JP2964106B2 - Transfer material and its manufacturing method - Google Patents
Transfer material and its manufacturing methodInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、低コストで、生産効率
のよく蛍光表示管を製造できる転写材とその製造方法に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer material capable of producing a fluorescent display tube at low cost and with good production efficiency, and a method for producing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】蛍光表示管は、図１２に示すようにガラ
ス板などからなる絶縁性と耐熱性とを有する基板１１上
に表示部１３などが形成された蛍光表示管基板２２と、
これと対向して位置するガラス板などからなる透光性の
前面板１６と、側面部を形成する側面板１７を有し、低
融点フリットやガラスなどの封着材を介して真空容器１
８を構成している。真空容器１８内には、支持体を介し
てタングステン線などのカソード電極１４が架け渡され
ている。カソード電極１４は、通電加熱することにより
電子を放出するものである。また、上記蛍光表示管基板
２２は、基板１１上にリード１９や配線２０などの導体
ならびに絶縁被膜２１が形成され、その上に表示パター
ンに応じて黒鉛などのアノード電極１０ならび蛍光体層
７が表示部１３として形成されている。また、カソード
電極１４とアノード電極１０の中間にグリッド電極１５
が設置されている。2. Description of the Related Art As shown in FIG. 12, a fluorescent display tube includes a fluorescent display tube substrate 22 having a display section 13 and the like formed on an insulating and heat-resistant substrate 11 made of a glass plate or the like.
The vacuum vessel 1 has a light-transmitting front plate 16 made of a glass plate or the like and a side plate 17 forming a side portion, and is provided with a sealing material such as a low melting point frit or glass.
8. In the vacuum vessel 18, a cathode electrode 14 such as a tungsten wire is bridged through a support. The cathode electrode 14 emits electrons when heated by electricity. The fluorescent display tube substrate 22 has conductors such as leads 19 and wirings 20 and an insulating film 21 formed on the substrate 11, on which the anode electrode 10 such as graphite and the phosphor layer 7 are formed in accordance with the display pattern. The display unit 13 is formed. A grid electrode 15 is provided between the cathode electrode 14 and the anode electrode 10.
Is installed.
【０００３】以上のような構成の蛍光表示管は、カソー
ド電極１４から放出された電子を、グリッド電極１５な
らびにアノード電極１０とで選択・制御して蛍光体層７
に選択的に射突させて所望の発光表示を得るものであ
る。In the fluorescent display tube having the above-described structure, electrons emitted from the cathode electrode 14 are selected and controlled by the grid electrode 15 and the anode electrode 10 to control the phosphor layer 7.
To obtain a desired light-emitting display.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の蛍光表
示管の製造方法において、グリッド電極１５はステンレ
スなどの金属薄板を一個または数個単位でエッチング加
工して形成していた。また、グリッド電極１５は、カソ
ード電極１４とアノード電極１０の中間に設置するため
の整形も必要であった。さらに大きなグリッド電極１５
は重さで中央部分がたわみ、蛍光体層７やアノード電極
１０との間隙を保つのが困難であった。したがって、従
来の蛍光表示管の製造方法は、生産効率がわるく、コス
トがかかっていた。However, in the above-described method for manufacturing a fluorescent display tube, the grid electrode 15 is formed by etching one or several thin metal plates such as stainless steel. Further, the grid electrode 15 also needs to be shaped so as to be installed between the cathode electrode 14 and the anode electrode 10. Larger grid electrode 15
The central portion of the substrate was bent by its weight, and it was difficult to maintain the gap between the phosphor layer 7 and the anode electrode 10. Therefore, the conventional method of manufacturing a fluorescent display tube has low production efficiency and costs.
