JP3020256B2 - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JP3020256B2
JP3020256B2 JP2131010A JP13101090A JP3020256B2 JP 3020256 B2 JP3020256 B2 JP 3020256B2 JP 2131010 A JP2131010 A JP 2131010A JP 13101090 A JP13101090 A JP 13101090A JP 3020256 B2 JP3020256 B2 JP 3020256B2
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、光記録媒体、特にコンパクトディスク対応
のライト・ワンス型の光記録ディスクに関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium, in particular, a write-once optical recording disk compatible with a compact disk.

<従来の技術> コンパクトディスク(以下、CDと略称する)規格に対
応して追記ないし記録を行なうことのできる光記録ディ
スクが提案されている(日経エレクトロニクス1989年1
月23日号,No.465,P107、社団法人近畿化学協会機能性色
素部会,1989年3月3日,大阪科学技術センター、SPIE
vol 1078 Optical Data Storage Topical Meeting,80 1
989等)。
<Prior Art> An optical recording disk that can be additionally recorded or recorded in accordance with the compact disk (hereinafter abbreviated as CD) standard has been proposed (Nikkei Electronics, January 1989).
March 23, No. 465, P107, Kinki Chemical Association Functional Dye Subcommittee, March 3, 1989, Osaka Science and Technology Center, SPIE
vol 1078 Optical Data Storage Topical Meeting, 80 1
989 etc.).

このものは、透明樹脂基板上に、色素層、Au反射層お
よび保護膜をこの順に設層して形成される。すなわち、
反射層を色素層に密着して設けるものである。
This is formed by providing a dye layer, an Au reflection layer and a protective film in this order on a transparent resin substrate. That is,
The reflective layer is provided in close contact with the dye layer.

従来は、色素層にピットを形成するために色素層上に
空気層を設けていたが、この提案では、反射層を色素層
に密着して設ける密着型であるので、CD規格のディスク
全厚1.2mmの構成が可能となっている。
In the past, an air layer was provided on the dye layer to form pits in the dye layer.However, in this proposal, since the reflection layer is in close contact with the dye layer, the total thickness of the CD standard disc is 1.2mm configuration is possible.

<発明が解決しようとする課題> このような反射層と色素を含有する記録層とを密着し
て設ける密着型の媒体の場合には、特に、記録層の記録
光および再生光波長での消衰係数kおよび屈折率nが、
それぞれ、0.03〜0.25および1.8〜4.0の所定の値をも
ち、未記録部での反射率が60%以上、特に70%以上なけ
ればならない。
<Problems to be Solved by the Invention> In the case of a contact-type medium in which such a reflective layer and a recording layer containing a dye are provided in close contact with each other, in particular, the erasing of the recording layer at the wavelength of the recording light and reproduction light. The extinction coefficient k and the refractive index n are
They have predetermined values of 0.03 to 0.25 and 1.8 to 4.0, respectively, and must have a reflectance of 60% or more, particularly 70% or more, in an unrecorded portion.

ところで、色素層を記録層として用いる場合、光吸収
色素の耐光性が低く、特に、くり返し再生を行なうと色
素がフォトンモードの劣化を受け、これにより再生劣化
が生じることが知られている。
By the way, when a dye layer is used as a recording layer, it is known that the light absorbing dye has low light fastness, and in particular, the dye undergoes photon mode deterioration during repeated reproduction, thereby causing reproduction deterioration.

本発明者らは、この再生劣化を防止して、耐光性を向
上するために、色素カチオンと、一重項酸素クエンチャ
ーとしての遷移金属錯体のアニオンとイオン結合体を用
いる旨を提案している(特開昭60−159087号、同60−16
2691号、同60−203488号、同60−163243号)。
The present inventors have proposed to use a dye cation, an anion of a transition metal complex as a singlet oxygen quencher and an ionic conjugate in order to prevent this regeneration deterioration and improve light resistance. (Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 60-1559087 and 60-16
No. 2691, No. 60-203488, No. 60-163243).

このような結合体は、色素カチオンとクエンチャーア
ニオンとが1対1で存在している。
In such a conjugate, the dye cation and the quencher anion are present in a one-to-one relationship.

一方、カチオン型の色素とクエンチャーとを混合して
記録層とするときには、色素カチオンと、クエンチャー
イオンと、それぞれの対イオンとの4種のイオンが、色
素とクエンチャーの混合比に応じて存在する。
On the other hand, when a cationic dye and a quencher are mixed to form a recording layer, four kinds of ions, that is, a dye cation, a quencher ion, and each counter ion, are mixed according to the mixing ratio of the dye and the quencher. Exists.

従って、結合体を用いるときには、色素およびクエン
チャーのそれぞれの対イオンが存在しないので、混合系
と比較して、再生劣化がより一層減少し、耐光性が向上
するものである。
Therefore, when the conjugate is used, since the respective counter ions of the dye and the quencher are not present, the reproduction deterioration is further reduced and the light resistance is improved as compared with the mixed system.

また、結合体は、高い明確な融点をもつものが多い
が、混合系では、融点が低下し、軟化点がブロードとな
り、熱安定性が低下する。
Further, many of the conjugates have a high and distinct melting point, but in a mixed system, the melting point decreases, the softening point becomes broad, and the thermal stability decreases.

このため、ヒートモードの再生劣化も減少し、保存性
も向上する。
For this reason, regeneration deterioration in the heat mode is reduced, and storage stability is improved.

さらには、耐水性等も向上する。 Further, the water resistance and the like are improved.

しかし、通常のクエンチャーアニオンは、特にkが大
きい。このため、密着型の媒体に結合体を用いると、記
録層の特にkが増大してしまい、反射率が低下してしま
うため良好な再生を行なうことができない。
However, ordinary quencher anions have particularly large k. For this reason, if a binder is used for a contact-type medium, particularly k of the recording layer increases, and the reflectance decreases, so that good reproduction cannot be performed.

このため、kを所定の値に制御しようとするには、k
の低い他の光吸収性色素をさらに混合しなければなら
ず、耐光性、熱安定性等が低下してしまう。
Therefore, to control k to a predetermined value, k
Must be further mixed with other light-absorbing dyes having a low light resistance, and light resistance, thermal stability, and the like are reduced.

このように、密着型の媒体では、すぐれた耐光性等を
示す結合体の特長を活かしきっていないのが実状であ
る。
As described above, the fact is that the characteristics of the bonded body exhibiting excellent light resistance and the like are not fully utilized in the contact type medium.

本発明の目的は、良好な記録および再生を行なうこと
ができるととも、十分な耐光性、耐熱性、耐水性を有す
る密着型の光記録媒体を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a contact-type optical recording medium capable of performing good recording and reproduction and having sufficient light resistance, heat resistance, and water resistance.

<課題を解決するための手段> このような目的は下記(1)〜(7)の本発明によっ
て達成される。
<Means for Solving the Problems> Such an object is achieved by the present invention of the following (1) to (7).

(1)基板上に色素を含有する記録層を有し、この記録
層上に密着して反射層を積層して構成され、 記録光を前記記録層に照射してピット部を形成し、再
生光により再生を行なう光記録媒体であって、 前記記録層が、シアニン色素カチオンと、ビスフェニ
レンジチオールの銅錯体のアニオンとのイオン結合体を
含有することを特徴とする光記録媒体。
(1) A recording layer containing a dye is provided on a substrate, and a reflective layer is laminated on the recording layer in close contact with the recording layer. The recording layer is irradiated with recording light to form a pit portion, and reproduction is performed. An optical recording medium for reproducing by light, wherein the recording layer contains an ionic combination of a cyanine dye cation and an anion of a copper complex of bisphenylenedithiol.

(2)基板側から再生光を照射したとき、未記録部分の
反射率が60%以上であり、記録部分の反射率が未記録部
分の反射率の60%以下である上記(1)に記載の光記録
媒体。
(2) When the reproducing light is irradiated from the substrate side, the reflectance of the unrecorded portion is 60% or more, and the reflectance of the recorded portion is 60% or less of the reflectance of the unrecorded portion. Optical recording medium.

(3)記録光および再生光の波長における前記記録層の
消衰係数kが0.03〜0.25であり、記録光および再生光の
波長における前記記録層の屈折率nが1.8〜4.0である上
記(2)に記載の光記録媒体。
(3) The extinction coefficient k of the recording layer at the wavelength of the recording light and the reproduction light is 0.03 to 0.25, and the refractive index n of the recording layer at the wavelength of the recording light and the reproduction light is 1.8 to 4.0. The optical recording medium according to (1).

(4)記録光および再生光の波長が600〜900nmである上
記(1)ないし(3)のいずれかに記載の光記録媒体。
(4) The optical recording medium according to any one of (1) to (3), wherein the wavelengths of the recording light and the reproduction light are 600 to 900 nm.

(5)前記ピット部の前記基板と前記記録層の界面部に
は、記録層材質の分解物を含有し、かつ基板材質を実質
的に含有しない層が存在している上記(1)ないし
(4)のいずれかに記載の光記録媒体。
(5) At the interface between the substrate and the recording layer in the pit portion, there is a layer containing a decomposition product of the material of the recording layer and substantially not containing the material of the substrate. The optical recording medium according to any one of 4).

(6)前記ピット部には、空隙が形成されている上記
(5)に記載の光記録媒体。
(6) The optical recording medium according to (5), wherein a void is formed in the pit portion.

(7)前記イオン結合体を2種以上含有する上記(1)
ないし(6)のいずれかに記載の光記録媒体。
(7) The above (1) containing two or more kinds of the ionic conjugates.
The optical recording medium according to any one of (1) to (6).

<作用> 本発明で用いるクエンチャーのアニオン体は、記録・
再生光波長において、0〜0.01の低いkをもつ。
<Function> The anion of the quencher used in the present invention is
It has a low k of 0 to 0.01 at the reproduction light wavelength.

このため、結合体のkも所定の値とすることができ、
良好な記録・再生を行なうことができるとともに、結合
体本来の十分高い耐光性、耐熱性、耐水性等のすぐれた
特長を発揮させることができる。
Therefore, k of the conjugate can also be a predetermined value,
Good recording and reproduction can be performed, and excellent characteristics such as light resistance, heat resistance, and water resistance inherent to the combined body can be exhibited.

<具体的構成> 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。<Specific Configuration> Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.

第1図には、本発明の光記録媒体1の1例が示され
る。
FIG. 1 shows an example of the optical recording medium 1 of the present invention.

この光記録媒体1は、基板2上に、色素を含有する記
録層3を有し、記録層3に密着して、反射層4、保護膜
5を形成した密着型のものである。
The optical recording medium 1 is of a contact type in which a recording layer 3 containing a dye is provided on a substrate 2 and a reflective layer 4 and a protective film 5 are formed in close contact with the recording layer 3.

基板2は、記録光および再生光(600〜900nm程度、特
に700〜800nm程度の半導体レーザー光、特に780nm)に
対し、実質的に透明(好ましくは透過率80%以上)な樹
脂あるいはガラスから形成される。これにより、基板裏
面側からの記録および再生が可能となる。
The substrate 2 is formed of a resin or glass which is substantially transparent (preferably at least 80% transmittance) to recording light and reproduction light (semiconductor laser light of about 600 to 900 nm, particularly about 700 to 800 nm, particularly 780 nm). Is done. This enables recording and reproduction from the back side of the substrate.

