JP2993221B2 - Liquid crystal alignment film, liquid crystal holding substrate and liquid crystal display device having the same, and material for liquid crystal alignment film - Google Patents

Liquid crystal alignment film, liquid crystal holding substrate and liquid crystal display device having the same, and material for liquid crystal alignment film

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JP2993221B2
JP2993221B2 JP3259522A JP25952291A JP2993221B2 JP 2993221 B2 JP2993221 B2 JP 2993221B2 JP 3259522 A JP3259522 A JP 3259522A JP 25952291 A JP25952291 A JP 25952291A JP 2993221 B2 JP2993221 B2 JP 2993221B2
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crystal alignment
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶配向膜、これを有
する液晶挾持基板及び液晶表示素子並びに液晶配向膜用
材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal alignment film, a liquid crystal sandwiching substrate having the same, a liquid crystal display device, and a material for the liquid crystal alignment film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、大型ディスプレイ用液晶表示素子
には、視覚特性をよくするためにSTN(スーパーツイ
ステッドネマチック)方式が用いられている。これは、
セル内で液晶分子の長軸方向が240〜270°ねじれ
た方式(240〜270°ツイスト)である。STN方
式液晶表示素子の製造には、高いプレチルト角を安定し
て得られる配向膜材料が不可欠である。また、表示素子
のカラー化にともない、カラーフィルタの耐熱性上の制
限から、低い硬化温度で膜形成できる配向膜材料が望ま
れている。そこで、このような高いプレチルト角の配向
膜を得るために (1)フルオロアルキル基が鎖状炭素に結合しているポ
リイミドを用いる方法(特開昭62−174725号公
報、米国特許4,735,492号明細書)、 (2)ポリイミドに長鎖フルオロアルキル基を有するア
ミン化合物を添加する方法(特開平1−180518号
公報)、(3)長鎖フルオロアルキル基を有する金属錯
体を添加する方法(第13回液晶討論会予稿集1987
年10月)などが検討されている。しかし、これらの方
法では何れも安定したプレチルト角が得られない欠点が
あった。また、特開昭62−207332号公報には、
下記化5で示される含フツ素ポリベンゾオキサゾールが
開示されるが、これも液晶配向膜として安定したプレチ
ルト角が得られない。
2. Description of the Related Art Conventionally, an STN (super twisted nematic) system has been used for a liquid crystal display element for a large display in order to improve visual characteristics. this is,
The long axis direction of the liquid crystal molecules is twisted by 240 to 270 ° in the cell (240 to 270 ° twist). An alignment film material that can stably obtain a high pretilt angle is indispensable for manufacturing an STN mode liquid crystal display element. Further, with the development of color display elements, there is a demand for an alignment film material that can form a film at a low curing temperature due to the limitation on heat resistance of a color filter. Therefore, in order to obtain an alignment film having such a high pretilt angle, (1) a method using a polyimide in which a fluoroalkyl group is bonded to a chain carbon (Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-174725, U.S. Pat. 492), (2) a method of adding an amine compound having a long-chain fluoroalkyl group to polyimide (JP-A-1-180518), (3) a method of adding a metal complex having a long-chain fluoroalkyl group (Proceedings of the 13th Liquid Crystal Symposium 1987
October). However, any of these methods has a disadvantage that a stable pretilt angle cannot be obtained. Also, JP-A-62-207332 discloses that
Although a fluorine-containing polybenzoxazole represented by the following formula (5) is disclosed, a stable pretilt angle cannot be obtained as a liquid crystal alignment film.

【化5】 (ただし、式中R6は、二価の芳香族基を示す)。Embedded image (Wherein, R 6 represents a divalent aromatic group).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の従来
技術の問題点を解決し、安定して高いプレチルト角を示
す液晶配向膜、これを有する液晶挾持基板及び液晶表示
素子並びに液晶配向膜用組成物を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art and provides a liquid crystal alignment film stably exhibiting a high pretilt angle, a liquid crystal holding substrate, a liquid crystal display element and a liquid crystal alignment film having the same. To provide a composition for use.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明における液晶配向
膜は、化6〔一般式(I)〕
Means for Solving the Problems The liquid crystal alignment film of the present invention is represented by the following chemical formula (I).

【化6】 〔ただし、一般式(I)中、Rfは−Cn2n-1(ここ
で、nは6〜12の整数である)を示し、ベンゼン環の
水素は置換されていてもよく、Xは芳香環を含む四価の
有機基を示し、2組のNとOはそれぞれ五員環を形成す
るようにX内の芳香環に互いにオルト位に結合してい
る〕で表わされる構成単位を含む含フツ素ポリベンゾオ
キサゾールを含むものである。
Embedded image [However, in the general formula (I), Rf is -C n F 2n-1 (where, n represents a is 6-12 integer) indicates the hydrogen of the benzene ring may be substituted, X is A tetravalent organic group containing an aromatic ring, wherein two sets of N and O are respectively bonded to the aromatic ring in X at the ortho position so as to form a five-membered ring] It contains fluorine-containing polybenzoxazole.

【0005】一般式(I)において、ベンゼン環に結合
していてもよい置換基としては、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素等がある。
In the general formula (I), examples of the substituent which may be bonded to the benzene ring include a lower alkyl group, a lower alkoxy group, fluorine, chlorine and bromine.

【0006】前記含フツ素ポリベンゾオキサゾールはさ
らに化7〔一般式(I′)〕
The above-mentioned fluorine-containing polybenzoxazole is further represented by the general formula (I).

【化7】 〔ただし、一般式(I′)中、Zは、上記の一般式
(I)中の、化8〔一般式(α)〕
Embedded image [However, in the general formula (I ′), Z is a compound represented by the following general formula (I):

【化8】 で示される基以外の二価の有機基であり、X′は芳香環
を含む四価の有機基を示し、2組のNとOはそれぞれ五
員環を形成するようにX′内の芳香環に互いにオルト位
に結合している〕で表わされる構成単位を含んでいても
よい。
Embedded image And X 'is a tetravalent organic group containing an aromatic ring, and two sets of N and O represent an aromatic group in X' so as to form a five-membered ring, respectively. To the ring at the ortho position to each other].

【0007】前記含フッ素ポリベンゾオキサゾールは、
前記一般式(I)で表わされる構成単位と前記一般式
(I′)で表わされる構成単位を後者/前者がモル比で
0/100〜95/5になるように含むのが好ましく、
特に0/100〜90/10になるように含むのが好ま
しい。前記一般式(I)で表わされる構成単位が少ない
含フッ素ポリイミドは、プレチルト角が低下する傾向が
ある。
The fluorine-containing polybenzoxazole is
It is preferable that the structural unit represented by the general formula (I) and the structural unit represented by the general formula (I ′) are contained so that the molar ratio of the latter / the former is 0/100 to 95/5,
In particular, it is preferable to include it so as to be 0/100 to 90/10. The fluorine-containing polyimide having a small number of structural units represented by the general formula (I) tends to have a low pretilt angle.

【0008】前記液晶配向膜をITO(Indium Tin Oxi
de)等の透明電極が形成されたガラス基板等の適当な基
板上に形成し、上記液晶配向膜を有する液晶挾持基板と
することができる。
The liquid crystal alignment film is formed of ITO (Indium Tin Oxi).
The liquid crystal holding substrate having the liquid crystal alignment film can be formed on an appropriate substrate such as a glass substrate on which a transparent electrode such as de) is formed.

【0009】また、上記液晶挾持基板を用いて公知の方
法により、電極が設けられており、しかもこの電極の上
に前記液晶配向膜が液晶に面して設けられている液晶挾
持基板を有する液晶表示素子とすることができる。
An electrode is provided by a known method using the above-mentioned liquid crystal holding substrate, and the liquid crystal has a liquid crystal holding substrate on which the liquid crystal alignment film is provided facing the liquid crystal. It can be a display element.

【0010】前記液晶配向膜は、含フツ素ポリベンゾオ
キサゾールの前駆体である含フツ素ポリヒドロキシアミ
ドを含有してなる液晶配向膜用材料を用いて作製するこ
とができる。含フツ素ポリヒドロキシアミドは、化9
〔一般式(II)〕
The liquid crystal alignment film can be prepared by using a liquid crystal alignment film material containing a fluorine-containing polyhydroxyamide which is a precursor of a fluorine-containing polybenzoxazole. Fluorine-containing polyhydroxyamide is
[General formula (II)]

【化9】 〔ただし、一般式(II)中、Rf及びXはそれぞれ一
般式(II)に同じであり、ベンゼン環の水素は低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲンで置換されて
いてもよく、NHと−OHはX内の芳香環に互いにオル
ト位に結合している〕で表わされる構成単位を含むもの
である。
Embedded image [However, in the general formula (II), Rf and X are the same as those in the general formula (II), and the hydrogen of the benzene ring may be substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a halogen; OH is bonded to the aromatic ring in X at the ortho-position to each other].

