JP2972277B2 - How to automatically start a sputum ion pump - Google Patents
How to automatically start a sputum ion pumpInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、加速器、核融合実験装置等において高真
空、超高真空、極高真空を発生させるのに用いられるス
パッタイオンポンプの自動起動方法に関するものであ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for automatically starting a sputter ion pump used for generating a high vacuum, an ultra-high vacuum, or an ultra-high vacuum in an accelerator, a nuclear fusion experiment device, or the like. It is about.
［従来の技術］ ところで、従来のスパッタイオンポンプの起動は、通
常、大容量の電源を用い、高圧力領域から行っており、
そのため交流電源を高圧トランスによって逓昇し、倍電
圧全波整流回路によって直流の設定電圧を得るようにし
ている。[Prior art] By the way, the conventional sputter ion pump is usually started from a high pressure region using a large capacity power supply.
Therefore, the AC power supply is stepped up by a high-voltage transformer, and a DC set voltage is obtained by a voltage doubler full-wave rectifier circuit.
添附図面の第５図には従来のスパッタイオンポンプの
起動方法の一例が示され、第４図に示すようにスタート
共に起動電圧が印加され、インターロック電圧YkVDCを
越えると運転状態となり、最終的には設定電圧XkVDCま
で印加される。そしてスタートから設定電圧XkVDC印加
時までの起動時間t0は、起動すべきスパッタイオンポン
プ本体の履歴やポンプの設置される真空容器の状態（放
出ガス量等）によって決まり、しかも変化する。FIG. 5 of the accompanying drawings shows an example of a conventional method of starting the sputter ion pump. As shown in FIG. 4, when the start voltage is applied at the start and when the interlock voltage exceeds the interlock voltage YkV DC , the operation state is changed to the final state. Typically, the voltage is applied up to the set voltage XkV DC . The start time t 0 from the start until the set voltage XkV DC applied is determined by the state of the installed the vacuum vessel history and pump sputter ion pump body to be activated (released gas amount and the like), yet changed.
そのため、スパッタイオンポンプの従来の起動方法で
は、大容量電源が使用され、出力短絡電流を大きく取れ
るようにしている。Therefore, in the conventional starting method of the sputter ion pump, a large-capacity power supply is used, and a large output short-circuit current can be obtained.
［発明が解決しようとする課題］ このように、従来のスパッタイオンポンプの起動方法
は、大容量の電源を用い、第５図に示すように高圧力領
域から連続印加することにより行われている。しかし、
スパッタイオンポンプにおいては高い圧力ではポンプ素
子からのガス放出は主として水分・炭化水素系であり、
結局ポンプ内部はこれらの汚染ガス成分及び分解生成物
で満されており、結果として電極（セル）を汚染してい
ると考えられる。従って、ポンプの履歴及びポンプの設
置されている真空容器の状態にもよるが到達圧力が低下
しない一因となっている。[Problems to be Solved by the Invention] As described above, the conventional method of starting a sputter ion pump is performed by using a large-capacity power supply and continuously applying a high-pressure region as shown in FIG. . But,
In a sputter ion pump, outgassing from the pump element at high pressure is mainly water / hydrocarbon,
Eventually, the inside of the pump is filled with these polluting gas components and decomposition products, and as a result, it is considered that the electrodes (cells) are contaminated. Therefore, depending on the history of the pump and the state of the vacuum vessel in which the pump is installed, this is one reason that the ultimate pressure does not decrease.
また、従来のスパッタイオンポンプの起動方法では、
出力短絡電流を大きく取れるように電源を設計する必要
があるため、大容量電源を使用しており、そのため電源
が大きくしかも重くなり、その結果電源の運搬や移動等
その取扱において問題があった。Also, in the conventional method of starting the sputter ion pump,
Since it is necessary to design a power supply so that a large output short-circuit current can be obtained, a large-capacity power supply is used. Therefore, the power supply becomes large and heavy. As a result, there is a problem in handling the power supply such as transportation and movement.
