JP2975537B2 - Aluminum substrate for photoconductor in electrophotographic apparatus - Google Patents

Aluminum substrate for photoconductor in electrophotographic apparatus

Info

Publication number
JP2975537B2
JP2975537B2 JP6215043A JP21504394A JP2975537B2 JP 2975537 B2 JP2975537 B2 JP 2975537B2 JP 6215043 A JP6215043 A JP 6215043A JP 21504394 A JP21504394 A JP 21504394A JP 2975537 B2 JP2975537 B2 JP 2975537B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aluminum substrate
light emitting
oxide film
surface roughness
anodic oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP6215043A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0876396A (en
Inventor
久雄 渡辺
富雄 米山
雅章 大出
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd
Yamanashi Electronics Co Ltd
Original Assignee
Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd
Yamanashi Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=16665815&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2975537(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd, Yamanashi Electronics Co Ltd filed Critical Shindengen Electric Manufacturing Co Ltd
Priority to JP6215043A priority Critical patent/JP2975537B2/en
Publication of JPH0876396A publication Critical patent/JPH0876396A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2975537B2 publication Critical patent/JP2975537B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、複写機、FAX、プ
リンタ等の電子写真装置において、感光層を支持する導
電性支持体としての感光体用アルミニウム基盤に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aluminum substrate for a photosensitive member as a conductive support for supporting a photosensitive layer in an electrophotographic apparatus such as a copying machine, a facsimile, a printer and the like.

【0002】なお、この明細書において、アルミニウム
の語はアルミニウムとその合金の両方を含む意味で用い
る。
[0002] In this specification, the term aluminum is used to include both aluminum and its alloys.

【0003】[0003]

【従来の技術および解決しようとする課題】一般に、電
子写真装置における感光体は、アルミニウムからなる導
電性基盤に感光層が被覆されたものに構成されるが、か
かる感光層として、セレン等の無機系光導電材料に代え
て有機物系材料を用いた有機感光体(いわゆるOPC感
光体)が、成膜性、軽量性、低価格性等の面で優れてい
るところから用いられるようになってきている。
2. Description of the Related Art In general, a photoreceptor in an electrophotographic apparatus is constituted by a conductive substrate made of aluminum and a photosensitive layer is coated. As the photosensitive layer, an inorganic material such as selenium is used. Organic photoconductors (so-called OPC photoconductors) using organic materials instead of system photoconductive materials have come to be used because of their excellent film-forming properties, light weight, and low cost. I have.

【0004】そして、有機感光体の性能、特性をさらに
向上させるために、近時、感光層として電荷発生層(C
GL)と電荷輸送層(CTL)を順次的に塗工した積層
型と称される有機感光体が提供されている。この場合、
感光層の塗工性の向上やブロッキング性の向上等を目的
として、アルミニウム基盤の表面に陽極酸化皮膜を形成
し、該皮膜の上に感光層を被覆される場合がある。
Recently, in order to further improve the performance and characteristics of the organic photoreceptor, a charge generating layer (C
GL) and a charge transport layer (CTL) are sequentially applied to provide an organic photoreceptor called a laminate type. in this case,
For the purpose of improving coating properties and blocking properties of the photosensitive layer, an anodic oxide film may be formed on the surface of the aluminum substrate, and the photosensitive layer may be coated on the film.

【0005】而して、従来、上記のような陽極酸化皮膜
を形成された有機感光体を組み込んだ電子写真装置で
は、感光体表面に静電潜像を書き込むための光源とし
て、レーザ特に半導体レーザが一般に用いられ、このレ
ーザ光をポリゴンミラー等で反射することにより感光体
表面を走査していた。ところが、レーザ光が単色光(波
長が約780nm)であり、しかも入射角が変化するた
め、レーザ光の感光体表面での反射とアルミニウム基盤
表面での反射とによる行路差に起因して干渉縞が発生
し、これが画像欠陥となるという問題があった。
Conventionally, in an electrophotographic apparatus incorporating an organic photoreceptor having an anodized film as described above, a laser, particularly a semiconductor laser, is used as a light source for writing an electrostatic latent image on the surface of the photoreceptor. Is generally used, and the surface of the photoreceptor is scanned by reflecting this laser light with a polygon mirror or the like. However, since the laser light is monochromatic light (wavelength is about 780 nm) and the incident angle changes, interference fringes are generated due to a path difference caused by the reflection of the laser light on the photoreceptor surface and the reflection on the aluminum substrate surface. And this causes an image defect.

