JP2951128B2 - Voltage controlled oscillator - Google Patents

Voltage controlled oscillator

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JP2951128B2
JP2951128B2 JP28158592A JP28158592A JP2951128B2 JP 2951128 B2 JP2951128 B2 JP 2951128B2 JP 28158592 A JP28158592 A JP 28158592A JP 28158592 A JP28158592 A JP 28158592A JP 2951128 B2 JP2951128 B2 JP 2951128B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電圧制御型発振回路に関
し、特にMOS型集積回路にて実現される電圧制御型発
振回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a voltage controlled oscillation circuit, and more particularly to a voltage controlled oscillation circuit realized by a MOS integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、電圧制御型発振回路(以下、V
COと称する。)は、PLL(Phase Lock
Loop)回路やAFC(Auto Freqency
Controller)回路等に用いられているが、
MOS型集積回路にて実現されるVCOには例えば図7
に示すものがある。
2. Description of the Related Art Generally, a voltage controlled oscillator (hereinafter referred to as V
Called CO. ) Is a PLL (Phase Lock)
Loop and AFC (Auto Frequency)
Controller) circuit, etc.
FIG. 7 shows an example of a VCO realized by a MOS integrated circuit.
There are the following.

【0003】図7に示すVCOの構成は、奇数個のCM
OSインバ−タ(1)をリング接続し、各CMOSイン
バ−タ(1)を構成するNチャンネルMOSトランジス
タと接地電圧Vss間に、NチャンネルMOSトランジ
スタ(2)が直列接続され、NチャンネルMOSトラン
ジスタ(2)の各ゲ−ト(3)は制御電圧印加端子FC
に接続され、この端子から制御電圧Vcが印加される。
[0003] The configuration of the VCO shown in FIG.
An OS inverter (1) is ring-connected, and an N-channel MOS transistor (2) is connected in series between an N-channel MOS transistor constituting each CMOS inverter (1) and a ground voltage Vss, and an N-channel MOS transistor Each gate (3) of (2) is a control voltage application terminal FC
, And a control voltage Vc is applied from this terminal.

【0004】この構成によればNチャンネルMOSトラ
ンジスタ(2)の各ゲ−ト(3)に印加される制御電圧
Vcを変化させることによりNチャンネルMOSトラン
ジスタ(2)のオン抵抗が変化し、各CMOSインバ−
タ(1)の次段の容量の放電時間が変化する。従って制
御電圧Vcの電圧に応じて発振周波数を可変制御するこ
とが可能なVCOが実現できる。
According to this configuration, the on-resistance of the N-channel MOS transistor (2) changes by changing the control voltage Vc applied to each gate (3) of the N-channel MOS transistor (2). CMOS inverter
The discharge time of the capacitor at the next stage of the data (1) changes. Therefore, it is possible to realize a VCO capable of variably controlling the oscillation frequency in accordance with the control voltage Vc.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、テレビ用等
のAFC回路においては、制御電圧Vcの変化に基づい
て制御される発振周波数の可変範囲を狭くし、且つ低ジ
ッタ化したVCOを搭載したいという要求がある。しか
しながら上述した構成のVCOでは、制御電圧Vcの変
化に基づくNチャンネルMOSトランジスタ(2)のオ
ン抵抗の変化が著しく、これにより発振周波数の可変範
囲が大きくなる。さらに、制御電圧Vcに基づいて制御
される発振周波数が低くなるに従い、VCOの出力波形
の低電圧レベル側が接地電圧Vssから上昇してしま
う。このためVCOの出力波形の低電圧レベル側が、該
VCOの出力を受け取る図示しない入力回路(例えばイ
ンバ−タ回路等)のスレッショルド電圧に近付くと、前
記入力回路から出力される発振波形が非常に不安定にな
りジッタの発生を招くという問題点を有していた。
By the way, in an AFC circuit for a television or the like, it is desired to mount a VCO with a reduced oscillation frequency range controlled based on a change in the control voltage Vc and a reduced jitter. There is a request. However, in the VCO having the above-described configuration, the on-resistance of the N-channel MOS transistor (2) significantly changes based on the change in the control voltage Vc, thereby increasing the variable range of the oscillation frequency. Further, as the oscillation frequency controlled based on the control voltage Vc decreases, the low voltage level side of the output waveform of the VCO rises from the ground voltage Vss. Therefore, when the low voltage level side of the output waveform of the VCO approaches the threshold voltage of an input circuit (eg, an inverter circuit) (not shown) that receives the output of the VCO, the oscillation waveform output from the input circuit becomes very poor. There has been a problem that it becomes stable and causes jitter.

