JP2982189B2 - High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer - Google Patents
High frequency inductively coupled plasma mass spectrometerInfo
- Publication number
- JP2982189B2 JP2982189B2 JP1280793A JP28079389A JP2982189B2 JP 2982189 B2 JP2982189 B2 JP 2982189B2 JP 1280793 A JP1280793 A JP 1280793A JP 28079389 A JP28079389 A JP 28079389A JP 2982189 B2 JP2982189 B2 JP 2982189B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frequency
- mass spectrometer
- mode
- counter
- inductively coupled
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供
給し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生
じさせ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生
じさせ、該イオンをノズルとスキマーからなるインター
フェイスを介して質量分析計に導いて検出することによ
り、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合
プラズマ質量分析計に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial application field> The present invention supplies high-frequency energy to a high-frequency induction coil to form a high-frequency magnetic field to generate high-frequency inductively coupled plasma, and to excite a sample using the plasma. The present invention relates to a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer for analyzing an element to be measured in the sample by generating ions through the interface consisting of a nozzle and a skimmer and guiding the ions to a mass spectrometer for detection.
<従来の技術> 第3図は、高周波誘導結合プラズマを用いた分析計の
一般的な構成説明図である。この図において、プラズマ
トーチ1の外室1bと最外室1cにはガス調節器2を介して
アルゴンガス供給源3からアルゴンガスが供給され、内
室1aには試料導入装置4内の固体試料がレーザ光源5か
ら照射されたレーザ光によって気化されてのちキャリア
ガスであるアルゴンガスによって搬入されるようになっ
ている。尚、試料が液体の場合は、第3図の試料導入装
置4とレーザ光源5が除去され、導入される液体試料を
霧化してプラズマトーチ1の内室1aに供給するネブライ
ザが装着される。また、試料は固体であることよりも液
体であることが多い。<Prior Art> FIG. 3 is a diagram illustrating a general configuration of an analyzer using high frequency inductively coupled plasma. In this figure, an outer chamber 1b and an outermost chamber 1c of a plasma torch 1 are supplied with argon gas from an argon gas supply source 3 via a gas controller 2, and an inner chamber 1a is provided with a solid sample in a sample introduction device 4. Is vaporized by the laser light emitted from the laser light source 5 and then carried in by an argon gas as a carrier gas. When the sample is a liquid, the sample introduction device 4 and the laser light source 5 shown in FIG. 3 are removed, and a nebulizer for atomizing the liquid sample to be introduced and supplying the atomized liquid sample to the inner chamber 1a of the plasma torch 1 is mounted. Also, the sample is often liquid rather than solid.
一方、プラズマトーチ1に巻回された高周波誘導コイ
ル6には高周波電源10によって高周波電流が流され、該
コイル6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されて
いる。この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の
作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生ず
る。On the other hand, a high-frequency current flows through a high-frequency power supply 10 through a high-frequency induction coil 6 wound around the plasma torch 1, and a high-frequency magnetic field (not shown) is formed around the coil 6. When electrons or ions are implanted in the argon gas in the vicinity of the high-frequency magnetic field in this state, the high-frequency inductively coupled plasma 7 is instantaneously generated by the action of the high-frequency magnetic field.
また、ノズル8とスキマー9に挟まれたフォアチャン
バー本体11内は、真空ポンプ12によって例えば1Torr.に
吸引されている。更に、センターチャンバー13内にはイ
オンレンズ14a,14bが設けられると共に、該センターチ
ャンバー13の内部は第1油拡散ポンプ15によって例えば
10-4Torr.に吸引され、マスフィルタ(例えば四重極マ
スフィルタ)16を収容しているリアチャンバー17内は第
2油拡散ポンプ18によって例えば10-5Torr.に吸引され
ている。Further, the inside of the fore-chamber main body 11 sandwiched between the nozzle 8 and the skimmer 9 is sucked by a vacuum pump 12 at, for example, 1 Torr. Further, ion lenses 14a and 14b are provided in the center chamber 13, and the inside of the center chamber 13 is controlled by a first oil diffusion pump 15, for example.