【0011】上記含フツ素ポリヒドロキシアミドは、上
記一般式(II)で表わされる構成単位とともに化10
〔一般式(II′)〕
The above-mentioned fluorine-containing polyhydroxyamide is represented by the general formula (II):
[General formula (II ')]

【化10】 〔ただし、一般式(II′)中、Z及びX′は、一般式
(I′)に同じであり、2組のNHとOHはそれぞれX
内の芳香環に互いにオルト位に結合している〕で表わさ
れる構成単位を含んでいてもよい。この場合、一般式
(II)で表わされる構成単位を5〜100モル%及び
一般式(II′)で表わされる構成単位を95〜0モル
%含むようにするのが好ましい。
Embedded image [However, in the general formula (II '), Z and X' are the same as in the general formula (I '), and two sets of NH and OH are each represented by X
Are bonded to the aromatic ring at the ortho position to each other.] In this case, it is preferable to contain 5 to 100 mol% of the structural unit represented by the general formula (II) and 95 to 0 mol% of the structural unit represented by the general formula (II ′).

【0012】前記液晶配向膜は、次に説明するポリベン
ゾオキサゾール系樹脂を含有してなる液晶配向膜用材料
を用いて作製することができる。
The liquid crystal alignment film can be manufactured using a liquid crystal alignment film material containing a polybenzoxazole-based resin described below.

【0013】上記ポリベンゾオキサゾール系樹脂は、化
11〔一般式(III)〕
The polybenzoxazole-based resin is represented by the following general formula (III):

【化11】 〔ただし、一般式(III)中、Rfは−Cn2n-1(こ
こで、nは6〜12の整数である)を示し、ベンゼン環
の水素は置換されていてもよい〕で表わされる芳香族ジ
カルボン酸又はそのアミド形成性誘導体を含む酸成分及
び化12〔一般式(IV)〕
Embedded image [However, in the general formula (III), Rf is -C n F 2n-1 (where, n represents a is 6-12 integer) indicates the hydrogen of the benzene ring may be substituted] represented by And an acid component containing an aromatic dicarboxylic acid or an amide-forming derivative thereof represented by the general formula (IV):

【化12】 〔ただし、一般式(IV)中、R1,R2,R3及びR4
それぞれ独立に、水素又はトリアルキルシリル基を示
し、Xは芳香環を含む四価の有機基を示し、、−NH−
1と−O−R3及び−NH−R2と−O−R4はそれぞ
れ、X内の芳香族環にオルト位に結合している〕で表わ
されるビス(アミノフエノール)化合物を含むアミノフ
エノール成分を反応させることより得ることができる。
Embedded image [Wherein, in the general formula (IV), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent hydrogen or a trialkylsilyl group, X represents a tetravalent organic group containing an aromatic ring, -NH-
R 1 and —O—R 3 and —NH—R 2 and —O—R 4 are each bonded to the aromatic ring in X at the ortho position.] It can be obtained by reacting a phenol component.

【0014】この方法は、一般式(III)で表わされ
る芳香族ジカルボン酸又はそのアミド形成性誘導体を酸
成分とし、一般式(IV)で表わされるビス(アミノフ
エノール)化合物をその反応の相手(アミノフエノール
成分)とし、これらを縮合又は縮合・閉環反応させるも
のであり、酸成分としては、上記芳香族ジカルボン酸又
はそのアミド形成性誘導体以外に上記アミノフエノール
成分と反応性のジカルボン酸又はそのアミド形成性誘導
体を併用してもよい。
In this method, an aromatic dicarboxylic acid represented by the general formula (III) or an amide-forming derivative thereof is used as an acid component, and a bis (aminophenol) compound represented by the general formula (IV) is used as a reaction partner ( An aminophenol component) and a condensation or condensation / ring-closure reaction thereof. As the acid component, a dicarboxylic acid or an amide thereof reactive with the aminophenol component in addition to the aromatic dicarboxylic acid or an amide-forming derivative thereof. A forming derivative may be used in combination.

【0015】一般式(III)で表わされるジカルボン
酸化合物としては、5−(パーフルオロノネニルオキ
シ)イソフタル酸、4−(パーフルオロノネニルオキ
シ)フタル酸、2−(パーフルオロノネニルオキシ)テ
レフタル酸、4−メチル−5−(パーフルオロノネニル
オキシ)イソフタル酸、4−メトキシ−5−(パーフル
オロノネニルオキシ)イソフタル酸、2,4,6−トリ
フルオロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)イソフ
タル酸、4−クロロ−5−(パーフルオロノネニルオキ
シ)イソフタル酸、4−ブロモ−5−(パーフルオロノ
ネニルオキシ)イソフタル酸、4−メチル−5−(パー
フルオロノネニルオキシ)フタル酸、4−メトキシ−5
−(パーフルオロノネニル)フタル酸、3,4,6−ト
リフルオロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)フタ
ル酸、4−クロロ−5−(パーフルオロノネニルオキ
シ)フタル酸、4−ブロモ−5−(パーフルオロノネニ
ルオキシ)フタル酸、2−メチル−5−(パーフルオロ
ノネニルオキシ)テレフタル酸、4−メトキシ−5−
(パーフルオロノネニルオキシ)テレフタル酸、2,
3,6−トリフルオロ−5−(パーフルオロノネニルオ
キシ)テレフタル酸、2−クロロ−5−(パーフルオロ
ノネニルオキシ)テレフタル酸、2−ブロモ−5−(パ
ーフルオロノネニルオキシ)テレフタル酸、5−(パー
フルオロヘキセニルオキシ)イソフタル酸、4−(パー
フルオロヘキセニルオキシ)フタル酸、2−(パーフル
オロヘキセニルオキシ)テレフタル酸、4−メチル−5
−(パーフルオロヘキセニルオキシ)イソフタル酸、4
−メトキシ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)イ
ソフタル酸、2,4,6−トリフルオロ−5−(パーフ
ルオロヘキセニルオキシ)イソフタル酸、4−クロロ−
5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)イソフタル酸、
4−ブロモ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)イ
ソフタル酸、4−メチル−5−(パーフルオロヘキセニ
ルオキシ)フタル酸、4−メトキシ−5−(パーフルオ
ロヘキセニルオキシ)フタル酸、3,4,6−トリフル
オロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)フタル
酸、4−クロロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキ
シ)フタル酸、4−ブロモ−5−(パーフルオロヘキセ
ニルオキシ)フタル酸、2−メチル−5−(パーフルオ
ロヘキセニルオキシ)テレフタル酸、4−メトキシ−5
−(パーフルオロヘキセニルオキシ)テレフタル酸、
2,3,6−トリフルオロ−5−(パーフルオロヘキセ
ニルオキシ)テレフタル酸、2−クロロ−5−(パーフ
ルオロヘキセニルオキシ)テレフタル酸、2−ブロモ−
5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)テレフタル酸等
がある。
Examples of the dicarboxylic acid compound represented by the general formula (III) include 5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 4- (perfluorononenyloxy) phthalic acid, and 2- (perfluorononenyloxy) Terephthalic acid, 4-methyl-5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 4-methoxy-5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 2,4,6-trifluoro-5- (perfluorononene Nyloxy) isophthalic acid, 4-chloro-5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 4-bromo-5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 4-methyl-5- (perfluorononenyloxy) ) Phthalic acid, 4-methoxy-5
-(Perfluorononenyl) phthalic acid, 3,4,6-trifluoro-5- (perfluorononenyloxy) phthalic acid, 4-chloro-5- (perfluorononenyloxy) phthalic acid, 4-bromo -5- (perfluorononenyloxy) phthalic acid, 2-methyl-5- (perfluorononenyloxy) terephthalic acid, 4-methoxy-5-
(Perfluorononenyloxy) terephthalic acid, 2,
3,6-trifluoro-5- (perfluorononenyloxy) terephthalic acid, 2-chloro-5- (perfluorononenyloxy) terephthalic acid, 2-bromo-5- (perfluorononenyloxy) terephthalic acid 5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 2- (perfluorohexenyloxy) terephthalic acid, 4-methyl-5
-(Perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4
-Methoxy-5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 2,4,6-trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4-chloro-
5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid,
4-bromo-5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4-methyl-5- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 4-methoxy-5- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 3,4,6 -Trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 4-chloro-5- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 4-bromo-5- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 2-methyl-5 -(Perfluorohexenyloxy) terephthalic acid, 4-methoxy-5
-(Perfluorohexenyloxy) terephthalic acid,
2,3,6-trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) terephthalic acid, 2-chloro-5- (perfluorohexenyloxy) terephthalic acid, 2-bromo-
5- (perfluorohexenyloxy) terephthalic acid and the like.