【０００５】本発明は、以上のような問題点を解決し、
蛍光表示管基板２２上に転写・焼成することにより低コ
ストで生産効率のよく蛍光表示管を製造することのでき
る転写材とその製造方法を提供することを目的とする。[0005] The present invention solves the above problems,
It is an object of the present invention to provide a transfer material capable of manufacturing a fluorescent display tube at low cost and with high production efficiency by transferring and firing the fluorescent display tube substrate 22, and a method of manufacturing the same.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の転写材は、ベースフィルム上に、多数の
開口部を有するグリッド電極層が形成され、その上に開
口部を有し、かつグリッド電極層表面を覆う絶縁層が形
成され、さらに絶縁層を少なくとも覆うように接着剤層
が形成されているように構成した。In order to achieve the above object, the transfer material of the present invention has a grid electrode layer having a large number of openings formed on a base film, and has a plurality of openings formed thereon. In addition, an insulating layer covering the surface of the grid electrode layer is formed, and an adhesive layer is formed so as to cover at least the insulating layer.
【０００７】また、本発明の転写材の製造方法は、ベー
スフィルム上に金属層を形成し、その上に多数の開口部
を有するレジスト層を形成した後、金属層をエッチング
により開口させてグリッド電極層とし、レジスト層を除
去した後、その上にグリッド電極層表面が露出しないよ
うな開口部を有する絶縁層を形成し、さらに絶縁層を少
なくとも覆うように接着剤層を形成するように構成し
た。In the method of manufacturing a transfer material according to the present invention, a grid is formed by forming a metal layer on a base film, forming a resist layer having a large number of openings thereon, and then opening the metal layer by etching. After forming the electrode layer and removing the resist layer, an insulating layer having an opening so that the grid electrode layer surface is not exposed is formed thereon, and further, an adhesive layer is formed so as to cover at least the insulating layer. did.
【０００８】また、本発明の転写材の製造方法は、ベー
スフィルム上に金属層を形成し、その上に多数の開口部
を有する絶縁層を形成した後、絶縁層をレジストとして
金属層をエッチングより開口させて絶縁層と完全に見当
の一致するパターンのグリッド電極層とし、さらに絶縁
層を少なくとも覆うように接着剤層を形成するように構
成した。In the method of manufacturing a transfer material according to the present invention, a metal layer is formed on a base film, an insulating layer having a large number of openings is formed thereon, and then the metal layer is etched using the insulating layer as a resist. A grid electrode layer having a pattern completely in register with the insulating layer was formed by further opening, and an adhesive layer was formed so as to cover at least the insulating layer.
【０００９】以下、図を参照しながら本発明をさらに詳
しく説明する。図１は本発明の転写材の一実施例を示す
断面図、図２は本発明の転写材の他の実施例を示す断面
図、図３〜４は図１の転写材の製造方法を示す断面図、
図５〜７は図２の転写材の製造方法を示す断面図、図８
〜９は図１の転写材を用いた蛍光表示管の製造方法を示
す断面図、図１０〜１１は図２の転写材を用いた蛍光表
示管の製造方法を示す断面図である。Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of the transfer material of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing another embodiment of the transfer material of the present invention, and FIGS. 3 and 4 show a method of manufacturing the transfer material of FIG. Sectional view,
5 to 7 are sectional views showing a method for manufacturing the transfer material of FIG.
9 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a fluorescent display tube using the transfer material of FIG. 1, and FIGS. 10 to 11 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a fluorescent display tube using the transfer material of FIG.
【００１０】１はベースフィルム、２は剥離層、３はグ
リッド電極層、４はレジスト層、５は絶縁層、６は接着
剤層、７は蛍光体層、８は金属層、９はエッチング液、
１０はアノード電極、１１は基板、１２は開口部、２２
は蛍光表示管基板をそれぞれ示す。1 is a base film, 2 is a release layer, 3 is a grid electrode layer, 4 is a resist layer, 5 is an insulating layer, 6 is an adhesive layer, 7 is a phosphor layer, 8 is a metal layer, and 9 is an etchant. ,
10 is an anode electrode, 11 is a substrate, 12 is an opening, 22
Indicates a fluorescent display tube substrate.