基板2は、通常のサイズのディスク状であって、CDと
して用いる場合、厚さは1.2mm程度、直径は80ないし120
mm程度とする。
The substrate 2 is a disk having a normal size, and when used as a CD, has a thickness of about 1.2 mm and a diameter of 80 to 120 mm.
mm.

この場合、基板材質としては、樹脂を用いることが好
ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモル
ファスポリオレフィン、TPX等の各種熱可塑性樹脂が好
適である。
In this case, it is preferable to use a resin as the substrate material, and various thermoplastic resins such as polycarbonate resin, acrylic resin, amorphous polyolefin, and TPX are suitable.

なお、必要に応じ、基板2の外表面、内表面の少なく
とも一方と、さらに必要に応じ、内・外周面に酸素遮断
性の被膜を形成してもよい。
If necessary, an oxygen barrier coating may be formed on at least one of the outer surface and the inner surface of the substrate 2 and, if necessary, on the inner and outer peripheral surfaces.

基板2の記録層3形成面には、トラッキング用のグル
ーブが形成されることが好ましい。
It is preferable that a groove for tracking is formed on the surface of the substrate 2 on which the recording layer 3 is formed.

グルーブは、スパイラル状の連続型グルーブであるこ
とが好ましく、深さは250〜1800Å、幅は0.3〜1.1μ
m、特に0.4〜0.6μm、ランド(隣り合うグルーブ同士
の間の部分)幅は0.5〜1.3μm、特に1.0〜1.2μmであ
ることが好ましい。
The groove is preferably a spiral continuous groove, having a depth of 250 to 1800 mm and a width of 0.3 to 1.1 μm.
m, preferably 0.4 to 0.6 μm, and the land (portion between adjacent grooves) preferably 0.5 to 1.3 μm, particularly 1.0 to 1.2 μm.

グルーブをこのような構成とすることにより、グルー
ブ部の反射レベルを下げることなく良好なトラッキング
信号を得ることができる。
With such a configuration of the groove, a good tracking signal can be obtained without lowering the reflection level of the groove portion.

なお、グルーブには、アドレス信号用の凹凸を設ける
こともできる。
The grooves may be provided with irregularities for address signals.

本発明では、基板がグルーブを有する場合、記録光は
グルーブ内の記録層に照射されるよう構成されることが
好ましい。すなわち、本発明の光記録媒体は、グルーブ
記録の光記録媒体として用いられることが好ましい。グ
ルーブ記録とすることにより、記録層の有効厚さを大き
くすることができる。
In the present invention, when the substrate has a groove, it is preferable that the recording light be applied to the recording layer in the groove. That is, the optical recording medium of the present invention is preferably used as an optical recording medium for groove recording. By using groove recording, the effective thickness of the recording layer can be increased.

また、基板2上に図示しない樹脂層を例えば2P法によ
り設層して、樹脂層にトラッキング用の溝やアドレス信
号用の凹凸を設けてもよい。
Further, a resin layer (not shown) may be provided on the substrate 2 by, for example, the 2P method, and the resin layer may have grooves for tracking and unevenness for address signals.

樹脂層を構成する樹脂材質に特に制限はなく、いわゆ
る2P法に用いられる公知の樹脂から適宜に選択すればよ
いが、通常、放射線硬化型化合物が用いられる。
The material of the resin constituting the resin layer is not particularly limited, and may be appropriately selected from known resins used in the so-called 2P method. Usually, a radiation-curable compound is used.

記録層3は、後述の結合体を含有する。 The recording layer 3 contains a binder described below.

記録層3の記録光および再生光波長における消衰係数
(複素屈折率の虚部)kは、0.03〜0.25であることが好
ましい。
The extinction coefficient (imaginary part of the complex refractive index) k of the recording layer 3 at the wavelength of the recording light and the reproduction light is preferably 0.03 to 0.25.

kが0.03未満となると記録層の吸収率が低下し、通常
の記録パワーで記録を行なうことが困難である。
If k is less than 0.03, the absorptivity of the recording layer decreases, and it is difficult to perform recording with normal recording power.

また、kが0.25をこえると、反射率が60%を下回って
しまい、CD規格による再生を行なうことが困難である。
On the other hand, if k exceeds 0.25, the reflectivity falls below 60%, making it difficult to perform reproduction according to the CD standard.

この場合、kが0.04〜0.20、特に0.05〜0.15、さらに
は0.05〜0.12であると、きわめて好ましい結果をうる。
In this case, when k is 0.04 to 0.20, particularly 0.05 to 0.15, and even more preferably 0.05 to 0.12, a very preferable result is obtained.

また、屈折率(複素屈折率の実部)nは、1.8〜4.0よ
り好ましくは、2.2〜3.3であることが好ましい。
Further, the refractive index (the real part of the complex refractive index) n is preferably 1.8 to 4.0, more preferably 2.2 to 3.3.

n<1.8では反射率が低下し、CD規格による再生が困
難となる傾向にある。また、n>4.0とするためには、
原料色素の入手が難しい。
When n <1.8, the reflectivity tends to decrease, and it is difficult to reproduce data according to the CD standard. Also, in order to make n> 4.0,
It is difficult to obtain raw material dyes.

用いる結合体は、色素カチオンと、一重項酸素クエン
チャーアニオンとのイオン結合体である。
The conjugate used is an ionic conjugate of a dye cation and a singlet oxygen quencher anion.

用いる一重項酸素クエンチャーのアニオンは、ビスフ
ェニレンジチオールの銅錯体のアニオンであり、特に下
記式[I]で表わされるものの1種以上が好適である。
The anion of the singlet oxygen quencher used is an anion of a copper complex of bisphenylenedithiol, and one or more of those represented by the following formula [I] are particularly preferable.

式[I] 上記[I]において、R1〜R4は、それぞれ、水素原
子、好ましくは炭素原子数1〜8のアルキル基、ハロゲ
ン原子またはアミノ基もしくは炭素原子数1〜5のアル
キル基等によって置換されたアミノ基であることが好ま
しい。
Formula [I] In the above [I], R 1 to R 4 are each substituted by a hydrogen atom, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom or an amino group or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. It is preferably an amino group.

これらクエンチャーアニオンは、通常、4級アンモニ
ウムイオン等のカチオンを対イオンとして存在してい
る。そして、このようなクエンチャーは常法に従い容易
に合成することができる。
These quencher anions usually have a cation such as a quaternary ammonium ion as a counter ion. Such a quencher can be easily synthesized according to a conventional method.

以下に、式[I]で表わされるクエンチャーアニオン
を有するアニオン型クエンチャーの具体例を挙げる。
Hereinafter, specific examples of the anion-type quencher having the quencher anion represented by the formula [I] will be described.

なお、下記において、R1〜R4のうちのいずれかがHで
あるときには、表示しないものとする。
In the following, when any of R 1 to R 4 is H, it is not displayed.

このようなクエンチャーの単層膜は、記録・再生光波
長にて、0〜0.01程度のkを示す。
The single layer film of such a quencher exhibits a k of about 0 to 0.01 at the wavelength of the recording / reproducing light.

また、通常nは、1.5程度以上である。 Usually, n is about 1.5 or more.

本発明の結合体に用いる光吸収性のカチオン型の色素
としては、吸収極大が600〜900nm、好ましくは600〜800
nm、より好ましくは650〜750nmのカチオン型の色素であ
れば、他に特に制限はないが、シアニン系、ピリリウム
ないしチアピリリウム塩系、アズレニウム系等の1種な
いし2種以上が好ましい。
The light-absorbing cationic dye used in the conjugate of the present invention has an absorption maximum of 600 to 900 nm, preferably 600 to 800 nm.
There is no particular limitation as long as it is a cationic dye having a nm, more preferably 650 to 750 nm, but one or more of a cyanine-based dye, a pyrylium or thiapyrylium salt-based dye, and an azurenium-based dye are preferred.

これらのうちでは、シアニン色素、特に、インドレニ
ン環やベンゾインドレニン環を有するシアニン色素であ
ることが好ましい。
Among these, a cyanine dye, particularly a cyanine dye having an indolenine ring or a benzoindolenine ring is preferable.

これら色素カチオンとしては、特開昭60−159087号、
同60−162691号、同60−203488号、同60−163243号に開
示されているものはいずれも使用可能である。
As these dye cations, JP-A-60-159087,
Any of those disclosed in JP-A-60-162691, JP-A-60-203488, and JP-A-60-163243 can be used.

以下に、特に好適な色素カチオンを有する色素の具体
例を挙げる。
Hereinafter, specific examples of particularly preferable dyes having dye cations will be described.

これら色素カチオンは、各種酸アニオンと結合してカ
チオン型色素を構成する。
These dye cations combine with various acid anions to form a cationic dye.

このようなカチオン型色素とアニオン型クエンチャー
とは、上記公報に記載の方法により、容易に色素カチオ
ンとクエンチャーアニオンとの結合体として合成され
る。
Such a cationic dye and an anionic quencher are easily synthesized as a conjugate of a dye cation and a quencher anion by the method described in the above publication.

以下に、本発明の結合体の具体例を挙げる。 Hereinafter, specific examples of the conjugate of the present invention will be described.

なお、例えば上記クエンチャーQ1のアニオンをQ-1、
色素D1のカチオンをD+1等として表わす。
In addition, for example, the anion of the quencher Q1 is Q - 1,
The cation of dye D1 is represented as D + 1 and the like.

これら結合体は、単独で、上記範囲のnおよびkとす
ることができる。
These conjugates can be alone in the above ranges of n and k.

そして、そのような結合体から記録層を形成してもよ
い。
Then, the recording layer may be formed from such a combination.

一方、色素カチオンの記録光および再生光に対するk
は、その骨格や置換基により0〜2程度まで種々変化し
ている。
On the other hand, k for the recording light and the reproduction light of the dye cation
Varies from 0 to about 2 depending on its skeleton and substituents.

このため、例えばkが0.03〜0.25のカチオン型色素を
選定して結合体を形成するに際しては、その骨格や置換
基に制限がある。
For this reason, for example, when a cation-type dye having a k of 0.03 to 0.25 is selected to form a conjugate, there are limitations on its skeleton and substituents.

この結果、塗布溶媒に制限を生じたり、基板材質によ
っては塗工できないこともある。
As a result, the coating solvent may be limited, or the coating may not be possible depending on the material of the substrate.

また、新たに分子設計を行なう場合、設計および合成
に大きな労力を必要とする。
In addition, when a new molecular design is performed, great effort is required for design and synthesis.

一方、本発明者らの実験によれば、2種以上の色素を
含有する混合色素層のkは、用いる各色素単独から構成
される色素層のkに応じ、その混合比にほぼ対応する値
になることが判明した。
On the other hand, according to the experiments of the present inventors, k of the mixed dye layer containing two or more kinds of dyes is a value substantially corresponding to the mixing ratio according to k of the dye layer composed of each dye used alone. It turned out to be.

従って、本発明では、記録層3は2種以上の色素カチ
オンから形成された結合体を相溶して形成されてもよ
い。
Therefore, in the present invention, the recording layer 3 may be formed by dissolving a conjugate formed from two or more dye cations.