【0016】パーフルオロノネニル基としては、例え
ば、化13〔式(A)〕
As the perfluorononenyl group, for example, a compound represented by the following formula (A):

【化13】 の基があり、パーフルオロヘキセニル基としては、例え
ば化14〔式(B)〕
Embedded image And the perfluorohexenyl group is, for example, a compound represented by the following formula (B):

【化14】 の基がある。Embedded image There is a group.

【0017】一般式(III)で表わされる芳香族ジカ
ルボン酸のうちパーフルオロアルケニルオキシイソフタ
ル酸は、例えば、特開昭60−51146号公報に記載
されているp−パーフルオロアルケニルオキシ安息香酸
の製造法に準拠して調製することができる。例えば、5
−ヒドロキシイソフタル酸とヘキサフルオロプロペン二
量体もしくは三量体を過剰のアミンの存在下で反応させ
ることによつて製造することができ、他のものもこれと
同様に対応するジカルボン酸とパーフルオロアルケンを
使用して製造することができる。
Among the aromatic dicarboxylic acids represented by the general formula (III), perfluoroalkenyloxyisophthalic acid can be produced, for example, by producing p-perfluoroalkenyloxybenzoic acid described in JP-A-60-511146. It can be prepared according to the law. For example, 5
-Hydroxyisophthalic acid can be prepared by reacting a dimer or trimer of hexafluoropropene in the presence of an excess of an amine, the others likewise corresponding to the corresponding dicarboxylic acid and perfluoro It can be manufactured using alkenes.

【0018】また、前記した一般式(III)で表わさ
れるジカルボン酸は、例えば、特開昭50−12124
3号公報に記載の方法に準じて、ヒドロキシ−ジカルボ
キシベンゼンのジフエニルエステル,ジベンジルエステ
ル等のエステルとフルオロプロペン3量体,テトラフル
オロエチレン5量体等のフルオロアルケンのオリゴマー
をプロトン受容体の存在下、非プロトン性有機溶媒中、
室温附近又はそれ以下で塩基触媒の存在下に反応させた
後、反応生成物を単離し、該反応生成物を水酸化ナトリ
ウム,水酸化カリウム等の塩基性化合物の存在下、加水
分解し、さらに適宜塩酸等の酸で処理することにより製
造することができる。上記反応生成物及び最終生成物
は、適宜、洗浄,再結晶等の手段で精製される。
The dicarboxylic acid represented by the above general formula (III) is described in, for example, JP-A-50-12124.
According to the method described in JP-A No. 3 (1993) -3, an oligomer of an ester of hydroxy-dicarboxybenzene such as diphenyl ester or dibenzyl ester and an oligomer of a fluoroalkene such as fluoropropene trimer or tetrafluoroethylene pentamer is used as a proton acceptor. In an aprotic organic solvent in the presence of
After reacting at or below room temperature in the presence of a base catalyst, the reaction product is isolated, and the reaction product is hydrolyzed in the presence of a basic compound such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like. It can be produced by appropriately treating with an acid such as hydrochloric acid. The reaction product and the final product are appropriately purified by means such as washing and recrystallization.

【0019】前記一般式(III)で表わされる芳香族
ジカルボン酸のアミド形成性誘導体とは、前記一般式
(IV)で表わされるビス(アミノフエノール)と反応
してアミド結合を形成し得る誘導体であり、上記芳香族
ジカルボン酸のジクロライド、ジブロマイド等の酸ハロ
ゲン化物、該酸のジメチルエステル、ジエチルエステル
等のジアルキルエステル等がある。
The amide-forming derivative of the aromatic dicarboxylic acid represented by the general formula (III) is a derivative capable of forming an amide bond by reacting with the bis (aminophenol) represented by the general formula (IV). There are acid halides such as dichloride and dibromide of the above aromatic dicarboxylic acid, and dialkyl esters such as dimethyl ester and diethyl ester of the acid.

【0020】上記ジクロライドは、例えば、一般式(I
II)で表わされる芳香族ジカルボン酸に塩化チオニル
を反応させることによつて高収率で得ることができる。
The dichloride is, for example, represented by the general formula (I)
The compound can be obtained in high yield by reacting the aromatic dicarboxylic acid represented by II) with thionyl chloride.

【0021】上記ジメチルエステル、ジエチルエステル
等のジアルキルエステルは、酸の存在下、それぞれメタ
ノール、エタノール等のアルコールを一般式(III)
で表わされる芳香族ジカルボン酸に反応させることによ
り、得ることができる。
The above-mentioned dialkyl esters such as dimethyl ester and diethyl ester can be prepared by converting an alcohol such as methanol or ethanol into a compound of the formula (III) in the presence of an acid.
By reacting with an aromatic dicarboxylic acid represented by the formula:

【0022】前記した一般式(III)で表わされる芳
香族ジカルボン酸又はそのアミド形成性誘導体と併用し
てもよいジカルボン酸又はそのアミド形成性誘導体とし
ては、化15〔一般式(III′)〕
The dicarboxylic acid or the amide-forming derivative thereof which may be used in combination with the aromatic dicarboxylic acid or the amide-forming derivative thereof represented by the general formula (III) is represented by the following formula (III).

【化15】 〔ただし、一般式(III′)中、Zは一般式(I′)
に同じである〕で表わされるジカルボン酸又はそのアミ
ド形成性誘導体があり、一般式(III′)中のZが、
芳香環を含む2価の有機基であるジカルボン酸又はその
アミド形成性誘導体が、得られる重合体の耐熱性の点で
好ましい。芳香環を含む2価の有機基としては、化16
〔一般式(a)〕
Embedded image [However, in the general formula (III '), Z is the general formula (I')
Is the same as the above), or a amide-forming derivative thereof, wherein Z in the general formula (III ′) is
Dicarboxylic acid, which is a divalent organic group containing an aromatic ring, or an amide-forming derivative thereof is preferable in view of heat resistance of the obtained polymer. As the divalent organic group containing an aromatic ring,
[General formula (a)]

【化16】 で表わされる基、化17〔一般式(b)〕Embedded image A group represented by the general formula (b):

【化17】 〔ここで、Z′は、結合、−O−、−S−、−SO
2−、−C(=O)−、−CH2−、−C(CH32−、
−CF2−、−C(CF32−等を示す〕で表わされる
基、化18〔一般式(c)〕
Embedded image [Where Z 'is a bond, -O-, -S-, -SO
2 -, - C (= O ) -, - CH 2 -, - C (CH 3) 2 -,
—CF 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, etc.];

【化18】 (ここで、Z′は前記と同様のものを示し、2個のZ′
は同一でも異なつていてもよい)で表わされる基又は化
19〔一般式(d)〕
Embedded image (Where Z 'is the same as above, and two Z's
May be the same or different) or a group represented by the general formula (d):

【化19】 (ここで、Z′は前記と同様のものを示し、3個のZ′
は同一でも異なつていてもよい)で表わされる基などが
あり、これらの基は、適宜、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、塩素、臭素、フツ素等のハロゲンなどで置換
されていてもよい。これらの基は、一般式(I′)及び
一般式(II′)のZでもある。
Embedded image (Where Z 'is the same as above and three Z's
May be the same or different), and these groups may be appropriately substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, halogen such as chlorine, bromine, and fluorine. . These groups are also Z in general formulas (I ') and (II').

