JP2988757B2 - Novel asymmetric axially asymmetric bisphosphine derivatives - Google Patents

Novel asymmetric axially asymmetric bisphosphine derivatives

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JP2988757B2
JP2988757B2 JP3249196A JP24919691A JP2988757B2 JP 2988757 B2 JP2988757 B2 JP 2988757B2 JP 3249196 A JP3249196 A JP 3249196A JP 24919691 A JP24919691 A JP 24919691A JP 2988757 B2 JP2988757 B2 JP 2988757B2
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一雄 阿知波
勝也 粟野
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Kyorin Pharmaceutical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、各種有機合成反応、特
に不斉水素化反応などの触媒の配位子として有用な新規
な2回回転軸を持たない非対称軸不斉ビスホスフィン誘
導体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel asymmetrical asymmetric bisphosphine derivative having no twice-rotational axis, which is useful as a ligand of a catalyst for various organic synthesis reactions, particularly an asymmetric hydrogenation reaction. It is.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在不斉合成用触媒の配位子として多数
の光学活性なビスホスフィン誘導体が開発されている。
本発明者らは、先にビスホスフィンの各々のホスフィノ
基の電子的、立体的環境を変え、別々の機能を持たせる
ことにより触媒活性の高効率化を達成できることを発見
した(特開昭63−5094号、特開昭64−1908
5号)。しかし、2回回転軸を持たない非対称軸不斉を
有するビスホスフィン誘導体は知られていなかった。
2. Description of the Related Art At present, a large number of optically active bisphosphine derivatives have been developed as ligands for catalysts for asymmetric synthesis.
The present inventors have previously discovered that by changing the electronic and steric environment of each phosphino group of bisphosphine so as to have different functions, it is possible to achieve higher catalytic activity (Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 63). -5094, JP-A-64-1908
No. 5). However, a bisphosphine derivative having an asymmetric axis asymmetry without a double rotation axis has not been known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする問題点及び課題を解決するた
めの手段】従来のビスホスフィン誘導体は、ロジウムや
ルテニウム等の遷移金属との錯体の調製が煩雑であった
り、還元に際し、高い水素圧を必要とする欠点を持ち、
実用的な課題を有している。
SUMMARY OF THE INVENTION Conventional bisphosphine derivatives require complex preparation with a transition metal such as rhodium or ruthenium, or require a high hydrogen pressure during reduction. With the shortcomings you need,
Has practical challenges.

【0004】このような観点から、一連の研究の中で不
斉水素化機構上、2個のホスフィノ基の持つ機能が異な
る知見に基づいて、分子内の各々のホスフィノ基の電子
的、立体的環境の異なった2回回転軸を持たない非対称
軸不斉ビスホスフィン誘導体〔I〕を着想し、研究の結
果、本発明化合物が実用的で有用な不斉合成用触媒の配
位子であることを見出し、本発明を完成したものであ
る。
[0004] From this point of view, in a series of studies, based on the finding that the functions of two phosphino groups differ from each other in terms of the asymmetric hydrogenation mechanism, the electronic and steric properties of each phosphino group in the molecule are determined. Inspired by an asymmetric bisphosphine derivative [I] that does not have a twice-rotation axis in different environments, the results of research indicate that the compound of the present invention is a practical and useful ligand for a catalyst for asymmetric synthesis. To complete the present invention.

【0005】[0005]

【化22】 Embedded image

【0006】〔式中、R1 及びR2 は同一又は相異なっ
て、フェニル基(該フェニル基は、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原
子から選ばれる1〜5個で置換されていても良い)又は
シクロヘキシル基を、R3 ,R4 ,R7 ,R8 は同一又
は相異なって、水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、トリフルオロメチル基を、R5 及びR6 は同一
又は相異なって、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
トリフルオロメチル基を表すか、又はR4 とR5 、R6
とR7 が相伴って芳香環を表すが、R3 とR8 、R4
7 、R5 とR6 及びR1 とR2 は、少なくともいずれ
かの一つの対は相異なる置換基を表す〕。
[Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each is a phenyl group (the phenyl group is 1 to 5 members selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) R 3 , R 4 , R 7 , and R 8 may be the same or different and a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group, R 5 and R 6 is the same or different and is a lower alkyl group, a lower alkoxy group,
Represents a trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , R 6
And R 7 together represent an aromatic ring, wherein R 3 and R 8 , R 4 and R 7 , R 5 and R 6, and R 1 and R 2 are at least one pair of different substituents Represents].

【0007】本発明によれば、前記一般式〔I〕で表さ
れる2回回転軸を持たない非対称軸不斉ビスホスフィン
誘導体は一般式〔VII 〕で表される化合物より、以下に
述べる経路により製造することが出来る。
According to the present invention, the asymmetric bissymmetric phosphine derivative having no twice-rotational axis represented by the above-mentioned general formula [I] can be prepared from the compound represented by the general formula [VII] by the following route. Can be manufactured.

【0008】(1)一般式〔I〕で表される化合物は、
一般式〔VII〕でY1 がP(O)n (R1 2 である化
合物を光学分割後、ホスフィニル基を還元することによ
り製造することができる。
(1) The compound represented by the general formula [I] is
The compound of formula [VII] wherein Y 1 is P (O) n (R 1 ) 2 can be produced by optical resolution and then reducing the phosphinyl group.

【0009】[0009]

【化23】 Embedded image

【0010】〔式中、R2 はフェニル基(該フェニル基
は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリフルオロ
メチル基又はハロゲン原子から選ばれる1〜5個で置換
されていても良い)又はシクロヘキシル基を、R3 ,R
4 ,R7 ,R8 は同一又は相異なって、水素原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基
を、R5 及びR6 は同一又は相異なって、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基を表す
か、又はR4 とR5 、R6 とR7 が相伴って芳香環を表
し、Y1 はハロゲン原子、P(O)n (R1 2 (ここ
でR1 はフェニル基(該フェニル基は、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又はハロ
ゲン原子から選ばれる1〜5個で置換されていても良
い)又はシクロヘキシル基を、nは0又は1の数字を示
す)を表すが、R3 とR8 、R4 とR7、R5 とR6
びR1 とR2 は、少なくともいずれかの一つの対は相異
なる置換基を表す〕。
Wherein R 2 is a phenyl group (the phenyl group may be substituted by 1 to 5 members selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or cyclohexyl Groups represented by R 3 , R
4 , R 7 and R 8 are the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a trifluoromethyl group; R 5 and R 6 are the same or different and are a lower alkyl group or a lower alkoxy group; , A trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , R 6 and R 7 together represent an aromatic ring, Y 1 is a halogen atom, P (O) n (R 1 ) 2 (where R 1 is a phenyl group (the phenyl group may be substituted with 1 to 5 groups selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or a cyclohexyl group, and n is 0 or 1 Wherein R 3 and R 8 , R 4 and R 7 , R 5 and R 6, and R 1 and R 2 represent at least one pair of different substituents].

【0011】ここで、光学分割はキラルカラム、例えば
キラルパックOT(+)(ダイセル社製)を用いた分取
が好ましい。
Here, the optical resolution is preferably fractionation using a chiral column, for example, a chiral pack OT (+) (manufactured by Daicel Corporation).

【0012】上記光学分割には、少なくとも一つのホス
フィニル基が存在することが好適である。
In the above optical resolution, it is preferable that at least one phosphinyl group is present.

【0013】ホスフィニル基の還元は、還元剤として、
例えばトリクロロシランを用いて、溶媒として、例えば
クロロベンゼン中で、加温下に行うことが好ましい。
The reduction of the phosphinyl group is carried out by using a reducing agent
For example, it is preferable to use trichlorosilane, for example, in chlorobenzene as a solvent, and to carry out the heating.

【0014】(2)一般式〔I〕で表される化合物は、
一般式〔VII〕でY1 がハロゲン原子である化合物を光
学分割後、要すればホスフィニル基を還元した後に、一
般式〔XIII〕で表される化合物と反応させ、ついで要す
ればホスフィニル基を還元することにより製造すること
ができる。
(2) The compound represented by the general formula [I] is
After optically resolving the compound in which Y 1 is a halogen atom in the general formula (VII), if necessary, after reducing the phosphinyl group, the compound is reacted with the compound represented by the general formula (XIII), and then, if necessary, the phosphinyl group is converted. It can be produced by reduction.

【0015】[0015]

【化24】 Embedded image

【0016】〔式中、R2 はフェニル基(該フェニル基
は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリフルオロ
メチル基又はハロゲン原子から選ばれる1〜5個で置換
されていても良い)又はシクロヘキシル基を、nは0又
は1の数字を示す)を、X3はハロゲン原子を表すが、
3 とR8 、R4 とR7 、R5 とR6 及びR1 とR
2は、少なくともいずれかの一つの対は相異なる置換基
を表す〕。
Wherein R 2 is a phenyl group (the phenyl group may be substituted by 1 to 5 members selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or cyclohexyl group, n represents a represents 0 or the number 1), X 3 represents an halogen atom,
R 3 and R 8, R 4 and R 7, R 5 and R 6 and R 1 and R
2 , at least one of the pairs represents a different substituent].

【0017】光学分割とホスフィニル基の還元は(1)
の方法に準じる。一般式〔XIII〕で表される化合物との
反応は、有機溶媒、例えばエーテル又はテトラヒドロフ
ラン等中で、一般式〔VII 〕でY1 がハロゲン原子であ
る化合物を有機リチウム試薬によりリチオ化するか、金
属マグネシウムによりグリニャール試薬を調製した後に
一般式〔XIII〕で表される化合物を作用させることがで
きるが、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム等の
有機リチウム試薬を用い、反応温度は−50〜−70℃
で行うことが好ましい。一般式〔VII 〕の化合物のホス
フィニル基はホスフィノ基に還元してある方がこの反応
の場合には有利である。
The optical resolution and the reduction of the phosphinyl group are (1)
Method. In the reaction with the compound represented by the general formula (XIII), the compound in which Y 1 is a halogen atom in the general formula (VII) is lithiated with an organic lithium reagent in an organic solvent such as ether or tetrahydrofuran, After preparing a Grignard reagent with metallic magnesium, the compound represented by the general formula [XIII] can be allowed to act, but an organic lithium reagent such as n-butyllithium or t-butyllithium is used, and the reaction temperature is -50 to -70 ° C
It is preferable to carry out in. In the case of this reaction, it is advantageous that the phosphinyl group of the compound of the general formula [VII] is reduced to a phosphino group.

【0018】一般式〔VII 〕で示される化合物は以下の
化25にしたがって合成することができる。
The compound represented by the general formula [VII] can be synthesized according to the following chemical formula 25.

【0019】[0019]

【化25】 Embedded image

【0020】化25中の反応は以下に記載した方法によ
り、容易に行われる。 a)ハロゲン化:ハロゲン化反応は、有機溶媒、例えば
酢酸、塩化メチレン等中、反応温度としては10〜50
℃で行うことが好ましい。また、ハロゲン化剤としては
通常のハロゲン化剤が使用できるが、特に臭素が好まし
い。
The reaction in Chemical formula 25 is easily carried out by the method described below. a) Halogenation: The halogenation reaction is performed in an organic solvent such as acetic acid or methylene chloride at a reaction temperature of 10 to 50.
It is preferably carried out at a temperature of ° C. As the halogenating agent, a normal halogenating agent can be used, but bromine is particularly preferable.

【0021】b)ザンドマイヤー反応:ザンドマイヤー
反応は有機溶媒、例えば酢酸、硝酸又は臭化水素水等
中、亜硝酸ナトリウムによりジアゾニウム塩とした後、
ハロゲン化剤としてヨウ化カリウム又は臭化第一銅を作
用させることが好ましい。反応温度は0〜30℃で行う
ことが好適である。
B) Sandmeyer reaction: In the Sandmeyer reaction, a diazonium salt is prepared with sodium nitrite in an organic solvent such as acetic acid, nitric acid or hydrogen bromide.
It is preferable to act potassium iodide or cuprous bromide as a halogenating agent. The reaction is preferably performed at a temperature of 0 to 30 ° C.

【0022】c)ニトロ基の還元:ニトロ基の還元の場
合、通常の還元剤が使用できるが、他の置換基にハロゲ
ン原子が含まれる場合は、鉄−塩酸の系が好ましく、そ
の他の置換基の場合は、パラジウム−炭素を触媒とした
接触還元が好ましい。接触還元の場合、溶媒はアルコー
ルが好適である。
C) Reduction of nitro group: In the case of reduction of a nitro group, an ordinary reducing agent can be used, but when another substituent contains a halogen atom, an iron-hydrochloric acid system is preferable. In the case of a group, catalytic reduction using a palladium-carbon catalyst is preferred. In the case of catalytic reduction, the solvent is preferably alcohol.

【0023】d)クルチウス転移:低級アルコキシカル
ボニル基をアミノ基へ変換する方法は、クルチウス転移
を利用する方法が好ましく、低級アルコキシカルボニル
基を加水分解後、得られたカルボン酸体を塩化チオニル
等で酸塩化物とするか、クロル炭酸アルキルと作用さ
せ、酸無水物とした後、アジ化ナトリウムと作用させ、
アシルアジド体とし、ベンゼン、トルエン等の有機溶媒
中で還流することによりイソシアナート体とし、更にア
ルカリで加水分解することによりアミノ体とすることが
できる。
D) Curtius rearrangement: The method of converting a lower alkoxycarbonyl group into an amino group is preferably a method utilizing Curtius rearrangement. After hydrolyzing the lower alkoxycarbonyl group, the resulting carboxylic acid compound is converted with thionyl chloride or the like. Or acid chloride, or with chloroalkyl carbonate, acid anhydride, then with sodium azide,
It can be converted to an acyl azide form, converted to an isocyanate form by refluxing in an organic solvent such as benzene or toluene, and further converted to an amino form by hydrolysis with an alkali.

