JP2983515B2 - Method for producing bisbenzotriazolylphenol compound - Google Patents

Method for producing bisbenzotriazolylphenol compound

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JP2983515B2
JP2983515B2 JP10096368A JP9636898A JP2983515B2 JP 2983515 B2 JP2983515 B2 JP 2983515B2 JP 10096368 A JP10096368 A JP 10096368A JP 9636898 A JP9636898 A JP 9636898A JP 2983515 B2 JP2983515 B2 JP 2983515B2
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、重縮合反応型ビス
ベンゾトリアゾリルフェノール化合物の製造方法に関す
る。
The present invention relates to the Ru <br/> relates to a manufacturing how the polycondensation reactive bis-benzotriazolyl phenol compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】2−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾ
ール系化合物はプラスチックを紫外線の被害から護るの
に有用な、いわゆる紫外線吸収剤として知られている。
しかしながら、従来公知の紫外線吸収剤のほとんどは低
分子化合物であるため、多くの問題点を抱えていた。
2. Description of the Related Art 2-Hydroxyphenylbenzotriazole compounds are known as so-called ultraviolet absorbers which are useful for protecting plastics from being damaged by ultraviolet rays.
However, most of conventionally known ultraviolet absorbers are low molecular compounds, and thus have many problems.

【0003】例えば上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤は、低分子であるが故に蒸気圧が高く、樹脂にブレ
ンドして成形加工する際に蒸散して作業環境を汚染した
り、金型を汚す等の問題が生じることが知られている。
また、上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等の紫外
線吸収剤は添加型であり、ベース樹脂と単に混ぜ合わせ
て使用するため、一旦得られた成形体や塗膜の表面から
経時的にブリードアウトしたり、使用環境において雨や
洗剤などを含む水等により流出したりして、長期間、製
品に紫外線吸収作用(光安定性)を付与することができ
ないおそれがあった。
For example, the above-mentioned benzotriazole-based UV absorber has a low vapor pressure due to its low molecular weight, and evaporates when it is blended with a resin for molding to contaminate the working environment or stain the mold. Problems are known to occur.
Further, ultraviolet absorbers such as the above-mentioned benzotriazole-based ultraviolet absorbers are additive types, and are used by simply mixing them with the base resin. In addition, there is a possibility that the product cannot be provided with an ultraviolet absorbing effect (light stability) for a long period of time due to, for example, outflow due to rain or water containing a detergent in a use environment.

【0004】近年、コーティングや繊維などの比表面積
の大きな用途や、高温下で成型や塗工を行うといった使
用形態においても、樹脂成型体表面からブリードアウト
や蒸散するおそれが少ない高分子型紫外線吸収剤が、性
能が高い耐候性付与剤として開発されている。上記高分
子型紫外線吸収剤は、紫外線吸収性を有する低分子化合
物を高分子化したもので蒸気圧が極めて低く、高温を必
要とする成形加工時においても蒸散するおそれが少ない
ものである。
[0004] In recent years, even in applications having a large specific surface area such as coatings and fibers, and in use forms such as molding and coating at high temperatures, high-molecular-weight ultraviolet absorbing materials which are less likely to bleed out or evaporate from the surface of the resin molded product. Agents have been developed as high performance weathering agents. The polymer type ultraviolet absorber is obtained by polymerizing a low molecular weight compound having an ultraviolet absorbing property, has a very low vapor pressure, and is less likely to evaporate even during a molding process requiring a high temperature.

【0005】特開昭38−25036号公報、特開昭6
0−51181号公報、特開昭61−112062号公
報には、付加重合型ベンゾトリアゾール系化合物と、こ
の化合物から製造される高分子紫外線吸収剤が開示され
ている。また特開平2−188581号公報、特開平3
−200788号公報、特開平3−39326号公報、
特開平9−316060号公報には、縮重合型のベンゾ
トリアゾール系化合物が開示されている。
JP-A-38-25036 and JP-A-6-25036
JP-A-5-51181 and JP-A-61-112062 disclose an addition-polymerized benzotriazole-based compound and a polymer ultraviolet absorber produced from this compound. Also, JP-A-2-188581 and JP-A-3
-200788, JP-A-3-39326,
JP-A-9-316060 discloses a condensation-polymerized benzotriazole-based compound.

【0006】これらの公報には重合側鎖を有する反応型
ベンゾトリアゾール系化合物(反応型紫外線吸収剤)
と、これから誘導できる高分子紫外線吸収剤の有用性が
述べられている。すなわち、かかる高分子紫外線吸収剤
は、優れた紫外線吸収能を有し、しかも紫外線を吸収す
るユニットがポリマーに化学結合しているため、従来の
添加型紫外線吸収剤に見られるような樹脂からの蒸散や
ブリードアウト等を起こすことがなく、樹脂に長期耐候
性を付与できるものである。
[0006] These publications disclose reactive benzotriazole compounds having a polymerized side chain (reactive ultraviolet absorber).
And the usefulness of the polymeric ultraviolet absorber which can be derived therefrom. That is, such a polymer ultraviolet absorber has excellent ultraviolet absorbing ability, and furthermore, since the unit for absorbing ultraviolet light is chemically bonded to the polymer, the polymer ultraviolet absorber has a high absorption capacity. It can provide the resin with long-term weather resistance without causing transpiration or bleed-out.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、これらの高
分子紫外線吸収剤のモノマーである反応型紫外線吸収剤
は、それ自身が反応型である(反応性が高い)が故に合
成には困難が伴うとされてきた。例えば特開平9−31
6060号公報に開示の重縮合反応型ビスベンゾトリア
ゾリルフェノール化合物、すなわち2,2’−メチレン
ビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−
4−(ヒドロキシアルキル)フェノール化合物は、合成
中間体として2−ヒドロキシ−5−ヒドロキシアルキル
フェニル−2H−ベンゾトリアゾール類を使用し、この
化合物をマンニッヒ(Mannich)塩基に変換した
後、カップリング反応を行うことにより、製造される。
However, reactive UV absorbers, which are monomers of these high molecular UV absorbers, are themselves reactive (high in reactivity) and therefore have difficulty in synthesis. And has been. For example, JP-A-9-31
No. 6060 discloses a polycondensation reaction type bisbenzotriazolylphenol compound, that is, 2,2′-methylenebis [6- (2H-benzotriazol-2-yl)-.
The 4- (hydroxyalkyl) phenol compound uses 2-hydroxy-5-hydroxyalkylphenyl-2H-benzotriazoles as a synthetic intermediate, converts this compound into a Mannich base, and then performs a coupling reaction. It is manufactured by performing.

【0008】しかしながら、上記2−ヒドロキシ−5−
ヒドロキシアルキルフェニル−2H−ベンゾトリアゾー
ル化合物は、その分子内にフェノール性水酸基より反応
性が高いヒドロキシアルキル基を有することから、その
Mannich塩基を調製する際、および2,2’−メ
チレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−4−(ヒドロキシアルキル)フェノール類へと導
くカップリング反応を行う際のいずれの製造工程におい
ても多くの副反応を引き起こすため、目的物を収率良く
合成するのに困難が伴う場合があった。
[0008] However, the above 2-hydroxy-5-
Since the hydroxyalkylphenyl-2H-benzotriazole compound has a hydroxyalkyl group having a higher reactivity than the phenolic hydroxyl group in the molecule, it is used for preparing the Mannich base and for preparing 2,2′-methylenebis [6- ( 2H-benzotriazol-2-yl) -4- (hydroxyalkyl) phenols cause many side reactions in any of the production steps in conducting the coupling reaction, so that the target compound is synthesized in good yield. Was sometimes difficult.