【0023】一般式(III′)で表されるジカルボン
酸の例としては、シユウ酸,マロン酸,コハク酸,グル
タル酸,アジピン酸,ピメリン酸,スベリン酸,アゼラ
イン酸,セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸,フタル
酸,イソフタル酸,テレフタル酸,3,3′−ジカルボ
キシルジフエニルエーテル、3,4′−ジカルボキシル
ジフエニルエーテル、4,4′−ジカルボキシルジフエ
ニルエーテル、3,3′−ジカルボキシルジフエニルメ
タン、3,4′−ジカルボキシルジフエニルメタン、
4,4′−ジカルボキシルジフエニルメタン、3,3′
−ジカルボキシルジフエニルジフルオロメタン、3,
4′−ジカルボキシルジフエニルジフルオロメタン、
4,4′−ジカルボキシルジフエニルジフルオロメタ
ン、3,3′−ジカルボキシルジフエニルスルホン、
3,4′−ジカルボキシルジフエニルスルホン4,4′
−ジカルボキシルジフエニルスルホン、3,3′−ジカ
ルボキシルジフエニルスルフイド、3,4′−ジカルボ
キシルジフエニルスルフイド、4,4′−ジカルボキシ
ルジフエニルスルフイド、3,3′−ジカルボキシルジ
フエニルケトン、3,4′−ジカルボキシルジフエニル
ケトン、4,4′−ジカルボキシルジフエニルケトン、
2,2−ビス(3−カルボキシルフエニル)プロパン、
22−(3,4′−ジカルボキシルジフエニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−カルボキシルフエニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−カルボキシルフエニル)ヘキサ
フルオロプロパン、2,2−(3,4′−ジカルボキシ
ルジフエニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス
(4−カルボキシルフエニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、1,3−ビス(3−カルボキシルフエノキシ)ベン
ゼン、1,4−ビス(3−カルボキシルフエノキシ)ベ
ンゼン、1,4−ビス(4−カルボキシルフエノキシ)
ベンゼン、3,3′−(1,4−フエニレンビス(1−
メチルエチリデン))ビス安息香酸、3,4′−(1,
4−フエニレンビス(1−メチルエチリデン))ビス安息
香酸、4,4′−(1,4−フエニレンビス(1−メチ
ルエチリデン))ビス安息香酸、2,2−ビス(4−
(3−カルボキシルフエノキシ)フエニル)プロパン、
2,2−ビス(4−(4−カルボキシルフエノキシ)フ
エニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−カルボキ
シルフエノキシ)フエニル)ヘキサフルオロプロパン、
2,2−ビス(4−(4−カルボキシルフエノキシ)フ
エニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(3−カ
ルボキシルフエノキシ)フエニル)スルフイド、ビス
(4−(4−カルボキシルフエノキシ)フエニル)スル
フイド、ビス(4−(3−カルボキシルフエノキシ)フ
エニル)スルホン、ビス(4−(4−カルボキシルフエ
ノキシ)フエニル)スルホン等の芳香族ジカルボン酸が
ある。
Examples of the dicarboxylic acids represented by the general formula (III ') include aliphatic acids such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid and sebacic acid. Dicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 3,3'-dicarboxylic diphenyl ether, 3,4'-dicarboxylic diphenyl ether, 4,4'-dicarboxylic diphenyl ether, 3,3'- Dicarboxyldiphenylmethane, 3,4'-dicarboxyldiphenylmethane,
4,4'-dicarboxyldiphenylmethane, 3,3 '
-Dicarboxyldiphenyldifluoromethane, 3,
4'-dicarboxyldiphenyldifluoromethane,
4,4'-dicarboxyldiphenyldifluoromethane, 3,3'-dicarboxyldiphenylsulfone,
3,4'-dicarboxyldiphenylsulfone 4,4 '
Dicarboxylic diphenyl sulfone, 3,3'-dicarboxyl diphenyl sulfide, 3,4'-dicarboxyl diphenyl sulfide, 4,4'-dicarboxyl diphenyl sulfide, 3,3 ' -Dicarboxylic diphenyl ketone, 3,4'-dicarboxylic diphenyl ketone, 4,4'-dicarboxylic diphenyl ketone,
2,2-bis (3-carboxylphenyl) propane,
22- (3,4'-dicarboxylphenyl) propane, 2,2-bis (4-carboxylphenyl) propane, 2,2-bis (3-carboxylphenyl) hexafluoropropane, 2,2- ( 3,4'-dicarboxylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-carboxylphenyl) hexafluoropropane, 1,3-bis (3-carboxylphenoxy) benzene, 1,4-bis (3-carboxylphenoxy) benzene, 1,4-bis (4-carboxylphenoxy)
Benzene, 3,3 '-(1,4-phenylenebis (1-
Methylethylidene)) bisbenzoic acid, 3,4 '-(1,
4-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisbenzoic acid, 4,4 '-(1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisbenzoic acid, 2,2-bis (4-
(3-carboxylphenoxy) phenyl) propane,
2,2-bis (4- (4-carboxylphenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (3-carboxylphenoxy) phenyl) hexafluoropropane,
2,2-bis (4- (4-carboxylphenoxy) phenyl) hexafluoropropane, bis (4- (3-carboxylphenoxy) phenyl) sulfide, bis (4- (4-carboxylphenoxy) phenyl) There are aromatic dicarboxylic acids such as phenyl) sulfide, bis (4- (3-carboxylphenoxy) phenyl) sulfone and bis (4- (4-carboxylphenoxy) phenyl) sulfone.

【0024】前記一般式(III′)で表わされるジカ
ルボン酸のアミド形成性誘導体としては、該ジカルボン
酸のジクロライド、ジブロマイド等の酸ハロゲン化物、
該ジカルボン酸のジメチルエステル、ジエチルエステル
等のジアルキルエステル等がある。
Examples of the amide-forming derivative of the dicarboxylic acid represented by the general formula (III ') include acid halides of the dicarboxylic acid such as dichloride and dibromide.
Examples of the dicarboxylic acid include dialkyl esters such as dimethyl ester and diethyl ester.

【0025】前記酸成分としては、一般式(III)で
表わされる芳香族ジカルボン酸又はそのアミド形成性誘
導体を酸成分中、5〜100モル%、特に10〜100
モル%使用するのが好ましい。
As the acid component, an aromatic dicarboxylic acid represented by the general formula (III) or an amide-forming derivative thereof is used in an amount of 5 to 100 mol%, especially 10 to 100 mol%.
It is preferred to use mol%.

【0026】一般式(IV)で表わされるビス(アミノ
フエノール)化合物のうちR1,R2,R3,R4がトリア
ルキルシリル基で表わされるトリアルキルシリル化ジア
ミンは、マクロモレキユールズ(Macromolec
ules)第21巻2305頁(1988年)以下に示
されるような3,3′−ビス(トリメチルシロキシ)−
4,4′−ビス(トリメチルシリルアミノ)ビフエニル
の製造法に準拠して調整することができる。例えば、
4,4′−ジアミノ−3,3′−ジヒドロキシビフエニ
ルのテトラヒドロフラン溶液中でトリエチルアミンの存
在下、トリアルキルシリルクロライドを反応させて、
3,3′−ビス(トリアルキルシロキシ)−4,4′−
ビス(トリアルキルシリルアミノ)ビフエニルを得るこ
とができる。
Among the bis (aminophenol) compounds represented by the general formula (IV), trialkylsilylated diamines in which R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are represented by trialkylsilyl groups are macromolecular compounds. (Macromolec
ules) 21, 3305 (1988) 3,3'-bis (trimethylsiloxy)-as shown below.
It can be adjusted in accordance with the production method of 4,4'-bis (trimethylsilylamino) biphenyl. For example,
Reacting a trialkylsilyl chloride in a tetrahydrofuran solution of 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxybiphenyl in the presence of triethylamine,
3,3'-bis (trialkylsiloxy) -4,4'-
Bis (trialkylsilylamino) biphenyl can be obtained.

【0027】一般式(IV)で表わされるビス(アミノ
フエノール)化合物としては、より高分子量のベンゾオ
キサゾール系重合体を得るためには、少なくともR1
びR2がトリアルキルシリル基であるものが好ましい。
トリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基等がある。
As the bis (aminophenol) compound represented by the general formula (IV), a compound in which at least R 1 and R 2 are a trialkylsilyl group in order to obtain a higher molecular weight benzoxazole-based polymer. preferable.
As the trialkylsilyl group, a trimethylsilyl group,
There are a triethylsilyl group and a tripropylsilyl group.