【0024】e)X3 P(O)n(R12 との反応:前
述の一般式〔VII〕でY1 がハロゲン原子である化合物
と一般式〔XIII〕で表される化合物との反応に準じる。
E) Reaction with X 3 P (O) n (R 1 ) 2 : reaction between the compound represented by the above general formula [VII] wherein Y 1 is a halogen atom and the compound represented by the general formula [XIII] According to the reaction.

【0025】f)ホスフィノ基の酸化反応:ホスフィノ
基の酸化反応は通常の酸化剤、例えば過酸化水素水等を
用いて容易に行うことができる。
F) Oxidation reaction of phosphino group: Oxidation reaction of phosphino group can be easily carried out using a usual oxidizing agent, for example, aqueous hydrogen peroxide.

【0026】g)ホスフィニル基の還元反応:前述した
(1)記載の方法に準じる。
G) Reduction reaction of phosphinyl group: According to the method described in (1) above.

【0027】化25に記載された化合物のうち、一般式
〔XIX〕で表される化合物は、一般式〔XX〕で表され
る化合物と一般式〔XXI〕で表される化合物を、金属触
媒の存在下に作用させることにより製造することができ
る。
Among the compounds represented by Chemical Formula 25, the compound represented by the general formula [XIX] is a compound represented by the general formula [XX] and the compound represented by the general formula [XXI] Can be produced by acting in the presence of

【0028】[0028]

【化26】 Embedded image

【0029】〔式中、R3 ,R4 は同一又は相異なっ
て、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ト
リフルオロメチル基を、R5 は低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、トリフルオロメチル基を表すか、又はR4
とR5 が相伴って芳香環を表し、Y3 は水素原子、ニト
ロ基、低級アルコキシカルボニル基を、X4 はハロゲン
原子又はホウ酸基を表す〕
Wherein R 3 and R 4 are the same or different and each represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a trifluoromethyl group; R 5 represents a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a trifluoromethyl group; Represents a group or R 4
And R 5 together represent an aromatic ring, Y 3 represents a hydrogen atom, a nitro group or a lower alkoxycarbonyl group, and X 4 represents a halogen atom or a boric acid group.

【0030】[0030]

【化27】 Embedded image

【0031】〔式中、R7 ,R8 は同一又は相異なっ
て、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ト
リフルオロメチル基を、R6 は低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、トリフルオロメチル基を表すか、又はR6
とR7 が相伴って芳香環を表し、Y4 は水素原子、ニト
ロ基、低級アルコキシカルボニル基、X5 はハロゲン原
子又はホウ酸基を表すが、X4 とX5 は同時にホウ酸基
ではない〕。
Wherein R 7 and R 8 are the same or different and each represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a trifluoromethyl group, and R 6 represents a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a trifluoromethyl group; Represents a group or R 6
And R 7 together represent an aromatic ring, Y 4 represents a hydrogen atom, a nitro group, a lower alkoxycarbonyl group, X 5 represents a halogen atom or a boric acid group, but X 4 and X 5 are simultaneously a boric acid group. Absent〕.

【0032】一般式〔XX〕で表される化合物と一般式
〔XXI〕で表される化合物の反応においてX4 及びX5
がともにハロゲン原子の場合は、金属触媒として、例え
ば銅粉を用い、スルホラン、キノリン等の有機溶媒中、
170〜250℃の反応温度で行うことが好ましい。こ
こで、Y3 及びY4 がニトロ基又は低級アルコキシカル
ボニル基の場合は、X4 及びX5 が臭素原子であること
が好ましく、Y3 及び/又はY4 が水素原子の場合は、
ヨウ素原子であることが好ましい。
In the reaction of the compound represented by the general formula [XX] with the compound represented by the general formula [XXI], X 4 and X 5
When both are halogen atoms, for example, using copper powder as a metal catalyst, sulfolane, in an organic solvent such as quinoline,
The reaction is preferably performed at a reaction temperature of 170 to 250 ° C. Here, when Y 3 and Y 4 are a nitro group or a lower alkoxycarbonyl group, X 4 and X 5 are preferably a bromine atom, and when Y 3 and / or Y 4 are a hydrogen atom,
It is preferably an iodine atom.

【0033】一般式〔XX〕で表される化合物と一般式
〔XXI〕で表される化合物の反応においてX4 又はX5
がホウ酸基の場合は、パラジウム触媒、特にテトラキス
トリフェニルホスフィンパラジウム0価の錯体を用い、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン等の有機溶媒中、溶
媒の還流温度で行うことが好ましい。
In the reaction of the compound represented by the general formula [XX] with the compound represented by the general formula [XXI], X 4 or X 5
Is a boric acid group, using a palladium catalyst, particularly a tetrakistriphenylphosphine palladium zero-valent complex,
It is preferable to carry out the reaction in an organic solvent such as benzene, toluene and methylene chloride at the reflux temperature of the solvent.

【0034】また、原料である一般式〔XX〕及び一般
式〔XXI〕で表される化合物は、公知文献(例えばテト
ラヘドロン、37,747(1981)等)に従って合
成できるか、又は更にニトロ化もしくは有機リチウム試
薬等を作用させた後に、トリアルキルボラートと作用す
ることにより必要な原料を製造できる。
Further, the general formula as a raw material [XX] and the compound represented by the general formula [XXI] is known literature (e.g. Tetrahedron, 37, 747 (1981), etc.) or can be synthesized according to, or even nitrated Alternatively, a necessary raw material can be produced by reacting with an organolithium reagent or the like and then reacting with a trialkyl borate.

【0035】[0035]

【実施例】次に本発明を具体例によって説明するが、こ
れらの例によって本発明が限定されるものではない。
Next, the present invention will be described with reference to specific examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0036】実施例13−メトキシ−2,4−ジメチル−2’−ニトロ−
4’,6’−ビス(トリフルオロメチル)−1,1’−
ビフェニルの合成 スルホラン(70ml)に3−ヨードー2,6−ジメチ
ルアニソール(26.21g)、1−ブロモ−2−ニト
ロ−4,6−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(3
3.80g)を完全に溶解し、銅粉(13.98g)を
加え、170℃で5時間攪拌した。茶色反応スラリー液
を室温まで冷却した後、エーテル(100ml)を加
え、吸引濾過し、茶色の固体を除去した。濾液にエーテ
ル(400ml)を加え、水(200ml×3)、飽和
食塩水(200ml)で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。エーテルを減圧留去後、茶色シラップ
の残渣(40.00g)をシリカゲルクロマトにより分
離精製(n−ヘキサン:酢酸エチル=200:1)し、
微黄色固体の目的物(31.46g)を得た(収率80
%)。
Embodiment 13-methoxy-2,4-dimethyl-2'-nitro-
4 ', 6'-bis (trifluoromethyl) -1,1'-
Synthesis of biphenyl 3-Iodo-2,6-dimethyl in sulfolane (70 ml)
Luanisole (26.21 g), 1-bromo-2-nitto
B-4,6-bis (trifluoromethyl) benzene (3
3.80 g) was completely dissolved, and copper powder (13.98 g) was added.
The mixture was stirred at 170 ° C. for 5 hours. Brown reaction slurry liquid
After cooling to room temperature, ether (100 ml) was added.
Then, suction filtration was performed to remove a brown solid. Ate in the filtrate
(400 ml), water (200 ml x 3), saturated
After successive washing with brine (200 ml), anhydrous magnesium sulfate
Dried with um. After distilling off the ether under reduced pressure, brown syrup
Of the residue (40.00 g) was separated by silica gel chromatography.
Separation and purification (n-hexane: ethyl acetate = 200: 1)
The target product (31.46 g) was obtained as a slightly yellow solid (yield: 80).
%).

【0037】融点 80〜81℃ 元素分析(%):C17136NO3として H−NMR(δ,CDCl3 ):1.97(3H,
s),2.34(3H,s),3.73(3H,s),
6.75(1H,d,J=7.9Hz),7.06(1
H,d,J=7.9Hz),8.21(1H,s),
8.22(1H,s)IR(νmax,cm-1):15
40,1340(KBr)。
Melting point 80-81 ° C. Elemental analysis (%): as C 17 H 13 F 6 NO 3 H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.97 (3H,
s), 2.34 (3H, s), 3.73 (3H, s),
6.75 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.06 (1
H, d, J = 7.9 Hz), 8.21 (1H, s),
8.22 (1H, s) IR (νmax, cm −1 ): 15
40, 1340 (KBr).

【0038】実施例22’−アミノ−3−メトキシ−2,4−ジメチル−
4’,6’−ビス(トリフルオロメチル)−1,1’−
ビフェニルの合成 エタノール(200ml)に実施例1の化合物(39.
33g)を完全に溶解し、5%パラジウム炭素(50%
含水、8.00g)を加え、水素気流中、室温で40時
間攪拌した。黒色懸濁反応液を濾過し、5%パラジウム
炭素を除去した。エタノールを減圧濾去後、真空乾燥
し、白色粉末の目的物(35.97g)を得た(収率9
9%)。
Embodiment 22'-amino-3-methoxy-2,4-dimethyl-
4 ', 6'-bis (trifluoromethyl) -1,1'-
Synthesis of biphenyl In ethanol (200 ml), the compound of Example 1 (39.
33 g) was completely dissolved and 5% palladium on carbon (50%
Water-containing, 8.00 g), and added for 40 hours at room temperature in a hydrogen stream.
While stirring. Filter the black suspension reaction solution, 5% palladium
The carbon was removed. After removing ethanol by filtration under reduced pressure, vacuum drying
The desired product (35.97 g) was obtained as a white powder (yield 9).
9%).

【0039】融点 121〜122℃ 元素分析(%):C17156NOとして H−NMR(δ,CDCl3 ):1.97(3H,
s),2.35(3H,s),3.74(3H,s),
6.79(1H,d,J=7.7Hz),7.12(1
H,d,J=7.7Hz),7.12(1H,s),
7.36(1H,s)IR(νmax,cm-1):34
60,3350,1625,1265(KBr)。
Melting point 121-122 ° C. Elemental analysis (%): as C 17 H 15 F 6 NO H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.97 (3H,
s), 2.35 (3H, s), 3.74 (3H, s),
6.79 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.12 (1
H, d, J = 7.7 Hz), 7.12 (1H, s),
7.36 (1H, s) IR (νmax, cm −1 ): 34
60, 3350, 1625, 1265 (KBr).

【0040】実施例32’−ヨード−3−メトキシ−2,4−ジメチル−
4’,6’−ビス(トリフルオロメチル)−1,1’−
ビフェニルの合成 酢酸(200ml)に実施例2の化合物(36.33
g)を完全に溶解し、冷却した。激しく攪拌しながら、
反応液が15〜20℃を保つように亜硝酸ナトリウム
(7.59g)と硫酸(80ml)より調整した硫酸水
素ニトロシル溶液を1時間かけて滴下後、室温で30分
間攪拌し、ジアゾニウム塩溶液を調整した。水(200
ml)にヨウ化カリウム(36.52g)を完全に溶解
し、冷却しながら反応液が20〜30℃を保つように黄
色透明のジアゾニウム塩溶液を1時間かけて滴下後、室
温で17時間攪拌した。赤色懸濁反応液に冷水(100
0ml)を加え、エーテル(500ml)で抽出した。
分取した有機層を2規定水酸化ナトリウム水溶液(20
0ml×2)、水(200ml×3)、飽和食塩水(2
00ml)で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。エーテルを減圧留去後、黄色結晶の残渣(50.
00g)をシリカゲルクロマトにより分離精製(n−ヘ
キサン)し、黄色固体の目的物(37.91g)を得た
(収率80%)。このものを更にn−ヘキサンから再結
晶すると、無色透明針状結晶となる。
Embodiment 32'-iodo-3-methoxy-2,4-dimethyl-
4 ', 6'-bis (trifluoromethyl) -1,1'-
Synthesis of biphenyl Acetic acid (200 ml) was added to the compound of Example 2 (36.33).
g) was completely dissolved and cooled. With vigorous stirring,
Sodium nitrite to keep the reaction solution at 15-20 ° C
(7.59g) and sulfuric acid aqueous solution prepared from sulfuric acid (80ml)
After dropping the nitrosyl solution over 1 hour, 30 minutes at room temperature
While stirring, a diazonium salt solution was prepared. Water (200
ml) completely dissolve potassium iodide (36.52 g)
And while cooling, keep the temperature of the reaction solution at 20-30 ° C.
After dropping a color-transparent diazonium salt solution over 1 hour,
Stir at warm for 17 hours. Add cold water (100
0 ml) and extracted with ether (500 ml).
The separated organic layer was subjected to 2N aqueous sodium hydroxide solution (20
0 ml x 2), water (200 ml x 3), saturated saline (2
00ml) and dried over anhydrous magnesium sulfate
did. After the ether was distilled off under reduced pressure, the residue of yellow crystals (50.
00g) was separated and purified by silica gel chromatography (n-f
Xan) to give the desired product as a yellow solid (37.91 g).
(80% yield). This was further reconstituted from n-hexane.
When crystallized, it becomes a colorless transparent needle-like crystal.

【0041】融点 91〜92℃ 元素分析(%):C17136 IOとして H−NMR(δ,CDCl3 ):1.89(3H,
s),2.37(3H,s),3.75(3H,s),
6.66(1H,d,J=7.9Hz),7.11(1
H,d,J=7.9Hz),8.01(1H,s),
8.37(1H,s)。
Melting point 91-92 ° C. Elemental analysis (%): as C 17 H 13 F 6 IO H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.89 (3H,
s), 2.37 (3H, s), 3.75 (3H, s),
6.66 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.11 (1
H, d, J = 7.9 Hz), 8.01 (1H, s),
8.37 (1H, s).

