JP2997768B2 - Sulfated galactose compound, intermediate thereof, and method for producing the sulfated galactose compound - Google Patents
Sulfated galactose compound, intermediate thereof, and method for producing the sulfated galactose compoundInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ヒトインフルエン
ザウイルス等がその感染において認識すると考えられる
新規な硫酸化ガラクトース化合物及びその中間体並びに
その製造法に関する。[0001] The present invention relates to a novel sulfated galactose compound which is considered to be recognized by human influenza virus and the like in its infection, an intermediate thereof, and a method for producing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】ヒトインフルエンザウイルスの感染は、
ヒトの細胞表層の特定の3糖単位、Neu5Acα2 →3Galβ
1 →4(3)GlcNAcβ1 →、Neu5Acα2 →6Galβ1 →4(3)Gl
cNAcβ1 →、Neu5Acα2 →3Galβ1 →3GalNAc β1 →、
又はNeu5Acα2 →6Galβ1 →3GalNAc β1 →(但し、Ne
u5AcはN−アセチルノイラミン酸を、Gal はガラクトー
スを、GlcNAcはN−アセチルグルコサミンをそれぞれ示
す。)を認識することによってはじまることが知られて
いる。もしこれらの3糖単位を十分な量得ることがで
き、さらに高分子化できれば、ウイルスを捕捉可能な新
しい材料が提供できることが期待される。これらの3糖
単位を得る方法としては従来、(1)天然物から取り出
す、(2)有機合成化学的手段を用いて合成する、
(3)酵素などの生化学的手段を用いて合成する、
(4)(1)〜(3)の方法を適宜くみあわせる、等が
行われている。しかし、天然物より単離する場合は極微
量しか得られず、合成する場合も工程数が多いという問
題があり、この3糖単位を十分な量で入手するのは困難
であった。そこで、これらの3糖単位よりも入手が容易
で、ウイルスが認識性を有する新規化合物及びその製造
方法の開発が要望されていた。BACKGROUND OF THE INVENTION Human influenza virus infection
Neu5Acα2 → 3Galβ, a specific trisaccharide unit on the surface of human cells
1 → 4 (3) GlcNAcβ1 →, Neu5Acα2 → 6Galβ1 → 4 (3) Gl
cNAcβ1 →, Neu5Acα2 → 3Galβ1 → 3GalNAc β1 →,
Or Neu5Acα2 → 6Galβ1 → 3GalNAc β1 → (However, Ne
u5Ac indicates N-acetylneuraminic acid, Gal indicates galactose, and GlcNAc indicates N-acetylglucosamine. ) Is known to begin. If these trisaccharide units can be obtained in a sufficient amount and can be further polymerized, it is expected that a new material capable of capturing viruses can be provided. Conventional methods for obtaining these trisaccharide units include (1) removal from natural products, (2) synthesis using organic synthetic chemical means,
(3) synthesis using biochemical means such as enzymes,
(4) The methods (1) to (3) are appropriately combined. However, when isolated from natural products, only a very small amount is obtained, and when synthesized, there is a problem that the number of steps is large, and it has been difficult to obtain a sufficient amount of these trisaccharide units. Therefore, there has been a demand for the development of a novel compound which is easier to obtain than these trisaccharide units and has a virus recognizing property and a method for producing the same.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ヒトインフ
ルエンザウイルスやエイズウイルス(HIV)が認識性を有
し、前述の3糖単位に代わるウイルス捕捉材料となりう
る硫酸化ガラクトース化合物及びその高分子化合物を提
供することを目的とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a sulfated galactose compound and a high molecular weight compound thereof, which are capable of recognizing human influenza virus and AIDS virus (HIV) and can be used as a material for capturing a virus instead of the above-mentioned trisaccharide unit. The purpose is to provide.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、分子の特定の箇所
に硫酸エステル基を持つ糖誘導体及びそれを含む高分子
化合物の合成に成功し、この知見に基づき本発明をなす
に至った。すなわち上記の目的は以下の発明により達成
された。 (1)下記式(I−1)、式(I−2)又は式(I−
3)で表わされるガラクトース化合物。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have synthesized a sugar derivative having a sulfate ester group at a specific position of a molecule and a polymer compound containing the same. And succeeded in making the present invention based on this finding. That is, the above object has been achieved by the following inventions. (1) The following formula (I-1), formula (I-2) or formula (I-
A galactose compound represented by 3).
【0005】[0005]
【化6】 06Embedded image 06
【0006】(式中、R1 は水素原子又はアセチル基と
同等もしくはそれ以上に脱アシル化しにくいアシル基を
表わし、R2 は水素原子又はアセチル基より脱アシル化
しやすいアシル基を表わし、R3 は水素原子、アセチル
基と同等もしくはそれ以上に脱アシル化しにくいアシル
基又はシリル基を表わし、R4 は水素原子、アセチル基
より脱アシル化しやすいアシル基又はシリル基を表わ
す。式中の2つ又は3つのR1 は、互いに同一でも異な
ってもよい。また、3位と4位又は4位と6位の置換基
が互いに結合してアセタール又はヘミアセタールを形成
してもよい。ただし、2位、3位、4位及び6位の置換
基がすべて水素原子であることはない。Yは、ニトロフ
ェノキシ基、アミノフェノキシ基、アクリルアミドフェ
ノキシ基、アリルフェノキシ基、アリルアルキルオキシ
基、アルキルオキシ基、アリルオキシ基を表わす。) (2)下記式(II)、式(III) 又は式(IV)で表わされ
る硫酸化ガラクトース化合物。[0006] (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an acetyl group and equal to or greater than the deacylation hard acyl group, R 2 represents a deacylation easily acyl group than hydrogen atom or an acetyl group, R 3 R 4 represents an acyl group or a silyl group which is harder to deacylate than or equal to a hydrogen atom or an acetyl group, and R 4 represents an acyl group or a silyl group which is more easily deacylated than a hydrogen atom or an acetyl group. Or three R 1 s may be the same or different, and the substituents at the 3- and 4-positions or the 4- and 6-positions may combine with each other to form an acetal or a hemiacetal. The substituents at the 3-, 3-, 4- and 6-positions are not all hydrogen atoms.
Enoxy group, aminophenoxy group, acrylamide
Nonoxy group, allylphenoxy group, allylalkyloxy
Represents an alkyloxy group or an allyloxy group. (2) A sulfated galactose compound represented by the following formula (II), formula (III) or formula (IV).
【0007】[0007]
【化7】 07Embedded image 07
【0008】(式中、R5 、R6 及びR7 は水素原子、
アシル基又はシリル基を表わす。R5〜R7 は、互いに
同一でも異なってもよい。また、式(II)においてR6
とR7は互いに結合してアセタール、ヘミアセタールを
形成してもよい。Yは前記と同義である。Mは水素原
子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は有機アミン
を表わす。) (3)下記式(VIII)で表わされる硫酸化ガラクトース
化合物。Wherein R 5 , R 6 and R 7 are a hydrogen atom,
Represents an acyl group or a silyl group. R 5 to R 7 may be the same or different from each other. In the formula (II), R 6
And R 7 may combine with each other to form an acetal or hemiacetal. Y has the same meaning as described above. M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group or an organic amine. (3) A sulfated galactose compound represented by the following formula (VIII):
【0009】[0009]
【化8】 08Embedded image 08
【0010】(式中、R5 、R6 、Y及びMは前記と同
義である。) (4)下記式(V)、式(VI)、式(VII)又は式(IX)
で表わされる硫酸化ガラクトース高分子化合物。(Wherein R 5 , R 6 , Y and M are as defined above). (4) The following formula (V), formula (VI), formula (VII) or formula (IX)
A sulfated galactose polymer compound represented by the formula:
【0011】[0011]
【化9】 09Embedded image 09
【0012】(式中、R5 、R6 及びR7 は前記と同義
である。式(V)においてR6 とR7は互いに結合して
アセタール、ヘミアセタールを形成してもよい。Aは(Wherein R 5 , R 6 and R 7 are as defined above. In the formula (V), R 6 and R 7 may be bonded to each other to form an acetal or a hemiacetal.
【0013】[0013]
【化10】 10Embedded image 10
【0014】(式中、*でピラノース環の1位と結合す
る。Lはアルキレン、アリーレン、−O−、−CO−、
−NH−より選ばれる1つ以上の組み合わせよりなる連
結基を表わす。)を表わし、Bはガラクトース残基を有
しない繰り返し単位からなる部分を表わす。pとqはモ
ル比(%)であり、0<p≦100、かつ、pとqの和
は100である。) (5)(1)項記載の式(I−1)、式(I−2)又は
式(I−3)で表わされるガラクトース化合物を硫酸化
試薬と反応させることを特徴とする下記式(II)、式(I
II) 又は式(IV)で表わされる硫酸化ガラクトース化合
物の製造方法。(Wherein, * is bonded to the 1-position of the pyranose ring. L is alkylene, arylene, —O—, —CO—,
Represents a linking group consisting of one or more combinations selected from -NH-. B) represents a portion consisting of a repeating unit having no galactose residue. p and q are molar ratios (%), 0 <p ≦ 100, and the sum of p and q is 100. (5) The following formula (I) wherein a galactose compound represented by the formula (I-1), (I-2) or (I-3) described in the item (1) is reacted with a sulfate reagent. II), formula (I
II) or a method for producing a sulfated galactose compound represented by the formula (IV).
【0015】[0015]
【化11】 11Embedded image 11
【0016】(式中、R5 、R6 、R7 、Y及びMは前
記と同義である。) (6)(3)項記載の式(VIII)で表わされるガラクト
ース化合物の一方の硫酸エステル基のみをスルファター
ゼの存在下で加水分解することを特徴とする下記式(I
I)又は式(IV)で表わされる硫酸化ガラクトース化合
物の製造方法。(Wherein R 5 , R 6 , R 7 , Y and M are as defined above) (6) One sulfate ester of the galactose compound represented by the formula (VIII) described in (3). Wherein only the group is hydrolyzed in the presence of a sulfatase,
A method for producing a sulfated galactose compound represented by I) or the formula (IV).
【0017】[0017]
【化12】 12Embedded image 12
【0018】(式中、R5 、R6 、R7 、Y及びMは前
記と同義である。)なお、本発明において脱アシル化
は、加水分解反応のほか、エステル交換等の反応も含む
ものである。(In the formula, R 5 , R 6 , R 7 , Y and M have the same meanings as described above.) In the present invention, deacylation includes not only a hydrolysis reaction but also a reaction such as transesterification. It is a thing.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】式(I−1)、式(I−2)、式
(I−3)で表わされるガラクトース化合物はそれぞ
れ、式(II)、式(III) 、式(IV)で表わされる化合物
の合成中間体である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The galactose compounds represented by the formulas (I-1), (I-2) and (I-3) are represented by the formulas (II), (III) and (IV), respectively. It is a synthetic intermediate of the compound represented.
【0020】式(I−1)〜(I−3)において、R1
は水素原子又はアシル基を表わす。このアシル基は、通
常のエステル交換(加水分解)反応条件(pH9〜12
程度の塩基性溶媒、例えばメタノール−ナトリウムメチ
ラートなど)で脱離可能で、アセチル基と同等もしくは
それ以上脱離しにくい基であり、例えばベンゾイル基
(置換されていてもよい。例えば、ベンゾイル基、4−
メトキシベンゾイル基、4−クロロベンゾイル基な
ど)、ピバロイル基などが挙げられ、好ましくはベンゾ
イル基又はピバロイル基である。式中の2つ又は3つの
R1 は、互いに同一でも異なってもよい。In the formulas (I-1) to (I-3), R 1
Represents a hydrogen atom or an acyl group. This acyl group can be used under normal transesterification (hydrolysis) reaction conditions (pH 9 to 12).
A benzene group (e.g., a benzoyl group, which may be substituted, e.g., a benzoyl group, etc.). 4-
Methoxybenzoyl group, 4-chlorobenzoyl group, etc.), pivaloyl group and the like, and preferably a benzoyl group or a pivaloyl group. Two or three R 1 in the formula may be the same or different from each other.
【0021】R2 は水素原子又はアセチル基のような通
常の脂肪族より穏和な条件(R1 より中性に近い条件)
で脱離可能なアシル基を表わし、このようなアシル基と
しては、例えば、レヴリノイル基、モノクロロ酢酸エス
テル基などが挙げられ、好ましくは水素原子又はレヴリ
ノイル基である。R 2 is a milder condition than a normal aliphatic group such as a hydrogen atom or an acetyl group (condition closer to neutral than R 1 )
Represents an acyl group which can be eliminated, and examples of such an acyl group include a levulinoyl group and a monochloroacetic acid ester group, and a hydrogen atom or a levulinoyl group is preferable.
【0022】R3 は、水素原子、R1 で挙げたと同様の
アシル基、又はシリル基(置換されていてもよい。例え
ば、t−ブチルジメチルシリル基、t−ブチルジフェニ
ルシリル基など)を表わし、R1 と同じ基であることが
好ましく、ベンゾイル基がさらに好ましい。R4 は水素
原子、R2 で挙げたと同様のアシル基、又はR3 で挙げ
たと同様のシリル基を表わし、好ましくはシリル基であ
る。ただし、R1〜R4は、2位、3位、4位及び6位
において、すべて水素原子であることはない。R 3 represents a hydrogen atom, an acyl group as described above for R 1 , or a silyl group (optionally substituted, for example, t-butyldimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group, etc.). , R 1, and more preferably a benzoyl group. R 4 represents a hydrogen atom, the same acyl group as described in R 2 , or the same silyl group as described in R 3 , and is preferably a silyl group. However, R1 to R4 are not all hydrogen atoms at the 2-, 3-, 4- and 6-positions.