【0028】一般式(IV)中のXとしては、例えば化
20〔一般式(a′)〕
X in the general formula (IV) is, for example,

【化20】 で表わされる基、化21〔一般式(b′)〕Embedded image A group represented by the general formula (b)

【化21】 〔ただし、式中、Yは結合、−O−,−S−,−SO2
−,−C−,−CH2−,−C(CH32−,−CF
2−,−C(CF32−又は−Rf′−(ORf′)m
(ここでRf′は2価のフルオロカーボンを示し、nは
1〜5の整数であり、複数個のRf′は同一でも異なつ
ていてもよい)〕で表わされる基、化22〔一般式
(c′)〕
Embedded image [Wherein, Y is a bond, -O-, -S-, -SO 2
-, - C -, - CH 2 -, - C (CH 3) 2 -, - CF
2- , -C (CF 3 ) 2 -or -Rf '-(ORf') m-
Wherein Rf ′ represents a divalent fluorocarbon, n is an integer of 1 to 5, and a plurality of Rf ′s may be the same or different. c ')]

【化22】 〔ただし、式中、Yは一般式(b′)に同じであり、2
個のYは同一でも異なつていてもよい〕で表わされる基
又は化23〔一般式(d′)〕
Embedded image [Wherein, Y is the same as general formula (b '), and 2
Y may be the same or different], or a group represented by the general formula (d ')

【化23】 〔ただし、式中、Yは一般式(b′)に同じであり、3
個のYは同一でも異なつていてもよい〕で表わされる基
等があり、これらの基中のベンゼン環が適宜、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、ハロゲンなどで置換されて
いてもよい。これらの基は、一般式(I)、一般式
(I′)、一般式(II)及び一般式(II′)のX又
はX′でもある。
Embedded image [Wherein, Y is the same as general formula (b ′), and 3
Y may be the same or different], and the benzene ring in these groups may be appropriately substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen, or the like. These groups are also X or X 'in general formulas (I), (I'), (II) and (II ').

【0029】一般式(IV)で表わされるビス(アミノ
フエノール)化合物としては3,4−ジアミノ−1,5
−ベンゼンジオール、3,3′−ジヒトロキシ−4,
4′−ジアミノビフエニル、3,3′−ジアミノ−4,
4′−ジヒドロキシビフエニル、2,2′−ビス(3−
アミノ−4−ヒドロキシフエニル)ケトン、2,2−ビ
ス(3−アミノ−4−ヒドロキシフエニル)スルフイ
ド、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフエニ
ル)エーテル、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−ア
ミノフエニル)スルホン、2,2−ビス(3−アミノ−
4−ヒドロキシフエニル)プロパン、2,2−ビス(3
−ヒドロキシ−4−アミノフエニル)プロパン、2,2
−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフエニル)メタ
ン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−ヒド
ロキシ−4−アミノフエニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフ エ
ニル)ジフルオロメタン、下記化24、化25、化2
6、化27等及びこれらのトリアルキルシリル化物があ
る。
As the bis (aminophenol) compound represented by the general formula (IV), 3,4-diamino-1,5
-Benzenediol, 3,3'-dihydroxyl-4,
4'-diaminobiphenyl, 3,3'-diamino-4,
4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-bis (3-
Amino-4-hydroxyphenyl) ketone, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) sulfide, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) ether, 2,2- Bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) sulfone, 2,2-bis (3-amino-
4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3
-Hydroxy-4-aminophenyl) propane, 2,2
-Bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) methane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) hexafluoropropane 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) difluoromethane,
And trialkylsilyl compounds thereof.

【化24】 Embedded image

【化25】 Embedded image

【化26】 Embedded image

【化27】 Embedded image

【0030】前記酸成分とアミノフエノール成分を適当
な温度で反応させることにより含フツ素ポリベンゾオキ
サゾール及び含フツ素ポリヒドロキシアミド(ヒドロキ
シル基が前記したようにトリアルキルシリル化されてい
るものを含む。以下同じ)を製造することができる。こ
の反応に際し、適当な条件を選定することにより、閉環
の度合を適宜調整することができる。例えば、前記酸成
分と前記アミノフエノール成分を溶融させて(好ましく
は200℃以上の温度で)、無溶媒で反応させる方法、
前記酸成分と前記アミノフエノール成分を有機溶媒中又
はポリリン酸中、150℃以上で反応させる方法により
ほとんど又は完全に閉環したポリベンゾオキサゾールを
製造することができ、前記酸成分(時にジハライド)と
前記アミノフエノール成分を有機溶媒中、80℃以下、
特に50℃以下で反応させることにより、ポリベンゾオ
キサゾールの前駆体であつてほとんど又は全く閉環して
いないポリヒドロキシアミドを製造することができる。
The acid component and the aminophenol component are reacted at an appropriate temperature to obtain a fluorine-containing polybenzoxazole and a fluorine-containing polyhydroxyamide (including those in which the hydroxyl group is trialkylsilylated as described above). The same applies hereinafter). In this reaction, the degree of ring closure can be appropriately adjusted by selecting appropriate conditions. For example, a method in which the acid component and the aminophenol component are melted (preferably at a temperature of 200 ° C. or higher) and reacted without a solvent,
By reacting the acid component and the aminophenol component in an organic solvent or polyphosphoric acid at 150 ° C. or higher, almost or completely closed-ring polybenzoxazole can be produced, and the acid component (sometimes dihalide) and the Aminophenol component in an organic solvent, 80 ° C or less,
In particular, by reacting at 50 ° C. or lower, a polyhydroxyamide which is a precursor of polybenzoxazole and has little or no ring closure can be produced.

【0031】また、ポリベンゾオキサゾール前駆体〔上
記ポリヒドロキシアミド又は閉環が部分的に進行したポ
リヒドロキシアミド〕は、さらに100℃以上、特に1
50℃以上で必要に応じ無水酢酸、無水プロピオン酸、
無水安息香酸等の酸無水物、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド等のカルボジイミド等の閉環剤、さらに必要に応
じてピリジン,イソキノリン、トリメチルアミン、アミ
ノピリジン、イミダゾール等の閉環触媒を添加して、化
学閉環させ(閉環剤及び閉環触媒は、それぞれ酸成分1
モルに対して1〜8モルの範囲内で使用するのが好まし
い)、閉環がほとんど又は完全に完結したポリベンゾオ
キサゾールを製造することができる。これらの反応は、
有機溶剤の存在下で行うことが好ましい。
The polybenzoxazole precursor (the above-mentioned polyhydroxyamide or the polyhydroxyamide in which ring-closure is partially advanced) is further heated to 100 ° C.
Acetic anhydride, propionic anhydride as required at 50 ° C or higher,
An acid anhydride such as benzoic anhydride, a ring-closing agent such as carbodiimide such as dicyclohexylcarbodiimide, and, if necessary, a ring-closing catalyst such as pyridine, isoquinoline, trimethylamine, aminopyridine, imidazole and the like are added to chemically close the ring (ring closing agent and Each of the ring-closing catalysts has an acid component
It is preferable to use within a range of 1 to 8 moles per mole), so that a polybenzoxazole in which ring closure is almost or completely completed can be produced. These reactions are
Preferably, the reaction is performed in the presence of an organic solvent.

【0032】上記において使用できる有機溶媒として
は、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、フエノー
ル、m−クレゾール、クロルベンゼンなどの有機極性溶
媒があり、互いに相溶すれば2種類以上を混合して用い
ても良い。また、これらの有機極性溶媒とともに、トル
エン、キシレン、セロソルブアセテート、メチルセロソ
ルブなどの汎用溶媒をポリベンゾオキサゾール又はその
前駆体の溶解性を低下させない範囲で併用することがで
きる。
Examples of the organic solvent which can be used in the above include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoramide, phenol, m-cresol, and chlorol. There is an organic polar solvent such as benzene, and two or more kinds may be used as a mixture as long as they are compatible with each other. A general-purpose solvent such as toluene, xylene, cellosolve acetate, or methyl cellosolve can be used together with these organic polar solvents as long as the solubility of polybenzoxazole or its precursor is not reduced.

【0033】上記した反応のいずれにおいても、酸成分
としてジハライドを使用する場合、反応を適宜ハロゲン
化水素トラツプ剤の存在下に行なうことができる。ハロ
ゲン化水素トラツプ剤としては、ピリジン、トリエチル
アミン、ジメチルアニリン等の三級アミンがある。
In any of the above reactions, when dihalide is used as the acid component, the reaction can be appropriately carried out in the presence of a hydrogen halide trapping agent. Examples of the hydrogen halide trapping agent include tertiary amines such as pyridine, triethylamine and dimethylaniline.

【0034】前記酸成分とビス(アミノフエノール)成
分の反応は等モル又はほぼ等モルで行なうのが好まし
く、各成分の添加順序は任意である。
The reaction between the acid component and the bis (aminophenol) component is preferably carried out in an equimolar or almost equimolar manner, and the order of addition of each component is arbitrary.

【0035】以上の反応において、化10で表わされる
ビス(アミノフエノール)化合物の基−NH−R1 又は
基−NH−R2 は、基−O−R3 又は基−O−R4 に優
先して反応する。
In the above reaction, the group —NH—R 1 or —NH—R 2 of the bis (aminophenol) compound represented by the formula (10) takes precedence over the group —OR 3 or the group —OR 4 . And react.