【0042】実施例46−ブロモ−2’−ヨード−3−メトキシ−2,4−ジ
メチル−4’,6’−ビス(トリフルオロメチル)−
1,1’−ビフェニルの合成 酢酸(100ml)に実施例3の化合物(47.42
g)を完全に溶解し、氷冷下、臭素(24.00g)を
徐々に加えた後、室温で3時間攪拌した。赤色透明の反
応液を冷水(1000ml)に加え、ジクロロメタン
(500ml)で抽出した。分取した有機層を水(20
0ml)、2規定水酸化ナトリウム水溶液(200ml
×2)、水(200ml×3)、飽和食塩水(200m
l)で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
ジクロロメタンを減圧留去後、赤色シラップの残渣(5
8.33g)をシリカゲルクロマトにより分離精製(n
−ヘキサン:酢酸エチル=100:1)し、黄色固体の
目的物(53.33g)を得た(収率96%)。このも
のを更にn−ヘキサンから再結晶すると、微黄色針状結
晶となる。
Embodiment 46-bromo-2'-iodo-3-methoxy-2,4-di
Methyl-4 ', 6'-bis (trifluoromethyl)-
Synthesis of 1,1'-biphenyl Acetic acid (100 ml) was added to the compound of Example 3 (47.42).
g) was completely dissolved, and bromine (24.00 g) was removed under ice-cooling.
After slowly adding, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Red transparent anti
Add the reaction solution to cold water (1000 ml) and add dichloromethane
(500 ml). The separated organic layer was washed with water (20
0 ml), 2N aqueous sodium hydroxide solution (200 ml
× 2), water (200ml × 3), saturated saline (200m
After sequentially washing in 1), the resultant was dried with anhydrous magnesium sulfate.
After distilling off dichloromethane under reduced pressure, the residue of red syrup (5
8.33 g) was separated and purified by silica gel chromatography (n
-Hexane: ethyl acetate = 100: 1) to give a yellow solid
The desired product (53.33 g) was obtained (96% yield). This one
Was further recrystallized from n-hexane to give slightly yellow needles.
It becomes a crystal.

【0043】融点 76〜77℃ 元素分析(%):C1712BrF6IOとして H−NMR(δ,CDCl3 ):1.88(3H,
s),2.35(3H,s),3.73(3H,s),
7.37(1Hs),8.03(1H,s),8.40
(1H,s)。
Melting point: 76-77 ° C. Elemental analysis (%): as C 17 H 12 BrF 6 IO H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.88 (3H,
s), 2.35 (3H, s), 3.73 (3H, s),
7.37 (1Hs), 8.03 (1H, s), 8.40
(1H, s).

【0044】実施例53−メトキシ−2,4−ジメチル−6,2’−ビス(ジ
フェニルホスフィニル)−4’,6’−ビス(トリフル
オロメチル)−1,1’−ビフェニルの合成 乾燥テトラヒドロフラン(90ml)に実施例4の化合
物(5.53g)を完全に溶解し、−70℃に冷却し
た。t−ブチルリチウム(1.5mol/L ペンタン
溶液:28ml)を加え、同温度で30分間攪拌した
後、反応液に乾燥テトラヒドロフラン(10ml)に溶
かしたクロロジフェニルホスフィンオキシド(10.4
1g)を加え、同温度で1時間攪拌し、更に15時間か
けて徐々に室温に戻しながら攪拌した。テトラヒドロフ
ランを減圧留去し、褐色シラップの残渣をジクロロメタ
ン(100ml)、水(100ml)に溶かし、1規定
水酸化ナトリウム水溶液(50ml)、水(30ml×
3)、飽和食塩水(30ml)で順次洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。ジクロロメタンを減圧留去
後、黄色固体の残渣(12.50g)をシリカゲルクロ
マトにより分離精製(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:
3)し、白色粉末の目的物(5.54g)を得た(収率
74%)。このものを更に酢酸エチルから再結晶する
と、無色針状結晶となる。
Example 5 3-Methoxy-2,4-dimethyl-6,2'-bis (di-
Phenylphosphinyl) -4 ′, 6′-bis (trifur
Synthesis of ( olomethyl) -1,1′-biphenyl The compound of Example 4 (5.53 g) was completely dissolved in dry tetrahydrofuran (90 ml) and cooled to −70 ° C. After adding t-butyllithium (1.5 mol / L pentane solution: 28 ml) and stirring at the same temperature for 30 minutes, chlorodiphenylphosphine oxide (10.4 ml) dissolved in dry tetrahydrofuran (10 ml) was added to the reaction solution.
1 g), and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour, and further stirred for 15 hours while gradually returning to room temperature. Tetrahydrofuran was distilled off under reduced pressure, and the brown syrup residue was dissolved in dichloromethane (100 ml) and water (100 ml). A 1N aqueous sodium hydroxide solution (50 ml) and water (30 ml ×
3) After washing with a saturated saline solution (30 ml) in that order, the extract was dried over anhydrous magnesium sulfate. After dichloromethane was distilled off under reduced pressure, a yellow solid residue (12.50 g) was separated and purified by silica gel chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 7:
3) to obtain the target product (5.54 g) as a white powder (yield 74%). When this is further recrystallized from ethyl acetate, it becomes colorless needle-like crystals.

【0045】融点 274〜275℃ 元素分析(%):C4132632 として H−NMR(δ,CDCl3 ):1.37(3H,
s),2.28(3H,s),3.66(3H,s),
7.08(1H,d,J=14.2Hz),7.23〜
7.76(21H,m),8.02(1H,s)。
Melting point: 274-275 ° C. Elemental analysis (%): C 41 H 32 F 6 O 3 P 2 H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.37 (3H,
s), 2.28 (3H, s), 3.66 (3H, s),
7.08 (1H, d, J = 14.2 Hz), 7.23 to
7.76 (21H, m), 8.02 (1H, s).

【0046】実施例63−メトキシ−2,4−ジメチル−6,2’−ビス(ジ
フェニルホスフィニル)−4’,6’−ビス(トリフル
オロメチル)−1,1’−ビフェニルの光学分割 実施例5で得られた化合物(500mg)をn−ヘキサ
ン−イソプロピルアルコール(4:1、50ml)に溶
解し、光学活性カラム(キラルパックOT(+)(ダイ
セル製))を用い、展開溶媒n−ヘキサン−イソプロピ
ルアルコール(4:1)で光学分割した。前出のフラク
ションを集め、濃縮し、白色結晶(219mg)を得た
(収率88%)。HPLC分析で約100%eeであっ
た。
Example 6 3-Methoxy-2,4-dimethyl-6,2'-bis (di
Phenylphosphinyl) -4 ′, 6′-bis (trifur
Optical Resolution of (Oromethyl) -1,1′-biphenyl The compound (500 mg) obtained in Example 5 was dissolved in n-hexane-isopropyl alcohol (4: 1, 50 ml), and the mixture was dissolved in an optically active column (Chiralpak OT (+ ) (Manufactured by Daicel)), and optically resolved with a developing solvent n-hexane-isopropyl alcohol (4: 1). The above fractions were collected and concentrated to give white crystals (219 mg) (88% yield). HPLC analysis indicated about 100% ee.

【0047】融点 251〜252℃ 〔α〕D 20 :−20.0°(c,1.00,CHC
3 ) 元素分析(%):C4132632 として H−NMR(δ,CDCl3 ):1.37(3H,
s),2.28(3H,s),3.66(3H,s),
7.08(1H,d,J=14.2Hz),7.22〜
7.77(21H,m),8.02(1H,brs) IR(νmax,cm-1):3460,3350,16
25,1265(KBr)。
Melting point 251 to 252 ° C. [α] D 20 : -20.0 ° (c, 1.00, CHC
l 3 ) Elemental analysis (%): as C 41 H 32 F 6 O 3 P 2 H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.37 (3H,
s), 2.28 (3H, s), 3.66 (3H, s),
7.08 (1H, d, J = 14.2 Hz), 7.22 to
7.77 (21H, m), 8.02 (1H, brs) IR (νmax, cm −1 ): 3460, 3350, 16
25, 1265 (KBr).

【0048】実施例7(−)−3−メトキシ−2,4−ジメチル−6,2’−
ビス(ジフェニルホスフィノ)−4’,6’−ビス(ト
リフルオロメチル)−1,1’−ビフェニルの合成 耐圧管中で、実施例6の化合物(75mg)を乾燥、脱
気したクロロベンゼン(4ml)に溶解し、トリエチル
アミン(486mg)、アルゴン気流、氷冷下において
トリクロロシラン(542mg)を順に加え、アルゴン
置換した後に封管して140℃で5時間攪拌した。反応
液に氷冷下、脱気した20%水酸化ナトリウム水溶液を
白色懸濁物が溶解するまで加え、アルゴン置換した後、
70℃で30分間攪拌した。続いて室温まで冷却し、ク
ロロベンゼン(4ml)を追加し、有機層を分取し、水
(5ml×3)、飽和食塩水(3ml)で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧濃
縮し、残渣をシリカゲルクロマトにより分離精製(トル
エン)し、白色固体の目的物(65mg)を得た(収率
90%)。
Example 7 (-)-3-methoxy-2,4-dimethyl-6,2'-
Bis (diphenylphosphino) -4 ′, 6′-bis (G
Synthesis of ( fluoromethyl) -1,1′-biphenyl In a pressure tube, the compound of Example 6 (75 mg) was dissolved in dried and degassed chlorobenzene (4 ml), triethylamine (486 mg), an argon stream, and ice-cooled. Underneath, trichlorosilane (542 mg) was added in order, and after purging with argon, the tube was sealed and stirred at 140 ° C. for 5 hours. A degassed 20% aqueous sodium hydroxide solution was added to the reaction solution under ice cooling until the white suspension was dissolved, and the atmosphere was replaced with argon.
Stirred at 70 ° C. for 30 minutes. Subsequently, the mixture was cooled to room temperature, chlorobenzene (4 ml) was added, the organic layer was separated, washed sequentially with water (5 ml × 3) and saturated saline (3 ml), and dried over anhydrous magnesium sulfate. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the residue was separated and purified by silica gel chromatography (toluene) to obtain the desired product (65 mg) as a white solid (yield 90%).

【0049】融点 146〜147℃ 〔α〕D 22 :−74.7°(c,0.506,ベンゼ
ン) CD〔θ〕(λnm)(EtOH):−80,600
(288),+198,000(239),−115,
000(206) 元素分析(%):C41326OP2 として H−NMR(δ,CDCl3 ):1.09(3H,
s),2.25(3H,s),3.51(3H,s),
6.84〜6.91(2H,m),7.02(1H,
d,J=2.9Hz),7.15〜7.42(18H,
m),7.58(1H,br s),7.81(1H,
br s)。
Melting point: 146 to 147 ° C. [α] D 22 : -74.7 ° (c, 0.506, benzene) CD [θ] (λ nm) (EtOH): -80,600
(288), +198,000 (239), -115,
000 (206) Elemental analysis (%): as C 41 H 32 F 6 OP 2 H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.09 (3H,
s), 2.25 (3H, s), 3.51 (3H, s),
6.84 to 6.91 (2H, m), 7.02 (1H,
d, J = 2.9 Hz), 7.15 to 7.42 (18H,
m), 7.58 (1H, brs), 7.81 (1H,
brs).

【0050】実施例83−メトキシ−2,4−ジメチル−2’−ジフェニルホ
スフィニル−4’,6’−ビス(トリフルオロメチル)
−1,1’−ビフェニルの合成 実施例3の化合物に実施例5と同様にしてジフェニルホ
スフィニルクロライドを作用させることにより目的物を
得た。
Example 8 3-methoxy-2,4-dimethyl-2'-diphenylphospho
Sphinyl-4 ', 6'-bis (trifluoromethyl)
Synthesis of -1,1′-biphenyl The desired product was obtained by reacting the compound of Example 3 with diphenylphosphinyl chloride in the same manner as in Example 5.

【0051】融点 85〜86℃ 元素分析(%):C292362Pとして H−NMR(δ,CDCl3 ):1.67(3H,
s),2.20(3H,s),3.63(3H,s),
6.22(1H,d,J=7.7Hz),6.48(1
H,d,J=7.7Hz),7.29〜7.63(10
H,m),8.10(1H,d,J=12.8Hz),
8.17(1H,s)。
Melting point 85-86 ° C. Elemental analysis (%): as C 29 H 23 F 6 O 2 P H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.67 (3H,
s), 2.20 (3H, s), 3.63 (3H, s),
6.22 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.48 (1
H, d, J = 7.7 Hz), 7.29 to 7.63 (10
H, m), 8.10 (1H, d, J = 12.8 Hz),
8.17 (1H, s).

【0052】実施例93−メトキシ−2,4−ジメチル−2’−ビス(3,5
−ジメチルフェニル)ホスフィニル−4’,6’−ビス
(トリフルオロメチル)−1,1’−ビフェニルの合成 実施例3の化合物に実施例5と同様にしてジ(3,5−
ジメチルフェニル)ホスフィニルクロライドを作用させ
ることにより目的物を得た。
Example 9 3-methoxy-2,4-dimethyl-2'-bis (3,5
-Dimethylphenyl) phosphinyl-4 ', 6'-bis
Synthesis of (trifluoromethyl) -1,1′-biphenyl In the same manner as in Example 5, di (3,5-
The desired product was obtained by the action of (dimethylphenyl) phosphinyl chloride.

【0053】融点 153〜154℃ 元素分析(%):C333162Pとして Melting point: 153 to 154 ° C. Elemental analysis (%): as C 33 H 31 F 6 O 2 P

【0054】実施例106−ブロモ−3−メトキシ−2,4−ジメチル−2’−
ジフェニルホスフィニル−4’,6’−ビス(トリフル
オロメチル)−1,1’−ビフェニルの合成 実施例8の化合物を実施例4と同様に臭素化することに
より目的物を得た。
Example 10 6-Bromo-3-methoxy-2,4-dimethyl-2'-
Diphenylphosphinyl-4 ', 6'-bis (trifur
Synthesis of (olomethyl) -1,1′-biphenyl The compound of Example 8 was brominated in the same manner as in Example 4 to obtain the desired product.