【0006】従って上述した構成のVCOでは、制御電
圧印加端子FCに印加される制御電圧Vcが接地電圧V
ssから電源電圧Vddまで変化するような場合におい
て、発振周波数の可変範囲を狭くし、且つ低ジッタのV
COを設計することは困難であった。本発明は上述した
課題に鑑みて為されたものであり、制御電圧Vcが接地
電圧Vssから電源電圧Vddまで変化する場合におい
ても、VCOの用途に応じて発振周波数の可変範囲を狭
くすることが容易にでき、しかも低ジッタ化したVCO
を提供することを目的とするものである。
Therefore, in the VCO having the above-described configuration, the control voltage Vc applied to the control voltage application terminal FC is changed to the ground voltage Vc.
In the case where the power supply voltage changes from ss to the power supply voltage Vdd, the variable range of the oscillation frequency is narrowed and the low jitter V
Designing CO was difficult. The present invention has been made in view of the above-described problem, and even when the control voltage Vc changes from the ground voltage Vss to the power supply voltage Vdd, it is possible to narrow the variable range of the oscillation frequency according to the use of the VCO. Easy-to-use and low jitter VCO
The purpose is to provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明のVCOは図1及
び図2に示す如く、N型半導体基板(11)上に形成さ
れたインバ−タ回路INVと、前記インバ−タ回路IN
Vに対して、外付けされたコンデンサC1及びC2とコイ
ルLを接続して構成される2端子型LC発振回路をベ−
スとして構成されるもので、前記N型半導体基板(1
1)上に形成されたP-型のウエル層(12)と、前記
ウエル層(12)表面に形成されたP+型の拡散層から
なるウエル電極(13)と、前記ウエル層(12)上に
形成されたゲ−ト酸化膜(14)と、前記ゲ−ト酸化膜
(14)上に形成されたゲ−ト電極(15)とからなる
MOSキャパシタCM1及びCM2を具備し、前記MOSキ
ャパシタCM1のゲ−ト電極(15)は前記インバ−タ回
路INVの入力に接続され、前記MOSキャパシタCM2
のゲ−ト電極(15)は前記インバ−タ回路INVの出
力に接続され、前記MOSキャパシタCM1及びCM2のウ
エル電極(13)は、制御電圧印加端子FCに接続し
て、前記制御電圧印加端子FCに印加される制御電圧V
cにより前記ウエル層(12)の電位を制御設定したこ
とを特徴とするものである。
As shown in FIGS. 1 and 2, the VCO of the present invention comprises an inverter circuit INV formed on an N-type semiconductor substrate (11) and the inverter circuit INV.
For V, a two-terminal LC oscillation circuit configured by connecting externally connected capacitors C 1 and C 2 and a coil L is used as a base.
The N-type semiconductor substrate (1).
1) a P -- type well layer (12) formed thereon, a well electrode (13) composed of a P + -type diffusion layer formed on the surface of the well layer (12), and the well layer (12) comprises a MOS capacitor C M1 and C M2 composed of a gate electrode (15), - a gate oxide film (14), the gate - - on the formed gate gate oxide film (14) on the formed gate The gate electrode (15) of the MOS capacitor C M1 is connected to the input of the inverter circuit INV, and the MOS capacitor C M2
The gate - gate electrode (15) is the inverter - connected to the output of the capacitor circuit INV, the well electrode of the MOS capacitor C M1 and C M2 (13) is connected to the control voltage application terminal FC, the control voltage Control voltage V applied to application terminal FC
c, the potential of the well layer (12) is controlled and set.