【0036】また、一般式(IV)で表わされるビス
(アミノフエノール)化合物として、式中のR3又はR4
がトリアルキルシリル基であるものを用い、含フツ素ポ
リベンゾオキサゾールの前駆体を前記した方法で生成さ
せた場合、得られる重合体は化10中、OH基の少なく
とも一方がトリアルキルシロキシ基である構成単位を含
むが、この重合体は、反応液をそのまま又は単離してメ
タノール又は水に添加することにより、トリアルキルシ
ロキシ基をOH基に転換することができる。
As the bis (aminophenol) compound represented by the general formula (IV), R 3 or R 4
Is a trialkylsilyl group, and a precursor of a fluorine-containing polybenzoxazole is produced by the method described above, the resulting polymer is represented by the following formula, in which at least one of the OH groups is a trialkylsiloxy group. Although containing a certain structural unit, this polymer can convert a trialkylsiloxy group into an OH group by adding the reaction solution as it is or by isolating it to methanol or water.

【0037】前記の含フツ素ポリベンゾオキサゾール及
び含フツ素ポリヒドロキシアミド等のベンゾオキサゾー
ル系樹脂は、それぞれ、ジメチルアセトアミド(DMA
c)に溶解するものは、該溶媒に0.1g/dl の濃度
で溶解し、30℃で測定した還元粘度が0.01dl/
g 以上、特に0.3dl/g 以上のものが好ましい。
前記ポリヒドロキシアミドは、DMAcに溶解する。
The above-mentioned benzoxazole-based resins such as fluorine-containing polybenzoxazole and fluorine-containing polyhydroxyamide are dimethylacetamide (DMA), respectively.
Those dissolved in c) are dissolved in the solvent at a concentration of 0.1 g / dl, and the reduced viscosity measured at 30 ° C. is 0.01 dl / d.
g or more, particularly preferably 0.3 dl / g or more.
The polyhydroxyamide dissolves in DMAc.

【0038】前記液晶配向膜用材料は、前記ポリベンゾ
オキサゾール系樹脂を含有するものであるが、このポリ
ベンゾオキサゾール系樹脂を有機溶媒に溶解したもの
(ワニス)であるのが好ましい。有機溶媒としては、ポ
リベンゾオキサゾール系樹脂の製造時に使用できるもの
として先に例示したものが使用できる。使用する有機溶
媒の選択は、ポリベンゾオキサゾール系樹脂の溶解性を
考慮して決定されるが、ポリベンゾオキサゾール系樹脂
のうち、ポリヒドロキシアミド酸等のポリベンゾオキサ
ゾールの前駆体は有機溶媒への溶解性は良好である。
The material for a liquid crystal alignment film contains the above-mentioned polybenzoxazole-based resin, and is preferably a material obtained by dissolving this polybenzoxazole-based resin in an organic solvent (varnish). As the organic solvent, those exemplified above as those which can be used when producing the polybenzoxazole-based resin can be used. The choice of the organic solvent to be used is determined in consideration of the solubility of the polybenzoxazole-based resin. Among the polybenzoxazole-based resins, a precursor of polybenzoxazole such as polyhydroxyamic acid is used in the organic solvent. The solubility is good.

【0039】前記液晶配向膜用材料は、例えば、あらか
じめITO(Indium Tin Oxide)等の透明電極が形成さ
れたガラス基板等の適当な基板上に塗布され、乾燥して
ポリベンゾオキサゾール層とされる。塗布方法として
は、浸漬法、印刷法、吹付け法等の方法が用いられる。
乾燥温度は60〜350℃、好ましくは100〜300
℃の範囲で選択されるが、ポリベンゾオキサゾール系樹
脂としてポリヒドロキシアミド酸等のポリベンゾオキサ
ゾールの前駆体を使用する場合は、閉環が起こる温度以
上とされ、このためには200℃以上が好ましい。また
加熱時間は1分〜6時間、好ましくは1分〜3時間とさ
れる。基板とポリベンゾオキサゾール層との密着性をよ
くするために、この間にシランカップリング剤、チタン
カップリング剤等のカップリング剤を用いてもよい。
The material for a liquid crystal alignment film is applied on an appropriate substrate such as a glass substrate on which a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) is formed in advance, and dried to form a polybenzoxazole layer. . As a coating method, a dipping method, a printing method, a spraying method, or the like is used.
The drying temperature is 60-350 ° C, preferably 100-300.
Although it is selected in the range of ° C., when a precursor of polybenzoxazole such as polyhydroxyamidic acid is used as the polybenzoxazole-based resin, the temperature is not lower than the temperature at which ring closure occurs. For this purpose, 200 ° C. or higher is preferable. . The heating time is 1 minute to 6 hours, preferably 1 minute to 3 hours. In order to improve the adhesion between the substrate and the polybenzoxazole layer, a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent may be used between them.

【0040】このようにして形成されたポリベンゾオキ
サゾール層は、表面をラビングすることによって液晶配
向膜として用いる。また、該液晶配向膜を有する液晶挾
持基板を用いて公知の方法により液晶表示素子を得るこ
とができる。
The polybenzoxazole layer thus formed is used as a liquid crystal alignment film by rubbing the surface. Further, a liquid crystal display device can be obtained by a known method using a liquid crystal holding substrate having the liquid crystal alignment film.

【0041】前記液晶配向膜は、240〜270°のツ
イスト角を有するSTN方式の液晶表示素子に特に適し
ている。
The liquid crystal alignment film is particularly suitable for an STN mode liquid crystal display device having a twist angle of 240 to 270 °.

【0042】[0042]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明の範囲は、これらの実施例によって限定されるもの
ではない。以下において使用した5−(パーフルオロノ
ネニルオキシ)イソフタル酸ジクロライドは、下記化2
8の化合物である。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited by these examples. 5- (Perfluorononenyloxy) isophthalic acid dichloride used in the following was
8 compound.

【化28】 Embedded image

【0043】合成例1 かくはん装置,窒素導入管,乾燥管を備えた反応容器
に、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノビフ
エニル2.16g(0.01モル),ピリジン1.74g
(0.022モル),ジメチルアセトアミド12.3gを
入れ氷水浴で冷却した。3,3′−ジヒドロキシ−4,
4′−ジアミノビフエニルが溶解したら、5−パーフル
オロノネニルオキシイソフタル酸ジクロライド6.49
g(0.01モル)を少量ずつ加える。かくはんを5時間
行つた後に、反応溶液を多量のメタノール中に注ぎポリ
マーを沈でんさせた。沈でんしたポリマーをろ別、メタ
ノールで洗浄後、乾燥を行い、ポリヒドロキシアミドを
得た。
Synthesis Example 1 In a reaction vessel equipped with a stirring device, a nitrogen introducing tube, and a drying tube, 2.16 g (0.01 mol) of 3,3'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl and 1.1 of pyridine. 74g
(0.022 mol) and 12.3 g of dimethylacetamide were cooled in an ice-water bath. 3,3'-dihydroxy-4,
When 4'-diaminobiphenyl is dissolved, 6.49-perfluorononenyloxyisophthalic acid dichloride is obtained.
g (0.01 mol) are added in small portions. After stirring for 5 hours, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to precipitate the polymer. The precipitated polymer was separated by filtration, washed with methanol, and dried to obtain polyhydroxyamide.

【0044】合成例2 かくはん装置,窒素導入管,乾燥管を備えた反応容器
に、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン3.66g(0.01モ
ル),ピリジン1.74g(0.022モル),ジメチルア
セトアミド15.2gを入れ氷水浴で冷却した。2,2
−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシ)ヘキサフルオロ
プロパンが溶解したら、5−パーフルオロノネニルオキ
シイソフタル酸ジクロライド6.49g(0.01モル)
を少量ずつ加える。かくはんを5時間行つた後、反応溶
液を多量のメタノール中に注ぎ、ポリマーを沈でんさせ
た。沈でんしたポリマーをろ別、メタノールで洗浄後、
乾燥を行いポリヒドロキシアミドを得た。
Synthesis Example 2 3.66 g (0.01 mol) of 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane was placed in a reaction vessel equipped with a stirring device, a nitrogen introducing tube, and a drying tube. , 1.74 g (0.022 mol) of pyridine and 15.2 g of dimethylacetamide were cooled in an ice-water bath. 2,2
When bis- (3-amino-4-hydroxy) hexafluoropropane is dissolved, 6.49 g (0.01 mol) of 5-perfluorononenyloxyisophthalic acid dichloride is obtained.
Is added in small portions. After stirring for 5 hours, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to precipitate the polymer. The precipitated polymer is separated by filtration and washed with methanol.
Drying was performed to obtain polyhydroxyamide.