【0055】融点 164〜165℃ 元素分析(%):C2922BrF62Pとして H−NMR(δ,CDCl3 ):1.82(3H,
s),2.19(3H,s),3.68(3H,s),
6.87(1H,s),7.29〜7.71(10H,
m),7.95(1H,d,J=12.8Hz),8.
18(1H,s)。
Melting point: 164 to 165 ° C. Elemental analysis (%): as C 29 H 22 BrF 6 O 2 P H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.82 (3H,
s), 2.19 (3H, s), 3.68 (3H, s),
6.87 (1H, s), 7.29 to 7.71 (10H,
m), 7.95 (1H, d, J = 12.8 Hz), 8.
18 (1H, s).

【0056】実施例116−ブロモ−3−メトキシ−2,4−ジメチル−2’−
ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィニル−
4’,6’−ビス(トリフルオロメチル)−1,1’−
ビフェニルの合成 実施例8の化合物を実施例4と同様に臭素化することに
より目的物を得た。
Embodiment 116-bromo-3-methoxy-2,4-dimethyl-2'-
Bis (3,5-dimethylphenyl) phosphinyl-
4 ', 6'-bis (trifluoromethyl) -1,1'-
Synthesis of biphenyl The compound of Example 8 was brominated in the same manner as in Example 4.
More objective was obtained.

【0057】融点 168〜170℃ 元素分析(%):C3330BrF62Pとして Melting point: 168-170 ° C. Elemental analysis (%): as C 33 H 30 BrF 6 O 2 P

【0058】実施例126−ブロモ−3−メトキシ−2,4−ジメチル−2’−
ジフェニルホスフィノ−4’,6’−ビス(トリフルオ
ロメチル)−1,1’−ビフェニルの合成 実施例10の化合物を実施例7と同様に処理することに
より目的物を得た。
Example 12 6-Bromo-3-methoxy-2,4-dimethyl-2'-
Diphenylphosphino-4 ', 6'-bis (trifluoro
Synthesis of (methyl) -1,1′-biphenyl The compound of Example 10 was treated in the same manner as in Example 7 to obtain the desired product.

【0059】融点 144〜145℃ 元素分析(%):C2922BrF6 OPとして H−NMR(δ,CDCl3 ):1.29(3H,
s),2.33(3H,s),3.54(3H,s),
7.13〜7.44(11H,m),7.65(1H,
s),8.00(1H,s)。
Melting point: 144-145 ° C. Elemental analysis (%): as C 29 H 22 BrF 6 OP H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.29 (3H,
s), 2.33 (3H, s), 3.54 (3H, s),
7.13 to 7.44 (11H, m), 7.65 (1H,
s), 8.00 (1H, s).

【0060】実施例136−ブロモ−3−メトキシ−2,4−ジメチル−2’−
ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ−4’,
6’−ビス(トリフルオロメチル)−1,1’−ビフェ
ニルの合成 実施例11の化合物を実施例7と同様に処理することに
より目的物を得た。
Example 13 6-Bromo-3-methoxy-2,4-dimethyl-2'-
Bis (3,5-dimethylphenyl) phosphino-4 ′,
6'-bis (trifluoromethyl) -1,1'-biphe
Synthesis of Nyl The compound of Example 11 was treated in the same manner as in Example 7 to obtain the desired product.

【0061】融点 141〜142℃ 元素分析(%):C3330BrF6OPとして Melting point: 141 to 142 ° C. Elemental analysis (%): as C 33 H 30 BrF 6 OP

【0062】実施例143−メトキシ−2,4−ジメチル−6−ビス(3,5−
ジメチルフェニル)ホスフィニル−2’−ジフェニルホ
スフィニル−4’,6’−ビス(トリフルオロメチル)
−1,1’−ビフェニルの合成 実施例12の化合物を実施例5と同様にしてクロロビス
(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィンを作用させ、
ついで得られた残渣をジクロロメタン(30ml)、水
(5ml)に溶解し、氷冷下で31%過酸化水素水(5
ml)を加え、室温で3時間攪拌した。有機層を分取
し、1規定水酸化ナトリウム水溶液(10ml)、水
(20ml×3)、飽和食塩水(20ml)で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減
圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトにより分離精製
(酢酸エチル)し、目的物を得た。
Example 14 3-methoxy-2,4-dimethyl-6-bis (3,5-
Dimethylphenyl) phosphinyl-2'-diphenylpho
Sphinyl-4 ', 6'-bis (trifluoromethyl)
Synthesis of -1,1′-biphenyl The compound of Example 12 was reacted with chlorobis (3,5-dimethylphenyl) phosphine in the same manner as in Example 5,
Then, the obtained residue was dissolved in dichloromethane (30 ml) and water (5 ml), and the mixture was dissolved in ice-cooled 31% aqueous hydrogen peroxide (5 ml).
ml) and stirred at room temperature for 3 hours. The organic layer was separated, washed sequentially with a 1N aqueous sodium hydroxide solution (10 ml), water (20 ml × 3), and saturated saline (20 ml), and dried over anhydrous magnesium sulfate. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the residue was separated and purified by silica gel chromatography (ethyl acetate) to obtain the desired product.

【0063】融点 290〜292℃ 元素分析(%):C4540632 として H−NMR(δ,CDCl3 ):1.50(3H,
s),2.10(6H,s),2.27(3H,s),
2.29(6H,s),3.69(3H,s),6.9
4(1H,s),7.09(2H,d,J=12.8H
z),7.08〜7.22(6H,m),7.27〜
7.30(1H,m),7.38〜7.47(3H,
m),7.57〜7.71(3H,m),7.78(1
H,d,J=13.2Hz),8.05(1H,s)。
Melting point: 290-292 ° C. Elemental analysis (%): as C 45 H 40 F 6 O 3 P 2 H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.50 (3H,
s), 2.10 (6H, s), 2.27 (3H, s),
2.29 (6H, s), 3.69 (3H, s), 6.9
4 (1H, s), 7.09 (2H, d, J = 12.8H)
z), 7.08-7.22 (6H, m), 7.27-
7.30 (1H, m), 7.38 to 7.47 (3H,
m), 7.57 to 7.71 (3H, m), 7.78 (1
H, d, J = 13.2 Hz), 8.05 (1H, s).

【0064】実施例156−ジシクロヘキシルホスフィニル−3,3’−ジメト
キシ−2,2’,4,4’−テトラメチル−6’−ジフ
ェニルホスフィニル−1,1’−ビフェニルの合成 6,6′−ジブロモ−3,3′−ジメトキシ−2,
2′,4,4′−テトラメチル−1,1′−ビフェニル
(1.0g)を乾燥テトラヒドロフラン(30ml)に
溶解し、アルゴン置換した後に、−70℃に冷却下で
1.5M t−ブチルリチウム/n−ペンタン溶液
(2.0ml)を加え、同温で30分攪拌した。続いて
同温で乾燥テトラヒドロフラン(5ml)に溶解したク
ロロジフェニルホスフィン(0.51g)を加え、同温
で30分、更に12時間かけて徐々に室温に戻しながら
攪拌した。再び−70℃まで冷却した後、同温で1.5
M t−ブチルリチウム/n−ペンタン溶液(2.0m
l)を加え、同温で30分攪拌した。続いて同温で乾燥
テトラヒドロフラン(5ml)に溶解したクロロジシク
ロヘキシルホスフィン(0.55g)を加え、同温で3
0分、更に12時間かけて徐々に室温に戻しながら攪拌
した。テトラヒドロフランを減圧留去し、残渣をジクロ
ロメタン(30ml)、水(5ml)に溶解し、氷冷下
で31%過酸化水素水(5ml)を加え、室温で3時間
攪拌した。有機層を分取し、1規定水酸化ナトリウム
(10ml)、水(20ml×3)、飽和食塩水(20
ml)で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。有機層を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマト
により分離精製(酢酸エチル)し、白色固体の目的物
(220mg)を得た(収率14%)。
Example 15 6-Dicyclohexylphosphinyl-3,3'-dimethoate
Xy-2,2 ', 4,4'-tetramethyl-6'-dif
Synthesis of phenylphosphinyl- 1,1'-biphenyl 6,6'-dibromo-3,3'-dimethoxy-2,
2 ′, 4,4′-Tetramethyl-1,1′-biphenyl (1.0 g) was dissolved in dry tetrahydrofuran (30 ml), and after substituting with argon, 1.5M t-butyl was cooled to −70 ° C. A lithium / n-pentane solution (2.0 ml) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes. Subsequently, chlorodiphenylphosphine (0.51 g) dissolved in dry tetrahydrofuran (5 ml) was added at the same temperature, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes and gradually returning to room temperature over 12 hours. After cooling to −70 ° C. again,
Mt-butyllithium / n-pentane solution (2.0 m
l) was added and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes. Subsequently, chlorodicyclohexylphosphine (0.55 g) dissolved in dry tetrahydrofuran (5 ml) was added at the same temperature.
The mixture was stirred while gradually returning to room temperature over 0 minutes and further 12 hours. Tetrahydrofuran was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved in dichloromethane (30 ml) and water (5 ml), and 31% aqueous hydrogen peroxide (5 ml) was added under ice-cooling, followed by stirring at room temperature for 3 hours. The organic layer was separated, and 1N sodium hydroxide (10 ml), water (20 ml × 3), and saturated saline (20 ml) were used.
ml), and dried over anhydrous magnesium sulfate. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the residue was separated and purified by silica gel chromatography (ethyl acetate) to obtain the desired product (220 mg) as a white solid (yield: 14%).

【0065】融点 225〜227℃ 元素分析(%):C42524 2 ・H2 Oとして H−NMR(δ,CDCl3 ):1.36(3H,
s),1.51〜2.07(22H,m),1.85
(3H,s),2.23(3H,s),2.35(3
H,s),3.68(3H,s),3.75(3H,
s),6.98(1H,d),7.03(1H,d),
7.26〜7.47(6H,m),7.58〜7.71
(4H,m)。
Melting point: 225-227 ° C. Elemental analysis (%): as C 42 H 52 O 4 P 2 .H 2 O H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.36 (3H,
s), 1.51 to 2.07 (22H, m), 1.85
(3H, s), 2.23 (3H, s), 2.35 (3
H, s), 3.68 (3H, s), 3.75 (3H,
s), 6.98 (1H, d), 7.03 (1H, d),
7.26 to 7.47 (6H, m), 7.58 to 7.71
(4H, m).

【0066】実施例166−ジシクロヘキシルホスフィニル−3,3’−ジメト
キシ−2,2’,4,4’−テトラメチル−6’−ジフ
ェニルホスフィニル−1,1’−ビフェニルの光学分割 実施例15により得られた化合物(250mg)を光学
活性体分取用カラム(キラルパック OT(+)(ダイ
セル製))により光学分割を行い、白色固体(110m
g)を得た。
Example 16 6-Dicyclohexylphosphinyl-3,3'-dimethoate
Xy-2,2 ', 4,4'-tetramethyl-6'-dif
Optical resolution of phenylphosphinyl-1,1′-biphenyl The compound (250 mg) obtained in Example 15 was subjected to optical resolution using an optically active substance preparative column (Chiralpak OT (+) (manufactured by Daicel)). , White solid (110m
g) was obtained.

【0067】実施例176−ジシクロヘキシルホスフィノ−3,3’−ジメトキ
シ−2,2’,4,4’−テトラメチル−6’−ジフェ
ニルホスフィノ−1,1’−ビフェニルの合成 耐圧管中で、実施例16の化合物(110mg)を乾
燥、脱気したクロロベンゼン(15ml)に溶解し、ト
リエチルアミン(0.81g)、アルゴン気流、氷冷下
においてトリクロロシラン(0.8g)を順に加え、ア
ルゴン置換した後に封管して140℃で5時間攪拌し
た。反応液に氷冷下、脱気した30%水酸化ナトリウム
水溶液を白色懸濁物が溶解するまで加え、アルゴン置換
した後、70℃で30分間攪拌した。続いて室温まで冷
却し、クロロベンゼン(30ml)を追加し、有機層を
分取し、水(20ml×3)、飽和食塩水(20ml)
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
有機層を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトにより
分離精製(トルエン)し、白色固体の目的物(72m
g)を得た(収率68%)。
Example 17 6-Dicyclohexylphosphino-3,3'-dimethoxy
C-2,2 ', 4,4'-tetramethyl-6'-dife
Synthesis of Nylphosphino-1,1′-biphenyl In a pressure tube, the compound of Example 16 (110 mg) was dissolved in dried and degassed chlorobenzene (15 ml), and triethylamine (0.81 g), an argon stream, and ice-cooling were used. Then, trichlorosilane (0.8 g) was added in order, and the atmosphere was replaced with argon, and the tube was sealed and stirred at 140 ° C. for 5 hours. A degassed aqueous 30% sodium hydroxide solution was added to the reaction mixture under ice cooling until the white suspension was dissolved, and the mixture was purged with argon and stirred at 70 ° C. for 30 minutes. Subsequently, the mixture was cooled to room temperature, chlorobenzene (30 ml) was added, the organic layer was separated, and water (20 ml × 3) and saturated saline (20 ml) were added.
And then dried over anhydrous magnesium sulfate.
The organic layer was concentrated under reduced pressure, the residue was separated and purified by silica gel chromatography (toluene), and the target substance as a white solid (72 m
g) (68% yield).