【0008】[0008]

【作用】上述の手段によれば、2端子型LC発振回路に
付加されたMOSキャパシタC M1及びCM2のウエル層
(12)の電位は制御電圧Vcにより制御されるので、
制御電圧Vcの変化に応じてMOSキャパシタCM1及び
M2の容量が変化する。そして、外付けされたコイルL
のインダクタンスと外付けされたコンデンサC1及びC2
の容量とMOSキャパシタCM1及びCM2の容量に応じた
発振周波数がインバ−タ回路INVから出力される。こ
れにより発振周波数を制御電圧Vcによって可変制御す
ることが可能なVCOが得られる。
According to the above-mentioned means, a two-terminal type LC oscillation circuit is provided.
MOS capacitor C added M1And CM2Well layer
Since the potential of (12) is controlled by the control voltage Vc,
MOS capacitor C according to the change of control voltage VcM1as well as
CM2Changes in capacity. And the externally attached coil L
Inductance and external capacitor C1And CTwo
Capacity and MOS capacitor CM1And CM2According to the capacity of
The oscillation frequency is output from the inverter circuit INV. This
As a result, the oscillation frequency is variably controlled by the control voltage Vc.
VCO that can be obtained.

【0009】また上述した構成によれば、外付けされた
コンデンサC1及びC2の容量をMOSキャパシタCM1
びCM2の容量に対して大きな値に設定すれば、それだけ
制御電圧Vcの変化に対する2端子型LC発振回路の容
量の変化率は小さくなる。これにより制御電圧Vcが接
地電圧Vssから電源電圧Vddまで変化した場合にお
いてもVCOの発振周波数の可変範囲をVCOの用途に
応じて狭くすることが容易に実現できる。
Further, according to the above-described configuration, if the capacitances of the externally attached capacitors C 1 and C 2 are set to be larger than the capacitances of the MOS capacitors C M1 and C M2 , the change in the control voltage Vc is correspondingly increased. The rate of change of the capacitance of the two-terminal LC oscillation circuit becomes smaller. Thus, even when the control voltage Vc changes from the ground voltage Vss to the power supply voltage Vdd, the variable range of the oscillation frequency of the VCO can be easily reduced according to the use of the VCO.

【0010】さらにこの発明によれば、従来から用いら
れている低ジッタの2端子型LC発振回路をベ−スとし
てVCOを構成しているので、制御電圧Vcの変化に基
づいて制御される発振周波数が変化してもインバ−タ回
路INVの出力からは、接地電圧Vssから電源電圧V
ddまでフルスイングする安定した発振波形が得られる
ため、低ジッタ化を実現したVCOが提供できる。
Further, according to the present invention, since the VCO is constructed based on a conventionally used low-jitter two-terminal LC oscillation circuit, the oscillation controlled based on the change of the control voltage Vc. Even if the frequency changes, the output of the inverter circuit INV indicates that the power supply voltage V
Since a stable oscillation waveform with a full swing up to dd can be obtained, a VCO with reduced jitter can be provided.

【0011】[0011]

【実施例】次に本発明の実地例を図面を参照して説明す
る。図1は本発明の第1の実施例に係る電圧制御型発振
回路(以下VCOと称する。)を示す回路図である。図
2は図1における本発明のVCOを構成するMOSキャ
パシタの断面構造図である。
Next, a practical example of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing a voltage controlled oscillator (hereinafter, referred to as a VCO) according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a sectional structural view of a MOS capacitor constituting the VCO of the present invention in FIG.