10 -4 Torr. Sucked into, the rear chamber 17 housing the mass filter (e.g. quadrupole mass filter) 16 is sucked by the second oil diffusion pump 18, for example, in 10 -5 Torr..
この状態で高周波誘導結合プラズマ中に上述のように
して気化された試料が導入され、イオン化や発光が行わ
れる。該プラズマ7内のイオンは、ノズル8,スキマー9,
および引出し電極9′を経由してのちイオンレンズ14a,
14b(若しくはダブレット四重極レンズ)の間を通って
収束され、その後、マスフィルタ16を通り二次電子増倍
管19に導かれて検出される。この検出信号が信号処理部
20に送出されて演算・処理されることによって、前記試
料中の被測定元素分析値が求められるようになってい
る。In this state, the sample vaporized as described above is introduced into the high frequency inductively coupled plasma, and ionization and light emission are performed. The ions in the plasma 7 are divided into a nozzle 8, a skimmer 9,
And after passing through the extraction electrode 9 ', the ion lens 14a,
The light is converged by passing between 14b (or a doublet quadrupole lens), and then guided to the secondary electron multiplier 19 through the mass filter 16 and detected. This detection signal is sent to the signal processing unit.
The data is sent to 20 and is calculated and processed, whereby the measured value of the element to be measured in the sample is obtained.
一方、高周波誘導結合プラズマ質量分析計は信号強度
のダイナミックレンジが非常に広い(例えば108以上)
ため、1つの二次電子増倍管で信号が強い場合はアナロ
グモードで使用し、弱い場合はパルスカウントモードに
切換えてイオンを検出するようになっている。この場
合、パルスカウントモードではパルスをカウントする積
分時間の概念が重要であり、積分時間が長くなる程S/N
比が向上するようになっていた。即ち、第4図は信号処
理部20の具体的な構成を示すブロック回路図であり、デ
ュアルモード二次電子増倍管21(第3図の二次電子増倍
管19に相当する)に入射するイオンの強度が強い場合に
は、デュアルモード二次電子増倍管21のアナログ出力は
電流・電圧変換増幅器22で増幅されてのちサンプルホー
ルド回路23で一定時間サンプルホールドされ、その後、
A/D変換器24でA/D変換されてのち中央処理装置(CPU)3
0に送られて演算処理される。また、デュアルモード二
次電子増倍管21に入射するイオンの強度が弱い場合に
は、デュアルモード二次電子増倍管21のパルス出力はパ
ルスカウンティング用のパルスアンプ26で増幅されての
ち波形整形ディスクリミネータ27で波形整形され、その
後、カウンター28で計数され該カウンタ出力信号が中央
処理装置(CPU)30に送られて演算処理される。尚、サ
ンプルホールド回路23とA/D変換器24はCPU30の司令を受
けたサンプリングタイミング発生回路25によってコント
ールされ、カウンタ28はCPU30の司令を受けたカウンタ
ゲートタイミング発生回路29によってタイミング調節さ
れるようになっている。On the other hand, a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer has a very wide dynamic range of signal strength (for example, 10 8 or more).
Therefore, when a signal is strong in one secondary electron multiplier, the signal is used in the analog mode when the signal is weak, and when the signal is weak, the mode is switched to the pulse count mode to detect ions. In this case, in the pulse count mode, the concept of the integration time for counting pulses is important, and the longer the integration time, the higher the S / N
The ratio was improving. That is, FIG. 4 is a block circuit diagram showing a specific configuration of the signal processing unit 20, which is incident on a dual mode secondary electron multiplier 21 (corresponding to the secondary electron multiplier 19 in FIG. 3). When the intensity of the ion to be applied is high, the analog output of the dual mode secondary electron multiplier 21 is amplified by the current / voltage conversion amplifier 22 and then sampled and held by the sample and hold circuit 23 for a certain period of time.