【0009】しかも、上記2,2’−メチレンビス[6
−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(ヒ
ドロキシアルキル)フェノール類、その合成中間体であ
る2−ヒドロキシ−5−ヒドロキシアルキルフェニル−
2H−ベンゾトリアゾール類およびび副反応によって生
じた副生成物はいずれも類似の化学的性質を有してお
り、目的物の分離精製が困難である。
In addition, the above 2,2'-methylenebis [6
-(2H-benzotriazol-2-yl) -4- (hydroxyalkyl) phenols, 2-hydroxy-5-hydroxyalkylphenyl which is a synthetic intermediate thereof
2H-benzotriazoles and by-products produced by side reactions all have similar chemical properties, and it is difficult to separate and purify the desired product.

【0010】従って、上記目的物を精製する際に慣用の
活性炭処理や再結晶を複数回繰り返す等の方法が必須で
あるため、収率を低下させるだけでなく、工業化におい
て製造コストを大きく増大させる問題があった。本発明
は、上記2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−4−(ヒドロキシアルキ
ル)フェノール化合物(2) を、簡便にかつ効率良く合成
する製造方法と、その製造方法に有用な合成中間体を提
供することにある。
[0010] Therefore, when purifying the above-mentioned target substance, it is necessary to use a conventional method such as activated carbon treatment and recrystallization a plurality of times, which not only lowers the yield but also greatly increases the production cost in industrialization. There was a problem. The present invention provides a method for easily and efficiently synthesizing the 2,2′-methylenebis [6- (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (hydroxyalkyl) phenol compound (2), and a method for synthesizing the same. An object of the present invention is to provide a synthetic intermediate useful for a production method.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上述の従
来技術の課題に鑑み、2,2’−メチレンビス[6−
(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(ヒド
ロキシアルキル)フェノール化合物(2) を効率良くかつ
簡便に合成する製造方法を開発するため鋭意検討を重ね
た結果、下記一般式(1) で表される文献未記載の新規な
メチレンビスフェノール化合物が、該化合物(2) を効率
よく、かつ簡便に合成する上で重要な合成中間体である
こと、また、かかるメチレンビスフェノール化合物(1)
を合成中間体として用いれば該化合物(2) を副生成物を
生成することなく、簡便にかつ効率良く合成できるとい
うという事実を見出し、本発明を完成するに至った。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned problems in the prior art, the present inventors have proposed 2,2'-methylenebis [6-
As a result of intensive studies to develop a method for efficiently and easily synthesizing the (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (hydroxyalkyl) phenol compound (2), the following general formula (1) was obtained. The novel methylene bisphenol compound described in the literature not described is an important synthetic intermediate for efficiently and conveniently synthesizing the compound (2), and the methylene bisphenol compound (1)
The present inventors have found that the compound (2) can be simply and efficiently synthesized without generating a by-product when is used as a synthesis intermediate, and have completed the present invention.

【0012】一般式(1) :General formula (1):

【0013】[0013]

【化7】 Embedded image

【0014】[式中Aは、炭素数1〜6のアルキレン
基、基:−C(CH3 )2 −または基:−C(C2
H5 )(CH3 )−を示す。R1 およびR2 は、
同一または異なって水酸基または炭素数1〜12の直鎖
状もしくは分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を示す。]
すなわち、本発明のビスベンゾトリアゾリルフェノール
化合物(2) :
[0014] [wherein A is wherein the alkylene group of carbon number 1 to 6, group: -C (CH3) 2 - or a group: -C (C2
H5) (CH3) - . R 1 and R 2 are
The same or different is a hydroxyl group or a linear or branched hydroxyalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. ]
That is, the bisbenzotriazolylphenol compound (2) of the present invention:

【0015】[0015]

【化8】 Embedded image

【0016】[式中、Aは炭素数1〜6のアルキレン
基、基:−C(CH3 )2 −または基:−C(C2
H5 )(CH3 )−を示す。R1 およびR2 は、
同一または異なって水酸基または炭素数1〜12の直鎖
状もしくは分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を示す。R
3 およびR4 は、同一または異なって水素原子、炭素数
1〜4のアルキル基、アリール基、炭素数1〜4のアル
コキシ基またはハロゲン原子を示す。]の製造方法は、
一般式(1) :
[0016] [In the formulas, A is an alkylene group of carbon number 1 to 6, group: -C (CH3) 2 - or a group: -C (C2
H5) (CH3) - . R 1 and R 2 are
The same or different is a hydroxyl group or a linear or branched hydroxyalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. R
3 and R 4 are the same or different and represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom. The manufacturing method of
General formula (1):

【0017】[0017]

【化9】 Embedded image

【0018】[式中、Aは炭素数1〜6のアルキレン
基、基:−C(CH3 )2 −または基:−C(C2
H5 )(CH3 )−を示す。R1 およびR2 は、
同一または異なって水酸基または炭素数1〜12の直鎖
状もしくは分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を示す。]
で表されるメチレンビスフェノール化合物を合成中間体
とすることを特徴とする。
[0018] [In the formulas, A is an alkylene group of carbon number 1 to 6, group: -C (CH3) 2 - or a group: -C (C2
H5) (CH3) - . R 1 and R 2 are
The same or different is a hydroxyl group or a linear or branched hydroxyalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. ]
Wherein the methylene bisphenol compound represented by the formula (1) is used as a synthetic intermediate.

【0019】上記一般式(1)で表されるメチレンビス
フェノール化合物は、例えば重縮合反応型紫外線吸収剤
であるビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物(2) を
簡便にかつ効率よく合成する上で最も有用な合成中間体
である。かかる本発明のメチレンビスフェノール化合物
(1) を用いて上記ビスベンゾトリアゾリルフェノール化
合物(2) を製造した場合には、特開平9−316060
号公報に開示の製造方法で使用するベンゾトリアゾール
のマンニッヒ塩基化合物のように、その分子内に有する
より反応性が高いヒドロキシアルキル基の影響を全く受
けることなく、官能基選択的にフェノール性水酸基のオ
ルト位で反応が進行するため、目的物であるビスベンゾ
トリアゾリルフェノール化合物(2) のみを高収率で製造
することができる。
The methylene bisphenol compound represented by the above general formula (1) is most useful, for example, for easily and efficiently synthesizing a bisbenzotriazolylphenol compound (2) which is a polycondensation reaction type ultraviolet absorber. A synthetic intermediate. Such a methylene bisphenol compound of the present invention
When the above bisbenzotriazolyl phenol compound (2) is produced by using (1), JP-A-9-316060
Patent No. 5,049,098, such as the Mannich base compound of benzotriazole used in the production method disclosed in the publication, without any influence of a highly reactive hydroxyalkyl group having in the molecule, the functional group selectively phenolic hydroxyl group Since the reaction proceeds at the ortho position, only the target product, bisbenzotriazolylphenol compound (2), can be produced in high yield.