【0012】図1においてN型半導体基板(11)上に
形成されたインバ−タ回路INVは入力端子INと出力
端子OUTの間に接続されている。C1及びC2はN型半
導体基板(11)外部に設けられたコンデンサであっ
て、LはN型半導体基板(11)外部に設けられたコイ
ルである。コイルLは入力端子INと出力端子OUTの
間に接続され、コンデンサC1は入力端子INと接地電
圧Vssとの間に接続され、コンデンサC2は出力端子
OUTと接地電圧Vssとの間に接続されている。これ
によりベ−スとなる2端子型LC発振回路が構成され
る。尚ここで一点鎖線はN型半導体基板(11)の外部
との境界を示すものである。
In FIG. 1, an inverter circuit INV formed on an N-type semiconductor substrate (11) is connected between an input terminal IN and an output terminal OUT. C 1 and C 2 are capacitors provided outside the N-type semiconductor substrate (11), and L is a coil provided outside the N-type semiconductor substrate (11). Coil L is connected between the input terminal IN and the output terminal OUT, and the capacitor C 1 is connected between the input terminal IN and the ground voltage Vss, the capacitor C 2 is connected between the output terminal OUT and the ground voltage Vss Have been. As a result, a two-terminal LC oscillation circuit serving as a base is formed. Here, the dashed line indicates the boundary with the outside of the N-type semiconductor substrate (11).

【0013】そしてCM1及びCM2はN型半導体基板(1
1)上に形成され、制御電圧印加端子FCに印加される
制御電圧Vcによって、その容量が電圧制御されるMO
Sキャパシタであって、MOSキャパシタCM1はインバ
−タ回路INVの入力と制御電圧印加端子FCとの間に
接続され、MOSキャパシタCM2はインバ−タ回路IN
Vの出力と制御電圧印加端子FCとの間に接続されてい
る。このようにして本発明のVCOが構成され、発振出
力はインバ−タ回路INVの出力から図示しない内部回
路へ伝達される。
Further, C M1 and C M2 are N-type semiconductor substrates (1
1) An MO that is formed thereon and whose capacitance is voltage-controlled by a control voltage Vc applied to a control voltage application terminal FC.
A S capacitor, MOS capacitor C M1 is inverted - is connected between the input of the capacitor circuit INV and the control voltage applying terminal FC, MOS capacitor C M2 is inverted - capacitor circuit IN
It is connected between the output of V and the control voltage application terminal FC. Thus, the VCO of the present invention is formed, and the oscillation output is transmitted from the output of the inverter circuit INV to an internal circuit (not shown).

【0014】ここで上記のように構成されるVCOを構
成するMOSキャパシタCM1及びC M2は例えば図2に示
す如く形成されるものである。図2において(11)は
N型半導体基板(以下基板と称する。)、(12)は基
板(11)上に形成されたウエル層であって、そのボロ
ン不純物濃度は1×1012cm-3〜1×1013cm-3
接合深さ2μm〜4μmに形成されている。(13)は
ウエル層(12)の表面に形成されたP+型の拡散層
(ボロン不純物濃度:約1×1019cm-3)よりなるウ
エル電極である。(14)はゲ−ト酸化膜であって40
0Å程度の膜厚に形成されている。(15)はゲ−ト酸
化膜(14)上に形成されたゲ−ト電極(例えばリンを
多量にド−プしたポリシリコンよりなるもの)である。
また基板(11)は基板(11)表面に形成されたN+
型拡散層(16)に電源電圧Vddを印加することによ
って、電源電圧Vddに設定されている。
Here, the VCO constructed as described above is constructed.
MOS capacitor C to be formedM1And C M2Is shown, for example, in FIG.
It is formed as such. In FIG. 2, (11) is
N-type semiconductor substrate (hereinafter referred to as substrate), (12)
A well layer formed on the plate (11),
Impurity concentration is 1 × 1012cm-3~ 1 × 1013cm-3,
The junction depth is 2 μm to 4 μm. (13) is
P formed on the surface of the well layer (12)+Mold diffusion layer
(Boron impurity concentration: about 1 × 1019cm-3) Consisting of
L electrode. (14) is a gate oxide film which is 40
It is formed to a thickness of about 0 °. (15) is gate acid
A gate electrode (for example, phosphorous) formed on the oxide film (14)
Composed of a large amount of doped polysilicon).
Further, the substrate (11) is made of N formed on the surface of the substrate (11).+
By applying a power supply voltage Vdd to the mold diffusion layer (16),
Therefore, the power supply voltage is set to Vdd.