【0006】そこで、光源としてレーザに代え、発光ダ
イオードを用いる試みがなされている。かかる発光ダイ
オードは波長分布に幅をもっているため、干渉縞の発生
を抑制することができる。
Therefore, attempts have been made to use a light emitting diode instead of a laser as a light source. Since such a light emitting diode has a wide wavelength distribution, the occurrence of interference fringes can be suppressed.

【0007】しかしながら、この場合は、白ベタ画像に
小黒点ノイズが生じたり、黒ベタ画像に白斑点や白スジ
が生じる場合があるという新たな問題を派生することが
判明した。
However, in this case, it has been found that a new problem that small black spot noise occurs in a solid white image or white spots or white stripes may occur in a solid black image.

【0008】この発明は、上記のような技術的背景に鑑
みてなされたものであって、光源として発光ダイオード
を用いる場合の白ベタ画像での小黒点ノイズや、黒ベタ
画像での白斑点や白スジの発生を防止することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above technical background, and has a small black spot noise in a solid white image when a light emitting diode is used as a light source, a white spot in a solid black image, and the like. The purpose is to prevent the occurrence of white streaks.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、発明者は、白ベタ画像での小黒点ノイズの発生原因
および黒ベタ画像での白斑点や白スジの発生原因が、陽
極酸化皮膜の表面粗さに関与していることを知見し、こ
の発明を完成し得たものである。
In order to achieve the above object, the present inventor has determined that the cause of the occurrence of small black spot noise in a solid white image and the cause of white spots or white stripes in a solid black image are anodic oxidation. The inventors have found that the present invention is involved in the surface roughness of the film, and have completed the present invention.

【0010】即ち、この発明は、光源として発光ダイオ
ードが用いられる電子写真装置における感光体用アルミ
ニウム基盤であって、表面に陽極酸化皮膜が被覆形成さ
れるとともに、該陽極酸化皮膜の表面粗さがRmax 1.
0μm以下に規定されてなることを特徴とする電子写真
装置における感光体用アルミニウム基盤を要旨とするも
のである。
That is, the present invention relates to an aluminum substrate for a photoreceptor in an electrophotographic apparatus in which a light emitting diode is used as a light source, the surface of which is coated with an anodic oxide film, and the surface roughness of the anodic oxide film is reduced. Rmax 1.
An aluminum substrate for a photoreceptor in an electrophotographic apparatus, characterized in that the thickness is specified to be 0 μm or less.

【0011】この発明において、光源として発光ダイオ
ードを用いるのは、発光ダイオードが波長分布に幅をも
っているため、干渉縞の発生を抑制できるからである。
発光ダイオードの種類は特に限定されることはなく、赤
色発光ダイオードや緑色発光ダイオードその他のものを
適宜用いうる。好適なものとしては、波長λ=660±
20nmや波長λ=710±20nm等の赤色発光ダイ
オードを挙げることができる。
In the present invention, the light emitting diode is used as the light source because the light emitting diode has a wide wavelength distribution, so that the occurrence of interference fringes can be suppressed.
The type of the light emitting diode is not particularly limited, and a red light emitting diode, a green light emitting diode, or the like can be used as appropriate. Preferably, the wavelength λ = 660 ±
A red light emitting diode having a wavelength of 20 nm or a wavelength λ = 710 ± 20 nm can be used.

【0012】アルミニウム基盤の表面に被覆形成される
陽極酸化皮膜の表面粗さがRmax (最大高さ)1.0μ
m以下に規定されるのは、表面粗さがRmax 1.0μm
を超えると白ベタ画像での小黒点ノイズや、黒ベタ画像
での白斑点や白スジが発生し易くなるからである。白ベ
タ画像での小黒点ノイズが発生し易くなるのは、表面が
粗いために、表面に汚れが付着し易くなったり、付着し
た汚れが洗浄で落ちにくくなったりする等の理由による
ものと推測される。また、黒ベタ画像での白スジが発生
し易くなる理由は、陽極酸化皮膜の表面がRmax 1.0
μmを超えて粗くなると、感光層の塗工処理時に感光剤
の溜まりや塗膜切れを生じ、これに起因して黒ベタ画像
での白斑点や白スジ等の画像欠陥が発生し易くなるもの
と推測される。特に好ましくは、陽極酸化皮膜の表面粗
さをRmax 0.6μm以下とするのが良い。
The surface roughness of the anodic oxide film formed on the surface of the aluminum substrate is Rmax (maximum height) of 1.0 μm.
m is defined as having a surface roughness of Rmax 1.0 μm
This is because, when the value exceeds, small black point noise in a white solid image, white spots and white streaks in a black solid image are likely to occur. It is presumed that small black spot noise is likely to occur in solid white images because the surface is so rough that dirt easily adheres to the surface, or the adhered dirt becomes difficult to remove by washing. Is done. Also, the reason why white streaks easily occur in a black solid image is that the surface of the anodic oxide film has an Rmax of 1.0.
When the thickness exceeds μm, the photosensitive agent may be accumulated or the coating film may be cut off during the coating process of the photosensitive layer, and as a result, image defects such as white spots and white stripes on a solid black image may easily occur. It is presumed. Particularly preferably, the surface roughness of the anodic oxide film is set to Rmax 0.6 μm or less.