【0020】また、得られたビスベンゾトリアゾリルフ
ェノール化合物(2) は副反応物の生成がなく高純度であ
ると共に、着色度も低いため、場合によっては精製工程
を省くことが可能であり、工業的にも極めて低コストで
製造することが出来る。
Further, the obtained bisbenzotriazolylphenol compound (2) has high purity with no by-products and low coloring degree, so that the purification step can be omitted in some cases. It can be manufactured at extremely low cost industrially.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明について説明する。
上記一般式(1) に示される各基を具体的に説明すると以
下の通りである。炭素数1〜6のアルキレン基として
は、例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、2−メ
チルトリメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、1
−メチルトリメチレン、メチルメチレン、エチルメチレ
ン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン
などのアルキレン基があげられる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below.
Each group represented by the above general formula (1) will be specifically described as follows. Examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms include methylene, ethylene, trimethylene, 2-methyltrimethylene, 2,2-dimethyltrimethylene,
-Alkylene groups such as methyltrimethylene, methylmethylene, ethylmethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene and the like.

【0022】炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐鎖状
のヒドロキシアルキル基としては、例えばヒドロキシメ
チル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピ
ル、2,3−ジヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブ
チル、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル、5,
5,4−トリヒドロキシペンチル、5−ヒドロキシペン
チル、6−ヒドロキシヘキシル、1−ヒドロキシイソプ
ロピル、2−メチル−3−ヒドロキシプロピル、7−ヒ
ドロキシヘプチル、8−ヒドロキシオクチル、9−ヒド
ロキシノニル、10−ヒドロキシデシル、11−ヒドロ
キシウンデシル、12−ヒドロキシドデシル等の水酸基
を1〜3個有する炭素1〜12の直鎖状もしくは分岐鎖
状のアルキル基があげられる。
Examples of the linear or branched hydroxyalkyl group having 1 to 12 carbon atoms include hydroxymethyl, 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl, 2,3-dihydroxypropyl, 4-hydroxybutyl and , 1-dimethyl-2-hydroxyethyl, 5,
5,4-trihydroxypentyl, 5-hydroxypentyl, 6-hydroxyhexyl, 1-hydroxyisopropyl, 2-methyl-3-hydroxypropyl, 7-hydroxyheptyl, 8-hydroxyoctyl, 9-hydroxynonyl, 10-hydroxy Examples thereof include a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and having 1 to 3 hydroxyl groups such as decyl, 11-hydroxyundecyl and 12-hydroxydodecyl.

【0023】また、上記一般式(2) に示される各基を具
体的に説明すると以下の通りである。炭素数1〜4のア
ルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチルなどの
アルキル基があげられる。炭素数1〜4のアルコキシ基
としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキシ、t−ブトキシ等のアルコキシ
基があげられる。
Further, each group represented by the above general formula (2) will be specifically described as follows. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl,
Alkyl groups such as isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl and the like can be mentioned. Examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms include alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, and t-butoxy.

【0024】ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、
臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子などがあげられる。
アリール基としては、フェニル環上に炭素数1〜4のア
ルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、ハロゲン原子
等を有することのあるフェニル、ナフチル基などがあげ
られる。
Examples of the halogen atom include a chlorine atom,
Examples thereof include a bromine atom, a fluorine atom, and an iodine atom.
Examples of the aryl group include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group and a naphthyl group which may have a halogen atom or the like on a phenyl ring.

【0025】本発明のメチレンビスフェノール化合物
(1) の具体的な化合物例を以下に示す。2,2’−メチ
レンビス(1,4−ジヒドロキシベンゼン)、3,3’
−メチレンビス(4−ヒドロキシベンジルアルコー
ル)、3,3’−メチレンビス(4−ヒドロキシフェネ
チルアルコール)、2,2’−メチレンビス[4−(3
−ヒドロキシプロピル)フェノール]、2,2’−メチ
レンビス[4−(2−ヒドロキシプロピル)フェノー
ル]、2,2’−メチレンビス[4−(4−ヒドロキシ
ブチル)フェノール)、2,2’−メチレンビス[4−
(3−ヒドロキシブチル)フェノール)、2,2’−メ
チレンビス[4−(2−ヒドロキシブチル)フェノー
ル)、2,2’−メチレンビス[4−(5−ヒドロキシ
アミル)フェノール)、2,2’−メチレンビス[4−
(4−ヒドロキシアミル)フェノール)、2,2’−メ
チレンビス[4−(6−ヒドロキシヘキシル)フェノー
ル)、2,2’−メチレンビス[4−(7−ヒドロキシ
ヘプチル)フェノール)、2,2’−メチレンビス[4
−(8−ヒドロキシオクチル)フェノール)、2,2’
−メチレンビス[4−(10−ヒドロキシデシル)フェ
ノール)、2,2’−メチレンビス[4−(12−ヒド
ロキシドデシル)フェノール)。
The methylene bisphenol compound of the present invention
Specific examples of the compound (1) are shown below. 2,2′-methylenebis (1,4-dihydroxybenzene), 3,3 ′
-Methylenebis (4-hydroxybenzyl alcohol), 3,3'-methylenebis (4-hydroxyphenethyl alcohol), 2,2'-methylenebis [4- (3
-Hydroxypropyl) phenol], 2,2'-methylenebis [4- (2-hydroxypropyl) phenol], 2,2'-methylenebis [4- (4-hydroxybutyl) phenol), 2,2'-methylenebis [ 4-
(3-hydroxybutyl) phenol), 2,2′-methylenebis [4- (2-hydroxybutyl) phenol), 2,2′-methylenebis [4- (5-hydroxyamyl) phenol), 2,2′- Methylene bis [4-
(4-hydroxyamyl) phenol), 2,2′-methylenebis [4- (6-hydroxyhexyl) phenol), 2,2′-methylenebis [4- (7-hydroxyheptyl) phenol), 2,2′- Methylene bis [4
-(8-hydroxyoctyl) phenol), 2,2 '
-Methylenebis [4- (10-hydroxydecyl) phenol), 2,2'-methylenebis [4- (12-hydroxydodecyl) phenol).