【0023】Yは、ニトロフェノキシ基(例えばp−ニ
トロフェノキシ、o−ニトロフェノキシ、m−ニトロフ
ェノキシ)、アミノフェノキシ基(例えばp−アミノフ
ェノキシ)、アクリルアミドフェノキシ基(例えばp−
アクリルアミドフェノキシ)、アリルフェノキシ基(例
えば2−アリルフェノキシ)、アリルアルキルオキシ基
(好ましくは末端に二重結合を有する-O(CH2)nCH2CH=CH
2 、nは好ましくは1〜5の整数)、アルキルオキシ基
(好ましくは炭素数1〜4、例えばメトキシ、エトキシ
など)、アリルオキシ基を表わす。Yは好ましくはニト
ロフェノキシ基である。 Y is a nitrophenoxy group (for example, p-nitrophenoxy, o-nitrophenoxy, m-nitrophenoxy), an aminophenoxy group (for example, p-aminophenoxy), an acrylamidophenoxy group (for example, p-nitrophenoxy group).
Acrylamide phenoxy), allyl phenoxy group (e.g. 2-allylphenoxy), -O (CH 2 having a double bond in the allyl-alkyl group (preferably terminal) n CH 2 CH = CH
2, n an integer) preferably of 1-5, an alkyl group (preferably having from 1 to 4 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, etc.), represents an allyloxy group. Y is preferably a nitrophenoxy group.
【0024】式(I−1)においては、3位と4位の置
換基が互いに結合してアセタール構造を形成してもよ
い。このアセタール構造としては、例えばイソプロピリ
デン基、シクロヘキシリデン基などが挙げられ、また、
有機スズによるスタニレンアセタール構造(例えばジブ
チルスタニレンアセタール)なども含まれる。式(I−
2)及び(I−3)においては、4位と6位の置換基が
互いに結合してアセタール又はヘミアセタール構造を形
成してもよい。このアセタール構造としては、例えばイ
ソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基などが挙げら
れ、また、ヘミアセタール構造としてはベンジリデン
基、メトキシベンジリデン基などが挙げられる。In the formula (I-1), the substituents at the 3- and 4-positions may combine with each other to form an acetal structure. Examples of the acetal structure include an isopropylidene group and a cyclohexylidene group.
A stannylene acetal structure (for example, dibutylstannylene acetal) formed by an organotin is also included. Formula (I-
In 2) and (I-3), the substituents at the 4- and 6-positions may be bonded to each other to form an acetal or hemiacetal structure. Examples of the acetal structure include an isopropylidene group and a cyclohexylidene group, and examples of the hemiacetal structure include a benzylidene group and a methoxybenzylidene group.
【0025】式(I−1)の化合物においては、3位が
水素原子又はアセチル基より脱アシル化しやすいアシル
基であり、2位及び4位が水素原子又はアセチル基と同
等もしくはそれ以上に脱アシル化しにくいアシル基、6
位が2位及び4位と同様のアシル基又はシリル基であ
る。式(I−1)で表わされる化合物は、このような置
換基を有することにより、2位、4位及び6位は保護し
たまま、3位のみを選択的に脱保護し、硫酸化すること
が可能である。式(I−2)、(I−3)の化合物も同
様に、4位又は6位のみを選択的に脱保護、硫酸化でき
る組み合わせでの置換基を有する化合物である。In the compound of the formula (I-1), the 3-position is a hydrogen atom or an acyl group which is more easily deacylated than an acetyl group, and the 2- and 4-positions are dehydrogenated to a degree equal to or greater than that of a hydrogen atom or an acetyl group. An acyl group that is difficult to acylate, 6
The position is the same acyl group or silyl group as in the 2-position and 4-position. Since the compound represented by the formula (I-1) has such a substituent, only the 3-position can be selectively deprotected and sulfated while protecting the 2-, 4- and 6-positions. Is possible. Similarly, the compounds of the formulas (I-2) and (I-3) are compounds having a combination of substituents capable of selectively deprotecting and sulfating only the 4-position or 6-position.
【0026】式(I−1)の化合物としては3位と4位
の置換基が結合してスタニレンアセタールを形成してお
り、2位と6位の置換基が水素原子又はベンゾイル基の
ものが好ましく、2位と6位が水素原子のものが特に好
ましい。式(I−2)の化合物としてはR1 とR3 がベ
ンゾイル基でR2が水素原子のもの、またはR1 がベン
ゾイル基、R2 が水素原子でR3 がシリル基のものが好
ましく、式(I−3)の化合物としてはR1 がベンゾイ
ル基でR4 がシリル基のものが好ましい。As the compound of the formula (I-1), the substituents at the 3- and 4-positions are combined to form a stannylene acetal, and the substituents at the 2- and 6-positions are a hydrogen atom or a benzoyl group. It is particularly preferable that the 2- and 6-positions are hydrogen atoms. As the compound of the formula (I-2), those in which R 1 and R 3 are benzoyl groups and R 2 is a hydrogen atom, or those in which R 1 is a benzoyl group, R 2 is a hydrogen atom and R 3 is a silyl group, are preferred. The compound (I-3) is preferably a compound wherein R 1 is a benzoyl group and R 4 is a silyl group.
【0027】式(II)、式(III) 及び式(IV)において
R5 、R6 及びR7 は水素原子、又は保護基としてのア
シル基もしくはシリル基を表わし、アシル基としては互
いに同一でも異なっていてもよい。アシル基及びシリル
基の例としては、特に制限はないが、好ましくは前記R
1 〜R4 で挙げたものが挙げられる。式(II)において
R6 とR7 は、前記式(I−1)〜(I−3)で挙げた
と同様のアセタール又はヘミアセタールを形成してもよ
い。Yは式(I−1)〜(I−3)のものと同義であ
る。Mは水素原子、アルカリ金属原子(例えばナトリウ
ム原子、カリウム原子、リチウム原子など)、有機アミ
ン(例えばトリメチルアミノ、トリエチルアミノなどの
置換もしくは無置換アミノ基など)、アンモニウム基を
表わし、好ましくはナトリウム原子である。式(II)の
化合物のうち、R5 及びR7 が水素原子又はベンゾイル
基でR6 が水素原子のものが好ましく、R5 〜R7 が水
素原子のものが特に好ましい。式(III) 及び式(IV)の
化合物のうち、R5 〜R7 が水素原子又はベンゾイル基
のものが好ましく、R5 〜R7 が水素原子のものが特に
好ましい。In the formulas (II), (III) and (IV), R 5 , R 6 and R 7 represent a hydrogen atom or an acyl group or a silyl group as a protecting group. It may be different. Examples of the acyl group and the silyl group include, but are not particularly limited to, the above-described R.
Include those mentioned in 1 to R 4. In the formula (II), R 6 and R 7 may form the same acetal or hemiacetal as mentioned in the formulas (I-1) to (I-3). Y has the same meaning as in formulas (I-1) to (I-3). M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom (eg, a sodium atom, a potassium atom, a lithium atom, etc.), an organic amine (eg, a substituted or unsubstituted amino group such as trimethylamino, triethylamino, etc.), and an ammonium group, preferably a sodium atom It is. Among the compounds of the formula (II), those in which R 5 and R 7 are hydrogen atoms or benzoyl groups and R 6 is hydrogen atoms are preferred, and those in which R 5 to R 7 are hydrogen atoms are particularly preferred. Among the compounds of the formulas (III) and (IV), those in which R 5 to R 7 are hydrogen atoms or benzoyl groups are preferred, and those in which R 5 to R 7 are hydrogen atoms are particularly preferred.
【0028】式(I−1)の化合物より式(II)の化合
物を製造する合成ルートを次のスキーム1に示す。A synthetic route for producing a compound of the formula (II) from a compound of the formula (I-1) is shown in the following scheme 1.
【0029】[0029]
【化13】 13Embedded image 13
【0030】(式中、R11はアセチル基と同等もしくは
それ以上に脱アシル化しにくいアシル基を表わし、R12
はアセチル基より脱アシル化しやすいアシル基を表わ
し、R13はアセチル基と同等もしくはそれ以上に脱アシ
ル化しにくいアシル基又はシリル基を表わす。式中の2
つのR11は、互いに同一でも異なってもよい。Y及びM
は前記式(I−1)及び式(II)で定義したものと同義
である。)この合成方法の一例について説明すると、ま
ず市販の化合物1(例えば、ニトロフェニルガラクトー
ス)の3位及び4位の2つの水酸基をアセタール化して
化合物2を得る。この反応はまず、アセトン(無水)、
ジメトキシプロパンなどのアセタール供給源とともに、
酸性触媒の存在下反応させる。酸触媒としては、カンフ
ァースルホン酸(CSA)、p−トルエンスルホン酸(pT
sOH)、ピリジニウムp−トルエンスルホン酸(PP
TS)、塩化トリメチルシリル(TMSCl)、イオン
交換樹脂(H+ 型)などが用いられる。溶媒としては、
無溶媒(つまり、アセタール供給源としてのアセトン、
ジメトキシプロパン及び両混合溶媒のみ)、又はジメチ
ルホルムアミドなどが用いられ、反応温度は通常0℃〜
130℃、反応時間は通常5分〜5日程度である。[0030] (wherein, R 11 represents an acetyl group and equal to or greater than the deacylation hard acyl group, R 12
Represents an acyl group which is more easily deacylated than an acetyl group, and R 13 represents an acyl group or a silyl group which is harder to be deacylated than or equal to the acetyl group. 2 in the formula
R 11 may be the same or different from each other. Y and M
Has the same meaning as defined in the above formulas (I-1) and (II). To explain an example of this synthesis method, first, a compound 2 is obtained by acetalizing two hydroxyl groups at the 3- and 4-positions of a commercially available compound 1 (for example, nitrophenylgalactose). The reaction first involves acetone (anhydrous),
Along with acetal sources such as dimethoxypropane,
The reaction is performed in the presence of an acidic catalyst. Examples of the acid catalyst include camphorsulfonic acid (CSA), p-toluenesulfonic acid (pT
sOH), pyridinium p-toluenesulfonic acid (PP
TS), trimethylsilyl chloride (TMSCl), ion exchange resin (H + type) and the like are used. As the solvent,
Solvent-free (ie acetone as an acetal source,
Dimethoxypropane and a mixed solvent of both) or dimethylformamide, and the reaction temperature is usually 0 ° C to
At 130 ° C., the reaction time is usually about 5 minutes to 5 days.
【0031】こうして得た化合物2をアシル化して化合
物3を得る。この反応はまず、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド、ジイソプロピルカルボジイミドなどのカルボ
ジイミド化合物の存在下、例えば安息香酸、酢酸などと
の反応で脱離可能なアシル基を導入し得るカルボン酸と
反応させることにより行うことができる。あるいは別法
として、溶媒として通常ピリジンの存在下、必要に応じ
てジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンなどの塩
基の存在下で、前記カルボン酸の無水物または対応する
酸塩化物、酸臭化物と反応させることにより行うことが
できる。溶媒としては、前者の場合、通常ジメチルホル
ムアミド、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロ
ロエタン又はこれらの混液が用いられ、後者の場合に
は、通常ピリジンの他、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、クロロフォルムおよびこれらの混液などが用いら
れ、反応温度は、いずれの場合も通常0℃〜50℃、反
応時間は通常5分間〜5日間程度である。The compound 2 thus obtained is acylated to give a compound 3. This reaction can be carried out by first reacting in the presence of a carbodiimide compound such as dicyclohexylcarbodiimide or diisopropylcarbodiimide with a carboxylic acid capable of introducing an acyl group which can be eliminated by a reaction with, for example, benzoic acid or acetic acid. Alternatively, as an alternative, by reacting with the anhydride of the carboxylic acid or the corresponding acid chloride, acid bromide, usually in the presence of pyridine as a solvent, if necessary, in the presence of a base such as dimethylaminopyridine or triethylamine. It can be carried out. As the solvent, in the case of the former, dimethylformamide, benzene, toluene, methylene chloride, dichloroethane or a mixed solution thereof is used, and in the latter case, besides pyridine, methylene chloride, dichloroethane, chloroform and a mixed solution thereof are usually used. The reaction temperature is usually 0 ° C. to 50 ° C., and the reaction time is usually about 5 minutes to 5 days.
【0032】R13がシリル基の場合は、例えば、ハロゲ
ン化シラン化合物又はトリフルオロメタンスルホン酸の
シラン化合物をピリジン、ルチジン、トリエチルアミ
ン、ジメチルアミノピリジン、イミダゾールなどのアミ
ンとともに加え反応させる。溶媒としては、通常ピリジ
ン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、塩化メチ
レン、ジクロロエタン、クロロフォルムおよびこれらの
混液などが用いられ、反応温度は、いずれも通常−20
℃〜50℃、反応時間は通常5分間〜7日間程度であ
る。この化合物3を酸処理して化合物4を得る。この酸
処理には、カンファースルホン酸(CSA)、p−トル
エンスルホン酸、ピリジニウムp−トルエンスルホン酸
(PPTS)、酢酸、硫酸、塩酸、イオン交換樹脂(H
+ 型)、トリフルオロ酢酸(TFA)などの酸を用いる
ことができる。溶媒としては、通常メタノール、エタノ
ール、メタノール−塩化メチレン、水などが用いられ、
反応温度は−20℃〜80℃、反応時間は、通常5分〜
3日程度である。When R 13 is a silyl group, for example, a halogenated silane compound or a silane compound of trifluoromethanesulfonic acid is added and reacted with an amine such as pyridine, lutidine, triethylamine, dimethylaminopyridine, imidazole and the like. As the solvent, pyridine, dimethylformamide, acetonitrile, methylene chloride, dichloroethane, chloroform and a mixture thereof are usually used, and the reaction temperature is usually -20.
The reaction time is usually from about 5 minutes to 7 days. Compound 3 is obtained by treating compound 3 with an acid. The acid treatment includes camphorsulfonic acid (CSA), p-toluenesulfonic acid, pyridinium p-toluenesulfonic acid (PPTS), acetic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and ion exchange resin (H
+ ), Trifluoroacetic acid (TFA) and the like. As the solvent, methanol, ethanol, methanol-methylene chloride, water and the like are usually used,
The reaction temperature is −20 ° C. to 80 ° C., and the reaction time is usually 5 minutes to
It is about three days.
