atom, and M represents a rare earth element. ]
【請求項18】ルイス酸が、下記式(XI)で表されるペ
ルフルオロアルキルスルホニルイミドの希土類塩である
ことを特徴とする請求項16に記載のヘキサニトロヘキサ
アザイソウルチタンの製造方法。 M(RfSO2NSO2Rf′) (XI) [式中、Rf及びRf′は、炭素数1〜8のペルフルオロア
ルキル基を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Nは窒
素原子、Mは希土類元素を表わす。]
18. The method according to claim 16, wherein the Lewis acid is a rare earth salt of perfluoroalkylsulfonylimide represented by the following formula (XI). M (RfSO 2 NSO 2 Rf ′) 3 (XI) wherein Rf and Rf ′ each represent a C 1-8 perfluoroalkyl group, S is a sulfur atom, O is an oxygen atom, N is a nitrogen atom, M represents a rare earth element. ]
【請求項19】ニトロ化促進剤が、強酸性の固体触媒で
あることを特徴とする請求項12に記載のヘキサニトロヘ
キサアザイソウルチタンの製造方法。
19. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitanium according to claim 12, wherein the nitration accelerator is a solid catalyst having strong acidity.
【請求項20】強酸性の固体触媒が、ルイス酸触媒であ
ることを特徴とする請求項19に記載のヘキサニトロヘキ
サアザイソウルチタンの製造方法。
20. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane according to claim 19, wherein the strongly acidic solid catalyst is a Lewis acid catalyst.
【請求項21】強酸性の固体触媒が、強ブレーンステッ
ド酸触媒であることを特徴とする請求項19に記載のヘキ
サニトロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
21. The method according to claim 19, wherein the strongly acidic solid catalyst is a strong Bronsted acid catalyst.
【請求項22】強ブレーンステッド酸触媒が、スルホン
酸基をもつポリマーであることを特徴とする請求項21に
記載のヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンの製造方
法。
22. The method according to claim 21, wherein the strong Bronsted acid catalyst is a polymer having a sulfonic acid group.
【請求項23】強ブレーンステッド酸触媒が、ゼオライ
トであることを特徴とする請求項21に記載のヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
23. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane according to claim 21, wherein the strong Bronsted acid catalyst is zeolite.
【請求項24】一般式(IV)で表されるヘキサアザイソ
ウルチタン誘導体を、ニトロソ化剤でニトロン化して一
般式(III)で表されるヘキサアザイソウルチタン誘導
体を製造し、次に該誘導体をニトロ化促進剤の存在下、
硝酸を使用してニトロ化することを特徴とする式(VI)
で表されるヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンの製
造方法。 WAmH(6-m) (III) [式中、mは4〜6の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、Hは水素原子、Wは
下記の式(II)で表される6価のヘキサアザイソウルチ
タン残基を表わす。] WAnNS(6-n) (I) [式中、nは4〜5の整数、Aは各々独立して同種、又
は異種の炭素数1〜10のアシル基、NSはニトロソ基、W
は下記の式(V)で表される6価のヘキサアザイソウル
チタン残基を表す。] WN6 (VI) [式中、Nはニトロ基、Wは下記の式(II)で表される
6価のヘキサアザイソウルチタン残基を表わす。]
24. A hexaazaisowurtzitanium derivative represented by the general formula (III) is produced by nitronating a hexaazaisowurtzitanium derivative represented by the general formula (IV) with a nitrosating agent, In the presence of a nitration accelerator,
Formula (VI) characterized by nitration using nitric acid
The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane represented by the formula: WA m H (6-m) (III) wherein m is an integer of 4 to 6, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, and W is It represents a hexavalent hexaazaisowurtzitane residue represented by the following formula (II). WA n NS (6-n) (I) wherein n is an integer of 4 to 5, A is each independently the same or different acyl group having 1 to 10 carbon atoms, NS is a nitroso group, W is
Represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (V). WN 6 (VI) [wherein, N represents a nitro group, and W represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (II). ]
【請求項25】ニトロ価促進剤として、下記一般式(I
X)で表されるペルフルオロアルキルスルホニルイミ
ド、五酸化二リン、三酸化硫黄、五酸化二窒素及びポリ
リン酸、からなる群から選ばれる少なくとも1種を使用
することを特徴とする請求項24に記載のヘキサニトロヘ
キサアザイソウルチタンの製造方法。 RfSO2NHSO2Rf′ (IX) [式中、Rf及びRf′は、炭素数1〜8のペルフルオロア
ルキル基を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Nは窒
素原子、Hは水素原子を表わす。]
25. A nitro value promoter represented by the following general formula (I)
25. The method according to claim 24, wherein at least one selected from the group consisting of perfluoroalkylsulfonylimide, diphosphorus pentoxide, sulfur trioxide, dinitrogen pentoxide and polyphosphoric acid represented by X) is used. For producing hexanitrohexaazaisowurtzitane. RfSO 2 NHSO 2 Rf ′ (IX) [wherein, Rf and Rf ′ represent a perfluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms, S is a sulfur atom, O is an oxygen atom, N is a nitrogen atom, and H is a hydrogen atom. Represents ]
【請求項26】ニトロ化促進剤として、カルボン酸無水
物を使用することを特徴とする請求項24に記載のヘキサ
ニトロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
26. The method according to claim 24, wherein a carboxylic anhydride is used as a nitration accelerator.
【請求項27】カルボン酸無水物が、無水トリフルオロ
酢酸であることを特徴とする請求項26に記載のヘキサニ
トロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
27. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane according to claim 26, wherein the carboxylic anhydride is trifluoroacetic anhydride.
【請求項28】ニトロ化化促進剤として、ルイス酸を使
用することを特徴とする請求項24に記載のヘキサニトロ
ヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
28. The method according to claim 24, wherein a Lewis acid is used as the nitration accelerator.
【請求項29】ルイス酸が、下記一般式(X)で表され
るペルフルオロアルキルスルホン酸の希土類塩であるこ
とを特徴とする請求項28に記載のヘキサニトロヘキサア
ザイソウルチタンの製造方法。 M(RfSO3 (X) [式中、Rfは、炭素数1〜8のペルフルオロアルキル基
を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Mは希土類元素
を表す。]
29. The method according to claim 28, wherein the Lewis acid is a rare earth salt of perfluoroalkylsulfonic acid represented by the following general formula (X). M (RfSO 3 ) 3 (X) [wherein, Rf represents a C 1-8 perfluoroalkyl group, S represents a sulfur atom, O represents an oxygen atom, and M represents a rare earth element. ]
【請求項30】ルイス酸が、下記式(XI)で表されるペ
ルフルオロアルキルスルホニルイミドの希土類塩である
ことを特徴とする請求項28に記載のヘキサニトロヘキサ
アザイソウルチタンの製造方法。 M(RfSO2NSO2Rf′) (XI) [式中、Rf及びRf′は、炭素数1〜8のペルフルオロア
ルキル基を表し、Sは硫黄原子、Oは酸素原子、Nは窒
素原子、Mは希土類元素を表わす。]
30. The method according to claim 28, wherein the Lewis acid is a rare earth salt of perfluoroalkylsulfonylimide represented by the following formula (XI). M (RfSO 2 NSO 2 Rf ′) 3 (XI) wherein Rf and Rf ′ each represent a C 1-8 perfluoroalkyl group, S is a sulfur atom, O is an oxygen atom, N is a nitrogen atom, M represents a rare earth element. ]
【請求項31】ニトロ化促進剤が、強酸性の固体触媒で
あることを特徴とする請求項24記載のヘキサニトロヘキ
サアザイソウルチタンの製造方法。
31. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane according to claim 24, wherein the nitration accelerator is a solid catalyst having strong acidity.
【請求項32】強酸性の固体触媒が、ルイス酸触媒であ
ることを特徴とする請求項31に記載のヘキサニトロヘキ
サアザイソウルチタンの製造方法。
32. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitanium according to claim 31, wherein the strongly acidic solid catalyst is a Lewis acid catalyst.
【請求項33】強酸性の固体触媒が、強ブレーンステッ
ド酸触媒であることを特徴とする請求項31に記載のヘキ
サニトロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
33. The method according to claim 31, wherein the strongly acidic solid catalyst is a strong Bronsted acid catalyst.
【請求項34】強ブレーンステッド酸触媒が、スルホン
酸基をもつポリマーであることを特徴とする請求項33に
記載のヘキサニトロヘキサアザイソウルチタンの製造方
法。
34. The method according to claim 33, wherein the strong Bronsted acid catalyst is a polymer having a sulfonic acid group.
【請求項35】強ブレーンステッド酸触媒が、ゼオライ
トであることを特徴とする請求項33に記載のヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタンの製造方法。
35. The method for producing hexanitrohexaazaisowurtzitane according to claim 33, wherein the strong Bronsted acid catalyst is zeolite.
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