【００１１】ベースフィルム１は、ポリエステル・ポリ
プロピレン・ポリエチレン・ポリイミド・ナイロン・セ
ロハンなどのプラスチックフィルム、あるいはこれらと
紙の複合フィルム、ワックスコート紙など通常の転写材
のベースフィルムとして用いられるものを使用する。ベ
ースフィルム１には、転写後にベースフィルム１を剥離
しやすいように離型処理が施されていてもよい。たとえ
ばベースフィルム１上にベースフィルム１と剥離可能な
剥離層２を形成する。剥離層２の材料としては、揮散性
のよいアクリル樹脂などの熱可塑性樹脂や天然ゴム・合
成ゴムなどを用いる。剥離層２の形成方法としては、グ
ラビア印刷法・スクリーン印刷法などの印刷法、ロール
コート法などのコート法などがある。また、ベースフィ
ルム１上にワックス層を形成して離型性を強めてもよ
い。As the base film 1, a plastic film such as polyester, polypropylene, polyethylene, polyimide, nylon or cellophane, or a film used as a base film of a normal transfer material such as a composite film of these and paper, wax-coated paper, etc. is used. . The base film 1 may be subjected to a release treatment so that the base film 1 can be easily peeled off after the transfer. For example, a release layer 2 that can be peeled off from the base film 1 is formed on the base film 1. As a material of the release layer 2, a thermoplastic resin such as an acrylic resin having good volatility, natural rubber, synthetic rubber, or the like is used. Examples of a method for forming the release layer 2 include a printing method such as a gravure printing method and a screen printing method, and a coating method such as a roll coating method. Further, a wax layer may be formed on the base film 1 to enhance the releasability.
【００１２】ベースフィルム１上に、多数の開口部１２
を有するグリッド電極層３が形成され、その上に開口部
１２を有し、かつグリッド電極層３表面を覆う絶縁層５
が形成される。形成しようとする絶縁層５の開口パター
ンがグリッド電極層３と同一である場合、絶縁層５を通
常の印刷法でグリッド電極層３上に形成する際にわずか
に見当ズレが起こることがある。見当ズレにより絶縁層
５の開口部１２でグリッド電極層３表面が露出している
と、転写時にグリッド電極層３が蛍光体層７と接触して
絶縁が保てなくなり、電子の制御ができなくなる。On the base film 1, a large number of openings 12 are provided.
A grid electrode layer 3 having an opening 12 and covering the surface of the grid electrode layer 3
Is formed. When the opening pattern of the insulating layer 5 to be formed is the same as that of the grid electrode layer 3, a slight misregistration may occur when the insulating layer 5 is formed on the grid electrode layer 3 by a normal printing method. If the surface of the grid electrode layer 3 is exposed at the opening 12 of the insulating layer 5 due to misregistration, the grid electrode layer 3 comes into contact with the phosphor layer 7 during transfer and insulation cannot be maintained, and electrons cannot be controlled. .
【００１３】グリッド電極層３と蛍光体層７との絶縁を
保つように絶縁層５を形成する方法として、ベースフィ
ルム１上に金属層８を形成し、その上に多数の開口部１
２を有する絶縁層５を形成した後、絶縁層５をレジスト
として金属層８をエッチングより開口させて絶縁層５と
完全に見当の一致するパターンのグリッド電極層３とす
る方法（図３、図４参照）、あるいは、ベースフィルム
１上に金属層８を形成し、その上に多数の開口部１２を
有するレジスト層４を形成した後、金属層８をエッチン
グにより開口させてグリッド電極層３とし、レジスト層
４を除去した後、その上にグリッド電極層表面が露出し
ないような開口部１２を有する絶縁層を形成する方法
（図５〜７参照）などがある。As a method of forming the insulating layer 5 so as to maintain insulation between the grid electrode layer 3 and the phosphor layer 7, a metal layer 8 is formed on the base film 1, and a large number of openings 1 are formed thereon.