この際、ほとんどの色素の混合系で混合比にほぼ比例
したkがえられるものである。すなわち、i種の結合体
の混合分率およびkをそれぞれCiおよびkiとしたとき、
kは、ほぼΣCikiとなる。従って、kの異なる結合体同
士を混合比を制御して混合することにより、所定のkを
もつ記録層を得ることができる。このため、きわめて広
い範囲の色素群の中から用いる色素を選択することがで
きる。
At this time, k is almost proportional to the mixing ratio in the mixed system of most of the dyes. That is, when the mixture fraction and k of the i kinds of conjugates are Ci and ki, respectively,
k is almost ΣCiki. Therefore, a recording layer having a predetermined k can be obtained by mixing the conjugates having different k's while controlling the mixing ratio. Therefore, a dye to be used can be selected from a very wide range of dye groups.

このことは、波長依存性の改善にも適用できる。半導
体レーザーの波長は通常±10nmの範囲にあり、市販のCD
プレーヤにおいては、770から790nmの範囲で反射率を70
%以上に確保する必要がある。
This can be applied to the improvement of the wavelength dependency. The wavelength of a semiconductor laser is usually in the range of ± 10 nm, and commercially available CD
For players, a reflectance of 70 from 770 to 790 nm
% Must be secured.

一般に色素のk値は大きな波長依存性をもつものが多
く、780nmでは適切な値であっても、770あるいは790nm
では大きくはずれてしまう場合が多い。このような場合
には、第二の色素を用いた結合体を混合することによっ
て、780±10nmの範囲で常に適切なnおよびk値が得ら
れるように設定することができる。
In general, the k value of the dye often has a large wavelength dependence, and even if it is an appropriate value at 780 nm, it is 770 or 790 nm.
In many cases, it will deviate greatly. In such a case, by mixing the conjugate using the second dye, it can be set so that appropriate n and k values are always obtained in the range of 780 ± 10 nm.

この結果、塗布溶媒等の制約など成膜法に制限はなく
なり、また、合成が容易で安価な色素の使用や、特性の
良好な色素の使用や、難溶性の色素の使用をも可能とす
ることができる。
As a result, there is no limitation on the film forming method such as restrictions on the coating solvent and the like, and it is also possible to use an inexpensive dye that is easy to synthesize, to use a dye having good characteristics, and to use a hardly soluble dye. be able to.

記録層3に2種以上の結合体を用いる場合、用いる結
合体は、n=1.6〜6.5、k=0〜2の範囲内のものから
選択すればよい。
When two or more binders are used for the recording layer 3, the binder to be used may be selected from those in the range of n = 1.6 to 6.5 and k = 0 to 2.

この際、特に互いに縮合状態の異なるインドレニン環
を有するか、あるいは、メチン鎖長の異なる2種以上の
インドレニン系シアニン色素カチオンを有する2種以上
の結合体を用いることが好ましい。
In this case, it is particularly preferable to use two or more kinds of conjugates having indolenine rings having different condensed states or having two or more kinds of indolenine cyanine dye cations having different methine chain lengths.

なお、nおよびkの測定に際しては、所定の透明基板
上に記録層を例えば400〜800Å程度の厚さに実際の条件
にて設層して、測定サンプルを作製する。次いで、基板
を通しての、あるいは記録層側からの反射率を測定す
る。
When measuring n and k, a recording sample is prepared by forming a recording layer on a predetermined transparent substrate to a thickness of, for example, about 400 to 800 mm under actual conditions. Next, the reflectance through the substrate or from the recording layer side is measured.

反射率は記録再生光波長を用いて鏡面反射(5゜程
度)にて測定する。また、サンプルの透過率を測定す
る。
The reflectance is measured by specular reflection (about 5 °) using the recording / reproducing light wavelength. Also, the transmittance of the sample is measured.

これらの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒
浩三P168〜178に準じ、n、kを算出すればよい。
From these measured values, for example, n and k may be calculated according to Kyoritsu Zensho “Optics” Kozo Ishiguro, pages 168 to 178.

本発明の記録層は、これら本発明の結合体の1種ない
し2種以上から形成されてもよいが、この他、他の光吸
収性の色素や、クエンチャーや、結合体が含有されてい
てもよい。
The recording layer of the present invention may be formed from one or more of these conjugates of the present invention, but may also contain other light-absorbing dyes, quencher, or conjugate. You may.

ただし、本発明の結合体は、総計で記録層の80〜100
重量%を占めていることが好ましい。
However, the conjugate of the present invention has a total of 80 to 100 of the recording layer.
It preferably occupies by weight.

併用できる光吸収性の色素としては、吸収極大が600
〜900nm、好ましくは600〜800nm、より好ましくは650〜
750nmであれば、他に特に制限はないが、シアニン系、
フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アントラキノ
ン系、アゾ系、トリフェニルメタン系、ピリリウムない
しチアピリリウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウ
ム系、金属錯体色素系等の1種ないし2種以上が好まし
い。
As a light-absorbing dye that can be used in combination, the absorption maximum is 600
~ 900nm, preferably 600 ~ 800nm, more preferably 650 ~
If it is 750 nm, there is no particular limitation, but cyanine-based,
One or more of phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, anthraquinone-based, azo-based, triphenylmethane-based, pyrylium or thiapyrylium salt-based, squarylium-based, croconium-based, and metal complex dye-based pigments are preferred.

シアニン色素としては、インドレニン環、特にベンゾ
インドレニン環を有するシアニン色素であることが好ま
しい。
The cyanine dye is preferably a cyanine dye having an indolenine ring, particularly a benzoindolenine ring.

併用できるクエンチャーとしては、アセチルアセトナ
ート系、ビスジチオ−α−ジケトン系や上記式[I]の
ビスフェニレンジチオール系などのビスジチオール系、
チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チ
オビスフェノレート系等の金属錯体が好ましい。
Examples of quenchers that can be used in combination include bisacetylthionates, bisdithio-α-diketones, and bisdithiol compounds such as the bisphenylenedithiol compound of the above formula [I].
Metal complexes such as thiocatechol, salicylaldehyde oxime, and thiobisphenolate are preferred.

また、窒素のラジカルカチオンを有するアミン系化合
物やヒンダードアミン等のアミン系のクエンチャーも好
適である。
Further, amine quencher such as amine compound having nitrogen radical cation or hindered amine is also suitable.

他の結合体を併用する場合、結合体を構成する色素と
しては、インドレニン環を有するシアニン色素が、また
クエンチャーとしてはビスフェニレンジチオール金属錯
体等の金属錯体色素が好ましい。
When another conjugate is used in combination, a cyanine dye having an indolenine ring is preferable as a dye constituting the conjugate, and a metal complex dye such as a bisphenylenedithiol metal complex is preferable as a quencher.

好ましい色素、クエンチャー、結合体の詳細について
は特開昭59−24692号、同59−55794号、同59−55795
号、同59−81194号、同59−83695号、同60−18387号、
同60−19586号、同60−19587号、同60−35054号、同60
−36190号、同60−36191号、同60−44554号、同60−445
55号、同60−44389号、同60−44390号、同60−47069
号、同60−20991号、同60−71294号、同60−54892号、
同60−71295号、同60−71296号、同60−73891号、同60
−73892号、同60−73893号、同60−83892号、同60−854
49号、同60−92893号、同60−159087号、同60−162691
号、同60−203488号、同60−201988号、同60−234886
号、同60−234892号、同60−16894号、同61−11292号、
同61−11294号、同61−16891号、同61−8384号、同61−
14988号、同61−163243号、同61−210539号、特願昭60
−54013号、特開昭62−30088号、同62−32132号、同62
−31792号、CMC出版刊「機能性色素の化学」P74〜76等
に記載されている。
Details of preferred dyes, quencher and conjugates are described in JP-A-59-24692, JP-A-59-55794, and JP-A-59-55795.
Nos. 59-81194, 59-83695, 60-18387,
No. 60-19586, No. 60-19587, No. 60-35054, No. 60
-36190, 60-36191, 60-44554, 60-445
No. 55, No. 60-44389, No. 60-44390, No. 60-47069
No. 60-20991, No. 60-71294, No. 60-54892,
No. 60-71295, No. 60-71296, No. 60-73891, No. 60
No. 73892, No. 60-73893, No. 60-83892, No. 60-854
No. 49, No. 60-92893, No. 60-159087, No. 60-162611
No. 60-203488, No. 60-201988, No. 60-234886
No. 60-234892, No. 60-16894, No. 61-11292,
No. 61-11294, No. 61-16891, No. 61-8384, No. 61-
No. 14988, No. 61-163243, No. 61-210539, Japanese Patent Application No. 60
-54013, JP-A-62-30088, JP-A-62-32132 and 62
No.-31792, published in CMC, "Functional Dye Chemistry", pp. 74-76.

このような記録層3の厚さは、500〜2000Åとするこ
とが好ましい。この範囲外では反射率が低下して、CD規
格の再生を行なうことが難しくなる。
It is preferable that the thickness of such a recording layer 3 be 500 to 2000 °. Outside of this range, the reflectivity decreases and it becomes difficult to perform reproduction according to the CD standard.

記録層3の設層方法に特に制限はないが、本発明で
は、色素選択や、媒体設計や、製造上の自由度や容易さ
がより拡大する点で、塗布によって設層することが好ま
しい。
The method of forming the recording layer 3 is not particularly limited. However, in the present invention, it is preferable to form the recording layer 3 by coating from the viewpoint that the degree of freedom and easiness in selecting a dye, designing a medium, and manufacturing is further increased.

記録層3の塗設には、ケトン系、エステル系、エーテ
ル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系、アルコール系
等の各種溶媒を用いることができ、溶媒選択の自由度も
大きい。塗布には、スピンコート等を用いればよい。
Various solvents such as ketones, esters, ethers, aromatics, alkyl halides, and alcohols can be used for coating the recording layer 3, and the degree of freedom in selecting a solvent is large. Spin coating or the like may be used for application.

なお、記録層3は、場合によっては、蒸着膜によって
形成されてもよい。
Note that the recording layer 3 may be formed by a vapor deposition film in some cases.

このような記録層3には、直接密着して反射層4が設
層される。
On such a recording layer 3, a reflective layer 4 is provided in close contact with the recording layer.

反射層4としては、Au、AlMg合金、AlNi合金、Ag、Pt
およびCu等の高反射率金属を用いればよいが、これらの
うちでは反射率が特に高いことからAu、AlMg合金および
AlNi合金のいずれかを用いることが好ましい。なお、Al
Mg合金中のMg含有率は3〜7wt%程度が好ましい。ま
た、AlNi合金中のNi含有率は3〜4wt%程度が好まし
い。
Au, AlMg alloy, AlNi alloy, Ag, Pt
And high reflectivity metals such as Cu may be used.Among these, Au, AlMg alloy and
It is preferable to use any of the AlNi alloys. In addition, Al
The Mg content in the Mg alloy is preferably about 3 to 7% by weight. The Ni content in the AlNi alloy is preferably about 3 to 4 wt%.

反射層4の厚さは500Å以上であることが好ましく、
蒸着、スパッタ等により設層すればよい。また、厚さの
上限に特に制限はないが、コスト、生産作業時間等を考
慮すると、1000Å程度以下であることが好ましい。
The thickness of the reflective layer 4 is preferably 500 mm or more,
The layers may be formed by vapor deposition, sputtering, or the like. The upper limit of the thickness is not particularly limited, but is preferably about 1000 mm or less in consideration of cost, production operation time, and the like.