【0026】上記一般式(1) で表される本発明のメチレ
ンビスフェノール化合物は種々の公知の方法によって簡
便に製造可能であるが、好ましい一例を示すと、例えば
一般式(5) :
The methylenebisphenol compound of the present invention represented by the above general formula (1) can be easily produced by various known methods. One preferred example is, for example, the following general formula (5):

【0027】[0027]

【化10】 Embedded image

【0028】[式中、R1 は水酸基または炭素数1〜1
2の直鎖状もしくは分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を
示す。]で表されるヒドロキシフェノール類をマンニッ
ヒ(Mannich)反応によってアミノメチル化した
後に、塩基性条件下でもう一分子のヒドロキシフェノー
ル類(5')
[Wherein, R 1 is a hydroxyl group or a group having 1 to 1 carbon atoms.
2 represents a linear or branched hydroxyalkyl group. Is aminomethylated by a Mannich reaction, and then, under basic conditions, another molecule of the hydroxyphenol (5 ′)

【0029】[0029]

【化11】 Embedded image

【0030】[式中、R2 は水酸基または炭素数1〜1
2の直鎖状もしくは分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を
示す。]とカップリング反応を行うか、もしくは上記二
分子のヒドロキシフェノール類(5) および(5')を適当な
溶媒中にて、酸触媒存在下、所定のアルデヒド類または
ケトン類と反応させることにより、目的とする上記一般
式(1) で表されるメチレンビスフェノール化合物を製造
することができる。
Wherein R 2 is a hydroxyl group or a group having 1 to 1 carbon atoms.
2 represents a linear or branched hydroxyalkyl group. Or by reacting the above two molecules of hydroxyphenols (5) and (5 ′) with a predetermined aldehyde or ketone in an appropriate solvent in the presence of an acid catalyst. Thus, the desired methylenebisphenol compound represented by the general formula (1) can be produced.

【0031】次に、本発明の製造方法について説明す
る。上記一般式(1) で表されるメチレンビスフェノール
化合物を合成中間体として、公知の方法、例えば特公平
6−53733号公報に開示の製造に従って一般式(2)
で表される重縮合反応型紫外線吸収剤である2,2’−
メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−
イル)−4−(ヒドロキシアルキル)フェノール類を製
造することができる。
Next, the manufacturing method of the present invention will be described. Using the methylene bisphenol compound represented by the general formula (1) as a synthetic intermediate, a compound represented by the general formula (2) according to a known method, for example, the production disclosed in Japanese Patent Publication No. 53733/1994.
2,2′- which is a polycondensation reaction type ultraviolet absorber represented by
Methylenebis [6- (2H-benzotriazole-2-
Yl) -4- (hydroxyalkyl) phenols can be produced.

【0032】すなわち、o −ニトロアニリン誘導体と亜
硝酸ナトリウムとを慣用の方法に従い反応させて調製し
た、一般式(3) :
Specifically, an o-nitroaniline derivative is reacted with sodium nitrite according to a conventional method, and is prepared by the following general formula (3):

【0033】[0033]

【化12】 Embedded image

【0034】[式中、R3 は水素原子、炭素数1〜4の
アルキル基、アリール基、炭素数1〜4のアルコキシ基
またはハロゲン原子を示す。]で表されるジアゾニウム
塩および一般式(3'):
[In the formula, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom. And a diazonium salt represented by the general formula (3 ′):

【0035】[0035]

【化13】 Embedded image

【0036】[式中、R4 は水素原子、炭素数1〜4の
アルキル基、アリール基、炭素数1〜4のアルコキシ基
またはハロゲン原子を示す。]で表されるジアゾニウム
塩と、上記メチレンビスフェノール化合物(1) とを適当
な溶媒中、アゾカップリング反応を行い、一般式(4) :
[In the formula, R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom. Azo coupling reaction of the diazonium salt represented by the formula (1) with the above methylenebisphenol compound (1) in a suitable solvent to give a general formula (4):

【0037】[0037]

【化14】 Embedded image

【0038】[式中Aは炭素数1〜6のアルキレン
基、、基:−C(CH3 )2 −または基:−C(C
2 H5 )(CH3 )−を示す。R1 およびR
2 は、同一または異なって水酸基または炭素数1〜12
の直鎖状もしくは分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を示
す。R3 およびR4 は、同一または異なって水素原子、
炭素数1〜4のアルキル基、アリール基、炭素数1〜4
のアルコキシ基またはハロゲン原子を示す。]で表され
るビスアゾベンゼン化合物類に変換した後、引き続きこ
のビスアゾベンゼン化合物(4) を塩基性条件下で還元反
応を行うことにより、一般式(2)で表されるビスベン
ゾトリアゾリルフェノール化合物を製造することができ
る。
[0038] [wherein A is an alkylene group ,, group having a carbon number of 1~6: -C (CH3) 2 - or a group: -C (C
2H5) (CH3) - . R 1 and R
2 is the same or different and has a hydroxyl group or 1 to 12 carbon atoms
Is a straight-chain or branched-chain hydroxyalkyl group. R 3 and R 4 are the same or different and each represent a hydrogen atom,
C1-C4 alkyl group, aryl group, C1-C4
Represents an alkoxy group or a halogen atom. And then subjecting the bisazobenzene compound (4) to a reduction reaction under basic conditions to obtain a bisbenzotriazolyl phenol represented by the general formula (2). Compounds can be prepared.

【0039】なお、上記メチレンビスフェノール化合物
(1) と、ジアゾニウム塩(3) および(3')とのアゾカップ
リング反応は、塩基性条件下で行うのが好ましい。その
際、使用される塩基としては、例えば水酸化リチウム、
炭酸リチウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、炭酸カルシウムなどがあげられる。また、その使用
量は、メチレンビスフェノール化合物(1) に対して0.
1〜10倍モル量、好ましくは1〜5倍モル量であるの
がよい。
The above methylene bisphenol compound
The azo coupling reaction between (1) and diazonium salts (3) and (3 ′) is preferably performed under basic conditions. In that case, as the base used, for example, lithium hydroxide,
Examples include lithium carbonate, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydroxide, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, calcium carbonate and the like. The amount of the compound used is 0.1% based on the methylenebisphenol compound (1).
The molar amount is 1 to 10 times, preferably 1 to 5 times.

【0040】上記溶媒としては反応に影響を及ぼさない
ものであればいずれも使用可能であり、例えばジエチル
エーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香
族炭化水素、またはこれらの混合溶媒などがあげられ
る。
Any solvent can be used as long as it does not affect the reaction. Examples of the solvent include ethers such as diethyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran and dioxane; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; Examples include aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and mixed solvents thereof.

【0041】上記アゾカップリング反応は、通常−20
〜50℃程度、好ましくは0〜20℃で行われ、0.5
〜24時間程度で終了する。還元の方法としては、接触
還元法または、例えば水素化アルミニウムリチウム、水
素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、ジボラ
ン、ラネーニッケルなどの還元剤を使用する方法があげ
られる。なお、ビスアゾベンゼン化合物(4)を還元する
には、塩基性条件下で行うのが好ましい。使用する塩基
としては、上述のものがあげられる。
The azo coupling reaction is usually carried out at -20
About 50 ° C., preferably 0-20 ° C.
It ends in about 24 hours. Examples of the reduction method include a catalytic reduction method and a method using a reducing agent such as lithium aluminum hydride, sodium borohydride, lithium borohydride, diborane, and Raney nickel. The reduction of the bisazobenzene compound (4) is preferably performed under basic conditions. Examples of the base to be used include those described above.