【0068】〔α〕D 22:−2.1353°(c,0.
002,エタノール/塩化メチレン=100/3) CD〔θ〕(λnm)(EtOH/CH2 Cl2 =10
0/3):−123,630(λ 274nm(po
s.max),237nm(neg.max) H−NMR(δ,CDCl3 ):1.56(3H,
s),1.81(3H,s),1.51〜2.07(2
2H,m),2.23(3H,s),2.35(3H,
s),3.52(3H,s),3.71(3H,s),
6.86(3H,s),6.88(3H,s),7.1
8〜7.29(10H,m)。
[Α] D 22 : -2.1353 ° (c, 0.
002, ethanol / methylene chloride = 100/3) CD [θ] (λ nm) (EtOH / CH 2 Cl 2 = 10)
0/3): -123,630 (λ 274 nm (po
s. max), 237 nm (neg. max) 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.56 (3H,
s), 1.81 (3H, s), 1.51 to 2.07 (2
2H, m), 2.23 (3H, s), 2.35 (3H,
s), 3.52 (3H, s), 3.71 (3H, s),
6.86 (3H, s), 6.88 (3H, s), 7.1
8-7.29 (10H, m).

【0069】実施例18(1−(2−ニトロ−4,6−ジトリフルオロメチルフ
ェニル)ナフタレン−2−イル)カルボン酸メチルの合
(1−ブロモナフタレン−2−イル)カルボン酸メチル
と1−ブロモ−ニトロ−4,6−ジトリフルオロメチル
ベンゼンを実施例1と同様にして、反応温度200〜2
20℃で3時間処理し、淡黄色プリズム晶の目的物を得
た(収率43%)。
Example 18 (1- (2-nitro-4,6-ditrifluoromethylphenyl)
Phenyl) naphthalen-2-yl) carboxylate
Forming (1-bromonaphthalene-2-yl) carboxylate and 1-bromo - nitro-4,6-ditrifluoromethylbenzene in the same manner as in Example 1, the reaction temperature from 200 to 2
The mixture was treated at 20 ° C. for 3 hours to obtain a light yellow prism crystal as a target product (yield: 43%).

【0070】融点 154〜155℃ 元素分析(%):C2011NF64 として Melting point: 154 to 155 ° C. Elemental analysis (%): as C 20 H 11 NF 6 O 4

【0071】実施例192−アミノ−1−(2−ニトロ−4,6−ジトリフルオ
ロメチルフェニル)ナフタレンの合成 実施例18の化合物(1.45g)を1%水酸化ナトリ
ウム水溶液(20ml)、エタノール(5ml)の溶液
に加え、50〜60℃にて1時間加熱攪拌後、冷却し、
濃塩酸で酸性とした。沈澱物を濾取、乾燥して1.3g
のカルボン酸体を得た。これを塩化チオニル(20m
l)に加え、1時間還流後、過剰の塩化チオニルを留去
した。残渣にベンゼンを加え、減圧濃縮した。この操作
を二回行った後、アセトン(20ml)を加え、−5℃
に冷却、アジ化ナトリウムを水(8ml)に溶解した液
を滴下した。更に30分間、0℃で攪拌後、水(20m
l)に加え、ベンゼン(10ml×2)抽出した。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、2時間還流した。
50%水酸化ナトリウム水溶液(20ml)を加え、更
に1時間還流した。水層を濃塩酸で酸性とし、ジクロル
メタンで抽出、無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮
した。得られた残渣をシリカゲルクロマトにより分離精
製(ジクロルメタン:n−ヘキサン=1:2)し、橙色
プリズム晶の目的物(0.85g)を得た。
Example 19 2-amino-1- (2-nitro-4,6-ditrifluoro)
Synthesis of romethylphenyl) naphthalene The compound of Example 18 (1.45 g) was added to a solution of a 1% aqueous sodium hydroxide solution (20 ml) and ethanol (5 ml), and the mixture was heated and stirred at 50 to 60 ° C. for 1 hour, and then cooled. And
Acidified with concentrated hydrochloric acid. The precipitate was collected by filtration and dried to give 1.3 g.
A carboxylic acid compound was obtained. This is thionyl chloride (20m
After refluxing for 1 hour in addition to l), excess thionyl chloride was distilled off. Benzene was added to the residue and concentrated under reduced pressure. After performing this operation twice, acetone (20 ml) was added, and -5 ° C.
Then, a solution prepared by dissolving sodium azide in water (8 ml) was added dropwise. After stirring at 0 ° C. for another 30 minutes, water (20 m
l) and extracted with benzene (10 ml × 2). The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and refluxed for 2 hours.
A 50% aqueous sodium hydroxide solution (20 ml) was added, and the mixture was further refluxed for 1 hour. The aqueous layer was acidified with concentrated hydrochloric acid, extracted with dichloromethane, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was separated and purified by silica gel chromatography (dichloromethane: n-hexane = 1: 2) to obtain the desired product (0.85 g) as an orange prism crystal.

【0072】融点 144〜146℃ 元素分析(%):C1812262として Melting point: 144-146 ° C. Elemental analysis (%): as C 18 H 12 N 2 F 6 O 2

【0073】実施例202−アミノ−1−(2−アミノ−4,6−ジトリフルオ
ロメチルフェニル)ナフタレンの合成 実施例19の化合物を実施例2と同様に処理することに
より白色プリズム晶として目的物を得た(収率定量
的)。
Example 20 2-amino-1- (2-amino-4,6-ditrifluoro)
Synthesis of romethylphenyl) naphthalene The compound of Example 19 was treated in the same manner as in Example 2 to obtain the desired product as white prism crystals (quantitative yield).

【0074】融点 166〜168℃ 元素分析(%):C181226として Melting point: 166-168 ° C. Elemental analysis (%): as C 18 H 12 N 2 F 6

【0075】実施例212−ヨード−1−(2−ヨード−4,6−ジトリフルオ
ロメチルフェニル)ナフタレンの合成 実施例20の化合物を実施例3と同様に処理することに
より白色プリズム晶として目的物を得た(収率53.8
%)。
Example 21 2-Iodo-1- (2-iodo-4,6-ditrifluoro)
Synthesis of romethylphenyl) naphthalene The compound of Example 20 was treated in the same manner as in Example 3 to obtain the desired product as white prism crystals (yield 53.8).
%).

【0076】融点 126〜128℃ 元素分析(%):C18862として Melting point: 126 to 128 ° C. Elemental analysis (%): as C 18 H 8 F 6 I 2

【0077】実施例222−ジフェニルホスフィニル−1−(2−ジフェニルホ
スフィニル−4,6−ジトリフルオロメチルフェニル)
ナフタレンの合成 実施例21の化合物を実施例5と同様に処理することに
より目的物を得た(収率46.8%)。 融点 232〜233℃ FAB MS:741(M+ +1)。
Example 22 2-Diphenylphosphinyl-1- (2-diphenylpho
Sphinyl-4,6-ditrifluoromethylphenyl)
Synthesis of naphthalene The target compound was obtained by treating the compound of Example 21 in the same manner as in Example 5 (yield: 46.8%). 232-233 ° C FAB MS: 741 (M ++ 1).

【0078】実施例232−ジフェニルホスフィニル−1−(2−ジフェニルホ
スフィニル−4,6−ジトリフルオロメチルフェニル)
ナフタレンの光学分割 実施例22の化合物を光学活性カラム(キラルパックO
T(+)(ダイセル社製)、展開溶媒n−ヘキサン−イ
ソプロピルアルコール(9:1)を用いて光学分割し
た。前出のフラクションを集め、濃縮し、プリズム晶と
して目的物を得た。 融点 232〜233℃ 〔α〕D 24:−71.0°(c,1.00,クロロホル
ム) 元素分析(%):C4228622 として H−NMR(δ,CDCl3 ):6.66(1H,br
d),6.87(1H,m),7.08〜7.17
(2H,m),7.20〜7.56(16H,m),
7.66〜7.91(7H,m),8.12(1H,b
r s)IR(νmax,cm-1):1200,116
0,1135,1110(KBr)。
Example 23 2-Diphenylphosphinyl-1- (2-diphenylphosphine)
Sphinyl-4,6-ditrifluoromethylphenyl)
Optical Resolution of Naphthalene The compound of Example 22 was applied to an optically active column (Chiralpak O
Optical resolution was performed using T (+) (manufactured by Daicel Corporation) and developing solvent n-hexane-isopropyl alcohol (9: 1). The above fractions were collected and concentrated to obtain the desired product as prism crystals. Melting point: 232 to 233 ° C. [α] D 24 : −71.0 ° (c, 1.00, chloroform) Elemental analysis (%): As C 42 H 28 F 6 O 2 P 2 H-NMR (δ, CDCl 3 ): 6.66 (1H, br)
d), 6.87 (1H, m), 7.08-7.17.
(2H, m), 7.20 to 7.56 (16H, m),
7.66 to 7.91 (7H, m), 8.12 (1H, b
rs) IR (νmax, cm -1 ): 1200,116
0,1135,1110 (KBr).

【0079】実施例24 (−)−2−ジフェニルホスフィノ−1−(2−ジフェ
ニルホスフィノ−4,6−ジトリフルオロメチルフェニ
ル)ナフタレンの合成 耐圧管中で、実施例23の化合物(74mg)を乾燥、
脱気したクロロベンゼン(4ml)に溶解し、トリエチ
ルアミン(486mg)、アルゴン気流、氷冷下におい
てトリクロロシラン(542mg)を順に加え、アルゴ
ン置換した後に封管して140℃で5時間攪拌した。反
応液に氷冷下、脱気した20%水酸化ナトリウム水溶液
を白色懸濁物が溶解するまで加え、アルゴン置換した
後、70℃で30分間攪拌した。続いて室温まで冷却
し、クロロベンゼン(4ml)を追加し、有機層を分取
し、水(5ml×3)、飽和食塩水(3ml)で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトにより分離精製
(トルエン)し、白色固体の目的物(61mg)を得た
(収率86%)。
Example 24 ( -)-2-diphenylphosphino-1- (2-diphene)
Nylphosphino-4,6-ditrifluoromethylphenyi
Lu) Synthesis of naphthalene The compound of Example 23 (74 mg) was dried in a pressure tube,
After dissolving in degassed chlorobenzene (4 ml), triethylamine (486 mg), trichlorosilane (542 mg) were added in that order under an argon stream and ice-cooling, and after purging with argon, the tube was sealed and stirred at 140 ° C. for 5 hours. A degassed 20% aqueous sodium hydroxide solution was added to the reaction mixture under ice cooling until the white suspension was dissolved, and the mixture was purged with argon and stirred at 70 ° C. for 30 minutes. Subsequently, the mixture was cooled to room temperature, chlorobenzene (4 ml) was added, the organic layer was separated, washed sequentially with water (5 ml × 3) and saturated saline (3 ml), and dried over anhydrous magnesium sulfate. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the residue was separated and purified by silica gel chromatography (toluene) to obtain the target product (61 mg) as a white solid (yield 86%).

【0080】融点 90〜92℃ 〔α〕D 23:−148.3°(c,0.76,ベンゼ
ン) CD〔θ〕(λnm)(EtOH):−53,000
(290.8),+126,000(246),−11
4,000(218) H−NMR(δ,CDCl3 ):6.44(1H,d,
J=8.8Hz),6.68〜6.80(4H,m),
7.04(2H,t,J=6.8Hz),7.11〜
7.31(14H,m),7.34〜7.42(2H,
m),7.46(1H,dd,J=2.5,8.6H
z),7.68〜7.76(2H,m),7.86(1
H,d,J=8.3Hz),8.01(1H,br
s)。
Melting point 90-92 ° C. [α] D 23 : −148.3 ° (c, 0.76, benzene) CD [θ] (λ nm) (EtOH): −53,000
(290.8), +126,000 (246), -11
4,000 (218) H-NMR (δ, CDCl 3 ): 6.44 (1H, d,
J = 8.8 Hz), 6.68 to 6.80 (4H, m),
7.04 (2H, t, J = 6.8 Hz), 7.11 to
7.31 (14H, m), 7.34 to 7.42 (2H,
m), 7.46 (1H, dd, J = 2.5, 8.6H
z), 7.68-7.76 (2H, m), 7.86 (1
H, d, J = 8.3 Hz), 8.01 (1H, br)
s).

【0081】実施例251−(3−メトキシ−2,4−ジメチルフェニル)ナフ
タレン−2−イルカルボン酸メチルの合成 1−ブロモナフタレン−2−イルカルボン酸メチル
(3.17g)、テトラキストリフェニルホスフィンパ
ラジウム(0)(0.32g)、炭酸ナトリウム(2.
1g)、3−メトキシ−2,4−ジメチルフェニルホウ
酸(1.9g)、水(10ml)、エタノール(2m
l)及びトルエン(20ml)の混合物を10時間還流
後、ベンゼンで抽出した。有機層を水、10%水酸化ナ
トリウム水溶液、水の順で洗浄、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮した。残渣の結晶をn−ヘキサンに
て洗浄、濾取し、白色プリズム晶の目的物(3.0g)
を得た(収率78.9%)。
Example 25 1- (3-methoxy-2,4-dimethylphenyl) naph
Synthesis of methyl taren-2-ylcarboxylate Methyl 1-bromonaphthalen-2-ylcarboxylate (3.17 g), tetrakistriphenylphosphinepalladium (0) (0.32 g), sodium carbonate (2.
1 g), 3-methoxy-2,4-dimethylphenylboric acid (1.9 g), water (10 ml), ethanol (2 m
A mixture of 1) and toluene (20 ml) was refluxed for 10 hours and extracted with benzene. The organic layer was washed with water, a 10% aqueous sodium hydroxide solution and water in that order, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue crystals were washed with n-hexane and collected by filtration, and the target substance (3.0 g) as white prism crystals was obtained.
Was obtained (yield: 78.9%).

【0082】融点 120〜121℃ 元素分析(%):C21203として Melting point: 120 to 121 ° C. Elemental analysis (%): As C 21 H 20 O 3

【0083】実施例262−アミノ−1−(3−メトキシ−2,4−ジメチルフ
ェニル)ナフタレンの合成 実施例25の化合物を実施例19と同様に処理すること
により淡黄色針状晶として目的物を得た(収率70.1
%)。 融点 120〜121℃ H−NMR(δ,CDCl3 ):1.87(3H,
s),2.33(3H,s),3.23(2H,br
s),3.37(3H,s),6.70〜7.30(6
H,m),7.43〜7.80(2H,m) MS:277(M+ )。
Example 26 2-amino-1- (3-methoxy-2,4-dimethylphenol)
Synthesis of phenyl) naphthalene The compound of Example 25 was treated in the same manner as in Example 19 to obtain the desired product as pale yellow needles (yield 70.1).
%). H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.87 (3H,
s), 2.33 (3H, s), 3.23 (2H, br)
s), 3.37 (3H, s), 6.70 to 7.30 (6
H, m), 7.43-7.80 (2H, m) MS: 277 (M <+> ).