これにより、媒体の未記録部の基板をとおしての反射
率は、60%以上、特に70%以上がえられる。
As a result, the reflectivity of the unrecorded portion of the medium through the substrate can be 60% or more, particularly 70% or more.

反射層4上には、保護膜5が設層される。 On the reflective layer 4, a protective film 5 is provided.

保護膜5は、例えば紫外線硬化樹脂等の各種樹脂材質
から、通常は、0.1〜100μm程度の厚さに設層すればよ
い。保護膜5は、層状であってもシート状であってもよ
い。
The protective film 5 may be formed of various resin materials such as an ultraviolet-curing resin, for example, to a thickness of usually about 0.1 to 100 μm. The protective film 5 may be in the form of a layer or a sheet.

保護膜5は、特に放射線硬化型化合物および光重合増
感剤を含有する塗膜を放射線硬化したものであることが
好ましい。
The protective film 5 is preferably a radiation-cured coating film containing a radiation-curable compound and a photopolymerization sensitizer.

そして、保護膜5の硬度が、25℃における鉛筆硬度
(JIS K−5400)で、H〜8H、特に2H〜7Hであるよう
に構成されることが好ましい。
Then, it is preferable that the hardness of the protective film 5 is H to 8H, particularly 2H to 7H in pencil hardness (JIS K-5400) at 25 ° C.

このように構成することにより、ジッターが格段と減
少する。
With this configuration, the jitter is significantly reduced.

また、高温・高湿あるいは温湿度変化条件下の保存に
おいても、保護膜と反射層との剥離が生じない。
In addition, the protective film and the reflective layer do not peel off during storage under high-temperature, high-humidity or temperature-humidity change conditions.

より具体的には、保護膜の硬度がHより軟らかいとジ
ッターが増大し、8Hより硬くなると塗膜がもろくなり膜
形成能が低下する他、反射層との接着力が低下する。
More specifically, when the hardness of the protective film is softer than H, the jitter increases, and when it is harder than 8H, the coating film becomes brittle and the film-forming ability decreases, and also the adhesive strength with the reflective layer decreases.

このような保護膜形成に用いる放射線硬化型化合物に
は、オリゴエステルアクリレートが含まれることが好ま
しい。
The radiation-curable compound used for forming such a protective film preferably contains an oligoester acrylate.

オリゴエステルアクリレートは、アクリレート基また
はメタクリレート基を複数有するオリゴエステル化合物
である。そして好ましいオリゴステルアクリレートとし
ては、分子量1000〜10000、好ましくは2000〜7000であ
って、重合度2〜10、好ましくは、3〜5のものが挙げ
られる。また、これらのうちアクリレート基またはメタ
クリレート基を2〜6個、好ましくは3〜6個有する多
官能オリゴエステルアクリレートが好ましい。
The oligoester acrylate is an oligoester compound having a plurality of acrylate groups or methacrylate groups. Preferred oligosteracrylates include those having a molecular weight of 1,000 to 10,000, preferably 2,000 to 7,000, and a degree of polymerization of 2 to 10, preferably 3 to 5. Of these, polyfunctional oligoester acrylates having 2 to 6, preferably 3 to 6, acrylate or methacrylate groups are preferred.

多官能オリゴエステルアクリレートとしてはアロニッ
クスM−7100、M−5400、M−5500、M−5700、M−62
50、M−6500、M−8030、M−8060、M−8100等(東亜
合成化学社製)として市販されているものを用いること
ができ、これらは下記式(A)、(B)で示されるもの
である。
Multifunctional oligoester acrylates include Aronix M-7100, M-5400, M-5500, M-5700, and M-62.
Commercially available products such as 50, M-6500, M-8030, M-8060, and M-8100 (manufactured by Toagosei Chemical Co., Ltd.) can be used, and these are represented by the following formulas (A) and (B). It is what is done.

(A) (B) A−M−N−M−A A:アクリレート基またはメタクリレート基、M:2価ア
ルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、1,6−ヘキサングリコール、ビスフェノール
A等)残基、N:2塩基酸(例えば、テレフタル酸、イソ
フタル酸、アジピン酸、コハク酸等)残基、n:1〜10、
好ましくは2〜5 これらのうちでは、(A)で示されるものが好まし
い。
(A) (B) AMN n- MA A: an acrylate group or a methacrylate group, M: a dihydric alcohol (eg, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,6-hexane glycol, bisphenol A, etc.) residue, N: Dibasic acid (e.g., terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, succinic acid, etc.) residue, n: 1 to 10,
Preferably 2-5 Of these, those represented by (A) are preferred.

このようなオリゴエステルアクリレートは単独で使用
してもよい。
Such an oligoester acrylate may be used alone.

また、他の放射線硬化型化合物を併用してもよい。そ
のような場合、オリゴエステルアクリレートは、放射線
硬化型化合物中20wt%以上存在することが好ましい。
Further, another radiation-curable compound may be used in combination. In such a case, the oligoester acrylate is preferably present in the radiation-curable compound in an amount of 20% by weight or more.

上記のオリゴエステルアクリレートには、他の放射線
硬化型化合物を併用することができ、このようなものと
しては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結
合等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分子
中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポ
リマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に
3官能以上であることが好ましい。
Other radiation-curable compounds can be used in combination with the above-mentioned oligoester acrylates, such as acrylic acid and methacrylic acid having an unsaturated double bond that is sensitive to ionization energy and exhibits radical polymerizability. Groups that are crosslinked or polymerized by irradiation such as acrylic double bonds such as acids or their ester compounds, allyl double bonds such as diallyl phthalate, unsaturated double bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives, etc. And monomers, oligomers and polymers containing or introduced in the molecule. These are preferably polyfunctional, particularly preferably trifunctional or higher.

放射線硬化型モノマーとしては、分子量2000未満の化
合物が、オリゴマーとしては分子量2000〜10000のもの
が用いられる。
As the radiation-curable monomer, a compound having a molecular weight of less than 2,000 is used, and as the oligomer, one having a molecular weight of 2,000 to 10,000 is used.

これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールメタクリレート、1,6−ヘキサングリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサングリコールジメ
タクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとし
ては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(メタ
クリレート)、ペンタエリスリトールアクリレート(メ
タクリレート)、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(メタクリレート)、トリメチロールプロパンジア
クリレート(メタクリレート)、ウレタンエラストマー
(ニッポラン4040)のアクリル変性体、あるいはこれら
のものにCOOH等の官能基が導入されたもの、フェノール
エチレンオキシド付加物のアクリレート(メタクリレー
ト)、下記一般式で示されるペンタエリスリトール縮合
環にアクリル基(メタクリル基)またはε−カプロラク
トン−アクリル基のついた化合物、 式中、m=1、a=2、b=4の化合物(以下、特殊
ペンタエリスリトール縮合物Aという)、 m=1、a=3、b=3の化合物(以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Bという)、 m=1、a=6、b=0の化合物(以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Cという)、 m=1、a=6、b=0の化合物(以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Dという)、 および下記一般式で示される特殊アクリレート類等が
挙げられる。
These also include styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol methacrylate, 1,6-hexane glycol diacrylate, 1,6-hexane glycol dimethacrylate, etc. Examples thereof include pentaerythritol tetraacrylate (methacrylate), pentaerythritol acrylate (methacrylate), trimethylolpropane triacrylate (methacrylate), trimethylolpropane diacrylate (methacrylate), an acrylic modified product of urethane elastomer (Nipporan 4040), or these. Products with functional groups such as COOH, phenol ethylene oxide adducts Acrylate (methacrylate), pentaerythritol fused ring acrylic group (methacryl group) represented by the following general formula or ε- caprolactone - compound with a acryl group, In the formula, a compound of m = 1, a = 2, b = 4 (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate A), a compound of m = 1, a = 3, b = 3 (hereinafter, special pentaerythritol condensate B) A compound of m = 1, a = 6, b = 0 (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate C), a compound of m = 1, a = 6, b = 0 (hereinafter, special pentaerythritol condensate D) And special acrylates represented by the following general formula.

1)(CH2=CHCOOCH2−CCH2OH (特殊アクリレートA) 2)(CH2=CHCOOCH2−CCH2OH (特殊アクリレートB) 3)[CH2=CHCO(OC3H6−OCH2−CCH2CH3 (特殊アクリレートC) 8)CH2=CHCOO−(CH2CH2O)−OCCH=CH2 (特殊アクリレートH) また、放射線硬化型オリゴマーとしては、ウレタンエ
ラストマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものに
COOH等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。
1) (CH 2 = CHCOOCH 2 ) 3 -CCH 2 OH ( special acrylate A) 2) (CH 2 = CHCOOCH 2) 3 -CCH 2 OH ( special acrylate B) 3) [CH 2 = CHCO (OC 3 H 6 ) n -OCH 2] 3 -CCH 2 CH 3 ( special acrylate C) 8) CH 2 = CHCOO- (CH 2 CH 2 O) 4 -OCCH = CH 2 ( special acrylate H) As the radiation-curable oligomer, an acrylic modified urethane elastomer, or these materials may be used.
Examples include those into which a functional group such as COOH has been introduced.

また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて
熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによって得られ
る放射線硬化型化合物を用いてもよい。
Further, a radiation-curable compound obtained by subjecting a thermoplastic resin to radiation-sensitive modification in addition to or instead of the above-mentioned compounds may be used.

このような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジ
カル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、
メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなア
リル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不
飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する
基を熱可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂
である。
Specific examples of such a radiation-curable resin include acrylic acid having an unsaturated double bond showing radical polymerizability,
Radical irradiation-crosslinking or polymerizing groups such as acrylic double bonds such as methacrylic acid or their ester compounds, allyl double bonds such as diallyl phthalate, and unsaturated bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives. Is contained or introduced in the molecule of the thermoplastic resin.

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例とし
ては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエステル樹脂、
ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ
キシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができる。
Examples of thermoplastic resins that can be modified into radiation-curable resins include vinyl chloride copolymers, saturated polyester resins,
Examples thereof include a polyvinyl alcohol resin, an epoxy resin, a phenoxy resin, and a cellulose derivative.

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂と
しては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステ
ル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PVP
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有
効である。
Other resins that can be used for radiation-sensitive modification include polyfunctional polyester resins, polyetherester resins, polyvinylpyrrolidone resins and derivatives (PVP
An olefin copolymer), a polyamide resin, a polyimide resin, a phenol resin, a spiroacetal resin, an acrylic resin containing at least one hydroxyl group-containing acrylic ester and methacrylic ester as a polymerization component are also effective.

このような放射線硬化型化合物の保護膜の膜厚は0.1
〜30μm、より好ましくは1〜10μmである。
The thickness of the protective film of such a radiation-curable compound is 0.1
-30 μm, more preferably 1-10 μm.

この膜厚が0.1μm未満になると、一様な膜を形成し
にくく、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でな
く、記録層の耐久性が下がる。
When the thickness is less than 0.1 μm, it is difficult to form a uniform film, the moisture-proof effect in a high humidity atmosphere is not sufficient, and the durability of the recording layer is reduced.

しかも、ジッター防止効果が低下する。 In addition, the effect of preventing jitter is reduced.