【0042】還元剤の使用量は、ビスアゾベンゼン化合
物(4) に対して0.5〜10当量、好ましくは2〜5当
量使用するのがよい。還元反応は、通常10〜150℃
程度、好ましくは40〜120℃で行われ、0.5〜2
4時間程度で終了する。次に、一般式(5) または(5')で
表されるヒドロキシフェノール類を、適当な溶媒中に
て、酸触媒存在下、アルデヒド類もしくはケトン類と反
応させて、目的とするメチレンビスフェノール化合物
(1) を得る反応について、以下に説明する。
The amount of the reducing agent used is 0.5 to 10 equivalents, preferably 2 to 5 equivalents, based on the bisazobenzene compound (4). The reduction reaction is usually performed at 10 to 150 ° C.
Degree, preferably at 40-120 ° C, 0.5-2
It takes about 4 hours. Next, a hydroxyphenol represented by the general formula (5) or (5 ′) is reacted with an aldehyde or a ketone in an appropriate solvent in the presence of an acid catalyst to obtain a desired methylenebisphenol compound.
The reaction for obtaining (1) will be described below.

【0043】上記メチレンビスフェノール化合物(1)
は、4−ヒドロキシフェノール類(5)または(5')を、適
当な溶媒中、酸触媒存在下1.0〜3.0当量のアルデ
ヒド類もしくはケトン類と1〜50時間させることによ
り製造できる。また、目的に応じて無溶媒、もしくは硫
酸、塩酸有機酸等の液体酸触媒を溶媒として用いて反応
することが可能である。
The above methylene bisphenol compound (1)
Can be produced by reacting 4-hydroxyphenols (5) or (5 ′) with 1.0 to 3.0 equivalents of aldehydes or ketones in a suitable solvent in the presence of an acid catalyst for 1 to 50 hours. . In addition, the reaction can be carried out without a solvent or using a liquid acid catalyst such as sulfuric acid or an organic acid of hydrochloric acid as a solvent depending on the purpose.

【0044】ここで使用される上記アルデヒド類として
は特に制限されず、従来公知のものを広く使用できる。
具体的には、ホルムアルデヒドおよびその水溶液、アセ
トアルデヒド、プロピオンアルデヒド等の低級脂肪族ア
ルデヒド類、パラホルムアルデヒド等の直鎖上オリゴマ
ー、トリオキサン、テトラオキシメチレン等の環状オリ
ゴマー、さらに場合によってはジメチルアセタールのよ
うなアルデヒド類の誘導体が好ましく使用される。
The aldehydes used herein are not particularly limited, and conventionally known aldehydes can be widely used.
Specifically, formaldehyde and its aqueous solution, acetaldehyde, lower aliphatic aldehydes such as propionaldehyde, linear oligomers such as paraformaldehyde, trioxane, cyclic oligomers such as tetraoxymethylene, and in some cases, such as dimethyl acetal Aldehyde derivatives are preferably used.

【0045】また、ケトン類としては特に制限が無く、
従来公知のものを広く使用できる。具体的には、アセト
ン、2−ブタノン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、
さらに場合によってはジメチルケタールのようなケトン
類の誘導体が好ましく使用される。酸触媒としては強酸
であれば特に限定が無く、従来公知なものを広く使用で
きる。具体的には、硫酸、塩酸、リン酸等の無機酸、リ
ンタングステン酸、リンモリブデン酸、リンモリブドタ
ングステン酸、リンモリブドバナジン酸、ケイタングス
テン酸、ケイモリブデン酸等のヘテロポリ酸、強酸性の
イオン交換樹脂、シュウ酸等の有機酸、アルミノシリケ
ート等の固体酸が上げられる。れらは単独で使用する
か、もしくは目的に応じて2種類以上混合して使用する
ことができる。
The ketones are not particularly limited.
Conventionally known ones can be widely used. Specifically, acetone, 2-butanone, 2-pentanone, 3-pentanone,
Further, in some cases, a derivative of a ketone such as dimethyl ketal is preferably used. The acid catalyst is not particularly limited as long as it is a strong acid, and conventionally known ones can be widely used. Specifically, inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and phosphoric acid; phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid, phosphomolybdungstic acid, phosphomolybdovanadic acid, heteropolyacids such as silicotungstic acid and silicomolybdic acid; Ion exchange resins, organic acids such as oxalic acid, and solid acids such as aluminosilicate. These can be used alone or in combination of two or more depending on the purpose.

【0046】触媒の使用量は、特に限定されるものでは
なく広い範囲で選定されるが、通常一般式(1)で表さ
れるメチレンビスフェノール化合物に対して0.01〜
500重量%が好ましい。上記溶媒としては反応に影響
を及ぼさないものであればいずれも使用可能であり、例
えばギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸、ジエチルエ
ーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエー
テル類、アセトニトリル等のニトリル類、石油エーテ
ル、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類が上げら
れる。これらは単独で使用するか、もしくは目的に応じ
て2種類以上混合して使用することができる。
The amount of the catalyst to be used is not particularly limited and is selected in a wide range, but is usually 0.01 to 10% based on the methylene bisphenol compound represented by the general formula (1).
500% by weight is preferred. As the solvent, any solvent can be used as long as it does not affect the reaction.For example, organic acids such as formic acid, acetic acid, and propionic acid, ethers such as diethyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and ethylene glycol dimethyl ether can be used. And nitriles such as acetonitrile, and aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, hexane and heptane. These can be used alone or in combination of two or more depending on the purpose.

【0047】また溶媒の使用量は、特に限定されるもの
ではなく、撹拌の容易さ、反応温度、基質に対する溶解
度に応じて広い範囲で選定されるが、通常一般式(1)
で表されるメチレンビスフェノールに対して10〜50
0重量%が好ましい。反応温度は−20℃〜200℃、
好ましくは0℃〜150℃の範囲で溶媒や基質の種類に
応じて適宜選定される。
The amount of the solvent used is not particularly limited, and is selected from a wide range according to the ease of stirring, the reaction temperature, and the solubility in the substrate.
10 to 50 with respect to the methylene bisphenol represented by
0% by weight is preferred. The reaction temperature is -20C to 200C,
Preferably, it is appropriately selected in the range of 0 ° C. to 150 ° C. according to the type of the solvent or the substrate.

【0048】このようにして得た一般式(1)で表され
るメチレンビスフェノール化合物は、そのまま一般式
(2)で表されるビスベンゾトリアゾリルフェノール化
合物の製造に供することもできるが、再結晶等の汎用な
手段を用いて精製することがより好ましい。上記方法に
より得られたメチレンビスフェノール化合物(1) は、従
来公知の方法により、重縮合反応型紫外線吸収剤である
一般式(2) で表されるビスベンゾトリアゾールフェノー
ルに容易にかつ高純度で変換される。
The methylene bisphenol compound represented by the general formula (1) thus obtained can be directly used for the production of a bisbenzotriazolyl phenol compound represented by the general formula (2). It is more preferable to purify using general-purpose means such as crystals. The methylene bisphenol compound (1) obtained by the above method can be easily and highly purely converted into a bisbenzotriazole phenol represented by the general formula (2), which is a polycondensation reaction type ultraviolet absorber, by a conventionally known method. Is done.