【0015】そしてMOSキャパシタCM1のゲ−ト電極
(15)はAl配線等によりインバ−タ回路INVの入
力に接続され、MOSキャパシタCM2のゲ−ト電極(1
5)はAl配線等によりインバ−タ回路INVの出力に
接続される。さらにMOSキャパシタCM1及びCM2のウ
エル電極(13)は同じくAl配線等により制御電圧印
加端子FCに接続され、MOSキャパシタCM1及びCM2
のウエル層(12)の電位は、制御電圧印加端子FCに
印加される制御電圧Vcによって設定されるものであ
る。
The gate electrode (15) of the MOS capacitor C M1 is connected to the input of the inverter circuit INV via an Al wiring or the like, and the gate electrode (1) of the MOS capacitor C M2 is connected.
5) is connected to the output of the inverter circuit INV through an Al wiring or the like. Further well electrode of the MOS capacitor C M1 and C M2 (13) is likewise connected to the control voltage application terminal by FC Al wiring and the like, MOS capacitors C M1 and C M2
The potential of the well layer (12) is set by the control voltage Vc applied to the control voltage application terminal FC.

【0016】上記のように構成されたVCOにおいて、
MOSキャパシタCM1及びCM2の容量はゲ−ト電極(1
5)とウエル層(12)間の電圧に依存して変化する。
すなわち、制御電圧印加端子FCに印加される制御電圧
Vcが接地電圧Vssから電源電圧Vddまで変化する
と、ウエル層(12)の電位も接地電圧Vssから電源
電圧Vddまで変化することにより、ゲ−ト電極(1
5)下方のウエル層(12)の表面はキャリアの空乏状
態からキャリアの蓄積状態へと変化することになる。従
って図3に示す如くMOSキャパシタCM1及びCM2の容
量は制御電圧Vcが接地電圧Vssから電源電圧Vdd
へと上昇するのに伴って右上がりに増加することにな
る。これにより2端子型LC発振回路の容量を制御電圧
Vcによって可変制御することが可能となり、結果とし
て発振周波数を制御電圧Vcに応じて可変制御可能なV
COが得られものである。
In the VCO configured as described above,
Capacitance of the MOS capacitor C M1 and C M2 is gate - gate electrode (1
5) and changes depending on the voltage between the well layer (12).
That is, when the control voltage Vc applied to the control voltage application terminal FC changes from the ground voltage Vss to the power supply voltage Vdd, the potential of the well layer (12) also changes from the ground voltage Vss to the power supply voltage Vdd. Electrode (1
5) The surface of the lower well layer (12) changes from a carrier depletion state to a carrier accumulation state. Therefore, as shown in FIG. 3, the capacitance of the MOS capacitors C M1 and C M2 is different from the control voltage Vc from the ground voltage Vss to the power supply voltage Vdd.
It will increase to the right as it rises. This makes it possible to variably control the capacity of the two-terminal LC oscillation circuit with the control voltage Vc. As a result, the oscillation frequency can be variably controlled according to the control voltage Vc.
CO is obtained.

【0017】いま外付けコイルLのインダクタンスを
L、外付けコンデンサC1及びC2の容量をC0、MOS
キャパシタCM1及びCM2の容量をCXとすれば、インバ
−タ回路INVから出力される発振周波数fは f=1/{2π(LC)1/2} (1) で表される。ここで C=(C0+CX)/2 (2) となるものである。
Now, let the inductance of the external coil L be L, the capacitance of the external capacitors C 1 and C 2 be C 0 ,
If the capacitance of the capacitor C M1 and C M2 and C X, inverter - the oscillation frequency f output from the capacitor circuit INV is expressed by f = 1 / {2π (LC ) 1/2} (1). Here, C = (C 0 + C X ) / 2 (2).

【0018】ここで本発明のVCOによれば、外付けコ
ンデンサC1及びC2の容量C0と、N型半導体基板(1
1)上に形成されるMOSキャパシタCM1及びCM2の容
量C Xは独立に設定することができる。従って前記第2
式から明らかな如く、外付けコンデンサC1及びC2の容
量C0とMOSキャパシタCM1及びCM2の容量CXの容量
の比率に応じて制御電圧Vcの変化に対する2端子型L
C発振回路の容量Cの変化率を調整することができる。
According to the VCO of the present invention, an external
Capacitor C1And CTwoCapacity C0And an N-type semiconductor substrate (1
1) MOS capacitor C formed on topM1And CM2Content
Quantity C XCan be set independently. Therefore, the second
As is apparent from the equation, the external capacitor C1And CTwoContent
Quantity C0And MOS capacitor CM1And CM2Capacity CXCapacity
To the change of the control voltage Vc according to the ratio of
The rate of change of the capacitance C of the C oscillation circuit can be adjusted.