また、30μmをこえると、樹脂膜の硬化の際に伴う収
縮により記録媒体の反りや保護膜中のクラックが生じや
すい。
On the other hand, if the thickness exceeds 30 μm, warpage of the recording medium and cracks in the protective film are likely to occur due to shrinkage of the resin film upon curing.

このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビ
ア塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知
の方法を組み合わせて設層すればよい。この時の塗膜の
設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的とする塗膜
厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。
Such a coating film may be usually formed by combining various known methods such as spinner coating, gravure coating, spray coating, and dipping. The conditions for forming the coating film at this time may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the mixture of the coating film composition, the desired thickness of the coating film, and the like.

本発明において塗膜に照射する放射線としては、紫外
線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ましい。
In the present invention, examples of the radiation applied to the coating film include an ultraviolet ray and an electron beam, and an ultraviolet ray is preferable.

紫外線を用いる場合には、前述したような放射線硬化
型化合物の中には、通常、光重合増感剤が加えられる。
When ultraviolet rays are used, a photopolymerization sensitizer is usually added to the radiation-curable compound as described above.

本発明に用いる光重合増感剤としては、下記一般式
(I)で表わされる化合物が好ましい。このものを、多
官能オリゴエステルアクリレートと用いることにより、
前記の硬度が容易に得られ、膜物性も良好となる。
As the photopolymerization sensitizer used in the present invention, a compound represented by the following general formula (I) is preferable. By using this with a polyfunctional oligoester acrylate,
The hardness described above is easily obtained, and the physical properties of the film are improved.

そして、接着剤層との剥離も少なくなり、耐久性、耐
湿性も良好となる。
And peeling from the adhesive layer is reduced, and durability and moisture resistance are improved.

一般式(I) 上記一般式(I)において、Rは炭素数1〜4の置換
もしくは非置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等を表わし、なかでもメチル
基、エチル基等が好ましい。
General formula (I) In the general formula (I), R represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and the like, and among them, a methyl group, an ethyl group and the like are preferable. .

Lは炭素数1〜3の置換もしくは非置換のアルキレン
基、例えば−CH2−、 等を表わし、なかでも が好ましい。
L is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, for example -CH 2 -, Etc., among others Is preferred.

Yは、複素環基、例えばモルホリノ基、2−モルホリ
ニル基、、ピペリジノ基、4−ピペリジニル基、2−ピ
リジル基、2−キノリル基、1−ピロリジニル基、1−
ピロリル基、2−チエニル基、2−フリル基等を表わ
し、なかでもモルホリノ基が好ましい。
Y is a heterocyclic group such as morpholino, 2-morpholinyl, piperidino, 4-piperidinyl, 2-pyridyl, 2-quinolyl, 1-pyrrolidinyl, 1-
It represents a pyrrolyl group, a 2-thienyl group, a 2-furyl group or the like, and among them, a morpholino group is preferable.

RS−は、一般式(I)中のベンゼン環の置換可能ない
ずれの位置でベンゼン環と結合してもよいが、 のp位であることが好ましい。
RS- may be bonded to the benzene ring at any substitutable position of the benzene ring in the general formula (I), Is preferably the p-position.

本発明において、一般式(I)で表わされる化合物の
うちで、最も好ましいものは以下のものである。
In the present invention, among the compounds represented by the general formula (I), the most preferred are the following.

化合物A この化合物Aは、IRGACURE907(日本チバガイギー社
製)として市販されているものである。
Compound A This compound A is commercially available as IRGACURE907 (manufactured by Nippon Ciba Geigy).

一般式(I)で表わされる化合物は、放射線硬化の際
光重合開始剤ないし光重合増感剤として作用するもので
ある。
The compound represented by the general formula (I) functions as a photopolymerization initiator or a photopolymerization sensitizer during radiation curing.

このような化合物の有機保護コート層における含有量
は、0.1〜20wt%、好ましくは1〜10wt%とするのがよ
い。
The content of such a compound in the organic protective coat layer is 0.1 to 20% by weight, preferably 1 to 10% by weight.

0.1wt%未満では光重合開始剤ないし光重合増感剤と
しての作用が十分ではないからであり、20wt%をこえる
と残存する光重合開始剤ないし光重合増感剤が記録層に
浸透し、記録層に悪影響を与えるからである。
If the amount is less than 0.1 wt%, the action as a photopolymerization initiator or a photopolymerization sensitizer is not sufficient. If the content exceeds 20 wt%, the remaining photopolymerization initiator or photopolymerization sensitizer permeates the recording layer, This is because it adversely affects the recording layer.

また、光重合増感剤としては、必要に応じ前記の一般
式(I)で表わされる化合物の他に、次のような公知の
ものが併用できる。
As the photopolymerization sensitizer, the following known compounds can be used in combination with the compound represented by the above general formula (I), if necessary.

例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシ
ベンゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセト
フェノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケ
トン類、アセトラキノン、フェナントラキノン等のキノ
ン類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモ
ノスルフィド等のスルフィド類等を挙げることができ
る。
For example, benzoin compounds such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, α-methylbenzoin, α-chlordeoxybenzoin, ketones such as benzophenone, acetophenone and bisdialkylaminobenzophenone, quinones such as acetolaquinone and phenanthraquinone, and benzyl disulfide And sulfides such as tetramethylthiuram monosulfide.

そして、このような光重合増感剤と放射線硬化型化合
物を含有する塗膜を紫外線によって硬化させるには、公
知の種々の方法に従えばよい。
In order to cure the coating film containing the photopolymerization sensitizer and the radiation-curable compound with ultraviolet rays, various known methods may be used.

たとえば、キセノン放電管、水素放電管などの紫外線
電球等を用いればよい。
For example, an ultraviolet light bulb such as a xenon discharge tube and a hydrogen discharge tube may be used.

また、場合によっては電子線を用いることもできる。 In some cases, an electron beam can be used.

このような保護膜5上には、さらに層状ないしシート
状の樹脂製の保護層が設けられていてもよい。
On such a protective film 5, a layered or sheet-shaped resinous protective layer may be further provided.

反射層4上および/または記録層3・反射層4間に
は、さらに他のジッター防止膜が設けられてもよい。
Another anti-jitter film may be provided on the reflection layer 4 and / or between the recording layer 3 and the reflection layer 4.

このようなジッター防止膜としては、プラズマ重合膜
または無機質薄膜があり、反射層4上に設けるときに
は、それ自体保護膜として機能させても、その上にさら
に保護膜を形成してもよい。
As such a jitter prevention film, there is a plasma polymerized film or an inorganic thin film. When provided on the reflective layer 4, the film itself may function as a protective film or a protective film may be further formed thereon.

ジッター防止膜5は、0.05μm以上、特に0.1〜10μ
mの厚さであることが好ましい。
The anti-jitter film 5 has a thickness of 0.05 μm or more, particularly 0.1 to 10 μm.
Preferably, the thickness is m.

膜厚が薄すぎると、ジッター防止の効果が低下し、厚
すぎると、CD規格からはずれたり、コスト高となり、膜
厚にみあった効果がえられない。
If the film thickness is too thin, the effect of preventing jitter is reduced. If the film thickness is too thick, it deviates from the CD standard or the cost increases, and the effect corresponding to the film thickness cannot be obtained.

用いるプラズマ重合膜としては、公知のプラズマ重合
膜いずれであってもよく、Cを含み、これに加え、H、
O、C、F等のハロゲン、Si、N等の種々の元素を含
むものであってよい。
The plasma-polymerized film to be used may be any of known plasma-polymerized films, including C, and in addition to H,
It may contain halogens such as O, C and F, and various elements such as Si and N.

これらのうちではC、Hと必要に応じSiおよびOの1
種以上とを含むものが好ましい。
Of these, C and H and, if necessary, one of Si and O
Those containing at least one species are preferred.

この際ソースガスやプラズマ重合条件等は公知のもの
を用いればよい。
At this time, known sources and conditions for plasma polymerization may be used.

これらプラズマ重合膜は実質的に透明であるので、反
射層の上層、下層いずれに設層してもよい。
Since these plasma polymerized films are substantially transparent, they may be provided on either the upper layer or the lower layer of the reflective layer.

一方、用いる無機質膜としても種々の無機化合物であ
ってよく、酸化物、窒化物、炭化物、ケイ化物等の1種
以上を含有するものであってさらに記録層3と反射層4
との間には、密着して接着層を設けてもよい。
On the other hand, various inorganic compounds may be used as the inorganic film. The inorganic film contains one or more of oxides, nitrides, carbides, silicides, and the like.
And an adhesive layer may be provided in close contact therewith.

接着層は、有機シリケート化合物、有機チタネート化
合物、有機アルミネート化合物もしくは有機ジルコネー
ト化合物の加水分解縮合物またはSi、Ti、AlもしくはZr
のハロゲン化物の加水分解縮合物を含有することが好ま
しい。
The adhesive layer is composed of a hydrolytic condensate of an organic silicate compound, an organic titanate compound, an organic aluminate compound or an organic zirconate compound, or Si, Ti, Al or Zr.
It is preferable to contain a hydrolysis-condensation product of a halide.

用いる有機チタネート化合物としては、公知の種々の
化合物が使用可能であるが、特にアルキルチタン酸エス
テル、置換アルキルチタン酸エステル、アルケニルチタ
ン酸エステルまたは置換アルケニルチタン酸エステルが
好ましい。
As the organic titanate compound to be used, various known compounds can be used, and an alkyl titanate, a substituted alkyl titanate, an alkenyl titanate or a substituted alkenyl titanate is particularly preferable.

また、有機ジルコネート化合物としては、公知の種々
の化合物が使用可能であるが、特にアルキルジルコン酸
エステル、置換アルキルジルコン酸エステル、アルケニ
ルジルコン酸エステルまたは置換アルケニルジルコン酸
エステルが好ましい。
As the organic zirconate compound, various known compounds can be used, and particularly, an alkyl zirconate, a substituted alkyl zirconate, an alkenyl zirconate or a substituted alkenyl zirconate is preferred.

また、有機アルミネート化合物としては、アルミニウ
ムアルコキシド、アルミニウムキレート化合物が好まし
い。
As the organic aluminate compound, an aluminum alkoxide and an aluminum chelate compound are preferable.

これらのうち、特に好適に使用できるのは、下記構造
式をもつものである。
Among them, those having the following structural formula can be particularly preferably used.

M(OR1)(OR2)(OR3)(OR4) Al(OR1)(OR2)(OR3) ここに、Mは、TiまたはZrを表わす。M (OR 1 ) (OR 2 ) (OR 3 ) (OR 4 ) Al (OR 1 ) (OR 2 ) (OR 3 ) Here, M represents Ti or Zr.

また、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ、水素原子、
または置換もしくは非置換のアルキル基もしくはアルケ
ニル基を表わす。ただし、R1〜R4のうち、少なくとも2
個以上は、水素原子ではなく、アルキル基またはアルケ
ニル基であることが好ましい。
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each a hydrogen atom,
Or a substituted or unsubstituted alkyl or alkenyl group. However, at least 2 out of R 1 to R 4
It is preferable that the number is not a hydrogen atom but an alkyl group or an alkenyl group.

また、置換または非置換のアルキル基またはアルケニ
ル基の炭素原子数は、2〜18であることが好ましい。
The substituted or unsubstituted alkyl or alkenyl group preferably has 2 to 18 carbon atoms.