【0049】また上記方法で得た一般式(2) で表される
ビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物は、通常製造
工程で必要とされる脱色工程や精製工程をあえて必要と
しない程高純度であり、反応液の大部分を濃縮して得た
結晶を単に水洗して乾燥するか、あるいはジオキサン等
の不活性溶媒で抽出した後に再結晶して乾燥するといっ
た程度の簡便な単離方法で得ることができる。
The bisbenzotriazolylphenol compound represented by the general formula (2) obtained by the above method has such a high purity that a decolorization step and a purification step which are usually required in the production step are not required. The crystals obtained by concentrating most of the reaction solution are simply washed with water and dried, or extracted with an inert solvent such as dioxane and then recrystallized and dried to obtain a simple isolation method. Can be.

【0050】[0050]

【実施例】以下、本発明を実施例、製造例により説明す
る。 実施例1 4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール13.8g
(100ミリモル)を硫酸20mlに溶解し、パラホル
ムアルデヒド0.75g(50ミリモル)を加えて室温
で12時間撹拌した。ついでこの反応混合物を水200
ml中に投入し、1時間撹拌した後、析出した結晶を濾
別し、得られた濾過物を水洗し、減圧下で24時間乾燥
させることにより、目的物である3,3’−メチレンビ
ス(4−ヒドロキシフェネチルアルコール)が白色結晶
として10.1g得られた(収率71.4%)。
The present invention will be described below with reference to examples and production examples. Example 1 13.8 g of 4- (2-hydroxyethyl) phenol
(100 mmol) was dissolved in 20 ml of sulfuric acid, and 0.75 g (50 mmol) of paraformaldehyde was added thereto, followed by stirring at room temperature for 12 hours. The reaction mixture is then added to water 200
After stirring for 1 hour, the precipitated crystals were separated by filtration, and the obtained filtrate was washed with water and dried under reduced pressure for 24 hours to obtain 3,3′-methylenebis ( 10.1 g of 4-hydroxyphenethyl alcohol) was obtained as white crystals (yield: 71.4%).

【0051】1H−NMR(CDCl3 ):δ(pp
m)=2.92(t,4H,CH2 ),3.92(t,
4H,CH2 O),4.28(s,2H,CH2 ),
6.64(d,2H,Ar−H),6.97(d,2
H,Ar−H),7.10(s,2H,Ar−H),1
2.22(s,2H,Ar−OH). 実施例2 4−(2−ヒドロキシエチル)フェノールに代えて、4
−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール15.2g
(100ミリモル)を使用した以外は、実施例1と同様
にして反応を行うことにより、目的物である2,2’−
メチレンビス[4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノ
ール]が無色結晶として11.5g得られた(収率7
4.0%)。
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ (pp
m) = 2.92 (t, 4H, CH 2 ), 3.92 (t,
4H, CH 2 O), 4.28 (s, 2H, CH 2 ),
6.64 (d, 2H, Ar-H), 6.97 (d, 2
H, Ar-H), 7.10 (s, 2H, Ar-H), 1
2.22 (s, 2H, Ar-OH). Example 2 Instead of 4- (2-hydroxyethyl) phenol, 4
-(3-Hydroxypropyl) phenol 15.2 g
(100 mmol), and the reaction was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain 2,2′-
11.5 g of methylenebis [4- (3-hydroxypropyl) phenol] was obtained as colorless crystals (yield 7).
4.0%).

【0052】1H−NMR(CDCl3 ):δ(pp
m)=1.87(q,4H,Ar−CH2),2.65
(t,4H,CH2 ),3.70(t,4H,CH
2 O),4.28(s,2H,CH2),6.64
(d,2H,Ar−H),6.97(d,2H,Ar−
H),7.09(s,2H,Ar−H),12.22
(s,2H,Ar−OH). 参考例1 o−ニトロアニリン10.5g(75ミリモル)を濃塩
酸42ml中に加え、70℃で約30分撹拌した後、氷
浴を用いて反応液を0℃まで冷却した。ついで、あらか
じめ亜硝酸ナトリウム5.4g(75ミリモル)を水2
8mlに溶解して調製しておいた水溶液を約1時間で滴
下した。滴下時は混合物の温度を5℃以下に保った。さ
らに5℃以下で1時間撹拌してo−ニトロアニリンのジ
アゾニウム塩を調製した。 参考例2 o−ニトロアニリン10.5g(75ミリモル)に代え
て、4−クロロ−2−ニトロアニリン13.1g(75
ミリモル)を使用した以外は参考例1と同様にして反応
を行うことにより、4−クロロ−2−ニトロアニリンの
ジアゾニウム塩を調製した。 参考製造例1 実施例1で合成した2,2’−メチレンビス[4−(2
−ヒドロキシエチル)フェノール]10.1g(35.
1ミリモル)と炭酸ナトリウム30g(0.36 ミリ
モル)とをイソプロパノール150mlに溶解し、この
混合物に参考例1で調製したo−ニトロアニリンのジア
ゾニウム塩の塩酸溶液を約5℃以下に保ちながら、約1
時間かけて滴下した。
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ (pp
m) = 1.87 (q, 4H, Ar-CH2), 2.65
(T, 4H, CH 2) , 3.70 (t, 4H, CH
2 O), 4.28 (s, 2H, CH2), 6.64
(D, 2H, Ar-H), 6.97 (d, 2H, Ar-
H), 7.09 (s, 2H, Ar-H), 12.22.
(S, 2H, Ar-OH). Reference Example 1 10.5 g (75 mmol) of o-nitroaniline was added to 42 ml of concentrated hydrochloric acid, stirred at 70 ° C. for about 30 minutes, and then cooled to 0 ° C. using an ice bath. Then, 5.4 g (75 mmol) of sodium nitrite was previously added to water 2
An aqueous solution prepared by dissolving in 8 ml was added dropwise in about 1 hour. During the dropwise addition, the temperature of the mixture was kept at 5 ° C. or lower. The mixture was further stirred at 5 ° C. or lower for 1 hour to prepare a diazonium salt of o-nitroaniline. Reference Example 2 In place of 10.5 g (75 mmol) of o-nitroaniline, 13.1 g (75%) of 4-chloro-2-nitroaniline was used.
The reaction was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that (mmol) was used to prepare a diazonium salt of 4-chloro-2-nitroaniline. Reference Production Example 1 2,2′-methylenebis [4- (2
-Hydroxyethyl) phenol] 10.1 g (35.
1 mmol) and 30 g (0.36 mmol) of sodium carbonate were dissolved in 150 ml of isopropanol, and the mixture was heated to about 5 ° C. or lower while maintaining the hydrochloric acid solution of the diazonium salt of o-nitroaniline prepared in Reference Example 1 at about 5 ° C. or lower. 1
It was dropped over time.

【0053】滴下後、室温で12時間撹拌し、析出した
結晶を濾別して減圧乾燥するとメチレンビス2,2’−
メチレンビス{4−(2−ヒドロキシエチル)−6−
[(2−ニトロフェニル)アゾ]フェノール}が赤色結
晶として 19.2g得られた(収率94%)。 参考製造例2 o−ニトロアニリンのジアゾニウム塩の塩酸溶液に代え
て、参考例2で調製した4−クロロ−2−ニトロアニリ
ンのジアゾニウム塩の塩酸溶液を使用した以外は参考製
造例1と同様にして反応を行うことにより、メチレンビ
ス2,2’−メチレンビス{4−(2−ヒドロキシエチ
ル)−6−[(4−クロロ−2−ニトロフェニル)ア
ゾ]フェノール}が赤色結晶として21.2g得られた
(収率92%)。 参考製造例3 2,2’−メチレンビス[4−(2−ヒドロキシエチ
ル)フェノール]10.1g(35.1ミリモル)に代
えて、実施例2で合成した2,2’−メチレンビス[4
−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール]を11.5
g(36.4ミリモル)を使用した以外は参考製造例1
と同様にして反応を行うことにより、メチレンビス2,
2’−メチレンビス{4−(3−ヒドロキシプロピル)
−6−[(2−ニトロフェニル)アゾ]フェノール}が
赤色結晶として20.6g得られた(収率95%)。 製造例1 参考製造例1で合成した粗2,2’−メチレンビス{4
−(2−ヒドロキシエチル)−6−[(2−ニトロフェ
ニル)アゾ]フェノール}10.5g(18ミリモル)
を、2N−水酸化ナトリウム水溶液36mlに溶解さ
せ、ついで、あらかじめ調製しておいた25%−水酸化
ナトリウム水溶液18mlと亜鉛粉末10.8g(16
6 ミリモル)とを同時に約3時間かけて加えた。
After the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 12 hours, and the precipitated crystals were separated by filtration and dried under reduced pressure to give methylene bis 2,2'-
Methylenebis {4- (2-hydroxyethyl) -6
19.2 g of [(2-nitrophenyl) azo] phenol} was obtained as red crystals (yield 94%). Reference Production Example 2 The procedure of Reference Production Example 1 was repeated, except that the hydrochloric acid solution of the diazonium salt of 4-chloro-2-nitroaniline prepared in Reference Example 2 was used instead of the hydrochloric acid solution of the diazonium salt of o-nitroaniline. To obtain 21.2 g of methylenebis 2,2'-methylenebis {4- (2-hydroxyethyl) -6-[(4-chloro-2-nitrophenyl) azo] phenol} as red crystals. (Yield 92%). Reference Production Example 3 2,2′-methylenebis [4- (2-hydroxyethyl) phenol] was replaced with 10.1 g (35.1 mmol) of 2,2′-methylenebis [4] synthesized in Example 2.
-(3-hydroxypropyl) phenol] in 11.5
Reference Production Example 1 except that g (36.4 mmol) was used.
Methylenebis 2,2
2'-methylenebis {4- (3-hydroxypropyl)
20.6 g of -6-[(2-nitrophenyl) azo] phenol} was obtained as red crystals (yield 95%). Production Example 1 Crude 2,2'-methylenebis @ 4 synthesized in Reference Production Example 1
-(2-hydroxyethyl) -6-[(2-nitrophenyl) azo] phenol ア ゾ 10.5 g (18 mmol)
Was dissolved in 36 ml of a 2N aqueous solution of sodium hydroxide, and then 18 ml of a previously prepared 25% aqueous solution of sodium hydroxide and 10.8 g of zinc powder (16%).
6 mmol) were added simultaneously over about 3 hours.

【0054】次に、反応混合物を70℃に昇温した後、
約2時間撹拌した後、反応混合物を室温まで冷却した
後、無機物を濾別した。ここで得られた母液を濃塩酸を
用いて酸性化した。この時析出した黄色結晶を濾別した
後、ジオキサン中で再結晶することにより、2,2’−
メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−
イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]が
白色結晶として8.0g得られた(収率84%、純度9
8.9%)。
Next, the temperature of the reaction mixture was raised to 70 ° C.
After stirring for about 2 hours, the reaction mixture was cooled to room temperature, and the inorganic substances were separated by filtration. The mother liquor obtained here was acidified using concentrated hydrochloric acid. The yellow crystals precipitated at this time are separated by filtration and then recrystallized in dioxane to give 2,2′-.
Methylenebis [6- (2H-benzotriazole-2-
Il) -4- (2-hydroxyethyl) phenol] as white crystals (yield 84%, purity 9).
8.9%).

【0055】1H−NMR(CDCl3 ):δ=2.8
9(t,4H,CH2 ),3.89(t,4H,CH2
OH),4.28(s,2H,CH2 ),7.26
(s,2H,Ar−H),7.47(dd,4H,Ar
−H),7.92(dd,4H,Ar−H),8.18
(s,2H,Ar−H),11.59(s,2H,Ar
−OH) 製造例2 参考製造例1で合成した粗2,2’−メチレンビス{4
−(2−ヒドロキシエチル)−6−[(2−ニトロフェ
ニル)アゾ]フェノール}10.5g(18ミリモル)
に代えて、参考製造例2で合成した粗メチレンビス2,
2’−メチレンビス{4−(2−ヒドロキシエチル)−
6−[(4−クロロ−2−ニトロフェニル)アゾ]フェ
ノール} 11.8g(18ミリモル)を使用した以外
は製造例1と同様にして反応を行うことにより、2,
2’−メチレンビス[6−(5−クロロ−2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチ
ル)フェノール]が淡黄色結晶として9.7g得られた
(収率90.0%、純度99.0%)。
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ = 2.8
9 (t, 4H, CH 2 ), 3.89 (t, 4H, CH 2
OH), 4.28 (s, 2H , CH 2), 7.26
(S, 2H, Ar-H), 7.47 (dd, 4H, Ar
-H), 7.92 (dd, 4H, Ar-H), 8.18
(S, 2H, Ar-H), 11.59 (s, 2H, Ar
-OH) Production Example 2 Crude 2,2'-methylenebis @ 4 synthesized in Reference Production Example 1
-(2-hydroxyethyl) -6-[(2-nitrophenyl) azo] phenol ア ゾ 10.5 g (18 mmol)
Instead of the crude methylene bis 2, synthesized in Reference Production Example 2,
2'-methylenebis {4- (2-hydroxyethyl)-
6-[(4-Chloro-2-nitrophenyl) azo] phenol} The reaction was carried out in the same manner as in Production Example 1 except for using 11.8 g (18 mmol) of 2, to give 2,2.
9.7 g of 2'-methylenebis [6- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) -4- (2-hydroxyethyl) phenol] was obtained as pale yellow crystals (yield 90.0%). , Purity 99.0%).

