JP3004388B2 - Reflection high-speed electron diffraction / soft X-ray emission spectrometer - Google Patents

Reflection high-speed electron diffraction / soft X-ray emission spectrometer

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JP3004388B2
JP3004388B2 JP3132645A JP13264591A JP3004388B2 JP 3004388 B2 JP3004388 B2 JP 3004388B2 JP 3132645 A JP3132645 A JP 3132645A JP 13264591 A JP13264591 A JP 13264591A JP 3004388 B2 JP3004388 B2 JP 3004388B2
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、固体物質の性質を分析
する反射高速電子回折・軟X線放射分光分析装置に関す
るもので、特に、固体表面および界面の電子状態並びに
原子配列状態の非破壊分析等に大きな効果をもたらす反
射高速電子回折・軟X線放射分光分析装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection high-energy electron diffraction / soft X-ray emission spectrometer for analyzing the properties of a solid material, and more particularly, to the non-destructive electronic state and atomic arrangement state of a solid surface and an interface. The present invention relates to a reflection high-energy electron diffraction / soft X-ray emission spectrometer which has a great effect on analysis and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】物質に電子を入射させ、その構成元素の
内殻電子準位に空孔を生成すると、ある確率でX線が放
出される。軟X線放射分光法とは、このようにして生成
されたX線のうち、1〜50nm付近の波長領域のX線
を分光する分光学で、固体物質の場合、価電子帯の電子
状態を調べるのに適している。特に、光の放射や吸収を
伴う遷移の選択則により、価電子帯の電子状態を、波動
関数の対称性に分けて明らかにすることが可能である等
の特徴を有し、近年、分光および検出技術等の進歩とあ
いまって、種々の固体物質の研究に用いられつつある。
これらの状況は、例えば、「真空」(岩見基弘他、第3
3巻、第11号、848頁(1990))に記載されて
いる。
2. Description of the Related Art When electrons are incident on a substance and vacancies are generated in the inner electron levels of the constituent elements, X-rays are emitted with a certain probability. Soft X-ray emission spectroscopy is spectroscopy for spectrally separating X-rays in a wavelength region of about 1 to 50 nm among X-rays generated in this way. In the case of a solid substance, the electronic state of a valence band is determined. Suitable for examining. In particular, it has the feature that it is possible to clarify the electronic state of the valence band by dividing it into the symmetry of the wave function by the selection rule of transition involving light emission and absorption. Along with advances in detection technology and the like, it is being used for research on various solid substances.
These situations are described, for example, in “Vacuum” (Mitsuhiro Iwami et al.
3, No. 11, p. 848 (1990)).

【0003】以下、図2に示した軟X線放射分光装置の
一例の概略図に基づき、同装置の従来技術を説明する。
[0003] Hereinafter, a conventional technique of the soft X-ray emission spectrometer will be described with reference to a schematic diagram of an example of the soft X-ray emission spectrometer shown in FIG.

【0004】図2において、21は真空室であり、油拡
散ポンプ22と油回転ポンプ23とから成る排気系によ
り、真空室21内の圧力を10-4Pa台に保持すること
が可能である。真空室21内には、電子銃24、試料ス
テージ25および軟X線分光検出器系26が設置されて
いる。軟X線分光検出器系26中に設置されている軟X
線検出器には、ガス・フロー・比例係数管が用いられて
いる。電子銃24は、基本的には試料ステージ25に相
対向する位置に設置されており、電子銃24より発せら
れた電子線は、基本的に試料ステージ25に対して垂直
に入射する。ただし、試料ステージ25を傾斜させるこ
とにより、電子線の入射角は、垂直から水平の範囲で変
化させることができる。軟X線分光検出器系26は、試
料ステージ25の表面の上方あるいは斜め上方に位置す
る。さらに、電子銃24、試料ステージ25および軟X
線分光器26は、電子銃制御装置27および制御装置2
8を介して、パーソナルコンピュータ29に接続されて
おり、測定およびその後のデータ処理は、すべてパーソ
ナルコンピュータにより制御できる。
In FIG. 2, reference numeral 21 denotes a vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber 21 can be maintained at a level of 10 −4 Pa by an exhaust system including an oil diffusion pump 22 and an oil rotary pump 23. . In the vacuum chamber 21, an electron gun 24, a sample stage 25, and a soft X-ray spectroscopic detector system 26 are installed. Soft X-ray installed in soft X-ray spectroscopic detector system 26
A gas flow / proportional coefficient tube is used for the line detector. The electron gun 24 is basically installed at a position facing the sample stage 25, and the electron beam emitted from the electron gun 24 basically enters the sample stage 25 perpendicularly. However, by tilting the sample stage 25, the incident angle of the electron beam can be changed in a range from vertical to horizontal. The soft X-ray spectroscopic detector system 26 is located above or obliquely above the surface of the sample stage 25. Further, the electron gun 24, the sample stage 25 and the soft X
The X-ray spectroscope 26 includes an electron gun controller 27 and a controller 2
8 and connected to a personal computer 29, the measurement and the subsequent data processing can all be controlled by the personal computer.

【0005】図2に示した軟X線放射分光装置を用いて
測定した、(111)表面を有するシリコン(Si)結
晶およびチタンシリサイド(TiSi2)からのSi−
2,3軟X線放射スペクトルを図3に示す。これらのス
ペクトルは、バルク物質中では、原則として入射電子線
エネルギー(Ep)を変化させてもほとんど変化を見せ
ず、電子線の侵入深さが変化するのみである。言い換え
れば、Epを変えることにより、非破壊深さ方向分析が
できるということである。図3において、軟X線エネル
ギー(波長):90eV付近のスペクトルに着目する
と、TiSi2では92eV付近に一つのピークがある
が、Si結晶では89〜92eV付近で二つのピークに
分かれていることが分かる。また、TiSi2では、フ
ェルミ準位(図中EFで示す)付近に顕著なピークが見
られる。これは、TiSi2中のSiのs軌道電子状態
がEF付近に大きな状態密度を持つためと結論され、こ
のことは、これまでの考え方に変更を迫るものとなっ
た。さらに、図3の結果は、物質による検出スペクトル
形状の差を使った、Si化合物/Si接合系の非破壊分
析への応用の可能性も示している。以上のように、軟X
線放射分光装置は、固体物質の性質の非破壊分析、深さ
方向分析等に有望な分析装置である。
[0005] Si (Si) crystal having a (111) surface and Si— from titanium silicide (TiSi 2 ) measured using a soft X-ray emission spectrometer shown in FIG.
The L 2,3 soft X-ray emission spectrum is shown in FIG. In a bulk material, these spectra show almost no change even if the incident electron beam energy (E p ) is changed, and only the penetration depth of the electron beam changes. In other words, by changing the E p, is that non-destructive depth profiling can. In FIG. 3, focusing on the spectrum near soft X-ray energy (wavelength): 90 eV, one peak is found around 92 eV in TiSi 2 , but two peaks are found in the vicinity of 89 to 92 eV in the Si crystal. I understand. Further, the TiSi 2, (shown in figure E F) the Fermi level prominent peak around is observed. This, s orbital electron state of Si in the TiSi 2 is concluded to have a large density of states near E F, This has become a approaching changes to previous thinking. Furthermore, the results of FIG. 3 also show the possibility of application to nondestructive analysis of a Si compound / Si junction system using a difference in the detected spectrum shape depending on the substance. As described above, soft X
A line emission spectrometer is a promising analyzer for nondestructive analysis of a property of a solid material, depth analysis, and the like.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の軟
X線放射分光装置では、オイルを用いた拡散ポンプ等を
真空排気系として用いており、前記排気系から真空室内
へのオイルバックが無視できないこと、および、真空室
内の到達真空度が高々10-4Pa台であること等から、
試料ステージ上の試料表面は真空室内の残留ガス等の吸
着物で覆われてしまうため、表面に敏感な測定は行い得
ない。また、試料表面の原子配列に関する情報を提供す
る手段を持っていない。したがって、固体物質の極表面
で起こっている現象を調べるには不適当な装置構成であ
るという課題を有していた。
However, in the conventional soft X-ray emission spectrometer, a diffusion pump or the like using oil is used as a vacuum exhaust system, and the oil bag from the exhaust system to the vacuum chamber cannot be ignored. And the ultimate degree of vacuum in the vacuum chamber is at most 10 −4 Pa,
Since the surface of the sample on the sample stage is covered with an adsorbed substance such as a residual gas in a vacuum chamber, a measurement sensitive to the surface cannot be performed. In addition, there is no means for providing information on the atomic arrangement on the sample surface. Therefore, there is a problem that the device configuration is not appropriate for investigating a phenomenon occurring on the very surface of the solid substance.