【0013】この発明において、陽極酸化皮膜の表面粗
さをRmax 1.0μm以下に規定するための手段は、特
に限定されることはないが、最も確実な手段として、次
の方法を挙げることができる。即ち、発明者の研究によ
れば、陽極酸化皮膜の表面の荒れ方は、アルミニウム基
盤の表面粗さに依存するとともに、アルミニウム基盤の
組成成分との関係、特にCu量に依存して変化すること
がわかった。アルミニウム基盤の表面粗さはRZ (十点
平均粗さ)0.8μm以下の鏡面状態に規定されるのが
望ましい。一方、アルミニウム基盤の表面粗さがRZ
0.8μm以下であっても、アルミニウム基盤中のCu
量が0.05wt%を超える場合には、陽極酸化皮膜の表
面に局部的に大きな欠陥を生じる危険があり、陽極酸化
皮膜の表面粗さをRmax 1.0μm以下に規定すること
が困難となる。そこで、アルミニウム基盤の表面粗さを
RZ 0.8μm以下とするとともに、アルミニウム基盤
中のCu量を0.05wt%以下に規定するのが望まし
い。特に好ましいアルミニウム基盤の表面粗さはRZ
0.5μm以下である。一方、特に好ましい基盤中のC
u量は0.03wt%以下である。なお、Cu量以外の組
成成分については限定されない。
In the present invention, the means for regulating the surface roughness of the anodic oxide film to Rmax 1.0 μm or less is not particularly limited, but the following method is mentioned as the most reliable means. it can. That is, according to the research of the inventor, the surface roughness of the anodic oxide film depends on the surface roughness of the aluminum substrate and changes with the relationship with the composition component of the aluminum substrate, particularly on the amount of Cu. I understood. It is desirable that the surface roughness of the aluminum substrate be specified in a mirror surface state of RZ (ten-point average roughness) of 0.8 μm or less. On the other hand, the surface roughness of the aluminum base is RZ
Cu of 0.8 μm or less in aluminum substrate
If the amount exceeds 0.05% by weight, there is a risk that a large defect locally occurs on the surface of the anodic oxide film, and it becomes difficult to regulate the surface roughness of the anodic oxide film to Rmax 1.0 μm or less. . Therefore, it is desirable that the surface roughness of the aluminum substrate be set to Rz 0.8 μm or less and the Cu content in the aluminum substrate be specified to 0.05 wt% or less. Particularly preferred surface roughness of the aluminum substrate is RZ.
It is 0.5 μm or less. On the other hand, C in the particularly preferred base
The amount of u is 0.03 wt% or less. In addition, composition components other than the Cu amount are not limited.

【0014】アルミニウム基盤を上記のような表面粗さ
とするための方法は、特に限定されることはなく、切削
による鏡面加工によっても良いし、あるいは感光体が感
光ドラムであり、アルミニウム基盤がアルミニウム管と
して提供される場合には、押出しや絞りによって得たア
ルミニウム管をしごき加工し、あるいは引抜き加工し、
要すればその後切削することによって実現するものとし
ても良い。
The method for making the aluminum substrate have such a surface roughness as described above is not particularly limited, and it may be mirror-finished by cutting, or the photosensitive member is a photosensitive drum and the aluminum substrate is an aluminum tube. If it is provided as, the aluminum tube obtained by extrusion or drawing is ironed or drawn,
If necessary, it may be realized by cutting afterwards.

【0015】また、前記陽極酸化皮膜の種類は特に限定
されることはないが、一般には硫酸皮膜が採用される。
陽極酸化皮膜の膜厚は、3〜10μmとするのが良い。
陽極酸化処理の条件も特に限定されることはなく、従来
から行われている条件を採択すれば良い。
The type of the anodic oxide film is not particularly limited, but a sulfuric acid film is generally employed.
The thickness of the anodic oxide film is preferably 3 to 10 μm.
The conditions for the anodizing treatment are not particularly limited, and conditions conventionally used may be adopted.