【0033】この化合物4をエステル化して化合物5を
得る。この反応は、ジシクロヘキシルカルボジイミド、
ジイソプロピルカルボジイミドなどのカルボジイミド化
合物の存在下で、レブリン酸、モノクロロ酢酸などのカ
ルボン酸又はそれらの酸無水物と反応させて行うことが
できる。あるいは別法として、溶媒として通常ピリジン
の存在下、必要に応じてジメチルアミノピリジン、トリ
エチルアミンなどの塩基の存在下で、前記カルボン酸の
無水物または対応する酸塩化物、酸臭化物と反応させる
ことにより行うことができる。溶媒としては、前者の場
合、通常ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、
塩化メチレン、ジクロロエタン又はこれらの混液が用い
られ、後者の場合には、通常ピリジン、塩化メチレン、
ジクロロエタン、クロロフォルムおよびこれらの混液な
どが用いられ、反応温度は、いずれにおいても通常0℃
〜50℃、反応時間は通常5分間〜5日間程度である。This compound 4 is esterified to give compound 5. This reaction involves dicyclohexylcarbodiimide,
The reaction can be carried out by reacting with a carboxylic acid such as levulinic acid or monochloroacetic acid or an acid anhydride thereof in the presence of a carbodiimide compound such as diisopropylcarbodiimide. Alternatively, as an alternative, by reacting with the anhydride of the carboxylic acid or the corresponding acid chloride, acid bromide, usually in the presence of pyridine as a solvent, if necessary, in the presence of a base such as dimethylaminopyridine or triethylamine. It can be carried out. As the solvent, in the former case, usually dimethylformamide, benzene, toluene,
Methylene chloride, dichloroethane or a mixture thereof is used, and in the latter case, pyridine, methylene chloride,
Dichloroethane, chloroform and a mixture thereof are used, and the reaction temperature is usually 0 ° C.
To 50 ° C., and the reaction time is usually about 5 minutes to 5 days.
【0034】ついで化合物5をさらにエステル化して化
合物6を得る。この反応は、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド、ジイソプロピルカルボジイミドなどのカルボジ
イミド化合物の存在下、例えば安息香酸、酢酸などとの
反応で脱離可能なアシル基を導入し得るカルボン酸と反
応させることにより行うことができる。あるいは別法と
して、溶媒として通常ピリジンの存在下、必要に応じて
ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンなどの塩基
の存在下で、前記カルボン酸の無水物または対応する酸
塩化物、酸臭化物と反応させることにより行うことがで
きる。溶媒としては、前者の場合、通常ジメチルホルム
アミド、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ジクロロ
エタン又はこれらの混液が用いられ、後者の場合には、
通常ピリジン、塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロ
フォルムおよびこれらの混液などが用いられ、反応温度
は、前者後者ともに通常0〜50℃、反応時間は通常5
分間〜5日間程度である。Then, the compound 5 is further esterified to obtain a compound 6. This reaction can be carried out in the presence of a carbodiimide compound such as dicyclohexylcarbodiimide, diisopropylcarbodiimide, or the like, by reacting with a carboxylic acid capable of introducing an acyl group capable of being eliminated by reaction with, for example, benzoic acid, acetic acid, or the like. Alternatively, as an alternative, by reacting with the anhydride of the carboxylic acid or the corresponding acid chloride, acid bromide, usually in the presence of pyridine as a solvent, if necessary, in the presence of a base such as dimethylaminopyridine or triethylamine. It can be carried out. As the solvent, in the former case, dimethylformamide, benzene, toluene, methylene chloride, dichloroethane or a mixture thereof is used, and in the latter case,
Usually, pyridine, methylene chloride, dichloroethane, chloroform and a mixture thereof are used. The reaction temperature is usually 0 to 50 ° C. for the former and the latter is usually 5 to 50 ° C.
Minutes to 5 days.
【0035】このようにして得られた化合物6の選択的
脱保護を行い、化合物7を得る。この反応は、ヒドラジ
ン酢酸、ヒドラジン−ピペリジン、水酸化リチウム−過
酸化水素などで処理することにより行うことができる。
溶媒としては、通常メタノール、エタノール、イソプロ
パノール、トルエン、ピリジン、THFなどが用いら
れ、反応温度は、通常−78℃〜50℃、反応時間は通
常5分間〜3日間である。The compound 6 thus obtained is subjected to selective deprotection to obtain a compound 7. This reaction can be performed by treating with hydrazineacetic acid, hydrazine-piperidine, lithium hydroxide-hydrogen peroxide, or the like.
As the solvent, methanol, ethanol, isopropanol, toluene, pyridine, THF and the like are usually used. The reaction temperature is usually -78 ° C to 50 ° C, and the reaction time is usually 5 minutes to 3 days.
【0036】ついで、化合物7を硫酸化し硫酸エステル
基を導入して化合物8を得る。この反応は、トリメチル
アミン三酸化硫黄錯体、トリエチルアミン三酸化硫黄錯
体、ジメチルホルムアミド三酸化硫黄錯体、ピリジン三
酸化硫黄錯体、クロロスルホン酸などの硫酸化試薬と反
応させることにより行うことができる。溶媒としては、
通常、ジメチルホルムアミド、ピリジン、ヘキサメチル
フォスフォアミド(HMPA、あるいはヘキサメチルフ
ォスフォラストリアミド(HMPT)ともいう)、ジメ
チルスルフォキシド(DMSO)などが用いられ、反応
温度は、0℃〜80℃、反応時間は通常5分〜1週間で
ある。必要に応じ、得られた化合物をイオン交換樹脂
(Na+ タイプなど)で処理することにより、Mをナト
リウム原子などに変換することができる。Then, the compound 7 is sulfated to introduce a sulfate group to obtain a compound 8. This reaction can be performed by reacting with a sulfating reagent such as a trimethylamine sulfur trioxide complex, a triethylamine sulfur trioxide complex, a dimethylformamide sulfur trioxide complex, a pyridine sulfur trioxide complex, and chlorosulfonic acid. As the solvent,
Usually, dimethylformamide, pyridine, hexamethylphosphonamide (also referred to as HMPA or hexamethylphosphorous triamide (HMPT)), dimethylsulfoxide (DMSO) and the like are used, and the reaction temperature is 0 ° C to 80 ° C. The reaction time is usually 5 minutes to 1 week. If necessary, M can be converted to a sodium atom or the like by treating the obtained compound with an ion exchange resin (Na + type or the like).
【0037】ついで化合物8を、ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウムなどの塩基で処理して脱アシ
ル化すると、本発明の式(II)においてR5 、R6 及び
R7 が全て水素原子である化合物9を得ることができ
る。溶媒としては、通常メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン(THF)、メタノール−THF、エタ
ノール−THFなどが用いられ、反応温度は通常−30
℃〜80℃、反応時間は、通常5分間〜5日程度であ
る。R13(式(I−1)の化合物のR3 )がシリル基の
時には、このシリル基の除去は次のようにして行う。テ
トラブチルアンモニウムフルオリド、フッ化カリウム、
フッ化水素酸、フッ化水素−ピリジン、トリフルオロ酢
酸、三フッ化ホウ素エーテル錯体などの存在下、必要に
応じて酢酸を添加して行う。溶媒としては、通常テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、塩化メ
チレン、クロロホルム、トルエン、アセトニトリル、エ
タノール、水及びこれらの混液などが用いられ、反応温
度は通常0℃〜100℃、反応時間は、通常5分間〜1
0日程度である。The compound 8 is then deacylated by treating it with a base such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and the like. In the formula (II) of the present invention, R 5 , Compound 9 in which R 6 and R 7 are all hydrogen atoms can be obtained. As the solvent, methanol, ethanol, tetrahydrofuran (THF), methanol-THF, ethanol-THF and the like are usually used, and the reaction temperature is usually -30.
The reaction time is usually 5 minutes to 5 days. When R 13 (R 3 of the compound of the formula (I-1)) is a silyl group, the removal of the silyl group is performed as follows. Tetrabutylammonium fluoride, potassium fluoride,
In the presence of hydrofluoric acid, hydrogen fluoride-pyridine, trifluoroacetic acid, boron trifluoride ether complex, etc., acetic acid is added as necessary. As the solvent, tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, methylene chloride, chloroform, toluene, acetonitrile, ethanol, water and a mixture thereof are usually used. The reaction temperature is usually 0 ° C to 100 ° C, and the reaction time is usually 5 minutes. ~ 1
It is about 0 days.
【0038】化合物4から化合物8を得る別法として、
次のような方法もある。酸化ジブチルスズ、化合物4及
びベンゼンあるいはトルエン(必要に応じて、メタノー
ル、エタノール、テトラヒドロフラン及びジメチルホル
ムアミドなどの親水性溶媒の存在下)とともに加熱還流
を行いながら、反応で生成する水を除去する。その後、
溶媒を留去させた後、これを先に示した硫酸化試薬で処
理することにより化合物8を得る。硫酸化試薬を行うと
きの溶媒としては、通常、ジメチルホルムアミド、ピリ
ジン、ヘキサメチルフォスフォアミド(HMPA、ある
いは、ヘキサメチルフォスフォラストリアミド(HMP
T)ともいう)、ジメチルスルフォキシド(DMSO)
などが用いられ、反応温度は、0℃〜80℃、反応時間
は通常5分〜1週間である。ガラクトースの水酸基は6
位>3位>4位の順で反応性が高いため、上記のように
して化合物4を硫酸化すると、3位に硫酸基が導入され
ることとなる。As an alternative to obtaining compound 8 from compound 4,
There are also the following methods. While heating and refluxing with dibutyltin oxide, compound 4 and benzene or toluene (if necessary, in the presence of a hydrophilic solvent such as methanol, ethanol, tetrahydrofuran and dimethylformamide), water generated in the reaction is removed. afterwards,
After distilling off the solvent, the residue is treated with the above-mentioned sulfating reagent to give compound 8. As a solvent for performing the sulfating reagent, dimethylformamide, pyridine, hexamethylphosphoramide (HMPA or hexamethylphosphorustriamide (HMPA)
T)), dimethyl sulfoxide (DMSO)
The reaction temperature is 0 ° C. to 80 ° C., and the reaction time is usually 5 minutes to 1 week. The galactose has 6 hydroxyl groups.
Since the reactivity is higher in the order of position>3> 4, when the compound 4 is sulfated as described above, a sulfate group is introduced at the position 3.
【0039】化合物1から一段階で化合物9を得るに
は、化合物4の代わりに化合物1を用い、上述した酸化
ジブチルスズによる硫酸化法と同様の方法を用いてもよ
い。あるいはスキーム1の最下段に示すように、化合物
1の一級水酸基のみをアシル化又はシリル化した後(化
合物20)、上記と同様に有機スズを用いて硫酸化する
(化合物21)こともできる。化合物1の一級水酸基の
選択的アシル化及びシリル化は、化合物3の合成方法と
同じである。ついで、この化合物21の脱保護を行い硫
酸化糖誘導体9を得ることができる。この脱保護は、化
合物8→化合物9と同じ方法で行うことができる。In order to obtain compound 9 from compound 1 in one step, compound 1 may be used in place of compound 4, and a method similar to the above-mentioned sulfation method using dibutyltin oxide may be used. Alternatively, as shown at the bottom of Scheme 1, only the primary hydroxyl group of Compound 1 can be acylated or silylated (Compound 20), and then sulfated using an organotin (Compound 21) as described above. The selective acylation and silylation of the primary hydroxyl group of Compound 1 is the same as the method of synthesizing Compound 3. Then, the compound 21 is deprotected to obtain a sulfated saccharide derivative 9. This deprotection can be carried out in the same manner as for compound 8 → compound 9.
【0040】なお、Yとしてアリルオキシ基やベンジル
オキシ基などを持つ場合には、化合物2から9までのい
ずれのステップにおいても適宜自由にこれらを除去し、
さらにYをイミデート基やハロゲン原子などに変換した
後、p−ニトロフェノキシ基やアリルフェノキシ基など
へも変換できる。アリルオキシ基の除去は、(シクロオ
クタジエン)ビス(メチルジフェニルホスフィン)イリ
ジウムヘキサフルオロホスフェート、酢酸パラジウム、
塩化パラジウムなどの存在下テトラヒドロフラン中二重
結合を異性化するかあるいは別法として、t−ブトキシ
カリウムなどの強塩基性の試薬とともに加熱後、ヨウ素
及び必要に応じて炭酸水素ナトリウムの存在下、異性化
した二重結合の除去を行う。あるいは、異性化の後に塩
化水銀、酸化銀の存在下に同反応を行ってもよい。反応
時間は通常5分〜5日程度、反応温度は0℃〜120℃
である。Yとしてベンジル基(置換されているものを含
む)を有する場合には、パラジウム、パラジウム−炭
素、水酸化パラジウムなどとともに、水素の存在下で接
触還元して除去することができる。溶媒としては、通常
メタノール、エタノール、t−ブチルアルコール、水、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、塩化メチレ
ン、クロロホルム、トルエン、酢酸エステル、ジオキサ
ン、ジメチルホルムアミド、酢酸及びこれらの混液など
が用いられ、反応温度は通常0℃〜100℃、反応時間
は、通常5分間〜10日程度である。When Y has an allyloxy group, a benzyloxy group, or the like, any of the compounds 2 to 9 can be appropriately removed in any step.
Further, after converting Y into an imidate group or a halogen atom, it can be converted into a p-nitrophenoxy group, an allylphenoxy group or the like. Removal of the allyloxy group can be performed by (cyclooctadiene) bis (methyldiphenylphosphine) iridium hexafluorophosphate, palladium acetate,
Isomerization of the double bond in tetrahydrofuran in the presence of palladium chloride, etc. or, alternatively, heating with a strongly basic reagent such as potassium t-butoxy, followed by isomerization in the presence of iodine and, if necessary, sodium hydrogen carbonate, The double bond which has been converted is removed. Alternatively, the reaction may be carried out in the presence of mercury chloride and silver oxide after isomerization. The reaction time is usually about 5 minutes to 5 days, and the reaction temperature is 0 ° C to 120 ° C.