なお、アルキル基またはアルケニル基を置換する基と
しては、カルボキシル基、アルキルカルボキシ基、ジ
(ヒドロキシアルキル)アミノ基等の置換アミノ基、ヒ
ドロキシル基、アルキルオキシカルボニル基などが好適
である。
In addition, as a group which substitutes an alkyl group or an alkenyl group, a substituted amino group such as a carboxyl group, an alkylcarboxy group, a di (hydroxyalkyl) amino group, a hydroxyl group, an alkyloxycarbonyl group, and the like are preferable.

以下に、好ましい有機チタネート化合物の具体例を挙
げる。
Hereinafter, specific examples of preferable organic titanate compounds will be described.

T1 テトラエチルチタネート T2 テトラプロピルチタネート T3 テトライソプロピルチタネート T4 テトラ(n−ブチル)チタネート T5 テトラ(イソブチル)チタネート T6 テトラ(sec−ブチル)チタネート T7 テトラ(tert−ブチル)チタネート T8 テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート T9 テトラステアリルチタネート T10 ヒドロキシチタニウムステアレート T11 イソプロポキシチタニウムステアレート T12 ヒドロキシチタニウムオレエート T13 イソプロポキシチタニウムオレエート T14 ジ−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトン)
チタネート T15 ジ−n−ブトキシ・ビス(トリエタノールアミ
ン)チタネート T16 ジヒドロキシ・ビス(ラクティックアシド)チタ
ネート T17 テトラオクチレングリコールチタネート T18 ジ−i−プロポキシ・ビス(アセト酢酸エチル)
チタネート また、好ましい有機ジルコネート化合物の具体例を挙
げる。
T1 tetraethyl titanate T2 tetrapropyl titanate T3 tetraisopropyl titanate T4 tetra (n-butyl) titanate T5 tetra (isobutyl) titanate T6 tetra (sec-butyl) titanate T7 tetra (tert-butyl) titanate T8 tetra (2-ethylhexyl) titanate T9 Tetrastearyl titanate T10 hydroxytitanium stearate T11 isopropoxytitanium stearate T12 hydroxytitanium oleate T13 isopropoxytitanium oleate T14 di-i-propoxy bis (acetylacetone)
Titanate T15 di-n-butoxy bis (triethanolamine) titanate T16 dihydroxy bis (lactic acid) titanate T17 tetraoctylene glycol titanate T18 di-i-propoxy bis (ethyl acetoacetate)
Titanate Specific examples of preferred organic zirconate compounds are also given.

テトラ−n−プロピルジルコネート、テトラ−i−プ
ロピルジルコネート,テトラ−n−ブチルジルコネー
ト、テトラ−i−ブチルジルコネート、ジルコニウムテ
トラアセチルアセトナート、ジルコニウム−2−エチル
ヘキソエート、ジルコニウムナフテン酸、ジアセテート
ジルコン酸など。
Tetra-n-propyl zirconate, tetra-i-propyl zirconate, tetra-n-butyl zirconate, tetra-i-butyl zirconate, zirconium tetraacetylacetonate, zirconium-2-ethylhexoate, zirconium naphthenic acid , Diacetate zirconic acid and the like.

また、好ましい有機アルミネート化合物の具体例を挙
げる。
Specific examples of preferred organic aluminate compounds will be given.

アルミニウム−i−プロピレート、モノ−sec−ブト
キシアルミニウムジイソオピレート、アルミニウム−se
c−ブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウム
ジイソプロピレート、アルミニウム(エチルアセトアセ
テート)など。
Aluminum-i-propylate, mono-sec-butoxyaluminum diisopropylate, aluminum-se
c-butyrate, ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum (ethyl acetoacetate) and the like.

有機シリケート化合物としては、アルキルケイ酸、特
に四低級アルキル(メチル、エチル)ケイ酸が好まし
い。
As the organic silicate compound, an alkyl silicic acid, particularly a tetra-lower alkyl (methyl, ethyl) silicic acid is preferred.

なお、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合
物、有機アルミネート化合物、有機シリケート化合物
は、塗布液中でオリゴマーやコロイド状縮合酸化物を形
成していてもよい。
The organic titanate compound, organic zirconate compound, organic aluminate compound, and organic silicate compound may form an oligomer or a colloidal condensed oxide in the coating solution.

ハロゲン化物としては、ハロゲン化ケイ素、特に四塩
化ケイ素が好ましい。
As the halide, silicon halide, particularly silicon tetrachloride, is preferable.

このような有機シリケート化合物、有機チタネート化
合物、有機アルミネート化合物、有機ジルコネート化合
物あるいはハロゲン化物を用いて接着層を形成するに
は、これらを、水、アルコール、ヘキサン、ベンゼン等
の溶媒、あるいはこれらの混合溶媒で希釈し、これを色
素層上に塗布し、放置して加水分解を行ない、縮合物を
得ればよい。
In order to form an adhesive layer using such an organic silicate compound, an organic titanate compound, an organic aluminate compound, an organic zirconate compound or a halide, these are formed by using a solvent such as water, alcohol, hexane, or benzene, or a solvent such as these. It may be diluted with a mixed solvent, applied to the dye layer, and left to hydrolyze to obtain a condensate.

接着層の塗布方法に特に制限はなく、スピンコート等
を用いればよい。
The method for applying the adhesive layer is not particularly limited, and spin coating or the like may be used.

接着層の厚さは、10〜300Å、特に20〜100Åであるこ
とが好ましい。厚さがこの範囲未満であると光学的に不
均一となる他、接着強度が不十分となる。また、この範
囲を超えると光学特性が変化してしまい、反射率、変調
度ともに大きくとることができなくなる。
The thickness of the adhesive layer is preferably from 10 to 300 °, particularly preferably from 20 to 100 °. If the thickness is less than this range, it will be optically non-uniform and the bonding strength will be insufficient. In addition, when the ratio exceeds this range, the optical characteristics change, and it becomes impossible to increase both the reflectance and the degree of modulation.

このような構成の光記録媒体1に記録ないし追記を行
なうには、例えば780nmの記録光を、基板2をとおして
パルス状に照射する。
To perform recording or additional recording on the optical recording medium 1 having such a configuration, recording light of, for example, 780 nm is irradiated through the substrate 2 in a pulsed manner.

これにより、記録層3が光を吸収して発熱し、同時に
基板2も加熱される。この結果、基板2と記録層3との
界面近傍において、色素等の記録層材質の融解や分解が
生じ、記録層3と基板2との界面に圧力が加わり、グル
ーブの底壁や側壁を変形させることがある。
Thereby, the recording layer 3 absorbs light and generates heat, and at the same time, the substrate 2 is also heated. As a result, in the vicinity of the interface between the substrate 2 and the recording layer 3, melting or decomposition of the recording layer material such as a dye occurs, pressure is applied to the interface between the recording layer 3 and the substrate 2, and the bottom and side walls of the groove are deformed. May be caused.

この場合記録層3の融解物や分解物を含有する分解物
層61が、通常グルーブ23の底部および境界を覆うような
形状に残存する。
In this case, the decomposed material layer 61 containing the melted or decomposed material of the recording layer 3 usually remains in a shape that covers the bottom and the boundary of the groove 23.

分解物層61の材質は、実質的に基板材質を含まない材
質であり、記録層材質の分解物あるいは記録層材質の分
解物と、記録層材質との混合物によって構成される。
The material of the decomposition layer 61 is substantially a material that does not include the material of the substrate, and is composed of a decomposition product of the recording layer material or a mixture of the decomposition material of the recording layer material and the recording layer material.

分解物層61は、記録層3の厚さの通常30〜90%程度の
厚さである。
The decomposition layer 61 is usually about 30 to 90% of the thickness of the recording layer 3.

そして、通常、分解物層61上には、反射層との界面に
空隙63が形成され、分解物層61と、空隙63とがピット部
6に形成される。
Then, usually, a void 63 is formed on the decomposed substance layer 61 at the interface with the reflective layer, and the decomposed substance layer 61 and the void 63 are formed in the pit portion 6.

空隙63は、記録層3の厚さの通常10〜70%程度の厚さ
である。
The gap 63 is usually about 10 to 70% of the thickness of the recording layer 3.

また、このような記録過程において、基板2は変形し
ない場合もあるが、通常、基板2のピット部6は、加熱
時の圧力によって凹状にへこむことになる。基板2のへ
こみ量は、ピット部6の寸法が大きい程大きく、通常0
〜300Å程度の深さである。
Further, in such a recording process, the substrate 2 may not be deformed, but the pit portion 6 of the substrate 2 is usually dented by the pressure at the time of heating. The dent amount of the substrate 2 is larger as the size of the pit portion 6 is larger.
The depth is about 300 mm.

また、空隙63上には、反射層4に密着して微少膜厚に
て記録層3ないしその分解物等が残存することもある。
Further, the recording layer 3 or a decomposition product thereof may be left on the gap 63 with a very small thickness in close contact with the reflection layer 4.

このように、ピット部6の基板2と記録層3との界面
部には、実質的に基板材質を含有しない層が形成され
る。
As described above, a layer substantially not containing the substrate material is formed at the interface between the substrate 2 and the recording layer 3 in the pit portion 6.

本発明者らは、ピット部6の基板2と記録層3間に基
板材質が含まれていないことを下記のように確認した。
The present inventors have confirmed that no substrate material is contained between the substrate 2 and the recording layer 3 in the pit portion 6 as follows.

まず、一定条件にて作製し、記録を行なった1枚の光
記録媒体1から、いくつかのサンプル片を用意し、各サ
ンプルから保護膜5と、反射層4とを剥離した。
First, several sample pieces were prepared from one optical recording medium 1 manufactured and recorded under a certain condition, and the protective film 5 and the reflective layer 4 were peeled from each sample.

次いで、基板2の表面をアルコール系の溶剤にて洗浄
した。
Next, the surface of the substrate 2 was washed with an alcohol-based solvent.

この場合、洗浄条件は、アルコール系の溶剤中にて軽
く揺らす程度の弱い洗浄と、超音波をかけながら洗浄す
る強い洗浄との2種類とした。
In this case, two types of cleaning conditions were used: weak cleaning in which the liquid was slightly shaken in an alcohol-based solvent, and strong cleaning in which ultrasonic cleaning was performed.

そして、洗浄後の基板2の走査型トンネル顕微鏡(ST
M)出力画像から基板2のグルーブ内の厚みを求めた。
Then, the scanning tunneling microscope (ST
M) The thickness in the groove of the substrate 2 was determined from the output image.

この結果、強い洗浄力を持つ超音波洗浄を行なったサ
ンプルの場合、基板2のピット部6は、平坦ないしへこ
んでいた。
As a result, in the case of the sample subjected to the ultrasonic cleaning having the strong cleaning power, the pit portion 6 of the substrate 2 was flat or dented.

これに対し、弱い洗浄力にて洗浄を行なったサンプル
の基板2のピット部6は盛り上がっていた。
On the other hand, the pit portion 6 of the substrate 2 of the sample which was cleaned with a weak cleaning power was raised.