【0019】従って、例えば外付けコンデンサC1及び
2の容量C0をMOSキャパシタCM 1及びCM2の容量C
Xに対して大きな値に設定すれば、それだけ制御電圧V
cの変化に対する2端子型LC発振回路の容量Cの変化
率は小さくなる。これにより制御電圧Vcが接地電圧V
ssから電源電圧Vddまで変化した場合においてもV
COの発振周波数の可変範囲をVCOの用途に応じて狭
くすることが容易に実現できる。尚、MOSキャパシタ
M1及びCM2は第1及び第2のMOSキャパシタの一例
であり、制御電圧印加端子FCは電圧制御手段の一例で
ある。
[0019] Thus, for example, the capacitance of the MOS capacitor External capacitance C 0 of the capacitor C 1 and C 2 C M 1 and C M2 C
By setting a large value for X , the control voltage V
The rate of change of the capacitance C of the two-terminal LC oscillation circuit with respect to the change of c becomes small. As a result, the control voltage Vc becomes the ground voltage V
Even when the voltage changes from ss to the power supply voltage Vdd, V
It is easy to narrow the variable range of the oscillation frequency of the CO according to the use of the VCO. The MOS capacitors C M1 and C M2 are examples of first and second MOS capacitors, and the control voltage application terminal FC is an example of voltage control means.

【0020】ここで図4はテレビ用AFC回路への搭載
を目的として設計した本発明のVCOに係る制御電圧V
cに対する発振周波数特性を示す特性図である。図4に
示す特性図は図1において、外付けされたコイルLのイ
ンダクタンスL=5.6μH、外付けされたコンデンサ
1及びC2の容量C0=36.0pFに設定し、電圧依
存性を有するMOSキャパシタCM1及びCM2の容量CX
は、制御電圧Vcが0V〜5Vまで変化する場合におい
て、CX=6.5pF〜13.0pF程度に設定した結
果得られたものである。図4から本発明のVCOによれ
ば、制御電圧印加端子FCに印加される制御電圧Vcが
0V〜5Vと広範囲に変化した場合でもVCOの発振周
波数の可変範囲は14.7MHz〜13.5MHzであ
り、中心値=14.1MHzに対して±4%程度という
狭い可変範囲が実現されていることがわかる。
FIG. 4 shows a control voltage V according to the VCO of the present invention designed for mounting on an AFC circuit for television.
FIG. 9 is a characteristic diagram showing an oscillation frequency characteristic with respect to c. In the characteristic diagram shown in FIG. 4, the inductance L of the external coil L is set to 5.6 μH, the capacitance C 0 of the external capacitors C 1 and C 2 is set to 36.0 pF in FIG. C X of MOS capacitors C M1 and C M2 having
Is obtained as a result of setting C X = approximately 6.5 pF to 13.0 pF when the control voltage Vc changes from 0 V to 5 V. From FIG. 4, according to the VCO of the present invention, the variable range of the oscillation frequency of the VCO is 14.7 MHz to 13.5 MHz, even when the control voltage Vc applied to the control voltage application terminal FC changes widely from 0 V to 5 V. It can be seen that a narrow variable range of about ± 4% with respect to the center value = 14.1 MHz is realized.

【0021】さらに本発明によれば、従来からの低ジッ
タの2端子型LC発振回路をベ−スとしてVCOを構成
しているので、制御電圧Vcの変化に基づいて制御され
る発振周波数が変化してもVCOを構成するインバ−タ
回路INVの出力からは、接地電圧Vssから電源電圧
Vddまでフルスイングする安定した発振波形が得られ
るため低ジッタ化を実現したVCOが提供できる。
Further, according to the present invention, since the VCO is formed based on the conventional low-jitter two-terminal LC oscillation circuit, the oscillation frequency controlled based on the change in the control voltage Vc varies. Even if the output of the inverter circuit INV constituting the VCO provides a stable oscillation waveform that swings from the ground voltage Vss to the power supply voltage Vdd, a VCO with reduced jitter can be provided.