It is. When Y has a benzyl group (including a substituted one), it can be removed by catalytic reduction in the presence of hydrogen together with palladium, palladium-carbon, palladium hydroxide and the like. As the solvent, usually, methanol, ethanol, t-butyl alcohol, water,
Tetrahydrofuran, diethyl ether, methylene chloride, chloroform, toluene, acetate, dioxane, dimethylformamide, acetic acid and a mixture thereof are used. The reaction temperature is usually 0 ° C to 100 ° C, and the reaction time is usually 5 minutes to 10 days. It is about.
【0041】このようにしてアリルオキシ基又はベンジ
ル基などを除去して得られるヘミアセタール糖誘導体
は、次のようにしてYがイミデート基の化合物やYがハ
ロゲン原子である臭素化糖やフッ素化糖などにさらに変
換できる。イミデート基への変換は、ヘミアセタール体
とトリクロロアセトニトリル及びジアザビシクロウンデ
センもしくはt−ブトキシカリウム又は水素化ナトリウ
ムの存在下行う。ハロゲン原子への変換は、前記のR11
の導入と同様の方法によりYの位置をアシル化した後、
臭化水素−酢酸溶液中で臭素化する。この臭素化体をア
セトニトリル中フッ化銀で処理してフッ素化糖へと導い
てもよい。あるいは、ヘミアセタール体とジエチルアミ
ノスルファートリフルオリドで直接フッ素化してもよ
い。反応溶媒及び温度は、ベンジル基の除去の場合と同
様である。The hemiacetal sugar derivative obtained by removing an allyloxy group or a benzyl group in this manner is a compound having Y as an imidate group or a brominated or fluorinated sugar having Y as a halogen atom as follows. And so on. The conversion to an imidate group is carried out in the presence of a hemiacetal compound and trichloroacetonitrile and diazabicycloundecene or potassium t-butoxide or sodium hydride. Conversion to a halogen atom can be performed by the above-mentioned R 11
After acylating the position Y by the same method as the introduction of
Bromination in hydrogen bromide-acetic acid solution. This brominated form may be treated with silver fluoride in acetonitrile to lead to a fluorinated sugar. Alternatively, it may be directly fluorinated with a hemiacetal compound and diethylaminosulfur trifluoride. The reaction solvent and temperature are the same as in the case of removal of the benzyl group.
【0042】このようにして得られたイミデート糖誘導
体とハロゲン化糖は、次のようにしてYにニトロフェノ
キシ基を有する化合物へ変換できる。イミデート体を用
いる場合には、酸触媒として三フッ化ホウ素エーテル錯
体、トリメチルシリルトリフレート、t−ブチルジメチ
ルシリルトリフレート、トリエトキシシリルトリフレー
トなどの存在下、p−ニトロフェノール(又はo−ニト
ロフェノール、m−ニトロフェノール)などの試薬と反
応させて得ることができる。ハロゲン化糖のうち臭化物
を用いる場合には、炭酸銀、酸化銀などとともに反応さ
せればよい。あるいは、ニトロフェノールのアルカリ金
属塩とともにアセトンなどの溶媒中で加熱する方法もあ
る。フッ素化糖の場合には、過塩素酸銀、ビスシクロペ
ンタジエニル ハフノセン(又はジルコニウム)クロリ
ド、シルバートリフレート及びこれらの混合物とニトロ
フェノール及びとともに反応させることができる。この
ほかに、先に示したYの位置をアシル化した化合物に、
p−ニトロフェノキシ基などを直接導入することもでき
る。例えば、Yの位置にアセチル基を有する化合物に対
して、トリメチルシリルトリフレートなどの酸触媒の存
在下、直接p−ニトロフェノキシ基などを導入できる。
いずれの場合も、反応温度は、−78℃〜100℃、反
応時間は、5分〜1週間である。このようにして、反応
ステップがある程度進んだところで、Yの保護基を適宜
自由に変換できる。The thus obtained imidate sugar derivative and halogenated sugar can be converted into a compound having a nitrophenoxy group in Y as follows. When an imidate compound is used, p-nitrophenol (or o-nitrophenol) is used in the presence of a boron trifluoride ether complex, trimethylsilyl triflate, t-butyldimethylsilyl triflate, triethoxysilyl triflate, or the like as an acid catalyst. , M-nitrophenol). When bromide is used among the halogenated sugars, the reaction may be carried out with silver carbonate, silver oxide or the like. Alternatively, there is a method of heating in a solvent such as acetone together with an alkali metal salt of nitrophenol. In the case of a fluorinated sugar, silver perchlorate, biscyclopentadienyl hafnocene (or zirconium) chloride, silver triflate and a mixture thereof can be reacted with nitrophenol. In addition to the above, a compound obtained by acylating the position of Y shown above:
A p-nitrophenoxy group or the like can be directly introduced. For example, a p-nitrophenoxy group or the like can be directly introduced into a compound having an acetyl group at the Y position in the presence of an acid catalyst such as trimethylsilyl triflate.
In each case, the reaction temperature is -78 ° C to 100 ° C, and the reaction time is 5 minutes to 1 week. In this way, when the reaction step has progressed to some extent, the protecting group for Y can be freely and freely converted.
【0043】スキーム1において、R11及びR13はベン
ゾイル基が好ましく、R12はレヴリノイル基が好まし
い。また、化合物2のアセタール構造がスタニレンアセ
タールであるのが特に好ましい。なお、スキーム1で示
した合成ルートで合成した化合物9の水酸基は、常法に
よりR5 〜R7 で表わされる基に置換、修飾することが
できる。アシル化、シリル化については、スキーム1に
ついての説明で挙げたと同様の方法で行うことができ
る。In Scheme 1, R 11 and R 13 are preferably a benzoyl group, and R 12 is preferably a levulinoyl group. It is particularly preferable that the acetal structure of compound 2 is stannylene acetal. The hydroxyl group of Compound 9 synthesized by the synthesis route shown in Scheme 1 can be substituted or modified with groups represented by R 5 to R 7 by a conventional method. The acylation and silylation can be performed in the same manner as described in the description of Scheme 1.
【0044】次に式(I−3)の化合物より式(IV)の
化合物を製造する合成ルートを下記スキーム2に示す。Next, a synthetic route for producing the compound of the formula (IV) from the compound of the formula (I-3) is shown in the following scheme 2.
【0045】[0045]
【化14】 14Embedded image 14
【0046】(式中、R11はアセチル基と同等もしくは
それ以上に脱アシル化しにくいアシル基を表わし、R14
はアセチル基より脱アシル化しやすいアシル基又はシリ
ル基を表わす。式中の複数のR11は、互いに同一でも異
なってもよい。Y及びMは前記式(I−3)及び式(I
V)で定義したものと同義である。)まず、スキーム1
において用いたのと同じ化合物1について、4位と6位
にアセタール基を導入して化合物10へと導く。このア
セタール化は、スキーム1の化合物1→化合物2の変換
と同様にして行うことができる。このとき、4位と6位
にヘミアセタール基を導入してもよく、ヘミアセタール
化はベンズアルデヒド、ベンズアルデヒドジメチルアセ
タールなどとともに酸触媒の存在下行うことができる。
酸触媒としては、アセタール化を行う時の酸触媒に加え
て塩化亜鉛なども通常用いられる。溶媒としては、アセ
タール化を行うときに用いるものと同様であるが、時と
して溶媒を添加しないこともある。反応時間、温度とも
にアセタール化の条件と同様である。次に2位と3位に
アシル基を導入して化合物11へと導くことができる。
このアシル化は、スキーム1の化合物2→化合物3でR
11を導入した方法と同様にして行うことができる。反応
条件についても同様である。[0046] (wherein, R 11 represents an acetyl group and equal to or greater than the deacylation hard acyl group, R 14
Represents an acyl group or a silyl group which is more easily deacylated than an acetyl group. A plurality of R 11 in the formula may be the same or different from each other. Y and M are represented by the formulas (I-3) and (I
It is the same as defined in V). First, Scheme 1
In the same compound 1 used in the above, an acetal group is introduced into the 4- and 6-positions to lead to the compound 10. This acetalization can be performed in the same manner as in the conversion of compound 1 → compound 2 in Scheme 1. At this time, a hemiacetal group may be introduced at the 4- and 6-positions, and the hemiacetalization can be carried out in the presence of an acid catalyst together with benzaldehyde, benzaldehyde dimethyl acetal and the like.
As the acid catalyst, zinc chloride or the like is usually used in addition to the acid catalyst used for acetalization. The solvent is the same as that used when performing acetalization, but sometimes the solvent is not added. The reaction time and temperature are the same as the conditions for acetalization. Next, an acyl group can be introduced into the 2-position and 3-position to lead to compound 11.
This acylation is carried out by compound 2 → compound 3 of Scheme 1 with R
It can be performed in the same manner as the method in which 11 is introduced. The same applies to the reaction conditions.
【0047】次に化合物11の4位と6位のアセタール
(又はヘミアセタール)を酸性条件下で除去して化合物
12へと変換することができる。この反応は、スキーム
1の化合物3→化合物4の反応と同様にして行うことが
できる。ヘミアセタールの除去も、アセタールの場合と
同様である。化合物12の一級水酸基に選択的にレブリ
ノイル基やモノクロロ酢酸エステル基などのようなアセ
チル基より穏和な条件で脱離可能な置換基を導入する
か、又はt−ブチルジメチルシリル基やt−ブチルジフ
ェニルシリル基などのシリル基を導入して化合物13へ
と導くことができる。レブリノイル基やモノクロロ酢酸
エステル基などの導入は、スキーム1の化合物4→化合
物5のR12の導入と同様である。シリル基の導入は、ス
キーム1の化合物2→化合物3のR13にシリル基を導入
した場合と同じである。化合物13の4位にアシル基
(R11)を導入して化合物14に導くことができる。こ
のアシル化の反応は、スキーム2の化合物11の2位及
び3位へのアシル基の導入と同様である。Next, the acetal (or hemiacetal) at the 4- and 6-positions of the compound 11 can be converted to the compound 12 by removing it under acidic conditions. This reaction can be carried out in the same manner as in the reaction of compound 3 → compound 4 in Scheme 1. Removal of hemiacetal is similar to that of acetal. A substituent capable of being selectively removed under a milder condition than an acetyl group such as a levulinoyl group or a monochloroacetic acid ester group is introduced into the primary hydroxyl group of the compound 12, or a t-butyldimethylsilyl group or a t-butyldiphenyl group is introduced. The compound 13 can be introduced by introducing a silyl group such as a silyl group. The introduction of a levulinoyl group, a monochloroacetic ester group, etc. is the same as the introduction of R 12 of compound 4 → compound 5 in scheme 1. The introduction of the silyl group is the same as the case where a silyl group is introduced into R 13 of compound 2 → compound 3 in scheme 1. An acyl group (R 11 ) can be introduced into the 4-position of compound 13 to lead to compound 14. This acylation reaction is the same as the introduction of an acyl group at the 2-position and 3-position of compound 11 in Scheme 2.
【0048】次に化合物14のR14(アセチル基より脱
アシル化しやすいアシル基又はシリル基)を除去して化
合物15に変換できる。R14の除去は、スキーム1の化
合物6→化合物7の反応、又は化合物8→化合物9(R
13にシリル基を用いた時に相当する)の反応と同様にし
て行うことができる。その後化合物15を硫酸化試薬を
用いて硫酸化を行い化合物16に導くことができる。硫
酸化の条件は、スキーム1の化合物7→化合物8の変換
と同様である。化合物16の脱保護を行い、化合物17
を得ることができる。この脱保護は、スキーム1の化合
物8→化合物9と同様にして行うことができる。Next, compound 14 can be converted to compound 15 by removing R 14 (an acyl group or a silyl group which is more easily deacylated than an acetyl group). Removal of R 14 can be accomplished by reacting compound 6 → compound 7 in scheme 1 or compound 8 → compound 9 (R
( Corresponding to the case where a silyl group is used for 13 )). Thereafter, Compound 15 can be subjected to sulfation using a sulfation reagent to lead to Compound 16. The conditions for sulfation are the same as in the conversion of compound 7 → compound 8 in Scheme 1. After deprotection of compound 16, compound 17
Can be obtained. This deprotection can be performed in the same manner as in the compound 8 → the compound 9 in the scheme 1.
【0049】なお、化合物1から化合物18を経て化合
物14に導く方法もある。つまり、化合物1の一級水酸
基に選択的にシリル基を導入して化合物18へと変換す
る。このシリル化の条件は、スキーム1の化合物2→化
合物3のR13にシリル基を導入した場合と同じである。
次に、残りの3つの水酸基をアシル化して化合物14に
導く。このアシル化の条件は、化合物11の2位及び3
位へのアシル基の導入と同様である。There is also a method of leading compound 14 from compound 1 via compound 18. That is, a silyl group is selectively introduced into the primary hydroxyl group of Compound 1 to convert it into Compound 18. The conditions for this silylation are the same as in the case where a silyl group is introduced into R 13 of compound 2 → compound 3 in scheme 1.
Next, the remaining three hydroxyl groups are acylated to lead to compound 14. The conditions for this acylation are as follows:
This is the same as the introduction of an acyl group at the position.
【0050】さらに、化合物12より化合物19を経て
化合物17に導く方法もある。化合物12の一級水酸基
を選択的に硫酸化して化合物19へまず導く。この選択
的な硫酸化は、スキーム1で示した硫酸化試薬と反応条
件により行うことができる。スキーム1の化合物4→化
合物8と同様、4位に比べ6位の水酸基の反応性が高い
ため、6位が選択的に硫酸化される。化合物19は、脱
保護して化合物17へと導くことができる。この脱保護
の条件は、化合物16→化合物17と同じである。Further, there is a method of leading compound 17 from compound 12 via compound 19. The primary hydroxyl group of compound 12 is selectively sulfated to lead to compound 19 first. This selective sulfation can be performed using the sulfation reagent shown in Scheme 1 and reaction conditions. As in the case of compound 4 → compound 8 in scheme 1, the 6-position hydroxyl group has higher reactivity than the 4-position, so that the 6-position is selectively sulfated. Compound 19 can be deprotected leading to compound 17. The conditions for this deprotection are the same as those for compound 16 → compound 17.
【0051】化合物1から化合物17を一段階で得る場
合には、スキーム1で用いた酸化ジブチルスズの代わり
にビスジブチルスズオキシドを用いる以外は、スキーム
1の化合物4→化合物8の反応と同様にして行う。Yの
変換については、スキーム1で述べたと同様にして適宜
行うことができる。また、スキーム1の化合物9と同
様、化合物17の水酸基もR5 〜R7 で表わされる基に
置換、修飾できる。スキーム2においてR11はベンゾイ
ル基が好ましく、R14はシリル基が好ましい。When compound 17 is obtained in one step from compound 1, the reaction is carried out in the same manner as in the reaction of compound 4 → compound 8 in scheme 1 except that bisdibutyltin oxide is used instead of dibutyltin oxide used in scheme 1. . Conversion of Y can be appropriately performed in the same manner as described in Scheme 1. Further, similarly to the compound 9 in the scheme 1, the hydroxyl group of the compound 17 can be substituted or modified by the groups represented by R 5 to R 7 . In Scheme 2, R 11 is preferably a benzoyl group, and R 14 is preferably a silyl group.
【0052】次に式(I−2)の化合物より式(III) の
化合物を製造する合成ルートを下記スキーム3に示す。Next, a synthetic route for producing the compound of the formula (III) from the compound of the formula (I-2) is shown in the following scheme 3.
【0053】[0053]
【化15】 15Embedded image Fifteen
【0054】(式中、R11はアセチル基と同等もしくは
それ以上に脱アシル化しにくいアシル基を表わし、R13
はアセチル基と同等もしくはそれ以上に脱アシル化しに
くいアシル基又はシリル基を表わす。式中の複数のR11
は、互いに同一でも異なってもよい。Y及びMは前記式
(I−2)及び式(III) で定義したものと同義であ
る。)まず、スキーム1で合成した化合物4の3位の水
酸基を選択的にアシル化して化合物28を得ることがで
きる。この選択的アシル化反応は、スキーム1及びスキ
ーム2において述べたアシル化反応と同様にして行うこ
とができるが、通常、使用されるカルボン酸、その酸無
水物、及び対応する酸ハロゲン化物(より好ましくは塩
化物)のモル比を、化合物4 1molに対して通常
0.8〜1.5molとする。反応時間は一般に短く、
反応温度も低いことが多いが、例外もある。通常、1分
から5日間程度、−10℃〜80℃である。なお、この
化合物4は、化合物22と23を経て、スキーム1の化
合物20からも合成可能である。化合物22と化合物2
3の合成法は、スキーム1の化合物1→化合物2→化合
物3と同様である。化合物28は、先に示した硫酸化試
薬を用いて硫酸基を導入して化合物24に導くことがで
きる。化合物24はさらに脱保護を行い化合物25へと
導くことができる。この脱保護の方法もすでにスキーム
1及びスキーム2において述べたと同様である。[0054] (wherein, R 11 represents an acetyl group and equal to or greater than the deacylation hard acyl group, R 13
Represents an acyl group or a silyl group which is hard to be deacylated more than or equal to an acetyl group. A plurality of R 11 in the formula
May be the same or different from each other. Y and M have the same meanings as defined in the above formulas (I-2) and (III). First, the hydroxyl group at the 3-position of compound 4 synthesized in scheme 1 can be selectively acylated to give compound 28. This selective acylation reaction can be carried out in the same manner as the acylation reaction described in Scheme 1 and Scheme 2, but usually, the carboxylic acid used, its acid anhydride, and the corresponding acid halide (more The molar ratio of (preferably chloride) is usually 0.8 to 1.5 mol per 1 mol of compound 41. Reaction times are generally short,
Reaction temperatures are often low, but there are exceptions. Usually, the temperature is from -10C to 80C for about 1 minute to 5 days. In addition, this compound 4 can also be synthesized from the compound 20 of scheme 1 via the compounds 22 and 23. Compound 22 and Compound 2
The synthesis method of Compound 3 is the same as Compound 1 → Compound 2 → Compound 3 in Scheme 1. Compound 28 can be converted to compound 24 by introducing a sulfate group using the sulfating reagent described above. Compound 24 can be further deprotected to lead to compound 25. This deprotection method is also the same as described in Scheme 1 and Scheme 2.
【0055】化合物25を得る別法としては、化合物1
2から化合物26と化合物27をへて合成する方法があ
る。すなわち、スキーム1の化合物2→化合物3と同様
にして、化合物12の一級水酸基に保護基R13を導入し
て化合物26へと変換することができる。その後、先に
示した硫酸化法により4位に硫酸基を導入して化合物2
7にした後、脱保護を行い化合物25を合成することが
できる。これらの合成法はいずれもすでに示した方法を
利用して行うことができる。Yの変換については、スキ
ーム1で述べたと同様にして適宜行うことができる。ま
た、スキーム1の化合物9と同様、化合物25の水酸基
もR5 〜R7 で表わされる基に置換、修飾できる。スキ
ーム3においてR11及びR13はベンゾイル基が好まし
い。As an alternative to obtaining compound 25, compound 1
There is a method of synthesizing Compound 26 and Compound 27 from Compound 2. That is, the protecting group R 13 can be introduced into the primary hydroxyl group of the compound 12 to convert it into the compound 26 in the same manner as in the compound 2 → the compound 3 in the scheme 1. Thereafter, a sulfate group was introduced into the 4-position by the sulfation method described above to give Compound 2
After that, the compound is deprotected to give compound 25. All of these synthesizing methods can be carried out using the methods described above. Conversion of Y can be appropriately performed in the same manner as described in Scheme 1. Further, similarly to the compound 9 in the scheme 1, the hydroxyl group of the compound 25 can be substituted or modified by groups represented by R 5 to R 7 . In Scheme 3, R 11 and R 13 are preferably a benzoyl group.
【0056】また、式(II)又は式(IV)で表わされる
化合物は、式(VIII)で表わされる3位と6位に2つ硫
酸エステル基を有するガラクトース化合物からも製造で
きる。まず式(VIII)で表わされる化合物について説明
する。式(VIII)においてR5 及びR6 は式(II)又は
式(IV)におけると同様の水素原子、アシル基又はシリ
ル基であり、R5 及びR6 が水素原子である化合物が好
ましい。R5 及びR6が水素原子である式(VIII)の化
合物は下記スキーム4に示す方法で合成できる。The compound represented by the formula (II) or (IV) can also be produced from a galactose compound having two sulfate groups at the 3- and 6-positions represented by the formula (VIII). First, the compound represented by the formula (VIII) will be described. In the formula (VIII), R 5 and R 6 are the same hydrogen atom, acyl group or silyl group as in the formula (II) or (IV), and a compound in which R 5 and R 6 are hydrogen atoms is preferable. The compound of the formula (VIII) in which R 5 and R 6 are hydrogen atoms can be synthesized by the method shown in Scheme 4 below.
【0057】[0057]
【化16】 16Embedded image 16
【0058】(式中、Y及びMは前記式(II)及び式
(IV)で定義したものと同義である。)スキーム1及び
スキーム2で用いたと同じ化合物1には、3位と6位の
2カ所に同時に硫酸エステル基を導入することができ
る。2カ所を硫酸化する場合には、まず化合物1を乾燥
ベンゼン−テトラヒドロフラン(THF)中、ビストリ
ブチルスズオキシドとともに還流脱水を行い、硫酸化試
薬とともに反応させる。硫酸化試薬は、スキーム1の説
明において述べたと同様のものを用いることができる
(スキーム4では例としてトリメチルアミン三酸化硫黄
錯体を示した)。ビストリブチルスズオキシドの使用量
は化合物1 1モルに対し1〜3モルが好ましい。硫酸
化試薬は化合物1 1モルに対し通常2モル以上、好ま
しくは3〜4モル用いる。反応時間は通常、30分〜5
時間、反応温度は通常、0〜80℃である。スキーム4
ではMがトリメチルアミノ基の化合物29が得られる
が、必要に応じこの後、常法により処理してMを変換す
ることができる。例えばNa+ タイプのイオン交換樹脂
で処理すればMがアルカリ金属原子の化合物を得ること
ができる。得られた化合物29の水酸基は、スキーム1
の化合物9について述べたと同様に、常法によりR5 、
R6 で表わされる基に置換、修飾することができる。(In the formula, Y and M have the same meanings as defined in the above formulas (II) and (IV).) In the same compound 1 used in the scheme 1 and the scheme 2, the 3-position and the 6-position At the same time, a sulfate group can be introduced. In the case of sulfation at two places, first, compound 1 is subjected to reflux dehydration in dry benzene-tetrahydrofuran (THF) together with bistributyltin oxide and reacted with a sulfation reagent. As the sulfating reagent, those similar to those described in the description of Scheme 1 can be used (trimethylamine sulfur trioxide complex is shown as an example in Scheme 4). The amount of bistributyltin oxide used is preferably 1 to 3 mol per 1 mol of compound 11. The sulfating reagent is used in an amount of usually at least 2 mol, preferably 3 to 4 mol, per 1 mol of compound 11. The reaction time is usually 30 minutes to 5 minutes.
Time and reaction temperature are usually 0 to 80 ° C. Scheme 4
In the above, compound 29 in which M is a trimethylamino group is obtained, and if necessary, M can be converted by a conventional treatment. For example, a compound having M as an alkali metal atom can be obtained by treatment with a Na + type ion exchange resin. The hydroxyl group of the obtained compound 29 is represented by Scheme 1
In the same manner as described for compound 9 by conventional methods R 5,
The group represented by R 6 can be substituted or modified.
【0059】次に、式(VIII)の化合物より式(II)及
び式(IV)の化合物を合成する方法について説明する。
式(VIII)で表わされる硫酸エステル基を2つ有する化
合物は、酵素(スルファターゼ)を用いて選択的に一方
の硫酸エステル基のみを加水分解できる。通常、この酵
素反応はpH3〜8、好ましくは6〜7.5において、
酢酸−酢酸ナトリウム緩衝液、リン酸緩衝液、トリス緩
衝液などの緩衝液中で、10〜50℃、好ましくは35
〜38℃で行うことができる。反応時間は通常、5分〜
1週間である。加水分解される硫酸基の選択性は、酵素
の起源(例えば、軟体動物由来なのか、微生物由来なの
かなど)や反応時間などによって異なる。酵素は式(VI
II)で表わされる化合物に対し好ましくは1〜30wt
%使用する。上記化合物29よりスキーム1の化合物9
とスキーム2の化合物17を得るルートを下記スキーム
5に示す。Next, a method for synthesizing the compounds of the formulas (II) and (IV) from the compound of the formula (VIII) will be described.
The compound having two sulfate groups represented by the formula (VIII) can selectively hydrolyze only one sulfate group using an enzyme (sulfatase). Usually, this enzymatic reaction is carried out at pH 3-8, preferably 6-7.5.
In a buffer such as acetic acid-sodium acetate buffer, phosphate buffer, Tris buffer, etc., at 10 to 50 ° C, preferably 35 ° C.
~ 38 ° C. The reaction time is usually from 5 minutes to
One week. The selectivity of the sulfate group to be hydrolyzed differs depending on the origin of the enzyme (for example, whether it is derived from a mollusk or a microorganism), the reaction time, and the like. The enzyme has the formula (VI
Preferably 1 to 30 wt.
%use. Compound 9 of Scheme 1 from Compound 29 above
And the route to obtain compound 17 of Scheme 2 is shown in Scheme 5 below.
【0060】[0060]
【化17】 17Embedded image 17
【0061】(式中、Y及びMは前記式(II)及び式
(IV)で定義したものと同義である。)化合物29を上
記した緩衝液中、37℃近傍でスルファターゼで処理す
ると、スルファターゼの種類や反応時間などに応じ、化
合物17もしくは化合物9が選択的に、または混合物と
して得られる。(Wherein Y and M have the same meanings as defined in formulas (II) and (IV) above). When compound 29 is treated with sulfatase at about 37 ° C. in the above-mentioned buffer, sulfatase Compound 17 or Compound 9 can be obtained selectively or as a mixture depending on the type, reaction time, etc.
【0062】次に、式(V)、式(VI)、式(VII)又は
式(IX)で表わされる本発明のガラクトース高分子化合
物について説明する。式(V)、式(VI)、式(VII)又
は式(IX)で表わされる化合物は、式中、Aで表わされ
る主鎖がペンダント(修飾残基)として式(II)、式(I
II) 、式(IV)又は式(VIII)の化合物を有する高分子
化合物である。AはNext, the galactose polymer compound of the present invention represented by the formula (V), (VI), (VII) or (IX) will be described. The compound represented by the formula (V), the formula (VI), the formula (VII) or the formula (IX) is a compound represented by the formula (II) or the formula (I) in which the main chain represented by A is a pendant (modified residue).
II), a polymer compound having a compound of the formula (IV) or the formula (VIII). A is
【0063】[0063]
【化18】 18Embedded image 18
【0064】(式中、*ピラノース環の1位と結合す
る。Lはアルキレン、アリーレン、−O−、−CO−、
−NH−より選ばれる1つ以上の組み合わせよりなる連
結基を表わす。)で表わされるスペーサーである。前記
Lのアルキレンは好ましくは炭素数1〜20、アリーレ
ンは好ましくは炭素数6〜30で、それぞれ置換されて
いてもよい。前記の連結基の例としては(Wherein, * is bonded to the 1-position of the pyranose ring. L is alkylene, arylene, —O—, —CO—,
Represents a linking group consisting of one or more combinations selected from -NH-. ). The alkylene of L preferably has 1 to 20 carbon atoms, and the arylene preferably has 6 to 30 carbon atoms, and may be substituted. Examples of the linking group include
【0065】[0065]
【化19】 19Embedded image 19
【0066】(式中、nは1〜5の整数を表わす。)な
どがある。Aは、特に好ましくは(Wherein, n represents an integer of 1 to 5). A is particularly preferably
【0067】[0067]
【化20】 20Embedded image 20
【0068】から選ばれる1つ以上が単独重合又は共重
合したものである。Bは、ガラクトース残基を有しない
繰り返し単位であり、Aがペンダントとして有するガラ
クトース残基の、高分子化合物中の含有率を調整するな
どのための部分であり、必要により所定比率で設ける。
Bは例えばエチレン性不飽和モノマーから誘導される繰
り返し単位であり、例えばアクリルアミド類、メタクリ
ルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エス
テル類、オレフィン類などより誘導される繰り返し単位
やLと同様の基などがあげられ、好ましくはアクリルア
ミド又はメタクリルアミドより誘導される繰り返し単位
である。AとBの特に好ましい組み合わせは、次の通り
である。One or more selected from the above are homopolymerized or copolymerized. B is a repeating unit having no galactose residue, and is a portion for adjusting the content of the galactose residue of A as a pendant in the polymer compound, and is provided at a predetermined ratio if necessary.
B is, for example, a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated monomer, for example, a repeating unit derived from acrylamides, methacrylamides, acrylates, methacrylates, olefins or the like; And a repeating unit derived from acrylamide or methacrylamide. Particularly preferred combinations of A and B are as follows.
【0069】[0069]
【化21】 21Embedded image 21
【0070】(式中、nは1〜5の整数を表わす。)式
(V)、式(VI)及び式(VII)において、pとqはモル
比(%)であり、0<p≦100、かつ、pとqの和は
100であり、pは好ましくは5以上である。この高分
子化合物の分子量は特に制限するものではないが、好ま
しくは10000以上であり、末端は水素原子、アルキ
ル基など、特に制限はない。(Where n represents an integer of 1 to 5) In the formulas (V), (VI) and (VII), p and q are molar ratios (%), and 0 <p ≦ 100, and the sum of p and q is 100, and p is preferably 5 or more. Although the molecular weight of the polymer compound is not particularly limited, it is preferably 10,000 or more, and the terminal is not particularly limited, such as a hydrogen atom or an alkyl group.
【0071】式(V)の化合物の合成方法について、ス
キーム1の化合物9を高分子化する場合を例に説明す
る。高分子化を行う場合、Yを重合性の基(例えばアク
リルアミドフェノキシ基、アリルフェノキシ基、ビニル
ベンジルオキシ基、アリルアルキルオキシ基など)に変
換し、これを単独重合又は他の化合物と共重合させる。
例えば化合物9においてYとしてp−ニトロフェノキシ
基を持つ場合には、このニトロ基を還元してp−アミノ
フェノキシ基へと変換する。この反応は、パラジウム、
パラジウム炭素、水酸化パラジウムなどとともに、水素
の存在下接触還元を行う。溶媒としては、通常メタノー
ル、エタノール、水、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、酢酸
エステル及びこれらの混液などが用いられ、反応温度は
通常0℃〜100℃、反応時間は、通常5分間〜10日
程度である。別法として、水素化リチウムアルミニウ
ム、水素化ホウ素ナトリウムの存在下、同反応を行うこ
ともできる。溶媒としては、メタノール、エタノール、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどが通常用い
られる。反応温度は通常0℃〜100℃、反応時間は、
通常30分間〜10日程度である。The method for synthesizing the compound of the formula (V) will be described by taking as an example the case where the compound 9 in Scheme 1 is polymerized. When polymerizing, Y is converted into a polymerizable group (for example, acrylamidophenoxy group, allylphenoxy group, vinylbenzyloxy group, allylalkyloxy group, etc.), and this is homopolymerized or copolymerized with another compound. .
For example, when compound 9 has a p-nitrophenoxy group as Y, this nitro group is reduced and converted to a p-aminophenoxy group. The reaction is palladium,
Catalytic reduction is performed in the presence of hydrogen together with palladium carbon, palladium hydroxide and the like. As the solvent, methanol, ethanol, water, tetrahydrofuran, diethyl ether, methylene chloride, chloroform, toluene, acetate, a mixture thereof and the like are usually used. The reaction temperature is usually 0 ° C to 100 ° C, and the reaction time is usually 5 ° C. Minutes to about 10 days. Alternatively, the reaction can be performed in the presence of lithium aluminum hydride and sodium borohydride. As the solvent, methanol, ethanol,
Tetrahydrofuran, diethyl ether and the like are usually used. The reaction temperature is usually 0 ° C to 100 ° C, and the reaction time is
It is usually about 30 minutes to 10 days.
【0072】還元したp−アミノフェノキシ糖誘導体
は、さらにアクリル酸又はアクリル酸クロリドなどと反
応させてp−アクリルアミドフェノキシ誘導体へと変換
できる。この反応は、スキーム1においてR11を導入し
た方法と同様である。ついで、このp−アクリルアミド
フェノキシ誘導体の単量体を、単独重合又はアクリルア
ミド、メタクリルアミドもしくはアクリル酸エステルな
どとともに共重合させて高分子体を得る。この重合反応
は、単独重合の場合には単量体のみ、共重合の場合には
単量体を、アクリルアミドなどの存在下、過硫酸アンモ
ニウム、テトラエチレンジアミンなどと反応させて行う
ことができる。なお、以上の一連の操作、すなわち、還
元、アミド化及び高分子化反応は、保護基を有している
スキーム1の化合物8及び21においても、さらには脱
保護の完了した化合物9においても、行うことができ
る。化合物8又は21を用いて高分子化反応を行った
後、脱保護を行う場合は、単量体の時に行った方法と同
様にして行うことができる。また、p−アクリルアミド
フェノキシ誘導体を例に説明したが、Yに他の重合性の
基を有する単量体を用いる場合も、高分子化の操作は同
様である。また、異なるYを有する複数種の単量体を共
重合させることもできる。式(III) 又は式(IV)の化合
物より、式(VI)又は式(VII)の化合物を合成する場合
も、上記と同様の方法で行うことができる。スキーム2
においては保護基を有する化合物16及び19、あるい
は脱保護の完了した化合物17より高分子化を行うこと
ができ、スキーム3においては保護基を有する化合物2
4及び27、あるいは脱保護の完了した化合物25より
高分子化を行うことができる。式(VIII)の化合物より
式(IX)の化合物を合成する場合も上記と同様であり、
スキーム4の化合物29、あるいは化合物29の水酸基
を保護基に変換した化合物からも上記と同様の高分子化
を行うことができる。The reduced p-aminophenoxy sugar derivative can be further reacted with acrylic acid or acrylic acid chloride to convert it into a p-acrylamidophenoxy derivative. This reaction is the same as the method of introducing R 11 in Scheme 1. Next, the monomer of the p-acrylamidophenoxy derivative is homopolymerized or copolymerized with acrylamide, methacrylamide, acrylate or the like to obtain a polymer. This polymerization reaction can be carried out by reacting only the monomer in the case of homopolymerization or the monomer in the case of copolymerization with ammonium persulfate, tetraethylenediamine or the like in the presence of acrylamide or the like. Note that the above series of operations, ie, the reduction, amidation, and polymerization reactions were performed in the compounds 8 and 21 in Scheme 1 having a protecting group, and also in the compound 9 after deprotection was completed. It can be carried out. When deprotection is carried out after conducting a polymerization reaction using compound 8 or 21, it can be carried out in the same manner as in the case of the monomer. Further, the p-acrylamidophenoxy derivative has been described as an example, but the operation of polymerizing is the same when a monomer having another polymerizable group is used for Y. Further, a plurality of types of monomers having different Y can be copolymerized. The synthesis of the compound of the formula (VI) or the formula (VII) from the compound of the formula (III) or the formula (IV) can be carried out in the same manner as described above. Scheme 2
Can be polymerized from Compounds 16 and 19 having a protecting group or Compound 17 having been completely deprotected. In Scheme 3, Compound 2 having a protecting group can be used.
Polymerization can be carried out from Compounds 4 and 27 or from Compound 25 which has been completely deprotected. The same applies to the case where the compound of the formula (IX) is synthesized from the compound of the formula (VIII),
Compound 29 in Scheme 4 or a compound in which the hydroxyl group of compound 29 has been converted to a protecting group can also be polymerized in the same manner as described above.
【0073】[0073]
【実施例】本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明す
る。前記スキーム1において、R11及びR13がベンゾイ
ル基、Mがナトリウム原子、Yがp−ニトロフェノキシ
基の場合について合成を行った。各化合物の番号はスキ
ーム1に示したものと対応する。 実施例1(化合物1→化合物2) 化合物1(3.0g、9.96mmol)、を無水アセトン600m
lに溶かしDowex H+(商品名、ダウケミカル社製)120
mg を加え18時間室温下で攪拌した。トリエチルアミ
ン10mlを加えDowex をろ過して除きろ液を減圧濃縮し
た。残さをシリカゲルクロマトグラフィー(メルク社、
60F254、300ml 、塩化メチレン−メタノール=100:1 )
で精製して化合物2(2.21g 、65% )を得た。[ α] D
−58. 7 (C=1. 7、メタノール) m.p 154
-157 ℃EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples. In the scheme 1, synthesis was performed in the case where R 11 and R 13 were a benzoyl group, M was a sodium atom, and Y was a p-nitrophenoxy group. The numbers of each compound correspond to those shown in Scheme 1. Example 1 (Compound 1 → Compound 2) Compound 1 (3.0 g, 9.96 mmol) was added to anhydrous acetone 600 m
l Dowex H + (trade name, manufactured by Dow Chemical Company) 120
mg was added and the mixture was stirred at room temperature for 18 hours. 10 ml of triethylamine was added, Dowex was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel chromatography (Merck,
60F 254 , 300ml, methylene chloride-methanol = 100: 1)
To give Compound 2 (2.21 g, 65%). [α] D
-58.7 (C = 1.7, methanol) mp 154
-157 ° C
【0074】 実施例2(化合物2→化合物3) 化合物2(104mg 、0.305mmol )、ジメチルアミノピリ
ジン(5mg )をピリジン(10ml)に溶かし、塩化ベンゾ
イル(0.11ml、0.95mmol)を加え、室温で攪拌した。1
7時間後、反応液に氷片、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液を加え、クロロホルム50mlで3回抽出した。抽出し
た有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧留去した。残さ
をシリカゲルクロマトグラフィー(メルク社、60F
254 、30ml、トルエン−酢酸エチル 4:1)で精製
して化合物3(158mg 、94% )を得た。 [ α] D +4.6 (C=1.6、クロロホルム) m.p 177-178 ℃ 元素分析 calcd. for C29H27NO10 C:63.38 、H:4.95、N:2.55 found C:63.46 、H:4.94、N:2.49Example 2 (Compound 2 → Compound 3) Compound 2 (104 mg, 0.305 mmol) and dimethylaminopyridine (5 mg) were dissolved in pyridine (10 ml), and benzoyl chloride (0.11 ml, 0.95 mmol) was added. Stirred. 1
After 7 hours, ice chips and a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate were added to the reaction solution, and the mixture was extracted three times with 50 ml of chloroform. The extracted organic layer was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and water, dried over magnesium sulfate, and evaporated under reduced pressure. The residue is subjected to silica gel chromatography (Merck, 60F
Purification with 254 , 30 ml, toluene-ethyl acetate 4: 1) gave compound 3 (158 mg, 94%). [α] D + 4.6 (C = 1.6, chloroform) mp 177-178 ° C. Elemental analysis calcd. for C 29 H 27 NO 10 C: 63.38, H: 4.95, N: 2.55 found C: 63.46, H: 4.94 , N: 2.49
【0075】 実施例3(化合物3→化合物4) 化合物3(4.03g 、7.3mmol )、塩化メチレン30ml、メ
タノール60ml、カンファースルホン酸(CSA)(682m
g 、2.9mmol )を加え、室温で攪拌した。16.5時間後、
5mlのトリエチルアミンを加え減圧濃縮した。残さを直
ちにシリカゲルクロマトグラフィー(メルク社、60F
254 、400ml 、塩化メチレン−メタノール=10:1)で精
製して化合物4(3.35g 、90% )を得た。 [ α] D +14.2 (C=0. 68、メタノール) m.p 192-194 ℃ 元素分析 calcd. for C26H23NO10 C:61.30 、 H:4.55 、N:2.75 found C:60.82 、 H:4.63 、N:2.64Example 3 (Compound 3 → Compound 4) Compound 3 (4.03 g, 7.3 mmol), methylene chloride 30 ml, methanol 60 ml, camphorsulfonic acid (CSA) (682 m
g, 2.9 mmol) and stirred at room temperature. After 16.5 hours,
5 ml of triethylamine was added and the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was immediately subjected to silica gel chromatography (Merck, 60F
Purification with 254 , 400 ml, methylene chloride-methanol = 10: 1) gave compound 4 (3.35 g, 90%). [α] D + 14.2 (C = 0.68, methanol) mp 192-194 ° C. Elemental analysis calcd. for C 26 H 23 NO 10 C: 61.30, H: 4.55, N: 2.75 found C: 60.82, H: 4.63, N: 2.64
【0076】 実施例4(化合物4→化合物8) 化合物4(0.95g 、1.87mmol)をベンゼン(60ml)に
とかし、酸化ジブチルスズ(488mg 、1.96mmol)を加
え、ディーンスタークの装置を用いて3時間環流しなが
ら生成する水を経時的に除去した。残りのベンゼンを減
圧留去し、ジメチルホルムアミド(DMF)(20ml)に
溶かし、三酸化硫黄トリメチルアミン錯体(331mg 、2.
43mmol)及びトリエチルアミン1ml を加え、40℃で攪
拌した。3時間後反応液にメタノールを加えしばらく攪
拌した後減圧留去し、残さをシリカゲルクロマトグラフ
ィー(メルク社、60F254 、200ml、塩化メチレン
−メタノール 10:1.5)で精製し、ナトリウム型
のイオン交換樹脂(DowexNa+ )で処理後、熱エタノー
ル−エーテル−ヘキサンより晶出させ化合物8(1.0
g 、90% )を得た。 [ α] D +22. 9 (C=0.8、メタノール) m.p 169-172 ℃Example 4 (Compound 4 → Compound 8) Compound 4 (0.95 g, 1.87 mmol) was dissolved in benzene (60 ml), dibutyltin oxide (488 mg, 1.96 mmol) was added, and the mixture was used for 3 hours using a Dean-Stark apparatus. The generated water was removed over time while refluxing. The remaining benzene was distilled off under reduced pressure, dissolved in dimethylformamide (DMF) (20 ml), and sulfur trioxide trimethylamine complex (331 mg, 2.
43 mmol) and 1 ml of triethylamine, and the mixture was stirred at 40 ° C. After 3 hours, methanol was added to the reaction solution, and the mixture was stirred for a while and then distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (Merck, 60F 254 , 200 ml, methylene chloride-methanol 10: 1.5) to give sodium-type ion. After treatment with an exchange resin (DowexNa + ), crystallization from hot ethanol-ether-hexane gave compound 8 (1.0
g, 90%). [α] D + 22.9 (C = 0.8, methanol) mp 169-172 ° C
【0077】 実施例5(化合物8→化合物9) 化合物8(1.64g 、2.68mmol)をメタノール(40ml)に
溶かし、28%ナトリウムメチラート(0.35ml)を加
え、室温下で5時間攪拌した。Dowex H+ 型(商品名、
ダウケミカル社製)で中和しpH7 としたのちDowex を濾
過して除き、ろ液を減圧濃縮した。残さをシリカゲル
60 RP−18(メルク社、水を溶離液とした)で精
製して化合物9(990mg 、92% )を得た。 [ α] D -41.8 (C=1. 3、メタノール)、m.p 194 ℃ FABMS m/z 426(M+Na) 元素分析 calcd. for C12H14NNaO11S C:35.74 、H:3.50、N:3.47 S:7.95 found C:35.19 、H:3.58、N:3.35 S:7.34Example 5 (Compound 8 → Compound 9) Compound 8 (1.64 g, 2.68 mmol) was dissolved in methanol (40 ml), 28% sodium methylate (0.35 ml) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. Dowex H + type (product name,
After neutralization with Dow Chemical Co., Ltd.) to pH 7, Dowex was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. Silica gel residue
Purification with 60 RP-18 (Merck, using water as eluent) gave compound 9 (990 mg, 92%). [α] D -41.8 (C = 1.3, methanol), mp 194 ° C. FABMS m / z 426 (M + Na) Elemental analysis calcd. for C 12 H 14 NNaO 11 S C: 35.74, H: 3.50, N : 3.47 S: 7.95 found C: 35.19, H: 3.58, N: 3.35 S: 7.34
【0078】 実施例6(化合物1→化合物9) 化合物1(60mg、0.20mmol)をテトラヒドロフラン(30
ml)及びベンゼン(30ml)にとかし、酸化ジブチルス
ズ(54.5mg、0.22mmol)を加え、ディーンスタークの装
置を用いて2時間環流しながら生成する水を経時的に除
去した。反応溶液を減圧留去し、ジメチルホルムアミド
(DMF)(5ml )に溶かし、三酸化硫黄トリメチルア
ミン錯体(30.5mg、0.22mmol)及びトリエチルアミン0.
5ml を加え、40℃で攪拌した。18時間後反応液にメ
タノールを加えしばらく攪拌後、反応溶液を減圧留去
し、残さをシリカゲル 60 RP−18(メルク社、
水を溶離液とした)で精製して化合物9(62.2mg、77.4
% )を得た。化合物9の物理恒数などのデータは、実施
例4と同じである。Example 6 (Compound 1 → Compound 9) Compound 1 (60 mg, 0.20 mmol) was added to tetrahydrofuran (30
The mixture was dissolved in benzene (30 ml), dibutyltin oxide (54.5 mg, 0.22 mmol) was added, and the generated water was removed with time while refluxing for 2 hours using a Dean-Stark apparatus. The reaction solution was distilled off under reduced pressure, dissolved in dimethylformamide (DMF) (5 ml), and sulfur trioxide trimethylamine complex (30.5 mg, 0.22 mmol) and triethylamine 0.1% were added.
5 ml was added and the mixture was stirred at 40 ° C. After 18 hours, methanol was added to the reaction solution, and after stirring for a while, the reaction solution was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel 60 RP-18 (Merck,
Compound 9 (62.2 mg, 77.4) was purified using water as an eluent).
%). Data such as the physical constants of Compound 9 are the same as in Example 4.
【0079】次に、前記スキーム2において、R11がベ
ンゾイル基、R14がtert−ブチルジメチルシリル基、M
がナトリウム原子、Yがp−ニトロフェノキシ基の場合
について、合成を行った。各化合物の番号はスキーム2
に示したものと対応する。Next, in the above scheme 2, R 11 is a benzoyl group, R 14 is a tert-butyldimethylsilyl group, M
Was a sodium atom and Y was a p-nitrophenoxy group. The number of each compound is shown in Scheme 2.
Correspond to those shown in FIG.
【0080】 実施例7(化合物1→化合物14) 化合物1(100mg 、0.33mmol)をピリジン5ml に溶か
し、tert−ブチルジメチルシリルクロリド(120mg 、0.
80mmol)、ジメチルアミノピリジン(5mg )、トリエチ
ルアミン0.5ml を加え室温下18時間攪拌した。続いて
塩化ベンゾイル(0.173ml 、1.5mmol )を加え室温下で
更に18時間反応させた。反応液に氷片、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液を加え、クロロホルム50mlで3回抽
出した。抽出した有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧
留去した。残さをシリカゲルクロマトグラフィー(メル
ク社、60F254 、60ml、トルエン−酢酸エチル 1
0:1)で精製して化合物14(158mg 、94% )を得
た。 [ α] D +121.6 (C=2.0 、クロロホルム) 元素分析 calcd. for C39H41NO11Si C:64.36 、H:5.68、N:1.92 found C:64.23 、H:5.63、N:1.82Example 7 (Compound 1 → Compound 14) Compound 1 (100 mg, 0.33 mmol) was dissolved in 5 ml of pyridine, and tert-butyldimethylsilyl chloride (120 mg, 0.1 mg) was dissolved.
80 mmol), dimethylaminopyridine (5 mg) and 0.5 ml of triethylamine, and the mixture was stirred at room temperature for 18 hours. Subsequently, benzoyl chloride (0.173 ml, 1.5 mmol) was added, and the mixture was further reacted at room temperature for 18 hours. Ice chips and a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate were added to the reaction solution, and the mixture was extracted three times with 50 ml of chloroform. The extracted organic layer was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and water, dried over magnesium sulfate, and evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (Merck, 60F 254, 60ml, of toluene - ethyl acetate 1
0: 1) to give compound 14 (158 mg, 94%). [α] D + 121.6 (C = 2.0, chloroform) Elemental analysis calcd. for C 39 H 41 NO 11 Si C: 64.36, H: 5.68, N: 1.92 found C: 64.23, H: 5.63, N: 1.82
【0081】 実施例8(化合物14→化合物15) 化合物14(50mg、0.069mmol )をテトラヒドロフラン
5mlに溶かし、これに酢酸0.04ml及び1.0Mテトラブチ
ルアンモニウムフルオリド0.275ml を加え、18時間攪
拌した。クロロホルム100mlで希釈し、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネ
シウムで乾燥させ、減圧濃縮した。残さをシリカゲルク
ロマトグラフィー(10ml、トルエン−酢酸エチル3:
1)で精製して化合物15(38.5mg、91.3% )を得た。 [α] D +148.1 (C=3.9 、クロロホルム)Example 8 (Compound 14 → Compound 15) Compound 14 (50 mg, 0.069 mmol) was dissolved in 5 ml of tetrahydrofuran, and 0.04 ml of acetic acid and 0.275 ml of 1.0 M tetrabutylammonium fluoride were added thereto, followed by stirring for 18 hours. The mixture was diluted with 100 ml of chloroform, washed with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel chromatography (10 ml, toluene-ethyl acetate 3:
Purification in 1) gave compound 15 (38.5 mg, 91.3%). [α] D +148.1 (C = 3.9, chloroform)
【0082】 実施例9(化合物15→化合物16) 化合物15(1.94g 、3.16mmol)をジメチルホルムアミ
ド30mlにとかし、トリエチルアミン1ml 及び三酸化
硫黄トリメチルアミン錯体(3.8g、27.3mmol)を加え5
0℃で48時間攪拌した。シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製して化合物16(1.87g 、83% )を得
た。 [ α] D +106.2 (C=1.8 、メタノール) 元素分析 calcd. for C33H26NNaO14S ・H2O C:54.03 、H:3.85、S:4.37、N:1.91 found C:53.83 、H:3.79、S:4.15、N:1.83Example 9 (Compound 15 → Compound 16) Compound 15 (1.94 g, 3.16 mmol) was dissolved in 30 ml of dimethylformamide, and 1 ml of triethylamine and a trimethylamine complex of sulfur trioxide (3.8 g, 27.3 mmol) were added.
Stirred at 0 ° C. for 48 hours. Purification by silica gel column chromatography gave Compound 16 (1.87 g, 83%). [α] D + 106.2 (C = 1.8, methanol) Elemental analysis calcd. for C 33 H 26 NNaO 14 S ・ H 2 OC: 54.03, H: 3.85, S: 4.37, N: 1.91 found C: 53.83, H: 3.79, S: 4.15, N: 1.83
【0083】 実施例10(化合物16→化合物17) 化合物16(80mg、0.11mmol)をメタノール(2ml )に
溶かし、28%ナトリウムメチラート(0.048ml )を加
え、室温下で1時間攪拌した。Dowex H+ 型(商品名、
ダウケミカル社製)で中和しpH7 としたのちDowex を濾
過して除き、ろ液を減圧濃縮した。残さをシリカゲル
60 RP−18(メルク社、水を溶離液とした)で精
製して化合物17(31.6mg、70.1% )を得た。 [ α] D -64.2 (C=3.1 、水) FABMS m/z 426(M+Na) 元素分析 calcd. for C12H14NNaO11S・2H2O C:32.81 、H:4.13、N:3.19 S:7.30 found C:32.42 、H:3.44、N:2.95 S:6.88Example 10 (Compound 16 → Compound 17) Compound 16 (80 mg, 0.11 mmol) was dissolved in methanol (2 ml), 28% sodium methylate (0.048 ml) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Dowex H + type (product name,
After neutralization with Dow Chemical Co., Ltd.) to pH 7, Dowex was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. Silica gel residue
Purification with 60 RP-18 (Merck, using water as eluent) gave compound 17 (31.6 mg, 70.1%). [α] D-64.2 (C = 3.1, water) FABMS m / z 426 (M + Na) Elemental analysis calcd. for C 12 H 14 NNaO 11 S · 2H 2 OC: 32.81, H: 4.13, N: 3.19 S : 7.30 found C: 32.42, H: 3.44, N: 2.95 S: 6.88
【0084】次に、前記スキーム4において、Mがトリ
メチルアミノ基、Yがp−ニトロフェノキシ基の場合に
ついて合成を行い、得られた化合物29を用いてスキー
ム5の方法で化合物17を合成した。各化合物の番号は
スキーム4、5に示したものと対応する。Next, in the above scheme 4, synthesis was performed in the case where M was a trimethylamino group and Y was a p-nitrophenoxy group, and using the obtained compound 29, a compound 17 was synthesized by the method of scheme 5. The numbers of each compound correspond to those shown in Schemes 4 and 5.
【0085】参考例1 (化合物1→化合物29) 化合物1 78.7mgを乾燥ベンゼン15ml、THF 15mlに
溶かし、ビストリブチルスズオキシド0.203ml 、三酸化
イオウ・トリメチルアミン錯体333mgを加え、60
℃で3日間撹拌した。シリカゲル 60 RP−18
(メルク社、水を溶離液とした)で精製して化合物29
(132mg 、quant.)を得た。1H-NMR (D2O, 300MHz) ア
セトンを内部標準(2.07 ppm)として用いた。 δ 8.1 and 7.1 ppm (aromatics), 5.18 (H1, d, 7.8 H
z), 4.36 (H3, dd, 3.3 and 9.9 Hz), 4.30 (H4, bd,
3.3 Hz), 4.20-4.08 (m, H5, H6 and H6'), 3.88 (H3,
dd, 7.8 and 9.6 Hz). Reference Example 1 (Compound 1 → Compound 29) 78.7 mg of Compound 1 was dissolved in 15 ml of dry benzene and 15 ml of THF, and 0.203 ml of bistributyltin oxide and 333 mg of sulfur trioxide / trimethylamine complex were added.
Stirred at C for 3 days. Silica gel 60 RP-18
(Merck, using water as eluent) to give compound 29
(132 mg, quant.) Was obtained. 1 H-NMR (D 2 O, 300 MHz) Acetone was used as an internal standard (2.07 ppm). δ 8.1 and 7.1 ppm (aromatics), 5.18 (H1, d, 7.8 H
z), 4.36 (H3, dd, 3.3 and 9.9 Hz), 4.30 (H4, bd,
3.3 Hz), 4.20-4.08 (m, H5, H6 and H6 '), 3.88 (H3,
dd, 7.8 and 9.6 Hz).
【0086】参考例2 (化合物29→化合物17) 化合物29 80mgを2mlの酢酸−酢酸ナトリウム
(0.25M、pH6.8)に溶かし37℃で3日間、
カタツムリ由来(Helix pomatia)のスルファターゼ5w
t%の存在下放置した。反応終了後、ゲルろ過(LH−
20,溶離液は水)及びシリカゲル 60 RP−18
(メルク社、水を溶離液とした)で精製して化合物17
(60mg、94% )を得た。元素分析及びNMRの結果よ
り、得られた化合物が化合物17であることが確認でき
た。 REFERENCE EXAMPLE 2 (Compound 29 → Compound 17) 80 mg of Compound 29 was dissolved in 2 ml of acetic acid-sodium acetate (0.25 M, pH 6.8) at 37 ° C. for 3 days.
5w Sulfatase from snail (Helix pomatia)
It was left in the presence of t%. After completion of the reaction, gel filtration (LH-
20, eluent is water) and silica gel 60 RP-18
(Merck, water as eluent) to give compound 17
(60 mg, 94%). The result of elemental analysis and NMR confirmed that the obtained compound was Compound 17.
【0087】実施例11 実施例6で得た化合物9 700mg(1.74mmo
l)をメタノール200mlに溶かし、パラジウム−炭
素30mgを加え、水素雰囲気下で還元を行い、ニトロ
基をアミノ基に変換した。3時間後、パラジウム−炭素
をセライトろ過して除き、ろ液を減圧濃縮してニンヒド
リン反応にポジティブなp−アミノフェニル−3−硫酸
化ガラクトシド648mgを得た。続いて、この化合物
をこれ以上精製することなく、アクリロイル化を行っ
た。すなわち、得られたp−アミノフェニル−3−硫酸
化ガラクトシドを20mlのメタノールに溶かし、トリ
エチルアミン1.6ml及びアクリル酸クロライド0.
267ml(10mlの塩化メチレン溶液)を加え、5
時間撹拌した。その後、イオン交換樹脂で中和を行い、
pH7とした後、ろ過してイオン交換樹脂を除き、ろ液
を減圧濃縮した。残さをシリカゲル 60 RP−18
(メルク社製、水−メタノール=1:1を溶離液とし
た)で精製し、さらにダウエックス(Na+ 型)で処理
してp−アクリルアミドフェニル−3−硫酸化ガラクト
シド(化合物9のYをp−アクリルアミドフェノキシ基
に変換した化合物)431mg(58%)を得た。この
化合物の 1H−NMRスペクトルを図1に示した。 Example 11 700 mg (1.74 mmol) of compound 9 obtained in Example 6
l) was dissolved in methanol (200 ml), palladium-carbon (30 mg) was added, and the mixture was reduced under a hydrogen atmosphere to convert a nitro group into an amino group. After 3 hours, the palladium-carbon was removed by filtration through Celite, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 648 mg of p-aminophenyl-3-sulfated galactoside which was positive for the ninhydrin reaction. Subsequently, the compound was subjected to acryloylation without further purification. That is, the obtained p-aminophenyl-3-sulfated galactoside was dissolved in 20 ml of methanol, and 1.6 ml of triethylamine and 0.1 ml of acrylic acid chloride were dissolved.
267 ml (10 ml of methylene chloride solution) were added, and 5
Stirred for hours. After that, neutralize with ion exchange resin,
After adjusting the pH to 7, the mixture was filtered to remove the ion exchange resin, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue is silica gel 60 RP-18
(Eluent: water-methanol = 1: 1, manufactured by Merck & Co.), and further treated with Dowex (Na + type) to give p-acrylamidophenyl-3-sulfated galactoside (Y of compound 9 431 mg (58%) of a compound converted to a p-acrylamidophenoxy group was obtained. The 1 H-NMR spectrum of this compound is shown in FIG.
【0088】参考例3 実施例11で得られたp−アクリルアミドフェニル−3
−硫酸化ガラクトシド37mg(0.087mmol)
及びアクリルアミド62mgに、予め脱気した水1ml
を加え、その後十分に窒素置換を行った。テトラメチル
エチレンジアミン0.01ml及び過硫酸アンモニウム
0.01ml(100mg/ml H2Oの濃度の溶液
を用いた)を加え、30℃にて2時間振とうした。反応
液をメタノールに加え、沈殿物を遠心分離し、上澄み液
を除いた後、少量の水を加え、再度メタノールに対して
再沈殿を行った。凍結乾燥して、下記式で表わされる3
−硫酸化ガラクトースの高分子化合物32mgを得た。
この化合物の 1H−NMRスペクトルを図2に示した。
図2より、単量体のアクリル部分のシグナルの消失が認
められる。 Reference Example 3 p-acrylamidophenyl-3 obtained in Example 11
-37 mg (0.087 mmol) of sulfated galactoside
And 62 mg of acrylamide, 1 ml of degassed water in advance
Was added, followed by sufficient nitrogen substitution. 0.01 ml of tetramethylethylenediamine and 0.01 ml of ammonium persulfate (using a solution having a concentration of 100 mg / ml H 2 O) were added, and the mixture was shaken at 30 ° C. for 2 hours. The reaction solution was added to methanol, the precipitate was centrifuged, and the supernatant was removed. Then, a small amount of water was added, and reprecipitation was performed again in methanol. Lyophilized, 3
-32 mg of a polymer compound of sulfated galactose was obtained.
The 1 H-NMR spectrum of this compound is shown in FIG.
FIG. 2 shows that the signal of the acrylic portion of the monomer disappeared.
【0089】[0089]
【化22】 22Embedded image 22
【0090】 試験例 シアリルパラグロポシド(2−6結合体)へのインフル
エンザウイルス(A/Memphis/1/71(H3
N2))の結合が、参考例3で得られた3−硫酸化ガラ
クトースの高分子化合物によりどのくらい阻害されるか
をELISA法により評価し、この高分子化合物のウイ
ルスに対する認識能を試験した。参考例3で得られた高
分子化合物のIC50(50%の阻害をするときの濃度)
をフェツイン(ポジティブコントロール)のそれと比較
したところ、約2倍弱であった。従って本発明の化合物
は、ウイルス捕捉が可能であることがわかる。Test Example Influenza virus (A / Memphis / 1/71 (H3) to sialyl paragloposide (2-6 conjugate)
The degree of inhibition of the binding of N2)) by the polymer compound of 3-sulfated galactose obtained in Reference Example 3 was evaluated by ELISA, and the ability of the polymer compound to recognize a virus was tested. IC 50 of the polymer compound obtained in Reference Example 3 (concentration when inhibiting 50%)
Was about 2 times less than that of fetuin (positive control). Therefore, it is understood that the compound of the present invention can capture viruses.
【0091】[0091]
【発明の効果】本発明によれば、ヒトインフルエンザウ
イルスやエイズウイルス等との認識性のある、特定の位
置が硫酸化されたガラクトース化合物を、市販の原料を
用い、従来の3糖単位合成に比べ少ない工程で合成で
き、十分な量を供給することができる。また、この硫酸
化ガラクトース化合物をペンダントとして有する高分子
化合物を合成することができ、ウイルス捕捉材料として
の利用が期待できる新規な化合物が提供できるという優
れた効果を奏する。According to the present invention, a galactose compound having a specific position which is recognizable with human influenza virus or AIDS virus and which is sulfated at a specific position can be synthesized using a commercially available raw material in a conventional trisaccharide unit synthesis. It can be synthesized in fewer steps and can supply a sufficient amount. In addition, a high molecular compound having the sulfated galactose compound as a pendant can be synthesized, and an excellent effect that a novel compound that can be expected to be used as a virus capturing material can be provided is provided.
【図1】実施例11で得られた化合物の 1H−NMRス
ペクトルである。FIG. 1 is a 1 H-NMR spectrum of the compound obtained in Example 11 .
【図2】参考例3で得られた化合物の 1H−NMRスペ
クトルである。FIG. 2 is a 1 H-NMR spectrum of the compound obtained in Reference Example 3 .
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI A61K 31/795 A61K 31/795 C08F 220/56 C08F 220/56 (C08F 220/56 220:58) (72)発明者 小林 一清 愛知県愛知郡東郷町和合ケ丘3−13−10 (72)発明者 鈴木 康夫 静岡県静岡市谷田52−1 静岡県立大学 薬学部内 (72)発明者 碓氷 泰市 静岡県静岡市小鹿1739−7 (56)参考文献 Carbohybrate Rese arch,Vol.93(1981)p.177 −190 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07H 11/00 C07H 13/02 - 13/08 C07H 15/02 - 15/26 C07H 23/00 CAPLUS(STN) REGISTRY(STN)────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI A61K 31/795 A61K 31/795 C08F 220/56 C08F 220/56 (C08F 220/56 220: 58) (72) Inventor: Kazu Kobayashi Kiyoshi 3-13-10, Wadagaoka, Togo-cho, Aichi-gun, Aichi Prefecture (72) Inventor Yasuo Suzuki 52-1 Yata, Shizuoka-shi, Shizuoka Pref. 7 (56) References Carbohybrate Research Arch, Vol. 93 (1981) p. 177 -190 (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) C07H 11/00 C07H 13/02-13/08 C07H 15/02-15/26 C07H 23/00 CAPPLUS (STN) REGISTRY (STN )
Claims (5)
(I−3)で表わされるガラクトース化合物。 【化1】 01(式中、R1 は水素原子又はアセチル基と同等もし
くはそれ以上に脱アシル化しにくいアシル基を表わし、
R2 は水素原子又はアセチル基より脱アシル化しやすい
アシル基を表わし、R3 は水素原子、アセチル基と同等
もしくはそれ以上に脱アシル化しにくいアシル基又はシ
リル基を表わし、R4 は水素原子、アセチル基より脱ア
シル化しやすいアシル基又はシリル基を表わす。式中の
2つ又は3つのR1 は、互いに同一でも異なってもよ
い。また、3位と4位又は4位と6位の置換基が互いに
結合してアセタール又はヘミアセタールを形成してもよ
い。ただし、2位、3位、4位及び6位の置換基がすべ
て水素原子であることはない。Yは、ニトロフェノキシ
基、アミノフェノキシ基、アクリルアミドフェノキシ
基、アリルフェノキシ基、アリルアルキルオキシ基、ア
ルキルオキシ基、アリルオキシ基を表わす。)1. A galactose compound represented by the following formula (I-1), formula (I-2) or formula (I-3). Embedded image 01 (in the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an acyl group which is hard to be deacylated by the same degree or more as an acetyl group;
R 2 represents a hydrogen atom or an acyl group which is more easily deacylated than an acetyl group; R 3 represents a hydrogen atom, an acyl group or a silyl group which is harder to be deacylated than or more than an acetyl group; R 4 is a hydrogen atom; It represents an acyl group or a silyl group that is more easily deacylated than an acetyl group. Two or three R 1 in the formula may be the same or different from each other. Further, the substituents at the 3- and 4-positions or the 4- and 6-positions may be bonded to each other to form an acetal or a hemiacetal. However, the substituents at the 2-, 3-, 4- and 6-positions are not all hydrogen atoms. Y is nitrophenoxy
Group, aminophenoxy group, acrylamide phenoxy
Group, allylphenoxy group, allylalkyloxy group,
Represents a alkyloxy group or an allyloxy group. )
表わされる硫酸化ガラクトース化合物。 【化2】 02(式中、R5 、R6 及びR7 は水素原子、アシル基
又はシリル基を表わす。R5〜R7 は、互いに同一でも
異なってもよい。また、式(II)においてR6 とR7は
互いに結合してアセタール、ヘミアセタールを形成して
もよい。Yは前記と同義である。Mは水素原子、アルカ
リ金属原子、アンモニウム基又は有機アミンを表わ
す。)2. A sulfated galactose compound represented by the following formula (II), formula (III) or formula (IV). Embedded image 02 (wherein, R 5, R 6 and R 7 are a hydrogen atom, .R 5 to R 7 representing an acyl group or a silyl group may be the same or different from each other. Further, the R 6 in the formula (II) R 7 may combine with each other to form an acetal or a hemiacetal; Y has the same meaning as described above; and M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group, or an organic amine.
るガラクトース化合物を硫酸化試薬と反応させることを
特徴とする下記式(II)で表わされる硫酸化ガラクトー
ス化合物の製造方法。 【化3】 03(式中、R 5 、R 6 、R 7 、Y及びMは前記と同義
である。) 3. The compound represented by the formula (I-1) according to claim 1.
Reacting a galactose compound with a sulfating reagent
Sulfated galactose represented by the following formula (II):
A method for producing a compound. Embedded image 03 (wherein R 5 , R 6 , R 7 , Y and M are as defined above)
It is. )
るガラクトース化合物を硫酸化試薬と反応させることを
特徴とする下記式(III)で表わされる硫酸化ガラクトー
ス化合物の製造方法。 【化4】 04(式中、R 5 、R 6 、R 7 、Y及びMは前記と同義
である。) 4. A compound represented by the formula (I-2) according to claim 1.
Reacting a galactose compound with a sulfating reagent
Characterized sulfated galactose represented by the following formula (III)
A method for producing a compound. Embedded image 04 (wherein, R 5 , R 6 , R 7 , Y and M are as defined above.
It is. )
るガラクトース化合物を硫酸化試薬と反応させることを
特徴とする下記式(IV)で表わされる硫酸化ガラクトー
ス化合物の製造方法。 【化5】 05(式中、R 5 、R 6 、R 7 、Y及びMは前記と同義
である。) 5. The compound represented by the formula (I-3) according to claim 1.
Reacting a galactose compound with a sulfating reagent
Sulfated galactose represented by the following formula (IV):
A method for producing a compound. Embedded image 05 (wherein R 5 , R 6 , R 7 , Y and M are as defined above)
It is. )
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---|---|---|---|
JP10631398A JP2997768B2 (en) | 1998-03-05 | 1998-04-16 | Sulfated galactose compound, intermediate thereof, and method for producing the sulfated galactose compound |
Applications Claiming Priority (3)
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JP10-53020 | 1998-03-05 | ||
JP10631398A JP2997768B2 (en) | 1998-03-05 | 1998-04-16 | Sulfated galactose compound, intermediate thereof, and method for producing the sulfated galactose compound |
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---|---|---|---|
JP4264299A Division JPH11315101A (en) | 1998-03-05 | 1999-02-22 | Sulfated galactose polymer |
JP4264199A Division JPH11315092A (en) | 1998-03-05 | 1999-02-22 | Sulfated galactose compound, its intermediate and production of sulfated galactose compound |
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JPH11315091A JPH11315091A (en) | 1999-11-16 |
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JP10631398A Expired - Lifetime JP2997768B2 (en) | 1998-03-05 | 1998-04-16 | Sulfated galactose compound, intermediate thereof, and method for producing the sulfated galactose compound |
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---|---|---|---|---|
JP4753022B2 (en) * | 2004-02-17 | 2011-08-17 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | Prion growth inhibitor |
WO2007139028A1 (en) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Kaneka Corporation | Separating material and method for collecting cell or the like using the same |
-
1998
- 1998-04-16 JP JP10631398A patent/JP2997768B2/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Carbohybrate Research,Vol.93(1981)p.177−190 |
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JPH11315091A (en) | 1999-11-16 |
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