そこで、本発明は、上記のような従来のもののもつ問
題点を解決してスパッタイオンポンプの到達圧力を低下
させて極高真空を発生できしかもスパッタイオンポンプ
本体の寿命をのばすことのできるスパッタイオンポンプ
の自動起動方法を提供することにある。Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, reduces the ultimate pressure of the sputter ion pump, can generate an extremely high vacuum, and can extend the life of the sputter ion pump body. An object of the present invention is to provide a method for automatically starting a pump.
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するために、本発明の第１の発明
は、10-2〜10-4Pa以下の高真空、超高真空、極高真空領
域で運転する本発明によるスパッタイオンポンプの自動
起動方法において、スパッタイオンポンプ起動命令信号
に応じて電源回路から起動すべきスパッタイオンポンプ
の起動時に、スパッタイオンポンプのアノードに起動電
圧を徐々に設定電圧まで増加させながら間欠的に印加し
て起動することを特徴としている。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, a first invention of the present invention is to operate in a high-vacuum, ultra-high-vacuum and ultra-high-vacuum region of 10 -2 to 10 -4 Pa or less. In the method for automatically starting the sputter ion pump according to the present invention, when the sputter ion pump to be started from the power supply circuit is started in response to the sputter ion pump start command signal, the starting voltage is gradually increased to the set voltage at the anode of the sputter ion pump. It is characterized in that it is applied intermittently and activated while being started.
本発明の第１の発明による方法においては、起動通電
時間内におけるスパッタイオンポンプのアノードへの起
動電圧の各間欠的印加時間と各間欠的休止時間とは一定
の時間間隔で繰り返されるかまたはスパッタイオンポン
プのアノードにおける電流値に応じて可変にされ得る。In the method according to the first aspect of the present invention, each intermittent application time of the starting voltage to the anode of the sputter ion pump and each intermittent pause time within the starting energizing time are repeated at a fixed time interval or the sputtering is performed. It can be made variable depending on the current value at the anode of the ion pump.
代わりに、起動通電時間内におけるスパッタイオンポ
ンプのアノードへの起動電圧の各印加時間とそれに続く
各休止時間とから成る起動サイクルの各々の長さは一定
にし、各起動サイクルにおける印加時間を徐々に長くし
休止時間を徐々に短くするようにすることもできる。Instead, the length of each startup cycle consisting of each application time of the startup voltage to the anode of the sputter ion pump during the startup energization time and each subsequent pause time is kept constant, and the application time in each startup cycle is gradually increased. It is also possible to make it longer and gradually shorten the pause time.
また、本発明の第２の発明は、10-2〜10-4Pa以下の高
真空、超高真空、極高真空領域で運転する本発明による
スパッタイオンポンプの自動起動方法において、予め設
定した起動通電時間内に、スパッタイオンポンプ起動命
令信号に応じて電源回路から起動すべきスパッタイオン
ポンプのアノードへ設定起動電圧値より低い電圧レベル
まで起動電圧を印加し、その電圧レベルを維持した状態
でスパッタイオンポンプ素子からの放出ガスを排気し、
その後、設定起動電圧値まで起動すべきスパッタイオン
ポンプのアノードへ起動電圧を印加することを特徴とし
ている。Further, the second invention of the present invention provides a method for automatically starting a sputter ion pump according to the present invention, which is operated in a high vacuum of 10 −2 to 10 −4 Pa or less, an ultrahigh vacuum, and an ultrahigh vacuum region. Within the startup energization time, a startup voltage is applied to the anode of the sputter ion pump to be started from the power supply circuit to a voltage level lower than the set startup voltage value in accordance with the sputter ion pump start command signal, and the voltage level is maintained. Exhaust gas from the sputter ion pump element,
Thereafter, a starting voltage is applied to the anode of the sputter ion pump to be started up to the set starting voltage value.