これらの結果から、弱い洗浄力にて洗浄を行なったサ
ンプルの盛り上がって見える部分は、色素等の記録層材
質が熱を受けて分解したもの、つまり溶解度が低下した
記録層材質の分解物を含有する層であると考えられる。
From these results, the portion of the sample that was washed with a weak detergency appears to be raised, and the material of the recording layer, such as dye, was decomposed due to heat, that is, the degraded material of the recording layer material with reduced solubility was contained. Layer.

実際、これら洗浄後の残存物を液体クロマトグラフ
ィ、吸収スペクトル、FTIR、MAS等により測定した結
果、弱い洗浄力の場合にはピット底には分解物の存在
と、基板材質が含まれていないことが確認されている。
In fact, the residue after washing was measured by liquid chromatography, absorption spectrum, FTIR, MAS, etc.As a result, in the case of weak washing power, the presence of decomposed substances at the bottom of the pit and the absence of substrate material were confirmed. Has been confirmed.

このように、本発明のメカニズムは、日経エレクトロ
ニクス1989年1月23日号、No.465、P107に開示されてい
る提案、すなわち 「記録レーザ光を照射した際、色素層が融解ないし分解
するとともに基板も軟化して、色素材料と、基板材料と
が界面で混じり合い、ピット部が形成される。」 というメカニズムとは異なるものである。
As described above, the mechanism of the present invention is based on the proposal disclosed in Nikkei Electronics, January 23, 1989, No. 465, P107, that is, “When the recording laser beam is irradiated, the dye layer is melted or decomposed. The substrate is also softened, and the dye material and the substrate material are mixed at the interface to form a pit portion. "

そして、その結果、ピット形状が良好となり、S/N比
が向上するものである。
As a result, the pit shape is improved, and the S / N ratio is improved.

なお、記録光のパワーは5〜9mW程度、基板回転線速
度は1.2〜1.4m/s程度とする。
The power of the recording light is about 5 to 9 mW, and the substrate linear velocity is about 1.2 to 1.4 m / s.

このようにしてピット部6を形成したのち、例えば78
0nmの再生光を、基板2をとおして照射すると、ピット
部6により光の位相差を生じ、反射率が未飽和部分の60
%以下、特に50%以下、さらには40%以下に低下する。
After the pit portion 6 is formed in this way, for example, 78
When the reproduction light of 0 nm is irradiated through the substrate 2, a phase difference of the light is generated by the pit portion 6, and the reflectance is 60% of the unsaturated portion.
%, Especially 50% or less, and even 40% or less.

一方、未記録部では、60%以上、特に70%以上の高反
射率を示しているので、CD規格による再生が可能とな
る。
On the other hand, since the unrecorded portion has a high reflectance of 60% or more, particularly 70% or more, it can be reproduced according to the CD standard.

再生光のパワーは、0.1〜10mW程度とする。 The power of the reproduction light is about 0.1 to 10 mW.

<実施例> 実施例1 連続グルーブを有する120mmφ、厚さ1.2mmのポリカー
ボネート樹脂基板上に色素を含有する記録層を設層し
た。この記録層上に、蒸着によりAuを1000Å厚に設層し
て反射層とし、さらに、オリゴエステルアクリレートを
含有する紫外線硬化型樹脂を塗布した後紫外線硬化して
5μm厚の保護膜とし、光記録ディスクサンプルを得
た。
<Example> Example 1 A recording layer containing a dye was formed on a polycarbonate resin substrate having a continuous groove and a thickness of 120 mmφ and a thickness of 1.2 mm. On this recording layer, Au is deposited to a thickness of 1000 mm by vapor deposition to form a reflective layer. Further, an ultraviolet-curable resin containing oligoester acrylate is applied, and then ultraviolet-cured to form a protective film having a thickness of 5 μm. Disk samples were obtained.

各サンプルの記録層に含有される色素を下記に示す。 The dyes contained in the recording layer of each sample are shown below.

記録層の設層は、基板を500rpmで回転させながらスピ
ンコート塗布により行なった。塗布溶液としては、1.5w
t%メタノール溶液を用いた。乾燥後の色素層の厚さは1
300Åであった。
The recording layer was formed by spin coating while rotating the substrate at 500 rpm. As a coating solution, 1.5w
A t% methanol solution was used. Dye layer thickness after drying is 1
It was 300Å.

各サンプルの記録層が含有する色素およびその含有量
比と、記録層の屈折率(n)および消衰係数(k)と
を、下記表1に示す。
The dyes contained in the recording layer of each sample and the content ratio thereof, and the refractive index (n) and the extinction coefficient (k) of the recording layer are shown in Table 1 below.

nおよびkは、上記色素を含有する溶液を測定用基板
上に乾燥膜厚600Åに成膜して被検記録層とし、この被
検記録層のnおよびkを測定することにより求めた。な
お、この測定は、「光学」(石黒浩三著、共立全書)第
168〜178ページの記載に準じて行なった。また、上記色
素D1およびD2を含有する記録層の測定に際しては、溶媒
にメタノール、測定用基板にポリカーボネート基板を用
いた。
n and k were determined by forming a solution containing the above dye on a measurement substrate to a dry film thickness of 600 ° to form a test recording layer, and measuring n and k of the test recording layer. This measurement is based on “Optics” (Kozo Ishiguro, Kyoritsu Zensho)
Performed according to the description on pages 168 to 178. In the measurement of the recording layer containing the dyes D1 and D2, methanol was used as a solvent, and a polycarbonate substrate was used as a measurement substrate.

なお、保護膜は、下記の放射線硬化型化合物および光
重合増感剤を含む塗布組成物をスピンナーコートで設層
した。
The protective film was formed by spin-coating a coating composition containing the following radiation-curable compound and a photopolymerization sensitizer.

(塗布組成物) 多官能オリゴエステルアクリレート[オリゴエステル
アクリレート(3官能以上)30重量%、トリメチルプロ
パンアクリレート70重量%、商品名アロニックスM−80
30;東亜合成社製] 100重量部 光重合増感剤(前記化合物A:商品名IRGACURE907;日本チ
バガイギー社製) 5重量部 このような塗布組成物を設層後、120W/cmの紫外線を1
5sec照射し架橋硬化させ、硬化膜とした。
(Coating composition) Polyfunctional oligoester acrylate [oligoester acrylate (trifunctional or more) 30% by weight, trimethylpropane acrylate 70% by weight, trade name ARONIX M-80
30; manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.] 100 parts by weight Photopolymerization sensitizer (the compound A: trade name IRGACURE907; manufactured by Nippon Ciba Geigy Co., Ltd.) 5 parts by weight
Irradiation for 5 seconds was carried out to crosslink and cure to obtain a cured film.

この膜の鉛筆硬度は2Hであった。 The pencil hardness of this film was 2H.

得られた各サンプルに対し、波長780nm、7mWのレーザ
ーにてコンパクトディスク信号の記録を行ない、次いで
市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なった。
For each of the obtained samples, a compact disk signal was recorded by a laser having a wavelength of 780 nm and 7 mW, and then reproduced by a commercially available compact disk player.

この結果、サンプルNo.1ではS/N比が高く、良好な再
生を行なうことができた。
As a result, in Sample No. 1, the S / N ratio was high, and good reproduction could be performed.

次いで前記のサンプルNo.1から2枚のサンプル片を得
た。
Next, two sample pieces were obtained from the above sample No. 1.

そして、保護膜と、反射層とを剥離した後、基板の表
面を、メタノールを用いてそれぞれ異なる条件にて2分
間洗浄した。
After the protective film and the reflective layer were peeled off, the surface of the substrate was washed with methanol under different conditions for 2 minutes.

この場合、メタノール中にて軽く揺らす程度の弱い洗
浄を行なったものをサンプルNo.1−1とし、超音波をか
けながら強い洗浄を行なったものをサンプルNo.1−2と
する。
In this case, sample No. 1-1 has been subjected to weak washing with slight rocking in methanol, and sample No. 1-2 has been subjected to strong washing while applying ultrasonic waves.

洗浄後、基板表面に、膜厚100ÅのAu膜をスパッタリ
ングにて形成し、東洋テクニカ社から販売されている走
査型トンネル顕微鏡(STM)を用いて、両サンプルの表
面状態を画像化した。
After the cleaning, a 100-μm thick Au film was formed on the substrate surface by sputtering, and the surface state of both samples was imaged using a scanning tunneling microscope (STM) sold by Toyo Technica.

サンプルNo.1−1のSTM画像は第2図、サンプルNo.1
−2のSTM画像は第3図に示されるとおりである。
The STM image of Sample No. 1-1 is shown in Fig. 2, Sample No. 1
The STM image of -2 is as shown in FIG.

第2図および第3図から、弱い洗浄を行なったサンプ
ルNo.1−1は、グルーブ内はピット部の膜厚が厚く、強
い洗浄を行なったサンプルNo.1−2は、グルーブ内の膜
厚がほぼ一定であることが確認できる。
From FIGS. 2 and 3, it can be seen from FIG. 2 that sample No. 1-1 which underwent weak cleaning had a thick pit portion in the groove and sample No. 1-2 which underwent strong cleaning underwent the film within the groove. It can be confirmed that the thickness is almost constant.

また、グルーブ内の膜厚をより正確に確認するため、
グルーブに沿った断面における表面状態を示すグラフを
作製した。サンプルNo.1−1のグラフを第4図、サンプ
ルNo.1−2のグラフを第5図に示す。
Also, in order to check the film thickness in the groove more accurately,
A graph showing a surface state in a cross section along the groove was prepared. FIG. 4 shows a graph of sample No. 1-1, and FIG. 5 shows a graph of sample No. 1-2.

グラフの縦軸は基準面からの基板厚さ方向の高さであ
り、横軸はグルーブ方向の距離である。また、図中、矢
印aはピット部、矢印bはピット部外の位置を示す。
The vertical axis of the graph is the height in the substrate thickness direction from the reference plane, and the horizontal axis is the distance in the groove direction. In the drawing, arrow a indicates a pit portion, and arrow b indicates a position outside the pit portion.

第4図から明らかなように弱い洗浄を行なったサンプ
ルNo.1−1は、記号aで示されるようにピット部が盛り
上がっている。
As is apparent from FIG. 4, the pit portion of the sample No. 1-1 which has been weakly washed has a swelling as shown by the symbol a.

これに対し、第5図から明らかなように強い洗浄を行
なったサンプルNo.1−2は、記号aで示されるようにピ
ット部が少しへこんでいる。
On the other hand, as apparent from FIG. 5, in the sample No. 1-2 which has been subjected to strong cleaning, the pit portion is slightly dented as shown by the symbol a.

これらの事からサンプルNo.1−1の盛り上がって見え
る部分は、色素が熱を受けて分解したもの、つまり溶解
度が低下した色素の分解物を含有する分解物層と考えら
れる。
From these facts, it can be considered that the portion of Sample No. 1-1 which looks prominent is a substance in which the dye is decomposed by receiving heat, that is, a decomposed substance layer containing a decomposed substance of the dye whose solubility is reduced.

そして、このピット部の記録層と、基板との界面部に
形成された層を超音波にて剥離した後、分析を行なった
結果、分解物が存在することおよび実質的に基板材質が
含有されていないことが確認できた。
Then, after the recording layer of the pit portion and the layer formed at the interface between the substrate and the substrate are peeled off by ultrasonic waves, an analysis is performed. As a result, it is found that a decomposition product is present and the substrate material is substantially contained. It was confirmed that it was not.