【0045】合成例3 かくはん装置,窒素導入管,乾燥管を備えた反応容器
に、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノビフ
エニル2.16g(0.01モル),ピリジン1.74g
(0.022モル),ジメチルアセトアミド9.65gを
入れ氷水浴で冷却した。3,3′−ジヒドロキシ−4,
4′−ジアミノビフエニルが溶解したら、5−パーフル
オロノネニルオキシイソフタル酸ジクロライド3.25
g(0.005モル)とイソフタル酸ジクロライド1.0
2g(0.005モル)を少量ずつ添加する。かくはんを
5時間行つた後、反応溶液を多量のメタノール中に注ぎ
ポリマーを沈でんさせた。沈でんしたポリマーをろ別、
メタノールで洗浄後、乾燥を行い、ポリヒドロキシアミ
ドを得た。
Synthesis Example 3 2.16 g (0.01 mol) of 3,3'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl in a reaction vessel equipped with a stirring device, a nitrogen introducing tube, and a drying tube, and pyridine 1. 74g
(0.022 mol) and 9.65 g of dimethylacetamide were cooled in an ice-water bath. 3,3'-dihydroxy-4,
When 4'-diaminobiphenyl is dissolved, 3.25-perfluorononenyloxyisophthalic acid dichloride 3.25
g (0.005 mol) and isophthalic dichloride 1.0
2 g (0.005 mol) are added in small portions. After stirring for 5 hours, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to precipitate the polymer. Filtration of the precipitated polymer,
After washing with methanol, drying was performed to obtain polyhydroxyamide.

【0046】合成例4 かくはん装置,窒素導入管,乾燥管を備えた反応容器
に、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン3.66g(0.01モ
ル),ピリジン1.74g(0.022モル),ジメチルア
セトアミド9.2gを入れ氷水浴中で冷却した。2,2
−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフエニル)ヘキサ
フルオロパロパンが溶解したら、5−パーフルオロノネ
ニルオキシイソフタル酸ジクロライド0.65g(0.0
01モル),イソフタル酸ジクロライド1.83g(0.
009モル)を少量ずつ加える。かくはんを5時間行つ
た後、反応溶液を多量のメタノール中に注ぎ、ポリマー
を沈でんさせた。沈でんしたポリマーをろ別、メタノー
ルで洗浄後、乾燥を行いポリヒドロキシアミドを得た。
Synthesis Example 4 3.66 g (0.01 mol) of 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane was placed in a reaction vessel equipped with a stirring device, a nitrogen introducing tube, and a drying tube. , 1.74 g (0.022 mol) of pyridine and 9.2 g of dimethylacetamide were cooled in an ice-water bath. 2,2
When bis- (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoroparopane is dissolved, 0.65 g (0.06 g) of 5-perfluorononenyloxyisophthalic acid dichloride is added.
01 mol), 1.83 g of isophthalic acid dichloride (0.8 mol).
009 mol) is added in small portions. After stirring for 5 hours, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to precipitate the polymer. The precipitated polymer was separated by filtration, washed with methanol, and dried to obtain polyhydroxyamide.

【0047】合成例5 かくはん装置,窒素導入管,球入り冷却管を備えた反応
容器に、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノ
ビフエニル2.16g(0.01モル),ポリリン酸10
0gを入れ200℃に加熱する。5−パーフルオロノネ
ニルオキシイソフタル酸6.12g(0.01モル)を加
え、200℃で4時間反応させる。反応液を水中に注ぎ
ポリマーを沈でんさせた。沈でんしたポリマーをろ別、
水、炭酸水素ナトリウムの希薄水溶液、水、メタノール
で洗浄後乾燥し、ポリベンゾオキサゾールを得た。
Synthesis Example 5 2.16 g (0.01 mol) of 3,3'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl was added to a reaction vessel equipped with a stirring device, a nitrogen inlet tube, and a cooling tube containing balls. Acid 10
Add 0 g and heat to 200 ° C. 6.12 g (0.01 mol) of 5-perfluorononenyloxyisophthalic acid is added and reacted at 200 ° C. for 4 hours. The reaction solution was poured into water to precipitate the polymer. Filtration of the precipitated polymer,
After washing with water, a dilute aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and methanol, and drying, polybenzoxazole was obtained.

【0048】合成例6 かくはん装置,窒素導入管,乾燥管を備えた反応容器
に、3,3′−ビス(トリメチルシロキシ)−4,4′
−ビス(トリメチルシリルアミノ)−ビフエニル5.0
5g(0.01モル),ジメチルアセトアミド17.3g
を入れ氷水浴で冷却した。5−パーフルオロノネニル
オキシイソフタル酸ジクロライド6.49g(0.01モ
ル)を少量ずつ加える。かくはんを5時間行つた後、反
応溶液を多量のメタノール中に注ぎ、ポリマーを沈でん
させた。沈でんしたポリマーをろ別、メタノールで洗浄
後、乾燥を行いポリヒドロキシアミドを得た。
Synthesis Example 6 3,3'-Bis (trimethylsiloxy) -4,4 'was placed in a reaction vessel equipped with a stirring device, a nitrogen inlet tube and a drying tube.
-Bis (trimethylsilylamino) -biphenyl 5.0
5 g (0.01 mol), dimethylacetamide 17.3 g
And cooled in an ice-water bath. 6.49 g (0.01 mol) of 5-perfluorononenyloxyisophthalic dichloride are added in small portions. After stirring for 5 hours, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to precipitate the polymer. The precipitated polymer was separated by filtration, washed with methanol, and dried to obtain polyhydroxyamide.

【0049】合成例7 かくはん装置,窒素導入管,乾燥管を備えた反応容器
に、2,2−ビス(4−(トリメチルシロキシ)−3
(トリメチルシリルアミノ)ヘキサフルオロプロパン
6.55g(0.01モル),ジメチルアセトアミド1
9.5gを入れ氷水浴中で冷却した。5−パーフルオロ
ノネニルオキシイソフタル酸ジクロライド6.49g
(0.01モル)を少量ずつ加える。かくはんを5時間
行つた後、反応溶液を多量のメタノール中に注ぎ、ポリ
マーを沈でんさせた。沈でんしたポリマーをろ別、メタ
ノールで洗浄後、乾燥しポリヒドロキシアミドを得た。
Synthesis Example 7 2,2-bis (4- (trimethylsiloxy) -3) was added to a reaction vessel equipped with a stirring device, a nitrogen inlet tube, and a drying tube.
6.55 g (0.01 mol) of (trimethylsilylamino) hexafluoropropane, dimethylacetamide 1
9.5 g was put and cooled in an ice water bath. 6.49 g of 5-perfluorononenyloxyisophthalic acid dichloride
(0.01 mol) are added in small portions. After stirring for 5 hours, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to precipitate the polymer. The precipitated polymer was separated by filtration, washed with methanol, and dried to obtain polyhydroxyamide.

【0050】合成例8 合成例1で示した5−パーフルオロノネニルオキシイソ
フタル酸ジクロライド6.49gの代わりに、イソフタ
ル酸ジクロライド2.03g(0.01モル)を用いて合
成例1と同様にポリヒドロキシアミドを得た。
Synthesis Example 8 In the same manner as in Synthesis Example 1, except that 6.49 g of 5-perfluorononenyloxyisophthalic acid dichloride shown in Synthesis Example 1 was replaced by 2.03 g (0.01 mol) of isophthalic acid dichloride. Polyhydroxyamide was obtained.

【0051】合成例9 合成例7の5−パーフルオロノネニルオキシイソフタル
酸ジクロライド6.49gの代わりに、イソフタル酸ジ
クロライド2.03g(0.01モル)を用いて合成例7
と同様にポリヒドロキシアミドを得た。
Synthesis Example 9 Synthesis Example 7 was conducted using 2.03 g (0.01 mol) of isophthalic acid dichloride instead of 6.49 g of 5-perfluorononenyloxyisophthalic acid dichloride of Synthesis Example 7.
And a polyhydroxyamide was obtained.