【0022】図5及び図6は、本発明の第2及び第3の
実施例に係るVCOの構成を示す回路図である。図5及
び図6に示す実施例は、図1の実施例に示したVCOを
構成するMOSキャパシタCM1及びCM2の一方を除去し
て構成されるVCOであり、この場合においても本発明
の効果が得られるものである。但し、回路構成の対称性
から図1の実施例に示した構成の方が回路設計が容易で
ある点で有利であると考えられる。
FIGS. 5 and 6 are circuit diagrams showing the configuration of the VCO according to the second and third embodiments of the present invention. The embodiment shown in FIGS. 5 and 6 is a VCO which is formed by removing one of the MOS capacitors C M1 and C M2 which constitute the VCO shown in the embodiment of FIG. An effect can be obtained. However, from the symmetry of the circuit configuration, the configuration shown in the embodiment of FIG. 1 is considered to be more advantageous in that the circuit design is easier.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明した如く、本発明のVCOによ
れば、従来の低ジッタの2端子型LC発振回路をベ−ス
として制御電圧Vcにより電圧制御された容量を有する
MOSキャパシタCM1及びCM2を付加したことにより、
制御電圧印加端子FCに印加される制御電圧Vcが接地
電圧Vssから電源電圧Vddまで変化する場合におい
ても、発振周波数の可変範囲が狭く、低ジッタ化を実現
したVCOを提供することが可能となる。特にテレビ用
等のAFC回路に搭載するVCOとして好適である。
As described above, according to the VCO of the present invention, the MOS capacitor CM1 having the capacitance controlled by the control voltage Vc based on the conventional low-jitter two-terminal LC oscillation circuit is used. By adding C M2 ,
Even when the control voltage Vc applied to the control voltage application terminal FC changes from the ground voltage Vss to the power supply voltage Vdd, it is possible to provide a VCO with a narrow oscillation frequency variable range and low jitter. . In particular, it is suitable as a VCO mounted on an AFC circuit for a television or the like.

【0024】さらに前記MOSキャパシタCM1及びCM2
は、従来のCMOS製造プロセスに何らの変更も要せず
実現できるため、本発明のVCOを形成する上での追加
工程が必要ないという利点も有している。
Further, the MOS capacitors C M1 and C M2
Has the advantage that no additional step is required in forming the VCO of the present invention because it can be realized without any change in the conventional CMOS manufacturing process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例に係る電圧制御型発振回
路を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a voltage controlled oscillator according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例に係る電圧制御型発振回
路を構成するMOSキャパシタの断面構造図である。
FIG. 2 is a sectional structural view of a MOS capacitor constituting the voltage controlled oscillation circuit according to the first example of the present invention.

【図3】MOSキャパシタ容量の制御電圧Vc依存性を
示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing the control voltage Vc dependence of the capacitance of a MOS capacitor.

【図4】本発明の第1の実施例に係る電圧制御型発振回
路の制御電圧Vcに対する発振周波数特性を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing an oscillation frequency characteristic with respect to a control voltage Vc of the voltage controlled oscillation circuit according to the first example of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施例に係る電圧制御型発振回
路を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a voltage-controlled oscillation circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施例に係る電圧制御型発振回
路を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a voltage-controlled oscillation circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図7】従来例に係る電圧制御型発振回路を示す回路図
である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a voltage-controlled oscillation circuit according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 :N型半導体基板 15 :ゲ−ト電極 13 :ウエル電極 INV :インバ−タ回路 C1、C2 :外付けコンデンサ CM1、CM2 :MOSキャパシタ L :外付けコイル IN :入力端子 OUT :出力端子 FC :制御電圧印加端子 Vc :制御電圧 Vss :接地電圧11: N-type semiconductor substrate 15: gate - gate electrode 13: the well electrode INV: inverter - capacitor circuits C 1, C 2: external capacitor C M1, C M2: MOS capacitor L: External coil IN: Input terminal OUT: Output terminal FC: Control voltage application terminal Vc: Control voltage Vss: Ground voltage