Central processing unit (CPU) 3 after A / D conversion by A / D converter 24
It is sent to 0 for arithmetic processing. When the intensity of ions incident on the dual mode secondary electron multiplier 21 is low, the pulse output of the dual mode secondary electron multiplier 21 is amplified by the pulse amplifier 26 for pulse counting and then shaped. The waveform is shaped by the discriminator 27, then counted by the counter 28, and the counter output signal is sent to the central processing unit (CPU) 30 to be processed. The sample and hold circuit 23 and the A / D converter 24 are controlled by a sampling timing generation circuit 25 instructed by the CPU 30, and the counter 28 is adjusted in timing by a counter gate timing generation circuit 29 instructed by the CPU 30. It has become.
<発明が解決しようとする問題点> 然しながら、上記従来例においては、アナログモード
でイオンを測定する場合、一般的なA/D変換器をA/D変換
器24として使用すると該A/D変換器が積分時間の概念に
なじみにくいため、長い時間をかけて測定すると共に何
回かサンプリングしてデータ操作を行なわなければなら
ないという欠点があった。<Problems to be Solved by the Invention> However, in the above conventional example, when measuring ions in the analog mode, if a general A / D converter is used as the A / D converter 24, the A / D conversion Since the device is not easily adapted to the concept of integration time, there is a disadvantage in that data must be measured and sampled several times to perform data manipulation.
本発明は、かかる状況に鑑みてなされたものであり、
その課題は、アナログモードにもパルスカウントモード
と同様の積分時間の概念を導入できアナログモードを測
定するためのオーバーサンプリングや平均化回路などを
必要としないような高周波誘導結合プラズマ質量分析計
を提供することにある。The present invention has been made in view of such circumstances,
The challenge is to provide a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer that can introduce the same concept of integration time as pulse mode in analog mode and does not require oversampling or averaging circuits to measure analog mode. Is to do.
<課題を解決するための手段> 本発明は、高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供
給し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生
じさせ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生
じさせ、該イオンをノズルとスキマーからなるインター
フェイスを介して質量分析計に導いて検出することによ
り、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導プラ
ズマ質量分析計において 前記質量分析計の検出器である 二次電子増倍管の出
力をパルスモードとアナログモードの両方で出力する手
段と、前記パルスモードの出力信号をカウントするパル
スカウンタ用カウンタと、前記アナログモードの出力信
号を周波数信号に変換し、その周波数信号をカウントす
るアナログモード用カウンタと、CPUの司令に基づいて
前記両カウンタを同じゲートタイミングで計数するため
のゲート時間発生回路を設けたことを特徴とする。<Means for Solving the Problems> The present invention supplies high-frequency energy to a high-frequency induction coil to form a high-frequency magnetic field to generate high-frequency inductively coupled plasma, and to excite a sample using the plasma to generate ions. A high-frequency induction plasma mass spectrometer that analyzes the element to be measured in the sample by guiding the ions to a mass spectrometer through an interface including a nozzle and a skimmer to detect the ions, and the detector of the mass spectrometer. Means for outputting the output of the secondary electron multiplier in both the pulse mode and the analog mode, a pulse counter for counting the pulse mode output signal, and converting the analog mode output signal into a frequency signal, The analog mode counter that counts the frequency signal and the two counters are the same based on the command of the CPU. Characterized in that a gate time generation circuit for counting by preparative timing.
また、本発明は、高周波誘導コイルに高周波エネルギ
ーを供給し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズ
マを生じさせ、該プラズマを用いて試料を励起してイオ
ンを生じさせ、該イオンをノズルとスキマーからなるイ
ンターフェイスを介して質量分析計に導いて検出するこ
とにより、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘
導結合プラズマ質量分析計において、 前記質量分析計の検出器である 二次電子増倍管の出
力をパルスモードとアナログモードの両方で出力する手
段と、前記パルスモードの出力信号と前記アナログモー
ドの出力信号が周波数信号に変換された出力信号を入力
するマルチプレクサと、CPUの司令に基づいて前記マル
チプレクサから出力されるパルス信号をカウントするパ
ルスカウンタ用カウンタと前記CPUの司令に基づいて前
記カウンタの計数のタイミングを制御するゲート時間発
生回路を設けたことを特徴とするものである。The present invention also provides a high-frequency induction coil which supplies high-frequency energy to form a high-frequency magnetic field to generate a high-frequency inductively coupled plasma, and excites a sample using the plasma to generate ions. In a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer that analyzes an element to be measured in the sample by conducting the detection to a mass spectrometer through an interface consisting of: a secondary electron multiplier that is a detector of the mass spectrometer. Means for outputting the output of the tube in both the pulse mode and the analog mode, a multiplexer for inputting the output signal of the pulse mode and the output signal obtained by converting the output signal of the analog mode into a frequency signal, and a command of the CPU. A counter for a pulse counter that counts pulse signals output from the multiplexer and a command of the CPU. In which characterized in that a gate time generation circuit for controlling the timing of the counting of the counter Zui.