【0016】ところで、陽極酸化皮膜の表面粗さの規定
による画像欠陥の抑制に加えて、干渉縞の発生をさらに
抑制するため、好ましくは図1に概略的に示すように、
発光ダイオード(1)を複数個用い、これらの発光ダイ
オード(1)を感光体(2)に対して同一間隔で平行状
に配置するとともに、発光ダイオード(1)と感光体
(2)との間にレンズ(3)を配置して、発光ダイオー
ド(1)からの光を感光体(2)に垂直に入射させるも
のとするのが良い。これによって、感光体(2)表面で
の反射とアルミニウム基盤(2a)表面での反射とによる
行路差が少なくなり、さらに干渉縞が抑制される。図1
に示す(2b)は感光層、(2c)は陽極酸化皮膜である。
なお、前記のようなレンズ(3)としては、セルボック
レンズ等のマルチレンズを挙げることができる。
Incidentally, in order to further suppress the occurrence of interference fringes in addition to the suppression of image defects by regulating the surface roughness of the anodic oxide film, preferably, as shown schematically in FIG.
A plurality of light emitting diodes (1) are used, these light emitting diodes (1) are arranged in parallel with the photoconductor (2) at the same interval, and a light emitting diode (1) and the photoconductor (2) It is preferable that a lens (3) is disposed on the photoconductor (2) so that light from the light emitting diode (1) is vertically incident on the photoconductor (2). As a result, a path difference due to reflection on the surface of the photoconductor (2) and reflection on the surface of the aluminum substrate (2a) is reduced, and interference fringes are further suppressed. FIG.
(2b) is a photosensitive layer, and (2c) is an anodized film.
In addition, as the lens (3) as described above, a multi-lens such as a SELVOC lens can be used.

【0017】陽極酸化皮膜を介してアルミニウム基盤の
表面に塗工される感光層としては、一般には有機物系材
料からなるものが用いられ、好ましくは電荷発生層と電
荷輸送層を有する積層型感光層が被覆形成される。かか
る積層型感光層の材料は、従来から知られているものを
適宜用いれば良い。例えば、電荷発生層に用いる光導電
体としては、フタロシアニン、アゾ、キナクリドン、多
環キノン、ペリレン、インジゴ、ベンズイミダゾ−ルな
どの各種有機顔料を使用することができる。なかでも、
無金属フタロシアニン、銅、塩化インジウム、塩化ガリ
ウム、スズ、オキシチタニウム、亜鉛、バナジウムなど
の金属、又はその酸化物、塩化物の配位したフタロシア
ニン類、モノアゾ、ビスアゾ、トリスアゾ、ポリアゾ類
などのアゾ顔料が好ましい。
As the photosensitive layer applied to the surface of the aluminum substrate via the anodic oxide film, a layer made of an organic material is generally used, and a laminated photosensitive layer having a charge generating layer and a charge transport layer is preferably used. Is formed. As the material of the laminated photosensitive layer, a conventionally known material may be appropriately used. For example, as the photoconductor used for the charge generation layer, various organic pigments such as phthalocyanine, azo, quinacridone, polycyclic quinone, perylene, indigo, and benzimidazole can be used. Above all,
Metals such as metal-free phthalocyanine, copper, indium chloride, gallium chloride, tin, oxytitanium, zinc, and vanadium, or oxides thereof, and azo pigments such as chloride-coordinated phthalocyanines, monoazo, bisazo, trisazo, and polyazos Is preferred.

【0018】電荷発生層はこれらの物質の均一層として
あるいはバインダ−中に微粒子分散した状態で形成され
る。ここで使用されるバインダ−樹脂としてはポリビニ
ルブチラ−ル、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、メチルセルロ−ス、ポリカ−
ボネ−ト樹脂などを挙げうる。バインダ−樹脂100重
量部中、上記光導電体を20〜300重量部含有させる
ことが好ましく、特に30〜150重量部が好ましい。
この様な電荷発生層の膜厚は通常5μm以下、好ましく
は0.01〜1μmが適当である。
The charge generation layer is formed as a uniform layer of these substances or in a state where fine particles are dispersed in a binder. Examples of the binder resin used herein include polyvinyl butyral, phenoxy resin, epoxy resin, polyester resin, acrylic resin, methacrylic resin, polyvinyl acetate, polyvinyl chloride, methyl cellulose, and polycarbonate.
Carbonate resins and the like. Preferably, the photoconductor is contained in an amount of 20 to 300 parts by weight, particularly 30 to 150 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder resin.
The thickness of such a charge generation layer is usually 5 μm or less, preferably 0.01 to 1 μm.