【0056】1H−NMR(CDCl3 ):δ(pp
m)=2.89(t,4H,CH2 ),3.89(t,
4H,CH2 OH),4.28(s,2H,CH2 ),
7.26(s,2H,Ar−H),7.37(d,2
H,Ar−H),7.82(d ,2H,Ar−H),
7.84(s,2H,Ar−H),8.18(s,2
H,Ar−H),11.59(s,2H,Ar−O
H). 製造例3 参考製造例1で合成した粗2,2’−メチレンビス{4
−(2−ヒドロキシエチル)−6−[(2−ニトロフェ
ニル)アゾ]フェノール}10.5g(18ミリモル)
に代えて、参考製造例3で合成した粗メチレンビスメチ
レンビス2,2’−メチレンビス{4−(3−ヒドロキ
シプロピル)−6−[(2−ニトロフェニル)アゾ]フ
ェノール}11.1g(18ミリモル)を使用した以外
は製造例1と同様にして反応を行うことにより、2,
2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール
−2−イル)−4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノ
ール]が白色結晶として8.9g得られた(収率89.
2%、純度99.0%)。
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ (pp
m) = 2.89 (t, 4H , CH 2), 3.89 (t,
4H, CH 2 OH), 4.28 (s, 2H, CH 2 ),
7.26 (s, 2H, Ar-H), 7.37 (d, 2
H, Ar-H), 7.82 (d, 2H, Ar-H),
7.84 (s, 2H, Ar-H), 8.18 (s, 2
H, Ar-H), 11.59 (s, 2H, Ar-O
H). Production Example 3 Crude 2,2'-methylenebis @ 4 synthesized in Reference Production Example 1
-(2-hydroxyethyl) -6-[(2-nitrophenyl) azo] phenol ア ゾ 10.5 g (18 mmol)
Was replaced with crude methylenebismethylenebis2,2′-methylenebis {4- (3-hydroxypropyl) -6-[(2-nitrophenyl) azo] phenol} 11.1 g (18 The reaction was carried out in the same manner as in Production Example 1 except that
8.9 g of 2′-methylenebis [6- (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (3-hydroxypropyl) phenol] was obtained as white crystals (yield: 89.
2%, purity 99.0%).

【0057】1H−NMR(CDCl3 ):δ(pp
m)=1.89(q,2H,Ar−CH 2 −),2.8
2(t,4H,CH2 ),3.81(t,4H,CH2
OH),4.28(s,2H,CH2 ),7.26
(s,2H,Ar−H),7.47(dd,4H,Ar
−H),7.92(dd,4H,Ar−H),8.18
(s,2H,Ar−H),11.59(s,2H,Ar
−OH).
[0057]1H-NMR (CDClThree): Δ (pp
m) = 1.89 (q, 2H, Ar-CH Two−), 2.8
2 (t, 4H, CHTwo), 3.81 (t, 4H, CHTwo
OH), 4.28 (s, 2H, CHTwo), 7.26
(S, 2H, Ar-H), 7.47 (dd, 4H, Ar
-H), 7.92 (dd, 4H, Ar-H), 8.18
(S, 2H, Ar-H), 11.59 (s, 2H, Ar
-OH).

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明のビスフェノール化合物(1) を合
成中間体とした使用すれば、樹脂等に長期間耐候性を付
与することができる紫外線吸収性に優れたビスベンゾト
リアゾリルフェノール化合物(重縮合紫外線吸収剤)を
極めて容易にかつ収率良く提供することができる。
When the bisphenol compound (1) of the present invention is used as a synthetic intermediate, a bisbenzotriazolylphenol compound (excellent in ultraviolet absorption) capable of imparting long-term weather resistance to a resin or the like ( Polycondensation ultraviolet absorber) can be provided very easily and in good yield.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−245463(JP,A) 特開 昭52−85128(JP,A) 特公 平6−53733(JP,B2) 国際公開97/12882(WO,A1) 国際公開97/35847(WO,A1) Chemical Abstract s;vol.68(No.16)(1968. 4.15)p6718抄録番号 69421j (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07D 249/20 C07C 39/15 - 39/16 CAPLUS(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-8-245463 (JP, A) JP-A-52-85128 (JP, A) JP-B-6-53733 (JP, B2) International publication 97/12882 (WO, A1) WO 97/35847 (WO, A1) Chemical Abstracts; vol. 68 (No. 16) (1968. 4.15) p6718 Abstract No. 69421j (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C07D 249/20 C07C 39/15-39/16 CAPLUS (STN) REGISTRY (STN)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式(1) : 【化1】 [式中、Aは炭素数1〜6のアルキレン基、基:−C
(CH3 )2 −または基:−C(C2 H5 )
(CH3 )−を示す。R1 およびR2 は、同一または
異なって水酸基または炭素数1〜12の直鎖状もしくは
分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を示す。]で表される
メチレンビスフェノール化合物を合成中間体とすること
を特徴とする一般式(2) : 【化2】 [式中、Aは炭素数1〜6のアルキレン基、基:−C
(CH3 )2 −または基:−C(C2 H5 )
(CH3 )−を示す。R1 およびR2 は、同一または
異なって水酸基または炭素数1〜12の直鎖状もしくは
分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を示す。R3 およびR
4 は、同一または異なって水素原子、炭素数1〜4のア
ルキル基、アリール基、炭素数1〜4のアルコキシ基ま
たはハロゲン原子を示す。]で表されるビスベンゾトリ
アゾリルフェノール化合物の製造方法。
[Claim 1] General formula (1): [In the formula, A is an alkylene group of carbon number 1 to 6, group: -C
(CH3) 2- or a group: -C (C2H5)
(CH3) - . R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydroxyl group or a linear or branched hydroxyalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Wherein the methylene bisphenol compound represented by the general formula (2) is used as a synthetic intermediate. [In the formula, A is an alkylene group of carbon number 1 to 6, group: -C
(CH3) 2- or a group: -C (C2H5)
(CH3) - . R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydroxyl group or a linear or branched hydroxyalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. R 3 and R
4 is the same or different and represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom. ] The manufacturing method of the bisbenzotriazolylphenol compound represented by these.
【請求項2】前記メチレンビスフェノール化合物(1)
と、 一般式(3) : 【化3】 [式中、R3 は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル
基、アリール基、炭素数1〜4のアルコキシ基またはハ
ロゲン原子を示す。]で表されるo−ニトロアニリン誘
導体のジアゾニウム塩および一般式(3'): 【化4】 [式中、R4 は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル
基、アリール基、炭素数1〜4のアルコキシ基またはハ
ロゲン原子を示す。]で表されるo−ニトロアニリン誘
導体のジアゾニウム塩とをアゾカップリングさせて一般
式(4) : 【化5】 [式中、Aは炭素数1〜6のアルキレン基、基:−C
(CH3 )2 −または基:−C(C2 H5 )
(CH3 )−を示す。R1 およびR2 は、同一または
異なって水酸基または炭素数1〜12の直鎖状もしくは
分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を示す。R3 およびR
4 は、同一または異なって水素原子、炭素数1〜4のア
ルキル基、アリール基、炭素数1〜4のアルコキシ基ま
たはハロゲン原子を示す。]で表されるビスアゾベンゼ
ン化合物を得、さらにこのビスアゾベンゼン化合物(4)
を還元することにより行う請求項1に記載のビスベンゾ
トリアゾリルフェノール化合物の製造方法。
2. The methylene bisphenol compound (1)
And the general formula (3): [In the formula, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom. And a diazonium salt of an o-nitroaniline derivative represented by the general formula (3 ′): [In the formula, R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom. Azo-coupling with a diazonium salt of an o-nitroaniline derivative represented by the general formula (4): [In the formula, A is an alkylene group of carbon number 1 to 6, group: -C
(CH3) 2- or a group: -C (C2H5)
(CH3) - . R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydroxyl group or a linear or branched hydroxyalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. R 3 and R
4 is the same or different and represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom. And a bisazobenzene compound represented by the formula (4):
The method for producing a bisbenzotriazolyl phenol compound according to claim 1, which is performed by reducing
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