<作用> 本発明は次のように作用する。即ち、質量分析計の検
出器であるデュアルモード二次電子増倍管の出力をパル
スカウントモードとアナログモードの両方で測定し、該
アナログモードの信号処理部にV/F変換器を設け該V/F変
換器の出力をパルスカウンティング用カウンタのゲート
タイミングと同じゲートタイミングで動作するアナログ
モード用カウンタで計数するか、V/F変換器の出力をマ
ルチプレクサを介してパルスカウンティング用カウンタ
でカウントする。このため、アナログモードにもパルス
カウントモードと同様の積分時間の概念を導入できアナ
ログモードを測定するためのオーバーサンプリングや平
均化回路などを必要としない。<Operation> The present invention operates as follows. That is, the output of the dual mode secondary electron multiplier, which is the detector of the mass spectrometer, is measured in both the pulse count mode and the analog mode, and a V / F converter is provided in the signal processing section in the analog mode to provide the V / F converter. The output of the / F converter is counted by an analog mode counter operating at the same gate timing as that of the pulse counting counter, or the output of the V / F converter is counted by a pulse counting counter via a multiplexer. For this reason, the same concept of the integration time as in the pulse count mode can be introduced into the analog mode, and no oversampling or averaging circuit for measuring the analog mode is required.
<実施例> 以下、本発明について図を用いて詳細に説明する。第
1図は本発明実施例の要部を示すブロック説明図であ
り、図中、第3図と同一記号は同一意味をもたせて使用
しここでの重複説明は省略する。また、31は電圧を周波
数に変換するV/F変換器、32はアナログ用のカウンタ、3
3はCPU30の指令を受けてアナログ用カウンタ32とアナロ
グモード用カウンタ28をコントロールするゲート時間発
生回路である。このような要部構成のブロック回路を有
する本発明の実施例において、デュアルモード二次電子
増倍管21の電流(アナログ)出力は電流・電圧増幅器22
で増幅されてのちV/F変換器31でV/F変換され、その後、
アナログ用カウンタ32で計数され、該カウンタの出力信
号がCPU30で演算処理される。また、デュアルモード二
次電子増倍管21のパルス出力は、パルスカウンティング
用のパルスアンプ26で増幅されてのち波形整形ディスク
リミネータ27で波形整形され、その後、アナログモード
用カウンタ28で計数され該カウンタの出力信号がCPU30
で演算処理される。尚、アナログ用カウンタ32とアナロ
グモード用カウンタ28はCPU30の司令を受けたゲート時
間発生回路33によってコントールされるようになってい
る。<Example> Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a main part of an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the same symbols as those in FIG. 31 is a V / F converter that converts voltage to frequency, 32 is an analog counter, 3
Reference numeral 3 denotes a gate time generation circuit that controls the analog counter 32 and the analog mode counter 28 in response to a command from the CPU 30. In the embodiment of the present invention having the block circuit having such a main configuration, the current (analog) output of the dual mode secondary electron multiplier 21 is supplied to the current / voltage amplifier 22.
And then V / F converted by V / F converter 31, then
The count is performed by the analog counter 32, and the output signal of the counter is processed by the CPU 30. Further, the pulse output of the dual mode secondary electron multiplier 21 is amplified by a pulse counting pulse amplifier 26, and then shaped by a waveform shaping discriminator 27, and then counted by an analog mode counter 28. Counter output signal is CPU30
Is calculated. The analog counter 32 and the analog mode counter 28 are controlled by a gate time generation circuit 33 instructed by the CPU 30.
このようにデュアルモード二次電子増倍管21の出力を
パルスカウントモードとアナログモードの両方で測定す
る場合に、アナログモードの信号処理部にV/F変換器31
を設け該V/F変換器の出力をパルスカウンティング用カ
ウンタ28のゲートタイミングと同じゲートタイミングで
動作するカウンタ32でカウントするようにしたため、ア
ナログモードにもパルスカウントモードと同様の積分時
間の概念を導入できアナログモードを測定するためのオ
ーバーサンプリングや平均化回路などを必要としないよ
うな高周波誘導結合プラズマ質量分析計となる。As described above, when the output of the dual mode secondary electron multiplier 21 is measured in both the pulse count mode and the analog mode, the V / F converter 31 is added to the analog mode signal processor.
Since the output of the V / F converter is counted by the counter 32 operating at the same gate timing as the gate timing of the pulse counting counter 28, the concept of the integration time similar to the pulse count mode is also used in the analog mode. It is a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer that can be introduced and does not require oversampling or averaging circuits for measuring analog modes.
一方、第2図は本発明の他の実施例の要部を示すブロ
ック説明図であり、図中、第1図や第3図と同一記号は
同一意味をもたせて使用しここでの重複説明は省略す
る。また、34はマルチプレクサである。このような要部
構成のブロック回路を有する本発明の他の実施例におい
て、デュアルモード二次電子増倍管21の出力は電流・電
圧変換増幅器22で増幅されてのちV/F変換器31でV/F変換
される。また、デュアルモード二次電子増倍管21の出力
は、パルスカウンティング用のパルスアンプ26で増幅さ
れてのち波形整形ディスクリミネータ27で波形整形され
る。V/F変換器31と波形整形ディスクリミネータ27の出
力はマルチプレクサ34に送られ、該マルチプレクサから
カウンタ28に順次送出される。カウンター28はマルチプ
レクサ34から送出されたパルスを計数し、その出力信号
が中央処理装置(CPU)30に送られて演算処理される。
尚、カウンタ28はCPU30の司令を受けたゲート時間発生
回路33によってコントールされ、マルチプレクサ34はCP
U30の司令によって直接コントロールされるようになっ
ている。On the other hand, FIG. 2 is a block diagram showing a main part of another embodiment of the present invention. In the drawing, the same symbols as those in FIGS. 1 and 3 are used with the same meanings, and will be described repeatedly here. Is omitted. 34 is a multiplexer. In another embodiment of the present invention having a block circuit having such a main configuration, the output of the dual mode secondary electron multiplier 21 is amplified by the current / voltage conversion amplifier 22 and then by the V / F converter 31. V / F conversion is performed. The output of the dual mode secondary electron multiplier 21 is amplified by a pulse counting pulse amplifier 26 and then shaped by a waveform shaping discriminator 27. The outputs of the V / F converter 31 and the waveform shaping discriminator 27 are sent to a multiplexer 34, which in turn sends the outputs to a counter 28. The counter 28 counts the pulses sent from the multiplexer 34, and the output signal is sent to a central processing unit (CPU) 30 for arithmetic processing.
The counter 28 is controlled by a gate time generation circuit 33 instructed by the CPU 30.
It is now controlled directly by the U30 commander.
このようにデュアルモード二次電子増倍管21の出力を
パルスカウントモードとアナログモードの両方で測定す
る場合に、アナログモードの信号処理部にV/F変換器31
を設け該V/F変換器の出力をマルチプレクサ34を介して
カウンタ28でカウントするようにしたため、アナログモ
ードにもパルスカウントモードと同様の積分時間の概念
を導入できアナログモードを測定するためのオーバーサ
ンプリングや平均化回路などを必要としないような高周
波誘導結合プラズマ質量分析計となる。As described above, when the output of the dual mode secondary electron multiplier 21 is measured in both the pulse count mode and the analog mode, the V / F converter 31 is added to the analog mode signal processor.
Since the output of the V / F converter is counted by the counter 28 via the multiplexer 34, the same concept of the integration time as in the pulse count mode can be introduced in the analog mode, and an over-range for measuring the analog mode can be introduced. A high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer that does not require a sampling or averaging circuit.