【0084】実施例272−ヨード−1−(3−メトキシ−2,4−ジメチルフ
ェニル)ナフタレンの合成 実施例26の化合物を実施例3と同様に処理して目的物
を得た(収率58.0%)。 H−NMR(δ,CDCl3 ):1.87(3H,
s),2.37(3H,s),3.73(3H,s),
6.63(1H ,d,J=8.0Hz),6.83〜
7.90(7H,m) MS:388(M+ )。
Example 27 2-Iodo-1- (3-methoxy-2,4-dimethylphenyl)
Synthesis of phenyl) naphthalene The compound of Example 26 was treated in the same manner as in Example 3 to obtain the desired product (yield: 58.0%). H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.87 (3H,
s), 2.37 (3H, s), 3.73 (3H, s),
6.63 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.83-
7.90 (7H, m) MS: 388 (M <+> ).

【0085】実施例281−(6−ブロモ−3−メトキシ−2,4−ジメチルフ
ェニル)−2−ヨードナフタレンの合成 実施例27の化合物を実施例4と同様に処理することに
より白色プリズム晶として目的物を得た(収率96.3
%)。 融点 115〜116℃ H−NMR(δ,CDCl3 ):1.73(3H,
s),2.30(3H,s),3.63(3H,s),
6.97〜7.96(7H,m) MS:467(M+ )。
Example 28 1- (6-Bromo-3-methoxy-2,4-dimethylphenyl)
Synthesis of enyl) -2-iodonaphthalene The compound of Example 27 was treated in the same manner as in Example 4 to obtain the desired product as white prism crystals (yield 96.3).
%). H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.73 (3H,
s), 2.30 (3H, s), 3.63 (3H, s),
6.97-7.96 (7H, m) MS: 467 (M <+> ).

【0086】実施例292−ジフェニルホスフィニル−1−(6−ジフェニルホ
スフィニル−3−メトキシ−2,4−ジメチルフェニ
ル)ナフタレンの合成 実施例28の化合物を実施例5と同様に処理することに
より白色板状晶として目的物を得た(収率62.0
%)。H−NMR(δ,CDCl3 ):1.33(3
H,s),2.17(3H,s),3.60(3H,
s),6.50〜7.87(7H,m) 融点 148〜151℃ 元素分析(%):C433832・EtOHとして
Embodiment 292-diphenylphosphinyl-1- (6-diphenylpho
Sphinyl-3-methoxy-2,4-dimethylphenyi
Le) Synthesis of naphthalene Using the compound of Example 28 as in Example 5
The target product was obtained as whiter plate crystals (yield 62.0).
%). H-NMR (δ, CDClThree): 1.33 (3
H, s), 2.17 (3H, s), 3.60 (3H,
s), 6.50-7.87 (7H, m) Melting point 148-151 ° C Elemental analysis (%): C43H38OThreePTwo・ As EtOH

【0087】実施例301−(3−メトキシ−2,4−ジメチル−6−ニトロフ
ェニル)ナフタレン−2−イルカルボン酸メチルの合成 1−ブロモナフタレン−2−イルカルボン酸メチルと
2,6−ジメチル−4−ニトロ−3−ブロモアニソール
を実施例1と同様に処理することにより淡黄色プリズム
晶として目的物を得た(収率35.6%)。 融点 100〜102℃ MS:365(M+ )。
Example 30 1- (3-Methoxy-2,4-dimethyl-6-nitrophenyl
Synthesis of methyl (enyl) naphthalen-2-ylcarboxylate A light yellow prism was obtained by treating methyl 1-bromonaphthalen-2-ylcarboxylate and 2,6-dimethyl-4-nitro-3-bromoanisole in the same manner as in Example 1. The desired product was obtained as crystals (yield 35.6%). MP 100-102 <0> C MS: 365 (M <+> ).

【0088】実施例312−アミノ−1−(3−メトキシ−2,4−ジメチル−
6−ニトロフェニル)ナフタレンの合成 実施例30の化合物を実施例19と同様に処理して目的
物を得た(収率68.4%)。MS:322(M+ )。
Example 31 2-amino-1- (3-methoxy-2,4-dimethyl-
Synthesis of 6-nitrophenyl) naphthalene The compound of Example 30 was treated in the same manner as in Example 19 to obtain the desired product (68.4% yield). MS: 322 (M <+> ).

【0089】実施例322−アミノ−1−(6−アミノ−3−メトキシ−2,4
−ジメチルフェニル)ナフタレンの合成 実施例31の化合物を実施例2と同様に処理することに
より淡黄色プリズム晶として目的物を得た(収率85.
8%)。 融点 145〜147℃ MS:292(M+ )。
Example 32 2-amino-1- (6-amino-3-methoxy-2,4
Synthesis of -Dimethylphenyl) naphthalene The compound of Example 31 was treated in the same manner as in Example 2 to obtain the desired product as pale yellow prism crystals (yield: 85.50).
8%). Mp 145-147 [deg.] C MS: 292 (M <+> ).

【0090】実施例332−ヨード−1−(6−ヨード−3−メトキシ−2,4
−ジメチルフェニル)ナフタレンの合成 実施例32の化合物を実施例3と同様に処理することに
より白色プリズム晶として目的物を得た(収率29.0
%)。 融点 140〜141℃ MS:514(M+ )。
Example 33 2-Iodo-1- (6-iodo-3-methoxy-2,4
Synthesis of -dimethylphenyl) naphthalene The compound of Example 32 was treated in the same manner as in Example 3 to obtain the desired product as white prism crystals (yield 29.0).
%). 140-141 [deg.] C MS: 514 (M <+> ).

【0091】実施例342−ジフェニルホスフィニル−1−(6−ジフェニルホ
スフィニル−3−メトキシ−2,4−ジメチルフェニ
ル)ナフタレンの合成 実施例33の化合物を実施例5と同様に処理することに
より白色板状晶として目的物を得た。 融点 148〜151℃ FAB MS:663(M+ ) この化合物のスペクトラムデータは実施例29のものと
一致した。
Embodiment 342-diphenylphosphinyl-1- (6-diphenylpho
Sphinyl-3-methoxy-2,4-dimethylphenyi
Le) Synthesis of naphthalene Using the compound of Example 33 as in Example 5
The desired product was obtained as whiter plate crystals. 148-151 ° C FAB MS: 663 (M+) The spectrum data of this compound is the same as that of Example 29.
Matched.

【0092】実施例351−(3−メトキシ−2,4−ジメチルフェニル)−2
−ジフェニルホスフィニルナフタレンの合成 実施例27の化合物を実施例5と同様に処理することに
より淡黄色油状物として目的物を得た(収率84.0
%)。FAB MS:463(M+ )。
Example 35 1- (3-methoxy-2,4-dimethylphenyl) -2
Synthesis of -diphenylphosphinylnaphthalene The compound of Example 27 was treated in the same manner as in Example 5 to obtain the desired product as a pale yellow oil (yield: 84.0).
%). FAB MS: 463 (M + ).

【0093】実施例361−(6−ブロモ−3−メトキシ−2,4−ジメチルフ
ェニル)−2−ジフェニルホスフィニルナフタレンの合
実施例35の化合物を実施例4と同様に処理して目的物
を得た(収率71.2%)。FAB MS:542(M
+ )。
Example 36 1- (6-Bromo-3-methoxy-2,4-dimethylphenyl)
Enyl) -2-diphenylphosphinylnaphthalene
The compound of Synthesis Example 35 was treated in the same manner as in Example 4 to obtain the desired product (yield: 71.2%). FAB MS: 542 (M
+ ).

【0094】実施例37 (+)−2−ジフェニルホスフィノ−1−(6−ジフェ
ニルホスフィノ−3−メトキシ−2,4−ジメチルフェ
ニル)ナフタレンの合成 実施例36の化合物(1.0g)を光学活性カラム(キ
ラルパックOT(+)(ダイセル社製)、展開溶媒n−
ヘキサン−イソプロピルアルコール(4:1))を用い
て光学分割した。前出のフラクションを集め、0.29
gを得た。これを実施例24の方法に従って還元し、2
−ジフェニルホスフィノ−1−(6−ブロモ−3−メト
キシ−2,4−ジメチルフェニル)ナフタレンとした
(0.26g)。 〔α〕D 23 :−43.8°(c,0.2,クロロホル
ム) H−NMR(δ,CDCl3 ):1.40(3H,
s),2.38(3H,s),3.60(3H,s),
7.26〜7.87(17H,m)。
Example 37 ( +)-2-diphenylphosphino-1- (6-dife
Nylphosphino-3-methoxy-2,4-dimethylphen
Synthesis of nyl) naphthalene The compound of Example 36 (1.0 g) was charged into an optically active column (Chiralpak OT (+) (manufactured by Daicel Corporation) using a developing solvent n-
Optical resolution was performed using hexane-isopropyl alcohol (4: 1). Collect the above fraction, 0.29
g was obtained. This was reduced according to the method of Example 24 to give 2
-Diphenylphosphino-1- (6-bromo-3-methoxy-2,4-dimethylphenyl) naphthalene (0.26 g). [Α] D 23 : −43.8 ° (c, 0.2, chloroform) H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.40 (3H,
s), 2.38 (3H, s), 3.60 (3H, s),
7.26-7.87 (17H, m).

【0095】これを実施例5の方法と同様にして、1−
(6−ブロモ−3−メトキシ−2,4−ジメチルフェニ
ル)−2−ジフェニルホスフィノナフタレン0.10g
より2−ジフェニルホスフィノ−1−(6−ジフェニル
ホスフィニル−3−メトキシ−2,4−ジメチルフェニ
ル)ナフタレン(78mg)を得た。H−NMR(δ,
CDCl3 ):1.80(3H,s),2.23(3
H,s),3.73(3H,s),6.83〜8.03
(27H,m)。
This is performed in the same manner as in Example 5 to
(6-Bromo-3-methoxy-2,4-dimethylphenyl) -2-diphenylphosphinonaphthalene 0.10 g
Thus, 2-diphenylphosphino-1- (6-diphenylphosphinyl-3-methoxy-2,4-dimethylphenyl) naphthalene (78 mg) was obtained. H-NMR (δ,
CDCl 3 ): 1.80 (3H, s), 2.23 (3
H, s), 3.73 (3H, s), 6.83-8.03.
(27H, m).

【0096】これを実施例24の方法に従って再度還元
し、目的物(49mg)を得た。融点 241〜221
℃ 〔α〕D 23 :−38.2°(c,0.12,クロロホル
ム) H−NMR(δ,CDCl3 ):1.37(3H,
s),2.30(3H,s),3.50(3H,s),
6.83〜7.70(27H,m)。
This was reduced again according to the method of Example 24 to obtain the desired product (49 mg). Melting point 241-221
° C. [α] D 23 : -38.2 ° (c, 0.12, chloroform) H-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.37 (3H,
s), 2.30 (3H, s), 3.50 (3H, s),
6.83-7.70 (27H, m).

【0097】このようにして得られた一般式〔I〕で表
される光学活性な2回回転軸を持たない非対称軸不斉ビ
スホスフィン誘導体はロジウム又はルテニウム金属錯体
触媒の配位子として不斉水素化等、各種不斉有機合成に
使用できる。
The asymmetric bissymmetric phosphine derivative having no optically active double-rotational axis represented by the general formula [I] thus obtained is asymmetric as a ligand of a rhodium or ruthenium metal complex catalyst. It can be used for various asymmetric organic syntheses such as hydrogenation.

【0098】不斉有機合成に用いる触媒の調整方法とし
ては、一般式〔I〕で表される光学活性な2回回転軸を
持たない非対称軸不斉ビスホスフィン誘導体と、ロジウ
ム−シクロオクタジエン−クロル錯体等のロジウム錯体
又はルテニウム−p−シメン−ヨウ素錯体等のルテニウ
ム錯体とを、メタノール、塩化メチレン等の有機溶媒又
はそれらの混合溶媒中で加温下に作用させることにより
調整できる。
As a method for preparing a catalyst used for asymmetric organic synthesis, an asymmetric bisphosphine derivative having no optically active biaxial axis represented by the general formula [I], a rhodium-cyclooctadiene- It can be adjusted by allowing a rhodium complex such as a chloro complex or a ruthenium complex such as a ruthenium-p-cymene-iodine complex to act under heating in an organic solvent such as methanol or methylene chloride or a mixed solvent thereof.

【0099】これらは反応系内で用事調整したものを用
いても良いし、前もって調整単離したものを用いても良
い。ついで、本発明化合物を用いた不斉還元例を述べ
る。
These may be those prepared and adjusted in the reaction system or may be prepared and isolated in advance. Next, an example of asymmetric reduction using the compound of the present invention will be described.

【0100】試験例1 〔触媒調整〕ジ−μ−ヨード−ビス〔(p−シメン)ヨ
ードルテニウム(II)〕錯体(〔RuI2 (p−cy
mene)〕2 、2.4mg、2.5×10-3mmo
l)及び本発明化合物(6.0×10-3mmol)を乾
燥脱気したメタノール/塩化メチレン(1/1)の混合
溶媒(4ml)に溶解し、アルゴン置換した後に50℃
で30分間攪拌した。
Test Example 1 [Catalyst Preparation] Di-μ-iodo-bis [(p-cymene) iodolthenium (II)] complex ([RuI 2 (p-cy
mene)] 2 , 2.4 mg, 2.5 × 10 −3 mmo
l) and the compound of the present invention (6.0 × 10 −3 mmol) are dissolved in a mixed solvent (4 ml) of dry and degassed methanol / methylene chloride (1/1), and the mixture is purged with argon and then cooled to 50 ° C.
For 30 minutes.