【0019】前記電荷輸送層中に用いる電荷輸送材料と
しては、ポリビニルカルバゾ−ル、ポリビニルピレン、
ポリアセナフチレンなどの高分子化合物又は、各種ピラ
ゾリン誘導体、オキサゾ−ル誘導体、ヒドラゾン誘導
体、ブタジエン誘導体、スチルベン誘導体などの低分子
化合物を使用できる。これらの電荷輸送材料と共に必要
に応じてバインダ−樹脂が配合される。
As the charge transporting material used in the charge transporting layer, polyvinyl carbazole, polyvinyl pyrene,
High molecular compounds such as polyacenaphthylene or low molecular compounds such as various pyrazoline derivatives, oxazole derivatives, hydrazone derivatives, butadiene derivatives and stilbene derivatives can be used. A binder resin is blended with these charge transporting materials as needed.

【0020】好ましいバインダ−樹脂としては、ポリメ
チルメタクリレ−ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルな
どのビニル重合体及びその共重合体、ポリカ−ボネ−
ト、ポリエステル、ポリサルホン、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂、シリコン樹脂などを挙げうる。またこれら
の部分的架橋硬化物も使用される。上記電荷輸送材料
を、バインダ−樹脂100重量部中に30〜200重量
部、特に50〜150重量部含有させることが好まし
い。
Preferred binder resins include vinyl polymers such as polymethyl methacrylate, polystyrene and polyvinyl chloride and copolymers thereof, and polycarbonate resins.
, Polyester, polysulfone, phenoxy resin, epoxy resin, silicone resin, and the like. These partially crosslinked cured products are also used. It is preferable that the charge transport material is contained in an amount of 30 to 200 parts by weight, particularly 50 to 150 parts by weight, per 100 parts by weight of the binder resin.

【0021】また電荷輸送層には、必要に応じて酸化防
止剤、増感剤などの各種添加剤を含んでいても良い。
The charge transport layer may contain various additives such as an antioxidant and a sensitizer, if necessary.

【0022】電荷輸送層の膜厚は通常10〜40μm、
好ましくは10〜25μmの厚みで使用される。
The thickness of the charge transport layer is usually 10 to 40 μm,
Preferably, it is used in a thickness of 10 to 25 μm.

【0023】[0023]

【作用】アルミニウム基盤の表面に陽極酸化皮膜が被覆
形成されるとともに、該陽極酸化皮膜の表面粗さがRma
x 1.0μm以下に規定されてなるから、白ベタ画像で
の小黒点や、黒ベタ画像での白斑点や白スジの発生が抑
制される。また、光源として発光ダイオードが用いられ
るから、干渉縞の発生も抑制され、高品質の画像を提供
できる。
An anodic oxide film is formed on the surface of the aluminum substrate, and the surface roughness of the anodic oxide film is Rma.
Since x is defined to be 1.0 μm or less, the occurrence of small black spots in a solid white image, white spots and white streaks in a solid black image is suppressed. Further, since a light emitting diode is used as a light source, the occurrence of interference fringes is suppressed, and a high-quality image can be provided.

【0024】また、アルミニウム基盤の表面粗さがRz
0.8μm以下に規定されるとともに、アルミニウム基
盤におけるCu成分が0.05wt%以下に規定されるこ
とによって、陽極酸化皮膜の表面粗さがRmax 1.0μ
m以下となされている場合には、陽極酸化皮膜の表面処
理を要することなく確実に表面粗さをRmax 1.0μm
以下にすることができる。
The surface roughness of the aluminum substrate is Rz
When the Cu content in the aluminum base is specified to be 0.05 wt% or less and the surface roughness of the anodic oxide film is set to Rmax 1.0 μm or less.
m or less, the surface roughness of the anodic oxide film is reliably reduced to Rmax 1.0 μm without the need for surface treatment.
It can be:

【0025】また、複数個の発光ダイオードが感光体に
対して同一間隔で平行状に配置されるとともに、発光ダ
イオードと感光体との間に、発光ダイオードからの光を
感光体に垂直に入射させるレンズが配置されてなるもの
である場合には、感光体表面での反射とアルミニウム基
盤表面での反射とによる行路差を少なくでき、さらに干
渉縞を抑制できる。
Further, a plurality of light emitting diodes are arranged in parallel at the same interval with respect to the photosensitive member, and light from the light emitting diode is vertically incident on the photosensitive member between the light emitting diode and the photosensitive member. When a lens is provided, a path difference due to reflection on the photoreceptor surface and reflection on the aluminum substrate surface can be reduced, and interference fringes can be suppressed.