さらに、上記色素D1、D2を用い、下記表2に示される
ような記録層を設層した。
Further, a recording layer as shown in Table 2 below was formed using the dyes D1 and D2.

得られた各サンプルに対し、上記と同様に、波長780n
m、7mWのレーザーにてコンパクトディスク信号の記録を
行ない、次いで市販のコンパクトディスクプレーヤで再
生を行なったところ、この結果、サンプルNo.1では上記
のとおり良好な再生を行なうことができたが、その他の
サンプルNo.1−3では色素層の吸収が不十分であり、記
録が不可能であった。また、No.1−4では反射が小さ
く、再生が不可能であった。
For each sample obtained, a wavelength of 780 n
m, recording a compact disc signal with a 7 mW laser, and then playing back with a commercially available compact disc player.As a result, in sample No. 1, good playback could be performed as described above. In the other samples No. 1-3, the dye layer had insufficient absorption and recording was impossible. In Nos. 1-4, the reflection was small and reproduction was impossible.

次に、サンプルNo.1を用いて、本発明の結合体の効果
を確認した。
Next, the effect of the conjugate of the present invention was confirmed using Sample No. 1.

C1 k(780)=0.03 C2 k(780)=1.25 D+2・Q-1 また、比較用にはクエンチャーは下記のQ1を混合して
用いた。
C1 k (780) = 0.03 C2 k (780) = 1.25 D + 2 · Q1 also quencher was used as a mixture Q1 below for comparison.

Q1 k(780)=0 Q-1・N+(n−C4H9 各サンプルの組成を下記表3に示す。Q1 k (780) = 0 Q 1 · N + (n−C 4 H 9 ) 4 The composition of each sample is shown in Table 3 below.

各サンプルにつき、上記と同様に記録再生を行なっ
た。
Recording and reproduction were performed for each sample in the same manner as described above.

この結果、本発明のサンプルNo.2、3では、サンプル
No.1と同様のピットが形成されていた。
As a result, in the sample Nos. 2 and 3 of the present invention, the sample
A pit similar to No. 1 was formed.

また、未記録部で、70%以上の反射率が得られ、CD信
号の11Tパルスの記録部の反射率は、未記録部の40%以
下であり、良好な記録再生を行なうことができた。
In the unrecorded portion, a reflectance of 70% or more was obtained. The reflectance of the recorded portion of the 11T pulse of the CD signal was 40% or less of the unrecorded portion, so that good recording and reproduction could be performed. .

また、各サンプルにつき1.5kwのXeランプを15cmの距
離から基板をとおして照射し、20時間後の色素残有率を
測定して耐光性を評価した。
Further, each sample was irradiated with a 1.5 kw Xe lamp from a distance of 15 cm through the substrate, and the dye fastness after 20 hours was measured to evaluate the light fastness.

色素残有率は(100−R)/(100−Ro) (ただし、RoおよびRは、それぞれ、初期および照射後
の780nmでの反射率) により求めた。
Dye Zan'yu rate (100-R) / (100 -R o) ( provided that, R o and R, respectively, initial and reflectivity at 780nm after irradiation) was determined by.

さらに、70℃、相対湿度10%および60℃、相対湿度90
%にて、それぞれ250時間および500時間保存し、保存後
に再生を行ない、耐熱性および耐湿性を評価した。
In addition, 70 ° C, 10% relative humidity and 60 ° C, 90% relative humidity
%, Stored for 250 hours and 500 hours, respectively, and regenerated after storage to evaluate heat resistance and moisture resistance.

評価は下記のとおりである。 The evaluation is as follows.

○:エラー増なし △:エラー増多少あり ×:エラー増大 結果を表3に示す。 :: No error increase Δ: Some error increase ×: Error increase The results are shown in Table 3.

表3に示される結果から、本発明の結合体を用いた記
録層は、所定の値のn,kおよび反射率をもち、良好な記
録再生特性を示すことがわかる。
From the results shown in Table 3, it can be seen that the recording layer using the conjugate of the present invention has predetermined values of n, k and reflectance, and shows good recording / reproducing characteristics.

また、耐光性、耐熱性、耐湿性とも、混合系に比較し
て、格段とすぐれた特性を示すことがわかる。
In addition, it can be seen that the light resistance, heat resistance, and moisture resistance show remarkably excellent characteristics as compared with the mixed system.

なお、本発明のサンプルNo.2につき、MEGURO社製CDジ
ッターメーターMJM−631で測定したところ、100ns以下
であり、ジッターも少なかった。
The measurement of Sample No. 2 of the present invention with a CD jitter meter MJM-631 manufactured by MEGURO revealed that the jitter was less than 100 ns and the jitter was small.

実施例2 実施例1において、結合体を下記のものにかえ、下記
表4の記録層組成とした他は同様にして、サンプルNo.1
1〜13および比較サンプルNo.21を作製した。
Example 2 Sample No. 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the binder was changed to the following and the recording layer composition shown in Table 4 below was used.
Nos. 1 to 13 and Comparative Sample No. 21 were produced.

C3(D+3・Q-1) C6(D+8・Q-1) C21(D+3・Q-5) C11(D+26・Q-1) なお、比較サンプルNo.21では、比較用結合体C′6
として、上記C6のクエンチャーアニオンを下記のように
かえたC′6を用いた。
C3 (D + 3 · Q - 1) C6 (D + 8 · Q - 1) C21 (D + 3 · Q - 5) C11 (D + 26 · Q - 1) In comparison sample No. 21, Combination C'6
C'6 in which the quencher anion of C6 was changed as follows was used.

この結果、サンプルNo.11〜13は、上記と全く同様の
ピットが形成されており、ジッターのない良好な記録再
生を行なうことができた。
As a result, in Samples Nos. 11 to 13, pits exactly the same as those described above were formed, and good recording and reproduction without jitter could be performed.

これに対し、サンプルNo.21では、反射率が60%未満
となり、再生を行なうことができなかった。
On the other hand, in Sample No. 21, the reflectance was less than 60%, and reproduction could not be performed.

<発明の効果> 本発明によれば、高反射率で、しかもピット部での大
きな反射率低下を示すので、CD規格による再生を行なう
ことのできる良好な光記録が可能となる。
<Effects of the Invention> According to the present invention, since the reflectivity is high and the reflectivity at the pit portion is greatly reduced, good optical recording that can be reproduced according to the CD standard can be performed.

そして、ピット形状が良好で、しかも高いS/N比が得
られ、良好な記録・再生を行なうことができる光記録媒
体が実現する。
Then, an optical recording medium having a good pit shape, a high S / N ratio, and good recording / reproduction can be realized.

この際、耐光性もきわめて高く、再生劣化も少ない。 At this time, the light resistance is extremely high and the reproduction deterioration is small.

そして、耐熱性、耐湿ないし耐水性も高い。 In addition, heat resistance, moisture resistance or water resistance are high.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、本発明の光記録媒体を示す部分断面図であ
る。 第2図および第3図は、それぞれ、本発明の光記録媒体
の記録層を洗浄除去した後の基板表面の走査型トンネル
顕微鏡の出力画像の写真である。 第4図および第5図は、それぞれ本発明の光記録媒体の
基板表面のグルーブに沿った断面における表面状態が示
されるグラフである。 符号の説明 1……光記録媒体 2……基板 21……ランド部 23……グルーブ 3……記録層 4……反射層 5……保護膜 6……ピット部 61……分解物層 63……空隙
FIG. 1 is a partial sectional view showing an optical recording medium of the present invention. 2 and 3 are photographs of the output image of the scanning tunneling microscope on the surface of the substrate after the recording layer of the optical recording medium of the present invention has been washed and removed, respectively. FIG. 4 and FIG. 5 are graphs each showing a surface state in a cross section along a groove of the substrate surface of the optical recording medium of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... optical recording medium 2 ... substrate 21 ... land portion 23 ... groove 3 ... recording layer 4 ... reflection layer 5 ... protective film 6 ... pit portion 61 ... decomposition layer 63 ... … Void

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新海 正博 東京都中央区日本橋1丁目13番1号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−163243(JP,A) 特開 昭60−159087(JP,A) 特開 平2−147286(JP,A) 特開 平3−66042(JP,A) 特開 昭59−55794(JP,A) 特開 昭61−210539(JP,A) 特開 昭61−292237(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41M 5/26 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masahiro Shinkai 1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (56) References JP-A-60-163243 (JP, A) JP-A-60 JP-159087 (JP, A) JP-A-2-147286 (JP, A) JP-A-3-66042 (JP, A) JP-A-59-55794 (JP, A) JP-A-61-210539 (JP, A) JP-A-61-292237 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B41M 5/26

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板上に色素を含有する記録層を有し、こ
の記録層上に密着して反射層を積層して構成され、 記録光を前記記録層に照射してピット部を形成し、再生
光により再生を行なう光記録媒体であって、 前記記録層が、シアニン色素カチオンと、ビスフェニレ
ンジチオールの銅錯体のアニオンとのイオン結合体を含
有することを特徴とする光記録媒体。
A recording layer containing a dye is provided on a substrate, and a reflective layer is laminated on the recording layer in close contact with the recording layer. A pit portion is formed by irradiating recording light to the recording layer. An optical recording medium for performing reproduction by reproducing light, wherein the recording layer contains an ionic combination of a cyanine dye cation and an anion of a copper complex of bisphenylenedithiol.
【請求項2】基板側から再生光を照射したとき、未記録
部分の反射率が60%以上であり、記録部分の反射率が未
記録部分の反射率の60%以下である請求項1に記載の光
記録媒体。
2. The method according to claim 1, wherein when the reproducing light is irradiated from the substrate side, the reflectance of the unrecorded portion is 60% or more, and the reflectance of the recorded portion is 60% or less of the reflectance of the unrecorded portion. The optical recording medium according to the above.
【請求項3】記録光および再生光の波長における前記記
録層の消衰係数kが0.03〜0.25であり、記録光および再
生光の波長における前記記録層の屈折率nが1.8〜4.0で
ある請求項2に記載の光記録媒体。
3. The extinction coefficient k of the recording layer at the wavelength of the recording light and the reproducing light is 0.03 to 0.25, and the refractive index n of the recording layer at the wavelength of the recording light and the reproducing light is 1.8 to 4.0. Item 3. The optical recording medium according to Item 2.
【請求項4】記録光および再生光の波長が600〜900nmで
ある請求項1ないし3のいずれかに記載の光記録媒体。
4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the wavelengths of the recording light and the reproducing light are from 600 to 900 nm.
【請求項5】前記ピット部の前記基板と前記記録層の界
面部には、記録層材質の分解物を含有し、かつ基板材質
を実質的に含有しない層が存在している請求項1ないし
4のいずれかに記載の光記録媒体。
5. A layer containing a decomposed substance of a recording layer material and substantially not containing a substrate material at an interface between the substrate and the recording layer in the pit portion. 5. The optical recording medium according to any one of 4.
【請求項6】前記ピット部には、空隙が形成されている
請求項5に記載の光記録媒体。
6. The optical recording medium according to claim 5, wherein a void is formed in said pit portion.
【請求項7】前記イオン結合体を2種以上含有する請求
項1ないし6のいずれかに記載の光記録媒体。
7. The optical recording medium according to claim 1, wherein said optical recording medium contains two or more kinds of said ionic conjugates.
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