［作用］ 本発明の第１の発明によるスパッタイオンポンプの自
動起動方法においては、起動電圧をスパッタイオンポン
プのアノードに間欠印加する際に、起動電圧の印加の当
初にはスパッタイオンポンプ本体からガス放出が起り、
圧力が上昇するため、直ぐに印加オフの状態すなわち休
止状態にし、この休止状態中は他の粗引きポンプ（例え
ばターボ分子ポンプ）を用いて積極的に排気する。この
ようにしてスパッタイオンポンプのアノードに対する起
動電圧の間欠印加を繰り返すことにより印加電圧は徐々
に設定電圧に近づき、一方スパッタイオンポンプのアノ
ードにおける出力電流が徐々に少なくなる。このような
起動プロセスによってスパッタイオンポンプ本体の電極
（セル）の汚染は防止され、スパッタイオンポンプをソ
フトに起動させることができる。[Action] In the method for automatically starting a sputter ion pump according to the first aspect of the present invention, when the starting voltage is intermittently applied to the anode of the sputter ion pump, the gas is supplied from the sputter ion pump main body at the beginning of the application of the starting voltage. Release occurs,
Since the pressure rises, the application is immediately turned off, that is, in a resting state, and during this resting state, the exhaust is actively exhausted by using another roughing pump (for example, a turbo molecular pump). By repeating the intermittent application of the starting voltage to the anode of the sputter ion pump in this way, the applied voltage gradually approaches the set voltage, while the output current at the anode of the sputter ion pump gradually decreases. Such an activation process prevents contamination of the electrode (cell) of the sputter ion pump main body, and allows the sputter ion pump to be activated softly.
本発明の第２の発明によるスパッタイオンポンプの自
動起動方法においては、起動電圧をスパッタイオンポン
プのアノードに印加する際に、まず設定値より低い予定
の電圧レベルまで起動電圧を印加し、これによりスパッ
タイオンポンプ本体からガス放出が起り、圧力が上昇す
るため、この電圧レベルを維持した状態で他の粗引きポ
ンプ（例えばターボ分子ポンプ）を用いて積極的に排気
するこにより、スパッタイオンポンプ素子からの放出ガ
スは排出でき、しかる後、最終設定電圧値まで電圧を印
加することによりセルの汚染は防止され、ポンプはソフ
トに起動され得る。In the method for automatically starting a sputter ion pump according to the second aspect of the present invention, when the starting voltage is applied to the anode of the sputter ion pump, the starting voltage is first applied to a predetermined voltage level lower than a set value, whereby Since gas is released from the main body of the sputter ion pump and the pressure is increased, the sputter ion pump element is actively pumped using another roughing pump (for example, a turbo molecular pump) while maintaining this voltage level. Can be exhausted, after which the cell can be prevented from being contaminated by applying a voltage up to the final set voltage value and the pump can be started softly.
［実施例］ 以下添附図面の第１図〜第４図を参照して本発明の実
施例について説明する。Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4 in the accompanying drawings.
第１図には本発明の一実施例によるスパッタイオンポ
ンプの自動起動方法を示し、スパッタイオンポンプを起
動するに際してまず起動電圧はこの実施例では7.5kVDC
に設定され、これはスパッタイオンポンプ本体の設計に
より決まり、固定であっても可変であってもよい。また
スタートから起動完了状態である運転状態までの起動時
間Ｔはポンプの設置される真空系に応じて選択でき、従
って設定時間は可変である。FIG. 1 shows a method of automatically starting a sputter ion pump according to an embodiment of the present invention. When starting the sputter ion pump, first, the starting voltage is 7.5 kV DC in this embodiment.
, Which is determined by the design of the sputter ion pump body and may be fixed or variable. The start time T from the start to the operation state in which the start is completed can be selected according to the vacuum system in which the pump is installed, and thus the set time is variable.
最初、スパッタイオンポンプのアノードに印加する起
動電圧は設定値7.5kVDCに対して比較的低い値からスタ
ートして徐々に設定値まで増大させながら間欠的に供給
される。すなわち図示したように起動電圧は設定した起
動時間Ｔ内に徐々に増大され、最終的には設定電圧が印
加されるようにしている。Initially, the starting voltage applied to the anode of the sputter ion pump starts at a relatively low value with respect to the set value of 7.5 kV DC and is intermittently supplied while gradually increasing to the set value. That is, as shown in the figure, the starting voltage is gradually increased within the set starting time T, and the set voltage is finally applied.
スパッタイオンポンプのアノードに起動電圧が実際に
印加される時間t1と休止時間t2は次のようにして決めら
れ得る。Time t 1 a rest period t 2 to the anode to start the voltage of the sputter ion pump is actually applied can be determined as follows.
すなわち、 第１図に示すように、印加時間t1と休止時間t2とを固
定して印加電圧の値を起動時間Ｔ内に徐々に増大して最
終的に設定値までもって行く方法； 第２図に示すように、印加時間t1と休止時間t2とから
成る１サイクルの長さを固定し、各サイクルにおいて印
加時間t1を徐々に増加、変調させる方法； 第３図に示すように、各サイクルにおける印加時間t1
と休止時間t2とをスパッタイオンポンプの放電電流値に
応じて可変変調させる方法。That is, as shown in Figure 1, the method bring to final setpoint application time t 1 a rest period t 2 and a fixed value of the applied voltage startup time gradually increases in T a; the as shown in Figure 2, the length of one cycle consisting of application time t 1 a rest period t 2 Metropolitan fixed, gradually increase the application time t 1 in each cycle, the method to modulated; as shown in Figure 3 The application time t 1 in each cycle
The method for varying modulated according the pause time t 2 to the discharge current value of the sputter ion pump and.
次に起動操作中における電源保護機能について説明す
る。Next, the power protection function during the start-up operation will be described.
スタート時から設定時間Ｔが経過してもスパッタイオ
ンポンプのアノードにおける電圧値がインターロック電
圧（本例では設定電圧7.5kVDCに対して例えば6.0kVDCと
する。この値は可変であり、変更するができる。）以上
に達しない時には電源保護機能が働き、スパッタイオン
ポンプのアノードに対する電圧印加は遮断される。Even if the set time T has elapsed from the start, the voltage value at the anode of the sputter ion pump is an interlock voltage (for example, 6.0 kV DC with respect to the set voltage of 7.5 kV DC in this example. This value is variable and can be changed. If not, the power supply protection function is activated and the voltage application to the anode of the sputter ion pump is cut off.
また、例えスタート時から設定時間Ｔ内にスパッタイ
オンポンプのアノードにおける電圧値がインターロック
電圧6.0kVDC以上となっても、出力短絡電流A1（mA）よ
りも低いインターロック設定電流値A2（mA）を越えた状
態で、しかも出力印加電圧がインターロック電圧6.0kV
DC以下に低下すると、直ちに電源保護機能が働き、スパ
ッタイオンポンプのアノードに対する電圧印加は遮断さ
れる。Further, even if the voltage value at the anode of the sputter ion pump becomes 6.0 kV DC or more within the set time T from the start, the interlock set current value A 2 lower than the output short-circuit current A 1 (mA). (MA) and the output applied voltage is 6.0kV interlock voltage.
As soon as the voltage drops below DC , the power supply protection function is activated and the voltage application to the anode of the sputter ion pump is cut off.
このように、スタート時起動電圧を最初に印加する
と、ポンプ素子からのガス放出により圧力上昇が生じ、
特に大気圧開放した直後のポンプを含む真空容器を排気
する場合及びベーキングした直後は、これらの現象が顕
著に現れるが、電圧降下すなわち電圧休止の時間t2中
に、ターボ分子ポンプ等の他の粗引きポンプを作動させ
て積極的に排気することができる。また電圧印加を断続
的にオン、オフすることにより徐々に印加電圧を設定電
圧に移行させることができ、ポンプ電流（出力電流）も
少なくなり、従って大容量電源を用いる必要がなくな
る。In this way, when the start-up start voltage is applied first, the pressure rises due to gas release from the pump element,
In particular, immediately after the case, and baked for exhausting the vacuum container containing the pump immediately after opening the atmospheric pressure, although these phenomena appears remarkably, during the time t 2 of the voltage drop or voltage pauses, other such as a turbo molecular pump The roughing pump can be operated to positively exhaust air. Further, by intermittently turning on and off the voltage application, the applied voltage can be gradually shifted to the set voltage, the pump current (output current) is reduced, and it is not necessary to use a large capacity power supply.
第４図には本発明の別の実施例を示し、スパッタイオ
ンポンプを起動するに際して、まず一次設定電圧（この
実施例では5.5kVDCに設定されるが、可変であってもよ
い）が時間Ａにおいて印加される。そしてそれに続く時
間Ｂの間一次設定電圧レベルが保持される。この時間Ｂ
の間にターボ分子ポンプ等の他の粗引きポンプを用いて
積極的に排気を行い、スパッタイオンポンプ素子からの
放出ガスを排出する。そして時間Ｂの経過後、タイマ機
能または電流値検出機能（一次設定電圧に対して設定電
流値を検出）により二次設定電圧（この実施例では7.5k
VDC）が時間Ｃの間に印加される。これより起動は完了
する。FIG. 4 shows another embodiment of the present invention. When the sputter ion pump is started, first, a primary set voltage (set to 5.5 kV DC in this embodiment, but may be variable) is changed over time. A is applied at A. Then, the primary set voltage level is held for the subsequent time B. This time B
During this time, other roughing pumps such as a turbo-molecular pump are used to actively exhaust gas, thereby discharging gas released from the sputter ion pump element. After the elapse of time B, the timer function or the current value detection function (detects the set current value with respect to the primary set voltage) is used to set the secondary set voltage (7.5 k in this embodiment).
V DC ) is applied during time C. This completes startup.
この場合の起動操作中における電源保護機能も上記の
実施例の場合と同様であり、すなわち、スタート時から
設定時間Ｔが経過してもスパッタイオンポンプのアノー
ドにおける電圧値がインターロック電圧（本例では設定
電圧7.5kVDCに対して例えば6.0kVDCとする。この値は可
変であり、変更するができる。）以上に達しない時には
電源保護機能が働き、スパッタイオンポンプのアノード
に対する電圧印加は遮断される。The power supply protection function during the start-up operation in this case is also the same as that in the above-described embodiment. That is, even if the set time T has elapsed from the start, the voltage value at the anode of the sputter ion pump is the interlock voltage (this example). in the relative example 6.0 kV DC set voltage 7.5 kV DC. this value is variable, working power protection when not reach to can.) above changes, the voltage applied to blockade on the anode of the sputter ion pump Is done.
また、例えスタート時から設定時間Ｔ内にスパッタイ
オンポンプのアノードにおける電圧値がインターロック
電圧6.0kVDC以上となっても、出力短絡電流A1（mA）よ
りも低いインターロック設定電流値A2（mA）を越えた状
態で、しかも出力印加電圧がインターロック電圧6.0kV
DC以下に低下すると、直ちに電源保護機能が働き、スパ
ッタイオンポンプのアノードに対する電圧印加は遮断さ
れる。Further, even if the voltage value at the anode of the sputter ion pump becomes 6.0 kV DC or more within the set time T from the start, the interlock set current value A 2 lower than the output short-circuit current A 1 (mA). (MA) and the output applied voltage is 6.0kV interlock voltage.
As soon as the voltage drops below DC , the power supply protection function is activated and the voltage application to the anode of the sputter ion pump is cut off.
このように、スタート時一次起動電圧を印加すると、
ポンプ素子からのガス放出により圧力上昇が生じ、特に
大気圧開放した直後のポンプを含む真空容器を排気する
場合及びベーキングした直後は、これらの現象が顕著に
現れるが、一次起動電圧を維持している時間Ｂ中に、タ
ーボ分子ポンプ等の他の粗引きポンプを作動させて積極
的に排気することができる。また電圧印加を二段階に別
けて徐々に印加電圧を設定電圧に移行させることによ
り、ポンプ電流（出力電流）も少なくなり、従って大容
量電源を用いる必要がなくなる。Thus, when the primary starting voltage is applied at the start,
The pressure rises due to gas release from the pump element, and particularly when the vacuum vessel including the pump is evacuated immediately after the atmospheric pressure is released and immediately after baking, these phenomena appear remarkably, but the primary starting voltage is maintained. During the time B, other roughing pumps such as a turbo-molecular pump can be operated to positively exhaust air. Further, by gradually shifting the applied voltage to the set voltage by dividing the voltage application into two stages, the pump current (output current) is also reduced, so that it is not necessary to use a large capacity power supply.
ところで、この実施例においては、一次起動電圧二次
設定電圧の各々に対して電源保護機能が働くようにする
こともできる。By the way, in this embodiment, the power supply protection function can be operated for each of the primary starting voltage and the secondary setting voltage.
［発明の効果］ 以上説明してきたように、本発明の第１の発明による
スパッタイオンポンプの自動起動方法においては、スパ
ッタイオンポンプのアノードに断続的に電圧を徐々に設
定電圧まで増大させながら印加することにより、ポンプ
素子からのガス放出等による汚染を最少限度に抑制で
き、スパッタイオンポンプ本体の寿命を伸ばし、到達圧
力を低下させることができる。[Effect of the Invention] As described above, in the method for automatically starting the sputter ion pump according to the first invention of the present invention, the voltage is intermittently applied to the anode of the sputter ion pump while gradually increasing the voltage to the set voltage. By doing so, contamination due to gas release from the pump element or the like can be suppressed to the minimum, the life of the sputter ion pump body can be extended, and the ultimate pressure can be reduced.
また本発明の第２の発明においては、スパッタイオン
ポンプのアノードに設定起動電圧より低い一次設定電圧
をまず印加し、その状態を維持しながら排気操作を行
い、その後二次すなわち最終設定起動電圧まで印加して
起動させるので、第１の発明と同様にスパッタイオンポ
ンプ素子からのガス放出等による汚染を最少限度に抑制
でき、スパッタイオンポンプ本体の寿命を伸ばし、到達
圧力を低下させることができる。Further, in the second invention of the present invention, a primary set voltage lower than the set start voltage is first applied to the anode of the sputter ion pump, an exhaust operation is performed while maintaining the state, and then the secondary, that is, the final set start voltage is reached. Since the voltage is applied and activated, the contamination due to the release of gas from the sputter ion pump element can be suppressed to the minimum similarly to the first invention, the service life of the sputter ion pump body can be extended, and the ultimate pressure can be reduced.
さらに、本発明の第１、第２の発明によれば、起動を
高真空以下の圧力領域から行うことにより、出力短絡電
流を低く設計でき、その結果電源の小型化が促進され得
る。Furthermore, according to the first and second aspects of the present invention, the starting is performed from a pressure region of a high vacuum or less, so that the output short-circuit current can be designed to be low, and as a result, the power supply can be reduced in size.
第１図〜第３図は本発明の一実施例によるスパッタイオ
ンポンプの自動起動方法の種々の例を示す起動電圧特性
図、第４図は本発明の別の実施例によるスパッタイオン
ポンプの自動起動方法を示す起動電圧特性図、第５図は
従来の起動方法の一例を示す起動電圧特性図である。FIGS. 1 to 3 are startup voltage characteristic diagrams showing various examples of a method for automatically starting a sputter ion pump according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is an automatic sputter ion pump according to another embodiment of the present invention. FIG. 5 is a starting voltage characteristic diagram showing an example of a conventional starting method.
Claims (5)
高真空領域で運転するスパッタイオンポンプの自動起動
方法において、スパッタイオンポンプ起動命令信号に応
じて電源回路から起動すべきスパッタイオンポンプの起
動時に、スパッタイオンポンプのアノードに起動電圧を
徐々に設定電圧まで増加させながら間欠的に印加して起
動することを特徴とするスパッタイオンポンプの自動起
動方法。In a method for automatically starting a sputter ion pump operating in a high vacuum, ultra-high vacuum, or ultra-high vacuum region of 10 -2 to 10 -4 Pa or less, a power supply circuit responds to a sputter ion pump start command signal. A method for automatically starting a sputter ion pump, comprising: intermittently applying a start voltage to an anode of the sputter ion pump while gradually increasing the start voltage to a set voltage, when starting the sputter ion pump to be started.
ンプのアノードへの起動電圧の各間欠的印加時間と各間
欠的休止時間とが一定である請求項１に記載のスパッタ
イオンポンプの自動起動方法。2. The method for automatically starting a sputter ion pump according to claim 1, wherein each intermittent application time of the start voltage to the anode of the sputter ion pump and each intermittent pause time during the start energizing time are constant.
ンプのアノードへの起動電圧の各間欠的印加時間と各間
欠的休止時間とが、スパッタイオンポンプのアノードに
おける電流値に応じて可変にされる請求項１に記載のス
パッタイオンポンプの自動起動方法。3. An intermittent application time and an intermittent pause time of a start-up voltage to the anode of the sputter ion pump during the start-up energizing time are varied according to a current value at the anode of the sputter ion pump. Item 1. The method for automatically starting a sputter ion pump according to Item 1.
ンプのアノードへの起動電圧の各印加時間とそれに続く
各休止時間とから成る起動サイクルの各々の長さが一定
であり、各起動サイクルにおける印加時間を徐々に長く
し休止時間を徐々に短くする請求項１に記載のスパッタ
イオンポンプの自動起動方法。4. A method according to claim 1, wherein the duration of each start cycle consisting of each application time of the start voltage to the anode of the sputter ion pump during the start energization time and each subsequent rest time is constant, and the application time in each start cycle is constant. 2. The method for automatically starting a sputter ion pump according to claim 1, wherein the time is gradually increased and the pause time is gradually reduced.
高真空領域で運転するスパッタイオンポンプの自動起動
方法において、予め設定した起動通電時間内に、スパッ
タイオンポンプ起動命令信号に応じて電源回路から起動
すべきスパッタイオンポンプのアノードへ設定起動電圧
値より低い電圧レベルまで起動電圧を印加し、その電圧
レベルを維持した状態でスパッタイオンポンプ素子から
の放出ガスを排気し、その後、設定起動電圧値まで起動
すべきスパッタイオンポンプのアノードへ起動電圧を印
加することを特徴とするスパッタイオンポンプの自動起
動方法。5. A method for automatically starting a sputter ion pump operating in a high vacuum, ultra-high vacuum, or ultra-high vacuum region of 10 -2 to 10 -4 Pa or less, the method comprising: In response to the start command signal, a start voltage is applied from the power supply circuit to the anode of the sputter ion pump to be started up to a voltage level lower than the set start voltage value, and the gas released from the sputter ion pump element is maintained while maintaining the voltage level. A method for automatically starting a sputter ion pump, comprising evacuating and then applying a starting voltage to an anode of a sputter ion pump to be started up to a set starting voltage value.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2110428A JP2972277B2 (en) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | How to automatically start a sputum ion pump |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2110428A JP2972277B2 (en) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | How to automatically start a sputum ion pump |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0410347A JPH0410347A (en) | 1992-01-14 |
| JP2972277B2 true JP2972277B2 (en) | 1999-11-08 |
Family
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