【0101】〔還元操作法〕アセト酢酸メチル(381
mg、5mmol)、調整した触媒のメタノール/塩化
メチレン(1/1)溶液、乾燥脱気したメタノール/塩
化メチレン(1/1)の混合溶媒(6ml)をオートク
レーブに入れ、水素初期圧10atm、30〜40℃で
20時間攪拌した。反応終了後、ガスクロマトグラフィ
ー(カラム:PEG−20M)により反応添加率を測定
した。次に反応液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留した
後、生成物の旋光度を測定し、その符号から絶対配置を
決定した。また、生成物の一部を乾燥ピリジンに溶解
し、氷冷下で当量の塩化ベンゾイルを加え、室温で1時
間攪拌した。反応液を常法に従って処理した後、得られ
た3−ベンゾイルオキシ酪酸メチルのHPLC分析(光
学活性カラム:CHIRALCEL OB、カラム溶
媒:n−ヘキサン/イソプロパノール(9/1)、流
速:0.5ml、UV波長254nm)を行い、光学純
度を決定した。
[Reduction Procedure] Methyl acetoacetate (381)
mg, 5 mmol), a methanol / methylene chloride (1/1) solution of the prepared catalyst, and a mixed solvent (6 ml) of dried / degassed methanol / methylene chloride (1/1) were placed in an autoclave, and hydrogen initial pressure was 10 atm, 30 atm. Stirred at 4040 ° C. for 20 hours. After completion of the reaction, the reaction addition rate was measured by gas chromatography (column: PEG-20M). Next, the reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was distilled under reduced pressure. The optical rotation of the product was measured, and the absolute configuration was determined from the sign. A part of the product was dissolved in dry pyridine, an equivalent amount of benzoyl chloride was added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After treating the reaction solution according to a conventional method, HPLC analysis of the obtained methyl 3-benzoyloxybutyrate (optically active column: CHIRALCEL OB, column solvent: n-hexane / isopropanol (9/1), flow rate: 0.5 ml, UV wavelength 254 nm) to determine the optical purity.

【0102】表1に実験結果を示した。Table 1 shows the experimental results.

【0103】[0103]

【表1】 [Table 1]

【0104】試験例2 〔触媒調整〕ビス(ノルボルナジエン)ロジウム(I)
パークロレート錯体(〔Rh(NBD)2 〕ClO4
1.9mg、5×10-3mmol)及び本発明化合物
(5.5×10-3mmol)を乾燥脱気した塩化メチレ
ン溶液(2ml)に溶解し、アルゴン置換した後に30
℃で3時間攪拌した。攪拌後、溶媒を減圧留去し、アル
ゴン気流下で常圧に戻した後、残渣に乾燥脱気したメタ
ノール(4ml)を加えて溶解し、アルゴン置換した後
に、30℃で10分間攪拌した。
Test Example 2 [Catalyst Preparation] Bis (norbornadiene) rhodium (I)
Perchlorate complex ([Rh (NBD) 2 ] ClO 4 ,
1.9 mg, 5 × 10 −3 mmol) and the compound of the present invention (5.5 × 10 −3 mmol) were dissolved in a dry and degassed methylene chloride solution (2 ml), and the solution was replaced with argon, followed by 30 minutes.
Stirred at C for 3 hours. After stirring, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the pressure was returned to normal pressure under an argon stream. The residue was dissolved by adding dry and degassed methanol (4 ml), and the mixture was purged with argon and stirred at 30 ° C. for 10 minutes.

【0105】〔還元操作法〕2−アミノアセトフェノン
塩酸塩(858mg、5mmol)、乾燥脱気したトリ
エチルアミン(2.5mg、2.5×10-2mmo
l)、調整した触媒のメタノール溶液、乾燥脱気したメ
タノール(10ml)をオートクレーブに入れ、水素初
期圧90atm、50℃で7日間攪拌した。反応終了
後、活性炭(50mg)を加え、1時間攪拌して触媒を
吸着、濾去した。濾液を減圧濃縮して黄色固体を得た。
残渣の 1H−NMR(CD3 OD)を測定することによ
り、反応添加率を求めた。次に生成物の旋光度を測定
し、その符号から絶対配置を決定した。また、生成物の
一部を塩化メチレンに溶解後、氷冷却下で0.5N 水
酸化ナトリウム水溶液を加え攪拌後、有機層を減圧濃縮
しフリー体を得た。フリー体をジメチルホルムアミドに
溶解、氷冷下でトリエチルアミンと塩化ベンゾイルを加
え、室温で3時間攪拌した。反応液を常法に従って処理
した後、得られたN−ベンゾイル体のHPLC分析(光
学活性カラム:CHIRALCEL OD、カラム溶
媒:n−ヘキサン/イソプロパノール(9/1)、流
速:0.5ml、UV波長254nm)を行い、光学純
度を決定した。表2に実験結果を示した。
[Reduction Procedure] 2-aminoacetophenone hydrochloride (858 mg, 5 mmol), dried and degassed triethylamine (2.5 mg, 2.5 × 10 -2 mmol)
l) The prepared methanol solution of the catalyst and dried and degassed methanol (10 ml) were placed in an autoclave, and stirred at 50 atm and an initial hydrogen pressure of 90 atm for 7 days. After the reaction was completed, activated carbon (50 mg) was added, and the mixture was stirred for 1 hour to adsorb the catalyst and filtered off. The filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain a yellow solid.
The reaction addition rate was determined by measuring 1 H-NMR (CD 3 OD) of the residue. Next, the optical rotation of the product was measured, and the absolute configuration was determined from the sign. Further, after dissolving a part of the product in methylene chloride, a 0.5N aqueous sodium hydroxide solution was added thereto under ice cooling and the mixture was stirred, and the organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain a free product. The free form was dissolved in dimethylformamide, and triethylamine and benzoyl chloride were added thereto under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 3 hours. After treating the reaction solution according to a conventional method, HPLC analysis of the obtained N-benzoyl compound (optically active column: CHIRALCEL OD, column solvent: n-hexane / isopropanol (9/1), flow rate: 0.5 ml, UV wavelength) 254 nm) to determine the optical purity. Table 2 shows the experimental results.

【0106】[0106]

【表2】 [Table 2]

【0107】以上のように、本発明化合物は、実用的で
有用な不斉合成用触媒の配位子である。
As described above, the compounds of the present invention are practical and useful ligands for catalysts for asymmetric synthesis.