<発明の効果> 以上詳しく説明したような本発明によれば、高周波誘
導結合プラズマ質量分析計において、質量分析計の検出
器であるデュアルモード二次電子増倍管の出力をパルス
カウントモードとアナログモードの両方で測定し、該ア
ナログモードの信号処理部にV/F変換器を設け該V/F変換
器の出力をパルスカウンティング用カウンタのゲートタ
イミングと同じゲートタイミングで動作するアナログモ
ード用カウンタで計数するか、V/F変換器の出力をマル
チプレクサを介してパルスカウンティング用カウンタと
共用のカウンタでカウントするようにした。このため、
アナログモードにもパルスカウントモードと同様の積分
時間の概念を導入できアナログモードを測定するための
オーバーサンプリングや平均化回路などを必要としない
ような高周波誘導結合プラズマ質量分析計が実現する。<Effects of the Invention> According to the present invention as described in detail above, in a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer, the output of a dual mode secondary electron multiplier, which is a detector of a mass spectrometer, is output in a pulse count mode and an analog mode. Measurement in both modes, a V / F converter is provided in the signal processing unit of the analog mode, and the output of the V / F converter is an analog mode counter that operates at the same gate timing as the gate timing of the pulse counting counter. Either counting or the output of the V / F converter is counted by a counter shared with the pulse counting counter via a multiplexer. For this reason,
The same concept of the integration time as in the pulse count mode can be introduced into the analog mode, and a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer that does not require oversampling or an averaging circuit for measuring the analog mode is realized.
第1図は本発明実施例の要部を示すブロック説明図、第
2図は本発明の他の実施例の要部を示すブロック説明
図、第3図は高周波誘導結合プラズマ質量分析計の一般
的な構成説明図、第4図は従来例の要部を示すブロック
説明図である。 1……プラズマトーチ、2……流量制御部、 3……アルゴンガス供給源、4……試料セル、 6……高周波誘導コイル、 7……高周波誘導結合プラズマ、8……ノズル、 9……スキマー、16……マスフィルタ、 17……リアチャンバー、20……信号処理部、 21……デュアルモード二次電子増倍管 22……電流・電圧変換増幅器 23……サンプルホールド回路 24……A/D変換器 26……パルスカウンティング用パルスアンプ 27……波形整形ディスクリミネータ 28,32……カウンター 30……中央処理装置(CPU) 31……V/F変換器、 33……ゲート時間発生回路、 34……マルチプレクサFIG. 1 is a block diagram showing a main part of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a main part of another embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a general view of a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer. FIG. 4 is a block diagram showing a main part of a conventional example. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Plasma torch, 2 ... Flow control part, 3 ... Argon gas supply source, 4 ... Sample cell, 6 ... High frequency induction coil, 7 ... High frequency induction coupling plasma, 8 ... Nozzle, 9 ... Skimmer, 16: Mass filter, 17: Rear chamber, 20: Signal processing unit, 21: Dual mode secondary electron multiplier 22: Current / voltage conversion amplifier 23: Sample / hold circuit 24: A / D converter 26 Pulse amplifier for pulse counting 27 Waveform shaping discriminator 28 32 Counter 30 Central processing unit (CPU) 31 V / F converter 33 Gate time generation Circuit, 34 …… multiplexer
Claims (2)
給し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生
じさせ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生
じさせ、該イオンをノズルとスキマーからなるインター
フェイスを介して質量分析計に導いて検出することによ
り、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導プラ
ズマ質量分析計において、 前記質量分析計の検出器である 二次電子増倍管の出力
をパルスモードとアナログモードの両方で出力する手段
と、前記パルスモードの出力信号をカウントするパルス
カウンタ用カウンタと、前記アナログモードの出力信号
を周波数信号に変換し、その周波数信号をカウントする
アナログモード用カウンタと、CPUの司令に基づいて前
記両カウンタを同じゲートタイミングで計数するための
ゲート時間発生回路を設けたことを特徴とする高周波誘
導結合プラズマ質量分析計A high-frequency induction coil is supplied with high-frequency energy to form a high-frequency magnetic field to generate a high-frequency inductively coupled plasma, and the plasma is used to excite a sample to generate ions, and the ions are transmitted from a nozzle and a skimmer. In the high-frequency induction plasma mass spectrometer that analyzes the element to be measured in the sample by conducting the detection to the mass spectrometer through an interface, the secondary electron multiplier, which is the detector of the mass spectrometer, Means for outputting an output in both a pulse mode and an analog mode, a counter for a pulse counter for counting the output signal in the pulse mode, and an analog for converting the output signal in the analog mode to a frequency signal and counting the frequency signal A mode counter and both counters are counted at the same gate timing based on a command of the CPU. Inductively coupled plasma mass spectrometer, characterized in that a gate time generation circuit because