After the formation of the insulating layer 5 having the insulating layer 5, the metal layer 8 is opened by etching using the insulating layer 5 as a resist to form the grid electrode layer 3 having a pattern completely coincident with the register of the insulating layer 5 (FIGS. 3 and 3). 4) Alternatively, after forming a metal layer 8 on the base film 1 and forming a resist layer 4 having a large number of openings 12 thereon, the metal layer 8 is opened by etching to form the grid electrode layer 3. After the resist layer 4 is removed, there is a method of forming an insulating layer having an opening 12 thereon so that the surface of the grid electrode layer is not exposed (see FIGS. 5 to 7).
【００１４】金属層８は、アルミニウム・ニッケル・ク
ロムなどの金属蒸着膜あるいは金属箔を用いるAs the metal layer 8, a metal vapor-deposited film of aluminum, nickel, chromium or the like or a metal foil is used.
【００１５】レジスト層４は、スクリーン印刷、グラビ
ア印刷などの通常の印刷法により形成する。または、多
数の開口部１２を有するポリエチレンテレフタレートな
どのフィルムをラミネートして形成する。The resist layer 4 is formed by a normal printing method such as screen printing and gravure printing. Alternatively, it is formed by laminating a film such as polyethylene terephthalate having many openings 12.
【００１６】絶縁層５は、スクリーン印刷、グラビア印
刷などの通常の印刷法により形成され、転写後にアノー
ド電極１０および蛍光体層７とグリッド電極層３とが接
触することを防ぐ。また、焼成後は基板１１への固着の
役割を果たす。絶縁層５としては、SiO2・B2O3・Al2O3
・PbO・ZnOなどの絶縁性を有する無機材料を組み合せて
用いる。The insulating layer 5 is formed by a normal printing method such as screen printing or gravure printing, and prevents the anode electrode 10 and the phosphor layer 7 from coming into contact with the grid electrode layer 3 after transfer. Further, after firing, it plays a role of fixing to the substrate 11. As the insulating layer 5, SiO 2 · B 2 O 3 · Al 2 O 3
・ Use in combination with inorganic materials having insulating properties such as PbO and ZnO.
【００１７】また、絶縁層５がレジスト層を兼ねる場合
は、とくにバインダー樹脂としてエッチングに耐性のあ
るものを用いる。エッチングの方法としては、塩化第二
鉄、水酸化ナトリウム、塩酸、硫酸、フッ酸などの溶液
などから金属層８の材料に応じて選択したエッチング液
を用いて行う。たとえば、金属層８をエッチングしたも
のには、アルミニウム蒸着膜やアルミニウム箔をや水酸
化ナトリウムまたは塩酸によりエッチングしたものがあ
る。When the insulating layer 5 also serves as a resist layer, a binder resin having resistance to etching is used. As an etching method, an etching solution selected from a solution of ferric chloride, sodium hydroxide, hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid or the like according to the material of the metal layer 8 is used. For example, the metal layer 8 may be etched by etching an aluminum vapor-deposited film or aluminum foil with sodium hydroxide or hydrochloric acid.
【００１８】また、グリッド導電層３および絶縁層５の
上記開口部１２の形状としては、メッシュ状あるいはス
リット状などがある。The shape of the opening 12 in the grid conductive layer 3 and the insulating layer 5 is a mesh shape or a slit shape.
【００１９】転写材の最上層には接着剤層６が形成され
ている。接着剤層６としては、剥離層２と同様に揮散性
のよいものが用いられ、ガラスなどの基板１１に接着性
のよいアクリル樹脂・ポリアミド樹脂などの感熱、感圧
性の接着剤層６を用いる。また、接着剤層６は、グラビ
ア印刷法・スクリーン印刷法などの印刷法、ロールコー
ト法などのコート法などにより形成されている。An adhesive layer 6 is formed on the uppermost layer of the transfer material. As the adhesive layer 6, a material having good volatility like the release layer 2 is used, and a heat-sensitive and pressure-sensitive adhesive layer 6 such as an acrylic resin or a polyamide resin having good adhesiveness to the substrate 11 such as glass is used. . The adhesive layer 6 is formed by a printing method such as a gravure printing method or a screen printing method, or a coating method such as a roll coating method.