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 9/50 C07F 9/53 CA(STN) REGISTRY(STN)Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) C07F 9/50 C07F 9/53 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (14)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式〔I〕 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は相異なって、フェニル
基(該フェニル基は、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原子から選ばれ
る1〜5個で置換されていても良い)又はシクロヘキシ
ル基を、R3 ,R4 ,R7 ,R8 は同一又は相異なっ
て、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ト
リフルオロメチル基を、R5 及びR6 は同一又は相異な
って、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリフルオ
ロメチル基を表すか、又はR4 とR5 、R6 とR7 が相
伴って芳香環を表すが、R3 とR8 、R4 とR7 、R5
とR6 及びR1 とR2 は、少なくともいずれかの一つの
対は相異なる置換基を表す〕で表される光学活性な2回
回転軸を持たない非対称軸不斉ビスホスフィン誘導体。
1. A compound of the general formula [I] [Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each is a phenyl group (the phenyl group is substituted by 1 to 5 members selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) Or a cyclohexyl group, R 3 , R 4 , R 7 , and R 8 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group, and R 5 and R 6 The same or different, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , R 6 and R 7 together represent an aromatic ring, but R 3 and R 8 , R 4 and R 7 , R 5
And R 6 and R 1 and R 2 represent at least one pair of different substituents.] An asymmetric bisphosphine derivative having no optically active twice-rotational axis.
【請求項2】 前記一般式〔I〕においてR3 及びR5
がトリフルオロメチル基、R4 が水素原子、R6 及びR
8 がメチル基、R7 がメトキシ基である一般式〔II〕 【化2】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は相異なって、フェニル
基(該フェニル基は、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原子から選ばれ
る1〜5個で置換されていても良い)又はシクロヘキシ
ル基を表す〕で表される光学活性な2回回転軸を持たな
い非対称軸不斉ビスホスフィン誘導体。
2. The compound of the formula [I], wherein R 3 and R 5
Is a trifluoromethyl group, R 4 is a hydrogen atom, R 6 and R
General formula [II] wherein 8 is a methyl group and R 7 is a methoxy group [Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each is a phenyl group (the phenyl group is substituted by 1 to 5 members selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) Or an asymmetric bissymmetric phosphine derivative having no optically active twice-rotational axis.
【請求項3】 前記一般式〔I〕においてR3 及びR5
がトリフルオロメチル基、R4 及びR8 が水素原子、R
6 及びR7 が相伴って芳香環を表す一般式〔III〕 【化3】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は相異なって、フェニル
基(該フェニル基は、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原子から選ばれ
る1〜5個で置換されていても良い)又はシクロヘキシ
ル基を表す〕で表される光学活性な2回回転軸を持たな
い非対称軸不斉ビスホスフィン誘導体。
3. The compound of the formula [I], wherein R 3 and R 5
Is a trifluoromethyl group, R 4 and R 8 are hydrogen atoms, R
General formula [III] in which 6 and R 7 together represent an aromatic ring [Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each is a phenyl group (the phenyl group is substituted by 1 to 5 members selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) Or an asymmetric bissymmetric phosphine derivative having no optically active twice-rotational axis.
【請求項4】 前記一般式〔I〕においてR3 及びR5
がメチル基、R4 がメトキシ基、R6 及びR7 が相伴っ
て芳香環、R8 が水素原子を表す一般式〔IV〕 【化4】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は相異なって、フェニル
基(該フェニル基は、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原子から選ばれ
る1〜5個で置換されていても良い)又はシクロヘキシ
ル基を表す〕で表される光学活性な2回回転軸を持たな
い非対称軸不斉ビスホスフィン誘導体。
4. A compound represented by the formula (I) wherein R 3 and R 5
Is a methyl group, R 4 is a methoxy group, R 6 and R 7 are an aromatic ring together, and R 8 is a hydrogen atom. [Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each is a phenyl group (the phenyl group is substituted by 1 to 5 members selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) Or an asymmetric bissymmetric phosphine derivative having no optically active twice-rotational axis.
【請求項5】 前記一般式〔I〕においてR3 、R5
6 及びR8 がメチル基、R4 及びR7 がメトキシ基を
表す一般式〔V〕 【化5】 〔式中、R1 及びR2 は相異なって、フェニル基(該フ
ェニル基は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリ
フルオロメチル基又はハロゲン原子から選ばれる1〜5
個で置換されていても良い)又はシクロヘキシル基を表
す〕で表される光学活性な2回回転軸を持たない非対称
軸不斉ビスホスフィン誘導体。
5. In the general formula [I], R 3 , R 5 ,
A general formula [V] in which R 6 and R 8 represent a methyl group, and R 4 and R 7 represent a methoxy group. [In the formula, R 1 and R 2 are different from each other, and a phenyl group (the phenyl group is 1 to 5 selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom)
An asymmetric bisphosphine derivative having no optically active twice-rotational axis.
【請求項6】 前記一般式〔I〕においてR3 及びR8
が水素原子、R4 及びR5 並びにR6 及びR7 が相伴っ
て芳香環を表す一般式〔VI〕 【化6】 〔式中、R1 及びR2 は相異なって、フェニル基(該フ
ェニル基は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリ
フルオロメチル基又はハロゲン原子から選ばれる1〜5
個で置換されていても良い)又はシクロヘキシル基を表
す〕で表される光学活性な2回回転軸を持たない非対称
軸不斉ビスホスフィン誘導体。
6. The compound of the formula (I) wherein R 3 and R 8
Is a hydrogen atom, and R 4 and R 5 and R 6 and R 7 together represent an aromatic ring. [In the formula, R 1 and R 2 are different from each other, and a phenyl group (the phenyl group is 1 to 5 selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom)
An asymmetric bisphosphine derivative having no optically active twice-rotational axis.
【請求項7】 一般式〔VII〕 【化7】 〔式中、R2 はフェニル基(該フェニル基は、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又は
ハロゲン原子から選ばれる1〜5個で置換されていても
良い)又はシクロヘキシル基を、R3 ,R4 ,R7 ,R
8 は同一又は相異なって、水素原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基を、R5 及び
6 は同一又は相異なって、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、トリフルオロメチル基を表すか、又はR4
5 、R6 とR7 が相伴って芳香環を表し、Y1 はハロ
ゲン原子、P(O)n (R1 2 (ここでR1 はフェニ
ル基(該フェニル基は、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原子から選ば
れる1〜5個で置換されていても良い)又はシクロヘキ
シル基を、nは0又は1の数字を示す)を表すが、R3
とR8 、R4 とR7、R5 とR6 及びR1 とR2 は、少
なくともいずれかの一つの対は相異なる置換基を表す〕
で表されるホスフィニル誘導体。
7. A compound of the general formula [VII] [Wherein, R 2 represents a phenyl group (the phenyl group may be substituted with 1 to 5 selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or a cyclohexyl group; R 3 , R 4 , R 7 , R
8 is the same or different, a hydrogen atom, a lower alkyl group,
R 5 and R 6 are the same or different and represent a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , R 6 and R 7 Represents an aromatic ring in combination, Y 1 is a halogen atom, P (O) n (R 1 ) 2 (where R 1 is a phenyl group (the phenyl group is a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl Or a cyclohexyl group, n represents a number of 0 or 1), and R 3
And R 8 , R 4 and R 7 , R 5 and R 6, and R 1 and R 2 , at least one pair of which represents a different substituent.]
A phosphinyl derivative represented by the formula:
【請求項8】 一般式〔VII〕 【化8】 〔式中、R2 はフェニル基(該フェニル基は、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又は
ハロゲン原子から選ばれる1〜5個で置換されていても
良い)又はシクロヘキシル基を、R3 ,R4 ,R7 ,R
8 は同一又は相異なって、水素原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基を、R5 及び
6 は同一又は相異なって、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、トリフルオロメチル基を表すか、又はR4
5 、R6 とR7 が相伴って芳香環を表し、R3
8 、R4 とR7 、R5 とR6 及びR1 とR2 が同時に
同じ置換基を表す場合を除き、Y1 はハロゲン原子、P
(O)n (R1 2 (ここでR1 はフェニル基(該フェ
ニル基は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリフ
ルオロメチル基又はハロゲン原子から選ばれる1〜5個
で置換されていても良い)又はシクロヘキシル基を、n
は0又は1の数字を示す)を表すが、R3 とR8、R4
とR7 、R5 とR6 及びR1 とR2 は、少なくともいず
れかの一つの対は相異なる置換基を表す〕で表される化
合物を光学分割することを特徴とする光学活性な2回回
転軸を持たない非対称軸不斉ホスフィニル誘導体。
8. A compound of the general formula [VII] [Wherein, R 2 represents a phenyl group (the phenyl group may be substituted with 1 to 5 selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or a cyclohexyl group; R 3 , R 4 , R 7 , R
8 is the same or different, a hydrogen atom, a lower alkyl group,
R 5 and R 6 are the same or different and represent a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , R 6 and R 7 Represents an aromatic ring, R 3 and R 8 , R 4 and R 7 , R 5 and R 6, and R 1 and R 2 simultaneously represent the same substituent, except that Y 1 is a halogen atom, P
(O) n (R 1 ) 2 (where R 1 is a phenyl group, wherein the phenyl group is substituted with 1 to 5 members selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom. Or a cyclohexyl group, n
Represents 0 or 1), but R 3 and R 8 , R 4
And R 7 , R 5 and R 6, and R 1 and R 2 at least one pair represents a different substituent.] An asymmetric symmetric phosphinyl derivative having no rotational axis.
【請求項9】 一般式〔VIII〕 【化9】 〔式中、R2 はフェニル基(該フェニル基は、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又は
ハロゲン原子から選ばれる1〜5個で置換されていても
良い)又はシクロヘキシル基を、R3 ,R4 ,R7 ,R
8 は同一又は相異なって、水素原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基を、R5 及び
6 は同一又は相異なって、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、トリフルオロメチル基を表すか、又はR4
5 、R6 とR7 が相伴って芳香環を表し、Y1 はハロ
ゲン原子、P(O)m (R1 2 (ここでR1 はフェニ
ル基(該フェニル基は、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原子から選ば
れる1〜5個で置換されていても良い)又はシクロヘキ
シル基を、mは0又は1の数字を示す)を表し、nは0
又は1の数字を示すが、R3 とR8 、R4 とR7 、R5
とR6 及びR1 とR2 は、少なくともいずれかの一つの
対は相異なる置換基を表し、Y1 がハロゲン原子を示す
か又はmが1を示すときはnは0を示す〕で表されるモ
ノ又はビスホスフィン誘導体を酸化することを特徴とす
る一般式〔IX〕 【化10】 〔式中、R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,R6 ,R7 ,R8
前記の通り、Y1 ’はハロゲン原子、P(O)(R1
2 (ここでR1 はフェニル基(該フェニル基は、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又
はハロゲン原子から選ばれる1〜5個で置換されていて
も良い)又はシクロヘキシル基を示す)を表す〕で表さ
れる化合物の製造方法。
9. A compound of the general formula [VIII] [Wherein, R 2 represents a phenyl group (the phenyl group may be substituted with 1 to 5 selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or a cyclohexyl group; R 3 , R 4 , R 7 , R
8 is the same or different, a hydrogen atom, a lower alkyl group,
R 5 and R 6 are the same or different and represent a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , R 6 and R 7 Represents an aromatic ring, Y 1 is a halogen atom, P (O) m (R 1 ) 2 (where R 1 is a phenyl group (the phenyl group is a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl Or a cyclohexyl group, m represents 0 or 1), and n represents 0
Or R 1 and R 8 , R 4 and R 7 , R 5
And R 6 and R 1 and R 2 , at least one of which represents a different substituent, and n represents 0 when Y 1 represents a halogen atom or m represents 1. Wherein the mono- or bisphosphine derivative to be used is oxidized. [Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are as described above, Y 1 ′ is a halogen atom, and P (O) (R 1 )
2 (where R 1 represents a phenyl group (the phenyl group may be substituted with 1 to 5 members selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom)) or a cyclohexyl group )]].
【請求項10】 一般式〔X〕 【化11】 〔式中、R2 はフェニル基(該フェニル基は、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又は
ハロゲン原子から選ばれる1〜5個で置換されていても
良い)又はシクロヘキシル基を、R3 ,R4 ,R7 ,R
8 は同一又は相異なって、水素原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基を、R5 及び
6 は同一又は相異なって、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、トリフルオロメチル基を表すか、又はR4
5 、R6 とR7 が相伴って芳香環を表し、Y1 はハロ
ゲン原子、P(O)m (R1 2 (ここでR1 はフェニ
ル基(該フェニル基は、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原子から選ば
れる1〜5個で置換されていても良い)又はシクロヘキ
シル基を、mは0又は1の数字を示す)を表し、nは0
又は1の数字を示すが、R3 とR8 、R4 とR7 、R5
とR6 及びR1 とR2 は、少なくともいずれかの一つの
対は相異なる置換基を表し、Y1 がハロゲン原子を示す
か又はmが0を示すときはnは1を示す〕で表されるモ
ノ又はビスホスフィニル誘導体を還元することを特徴と
する一般式〔XI〕 【化12】 〔式中、R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,R6 ,R7 ,R8
前記の通り、Y1 ”はハロゲン原子、P(R1 2 (こ
こでR1 はフェニル基(該フェニル基は、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又はハロ
ゲン原子から選ばれる1〜5個で置換されていても良
い)又はシクロヘキシル基を示す)を表す〕で表される
化合物の製造方法。
10. The general formula [X] [Wherein, R 2 represents a phenyl group (the phenyl group may be substituted with 1 to 5 selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or a cyclohexyl group; R 3 , R 4 , R 7 , R
8 is the same or different, a hydrogen atom, a lower alkyl group,
R 5 and R 6 are the same or different and represent a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , R 6 and R 7 Represents an aromatic ring, Y 1 is a halogen atom, P (O) m (R 1 ) 2 (where R 1 is a phenyl group (the phenyl group is a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl Or a cyclohexyl group, m represents 0 or 1), and n represents 0
Or R 1 and R 8 , R 4 and R 7 , R 5
And R 6 and R 1 and R 2 , at least one pair of which represents a different substituent, and n represents 1 when Y 1 represents a halogen atom or m represents 0. Reducing the mono- or bisphosphinyl derivative to be obtained by the general formula [XI] [Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are as described above, Y 1 ″ is a halogen atom, P (R 1 ) 2 (where R 1 is a phenyl group (The phenyl group may be substituted with 1 to 5 groups selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or a cyclohexyl group.) Manufacturing method.
【請求項11】 一般式〔XII〕 【化13】 〔式中、R3 ,R4 ,R7 ,R8 は同一又は相異なっ
て、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ト
リフルオロメチル基を、R5 及びR6 は同一又は相異な
って、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリフルオ
ロメチル基を表すか、又はR4 とR5 、R6 とR7 が相
伴って芳香環を表し、Xはハロゲン原子を、Y2 は水素
原子、ハロゲン原子、P(O)n (R1 2 (ここでR
1 はフェニル基(該フェニル基は、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原
子から選ばれる1〜5個で置換されていても良い)又は
シクロヘキシル基を、nは0又は1の数字を示す)を表
す〕で表される化合物に一般式〔XIII〕 【化14】 〔式中、R2 はフェニル基(該フェニル基は、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又は
ハロゲン原子から選ばれる1〜5個で置換されていても
良い)又はシクロヘキシル基を、nは0又は1の数字を
示す)を、X3はハロゲン原子を表す〕で表される化合
物を作用させることを特徴とする一般式〔XIV〕 【化15】 〔式中、R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,R6 ,R7 ,R8
2 ,nは前記の通りであるが、R3 とR8 、R4 とR
7 、R5 とR6 及びR1 とR2 は、少なくともいずれか
の一つの対は相異なる置換基を表す〕で表される化合物
の製造方法。
11. A compound of the general formula [XII] [In the formula, R 3 , R 4 , R 7 , and R 8 are the same or different and each represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a trifluoromethyl group, and R 5 and R 6 are the same or different. Represents a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , R 6 and R 7 together represent an aromatic ring, X represents a halogen atom, Y 2 represents a hydrogen atom, Halogen atom, P (O) n (R 1 ) 2 (where R
1 is a phenyl group (the phenyl group may be substituted with 1 to 5 groups selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or a cyclohexyl group, and n is 0 or 1 The compound represented by the general formula [XIII]: [Wherein, R 2 represents a phenyl group (the phenyl group may be substituted with 1 to 5 selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or a cyclohexyl group; n represents a number of 0 or 1), and X 3 represents a halogen atom], and a compound represented by the following general formula [XIV]: Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 ,
Y 2 and n are as described above, but R 3 and R 8 , R 4 and R
7 , at least one pair of R 5 and R 6 and R 1 and R 2 represent different substituents].
【請求項12】 一般式〔XV〕 【化16】 〔式中、R3 ,R4 ,R7 ,R8 は同一又は相異なっ
て、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ト
リフルオロメチル基を、R5 及びR6 は同一又は相異な
って、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリフルオ
ロメチル基を表すか、又はR4 とR5 、R6 とR7 が相
伴って芳香環を表すが、R3 とR8 、R4とR7 及びR
5 とR6 が少なくともいずれかの一つの対が相異なる置
換基を表し、X1 及びX2 は同一又は相異なってハロゲ
ン原子を表す〕で表される化合物に一般式〔XIII〕 【化17】 〔式中、R2 はフェニル基(該フェニル基は、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又は
ハロゲン原子から選ばれる1〜5個で置換されていても
良い)又はシクロヘキシル基を、nは0又は1の数字を
示す)を、X3はハロゲン原子を表す〕で表される化合
物を作用させることを特徴とする一般式〔XVI〕 【化18】 〔式中、R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,R6 ,R7 ,R8
nは前記の通り〕で表される化合物の製造方法。
12. A compound of the general formula [XV] [In the formula, R 3 , R 4 , R 7 , and R 8 are the same or different and each represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a trifluoromethyl group, and R 5 and R 6 are the same or different. , A lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , R 6 and R 7 together represent an aromatic ring, but R 3 and R 8 , R 4 and R 7 And R
5 and R 6 each represent a substituent in which at least one of the pairs is different, and X 1 and X 2 are the same or different and each represent a halogen atom]. ] [Wherein, R 2 represents a phenyl group (the phenyl group may be substituted with 1 to 5 selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or a cyclohexyl group; n represents a number of 0 or 1), and X 3 represents a halogen atom.] [XVI] Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 ,
n is as described above].
【請求項13】 一般式〔XVII〕 【化19】 〔式中、R2 はフェニル基(該フェニル基は、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基又は
ハロゲン原子から選ばれる1〜5個で置換されていても
良い)又はシクロヘキシル基を、nは0又は1の数字を
示す)を、R3,R4 ,R7 ,R8 は同一又は相異なっ
て、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ト
リフルオロメチル基を、R5 及びR6 は同一又は相異な
って、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリフルオ
ロメチル基を表すか、又はR4 とR5 、R6 とR7 が相
伴って芳香環を表す〕で表される化合物をハロゲン化す
ることを特徴とする一般式〔XVIII〕 【化20】 〔式中、R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,R6 ,R7 ,R8
前記の通り、X1 はハロゲン原子を表す〕で表される化
合物の製造方法。
13. A compound of the general formula [XVII] [Wherein, R 2 represents a phenyl group (the phenyl group may be substituted with 1 to 5 selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) or a cyclohexyl group; n a represents 0 or the number 1), R 3, R 4, R 7, R 8 are the same or different, a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group, R 5 and R 6 is the same or different and represents a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , and R 6 and R 7 together represent an aromatic ring] General formula [XVIII] characterized in that the compound is halogenated. [Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are as described above, and X 1 represents a halogen atom].
【請求項14】 一般式〔I〕 【化21】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は相異なって、フェニル
基(該フェニル基は、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原子から選ばれ
る1〜5個で置換されていても良い)又はシクロヘキシ
ル基を、R3 ,R4 ,R7 ,R8 は同一又は相異なっ
て、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ト
リフルオロメチル基を、R5 及びR6 は同一又は相異な
って、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリフルオ
ロメチル基を表すか、又はR4 とR5 、R6 とR7 が相
伴って芳香環を表すが、R3 とR8 、R4 とR7 、R5
とR6 及びR1 とR2 は少なくともいずれかの一つの対
は相異なる置換基を表す〕で表される光学活性な2回回
転軸を持たない非対称軸不斉ビスホスフィン誘導体から
なることを特徴とする不斉還元触媒用配位子
14. A compound of the general formula [I] [Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each is a phenyl group (the phenyl group is substituted by 1 to 5 members selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group and a halogen atom) Or a cyclohexyl group, R 3 , R 4 , R 7 , and R 8 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group, and R 5 and R 6 The same or different, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a trifluoromethyl group, or R 4 and R 5 , R 6 and R 7 together represent an aromatic ring, but R 3 and R 8 , R 4 and R 7 , R 5
And a R 6 and R 1 and R 2 is at least one of a pair without a Dyad optically active represented by the representative] different substituents asymmetric axis asymmetric bisphosphine derivative
A ligand for an asymmetric reduction catalyst, comprising:
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