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一導電型の半導体基板上に形成されたイ
ンバ−タ回路と、前記インバ−タ回路に対して、外付け
されたコンデンサ及びコイルを接続して構成される2端
子型LC発振回路を用いて構成される電圧制御型発振回
路であって、 前記一導電型半導体基板上に形成された逆導電型のウエ
ル層と、前記逆導電型のウエル層表面に形成された逆導
電型の拡散層からなるウエル電極と、前記逆導電型のウ
エル層上に形成されたゲ−ト酸化膜と、前記ゲ−ト酸化
膜上に形成されたゲ−ト電極とからなる第1及び第2の
MOSキャパシタを具備し、 前記第1のMOSキャパシタのゲ−ト電極は前記インバ
−タ回路の入力に接続され、前記第2のMOSキャパシ
タのゲ−ト電極は前記インバ−タ回路の出力に接続さ
れ、前記第1及び第2のMOSキャパシタのウエル電極
は、その電圧を制御する電圧制御手段を接続して、前記
ウエル層の電圧を制御設定し得るようにしたことを特徴
とする電圧制御型発振回路。
1. An inverter circuit formed on a semiconductor substrate of one conductivity type, and a two-terminal LC oscillator configured by connecting an externally connected capacitor and coil to the inverter circuit. A voltage-controlled oscillation circuit configured using a circuit, comprising: a reverse conductivity type well layer formed on the one conductivity type semiconductor substrate; and a reverse conductivity type formed on a surface of the reverse conductivity type well layer. A first and second gate electrodes formed of a well layer of a diffusion layer, a gate oxide film formed on the well layer of the opposite conductivity type, and a gate electrode formed on the gate oxide film. And a gate electrode of the first MOS capacitor is connected to an input of the inverter circuit, and a gate electrode of the second MOS capacitor is connected to an output of the inverter circuit. And the first and second MOS keys. Wells electrode Pashita connects the voltage control means for controlling the voltage, the voltage-controlled oscillator, characterized in that as may control sets the voltage of the well layer.
【請求項2】 一導電型の半導体基板上に形成されたイ
ンバ−タ回路と、前記インバ−タ回路に対して、外付け
されたコンデンサ及びコイルを接続して構成される2端
子型LC発振回路を用いて構成される電圧制御型発振回
路であって、 前記一導電型半導体基板上に形成された逆導電型のウエ
ル層と、前記逆導電型のウエル層表面に形成された逆導
電型の拡散層からなるウエル電極と、前記逆導電型のウ
エル層上に形成されたゲ−ト酸化膜と、前記ゲ−ト酸化
膜上に形成されたゲ−ト電極とからなるMOSキャパシ
タを具備し、 前記MOSキャパシタのゲ−ト電極は前記インバ−タ回
路の入力に接続されるか、もしくは前記インバ−タ回路
の出力に接続され、前記MOSキャパシタのウエル電極
は、その電圧を制御する電圧制御手段を接続して、前記
ウエル層の電圧を制御設定し得るようにしたことを特徴
とする電圧制御型発振回路。
2. An inverter circuit formed on a semiconductor substrate of one conductivity type, and a two-terminal type LC oscillator constituted by connecting an externally connected capacitor and coil to the inverter circuit. A voltage-controlled oscillation circuit configured using a circuit, comprising: a reverse conductivity type well layer formed on the one conductivity type semiconductor substrate; and a reverse conductivity type formed on a surface of the reverse conductivity type well layer. And a MOS capacitor comprising a gate oxide film formed on the reverse conductivity type well layer, and a gate electrode formed on the gate oxide film. The gate electrode of the MOS capacitor is connected to the input of the inverter circuit or connected to the output of the inverter circuit, and the well electrode of the MOS capacitor has a voltage controlling the voltage. Connect control means , The voltage controlled oscillator, characterized in that as may control sets the voltage of the well layer.
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