【００２０】[0020]
実施例１ 厚さ25μmのポリエステルフィルムをベースフィルム１
とし、その上に溶液状のアクリル酸エステル共重合体を
グラビアコーターにて１μmの厚さに全面に設けて剥離
層２とし、その上に金属層８としてアルミニウム蒸着層
を70nmの厚みに施し、その上にSiO2を主成分とする絶縁
インキを用いスクリーン印刷法にて求めるグリッド電極
層３と同一のパターンを有する絶縁層５を形成した後、
水酸化ナトリウム溶液にて金属層８をエッチングしてグ
リッド電極層３の開口部１２のアルミニウム蒸着膜を取
り除き、さらにその上に接着剤層６としてアクリル樹脂
を主成分とする接着剤をグラビアコーターにて1μmの厚
さに全面に設けて転写材を得た（図１参照）。Example 1 A polyester film having a thickness of 25 μm was used as a base film 1
Then, a solution-type acrylate copolymer was provided on the entire surface by a gravure coater to a thickness of 1 μm on the entire surface to form a release layer 2, and an aluminum vapor-deposited layer was formed thereon as a metal layer 8 to a thickness of 70 nm. After forming an insulating layer 5 having the same pattern as the grid electrode layer 3 obtained by a screen printing method using an insulating ink containing SiO 2 as a main component,
The metal layer 8 is etched with a sodium hydroxide solution to remove the aluminum vapor-deposited film on the opening 12 of the grid electrode layer 3, and an adhesive mainly composed of an acrylic resin is further applied thereon as an adhesive layer 6 to a gravure coater. Then, a transfer material was obtained by providing the entire surface to a thickness of 1 μm (see FIG. 1).
【００２１】以上のような転写材を蛍光表示管基板２２
上に重ね合わせて転写・焼成し、グリッド電極層３を絶
縁層５を介して形成ところ、低コストで生産効率よく蛍
光表示管を得ることができた。（図８、図９参照）。The transfer material as described above is applied to the fluorescent display tube substrate 22.
When the grid electrode layer 3 was formed with the insulating layer 5 interposed therebetween and transferred and baked while being superposed thereon, a fluorescent display tube could be obtained at low cost and with high production efficiency. (See FIGS. 8 and 9).
【００２２】実施例２ 厚さ２μmのポリプロピレンをベースフィルム１とし、
その上に溶液状のアクリル酸エステル共重合体をグラビ
アコーターにて１μmの厚さに全面に設けて剥離層２と
し、その上に金属層８としてアルミ箔を７μmの厚みに
施し、その上に多数の開口部１２を有するパターンのポ
リエチレンテレフタレートをラミネートしてレジスト層
４を形成した後、塩化第二鉄溶液にて金属層８をエッチ
ングしてアルミニウム箔を取り除きグリッド電極層３の
開口部１２を形成し、レジスト層４を除去した後、グリ
ッド電極層３のパターンより開口部を小さめに設計した
絶縁層５をSiO2を主成分とする絶縁インキを用いスクリ
ーン印刷法にて形成し、さらにその上に接着剤層６とし
てアクリル樹脂を主成分とする接着剤をスクリーン印刷
法にて２μmの厚さに全面に設けて転写材を得た（図２
参照）。Example 2 Polypropylene having a thickness of 2 μm was used as a base film 1,
A solution acrylate copolymer was provided on the entire surface by a gravure coater to a thickness of 1 μm on the entire surface to form a release layer 2, and an aluminum foil was applied thereon as a metal layer 8 to a thickness of 7 μm. After laminating a pattern of polyethylene terephthalate having a large number of openings 12 to form a resist layer 4, the metal layer 8 is etched with a ferric chloride solution to remove the aluminum foil, and the openings 12 of the grid electrode layer 3 are removed. After forming the resist layer 4 and removing the resist layer 4, an insulating layer 5 whose opening is designed to be smaller than the pattern of the grid electrode layer 3 is formed by a screen printing method using an insulating ink containing SiO 2 as a main component. An adhesive mainly composed of an acrylic resin was provided on the entire surface as an adhesive layer 6 to a thickness of 2 μm by a screen printing method to obtain a transfer material (FIG. 2).
reference).
【００２３】以上のような転写材を蛍光表示管基板２２
上に重ね合わせて転写・焼成し、グリッド電極層３を絶
縁層５を介して形成ところ、低コストで生産効率よく蛍
光表示管を得ることができた（図１０、図１１参照）。The transfer material as described above is applied to the fluorescent display tube substrate 22.
When the grid electrode layer 3 was formed with the insulating layer 5 interposed therebetween, the grid electrode layer 3 was formed on the insulating layer 5, and the fluorescent display tube was obtained at low cost and with high production efficiency (see FIGS. 10 and 11).
【００２４】[0024]
【発明の効果】本発明の転写材は、ベースフィルム上
に、多数の開口部を有するグリッド電極層が形成され、
その上に開口部を有し、かつグリッド電極層表面を覆う
絶縁層が形成され、さらに絶縁層を少なくとも覆うよう
に接着剤層が形成されているように構成した。According to the transfer material of the present invention, a grid electrode layer having a large number of openings is formed on a base film.
An insulating layer having an opening and covering the surface of the grid electrode layer was formed thereon, and an adhesive layer was formed so as to cover at least the insulating layer.
【００２５】また、本発明の転写材の製造方法は、ベー
スフィルム上に金属層を形成し、その上に多数の開口部
を有するレジスト層を形成した後、金属層をエッチング
により開口させてグリッド電極層とし、レジスト層を除
去した後、その上にグリッド電極層表面が露出しないよ
うな開口部を有する絶縁層を形成し、さらに絶縁層を少
なくとも覆うように接着剤層を形成するように構成し
た。In the method of manufacturing a transfer material according to the present invention, a grid is formed by forming a metal layer on a base film, forming a resist layer having a large number of openings thereon, and then opening the metal layer by etching. After forming the electrode layer and removing the resist layer, an insulating layer having an opening so that the grid electrode layer surface is not exposed is formed thereon, and further, an adhesive layer is formed so as to cover at least the insulating layer. did.
【００２６】また、本発明の転写材の製造方法は、ベー
スフィルム上に金属層を形成し、その上に多数の開口部
を有する絶縁層を形成した後、絶縁層をレジストとして
金属層をエッチングより開口させて絶縁層と完全に見当
の一致するパターンのグリッド電極層とし、さらに絶縁
層を少なくとも覆うように接着剤層を形成するように構
成した。In the method of manufacturing a transfer material according to the present invention, a metal layer is formed on a base film, an insulating layer having a large number of openings is formed thereon, and then the metal layer is etched using the insulating layer as a resist. A grid electrode layer having a pattern completely in register with the insulating layer was formed by further opening, and an adhesive layer was formed so as to cover at least the insulating layer.
【００２７】したがって、上記のように転写材とその製
造方法を構成したので、蛍光表示管基板上にグリッド電
極層を転写層として簡単に形成でき、また、グリッド電
極層は絶縁層を設けることにより、蛍光体層と絶縁を保
つための整形も必要ない。したがって、低コストで、生
産効率よく蛍光表示管が得られた。Therefore, since the transfer material and the method of manufacturing the transfer material are configured as described above, the grid electrode layer can be easily formed as a transfer layer on the fluorescent display tube substrate, and the grid electrode layer can be formed by providing an insulating layer. Also, shaping for maintaining insulation from the phosphor layer is not required. Therefore, a fluorescent display tube was obtained at low cost and with high production efficiency.
【図１】本発明の転写材の一実施例を示す断面図であ
る。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a transfer material of the present invention.
【図２】本発明の転写材の他の実施例を示す断面図であ
るFIG. 2 is a sectional view showing another embodiment of the transfer material of the present invention.
【図３】図１の転写材の製造方法を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing the transfer material of FIG.
【図４】図１の転写材の製造方法を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing the transfer material of FIG.
【図５】図２の転写材の製造方法を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing the transfer material of FIG. 2;
【図６】図２の転写材の製造方法を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing the transfer material of FIG. 2;
【図７】図２の転写材の製造方法を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing the transfer material of FIG. 2;
【図８】図１の転写材を用いた蛍光表示管の製造方法を
示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a fluorescent display tube using the transfer material of FIG.
【図９】図１の転写材を用いた蛍光表示管の製造方法を
示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a fluorescent display tube using the transfer material of FIG.
【図１０】図２の転写材を用いた蛍光表示管の製造方法
を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a fluorescent display tube using the transfer material of FIG.
【図１１】図２の転写材を用いた蛍光表示管の製造方法
を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a fluorescent display tube using the transfer material of FIG.
【図１２】従来の蛍光表示管を示す断面図である。FIG. 12 is a sectional view showing a conventional fluorescent display tube.
【符号の説明】 １ ベースフィルム ２ 剥離層 ３ グリッド電極層 ４ レジスト層 ５ 絶縁層 ６ 接着剤層 ７ 蛍光体層 ８ 金属層 ９ エッチング液 １０ アノード電極 １１ 基板 １２ 開口部 １３ 表示部 １４ カソード電極 １５ グリッド電極 １６ 前面板 １７ 側面板 １８ 真空容器 １９ リード ２０ 配線 ２１ 絶縁被膜 ２２ 蛍光表示管基板DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base film 2 Release layer 3 Grid electrode layer 4 Resist layer 5 Insulating layer 6 Adhesive layer 7 Phosphor layer 8 Metal layer 9 Etching solution 10 Anode electrode 11 Substrate 12 Opening 13 Display section 14 Cathode electrode 15 Grid electrode 16 Front plate 17 Side plate 18 Vacuum container 19 Lead 20 Wiring 21 Insulating coating 22 Fluorescent display tube substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−289632（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−342923（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01J 31/15 B44C 1/17 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-4-289632 (JP, A) JP-A-4-342923 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01J 31/15 B44C 1/17
Claims (3)
するグリッド電極層が形成され、その上に開口部を有
し、かつグリッド電極層表面を覆う絶縁層が形成され、
さらに絶縁層を少なくとも覆うように接着剤層が形成さ
れていることを特徴とする転写材。1. A grid electrode layer having a large number of openings is formed on a base film, and an insulating layer having openings and covering the grid electrode layer surface is formed thereon.
A transfer material, further comprising an adhesive layer formed so as to cover at least the insulating layer.
の上に多数の開口部を有するレジスト層を形成した後、
金属層をエッチングにより開口させてグリッド電極層と
し、レジスト層を除去した後、その上にグリッド電極層
表面が露出しないような開口部を有する絶縁層を形成
し、さらに絶縁層を少なくとも覆うように接着剤層を形
成することを特徴とする転写材の製造方法。2. After forming a metal layer on a base film and forming a resist layer having a large number of openings thereon,
The metal layer is opened by etching to form a grid electrode layer, and after removing the resist layer, an insulating layer having an opening that does not expose the grid electrode layer surface is formed thereon, and further so as to cover at least the insulating layer. A method for producing a transfer material, comprising forming an adhesive layer.
の上に多数の開口部を有する絶縁層を形成した後、絶縁
層をレジストとして金属層をエッチングより開口させて
絶縁層と完全に見当の一致するパターンのグリッド電極
層とし、さらに絶縁層を少なくとも覆うように接着剤層
を形成することを特徴とする転写材の製造方法。3. A metal layer is formed on a base film, an insulating layer having a large number of openings is formed thereon, and the metal layer is opened by etching using the insulating layer as a resist to completely match the insulating layer. A method of manufacturing a transfer material, comprising forming a grid electrode layer having a pattern matching the above, and further forming an adhesive layer so as to cover at least the insulating layer.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP20140291A JP2964106B2 (en) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | Transfer material and its manufacturing method |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20140291A JP2964106B2 (en) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | Transfer material and its manufacturing method |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0516597A JPH0516597A (en) | 1993-01-26 |
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-
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