【0007】本発明は上記従来技術の課題を解決するも
ので、超高真空中での反射高速電子回折および軟X線放
射分光測定を可能にし、清浄固体表面、異種物質を吸着
した固体表面、および、極薄膜/基板接合界面等の、電
子状態並びに原子構造を短時間で調べることのできる反
射高速電子回折・軟X線放射分光分析装置を提供するこ
とを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and enables reflection high-speed electron diffraction and soft X-ray emission spectrometry in an ultra-high vacuum, and provides a clean solid surface, a solid surface on which foreign substances are adsorbed, It is another object of the present invention to provide a reflection high-speed electron diffraction / soft X-ray emission spectrometer capable of examining an electronic state and an atomic structure of an ultrathin film / substrate junction interface or the like in a short time.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、真空排気手段として超高真空排気可能なオ
イルフリーポンプ系を設けた。また、従来装置の構成に
加え、回折電子線検出器系を設けるとともに、電子銃
は、電子線が基本的に試料表面に対して斜入射する位置
に配置し、少なくとも、斜入射電子線に対する軟X線が
軟X線分光検出器系内に入射し得る位置に、前記軟X線
分光検出器系を配置する、等の手段を講じた。また、斜
入射電子線に対する反射電子線が回折電子線検出器系内
に入射し得る位置に、前記回折電子線検出器系を配置す
る手段を講じた。また、さらなる要素として、軟X線分
光検出器系と、回折電子線検出器系が、ともに同一のデ
ータ取り込み・処理系に接続されるようにした。
In order to achieve this object, the present invention provides an oil-free pump system capable of evacuating to an ultra-high vacuum as the evacuation means. Further, in addition to the configuration of the conventional device, it is provided with the diffraction electron beam detector system, electron gun, electron beam is disposed at a position obliquely incident with respect to the basic surface of the sample, at least, a soft against oblique incident electron beam X-ray
The soft X-ray is located at a position where it can enter the soft X-ray spectroscopic detector system.
Means such as disposing a spectral detector system were taken. Also, oblique
The reflected electron beam with respect to the incident electron beam is in the diffraction electron beam detector system
The diffracted electron beam detector system is placed at a position where
Measures were taken. As an additional factor, soft X-ray
Both the photodetector system and the diffracted electron beam detector system have the same data.
Connected to data import / processing system.

【0009】[0009]

【作用】本発明は上記手段を講ずることにより、試料ス
テージ上の試料表面に対する残留ガス等の吸着物の影響
を排除することができるため、試料表面を清浄に保つこ
とができるとともに、清浄表面上に意図する異種物質の
みを吸着した状態等を保てる。言い換えると、残留ガス
等の吸着物の影響を排除した表面敏感な測定が可能であ
る。また、反射高速電子回折測定ができるため、前記表
面等や極薄膜/基板接合界面等の原子構造の情報を得る
ことができるとともに、軟X線放射分光測定において
も、従来装置に比べ、斜入射電子線による測定が容易で
あることから、深さ方向分析分解能がより高くなり、前
記表面・界面等の電子状態の情報を得ることが可能かつ
容易である。さらに、前記表面・界面等に対して、反射
高速電子回折と軟X線放射分光の同時測定並びに分析が
可能となり、電子状態および原子構造を総合的に短時間
で解析することができる。
According to the present invention, by taking the above measures, it is possible to eliminate the influence of adsorbed substances such as residual gas on the sample surface on the sample stage. In this state, only the intended foreign substance is adsorbed. In other words, it is possible to perform surface-sensitive measurement excluding the influence of adsorbed substances such as residual gas. In addition, since reflection high-speed electron diffraction measurement can be performed, information on the atomic structure of the surface and the like and the interface between the ultra thin film and the substrate can be obtained. Since the measurement by the electron beam is easy, the resolution in the depth direction is further improved, and it is possible and easy to obtain information on the electronic state such as the surface and the interface. Further, simultaneous measurement and analysis of reflection high-speed electron diffraction and soft X-ray emission spectroscopy can be performed on the surface / interface, and the electronic state and the atomic structure can be analyzed comprehensively in a short time.

【0010】[0010]

【実施例】図1は、本発明の反射高速電子回折・軟X線
放射分光分析装置の一実施例の概略図である。
FIG. 1 is a schematic view of an embodiment of a reflection high-speed electron diffraction / soft X-ray emission spectrometer according to the present invention.

【0011】図1において、101はオールメタルシー
ルの真空室であり、スパッタイオンポンプ102および
ターボ分子ポンプ103よりなる排気系が接続されてい
る。以上の構成により、真空室101は、10-7Pa台
以下の圧力下でオイルフリーで清浄な超高真空状態に保
持することができる。大気からの真空室排気(以下、
「荒引き」と称す)にはソープションポンプ等を用いて
も良く、荒引き後、超高真空排気に移る前段の高真空排
気には、チタンサブリメーションポンプを用いることも
できる。また、従来装置では、軟X線分光検出器系と試
料ステージが同一真空室内に設置されていたが、本実施
例では、さらに、軟X線分光検出器系104と、試料ス
テージ105が設置されている真空室101とは真空系
を独立させるとともに、両者を差動排気系により接続さ
せている。これにより、真空室101内の超高真空化が
さらに容易になるとともに、試料ステージ105上の試
料表面の清浄化が向上する。
In FIG. 1, reference numeral 101 denotes a vacuum chamber of an all-metal seal, to which an exhaust system including a sputter ion pump 102 and a turbo molecular pump 103 is connected. With the above configuration, the vacuum chamber 101 can be maintained in an oil-free and clean ultra-high vacuum state under a pressure of 10 −7 Pa or less. Evacuation of the vacuum chamber from the atmosphere (hereinafter,
A suction pump or the like may be used for "rough evacuation", and a titanium sublimation pump may be used for high-vacuum evacuation at the preceding stage after rough evacuation. Further, in the conventional apparatus, the soft X-ray spectroscopic detector system and the sample stage are installed in the same vacuum chamber, but in this embodiment, the soft X-ray spectroscopic detector system 104 and the sample stage 105 are further installed. The vacuum system 101 is made independent of the vacuum system, and both are connected by a differential evacuation system. Thereby, the ultra-high vacuum in the vacuum chamber 101 is further facilitated, and the cleaning of the sample surface on the sample stage 105 is improved.

【0012】真空室101内には、試料ステージ105
に加え、電子銃106および回折電子線検出器系107
(本実施例では蛍光スクリーンを用いている)が設置さ
れており、電子銃106は、電子線が基本的に試料ステ
ージ105上の試料表面に対して斜入射する位置に配置
し、少なくとも、斜入射電子線に対する反射電子線が検
出器系107内に入射し得る位置に検出器系107を配
置している。前記斜入射角は、本実施例では、固体表面
および界面の電子状態,原子状態を良好に観察できるよ
うに数度以下(少なくとも10度以下)である。さら
に、前記軟X線検出器系104も、放射軟X線検出方向
が試料表面と小角をなすような位置に配置している。以
上の構成により反射高速電子回折測定が可能になるとと
もに、斜入射電子線による軟X線放射分光測定も同時か
つ効果的に行うことができる。一方、試料ステージ10
5を傾斜させることにより、電子線の入射角は、垂直か
ら水平の範囲で変化させることができるので、従来装置
と同様な軟X線放射分光測定にも対応できる。また、電
子銃106は、電子線エネルギー(Ep)を数十keV
で任意に設定でき、電子線の直径および電流を、それぞ
れ、1μm以下並びに2μA以下に設定できる。これら
電子銃106の性能により、局所深さ方向分析が可能で
ある。試料ステージ105と小角をなす斜め上方に配置
した軟X線分光検出器系104は、凹面回折格子(金が
表面にコーティングされており、1mmあたり600〜
2400本の溝を有する)および入射スリットをローラ
ンド円上に配置したローランド円マウント型式の斜入射
型の回折格子分光系108、並びに、マルチチャンネル
プレートとフォトダイオードアレイを組み合わせたポジ
ションセンシティブ検出器109により構成されてお
り、本構成の点からも、高分解能短時間測定を促進でき
る。
A sample stage 105 is provided in a vacuum chamber 101.
Gun 106 and diffracted electron beam detector system 107
(A fluorescent screen is used in this embodiment), and the electron gun 106 is arranged at a position where the electron beam basically enters the sample surface on the sample stage 105 obliquely. The detector system 107 is arranged at a position where a reflected electron beam with respect to the incident electron beam can enter the detector system 107. In this embodiment, the oblique incident angle is several degrees or less (at least 10 degrees or less) so that the electronic state and the atomic state of the solid surface and the interface can be observed well. Further, the soft X-ray detector system 104 is also arranged at a position where the emitted soft X-ray detection direction makes a small angle with the sample surface. With the above configuration, reflection high-speed electron diffraction measurement can be performed, and soft X-ray emission spectrometry using obliquely incident electron beams can be simultaneously and effectively performed. On the other hand, the sample stage 10
By inclining 5, the incident angle of the electron beam can be changed in a range from vertical to horizontal, so that it is possible to cope with soft X-ray emission spectrometry similar to the conventional apparatus. The electron gun 106 changes the electron beam energy (E p ) to several tens keV.
The diameter and current of the electron beam can be set to 1 μm or less and 2 μA or less, respectively. Due to the performance of the electron gun 106, local depth direction analysis can be performed. The soft X-ray spectroscopy detector system 104 arranged diagonally above and at a small angle to the sample stage 105 has a concave diffraction grating (gold coated on the surface, 600 to 1 mm).
2400 grooves) and an incident slit arranged on a Rowland circle, a Rowland circular mount type grazing incidence type diffraction grating spectroscopy system 108, and a position sensitive detector 109 combining a multi-channel plate and a photodiode array. With this configuration, high-resolution short-time measurement can be promoted also from the viewpoint of this configuration.

【0013】以上の構成に加え、試料ステージ105、
電子銃106、軟X線分光検出器系104および回折電
子線検出器系107は、電子銃制御装置110および制
御装置111を介してパーソナルコンピュータ112に
接続されており、測定および分析はすべてパーソナルコ
ンピュータにより自動高速制御できる。
In addition to the above configuration, a sample stage 105,
The electron gun 106, the soft X-ray spectroscopic detector system 104, and the diffracted electron beam detector system 107 are connected to a personal computer 112 via an electron gun control device 110 and a control device 111. Automatic high-speed control.

【0014】[0014]

【発明の効果】以上のように本発明は、超高真空排気可
能なオイルフリーポンプ系を設けることにより、残留ガ
ス等の吸着物の影響を排除した表面敏感な測定を可能に
する、また、回折電子線検出器系を設けるとともに、電
子銃を、電子線が基本的に試料表面に対して斜入射する
位置に配置し、少なくとも、斜入射電子線に対する反射
電子線が前記検出器系内に入射し得る位置に前記検出器
系を配置することにより、反射高速電子回折測定を可能
とし、かつ、斜入射電子線による軟X線放射分光測定を
容易にするため深さ方向分解能を高めることができる
等、多大なる効果をもたらし、清浄固体表面、異種物質
を吸着した固体表面、および、極薄膜/基板接合界面等
の、組成、原子配列および化学結合状態、さらには、触
媒反応のメカニズム等の総合的な情報を、同時かつ短時
間に測定・分析できる反射高速電子回折・軟X線放射分
光分析装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention, by providing an oil-free pump system capable of ultra-high vacuum evacuation, it is possible to perform surface-sensitive measurement excluding the influence of adsorbed substances such as residual gas. A diffraction electron beam detector system is provided, and the electron gun is arranged at a position where the electron beam basically obliquely enters the sample surface, and at least a reflected electron beam for the obliquely incident electron beam is provided in the detector system. By arranging the detector system at a position where light can be incident, reflection high-speed electron diffraction measurement can be performed, and resolution in the depth direction can be enhanced in order to facilitate soft X-ray emission spectrometry with obliquely incident electron beams. The composition, atomic arrangement and chemical bonding state of the clean solid surface, the solid surface adsorbing foreign substances, and the ultra thin film / substrate junction interface, and the mechanism of the catalytic reaction Comprehensive any information, it is possible to provide a reflective can be measured and analyzed simultaneously and briefly high-energy electron diffraction, soft X-ray emission spectroscopy analyzer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例における反射高速電子回折・
軟X線放射分光分析装置の概略図
FIG. 1 shows reflection high-energy electron diffraction in one embodiment of the present invention.
Schematic diagram of soft X-ray emission spectrometer

【図2】従来の軟X線放射分光装置の概略図FIG. 2 is a schematic diagram of a conventional soft X-ray emission spectrometer.

【図3】従来の軟X線放射分光装置により測定した軟X
線放射スペクトルの一例
FIG. 3 shows a soft X-ray measured by a conventional soft X-ray emission spectrometer.
Of radiation spectrum

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 オールメタルシール真空室 102 スパッタイオンポンプ 104 軟X線分光検出器系 105 試料ステージ 106 電子銃 107 蛍光スクリーンを用いた回折電子線検出器系1
07 109 ポジションセンシティブ検出器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 All-metal seal vacuum chamber 102 Sputter ion pump 104 Soft X-ray spectroscopy detector system 105 Sample stage 106 Electron gun 107 Diffraction electron beam detector system 1 using a fluorescent screen 1
07 109 Position sensitive detector

フロントページの続き (72)発明者 武藤 勝彦 神奈川県川崎市多摩区東三田3丁目10番 1号 松下技研株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−216040(JP,A) 特開 昭64−86434(JP,A) 特開 昭56−84539(JP,A) 特開 平4−24544(JP,A) 実開 昭57−148759(JP,U) 岩見基弘他、「軟X線分光法とシリコ ン化合物・薄膜系」、真空、1990、第33 巻、第11号、P848−P853 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 23/00 - 23/227 JICSTファイル(JOIS)Continuation of the front page (72) Inventor Katsuhiko Muto 3-10-1, Higashi-Mita, Tama-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Matsushita Giken Co., Ltd. (56) References JP-A-2-216040 (JP, A) JP-A Sho64 -86434 (JP, A) JP-A-56-84539 (JP, A) JP-A-4-24544 (JP, A) JP-A-57-148759 (JP, U) Motohiro Iwami et al., "Soft X-ray spectroscopy And Silicon Compounds and Thin Film Systems ”, Vacuum, 1990, Vol. 33, No. 11, P848-P853 (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01N 23/00-23/227 JICST file (JOIS)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 少なくとも超高真空に排気可能なオイル
フリーポンプ系を設けた真空室と、試料が設置される試
料ステージと、電子銃と、軟X線分光検出器系と、回折
電子線検出器系とを備え、 軟X線分光検出器系が設置される真空室と試料ステージ
が設置される真空室とは、それぞれ真空系が独立してお
り、また、 電子銃は、電子線を試料ステージ上の試料表面に対して
斜入射させることのできる位置に配置し、少なくとも斜
入射電子線に対する軟X線が軟X線分光検出器系内に入
射し得る位置に、前記軟X線分光検出器系を配置するこ
とを特徴とする 反射高速電子回折・軟X線放射分光分析
装置。
1. A vacuum chamber provided with an oil-free pump system capable of evacuating to at least an ultra-high vacuum, a sample stage on which a sample is installed, an electron gun, a soft X-ray spectroscopic detector system, and diffraction electron beam detection. e Bei a vessel system, the vacuum chamber a sample stage soft X-ray detector system is installed
The vacuum system is installed independently of the vacuum system.
In addition, the electron gun applies an electron beam to the sample surface on the sample stage.
Arrange at a position where oblique incidence is possible.
Soft X-rays corresponding to the incident electron beam enter the soft X-ray spectroscopic detector system.
Place the soft X-ray spectroscopy detector system in a position where
And a reflection high-speed electron diffraction / soft X-ray emission spectrometer.
【請求項2】 軟X線分光検出器系と、回折電子線検出
器系が、ともに同一のデータ取り込み・処理系、または
複数であって相互に接続されているデータ取り込み・処
理系に接続されていることを特徴とする請求項1記載の
反射高速電子回折・軟X線放射分光分析装置。
2. The soft X-ray spectroscopy detector system and the diffracted electron beam detector system are both connected to the same data acquisition / processing system or a plurality of mutually connected data acquisition / processing systems. and that claim 1 Symbol mounting, characterized in that the reflection high energy electron diffraction and soft X-ray emission spectroscopy analyzer.
【請求項3】 少なくとも斜入射電子線に対する反射電
子線が回折電子線検出器系内に入射し得る位置に、前記
回折電子線検出器系を配置することを特徴とする請求項
1または2記載の反射高速電子回折・軟X線放射分光分
析装置。
Claim 3. A which least obliquely incident electron beam reflection electron beam with respect to the a position that may be incident on the diffraction electron beam detector system, characterized by arranging the diffraction electron beam detector system
1 or the reflection high energy electron diffraction and soft X-ray emission spectroscopy analysis apparatus 2 according.
【請求項4】 軟X線分光検出器系が、少なくともマル
チチャンネルプレートとフォトダイオードアレイを組み
合わせたポジションセンシティブ検出器を構成要素とし
て含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに
載の反射高速電子回折・軟X線放射分光分析装置。
4. A soft X-ray detector system, serial to any one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises a position sensitive detector that combines at least multi-channel plate and the photodiode array as a component < Reflection high-speed electron diffraction / soft X-ray emission spectrometer.
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