給し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生
じさせ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生
じさせ、該イオンをノズルとスキマーからなるインター
フェイスを介して質量分析計に導いて検出することによ
り、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合
プラズマ質量分析計において、 前記質量分析計の検出器である 二次電子増倍管の出力
をパルスモードとアナログモードの両方で出力する手段
と、前記パルスモードの出力信号と前記アナログモード
の出力信号が周波数信号に変換された出力信号を入力す
るマルチプレクサと、CPUの司令に基づいて前記マルチ
プレクサから出力されるパルス信号をカウントするパル
スカウンタ用カウンタと前記CPUの司令に基づいて前記
カウンタの計数のタイミングを制御するゲート時間発生
回路を設けたことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ
質量分析計。2. A high-frequency induction coil is supplied with high-frequency energy to form a high-frequency magnetic field to generate a high-frequency inductively coupled plasma, and the plasma is used to excite a sample to generate ions. In a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer that analyzes an element to be measured in the sample by guiding the mass spectrometer through an interface and detecting the secondary electron multiplier, a secondary electron multiplier that is a detector of the mass spectrometer Means for outputting the output of both the pulse mode and the analog mode, a multiplexer for inputting the output signal of the pulse mode and the output signal obtained by converting the output signal of the analog mode into a frequency signal, and based on a command of the CPU. A pulse counter for counting pulse signals output from the multiplexer and a command from the CPU, Inductively coupled plasma mass spectrometer, characterized in that a gate time generation circuit for controlling the timing of the counting of said counter Te.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1280793A JP2982189B2 (en) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1280793A JP2982189B2 (en) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03145051A JPH03145051A (en) | 1991-06-20 |
JP2982189B2 true JP2982189B2 (en) | 1999-11-22 |
Family
ID=17630042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1280793A Expired - Fee Related JP2982189B2 (en) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2982189B2 (en) |
-
1989
- 1989-10-27 JP JP1280793A patent/JP2982189B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03145051A (en) | 1991-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2796819C (en) | Oxidation resistant induction devices | |
JP2982189B2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JPS6226757A (en) | Inductive coupling plasma mass spectrograph | |
US5426299A (en) | Inductive plasma mass spectrometer | |
JP3153337B2 (en) | Inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JP3133167B2 (en) | Inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JP3186812B2 (en) | Secondary electron multiplier | |
JPH0638372Y2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JP3154831B2 (en) | Inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JPH0336028Y2 (en) | ||
JP2792140B2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JP3118004B2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JPH08273587A (en) | High frequency induction coupling plasma mass spectrometer | |
JPH06181046A (en) | Signal measuring system of secondary electron multiplying tube | |
JP2956164B2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JP3676540B2 (en) | Inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JPH0465059A (en) | High frequency induction coupling plasma mass spectrograph | |
JPH0615392Y2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JPH0589825A (en) | High frequency induction coupling plasma mass-spectrometer | |
JPS62208535A (en) | High-frequency inductive coupling plasma/mass analyzer | |
JP3175837B2 (en) | Quadrupole mass spectrometer | |
JPH05151931A (en) | High frequency induction coupling type plasma mass-spectrometer | |
JPH06109608A (en) | Heating, vaporizing and introducing equipment | |
JPH04112442A (en) | High frequency induction coupling plasma mass-spectrometer | |
JP2005085540A (en) | Auger photoelectron coincidence spectroscope and auger photoelectron coincidence spectroscopy |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080924 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080924 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090924 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |