JP2968996B2 - X-ray focusing device - Google Patents
X-ray focusing deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜の結晶性評価等に好ましく用いられるX
線集光装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to X which is preferably used for evaluating the crystallinity of a thin film and the like.
The present invention relates to a line condensing device.
〔従来の技術〕 今日、基板上に薄膜単結晶層(エピタキシャル成長も
含む)を設けたデバイスが激増している。また、基板上
の薄膜層の配向制御やレーザーアニールなどによる単結
晶化も盛んである。また、MBE法やMOCVD法による単結晶
薄膜のヘテロエピタキシー技術も開発されている。した
がって、これらの基板上に形成された薄膜の結晶性評価
は重要である。[Prior Art] Today, devices provided with a thin film single crystal layer (including epitaxial growth) on a substrate are increasing dramatically. Also, single crystallization by controlling the orientation of a thin film layer on a substrate, laser annealing, and the like has been active. Heteroepitaxy technology for single crystal thin films by MBE or MOCVD has also been developed. Therefore, it is important to evaluate the crystallinity of thin films formed on these substrates.
一方、単結晶の格子定数の精密測定にはボンド法が用
いられる。ボンド法とは、単結晶試料を一本の入射X線
光束に対して対称な配置間を移動させ、回折強度が最大
になる配置間の角度の差から精密な格子定数を決定しよ
うとする測定法である。また、単結晶のX線回折測定
は、4軸自動回折計、プレセッションカメラ、ワイセン
ベルクカメラなどで行われていることは公知である。上
記のような単結晶測定法はすべて、1本の入射X線光束
を用いて行われている。On the other hand, a bond method is used for precise measurement of the lattice constant of a single crystal. The bond method is a measurement in which a single crystal sample is moved between symmetric arrangements with respect to one incident X-ray beam, and a precise lattice constant is determined from the angle difference between the arrangements at which the diffraction intensity is maximized. Is the law. It is known that X-ray diffraction measurement of a single crystal is performed by a four-axis automatic diffractometer, a precession camera, a Weissenberg camera, or the like. All of the above single crystal measurement methods are performed using one incident X-ray beam.
しかしながら、基板上の単結晶層のX線回折では基板
側へ回折されるX線は計測することができず、単結晶層
側の空間のみの計測に限られる。従って、基板上の単結
晶のX線回折では、測定すべき単結晶層表面を回転の中
心に位置させる必要があるが、従来用いられている1本
の入射X線ビームを用いた方法では現実には困難であっ
た。However, X-ray diffraction of a single crystal layer on a substrate cannot measure X-rays diffracted toward the substrate, and is limited to measurement of only the space on the single crystal layer side. Therefore, in the X-ray diffraction of a single crystal on a substrate, the surface of the single crystal layer to be measured needs to be positioned at the center of rotation, but the method using a single incident X-ray beam conventionally used is not practical. Was difficult.
本発明は、このような従来技術の実情に鑑みなされた
もので、従来不可能であった2波長でのX線回折の同時
測定を実現しうるX線集光装置を提供することを目的と
する。An object of the present invention is to provide an X-ray condensing apparatus capable of realizing simultaneous measurement of X-ray diffraction at two wavelengths, which has been impossible in the related art, in view of the situation of the related art. I do.
上記目的を達成するため、本発明によれば、X線を発
生する1つの点光源と、該点光源の周囲を移動可能に設
けられた2つのX線取り出し窓と、各X線取り出し窓か
ら射出されたX線光束をそれぞれブラッグ反射させ1点
に結像させる2つの結晶モノクロメータとを備え、一方
の結晶モノクロメータが点光源と焦点とを両端とする弧
上を移動可能であり、かつもう一方の結晶モノクロメー
タが点光源と焦点とを両端とし前記弧とは反対称の弧上
を移動可能であることを特徴とするX線集光装置が提供
される。To achieve the above object, according to the present invention, one point light source for generating X-rays, two X-ray extraction windows movably provided around the point light source, and each X-ray extraction window And two crystal monochromators for Bragg-reflecting each of the emitted X-ray luminous fluxes to form an image at one point, wherein one of the crystal monochromators is movable on an arc having both ends of a point light source and a focal point, and An X-ray condensing apparatus is provided, wherein the other crystal monochromator has a point light source and a focal point at both ends and is movable on an arc that is antisymmetric with the arc.
本発明では、2つの結晶モノクロメータが特定の配置
となっているため、一方のX線取り出し窓から射出され
たX線光束はこれと対応する結晶モノクロメータにより
ブラッグ反射され、所望の1点に結像し、またもう一方
のX線取り出し窓から射出されたX線光束もこれと対応
する結晶モノクロメータによりブラッグ反射され、上記
点に結像する。したがって、同一波長の交叉角可変の2
つのX線光束が常に1点に集光できるようになる。In the present invention, since the two crystal monochromators are arranged in a specific manner, the X-ray luminous flux emitted from one of the X-ray extraction windows is Bragg-reflected by the corresponding crystal monochromator, and becomes a desired point. An X-ray beam emitted from the other X-ray extraction window, which forms an image, is also Bragg-reflected by the corresponding crystal monochromator and forms an image at the above point. Therefore, the variable crossover angle of the same wavelength 2
One X-ray beam can always be focused on one point.
以下本発明を実施例により詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.
第1図は本発明による2光束集光装置の概念図であ
る。X線を発生する点光源Fの周囲には、周上を移動可
能に設けられた2つのX線取り出し窓であるスリット
S1、S2が設けられ、このスリットS1、S2より射出された
X線光束はそれぞれ結晶モノクロメータM1、M2により、
ブラッグ反射され、スリットS′1、S′2を通り、1
点Pに結像するようになっている。モノクロメータM1、
M2には例えばSi単結晶(111)面を利用することができ
るが、これに限定されない。モノクロメータM1、M2は所
定の軌跡上を移動可能であるが、これについて第2図を
参照しながら詳述する。FIG. 1 is a conceptual diagram of a two-beam condensing device according to the present invention. Slits, which are two X-ray extraction windows provided movably on the circumference, around a point light source F that generates X-rays
S 1 and S 2 are provided, and the X-ray luminous flux emitted from the slits S 1 and S 2 is respectively converted by crystal monochromators M 1 and M 2 .
It is reflected by Bragg and passes through slits S ′ 1 and S ′ 2 ,
An image is formed at a point P. Monochromator M 1 ,
For example, a Si single crystal (111) plane can be used for M 2, but is not limited thereto. The monochromators M 1 and M 2 can move on a predetermined locus, which will be described in detail with reference to FIG.
第2図に示すように、点光源F、焦点(結像点)Pを
両端とする弧(円0の一部)上にモノクロメータMのX
線光束の当たる点M0が位置するようにモノクロメータM
が配置される。円周角∠PM0Fはπ−2θで、M0がこの弧
上を移動する限り同じ値を保つことになる。そこで入射
X線FM0に対するモノクロメータMの角度∠M′M0F
(M′、M″はモノクロメータMの両端点)がθとなる
ようにすれば、ブラッグ条件2dsin=λ(d:モノクロメ
ータの定数、λ:ブラッグ条件を満たす波長)を満たす
X線光束がモノクロメータMのM0点よりPの方向に射出
される。これは第1図のモノクロメータM1に相当するも
のであるが、第1図のモノクロメータM2も同様な反対称
配置とすることでブラッグ条件を満たすX線光束がモノ
クロメータM2よりPの方向に射出される。こうして第1
図の装置によれば、常に2本のX線光束がP点に集光す
るようになる。As shown in FIG. 2, X of the monochromator M is placed on an arc (a part of the circle 0) having both ends of the point light source F and the focal point (imaging point) P.
Monochromator M such that M 0 points exposed to linear light beam is located
Is arranged. The circumferential angle ∠PM 0 F is π−2θ, and the same value is maintained as long as M 0 moves on this arc. Therefore, the angle of the monochromator M with respect to the incident X-ray FM 0 ∠M′M 0 F
(M ′ and M ″ are both end points of the monochromator M) are set to θ, the X-ray luminous flux satisfying the Bragg condition 2dsin = λ (d: constant of the monochromator, λ: wavelength satisfying the Bragg condition) is obtained. It is emitted in the direction of P than M 0 point of the monochromator M. Although this is equivalent to a monochromator M 1 of FIG. 1, a monochromator M 2 of FIG. 1 is also a similar anti-symmetric arrangement satisfies Bragg condition X-ray beam is emitted from the monochromator M 2 in the direction of P by. thus first
According to the apparatus shown in the figure, two X-ray beams always converge on point P.
また、上記装置において円0の半径M0Oの長さを変え
ることにより、円周角∠PM0Fの大きさが変化するので、
ブラッグ条件を満たす波長を連続的に変化させることも
可能である。これを利用すると、従来不可能であった2
波長でのX線回折の同時測定が実現できる。Also, by changing the length of the radius M 0 O of the circle 0 in the above device, the magnitude of the circumferential angle ∠PM 0 F changes,
It is also possible to continuously change the wavelength satisfying the Bragg condition. If this is used, it was impossible 2
Simultaneous measurement of X-ray diffraction at wavelength can be realized.
本発明によれば前記構成としたので、同一波長の交叉
角可変の2つのX線光束を1点Pに集光する装置を提供
することができる。また、P点に単結晶層の表面を配置
するは、それぞれの光束での対称反射位置の測定により
正確に実施できるようになる。According to the present invention, because of the above-described configuration, it is possible to provide an apparatus that condenses two X-ray luminous fluxes having the same wavelength and a variable crossing angle on one point P. In addition, the arrangement of the surface of the single crystal layer at the point P can be accurately performed by measuring the symmetric reflection positions of the respective light beams.
また、本集光装置では、単結晶をP点に固定したまま
でX線光束の交叉角度を連続的に変化させることにより
X線回折を測定することができる。Further, in the present light concentrator, X-ray diffraction can be measured by continuously changing the crossing angle of the X-ray light beam while the single crystal is fixed at the point P.
また、モノクロメータの移動円の半径を変えるかモノ
クロメータの定数dを変えることにより、波長の異なる
2本のX線光束を1点で交叉させる集光系も作ることが
可能である。もちろんこの場合は光源からはそれらの波
長のX線(連続X線または特性X線)が放射されている
必要がある。Further, by changing the radius of the moving circle of the monochromator or changing the constant d of the monochromator, it is also possible to make a condensing system that crosses two X-ray beams having different wavelengths at one point. Of course, in this case, the light source needs to emit X-rays of these wavelengths (continuous X-rays or characteristic X-rays).
さらに、波長の異なる2本のX線光束の集光系は、異
常分散の測定などに利用でき、2度の測定を1度に短縮
できる利点がある。Furthermore, a light-condensing system for two X-ray beams having different wavelengths can be used for measurement of anomalous dispersion, and has an advantage that two measurements can be reduced to one.
第1図は本発明による2光束集光装置の概念図、第2図
は本発明に用いるモノクロメータの移動軌線の説明図で
ある。 F……X線点光源 S1、S2、S′1、S′2……スリット M1、M2……結晶モノクロメータ P……焦点FIG. 1 is a conceptual diagram of a two-beam condensing device according to the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram of a moving trajectory of a monochromator used in the present invention. F ...... X-ray point source S 1, S 2, S ' 1, S' 2 ...... slits M 1, M 2 ...... crystal monochromator P ...... focal
Claims (1)
の周囲を移動可能に設けられた2つのX線取り出し窓
と、各X線取り出し窓から射出されたX線光束をそれぞ
れブラッグ反射させ1点に結像させる2つの結晶モノク
ロメータとを備え、一方の結晶モノクロメータが点光源
と焦点とを両端とする弧上を移動可能であり、かつもう
一方の結晶モノクロメータが点光源と焦点とを両端とし
前記弧とは反対称の弧上を移動可能であることを特徴と
するX線集光装置。1. A point light source for generating X-rays, two X-ray extraction windows movably provided around the point light source, and an X-ray beam emitted from each X-ray extraction window. Two crystal monochromators for Bragg reflection to form an image at one point, one crystal monochromator being movable on an arc having both ends of a point light source and a focal point, and the other crystal monochromator being a point monochromator. An X-ray focusing apparatus comprising a light source and a focal point at both ends and movable on an arc that is antisymmetric with respect to the arc.
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
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JPH04204298A JPH04204298A (en) | 1992-07-24 |
JP2968996B2 true JP2968996B2 (en) | 1999-11-02 |
Family
ID=18306836
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JP2337248A Expired - Fee Related JP2968996B2 (en) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | X-ray focusing device |
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Families Citing this family (3)
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---|---|---|---|---|
US6014423A (en) * | 1998-02-19 | 2000-01-11 | Osmic, Inc. | Multiple corner Kirkpatrick-Baez beam conditioning optic assembly |
US6041099A (en) * | 1998-02-19 | 2000-03-21 | Osmic, Inc. | Single corner kirkpatrick-baez beam conditioning optic assembly |
DE10236640B4 (en) * | 2002-08-09 | 2004-09-16 | Siemens Ag | Device and method for generating monochromatic X-rays |
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1990
- 1990-11-30 JP JP2337248A patent/JP2968996B2/en not_active Expired - Fee Related
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