【0052】実施例1〜7及び比較例1〜2 合成例1〜9で得られたポリマーをジメチルアセトアミ
ドで約5%になるように希釈し、液晶配向膜用組成物を
調製した。この溶液を2枚のITO透明電極付きガラス
基板上にスピンナー塗布し、250℃で1時間加熱乾燥
し、厚さ500Åのポリベンゾオキサゾール層を形成し
た。次に該ポリベンゾオキサゾール層の表面をラビング
処理して液晶挾持基板を得、この2枚をラビング方向が
アンチパラレルになるようにポリベンゾオキサゾール層
を対向させて組合せた後、周りをエポキシ系シール剤E
N−1000(日立化成工業株式会社商品名)で封止
し、120℃で2時間の加熱硬化を行って試験用液晶表
示セルを組み立てた。該試験用液晶表示セルに室温で液
晶ZLI−1132(メルク社製商品名)を封入し、液
晶セルを形成した。液晶のTNI(71℃)以上の温度で
ある120℃で1時間加熱した後、該セルのプレチルト
角をレーザー光を用いて測定した。表1に、使用したポ
リヒドロキシアミド及びポリベンゾオキサゾール(これ
を作製した合成例)と共に測定した結果を示す。
Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 The polymers obtained in Synthesis Examples 1 to 9 were diluted with dimethylacetamide to about 5% to prepare a composition for a liquid crystal alignment film. This solution was spin-coated on two glass substrates with ITO transparent electrodes, and dried by heating at 250 ° C. for 1 hour to form a polybenzoxazole layer having a thickness of 500 °. Next, the surface of the polybenzoxazole layer is subjected to a rubbing treatment to obtain a liquid crystal holding substrate. The two substrates are combined with the polybenzoxazole layers facing each other so that the rubbing directions are antiparallel. Agent E
Sealed with N-1000 (trade name of Hitachi Chemical Co., Ltd.), and heat-cured at 120 ° C. for 2 hours to assemble a test liquid crystal display cell. Liquid crystal ZLI-1132 (trade name, manufactured by Merck) was sealed in the test liquid crystal display cell at room temperature to form a liquid crystal cell. After heating the liquid crystal at 120 ° C., which is a temperature not lower than T NI (71 ° C.), for 1 hour, the pretilt angle of the cell was measured using a laser beam. Table 1 shows the results measured together with the used polyhydroxyamide and polybenzoxazole (synthesis examples for producing the same).

【表1】 [Table 1]

【0053】次に前記合成例1〜7で得られたポリアミ
ド酸の溶液(液晶配向膜用組成物)を用いて前記と同様
の方法で640×200ドットになるようにITO透明
電極が形成された基板上にポリイミド層を形成し、この
層の表面をラビング処理し、上記と同様にして240°
ツイストになるようにセルを組み立てて室温で上記液晶
にカイラル剤S−811(メルク社製)を添加して調整
した液晶を封入し、120℃で1時間加熱して液晶表示
素子を形成した。得られた液晶表示素子はいずれも、6
40×200ドットで駆動でき、ドメイン等の配向不良
が発生せず高表示品質であった。
Next, using the polyamic acid solution (composition for liquid crystal alignment film) obtained in Synthesis Examples 1 to 7, an ITO transparent electrode was formed so as to have 640 × 200 dots by the same method as described above. A polyimide layer is formed on the substrate which has been rubbed, and the surface of the
The cell was assembled so as to be twisted, and a liquid crystal adjusted by adding a chiral agent S-811 (manufactured by Merck) to the liquid crystal at room temperature was sealed, and heated at 120 ° C. for 1 hour to form a liquid crystal display device. Each of the obtained liquid crystal display devices has a 6
The display was able to be driven by 40 × 200 dots, and high display quality was obtained without occurrence of poor orientation such as domains.

【0054】[0054]

【発明の効果】請求項1における液晶配向膜によれば、
安定して高いプレチルト角が得られ、請求項2における
液晶挾持基板は同様に優れたプレチルト角を発現でき、
請求項3の液晶表示素子は同様に優れたプレチルト角を
示し、請求項4及び請求項5における液晶配向膜用材料
から請求項1における液晶配向膜を得ることができる。
According to the liquid crystal alignment film of the first aspect,
A high pretilt angle can be obtained stably, and the liquid crystal holding substrate according to claim 2 can also exhibit an excellent pretilt angle.
The liquid crystal display element according to the third aspect also exhibits an excellent pretilt angle, and the liquid crystal alignment film according to the first aspect can be obtained from the liquid crystal alignment film material according to the fourth and fifth aspects.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G02F 1/1337 520 C08G 69/32 C08G 69/48 C09K 19/02 C09K 19/38 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) G02F 1/1337 520 C08G 69/32 C08G 69/48 C09K 19/02 C09K 19/38

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】化1〔一般式(I)〕 【化1】 〔ただし、一般式(I)中、Rfは−Cn2n-1(ここ
で、nは6〜12の整数である)を示し、ベンゼン環の
水素は置換されていてもよく、Xは芳香環を含む四価の
有機基を示し、2組のNとOはそれぞれ五員環を形成す
るようにX内の芳香環に互いにオルト位に結合してい
る〕で表わされる構成単位を含む含フツ素ポリベンゾオ
キサゾールを含む液晶配向膜。
[Chemical formula 1] [Chemical formula 1] [However, in the general formula (I), Rf is -C n F 2n-1 (where, n represents a is 6-12 integer) indicates the hydrogen of the benzene ring may be substituted, X is A tetravalent organic group containing an aromatic ring, wherein two sets of N and O are respectively bonded to the aromatic ring in X at the ortho position so as to form a five-membered ring] Liquid crystal alignment film containing fluorine-containing polybenzoxazole.
【請求項2】 請求項1記載の液晶配向膜を有する液晶
挾持基板。
2. A liquid crystal holding substrate having the liquid crystal alignment film according to claim 1.
【請求項3】 電極が設けられており、しかもこの電極
の上に請求項1記載の液晶配向膜が液晶に面して設けら
れている液晶挾持基板を有する液晶表示素子。
3. A liquid crystal display device comprising an electrode provided thereon, and further comprising a liquid crystal holding substrate on which the liquid crystal alignment film according to claim 1 is provided facing the liquid crystal.
【請求項4】化2〔一般式(II)〕 【化2】 〔ただし、一般式(II)中、Rfは−Cn2n-1(ここ
で、nは6〜12の整数である)を示し、ベンゼン環の
水素は置換されていてもよく、Xは芳香環を含む四価の
有機基を示し、NHとOHはX内の芳香環に互いにオル
ト位に結合している〕で表わされる構成単位を含む含フ
ツ素ポリヒドロキシアミドを含有してなる液晶配向膜用
材料。
4. A compound of the general formula (II) [However, in the general formula (II), Rf is -C n F 2n-1 (where, n represents a is 6-12 integer) indicates the hydrogen of the benzene ring may be substituted, X is A tetravalent organic group containing an aromatic ring, and NH and OH are bonded to the aromatic ring in X at the ortho position to each other.] Materials for alignment film.
【請求項5】 化3〔一般式(III)〕 【化3】 〔ただし、一般式(III)中、Rfは−Cn2n-1(こ
こで、nは6〜12の整数である)を示し、ベンゼン環
の水素は置換されていてもよい〕で表わされる芳香族ジ
カルボン酸又はそのアミド形成性誘導体を含む酸成分及
び化4〔一般式(IV)〕 【化4】 (ただし、式中、R1,R2,R3及びR4はそれぞれ独立
に、水素又はトリアルキルシリル基を示し、Xは芳香環
を含む四価の有機基を示し、、−NH−R1 と−O−R
3 及び−NH−R2 と−O−R4 はそれぞれ、X内の芳
香族環にオルト位に結合している)で表わされるビス
(アミノフエノール)化合物を含むアミノフエノール成
分を反応させることより得られる含フツ素ポリベンゾオ
キサゾール系樹脂を含有してなる液晶配向膜用材料。
5. A compound represented by the following general formula (III): [However, in the general formula (III), Rf is -C n F 2n-1 (where, n represents a is 6-12 integer) indicates the hydrogen of the benzene ring may be substituted] represented by And an acid component containing an aromatic dicarboxylic acid or an amide-forming derivative thereof represented by the general formula (IV): (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent hydrogen or a trialkylsilyl group, X represents a tetravalent organic group containing an aromatic ring, —NH—R 1 and -OR
3 and —NH—R 2 and —O—R 4 are respectively bonded to the aromatic ring in X at the ortho position) by reacting an aminophenol component containing a bis (aminophenol) compound represented by A material for a liquid crystal alignment film comprising the obtained fluorine-containing polybenzoxazole-based resin.
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