【0026】[0026]

【実施例】アルミニウム基盤として、表1に示されるよ
うに、A3003Al合金、A6063Al合金をベー
スとし、Cu量を各種値に規制されたアルミニウム押出
管を複数個用意した。そして、このアルミニウム押出管
の表面を鏡面切削して、表1に示す各種の表面粗さRz
のものを製作した。
EXAMPLE As shown in Table 1, a plurality of aluminum extruded pipes based on A3003Al alloy and A6063Al alloy and having a regulated amount of Cu at various values were prepared as shown in Table 1. Then, the surface of the aluminum extruded tube was mirror-polished to obtain various surface roughnesses Rz shown in Table 1.
Was made.

【0027】次に、各アルミニウム基盤に硫酸法による
陽極酸化処理を実施して、皮膜厚さ約7μmの陽極酸化
皮膜を被覆形成した。そして、各試料における陽極酸化
皮膜の表面粗さを測定したところ、表1のとおりであっ
た。
Next, each aluminum substrate was subjected to anodizing treatment by a sulfuric acid method to form an anodized film having a film thickness of about 7 μm. Table 1 shows the surface roughness of the anodic oxide film of each sample.

【0028】次に、各陽極酸化皮膜の表面に電荷発生層
と電荷輸送層とを有する感光層を以下のようにして被覆
形成した。即ち、CGLは、無金属フタロシアニンをテ
トラヒドロフランにて4%に希釈して、膜厚が約0.5
μmになるように塗工し乾燥して形成した。次に、CT
剤(ヒドラゾン化合物)とCT樹脂(ポリカーボネー
ト)を1:2の比率で塩化メチレンに溶解して、膜厚が
約20μmになるように塗工し乾燥してCTLとした。
Next, a photosensitive layer having a charge generating layer and a charge transporting layer was formed on the surface of each anodic oxide film as follows. That is, CGL is obtained by diluting metal-free phthalocyanine to 4% with tetrahydrofuran and forming a film having a thickness of about 0.5%.
The coating was applied to a thickness of μm and dried. Next, CT
The agent (hydrazone compound) and CT resin (polycarbonate) were dissolved in methylene chloride at a ratio of 1: 2, applied to a thickness of about 20 μm, and dried to obtain CTL.

【0029】上記により得た各種感光体に対して、図1
に示すように、静電潜像を形成するための露光光源とし
ての複数個の発光ダイオード(1)を、中間にセルボッ
クレンズ(3)を介して感光層(2b)表面から4.7m
mの距離を隔てて平行状にかつ感光体(2)の幅方向に
一列に並べた。発光ダイオード(1)としては、波長λ
=710±20nmの赤色発光ダイオードを用いた。な
お、発光ダイオードからの光の感光体(2)への入射角
はいずれも±1度以内であった。
With respect to the various photoconductors obtained above, FIG.
As shown in the figure, a plurality of light emitting diodes (1) as an exposure light source for forming an electrostatic latent image are placed 4.7 m from the surface of the photosensitive layer (2b) via a cell box lens (3) in the middle.
The photoconductors (2) were arranged in a line in parallel with each other at a distance of m. For the light emitting diode (1), the wavelength λ
= 710 ± 20 nm red light emitting diode was used. The incident angles of the light from the light emitting diodes to the photoconductor (2) were all within ± 1 degree.

【0030】そして、これをプリンタに取り付け、ドッ
トパターンによる中間調の画像を出し、干渉縞の有無を
調べるとともに、白ベタ画像による小黒点の有無、黒ベ
タ画像による白スジの有無も調べた。その結果を表1に
示す。
Then, this was mounted on a printer, a halftone image was produced by a dot pattern, and the presence or absence of interference fringes was examined. The presence or absence of small black dots by a solid white image and the presence of white stripes by a solid black image were also examined. Table 1 shows the results.

【0031】[0031]

【表1】 上記表1の結果からわかるように、陽極酸化皮膜の表面
粗さがRmax 1.0μm以下である本発明実施品は、範
囲を逸脱する比較品に較べて、白スジ、小黒点を抑制し
得ることを確認し得た。特に、陽極酸化皮膜の表面粗さ
をRmax 0.6μm以下に規定することによって、優れ
た画像特性を発揮し得ることがわかる。また、アルミニ
ウム基盤の表面粗さRz を0.8μm以下、アルミニウ
ム基盤のCu量を0.05wt%以下に規定することによ
り、陽極酸化皮膜の表面粗さをRmax 1.0μm以下と
なしうることもわかる。
[Table 1] As can be seen from the results in Table 1 above, the products of the present invention in which the surface roughness of the anodic oxide film is Rmax 1.0 μm or less can suppress white streaks and small black spots as compared with comparative products out of the range. I was able to confirm that. In particular, it can be seen that excellent image characteristics can be exhibited by setting the surface roughness of the anodic oxide film to Rmax 0.6 μm or less. Also, by defining the surface roughness Rz of the aluminum base to be 0.8 μm or less and the Cu content of the aluminum base to be 0.05 wt% or less, the surface roughness of the anodic oxide film can be made to be 1.0 μm or less. Recognize.

【0032】[0032]

【発明の効果】この発明は上述の次第で、アルミニウム
基盤の表面に陽極酸化皮膜が被覆形成されるとともに、
該陽極酸化皮膜の表面粗さがRmax 1.0μm以下に規
定されてなるから、白ベタ画像での小黒点や、黒ベタ画
像での白斑点や白スジの発生を抑制できる。もとより、
光源として発光ダイオードが用いられるから、干渉縞の
発生をも抑制でき、画像欠陥のない高品質の画像を提供
できる。
According to the present invention, an anodic oxide film is formed on the surface of an aluminum substrate,
Since the surface roughness of the anodic oxide film is defined to be Rmax 1.0 μm or less, it is possible to suppress the occurrence of small black spots in a solid white image, white spots and white streaks in a solid black image. Of course,
Since a light emitting diode is used as a light source, the occurrence of interference fringes can be suppressed, and a high-quality image free from image defects can be provided.

【0033】また、アルミニウム基盤の表面粗さがRz
0.8μm以下に規定されるとともに、アルミニウム基
盤におけるCu成分が0.05wt%以下に規定されるこ
とによって、陽極酸化皮膜の表面粗さがRmax 1.0μ
m以下となされている場合には、陽極酸化皮膜の表面処
理を要することなく確実に表面粗さをRmax 1.0μm
以下にすることができる。
Also, the surface roughness of the aluminum substrate is Rz
When the Cu content in the aluminum base is specified to be 0.05 wt% or less and the surface roughness of the anodic oxide film is set to Rmax 1.0 μm or less.
m or less, the surface roughness of the anodic oxide film is reliably reduced to Rmax 1.0 μm without the need for surface treatment.
It can be:

【0034】また、複数個の発光ダイオードが感光体に
対して同一間隔で平行状に配置されるとともに、発光ダ
イオードと感光体との間に、発光ダイオードからの光を
感光体に垂直に入射させるレンズが配置されてなるもの
である場合には、感光体表面での反射とアルミニウム基
盤表面での反射とによる行路差を少なくでき、さらに干
渉縞を抑制でき、白ベタ画像での小黒点や、黒ベタ画像
での白斑点や白スジの発生防止と相俟って、益々良好な
画像を提供できる。
A plurality of light emitting diodes are arranged in parallel with the photosensitive member at the same interval, and light from the light emitting diode is vertically incident on the photosensitive member between the light emitting diode and the photosensitive member. If the lens is arranged, the path difference due to reflection on the photoreceptor surface and reflection on the aluminum substrate surface can be reduced, interference fringes can be suppressed, small black spots in a solid white image, An even better image can be provided in combination with the prevention of the occurrence of white spots and white stripes in a solid black image.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施例を概略的に示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…発光ダイオード 2…感光体 2a…アルミニウム基盤 2b…感光層 2c…陽極酸化皮膜 3…レンズ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light emitting diode 2 ... Photoconductor 2a ... Aluminum base 2b ... Photosensitive layer 2c ... Anodized film 3 ... Lens

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米山 富雄 山梨県甲府市宮原町1014番地 山梨電子 工業株式会社内 (72)発明者 大出 雅章 堺市海山町6丁224番地 昭和アルミニ ウム株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−208942(JP,A) 特開 平4−265979(JP,A) 特開 平5−80565(JP,A) 特開 平4−269760(JP,A) 特開 平4−29253(JP,A) 特開 平3−259267(JP,A) 特開 平5−80568(JP,A) 特開 平3−236060(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03G 5/14 101 G03G 5/10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tomio Yoneyama 1014 Miyaharacho, Kofu City, Yamanashi Prefecture Inside Yamanashi Electronics Industry Co., Ltd. (72) Inventor Masaaki Oide 6, 224 Kaiyamacho Sakai City Showa Aluminum Co., Ltd. (56) References JP-A-4-208942 (JP, A) JP-A-4-265979 (JP, A) JP-A-5-80565 (JP, A) JP-A-4-269760 (JP, A) JP-A-4-29253 (JP, A) JP-A-3-259267 (JP, A) JP-A-5-80568 (JP, A) JP-A-3-236060 (JP, A) (58) Int.Cl. 6 , DB name) G03G 5/14 101 G03G 5/10

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 光源として発光ダイオードが用いられる
電子写真装置における感光体用アルミニウム基盤であっ
て、表面に陽極酸化皮膜が被覆形成されるとともに、該
陽極酸化皮膜の表面粗さがRmax 1.0μm以下に規定
されてなることを特徴とする電子写真装置における感光
体用アルミニウム基盤。
1. An aluminum substrate for a photoreceptor in an electrophotographic apparatus using a light emitting diode as a light source, the surface of which is coated with an anodic oxide film, and the anodic oxide film has a surface roughness of Rmax 1.0 μm. An aluminum substrate for a photoreceptor in an electrophotographic apparatus, which is defined as follows.
【請求項2】 アルミニウム基盤の表面粗さがRz 0.
8μm以下に規定されるとともに、アルミニウム基盤に
おけるCu成分が0.05wt%以下に規定されることに
よって、陽極酸化皮膜の表面粗さがRmax 1.0μm以
下となされている請求項1に記載の電子写真装置におけ
る感光体用アルミニウム基盤。
2. An aluminum substrate having a surface roughness of Rz 0.
2. The electronic device according to claim 1, wherein the surface roughness of the anodic oxide film is 1.0 μm or less by defining the Cu content in the aluminum substrate to be 0.05 wt% or less while being specified to be 8 μm or less. Aluminum base for photoconductors in photographic equipment.
【請求項3】 電子写真装置が、複数個の発光ダイオー
ドが感光体に対して同一間隔で平行状に配置されるとと
もに、発光ダイオードと感光体との間に、発光ダイオー
ドからの光を感光体に垂直に入射させるレンズが配置さ
れてなるものである請求項1または2に記載の電子写真
装置における感光体用アルミニウム基盤。
3. An electrophotographic apparatus, comprising: a plurality of light emitting diodes arranged in parallel with a photoconductor at an equal interval; and a light from the light emitting diode being supplied between the light emitting diode and the photoconductor. 3. An aluminum substrate for a photoreceptor in an electrophotographic apparatus according to claim 1, wherein a lens for vertically incident on the substrate is arranged.
JP6215043A 1994-09-08 1994-09-08 Aluminum substrate for photoconductor in electrophotographic apparatus Expired - Fee Related JP2975537B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6215043A JP2975537B2 (en) 1994-09-08 1994-09-08 Aluminum substrate for photoconductor in electrophotographic apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6215043A JP2975537B2 (en) 1994-09-08 1994-09-08 Aluminum substrate for photoconductor in electrophotographic apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0876396A JPH0876396A (en) 1996-03-22
JP2975537B2 true JP2975537B2 (en) 1999-11-10

Family

ID=16665815

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6215043A Expired - Fee Related JP2975537B2 (en) 1994-09-08 1994-09-08 Aluminum substrate for photoconductor in electrophotographic apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2975537B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0876396A (en) 1996-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015225231A (en) Electrophotographic photoreceptor and image formation apparatus with the same
JP2975537B2 (en) Aluminum substrate for photoconductor in electrophotographic apparatus
JP2008165156A (en) Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus including the same
JP3560798B2 (en) Electrophotographic photosensitive member and image forming apparatus using the same
JP2016031407A (en) Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus using the same
JP2000221719A (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH08248663A (en) Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic device unit, and electrophotographic device
JP2005031433A (en) Electrophotographic photoreceptor and method for manufacturing the same
JP2001265014A (en) Photoreceptor, image forming device using the same, image forming method and process cartridge
US5656405A (en) Organic photoconductor for electrophotography
JP4136622B2 (en) Image forming apparatus and process cartridge
JP2016090919A (en) Electrophotographic photoreceptor and image formation apparatus using the same
JPH0675208B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
US6544703B2 (en) Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic process, and electrophotographic image forming method
JP2619163B2 (en) Undercoating method for electrophotographic photoreceptor
JP2619162B2 (en) Undercoating method for electrophotographic photoreceptor
JPH0876395A (en) Aluminum substrate for photoreceptor in electrophotographic device
JP4778914B2 (en) Electrophotographic photosensitive member and image forming apparatus using the same
JP3107658B2 (en) Underlayer treatment method for organic photoreceptor for electrophotography
JPH06138685A (en) Electrophotographic sensitive body
JPH0713379A (en) Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic device with it
JP6327333B2 (en) Electrophotographic photosensitive member and image forming apparatus using the same
JP6360720B2 (en) Electrophotographic photosensitive member and image forming apparatus using the same
JPH08328284A (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH05188620A (en) Electrophotographic organic sensitive body and treatment of substrate

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080903

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090903

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100903

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100903

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110903

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120903

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903

Year of fee payment: 14

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees