JP3025910B2 - Penam derivatives and their production - Google Patents

Penam derivatives and their production

Info

Publication number
JP3025910B2
JP3025910B2 JP3047085A JP4708591A JP3025910B2 JP 3025910 B2 JP3025910 B2 JP 3025910B2 JP 3047085 A JP3047085 A JP 3047085A JP 4708591 A JP4708591 A JP 4708591A JP 3025910 B2 JP3025910 B2 JP 3025910B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
general formula
reaction
methyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP3047085A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0625253A (en
Inventor
滋 鳥居
秀雄 田中
正俊 谷口
三千雄 笹岡
敬史 城井
豊 亀山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Chemical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Otsuka Chemical Co Ltd filed Critical Otsuka Chemical Co Ltd
Priority to JP3047085A priority Critical patent/JP3025910B2/en
Priority to DE69225821T priority patent/DE69225821T2/en
Priority to EP92104192A priority patent/EP0503597B1/en
Publication of JPH0625253A publication Critical patent/JPH0625253A/en
Priority to US08/314,307 priority patent/US5599925A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3025910B2 publication Critical patent/JP3025910B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、新規なペナム誘導体及
びその製造法に関する。
The present invention relates to a novel penum derivative and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来技術とその課題】本発明のペナム誘導体は、文献
未記載の新規化合物であり、本発明は後記の通り広範囲
な抗菌スペクトル、即ちグラム陽性菌及びグラム陰性菌
に対して優れた抗菌活性を有し、且つβ−ラクタマーゼ
に対し安定で、耐性菌に対しても優れた抗菌活性を発現
し得る上記ペナム誘導体の提供を目的とする。
BACKGROUND OF THE INVENTION The penum derivative of the present invention is a novel compound which has not been described in any literature, and the present invention has a broad antibacterial spectrum, that is, excellent antibacterial activity against Gram-positive bacteria and Gram-negative bacteria as described below. It is an object of the present invention to provide the above-mentioned penam derivative which has a stable activity against β-lactamase and can exhibit excellent antibacterial activity against resistant bacteria.

【0003】更に本発明の他の目的は、他のペナム誘導
体の合成中間体として有用な化合物を提供することにあ
る。
Another object of the present invention is to provide a compound useful as an intermediate for synthesizing other penum derivatives.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式According to the present invention, the general formula

【0005】[0005]

【化3】 Embedded image

【0006】[式中R1 は水素原子、ハロゲン原子、ア
ミノ基又は保護されたアミノ基を示す。R2 は水素原
子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アシル基、
低級アルキル基、水酸基もしくは保護された水酸基を置
換基として有する低級アルキル基、水酸基、又は保護さ
れた水酸基を示す。或いはR1 とR2 とが互いに結合し
てオキソ基を形成してもよい。R3 は水素原子又はカル
ボン酸保護基を示す。nは0、1又は2を示す。Yはハ
ロゲン原子、基−N3 、基−ONO2 、基−OR4、基
−OCOR4 、基−SCSOR4 、基−SCSN
(R4 2 、基−SR4 、基−SO2 4 、基−NHR
4 、基−N(R4 2 又は置換基を有していてもよい窒
素に遊離原子価を持つ含窒素複素環基を示す。R4 は置
換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有し
ていてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよ
い複素環基を示す。]で表わされるペナム誘導体及びそ
の塩が提供される。
[Wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group or a protected amino group. R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkoxy group, a lower acyl group,
It represents a lower alkyl group, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group having a lower alkyl group, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group as a substituent. Alternatively, R 1 and R 2 may combine with each other to form an oxo group. R 3 represents a hydrogen atom or a carboxylic acid protecting group. n represents 0, 1 or 2. Y is a halogen atom, a group —N 3 , a group —ONO 2 , a group —OR 4 , a group —OCOR 4 , a group —SCSOR 4 , a group —SCSN
(R 4 ) 2 , group —SR 4 , group —SO 2 R 4 , group —NHR
4 , a group —N (R 4 ) 2 or a nitrogen-containing heterocyclic group having a free valence at nitrogen which may have a substituent. R 4 represents a lower alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a heterocyclic group which may have a substituent. And a salt thereof.

【0007】本明細書において示される各基は、より具
体的にはそれぞれ次の通りである。
The groups shown in the present specification are more specifically as follows.

【0008】ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、
塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられる。低級ア
ルキル基としては、例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec −ブ
チル、tert−ブチル基等のC1-4 の直鎖又は分枝鎖状ア
ルキル基が挙げられる。またアリール基としては、例え
ばフェニル、ナフチル基等が挙げられる。
As the halogen atom, for example, a fluorine atom,
Examples thereof include a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Examples of the lower alkyl group include C 1-4 linear or branched alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl and tert-butyl groups. . Examples of the aryl group include a phenyl and naphthyl group.

【0009】R1 で示される保護されたアミノ基として
は、プロテクティブ グループ イン オーガニック
シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesi
s、Theodora W.Greene 著、以下単に「文献」という)
の第7章(第218〜287頁)に記載されている各種
の基の他、ペニシリン及びセファロスポリン系化合物の
分野で通常使用されているアシル基が挙げられる。例え
ばカルボン酸類から誘導されるアシル基の具体例として
は、ホルミル、アセチル、2,6−ジメトキシフェニル
カルボニル、5−メチル−3−フェニルイソキサゾール
−4−イルカルボニル、4−アミノメチルフェニルアセ
チル、ヒドロキシアセチル、フェノキシアセチル、1−
テトラゾリルアセチル、シアノメチルチオアセチル、カ
ルボキシエチルチオアセチル、2−チエニルアセチル、
α−ブロモ−2−チエニルアセチル、5−メトキシ−2
−チエニルアセチル、フェニルアセチル、α−アミノフ
ェニルアセチル、α−ヒドロキシフェニルアセチル、α
−カルボキシフェニルアセチル、α−スルホフェニルア
セチル、3−ブロモフェニルアセチル、α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミ
ド)−α−フェニルアセチル、α−(4−エチル−2,
3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)−α−
(p−ヒドロキシフェニル)アセチル、α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミ
ド)−α−(3,4−ジヒドロキシフェニル)アセチ
ル、α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラ
ジンカルボキサミド)−α−(3,4−ジアセトキシフ
ェニル)アセチル、α−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジンカルボキサミド)−α−(3,4−
ジアセトキシ−6−クロロフェニル)アセチル、α−
(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカル
ボキサミド)−α−(3,4−ジアセトキシ−6−フル
オロフェニル)アセチル、α−(4−エチル−2,3−
ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)−α−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセチル、α−(4−
エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサ
ミド)−α−(6−クロロ−3,4−ジヒドロキシフェ
ニル)アセチル、α−(4−エチル−2,3−ジオキソ
−1−ピペラジンカルボキサミド)−α−(6−フルオ
ロ−3,4−ジヒドロキシフェニル)アセチル、α−
(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカル
ボキサミド)ベンゾチエニルアセチル、α−(4−シク
ロプロピル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボ
キサミド)−α−フェニルアセチル、α−(2−オキソ
−1−イミダゾリジンカルボキサミド)−α−フェニル
アセチル、α−[3−(メチルスルホニル)−2−オキ
ソ−1−イミダゾリジンカルボキサミド]−α−フェニ
ルアセチル、α−(4−ヒドロキシ−1,5−ナフチリ
ジン−3−カルボキサミド)−α−フェニルアセチル、
α−(4−フェニル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ンカルボキサミド)−α−フェニルアセチル、α−[4
−(2,4−ジクロロフェニル)−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジンカルボキサミド]−α−フェニルアセチ
ル、α−(4−オキソ−4H−チオピラン−3−イルカ
ルボキサミド)−α−フェニルアセチル、2−チエニル
−2−メトキシイミノアセチル、2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)アセチル、2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−メトキシイミノアセチル、α−
ジフルオロメチルチオアセチル、α−(シス−2−シア
ノビニル)チオアセチル、α−[3−(4−フェニルフ
ェニルカルボニル)−3−メチル−1−ウレイド]−α
−フェニルアセチル、α−{[4−(4−クロロフェニ
ルイミダゾール)−2−イル]カルボキサミド}−α−
フェニルアセチル、イソブチリル、2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−メトキ
シイミノアセチル、α−{1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−6−[2−(2−ピリジル)エテニル]−3−ピリ
ジルカルボキサミド}−α−(4−ヒドロキシフェニ
ル)アセチル、α−(5−ヒドロキシ−4−ピリドン−
2−カルボニルアミノ)−α−(2−アミノチアゾール
−4−イル)アセチル、2−(6,7−シヒドロオキシ
クロモン−3−カルボキサミド)−2−(4−ヒドロキ
シフェニル)アセチル、2−(4−ヒドロキシ−6−メ
チルピリジン−3−イル)カルボキサミド−2−(4−
ヒドロキシフェニル)アセチル、2−{3−[2−(4
−スルファモイルフェニル)アミノ−4−ヒドロキシ−
5−ピリミジニル]}ウレイド−2−(4−ヒドロキシ
フェニル)アセチル基等が挙げられる。
The protected amino group represented by R 1 includes Protective Group in Organic
Synthesis (Protective Groups in Organic Synthesi)
s, by Theodora W. Greene;
In addition to the various groups described in Chapter 7 (pages 218 to 287), acyl groups usually used in the field of penicillin and cephalosporin compounds can be mentioned. For example, specific examples of acyl groups derived from carboxylic acids include formyl, acetyl, 2,6-dimethoxyphenylcarbonyl, 5-methyl-3-phenylisoxazol-4-ylcarbonyl, 4-aminomethylphenylacetyl, Hydroxyacetyl, phenoxyacetyl, 1-
Tetrazolylacetyl, cyanomethylthioacetyl, carboxyethylthioacetyl, 2-thienylacetyl,
α-bromo-2-thienylacetyl, 5-methoxy-2
-Thienylacetyl, phenylacetyl, α-aminophenylacetyl, α-hydroxyphenylacetyl, α
-Carboxyphenylacetyl, α-sulfophenylacetyl, 3-bromophenylacetyl, α- (4-ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α-phenylacetyl, α- (4-ethyl-2,
3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α-
(P-hydroxyphenyl) acetyl, α- (4-ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α- (3,4-dihydroxyphenyl) acetyl, α- (4-ethyl-2,3- Dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α- (3,4-diacetoxyphenyl) acetyl, α- (4-ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α- (3,4-
Diacetoxy-6-chlorophenyl) acetyl, α-
(4-ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α- (3,4-diacetoxy-6-fluorophenyl) acetyl, α- (4-ethyl-2,3-
Dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α- (2
-Aminothiazol-4-yl) acetyl, α- (4-
Ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α- (6-chloro-3,4-dihydroxyphenyl) acetyl, α- (4-ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α -(6-fluoro-3,4-dihydroxyphenyl) acetyl, α-
(4-ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) benzothienylacetyl, α- (4-cyclopropyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α-phenylacetyl, α- (2- Oxo-1-imidazolidinecarboxamide) -α-phenylacetyl, α- [3- (methylsulfonyl) -2-oxo-1-imidazolidinecarboxamide] -α-phenylacetyl, α- (4-hydroxy-1,5 -Naphthyridine-3-carboxamide) -α-phenylacetyl,
α- (4-phenyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) -α-phenylacetyl, α- [4
-(2,4-dichlorophenyl) -2,3-dioxo-
1-piperazinecarboxamide] -α-phenylacetyl, α- (4-oxo-4H-thiopyran-3-ylcarboxamide) -α-phenylacetyl, 2-thienyl-2-methoxyiminoacetyl, 2- (2-aminothiazole -4-yl) acetyl, 2- (2-aminothiazol-4-yl) -2-methoxyiminoacetyl, α-
Difluoromethylthioacetyl, α- (cis-2-cyanovinyl) thioacetyl, α- [3- (4-phenylphenylcarbonyl) -3-methyl-1-ureido] -α
-Phenylacetyl, α-{[4- (4-chlorophenylimidazol) -2-yl] carboxamide} -α-
Phenylacetyl, isobutyryl, 2- (5-amino-
1,2,4-thiadiazol-3-yl) -2-methoxyiminoacetyl, α- {1,2-dihydro-2-oxo-6- [2- (2-pyridyl) ethenyl] -3-pyridylcarboxamide} -Α- (4-hydroxyphenyl) acetyl, α- (5-hydroxy-4-pyridone-
2-carbonylamino) -α- (2-aminothiazol-4-yl) acetyl, 2- (6,7-sihydrooxychromone-3-carboxamide) -2- (4-hydroxyphenyl) acetyl, 2- ( 4-hydroxy-6-methylpyridin-3-yl) carboxamide-2- (4-
Hydroxyphenyl) acetyl, 2- {3- [2- (4
-Sulfamoylphenyl) amino-4-hydroxy-
5-pyrimidinyl]} ureido-2- (4-hydroxyphenyl) acetyl group and the like.

【0010】R2 で示される低級アルコキシ基として
は、例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソ
プロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、sec −ブト
キシ、tert−ブトキシ基等のC1-4 の直鎖又は分枝鎖状
アルコキシ基が挙げられる。
The lower alkoxy group represented by R 2 includes, for example, a C 1-4 straight-chain or a methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy group or the like. And branched alkoxy groups.

【0011】R2 で示される低級アシル基としては、例
えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル基等のC1-4 の直鎖又は分枝鎖状アシル基が
挙げられる。
The lower acyl group represented by R 2 includes, for example, a C 1-4 linear or branched acyl group such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl and the like.

【0012】R2 で示される水酸基又は保護された水酸
基を置換基として有する低級アルキル基の保護された水
酸基、及びR2 で示される保護された水酸基の保護基と
しては、上記文献の第2章(第10〜72頁)に記載さ
れている各種基を例示できる。R2 で示される上記置換
低級アルキル基は、水酸基又は上記で示される保護され
た水酸基の中から選ばれる同一又は異なる種類の置換基
で、同一又は異なる炭素上に1つ以上置換されていても
よい。
The protected hydroxyl group of a lower alkyl group having a hydroxyl group or a protected hydroxyl group represented by R 2 as a substituent and the protected hydroxyl group of a protected hydroxyl group represented by R 2 are described in Chapter 2 of the above-mentioned document. (Pages 10 to 72). The above-mentioned substituted lower alkyl group represented by R 2 may be the same or different type of a substituent selected from a hydroxyl group or the protected hydroxyl group shown above, and may be substituted on the same or different carbon by one or more. Good.

【0013】R3 で示されるカルボン酸の保護基として
は、上記文献の第5章(第152〜192頁)に記載さ
れている各種の基の他、ベンジル基、p−メトキシベン
ジル基、p−ニトロベンジル基、ジフェニルメチル基、
トリクロロエチル基、tert−ブチル基等を例示できる。
As the protecting group for the carboxylic acid represented by R 3 , besides various groups described in Chapter 5 (pages 152 to 192) of the above document, benzyl group, p-methoxybenzyl group, p-methoxybenzyl group -Nitrobenzyl group, diphenylmethyl group,
Examples thereof include a trichloroethyl group and a tert-butyl group.

【0014】Yで示される窒素に遊離原子価を持つ含窒
素複素環基としては、例えばピペリジノ、モルホリノ、
1−ピペラジニル、1−ピロリジニル、1−イミダゾリ
ジニル、1−ピラゾリジニル、2−ピロリン−1−イ
ル、2−イミダゾリン−1−イル、3−ピラゾリン−1
−イル、1−インドリニル、2−イソインドリニル、1
−ピロリル、2−イソインドリル、1−イミダゾリル、
1−ピラゾリル、1−ベンズイミダゾリル、1H−1−
インダゾリル、1−トリアゾリル、1−テトラゾリル、
フタロイル基等が挙げられる。
Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group having a free valence at nitrogen represented by Y include piperidino, morpholino,
1-piperazinyl, 1-pyrrolidinyl, 1-imidazolidinyl, 1-pyrazolidinyl, 2-pyrolin-1-yl, 2-imidazolin-1-yl, 3-pyrazolin-1
-Yl, 1-indolinyl, 2-isoindolinyl, 1
-Pyrrolyl, 2-isoindolyl, 1-imidazolyl,
1-pyrazolyl, 1-benzimidazolyl, 1H-1-
Indazolyl, 1-triazolyl, 1-tetrazolyl,
And a phthaloyl group.

【0015】R4 で示される上記置換複素環基の複素環
としては、例えばチエニル、フリル、ピロリル、オキサ
ゾリル、ベンズオキサゾリル、イソオキサゾリル、チア
ゾリル、ベンズチアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾ
リル、ベンズイミダゾリル、1,2,3−チアジアゾリ
ル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,4−チアジ
アゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,3
−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル、テトラゾ
リル、ピリジル、キノリル、イソキノリル、ピラミジニ
ル、ピラジニル、ピリダジニル、1,2,3,4−テト
ラヒドロキノリル、1,2,4−トリアジニル、イミダ
ゾ[1,2−b][1,2,4]トリアジニル、ピロリ
ジニル、モルホリニル、キヌクリジニル、2,3,4−
トリテトラヒドロキノリル基等の酸素、窒素及び硫黄原
子から選ばれた少なくとも1種の原子を含有する4員、
5員、6員又は縮合複素環基が挙げられる。またこの窒
素原子を含有する複素環基は、四級化されていてもよ
い。
The heterocyclic ring of the above-mentioned substituted heterocyclic group represented by R 4 includes, for example, thienyl, furyl, pyrrolyl, oxazolyl, benzoxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, benzothiazolyl, isothiazolyl, imidazolyl, benzimidazolyl, 1,2,2 3-thiadiazolyl, 1,3,4-thiadiazolyl, 1,2,4-thiadiazolyl, 1,3,4-oxadiazolyl, 1,2,3
-Triazolyl, 1,2,4-triazolyl, tetrazolyl, pyridyl, quinolyl, isoquinolyl, pyramidinyl, pyrazinyl, pyridazinyl, 1,2,3,4-tetrahydroquinolyl, 1,2,4-triazinyl, imidazo [1,2 -B] [1,2,4] triazinyl, pyrrolidinyl, morpholinyl, quinuclidinyl, 2,3,4-
A 4-member containing at least one atom selected from oxygen, nitrogen and sulfur atoms such as a tritetrahydroquinolyl group;
5-membered, 6-membered or fused heterocyclic groups are mentioned. Further, the heterocyclic group containing a nitrogen atom may be quaternized.

【0016】Yで示される上記置換含窒素複素環基及び
4 で示される上記置換低級アルキル基、置換アリール
基又は置換複素環基に置換してもよい置換基の種類とし
ては、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、ア
リール基、低級アルキル基、アミノ基、モノ低級アルキ
ルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、メルカプト基、
基R5 S−(R5 は低級アルキル基又はアリール基)で
表わされるアルキルチオ基又はアリールチオ基、ホルミ
ルオキシ基、基R5 COO−(R5 は前記に同じ)で表
わされるアシルオキシ基、ホルミル基、基R5 CO−
(R5 は前記に同じ)で表わされるアシル基、基R5
−(R5 は前記に同じ)で表わされるアルコキシ基もし
くはアリールオキシ基、カルボキシ基、基R5 OCO−
(R5 は前記に同じ)で表わされるアルコキシカルボニ
ル基もしくはアリールオキシカルボニル基等が挙げられ
る。更に上記Yで示される含窒素複素環基及びR4 で示
される低級アルキル基、アリール基又は複素環基は、上
記置換基から選ばれる同一又は異なる種類の置換基で、
同一又は異なる原子上に1つ以上置換されていてもよ
い。
The substituents which may be substituted on the above-mentioned substituted nitrogen-containing heterocyclic group represented by Y and the above-mentioned substituted lower alkyl group, substituted aryl group or substituted heterocyclic group represented by R 4 include halogen atoms, Hydroxyl group, nitro group, cyano group, aryl group, lower alkyl group, amino group, mono-lower alkylamino group, di-lower alkylamino group, mercapto group,
Group R 5 S- (R 5 is a lower alkyl group or an aryl group) alkylthio group or an arylthio group represented by, formyloxy group, a group R 5 COO- acyloxy group (R 5 is as defined above) represented by a formyl group , based on R 5 CO-
Acyl group (R 5 is as defined above) represented by the group R 5 O
An alkoxy group or an aryloxy group, a carboxy group, a group R 5 OCO— represented by — (R 5 is the same as described above)
(R 5 is the same as described above), for example, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group. Further, the nitrogen-containing heterocyclic group represented by Y and the lower alkyl group, aryl group or heterocyclic group represented by R4 are the same or different types of substituents selected from the above substituents,
One or more may be substituted on the same or different atoms.

【0017】nが1又は2である一般式(1)の本発明
化合物は、一般式
The compound of the present invention of the general formula (1) wherein n is 1 or 2 has the general formula

【0018】[0018]

【化4】 Embedded image

【0019】[式中R1 、R2 及びR3 は前記に同じ。
mは1又は2を示す。]で表わされる2−エキソメチレ
ンペナムオキシド誘導体に、一般式 Y−H (3) [式中Yは前記に同じ。]で表わされる求核剤を反応さ
せることにより容易に製造される。
Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above.
m represents 1 or 2. ] To the 2-exomethylene penamoxide derivative represented by the general formula YH (3) wherein Y is the same as defined above. And a nucleophile represented by the following formula:

【0020】この反応は、適当な溶媒中で行なわれる。
斯かる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、tert−
ブタノール等のアルコール類、蟻酸メチル、蟻酸エチ
ル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキル
エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプ
ロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテ
ル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、
ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチ
ルエーテル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等の
エーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状
エーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチ
ロニトリル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等の
ニトリル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン、アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭
化水素類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエ
タン、トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレン
ジクロライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭
化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
の脂肪族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカ
ン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等
のアミド類、ジメチルスルホキシド等を挙げることがで
きる。これらは1種単独で又は2種以上混合して使用さ
れる。またこれらの有機溶媒には、必要に応じて水が含
有されていてもよい。斯かる溶媒は、一般式(2)の化
合物1kg当り、通常10〜200l程度、好ましくは2
0〜100l程度使用されるのがよい。
This reaction is performed in a suitable solvent.
Such solvents include, for example, methanol, ethanol,
Propanol, isopropanol, butanol, tert-
Alcohols such as butanol, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate,
Lower alkyl esters of lower carboxylic acids such as ethyl propionate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as diethyl ketone, diethyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether,
Ethers such as dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, methyl cellosolve, dimethoxyethane, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, nitriles such as acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, valeronitrile, and benzene , Toluene, xylene, chlorobenzene, substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbons such as anisole, dichloromethane, chloroform, dichloroethane, trichloroethane, dibromoethane, propylene dichloride, carbon tetrachloride, halogenated hydrocarbons such as freons, Aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane and octane; cycloalkanes such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and cyclooctane; dimethylform Amides such as dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide. These may be used alone or as a mixture of two or more. Further, these organic solvents may contain water as necessary. Such a solvent is used in an amount of usually about 10 to 200 l, preferably 2 to 1 kg of the compound of the formula (2).
It is preferable to use about 0 to 100 l.

【0021】該反応の反応系内には、塩基を存在させて
もよく、斯かる塩基としては、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化
カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水酸
化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属
炭酸塩、水素化リチウム、水素化カリウム、水素化ナト
リウム等のアルカリ金属水素化物、メチルリチウム、n
−ブチルリチウム、フェニルリチウム等のアルキル又は
アリールリチウム等が挙げられる。該塩基は、一般式
(2)の化合物に対して、通常0.001〜10倍モ
ル、好ましくは0.01〜1倍モルとするのがよい。
A base may be present in the reaction system of the reaction. Examples of the base include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide and the like. Alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates such as potassium carbonate and sodium carbonate, alkali metal hydrides such as lithium hydride, potassium hydride and sodium hydride, methyllithium, n
Alkyl or aryl lithium such as -butyllithium and phenyllithium; The base is used in an amount of usually 0.001 to 10 times, preferably 0.01 to 1 times the mole of the compound of the formula (2).

【0022】また、一般式(3)で表わされる求核剤の
使用量としては、一般式(2)の化合物に対して、通常
1〜50倍モル、好ましくは1〜10倍モルとするのが
よい。尚、上記反応に先立って、一般式(3)の求核剤
と塩基とを反応させて、一般式 Y−M (4) [式中Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を示
す。]で表わされる化合物を予め調製しておいてもよ
い。
The amount of the nucleophile represented by the formula (3) is usually 1 to 50 times, preferably 1 to 10 times the mol of the compound of the formula (2). Is good. Prior to the reaction, a nucleophile of the general formula (3) is reacted with a base to give a general formula YM (4) wherein M represents an alkali metal or an alkaline earth metal. May be prepared in advance.

【0023】上記反応は、通常−78〜100℃、好ま
しくは−78〜50℃程度で行なわれる。
The above reaction is carried out usually at about -78 to 100 ° C, preferably at about -78 to 50 ° C.

【0024】上記反応で得られるnが1又は2である一
般式(1)の本発明化合物は、通常の単離精製手段、例
えば濾過、再結晶、カラムクロマトグラフィー、プレパ
ラティブ薄層クロマトグラフィー等により反応混合物か
ら単離、精製され得る。
The compound of the present invention of the general formula (1) wherein n is 1 or 2 obtained by the above reaction can be obtained by a conventional isolation and purification means, for example, filtration, recrystallization, column chromatography, preparative thin-layer chromatography and the like. Can be isolated and purified from the reaction mixture.

【0025】nが1又は2である一般式(1)の本発明
化合物を、当該技術分野で知られた通常の還元処理に付
すことにより、具体的にはJ.Chem.Soc.,Perkin.Trans.
1,932(1973)、Tetrahedron Lett.,13,971(1976)、特公
昭56−24675号公報等に記載の方法又はこれらに
準ずる方法を採用することにより、対応するnが0であ
る一般式(1)の本発明化合物に誘導し得る。
The compound of the general formula (1) in which n is 1 or 2 is subjected to a usual reduction treatment known in the art, and specifically, according to J. Chem. Soc., Perkin. Trans.
1,932 (1973), Tetrahedron Lett., 13,971 (1976), Japanese Patent Publication No. 56-24675, or a method analogous thereto, the corresponding general formula (1) wherein n is 0 The compound of the present invention can be derived.

【0026】上記反応で得られるnが0である一般式
(1)の本発明化合物は、通常の単離精製手段、例えば
濾過、再結晶、カラムクロマトグラフィー、プレパラテ
ィブ薄層クロマトグラフィー等により反応混合物から単
離、精製され得る。
The compound of the present invention represented by the general formula (1) wherein n is 0 obtained by the above reaction can be reacted by a conventional isolation and purification means such as filtration, recrystallization, column chromatography, preparative thin layer chromatography and the like. It can be isolated and purified from a mixture.

【0027】本発明において、出発原料として用いられ
る上記一般式(2)で表わされる2−エキソメチレンペ
ナムオキシド誘導体は、例えば下記に示す方法で製造さ
れる。即ち、一般式
In the present invention, the 2-exomethylene penamoxide derivative represented by the general formula (2) used as a starting material is produced, for example, by the following method. That is, the general formula

【0028】[0028]

【化5】 Embedded image

【0029】[式中R1 、R2 及びR3 は前記に同
じ。]で表わされる2−エキソメチレンペナム誘導体を
酸化剤を用いて酸化することにより容易に製造される。
Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above. ] Can be easily produced by oxidizing the 2-exomethylene penum derivative represented by the formula [1] using an oxidizing agent.

【0030】この反応は、適当な溶媒中で行なわれる。
斯かる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、tert−
ブタノール等のアルコール類、蟻酸メチル、蟻酸エチ
ル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキル
エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプ
ロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテ
ル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、
ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチ
ルエーテル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等の
エーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状
エーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチ
ロニトリル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等の
ニトリル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン、アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭
化水素類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエ
タン、トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレン
ジクロライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭
化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
の脂肪族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカ
ン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等
のアミド類、ジメチルスルホキシド等を挙げることがで
きる。これらは1種単独で又は2種以上混合して使用さ
れる。またこれらの有機溶媒には、必要に応じて水が含
有されていてもよい。斯かる溶媒は、一般式(5)の化
合物1kg当り、通常10〜200l程度、好ましくは2
0〜100l程度使用されるのがよい。
This reaction is performed in a suitable solvent.
Such solvents include, for example, methanol, ethanol,
Propanol, isopropanol, butanol, tert-
Alcohols such as butanol, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate,
Lower alkyl esters of lower carboxylic acids such as ethyl propionate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as diethyl ketone, diethyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether,
Ethers such as dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, methyl cellosolve, dimethoxyethane, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, nitriles such as acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, valeronitrile, and benzene , Toluene, xylene, chlorobenzene, substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbons such as anisole, dichloromethane, chloroform, dichloroethane, trichloroethane, dibromoethane, propylene dichloride, carbon tetrachloride, halogenated hydrocarbons such as freons, Aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane and octane; cycloalkanes such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and cyclooctane; dimethylform Amides such as dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide. These may be used alone or as a mixture of two or more. Further, these organic solvents may contain water as necessary. Such a solvent is used in an amount of usually about 10 to 200 l, preferably 2 to 1 kg of the compound of the formula (5).
It is preferable to use about 0 to 100 l.

【0031】本反応に用いる酸化剤としては、広くスル
フィドの酸化に使用する酸化剤を用いることができる。
具体的には、二酸化マンガン、クロム酸、四酢酸鉛、四
酸化ルテニウム、過マンガン酸カリウム等の無機酸化
物、過ヨウ素酸、過ヨウ素酸ナトリウム等の過ヨウ素酸
類、N−ブロモこはく酸イミド、N−クロロこはく酸イ
ミド等のN−ハロカルボン酸アミド類、次亜塩素酸t−
ブチル、過酸化水素、過蟻酸、過酢酸、メタクロロ過安
息香酸等の有機過酸類、又は過酸化水素と蟻酸、酢酸等
の低級カルボン酸との組合せ等が例示できる。これら酸
化剤の使用量は、基質や目的物のn=1の場合とn=2
の場合等によって異なるが、一般式(5)の化合物に対
して通常1〜20倍モル、好ましくは1〜5倍モル程度
使用される。
As the oxidizing agent used in this reaction, the oxidizing agent widely used for oxidizing sulfides can be used.
Specifically, manganese dioxide, chromate, lead tetraacetate, ruthenium tetroxide, inorganic oxides such as potassium permanganate, periodate, periodic acids such as sodium periodate, N-bromosuccinimide, N-halocarboxylic acid amides such as N-chlorosuccinimide;
Examples thereof include organic peracids such as butyl, hydrogen peroxide, formic acid, peracetic acid, and metachloroperbenzoic acid, and combinations of hydrogen peroxide with lower carboxylic acids such as formic acid and acetic acid. The amount of the oxidizing agent used is n = 2 when the substrate or target substance is n = 1.
The amount is usually 1 to 20 times, preferably 1 to 5 times the mol of the compound of the general formula (5).

【0032】上記反応の反応温度は、通常−50〜80
℃程度、好ましくは−10〜50℃程度である。
The reaction temperature of the above reaction is usually -50 to 80
° C, preferably about -10 to 50 ° C.

【0033】上記反応で得られる一般式(2)の化合物
は、通常の単離精製手段、例えば濾過、再結晶、カラム
クロマトグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラ
フィー等により反応混合物から単離、精製され得る。
The compound of the general formula (2) obtained by the above reaction is isolated and purified from the reaction mixture by a usual isolation and purification means, for example, filtration, recrystallization, column chromatography, preparative thin layer chromatography and the like. obtain.

【0034】上記において出発原料として用いられる上
記一般式(5)の化合物は、例えば
The compound of the above general formula (5) used as a starting material in the above is, for example,

【0035】[0035]

【化6】 Embedded image

【0036】[式中R1 、R2 及びR3 は前記に同じ。
Xは基−SO2 4 又は基−SR4 を示す。ここでR4
は前記に同じ。]で表わされるアレニルβ−ラクタム化
合物を金属還元剤と反応させることにより容易に合成さ
れ得る。
Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above.
X is a group -SO 2 R 4 or a group -SR 4. Where R 4
Is the same as above. Can be easily synthesized by reacting the allenyl β-lactam compound represented by the formula [1] with a metal reducing agent.

【0037】一般式(6)の化合物から一般式(5)の
化合物を得る反応は、有機溶媒中で行なわれる。有機溶
媒としては、一般式(6)の化合物を溶解し且つ該反応
の条件下で不活性なものである限り従来公知のものを広
く使用でき、例えばメタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノー
ル等のアルコール類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プ
ロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン
酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケ
トン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、エチ
ルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリ
ル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素
類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、
トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレンジクロ
ライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素
類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、シク
ロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。こ
れらは1種単独で又は2種以上混合して使用される。ま
たこれらの有機溶媒には、必要に応じて水が含有されて
いてもよい。斯かる溶媒は、一般式(6)の化合物1kg
当り、通常0.5〜200l程度、好ましくは10l程
度使用されるのがよい。
The reaction for obtaining the compound of the general formula (5) from the compound of the general formula (6) is carried out in an organic solvent. As the organic solvent, conventionally known organic solvents can be widely used as long as they dissolve the compound of the general formula (6) and are inert under the conditions of the reaction. For example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, tert. Alcohols such as butanol, lower alkyl esters of lower carboxylic acids such as methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate and ethyl propionate, acetone , Methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone,
Ketones such as diethyl ketone, diethyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, ethers such as methyl cellosolve, dimethoxyethane, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, acetonitrile, propio Nitriles such as nitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, valeronitrile, benzene, toluene, xylene, chlorobenzene,
Substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbons such as anisole, dichloromethane, chloroform, dichloroethane,
Halogenated hydrocarbons such as trichloroethane, dibromoethane, propylene dichloride, carbon tetrachloride, and fluorocarbons; aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, and octane; cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane such as cyclooctane Examples thereof include alkanes, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and dimethylsulfoxide. These may be used alone or as a mixture of two or more. Further, these organic solvents may contain water as necessary. Such a solvent is 1 kg of the compound of the general formula (6).
It is usually good to use about 0.5 to 200 l, preferably about 10 l.

【0038】上記反応で用いられる金属還元剤として
は、例えば金属鉛、金属チタン、金属ジルコニウム、金
属ガリウム、金属ビスマス、金属アンチモン等を挙げる
ことができる。反応させるこれら金属の形状は、特に制
限はなく、粉状、板状、塊状、針金状等の広範囲の形態
を使用し得る。上記反応をより低い温度、より短時間で
完結させるためには、粉状金属を使用するのが有利であ
る。金属還元剤として粉状金属を用いる場合、その粒子
径は広い範囲内から適宜選択し得るが、10〜500メ
ッシュ程度のものを使用するのが望ましい。これら金属
還元剤の使用量は、一般式(6)の化合物に対して通常
1〜10倍モル原子程度、好ましくは1〜4倍モル原子
程度とするのがよい。
Examples of the metal reducing agent used in the above reaction include metal lead, metal titanium, metal zirconium, metal gallium, metal bismuth, metal antimony and the like. The shape of these metals to be reacted is not particularly limited, and a wide range of forms such as powder, plate, lump, and wire can be used. In order to complete the above reaction at a lower temperature and in a shorter time, it is advantageous to use a powdered metal. When a powdery metal is used as the metal reducing agent, its particle size can be appropriately selected from a wide range, but it is preferable to use one having a mesh size of about 10 to 500 mesh. The amount of the metal reducing agent to be used is generally about 1 to 10 times, preferably about 1 to 4 times the molar atom of the compound of the formula (6).

【0039】上記反応においては、反応系内に上記金属
還元剤よりもイオン化傾向の大きい金属を共存させるの
が好ましい。斯かる金属を共存させることにより、上記
金属還元剤の使用量を極端に低減させることができ、反
応後の後処理が容易になると共に、反応をより低い温度
で、より短時間で遂行させることができる。上記金属還
元剤とそれよりもイオン化傾向の大きい金属の組合わせ
の具体例としては、Pb/Al、Bi/Al、Ti/Z
n、Ga/Zn、Zr/Zn、Sb/Zn、Te/Z
n、Pb/Zn、Bi/Zn、Bi/Mg、Bi/S
n、Sb/Sn等を例示できる。金属還元剤と共存させ
るこれら金属の形状も、特に制限はなく、粉状、板状、
箔状、塊状、針金状等の広範囲の形態を使用し得るが、
上記反応をより低い温度、より短時間で完結させるため
には、粉状金属を使用するのが有利である。粉状金属の
粒子径は広い範囲内から適宜選択し得るが、10〜30
0メッシュ程度のものを使用するのが望ましい。これら
金属の使用量は、一般式(6)の化合物に対して通常1
〜50倍モル原子程度、好ましくは1〜10倍モル原子
程度とするのがよい。
In the above reaction, it is preferable that a metal having a higher ionization tendency than the above-mentioned metal reducing agent coexist in the reaction system. By coexisting such a metal, the amount of the metal reducing agent used can be extremely reduced, the post-treatment after the reaction is facilitated, and the reaction is performed at a lower temperature and in a shorter time. Can be. Specific examples of the combination of the metal reducing agent and a metal having a higher ionization tendency include Pb / Al, Bi / Al, and Ti / Z.
n, Ga / Zn, Zr / Zn, Sb / Zn, Te / Z
n, Pb / Zn, Bi / Zn, Bi / Mg, Bi / S
n, Sb / Sn, and the like. The shape of these metals coexisting with the metal reducing agent is also not particularly limited, and may be powdery, plate-like,
A wide range of forms such as foil, lump, and wire can be used,
In order to complete the above reaction at a lower temperature and in a shorter time, it is advantageous to use a powdered metal. The particle size of the powdery metal can be appropriately selected from a wide range.
It is desirable to use one having about 0 mesh. The amount of these metals used is usually 1 to the compound of the general formula (6).
It is good to be about 50 times mole atom, preferably about 1 time to 10 times mole atom.

【0040】上記反応において、上記金属還元剤よりも
イオン化傾向の大きい金属を併用する場合には、上記金
属還元剤の代りにそれら金属の化合物を使用するのがよ
り好ましい。斯かる金属化合物の具体例としては、弗化
鉛、塩化鉛、臭化鉛、沃化鉛等のハロゲン化鉛、硝酸
鉛、硫酸鉛、過塩素酸鉛、硼酸鉛、炭酸鉛、燐酸鉛等の
無機酸鉛、酢酸鉛、蓚酸鉛、ステアリン酸鉛等の脂肪酸
鉛、酸化鉛、水酸化鉛、弗化チタン、塩化チタン、臭化
チタン、沃化チタン等のハロゲン化チタン、硫酸チタ
ン、硝酸チタン等の無機酸チタン、弗化ガリウム、塩化
ガリウム、臭化ガリウム、沃化ガリウム等のハロゲン化
ガリウム、硫酸ガリウム、硝酸ガリウム、過塩素酸ガリ
ウム等の無機酸ガリウム、弗化ジルコニウム、塩化ジル
コニウム、臭化ジルコニウム、沃化ジルコニウム等のハ
ロゲン化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、塩化テルル
ウム、臭化テルルウム、沃化テルルウム等のハロゲン化
テルルウム、弗化ビスマス、塩化ビスマス、臭化ビスマ
ス、沃化ビスマス等のハロゲン化ビスマス、硝酸ビスマ
ス、硫酸ビスマス等の無機酸ビスマス、酸化ビスマス、
弗化アンチモン、塩化アンチモン、臭化アンチモン、沃
化アンチモン等のハロゲン化アンチモン、硫酸アンチモ
ン等の無機酸アンチモン、酸化アンチモン等を例示でき
る。これらの金属化合物の使用量としては、理論的には
1分子が反応系内に存在すればよいわけであるが、通常
一般式(6)の化合物に対して約0.0001〜2倍モ
ルとするのがよい。
In the above reaction, when a metal having a higher ionization tendency than the above-mentioned metal reducing agent is used in combination, it is more preferable to use a compound of such a metal instead of the above-mentioned metal reducing agent. Specific examples of such metal compounds include lead halides such as lead fluoride, lead chloride, lead bromide, and lead iodide, lead nitrate, lead sulfate, lead perchlorate, lead borate, lead carbonate, lead phosphate, and the like. Inorganic lead, fatty acid lead such as lead acetate, lead oxalate, lead stearate, etc., titanium oxide such as lead oxide, lead hydroxide, titanium fluoride, titanium chloride, titanium bromide, titanium iodide, titanium sulfate, nitric acid Inorganic acid titanium such as titanium, gallium fluoride, gallium chloride, gallium bromide, gallium halide such as gallium iodide, gallium sulfate, gallium nitrate, inorganic gallium such as gallium perchlorate, zirconium fluoride, zirconium chloride, Zirconium halides such as zirconium bromide and zirconium iodide, zirconium sulfate, tellurium chloride, tellurium bromide, tellurium halide such as tellurium iodide, bismuth fluoride, and vinyl chloride Mass, bismuth bromide, halides of bismuth, such as iodide bismuth, bismuth nitrate, bismuth inorganic acids such as sulfuric acid bismuth, bismuth oxide,
Examples include antimony halides such as antimony fluoride, antimony chloride, antimony bromide, and antimony iodide, inorganic antimony such as antimony sulfate, and antimony oxide. The amount of use of these metal compounds may theoretically be such that one molecule is present in the reaction system, but is usually about 0.0001 to 2 times the molar amount of the compound of the general formula (6). Good to do.

【0041】上記反応の反応温度は、原料物質、使用す
る有機溶媒等により異なり一概には言えないが、通常−
20〜100℃程度、好ましくは0〜50℃程度であ
る。
The reaction temperature of the above reaction varies depending on the starting materials, the organic solvent used, and the like, and cannot be determined unconditionally.
The temperature is about 20 to 100 ° C, preferably about 0 to 50 ° C.

【0042】尚、該反応においては、超音波の照射下に
反応を行なうと、反応がより速やかに進行する場合があ
る。
Incidentally, in the reaction, when the reaction is carried out under irradiation of ultrasonic waves, the reaction may proceed more quickly.

【0043】上記反応終了後、例えば通常の抽出操作を
行なうことにより、目的とする一般式(5)の2−エキ
ソメチレンペナム誘導体をほぼ純品の形態で単離し得
る。更に精製の必要があれば、再結晶、カラムクロマト
グラフィー等の慣用の精製手段を採用すればよい。
After completion of the above reaction, the desired 2-exomethylenepenam derivative of the general formula (5) can be isolated in a substantially pure form by, for example, performing a usual extraction operation. If further purification is necessary, conventional purification means such as recrystallization and column chromatography may be employed.

【0044】上記一般式(6)で表わされる化合物は、
例えば一般式
The compound represented by the general formula (6) is
For example, the general formula

【0045】[0045]

【化7】 Embedded image

【0046】[式中R1 、R2 、R3 及びXは前記に同
じ。R6 は置換基を有していてもよい低級アルキル基又
は置換基を有していてもよいアリール基を示す。]で表
わされるアゼチジノン誘導体を塩基と反応させることに
より製造される。
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 and X are as defined above. R 6 represents a lower alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent. The azetidinone derivative represented by the above formula is reacted with a base.

【0047】この反応において、用いられる塩基として
は、脂肪族アミン及び芳香族アミンが好ましく、具体的
にはトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、エチル
ジイソプロピルアミン、トリブチルアミン、1,5−ジ
アザビシクロ[3.4.0]ノネン−5(DBN)、
1,5−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−5
(DBU)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.0]オ
クタン(DABCO)、ピペリジン、N−メチルピペリ
ジン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、モル
ホリン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニ
リン、N,N−ジメチルアミノピリジン等を例示でき
る。これら塩基の使用量としては、一般式(4)の化合
物に対して通常1〜12倍モル、好ましくは1〜6倍モ
ル量とするのがよい。また溶媒としては、一般式(7)
の化合物を溶解し且つ該反応の条件下で不活性なもので
ある限り従来公知のものを広く使用でき、例えば蟻酸メ
チル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピ
オン酸メチル、プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸
の低級アルキルエステル類、ジエチルエーテル、エチル
プロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリ
ル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素
類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、
トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレンジクロ
ライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素
類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、シク
ロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。こ
れらは1種単独で又は2種以上混合して使用される。ま
たこれらの溶媒には、必要に応じて水が含有されていて
もよい。斯かる溶媒は、一般式(7)の化合物1kg当
り、通常0.5〜200l程度、好ましくは1〜50l
程度使用されるのがよい。該反応は、−70〜100
℃、好ましくは−50〜50℃の範囲で行なわれる。斯
くして得られる一般式(6)の化合物は、反応終了後、
通常の抽出操作又は晶析操作を行なうことによりほぼ純
品として得ることができるが、その他の方法によっても
精製することは勿論である。
In this reaction, the base used is preferably an aliphatic amine or an aromatic amine, and specifically, triethylamine, diisopropylamine, ethyldiisopropylamine, tributylamine, 1,5-diazabicyclo [3.4.0] ] Nonene-5 (DBN),
1,5-diazabicyclo [5.4.0] undecene-5
(DBU), 1,4-diazabicyclo [2.2.0] octane (DABCO), piperidine, N-methylpiperidine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, morpholine, N-methylmorpholine, N, N -Dimethylaniline, N, N-dimethylaminopyridine and the like. The amount of the base to be used is generally 1 to 12 moles, preferably 1 to 6 moles, per 1 mole of the compound of the formula (4). In addition, as the solvent, the general formula (7)
Can be widely used as long as it dissolves the compound of formula (I) and is inactive under the conditions of the reaction. Examples thereof include methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, and the like. Lower alkyl esters of lower carboxylic acids such as butyl acetate, methyl propionate, and ethyl propionate; ethers such as diethyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, methyl cellosolve, and dimethoxyethane , Tetrahydrofuran, cyclic ethers such as dioxane, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, nitriles such as valeronitrile, benzene, toluene, xylene, chlorobenzene,
Substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbons such as anisole, dichloromethane, chloroform, dichloroethane,
Halogenated hydrocarbons such as trichloroethane, dibromoethane, propylene dichloride, carbon tetrachloride, and fluorocarbons; aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, and octane; cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane such as cyclooctane Examples thereof include alkanes, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and dimethylsulfoxide. These may be used alone or as a mixture of two or more. Further, these solvents may contain water as necessary. Such a solvent is generally used in an amount of about 0.5 to 200 l, preferably 1 to 50 l, per kg of the compound of the formula (7).
It should be used to a degree. The reaction is -70 to 100
C, preferably in the range of -50 to 50C. The compound of the general formula (6) thus obtained is, after completion of the reaction,
Although it can be obtained as a substantially pure product by performing a usual extraction operation or crystallization operation, it is needless to say that purification can be performed by other methods.

【0048】一般式(7)の化合物は、例えば特開昭6
1−165367号公報に記載の方法に従い製造され
る。
The compound of the general formula (7) is described in, for example,
It is manufactured according to the method described in 1-116567.

【0049】本発明のペナム誘導体の塩としては、通常
知られているアミノ基等の塩基性基又はヒドロキシル基
もしくはカルボキシル基等の酸性基における塩を挙げる
ことができる。塩基性基における塩としては、例えば塩
酸、硫酸等の鉱酸との塩;蟻酸、クエン酸、トリクロロ
酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸との塩;メタン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスル
ホン酸塩、メシチレンスルホン酸、ナフタレンスルホン
酸等のスルホン酸との塩等を、また、酸性基における塩
としては、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金
属との塩;カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類
金属との塩;アンモニウム塩;トリエチルアミン、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N,N−
ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、N−メチル
モルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、プロカイン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β
−フェネチルアミン、1−エフェナミン、N,N´−ジ
ベンジルエチレンジアミン等の含窒素有機塩基との塩等
を挙げることができる。
Examples of the salt of the penum derivative of the present invention include commonly known salts of a basic group such as an amino group or an acidic group such as a hydroxyl group or a carboxyl group. Examples of the salt in the basic group include a salt with a mineral acid such as hydrochloric acid and sulfuric acid; a salt with a carboxylic acid such as formic acid, citric acid, trichloroacetic acid and trifluoroacetic acid; Salts with sulfonic acids such as toluenesulfonate, mesitylenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid and the like, and salts in the acidic group such as salts with alkali metals such as sodium and potassium; alkaline earths such as calcium and magnesium Salts with similar metals; ammonium salts; triethylamine, triethylamine, tributylamine, pyridine, N, N-
Dimethylaniline, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, diethylamine, dicyclohexylamine, procaine, dibenzylamine, N-benzyl-β
And salts with nitrogen-containing organic bases such as -phenethylamine, 1-ephenamine, N, N'-dibenzylethylenediamine and the like.

【0050】また、一般式(1)の化合物及びその塩に
おいて、異性体(例えば光学異性体、幾何異性体、互変
異性体等)が存在する場合、本発明はそれらすべての異
性体を包含し、またすべての結晶型及び水和物をも包含
する。
When isomers (eg, optical isomers, geometric isomers, tautomers, etc.) are present in the compound of the formula (1) and salts thereof, the present invention includes all such isomers. And also encompasses all crystal forms and hydrates.

【0051】本発明で得られる一般式(1)のペナム誘
導体は、更に、例えばエステル化、加水分解、付加、ア
シル化、酸化、還元、環化、ハロゲン化、アルキル化、
アミノ化、チオール化、四級化、アリールオキシ化、ア
ルキルアミノ化、ウィッティヒ反応等の通常知られた方
法、及びこれらの方法を適宜組合わせることにより、他
のペナム誘導体に誘導し得る有用な合成中間体でもあ
る。
The penum derivative of the general formula (1) obtained in the present invention can further be prepared, for example, by esterification, hydrolysis, addition, acylation, oxidation, reduction, cyclization, halogenation, alkylation,
Commonly known methods such as amination, thiolation, quaternization, aryloxylation, alkylamination, Wittig reaction and the like, and useful synthesis which can be derived into other penum derivatives by appropriately combining these methods It is also an intermediate.

【0052】一般式(1)の化合物又はその塩は、既に
当該分野で広く知られた方法、例えばJ.Chem.Soc.,83,3
20(1903)、特公昭49−40479号公報、特公昭45
−40899号公報等に記載の方法又はそれに準ずる方
法に従い、R1 で示される保護されたアミノ基のアシル
基又はアミノ保護基を脱離することにより、R1 がアミ
ノ基である一般式(1)の化合物を製造することができ
る。
The compound of the general formula (1) or a salt thereof can be prepared by a method widely known in the art, for example, J. Chem. Soc., 83 , 3
20 (1903), JP-B-49-40479, JP-B-45
According to the method, or a method analogous thereto described in -40899 Patent Publication, by leaving an acyl group or an amino protecting group of the protected amino group represented by R 1, the general formula R 1 is an amino group (1 ) Can be produced.

【0053】更に、上記R1 がアミノ基である一般式
(1)の化合物又はそのアミノ基における反応性誘導体
は、例えば特開昭59−9308号公報、同62−13
5477号公報、同63−115888号公報等に記載
の方法又はそれに準ずる方法に従い、上記R1 のアシル
基として例示されたアシル基に相当するカルボン酸又は
そのカルボキシル基における反応性誘導体と反応させる
ことにより、アシル化され得る。
Further, the compound of the general formula (1) wherein R 1 is an amino group or a reactive derivative at the amino group is described in, for example, JP-A-59-9308 and JP-A-62-13.
Reaction with a carboxylic acid corresponding to the acyl group exemplified as the acyl group for R 1 or a reactive derivative of the carboxyl group thereof according to the method described in JP-A-5577, JP-A-63-115888, or a method analogous thereto. Can be acylated.

【0054】R1 がアミノ基である一般式(1)の化合
物のアミノ基における反応性誘導体としては、例えばビ
ス(トリメチルシリル)アセトアミド、トリメチルシリ
ルアセトアミド等との反応により形成されたシリル誘導
体;イソシアネート;イソチオシアネート;アセトアル
デヒド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類やアセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類との反応により形
成されるシッフ塩基又はそのエナミン型互変異性体等が
挙げられる。
The reactive derivative at the amino group of the compound of the general formula (1) wherein R 1 is an amino group includes, for example, silyl derivatives formed by reaction with bis (trimethylsilyl) acetamide, trimethylsilylacetamide, etc .; isocyanates; Thiocyanates; Schiff bases formed by reaction with aldehydes such as acetaldehyde and benzaldehyde, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and enamine-type tautomers thereof.

【0055】R1 のアシル基として例示されたアシル基
に相当するカルボン酸のカルボキシル基における反応性
誘導体としては、例えば酸塩化物、酸臭化物等の酸ハラ
イド;置換リン酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ
硫酸、硫酸、炭酸アルキル、有機カルボン酸等の酸との
酸無水物;イミダゾール、ジメチルピラゾール等との活
性酸アミド;p−ニトロフェノール、ベンゼンチオー
ル、2−ベンゾチアゾリルチオール等のチオール類との
活性チオエステル;N−ヒドロキシピペリジン、N−ヒ
ドロキシサクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド
等のN−ヒドロキシ化合物との活性エステル等が挙げら
れる。
Examples of the reactive derivative at the carboxyl group of the carboxylic acid corresponding to the acyl group exemplified as the acyl group for R 1 include acid halides such as acid chlorides and acid bromides; substituted phosphoric acids, dialkyl phosphorous acids, and the like. Acid anhydrides with acids such as sulfurous acid, thiosulfuric acid, sulfuric acid, alkyl carbonate, organic carboxylic acids, etc .; active acid amides with imidazole, dimethylpyrazole, etc .; p-nitrophenol, benzenethiol, 2-benzothiazolylthiol, etc. Active thioesters with thiols; active esters with N-hydroxy compounds such as N-hydroxypiperidine, N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide and the like.

【0056】本発明の一般式(1)の化合物において、
3 がカルボン酸保護基である場合には、上記文献の第
5章(第152〜192頁)に記載されている各種カル
ボン酸保護基の脱離方法、特開昭50−17991号公
報、同52−106891号公報、同61−26398
4号公報等に記載の方法等により、R3 が水素原子であ
る一般式(1)の化合物に誘導され得る。
In the compound of the general formula (1) of the present invention,
When R 3 is a carboxylic acid protecting group, the elimination method of various carboxylic acid protecting groups described in Chapter 5 (pages 152 to 192) of the above document, JP-A-50-17991, JP-A-52-106891, JP-A-61-26398
The compound of the general formula (1) in which R 3 is a hydrogen atom can be derived by the method described in JP-A No. 4 (1994) -104, etc.

【0057】本発明の一般式(1)の化合物は、高い抗
菌活性を有し、細菌感染症の予防乃至治療剤として有用
である。
The compound of the general formula (1) of the present invention has high antibacterial activity and is useful as an agent for preventing or treating bacterial infections.

【0058】本発明の一般式(1)の化合物及びその塩
を予防及び治療の目的で投与するに当っては、該化合物
を有効成分として含有し、これに経口、非経口及び外用
投与に適した有機又は無機、固体又は液体の賦形剤のよ
うな医薬上許容される担体を混合した慣用の製剤状態で
使用される。この製剤は、錠剤、顆粒剤、散剤、カプセ
ル剤等の固体状態、又は溶液、懸濁液、シロップ、乳
剤、レモネード等の液体状態でよい。更に、必要に応じ
て、上記の製剤に、補助物質、安定剤、潤滑剤、並びに
その他の慣用の添加剤、例えば乳糖、ステアリン酸マグ
ネシウム、白陶土、蔗糖、コーンスターチ、タルク、ス
テアリン酸、ゼラチン、寒天、ペクチン、ピーナツ油、
オリーブ油、カカオ脂、エチレングリコール等を混入し
てもよい。
In administering the compound of the general formula (1) of the present invention and a salt thereof for the purpose of prevention and treatment, the compound contains the compound as an active ingredient and is suitable for oral, parenteral and external administration. It is used in a conventional formulation mixed with a pharmaceutically acceptable carrier such as an organic or inorganic, solid or liquid excipient. The preparation may be in the solid state such as tablets, granules, powders, capsules or the like, or in the liquid state such as solutions, suspensions, syrups, emulsions, lemonades and the like. In addition, if desired, the above preparations may be supplemented with auxiliary substances, stabilizers, lubricants and other conventional additives such as lactose, magnesium stearate, china clay, sucrose, corn starch, talc, stearic acid, gelatin, Agar, pectin, peanut oil,
Olive oil, cocoa butter, ethylene glycol and the like may be mixed.

【0059】一般式(1)の化合物の投与量は、患者の
年齢、状態、病気の種類、投与する一般式(1)の化合
物の種類等に応じて選択される。一般に、1日に1mg
から約4000mg、更にはそれ以上の量を患者に投与
できる。病原菌感染症の治療には、一般式(1)の化合
物の1回当りの平均投与量として約50mg、100m
g、250mg、500mg、1000mg、2000
mgの量が使用できる。
The dose of the compound of the general formula (1) is selected according to the age and condition of the patient, the type of the disease, the type of the compound of the general formula (1) to be administered, and the like. Generally 1mg a day
From about 4000 mg, or even higher, to a patient. For the treatment of pathogenic infections, the average dose of the compound of the general formula (1) per dose is about 50 mg, 100 m
g, 250 mg, 500 mg, 1000 mg, 2000
mg amounts can be used.

【0060】[0060]

【実施例】以下に参考例及び実施例を掲げて本発明をよ
り一層明らかにする。
The present invention will be further clarified with reference to the following Reference Examples and Examples.

【0061】[0061]

【参考例1】R1 がフェニルアセトアミド基、R2 が水
素原子、R3 がジフェニルメチル基、Xがフェニルスル
フェニル基且つR5 がトリフロロメチル基である一般式
(7)の化合物(以下「化合物(7a)という)1gを
N,N−ジメチルホルムアミド10mlに溶解する。こ
れを、−30℃に冷却したのち、トリエチルアミン0.
43mlを加え−30℃で1時間撹拌して反応させる。
反応混合物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗後無水
硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液を減圧濃縮する
と、R1 がフェニルアセトアミド基、R2 が水素原子、
3 がジフェニルメチル基且つXがフェニルスルフェニ
ル基である一般式(6)の化合物(以下「化合物(6
a)という)が収率99%で得られる。
REFERENCE EXAMPLE 1 A compound of the general formula (7) wherein R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a diphenylmethyl group, X is a phenylsulfenyl group and R 5 is a trifluoromethyl group 1 g of “compound (7a)” is dissolved in 10 ml of N, N-dimethylformamide, which is cooled to −30 ° C.
43 ml was added, and the mixture was stirred and reacted at -30 ° C for 1 hour.
The reaction mixture was extracted with ethyl acetate, and the extract was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. When the extract is concentrated under reduced pressure, R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom,
A compound of the general formula (6) wherein R 3 is a diphenylmethyl group and X is a phenylsulfenyl group (hereinafter referred to as “compound (6
a) is obtained in a yield of 99%.

【0062】NMR(CDCl3 ):δppm;3.6
1(s,2H)、5.31(dd,1H,J=5Hz及
び7Hz)、5.57及び5.70(ABq,2H,J
=15Hz)、5.84(d,1H,J=5Hz)、
6.02(d,1H,J=7Hz)、6.81(s,1
H)、7.22−7.73(m,20H)
NMR (CDCl 3 ): δ ppm; 3.6
1 (s, 2H), 5.31 (dd, 1H, J = 5 Hz and 7 Hz), 5.57 and 5.70 (ABq, 2H, J
= 15 Hz), 5.84 (d, 1H, J = 5 Hz),
6.02 (d, 1H, J = 7 Hz), 6.81 (s, 1
H), 7.22-7.73 (m, 20H)

【0063】[0063]

【参考例2−7】表1に示す出発化合物を用いて参考例
1と同様の反応を行ない、以下に示す化合物が得られ
る。
Reference Example 2-7 The same reaction as in Reference Example 1 was carried out using the starting compounds shown in Table 1 to obtain the following compounds.

【0064】[0064]

【表1】 [Table 1]

【0065】以下にNMRデーターをまとめて示す。The following summarizes the NMR data.

【0066】NMR(CDCl3 ):δppm; 化合物(6b):3.58(s,2H)、3.80
(s,3H)、5.10(s,2H)、5.32(d
d,1H,J=5Hz及び8Hz)、5.60及び5.
47(ABq,2H,J=15Hz)、5.87(d,
1H,J=5Hz)、6.08(d,1H,J=8H
z)、6.85−7.83(m,14H) 化合物(6c):3.59(s,2H)、3.74
(s,3H)、5.33(dd,1H,J=5Hz及び
8Hz)、5.54及び5.64(ABq,2H,J=
15Hz)、5.88(d,1H,J=5Hz)、6.
02(d,1H,J=8Hz)、7.20−7.90
(m,10H) 化合物(6d):3.67(s,2H)、5.25(d
d,1H,J=5Hz及び8Hz)、5.69(d,1
H,J=5Hz)、5.60及び5.76(ABq,2
H,J=15Hz)、6.71(s,1H)、7.00
−7.34(m,20H) 化合物(6e):3.02(dd,1H,J=2.6H
z及び15.7Hz)、3.58(dd,1H,J=
5.4Hz及び15.7Hz)、3.79(s,3
H)、5.17(s,2H)、5.47及び5.60
(ABq,2H,J=15.2Hz)、5.62(d
d,1H,J=2.6Hz及び5.4Hz)、6.87
−7.89(m,9H)
NMR (CDCl 3 ): δ ppm; Compound (6b): 3.58 (s, 2H), 3.80
(S, 3H), 5.10 (s, 2H), 5.32 (d
d, 1H, J = 5 Hz and 8 Hz), 5.60 and 5.
47 (ABq, 2H, J = 15 Hz), 5.87 (d,
1H, J = 5 Hz), 6.08 (d, 1H, J = 8H)
z), 6.85-7.83 (m, 14H) Compound (6c): 3.59 (s, 2H), 3.74
(S, 3H), 5.33 (dd, 1H, J = 5 Hz and 8 Hz), 5.54 and 5.64 (ABq, 2H, J =
5.15 (d, 1H, J = 5 Hz);
02 (d, 1H, J = 8 Hz), 7.20-7.90
(M, 10H) Compound (6d): 3.67 (s, 2H), 5.25 (d
d, 1H, J = 5 Hz and 8 Hz), 5.69 (d, 1
H, J = 5 Hz), 5.60 and 5.76 (ABq, 2
H, J = 15 Hz), 6.71 (s, 1H), 7.00
-7.34 (m, 20H) Compound (6e): 3.02 (dd, 1H, J = 2.6H)
z and 15.7 Hz), 3.58 (dd, 1H, J =
5.4 Hz and 15.7 Hz), 3.79 (s, 3
H), 5.17 (s, 2H), 5.47 and 5.60.
(ABq, 2H, J = 15.2 Hz), 5.62 (d
d, 1H, J = 2.6 Hz and 5.4 Hz), 6.87
-7.89 (m, 9H)

【0067】[0067]

【参考例8−10】反応溶媒と反応温度を変えた以外は
参考例1と同様の反応を行ない、化合物(6a)が表2
に示す収率で得られる。
Reference Example 8-10 The same reaction as in Reference Example 1 was carried out except that the reaction solvent and the reaction temperature were changed.
Are obtained in the yields indicated.

【0068】[0068]

【表2】 [Table 2]

【0069】[0069]

【参考例11】化合物(6a)100mgをN,N−ジ
メチルホルムアミド1mlに溶解した。これに亜鉛粉末
50mgを加え,続いてBiCl3 50mgを加えて、
室温下で30分間撹拌しながら反応させた。このように
して得られた反応液に1N塩酸を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を分液し、水洗後無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、減圧濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製すると、R
1 がフェニルアセトアミド基、R2 が水素原子且つR3
がp−メトキシベンジル基である一般式(5)の化合物
(以下「化合物(5a)」という)が収率92%で得ら
れた。
Reference Example 11 100 mg of the compound (6a) was dissolved in 1 ml of N, N-dimethylformamide. To this, 50 mg of zinc powder was added, followed by 50 mg of BiCl 3 ,
The reaction was carried out with stirring at room temperature for 30 minutes. 1N hydrochloric acid was added to the reaction solution thus obtained, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer is separated, washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. When the obtained concentrated residue was purified using silica gel column chromatography, R
1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom and R 3
Is a p-methoxybenzyl group (hereinafter referred to as “compound (5a)”) in a yield of 92%.

【0070】NMR(CDCl3 ):δppm;3.6
1(ABq,2H,J=16Hz)、3.80(s,3
H)、5.11(s,2H)、5.18(t,1H,J
=1Hz)、5.24(t,1H,J=1Hz)、5.
35(t,1H,J=1Hz)、5.57(d,1H,
J=4Hz)、5.75(dd,1H,J=4Hz及び
9Hz)、6.07(d,1H,J=9Hz)、6.8
5−7.40(m,9H)
NMR (CDCl 3 ): δ ppm; 3.6
1 (ABq, 2H, J = 16 Hz), 3.80 (s, 3
H), 5.11 (s, 2H), 5.18 (t, 1H, J
= 1 Hz), 5.24 (t, 1H, J = 1 Hz), 5.24.
35 (t, 1H, J = 1 Hz), 5.57 (d, 1H,
J = 4 Hz), 5.75 (dd, 1H, J = 4 Hz and 9 Hz), 6.07 (d, 1H, J = 9 Hz), 6.8
5-7.40 (m, 9H)

【0071】[0071]

【参考例12】R1 がフェニルアセトアミド基、R2
水素原子、R3 がジフェニルメチル基且つXがフェニル
スルフェニル基である一般式(6)の化合物(以下「化
合物(6b)」という)200mgを参考例11と同様
の反応を行ない、R1 がフェニルアセトアミド基、R2
が水素原子且つR3 がジフェニルメチル基である一般式
(5)の化合物(以下「化合物(5b)」という)が収
率89%で得られた。
Reference Example 12 A compound of the general formula (6) wherein R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a diphenylmethyl group and X is a phenylsulfenyl group (hereinafter referred to as “compound (6b)”) The same reaction as in Reference Example 11 was performed using 200 mg, and R 1 was a phenylacetamide group, R 2
Is a hydrogen atom and R 3 is a diphenylmethyl group (hereinafter referred to as “compound (5b)”) in a yield of 89%.

【0072】NMR(CDCl3 ):δppm;3.6
2(s,2H)、5.26−5.28(m,2H)、
5.37(t,1H,J=2Hz)、5.61(d,1
H,J=4Hz)、5.76(dd,1H,J=4Hz
及び9Hz)、6.14(d,1H,J=9Hz)、
6.82(s,1H)、7.20−7.41(m,15
H)
NMR (CDCl 3 ): δ ppm; 3.6
2 (s, 2H), 5.26-5.28 (m, 2H),
5.37 (t, 1H, J = 2 Hz), 5.61 (d, 1
H, J = 4 Hz), 5.76 (dd, 1H, J = 4 Hz)
And 9 Hz), 6.14 (d, 1H, J = 9 Hz),
6.82 (s, 1H), 7.20-7.41 (m, 15
H)

【0073】[0073]

【参考例13】R1 がフェニルアセトアミド基、R2
水素原子、R3 がメチル基且つXがフェニルスルフェニ
ル基である一般式(6)の化合物(以下「化合物(6
c)」という)50mgをN,N−ジメチルホルムアミ
ド0.5mlに溶解する。これに亜鉛粉末50mgとT
iCl4 10μlを加え,室温下25分間撹拌しながら
反応させた。参考例11と同様の後処理を行ない、R1
がフェニルアセトアミド基、R2 が水素原子且つR3
メチル基である一般式(5)の化合物(以下「化合物
(5c)」という)を収率95%で得る。
Reference Example 13 A compound of the general formula (6) wherein R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a methyl group and X is a phenylsulfenyl group (hereinafter referred to as “compound (6
c) 50 mg) in 0.5 ml of N, N-dimethylformamide. Add 50mg of zinc powder and T
10 μl of iCl 4 was added and reacted while stirring at room temperature for 25 minutes. The same post-processing as in Reference Example 11 was performed, and R 1
Is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom and R 3 is a methyl group (hereinafter referred to as “compound (5c)”) in a yield of 95%.

【0074】NMR(CDCl3 ):δppm;3.6
2(ABq,2H,J=16Hz)、3.78(s,3
H)、5.19(t,1H,J=2Hz)、5.28
(t,1H,J=2Hz)、5.40(t,1H,J=
2Hz)、5.60(d,1H,J=4Hz)、5.7
7(dd,1H,J=4Hz及び9Hz)、6.20
(d,1H,J=9Hz)、7.27−7.39(m,
5H)
NMR (CDCl 3 ): δ ppm; 3.6
2 (ABq, 2H, J = 16 Hz), 3.78 (s, 3
H), 5.19 (t, 1H, J = 2 Hz), 5.28
(T, 1H, J = 2 Hz), 5.40 (t, 1H, J =
2 Hz), 5.60 (d, 1H, J = 4 Hz), 5.7
7 (dd, 1H, J = 4 Hz and 9 Hz), 6.20
(D, 1H, J = 9 Hz), 7.27-7.39 (m,
5H)

【0075】[0075]

【参考例14】R1 及びR2 が共に水素原子、R3 がp
−メトキシベンジル基且つXがフェニルスルフェニル基
である一般式(6)の化合物(以下「化合物(6d)」
という)189mgを参考例11と同様の反応を行な
い、R1 及びR2 が共に水素原子且つR3 がp−メトキ
シベンジル基である一般式(5)の化合物(以下「化合
物(5d)」という)が収率88%で得られた。
[Reference Example 14] R 1 and R 2 are both hydrogen atoms, and R 3 is p
A compound of the general formula (6) wherein -methoxybenzyl group and X is a phenylsulfenyl group (hereinafter referred to as “compound (6d)”
189 mg of the compound of the general formula (5) in which both R 1 and R 2 are hydrogen atoms and R 3 is a p-methoxybenzyl group (hereinafter referred to as “compound (5d)”). ) Was obtained with a yield of 88%.

【0076】NMR(CDCl3 ):δppm;3.1
6(dd,1H,J=1.5Hz及び16Hz)、3.
66(dd,1H,J=4Hz及び16Hz)、3.8
2(s,3H)、5.13(s,2H)、5.24(d
d,1H,J=1.8Hz及び1.8Hz)、5.28
(dd,1H,J=1.8Hz及び1.8Hz)、5.
32(dd,1H,J=1.8Hz及び1.8Hz)、
5.38(dd,1H,J=1.5Hz及び4Hz)、
6.87−7.30(m,4H)
NMR (CDCl 3 ): δ ppm; 3.1
6 (dd, 1H, J = 1.5 Hz and 16 Hz);
66 (dd, 1H, J = 4 Hz and 16 Hz), 3.8
2 (s, 3H), 5.13 (s, 2H), 5.24 (d
d, 1H, J = 1.8 Hz and 1.8 Hz), 5.28
(Dd, 1H, J = 1.8 Hz and 1.8 Hz), 5.
32 (dd, 1H, J = 1.8 Hz and 1.8 Hz),
5.38 (dd, 1H, J = 1.5 Hz and 4 Hz),
6.87-7.30 (m, 4H)

【0077】[0077]

【参考例15−20】金属及び金属塩を変えた以外は、
参考例11と同様の反応を行ない、化合物(5a)を得
る。結果を表3に示す。
Reference Example 15-20 Except that the metal and the metal salt were changed,
The same reaction as in Reference Example 11 is carried out to obtain compound (5a). Table 3 shows the results.

【0078】[0078]

【表3】 [Table 3]

【0079】[0079]

【参考例21】化合物(5a)50mgを塩化メチレン
3mlに溶解する。これに氷冷下m−クロロ過安息香酸
30mgを加え、30分間撹拌して反応させる。反応混
合物を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥した後、減圧濃縮する。濃縮残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製すると、R
1 がフェニルアセトアミド基、R2 が水素原子、R3
p−メトキシベンジル基且つnが1である一般式(2)
の化合物(以下「化合物(2a)」という)が収率90
%で得られる。
Reference Example 21 50 mg of the compound (5a) was dissolved in 3 ml of methylene chloride. 30 mg of m-chloroperbenzoic acid is added thereto under ice cooling, and the mixture is stirred and reacted for 30 minutes. The reaction mixture is washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. When the concentrated residue is purified by silica gel column chromatography, R
General formula (2) wherein 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a p-methoxybenzyl group and n is 1.
(Hereinafter referred to as “compound (2a)”) with a yield of 90
%.

【0080】NMR(CDCl3 ):δppm;3.6
0(s,2H)、3.81(s,3H)、4.80
(d,1H,J=4.4Hz)、4.11及び5.24
(ABq,2H,J=11.7Hz)、5.44(d
d,1H,J=2.4Hz,2.4Hz)、5.91
(dd,1H,J=2.4Hz,2.4Hz)、6.1
5(dd,1H,J=4.4Hz,10.4Hz)、
6.19(dd,1H,J=2.4Hz,2.4H
z)、7.11(d,1H,J=10.4Hz)、6.
85−6.93(m,2H)、7.22−7.40
(m,7H)
NMR (CDCl 3 ): δ ppm; 3.6
0 (s, 2H), 3.81 (s, 3H), 4.80
(D, 1H, J = 4.4 Hz), 4.11 and 5.24
(ABq, 2H, J = 11.7 Hz), 5.44 (d
d, 1H, J = 2.4 Hz, 2.4 Hz), 5.91
(Dd, 1H, J = 2.4 Hz, 2.4 Hz), 6.1
5 (dd, 1H, J = 4.4 Hz, 10.4 Hz),
6.19 (dd, 1H, J = 2.4 Hz, 2.4H
z), 7.11 (d, 1H, J = 10.4 Hz), 6.
85-6.93 (m, 2H), 7.22-7.40
(M, 7H)

【0081】[0081]

【参考例22】化合物(5a)51.4mgを塩化メチ
レン3mlに溶解する。これにm−クロロ過安息香酸1
26mgを加え、室温下6時間撹拌して反応させる。反
応混合物を実施例1と同様に後処理すると、R1 がフェ
ニルアセトアミド基、R2 が水素原子、R3 がp−メト
キシベンジル基且つnが2である一般式(2)の化合物
(以下「化合物(2b)」という)が収率90%で得ら
れる。
Reference Example 22 51.4 mg of the compound (5a) was dissolved in 3 ml of methylene chloride. M-chloroperbenzoic acid 1
26 mg is added and reacted by stirring at room temperature for 6 hours. When the reaction mixture was post-treated in the same manner as in Example 1, a compound of the general formula (2) in which R 1 was a phenylacetamide group, R 2 was a hydrogen atom, R 3 was a p-methoxybenzyl group, and n was 2 (hereinafter referred to as “ Compound (2b) ") in a yield of 90%.

【0082】NMR(CDCl3 ):δppm;3.6
6(s,2H)、3.82(s,3H)、4.60
(d,1H,J=4.4Hz)、5.11及び5.25
(ABq,2H,J=11.7Hz)、5.26(d
d,1H,J=2.6Hz,2.6Hz)、5.97
(dd,1H,J=2.6Hz,2.6Hz)、6.1
4(dd,1H,J=2.6Hz,2.6Hz)、6.
17(dd,1H,J=4.4Hz,10.7Hz)、
6.97(d,1H,J=10.7Hz)、6.86−
6.93(m,2H)、7.23−7.40(m,7
H)
NMR (CDCl 3 ): δ ppm; 3.6
6 (s, 2H), 3.82 (s, 3H), 4.60
(D, 1H, J = 4.4 Hz), 5.11 and 5.25
(ABq, 2H, J = 11.7 Hz), 5.26 (d
d, 1H, J = 2.6 Hz, 2.6 Hz), 5.97
(Dd, 1H, J = 2.6 Hz, 2.6 Hz), 6.1
4. (dd, 1H, J = 2.6 Hz, 2.6 Hz);
17 (dd, 1H, J = 4.4 Hz, 10.7 Hz),
6.97 (d, 1H, J = 10.7 Hz), 6.86 −
6.93 (m, 2H), 7.23-7.40 (m, 7
H)

【0083】[0083]

【参考例23】R1 がフェニルアセトアミド基、R2
水素原子且つR3 がジフェニルメチル基である一般式
(5)の化合物(以下「化合物(5b)」という)30
mgを塩化メチレン1mlに溶解する。これに、氷冷下
m−クロロ過安息香酸15mgを加え20分間撹拌して
反応させる。反応混合物を飽和重曹水、ハイポ水、飽和
食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減
圧濃縮する。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製するとR1 がフェニルアセトアミド基、
2 が水素原子、R3 がジフェニルメチル基且つnが1
である一般式(2)の化合物(以下「化合物(2c)と
いう)が収率92%で得られる。
REFERENCE EXAMPLE 23 A compound of the formula (5) in which R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom and R 3 is a diphenylmethyl group (hereinafter referred to as “compound (5b)”) 30
mg in 1 ml of methylene chloride. To this, 15 mg of m-chloroperbenzoic acid is added under ice cooling, and the mixture is stirred and reacted for 20 minutes. The reaction mixture is washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, hypo-water, and saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. When the concentrated residue was purified by silica gel column chromatography, R 1 was a phenylacetamide group,
R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a diphenylmethyl group and n is 1
(Hereinafter referred to as “compound (2c)”) in a yield of 92%.

【0084】NMR(CDCl3 ):δppm;3.6
0及び3.61(ABq,2H,J=16Hz)、4.
82(d,1H,J=4Hz)、5.35(t,1H,
J=2.5Hz)、5.80(t,1H,J=2.5H
z)、6.14(t,1H,J=2.5Hz)、6.1
8(dd,1H,J=4Hz及び10Hz)、6.95
(s,1H)、7.13(d,1H,J=10Hz)、
7.02−7.40(m,15H)
NMR (CDCl 3 ): δ ppm; 3.6
3. 0 and 3.61 (ABq, 2H, J = 16 Hz);
82 (d, 1H, J = 4 Hz), 5.35 (t, 1H,
J = 2.5 Hz) 5.80 (t, 1H, J = 2.5H
z), 6.14 (t, 1H, J = 2.5 Hz), 6.1
8 (dd, 1H, J = 4 Hz and 10 Hz), 6.95
(S, 1H), 7.13 (d, 1H, J = 10 Hz),
7.02-7.40 (m, 15H)

【0085】[0085]

【参考例24】化合物(5d)85mgを塩化メチレン
6mlに溶解する。これに、m−クロロ過安息香酸30
0mgを加え、室温下2時間撹拌して反応させる。反応
混合物を実施例1と同様に処理すると、R1 及びR2
共に水素原子、R3 がp−メトキシベンジル基且つnが
2である一般式(2)の化合物(以下「化合物(2d)
という)が収率78%で得られる。
Reference Example 24 85 mg of the compound (5d) is dissolved in 6 ml of methylene chloride. M-chloroperbenzoic acid 30
0 mg is added, and the mixture is stirred and reacted at room temperature for 2 hours. When the reaction mixture was treated in the same manner as in Example 1, a compound of the general formula (2) in which both R 1 and R 2 were a hydrogen atom, R 3 was a p-methoxybenzyl group and n was 2 (hereinafter referred to as “compound (2d)
Is obtained with a yield of 78%.

【0086】NMR(CDCl3 ):δppm;3.4
9(dd,1H,J=2.3Hz及び15.9Hz)、
3.58(dd,1H,J=3.6Hz及び15.9H
z)、3.83(s,3H)、4.52(dd,1H,
J=2.3Hz及び3.6Hz)、5.13及び5.2
6(ABq,2H,J=11.6Hz)、5.25(d
d,1H,J=2.7Hz及び2.7Hz)、6.02
(dd,1H,J=2.7Hz及び2.7Hz)、6.
23(dd,1H,J=2.7Hz及び2.7Hz)、
6.89−7.33(m,4H)
NMR (CDCl 3 ): δ ppm; 3.4
9 (dd, 1H, J = 2.3 Hz and 15.9 Hz),
3.58 (dd, 1H, J = 3.6 Hz and 15.9H
z), 3.83 (s, 3H), 4.52 (dd, 1H,
J = 2.3 Hz and 3.6 Hz), 5.13 and 5.2
6 (ABq, 2H, J = 11.6 Hz), 5.25 (d
d, 1H, J = 2.7 Hz and 2.7 Hz), 6.02
(Dd, 1H, J = 2.7 Hz and 2.7 Hz), 6.
23 (dd, 1H, J = 2.7 Hz and 2.7 Hz),
6.89-7.33 (m, 4H)

【0087】[0087]

【実施例1】水素化ナトリウム0.6mg(含量60
%)を反応器に秤り取り、減圧下に乾燥する。これにテ
トラヒドロフラン1ml及び3−メルカプトプロピオン
酸メチル15.2mgを加え、室温下に30分間撹拌す
る。続いて反応器をドライアイス−アセトン浴に浸して
冷却した後、化合物(2a)30mgをテトラヒドロフ
ラン1mlに溶解した溶液を加え、−50℃で1時間撹
拌して反応させる。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、
抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥する。減圧下溶媒を留去した後、カラムクロマ
トグラフィーにより精製すると、R1 がフェニルアセト
アミド基、R2 が水素原子、R3 がp−メトキシベンジ
ル基、Yが2−メトキシカルボニルエチルチオ基且つn
が1である一般式(1)の化合物(以下「化合物(1
a)」という)が収率95%で得られる。
Example 1 0.6 mg of sodium hydride (content 60
%) Is weighed into a reactor and dried under reduced pressure. 1 ml of tetrahydrofuran and 15.2 mg of methyl 3-mercaptopropionate are added thereto, and the mixture is stirred at room temperature for 30 minutes. Subsequently, the reactor is cooled by immersing it in a dry ice-acetone bath, a solution of 30 mg of compound (2a) dissolved in 1 ml of tetrahydrofuran is added, and the mixture is stirred and reacted at -50 ° C for 1 hour. The reaction mixture was extracted with ethyl acetate,
The extract is washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure and purifying by column chromatography, R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a p-methoxybenzyl group, Y is a 2-methoxycarbonylethylthio group and n
Is 1 (hereinafter referred to as “compound (1
a) ") in a yield of 95%.

【0088】IR(CHCl3 ):1798,173
8,1682,1613,1518,1439cm-1
IR (CHCl 3 ): 1798, 173
8,1682,1613,1518,1439cm -1

【0089】[0089]

【実施例2】3−メルカプトプロピオン酸メチルの代り
にYがアリルチオ基である一般式(3)の化合物を用
い、実施例1と同様にして、R1 がフェニルアセトアミ
ド基、R2 が水素原子、R3 がp−メトキシベンジル
基、Yがアリルチオ基且つnが1である一般式(1)の
化合物(以下「化合物(1b)」という)が収率85%
で得られる。
Example 2 A compound of the general formula (3) in which Y is an allylthio group was used instead of methyl 3-mercaptopropionate, and R 1 was a phenylacetamide group and R 2 was a hydrogen atom in the same manner as in Example 1. , A compound of the general formula (1) in which R 3 is a p-methoxybenzyl group, Y is an allylthio group and n is 1 (hereinafter referred to as “compound (1b)”) in a yield of 85%
Is obtained.

【0090】IR(CHCl3 ):1800,174
4,1684,1613,1516cm-1
IR (CHCl 3 ): 1800, 174
4,1684,1613,1516cm -1

【0091】[0091]

【実施例3】3−メルカプトプロピオン酸メチルの代り
にYが2−ヒドロキシエチルチオ基である一般式(3)
の化合物を用い、実施例1と同様にして、R1 がフェニ
ルアセトアミド基、R2 が水素原子、R3 がp−メトキ
シベンジル基、Yが2−ヒドロキシエチルチオ基且つn
が1である一般式(1)の化合物(以下「化合物(1
c)」という)が収率91%で得られる。
Example 3 General formula (3) wherein Y is a 2-hydroxyethylthio group instead of methyl 3-mercaptopropionate
In the same manner as in Example 1, R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a p-methoxybenzyl group, Y is a 2-hydroxyethylthio group and n
Is 1 (hereinafter referred to as “compound (1
c) ") in a yield of 91%.

【0092】IR(CHCl3 ):3382,296
4,1796,1744,1682,1613,151
8cm-1
IR (CHCl 3 ): 3382,296
4,1796,1744,1682,1613,151
8cm -1

【0093】[0093]

【実施例4】3−メルカプトプロピオン酸メチルの代り
にYが(CH3 CONH)(CH3COO)CHCH2
S−基((2−アセトアミド−2−メトキシカルボニ
ル)エチルチオ基)である一般式(3)の化合物を用
い、実施例1と同様にして、R1がフェニルアセトアミ
ド基、R2 が水素原子、R3 がp−メトキシベンジル
基、Yが(2−アセトアミド−2−メトキシカルボニ
ル)エチルチオ基且つnが1である一般式(1)の化合
物(以下「化合物(1d)」という)が収率95%で得
られる。
Example 4 Y is (CH 3 CONH) (CH 3 COO) CHCH 2 instead of methyl 3-mercaptopropionate
Using a compound of the general formula (3), which is an S-group ((2-acetamido-2-methoxycarbonyl) ethylthio group), as in Example 1, R 1 is a phenylacetamido group, R 2 is a hydrogen atom, A compound of the general formula (1) in which R 3 is a p-methoxybenzyl group, Y is a (2-acetamido-2-methoxycarbonyl) ethylthio group and n is 1 (hereinafter referred to as “compound (1d)”) has a yield of 95. %.

【0094】IR(CHCl3 ):2960,179
8,1744,1676,1615,1586,151
8cm-1
IR (CHCl 3 ): 2960, 179
8, 1744, 1676, 1615, 1586, 151
8cm -1

【0095】[0095]

【実施例5】3−メルカプトプロピオン酸メチルの代り
にYが2−メトキシカルボニルエチルチオ基である一般
式(3)の化合物を用い、実施例1と同様にして、化合
物(1a)が収率76%で得られる。
Example 5 The compound (1a) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the compound of the general formula (3) in which Y was a 2-methoxycarbonylethylthio group was used instead of methyl 3-mercaptopropionate. Obtained at 76%.

【0096】IR(CHCl3 ):2936,179
4,1744,1667,1615,1586,151
8cm-1
IR (CHCl 3 ): 2936,179
4,1744,1667,1615,1586,151
8cm -1

【0097】[0097]

【実施例6】3−メルカプトプロピオン酸メチルの代り
にYが2−フリルメチルチオ基である一般式(3)の化
合物を用い、実施例1と同様にして、R1 がフェニルア
セトアミド基、R2 が水素原子、R3 がp−メトキシベ
ンジル基、Yが2−フリルメチルチオ基且つnが1であ
る一般式(1)の化合物(以下「化合物(1e)」とい
う)が収率59%で得られる。
Example 6 3-mercapto in place of methyl propionate with a compound of the general formula Y is 2-furyl methyl thio group (3), in the same manner as in Example 1, R 1 is phenylacetamido group, R 2 Is a hydrogen atom, R 3 is a p-methoxybenzyl group, Y is a 2-furylmethylthio group and n is 1 (hereinafter referred to as “compound (1e)”) in a yield of 59%. Can be

【0098】IR(CHCl3 ):2938,179
2,1734,1661,1615,1589,149
5cm-1
IR (CHCl 3 ): 2938, 179
2,1734,1661,1615,1589,149
5cm -1

【0099】[0099]

【実施例7】化合物(1a)36.2mgをN,N−ジ
メチルホルムアミド2mlに溶解し、−30℃に冷却す
る。これに、三臭化リン12μlを加え、−30℃で1
時間撹拌して反応させる。反応混合物を酢酸エチルで抽
出し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウム上
で乾燥した。減圧下に溶媒を留去した後、カラムクロマ
トグラフィーにて精製すると、R1 がフェニルアセトア
ミド基、R2 が水素原子、R3 がp−メトキシベンジル
基、Yが2−メトキシカルボニルエチルチオ基且つnが
0である一般式(1)の化合物(以下「化合物(1
f)」という)が収率85%で得られる。
Example 7 36.2 mg of the compound (1a) was dissolved in 2 ml of N, N-dimethylformamide and cooled to -30 ° C. To this, 12 µl of phosphorus tribromide was added, and the mixture was added at -30 ° C for 1 hour.
Stir for hours to react. The reaction mixture was extracted with ethyl acetate, washed with saturated saline, and then dried over anhydrous sodium sulfate. After distilling off the solvent under reduced pressure and purifying by column chromatography, R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a p-methoxybenzyl group, Y is a 2-methoxycarbonylethylthio group and a compound of the general formula (1) wherein n is 0 (hereinafter referred to as “compound (1
f) ") in a yield of 85%.

【0100】IR(ニート):1785,1734,1
669,1615,1586,1518,1456,1
439cm−1
IR (neat): 1785, 1734, 1
669, 1615, 1586, 1518, 1456, 1
439 cm -1

【0101】[0101]

【実施例8】化合物(1b)を用い、実施例7と同様に
処理して、Rがフェニルアセトアミド基、R2 が水
素原子、R3 がp−メトキシベンジル基、Yがアリルチ
オ基且つnが0である一般式(1)の化合物(以下「化
合物(1g)」という)が収率74%で得られる。
Example 8 Using compound (1b) and treating in the same manner as in Example 7, R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a p-methoxybenzyl group, Y is an allylthio group and n Is 0 (hereinafter, referred to as “compound (1g)”) in a yield of 74%.

【0102】IR(ニート):1787,1744,1
667,1613,1586,1518,1456cm
-1
IR (neat): 1787, 1744, 1
667, 1613, 1586, 1518, 1456cm
-1

【0103】[0103]

【実施例9】化合物(1f)13mgを45℃にて融解
したフェノール1ml中に加え、これに35%塩酸2μ
lを加える。同温度にて2時間撹拌して反応した後、酢
酸エチルにて希釈し、5%炭酸水素カリウム水溶液にて
抽出した。抽出水溶液を5%塩酸にて中和した後、セフ
ァデックスLH−20カラムにて遊離させ、生成物含有
遊離物を集めて凍結乾燥すると、R1 がフェニルアセト
アミド基、R2 が水素原子、R3 がK、Yが2−メトキ
シカルボニルエチルチオ基且つnが0である一般式
(1)の化合物(以下「化合物(1h)」という)が得
られる。
Example 9 13 mg of the compound (1f) was added to 1 ml of phenol melted at 45 ° C., and 2 μl of 35% hydrochloric acid was added thereto.
Add l. After reacting with stirring at the same temperature for 2 hours, the mixture was diluted with ethyl acetate and extracted with a 5% aqueous potassium hydrogen carbonate solution. After neutralizing the extracted aqueous solution with 5% hydrochloric acid, it is released on a Sephadex LH-20 column, and the product-containing release is collected and lyophilized to give R 1 a phenylacetamide group, R 2 a hydrogen atom, A compound of the general formula (1) in which 3 is K and Y is a 2-methoxycarbonylethylthio group and n is 0 (hereinafter, referred to as “compound (1h)”) is obtained.

【0104】 IR(KBr):1782,1740,1672,1624cm-1 化合物(1h)につき、試験管内抗菌活性試験を、下記
の方法に従い行なった。即ち、2倍寒天平板希釈法によ
り試験管内抗菌活性を求めた。各試験菌種を感受性測定
用ブイヨン中で20時間培養した試験菌種(生存細菌
数:約108 /ml)の0.005mlを、各種濃度の
抗菌剤を含有する感受性測定用寒天培地に接種し、37
℃、20時間培養後、最低発育阻止濃度(MIC)をμ
g/mlの単位で測定した。結果を表4に示す。
IR (KBr): The in-vitro antibacterial activity test was performed on the compound (1h): 1782, 1740, 1672, 1624 cm -1 according to the following method. That is, the antibacterial activity in a test tube was determined by a two-fold agar plate dilution method. Each test species 20-hr cultured tested species in broth for measuring sensitivity (viable bacterial count: about 10 8 / ml) and 0.005ml of inoculation sensitive measuring agar medium containing antimicrobial agent at various concentrations And 37
After incubation for 20 hours at ℃, the minimum inhibitory concentration (MIC)
It was measured in g / ml. Table 4 shows the results.

【0105】[0105]

【表4】 [Table 4]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07D 499/46 C07D 499/04 E 499/87 499/897 (72)発明者 笹岡 三千雄 徳島県徳島市川内町加賀須野463大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 城井 敬史 徳島県徳島市川内町加賀須野463大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 亀山 豊 徳島県徳島市川内町加賀須野463大塚化 学株式会社徳島研究所内 (56)参考文献 特開 平3−258784(JP,A) 特開 平2−204494(JP,A) 特開 平3−206038(JP,A) 特開 平1−283288(JP,A) 特開 平2−72180(JP,A) J.Chem.Soc.,Perki n Trans.1(1974),(1), pages22−25 J.Chem.Soc.,Chem. Commun.(1986),(3),pa ges273−275 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 499/00 - 499/82 A61K 31/43 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI C07D 499/46 C07D 499/04 E 499/87 499/897 (72) Inventor Michio Sasaoka 463 Kasuno, Kawauchi-cho, Tokushima, Tokushima Prefecture Otsuka Inside the Tokushima Research Laboratories of Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Takashi Shiro 463 Kagasuno, Kawauchi-machi, Tokushima City, Tokushima Prefecture Inside the Tokushima Research Laboratories Co., Ltd. (56) References JP-A-3-258784 (JP, A) JP-A-2-204494 (JP, A) JP-A-3-206038 (JP, A) JP-A-1-283288 ( JP, A) JP-A-2-72180 (JP, A) Chem. Soc. , Perkin Trans. 1 (1974), (1), pages 22-25. Chem. Soc. , Chem. Commun. (1986), (3), pages 273-275 (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C07D 499/00-499/82 A61K 31/43 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式 【化1】 [式中R1 は水素原子、ハロゲン原子、アミノ基又は保
護されたアミノ基を示す。R2 は水素原子、ハロゲン原
子、低級アルコキシ基、低級アシル基、低級アルキル
基、水酸基もしくは保護された水酸基を置換基として有
する低級アルキル基、水酸基、又は保護された水酸基を
示す。或いはR1 とR2 とが互いに結合してオキソ基を
形成してもよい。R3 は水素原子又はカルボン酸保護基
を示す。nは0、1又は2を示す。Yはハロゲン原子、
基−N3 、基−ONO2 、基−OR4、基−OCO
4 、基−SCSOR4 、基−SCSN(R4 2 、基
−SR4 、基−SO2 4 、基−NHR4 、基−N(R
4 2 又は置換基を有していてもよい窒素に遊離原子価
を持つ含窒素複素環基を示す。R4 は置換基を有してい
てもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいア
リール基、又は置換基を有していてもよい複素環基を示
す。]で表わされるペナム誘導体及びその塩。
1. A compound of the general formula [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group or a protected amino group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkoxy group, a lower acyl group, a lower alkyl group, a lower alkyl group having a hydroxyl group or a protected hydroxyl group as a substituent, a hydroxyl group, or a protected hydroxyl group. Alternatively, R 1 and R 2 may combine with each other to form an oxo group. R 3 represents a hydrogen atom or a carboxylic acid protecting group. n represents 0, 1 or 2. Y is a halogen atom,
Group -N 3, group -ONO 2, group -OR 4, group -OCO
R 4 , group —SCSOR 4 , group —SCSN (R 4 ) 2 , group —SR 4 , group —SO 2 R 4 , group —NHR 4 , group —N (R
4 ) A nitrogen-containing heterocyclic group having a free valence at 2 or an optionally substituted nitrogen. R 4 represents a lower alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a heterocyclic group which may have a substituent. And a salt thereof.
【請求項2】一般式 【化2】 [式中R1 、R2 及びR3 は前記に同じ。mは1又は2
を示す。]で表わされる2−エキソメチレンペナムオキ
シド誘導体に、一般式 Y−H [式中Yは前記に同じ。]で表わされる求核剤を反応さ
せて、請求項1のペナム誘導体のnが1又は2である化
合物を得ることを特徴とするペナム誘導体の製造法。
2. A compound of the general formula Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above. m is 1 or 2
Is shown. And a general formula YH wherein Y is the same as defined above. A method for producing a penum derivative, characterized in that the compound of the formula (1) is obtained by reacting a nucleophile represented by the formula (1).
【請求項3】請求項1のペナム誘導体のnが1である化
合物のスルホキシドを還元して請求項1のペナム誘導体
のnが0である化合物を得ることを特徴とするペナム誘
導体の製造法。
3. A method for producing a penum derivative according to claim 1, wherein the sulfoxide of the compound wherein n of the penum derivative is 1 is reduced to obtain a compound wherein n of the penum derivative is 0.
JP3047085A 1991-03-13 1991-03-13 Penam derivatives and their production Expired - Fee Related JP3025910B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3047085A JP3025910B2 (en) 1991-03-13 1991-03-13 Penam derivatives and their production
DE69225821T DE69225821T2 (en) 1991-03-13 1992-03-11 Penam derivatives and process for their preparation
EP92104192A EP0503597B1 (en) 1991-03-13 1992-03-11 Penam derivatives and processes for producing the same
US08/314,307 US5599925A (en) 1991-03-13 1994-09-30 Penam derivatives

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3047085A JP3025910B2 (en) 1991-03-13 1991-03-13 Penam derivatives and their production

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0625253A JPH0625253A (en) 1994-02-01
JP3025910B2 true JP3025910B2 (en) 2000-03-27

Family

ID=12765341

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3047085A Expired - Fee Related JP3025910B2 (en) 1991-03-13 1991-03-13 Penam derivatives and their production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3025910B2 (en)

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J.Chem.Soc.,Chem.Commun.(1986),(3),pages273−275
J.Chem.Soc.,Perkin Trans.1(1974),(1),pages22−25

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0625253A (en) 1994-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4008246A (en) Aminothiazole derivatives
EP0503597B1 (en) Penam derivatives and processes for producing the same
KR910000035B1 (en) Cephalosporin compound and pharmaceutical composition thereof
US4144391A (en) Cephalosporin displacement reaction
JPS6114151B2 (en)
JP3195371B2 (en) Method for producing cefm derivatives
NZ226989A (en) Esters of pharmacologically active carboxylic acids, especially of beta-lactam antibiotics
FR2579597A1 (en) ESTERS OF ALCENEAMIDOCEPHALOSPORINS
JP3025910B2 (en) Penam derivatives and their production
US4260598A (en) Method for increasing antibacterial effectiveness of a β-lactam antibiotic
HU203356B (en) Process for producing new 1-dethia-2-thiacefem-2-carboxylic acid derivatives and pharmaceutical compositions comprising same
JPH04225985A (en) Cephalosporin compound
EP0503603B1 (en) Process for preparing 2-exo-methylenepenam derivatives
JPS59231090A (en) Fluoromethylthioxacephalosporin
US3968109A (en) Production of 2-(thio substituted)cephalosporin sulfoxides and 2-(thio substituted)cephalosporins
US4319028A (en) 7-(2-(Substituted benzoyl)amino)acetamido)cephalosporins
JP3224261B2 (en) Method for producing 2-exomethylene penum derivative
JPS61158982A (en) Beta-lactam antibiotic
JP3238209B2 (en) Thiomethylthiocarbacephalosporin derivative
AU4238600A (en) Beta-lactamase inhibiting compounds
JPS6026800B2 (en) Novel 7α-methoxycephalosporins and their production method
JP3025911B2 (en) 2-exomethylene penum oxide derivative
JPH0523271B2 (en)
US4182868A (en) 7-Methoxycephalosporin derivatives
KR0157589B1 (en) Novel cephalosporin antibiotics and process for preparation thereof

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080128

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090128

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees