JP2949562B2 - Method of correcting coating position in paste coating device - Google Patents

Method of correcting coating position in paste coating device

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JP2949562B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶表示装置の
製造工程に使用される銀ペースト塗布装置におけるペー
スト塗布方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a paste applying method in a silver paste applying apparatus used in, for example, a manufacturing process of a liquid crystal display.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置として、TFT(thin fil
m transistor)アレイ基板などを用いたものが知られて
いる。例えばTFTアレイ基板においては、その各電極
への通電のためのトランスファー電極は、当該TFTア
レイ基板上に形成された塗布対象箇所(トランスファー
パッド)への銀ペーストの塗布により形成される。
2. Description of the Related Art As a liquid crystal display device, a thin film transistor (TFT) is used.
m transistor) using an array substrate or the like is known. For example, in a TFT array substrate, a transfer electrode for energizing each of the electrodes is formed by applying a silver paste to an application target (transfer pad) formed on the TFT array substrate.

【0003】銀ペーストの塗布に際しては、加工対象と
なるTFTアレイ基板を機械的に位置決め保持した後、
基板上の所定の位置に形成された位置決めマークをモニ
タカメラで撮影し、これを所定の基準位置と比較するこ
とによりTFTアレイ基板の位置ずれ量(変位量)を求
め、この変位量を低減させるように、塗布機構と塗布対
象箇所との相対位置を制御する制御機構の座標データを
補正するようにしているのが一般的である。
When applying a silver paste, a TFT array substrate to be processed is mechanically positioned and held.
A positioning mark formed at a predetermined position on the substrate is photographed by a monitor camera, and the photographed position is compared with a predetermined reference position to determine a positional deviation amount (displacement amount) of the TFT array substrate, and the displacement amount is reduced. As described above, the coordinate data of the control mechanism that controls the relative position between the application mechanism and the application target portion is generally corrected.

【0004】TFTアレイ基板に位置決めマークを設け
るのは、当該基板の切断精度、基板外形に対するパター
ンの印刷位置精度、位置決め機構の繰り返し精度などの
要因によって、外形基準で位置決めしただけでは基板上
の塗布対象箇所がばらつく可能性があるためである。但
し、位置決めマークと塗布対象箇所とは同じスクリーン
にて製版されているため、これらの位置関係については
ばらつきが生じない。そこで、従来は、外形基準で位置
決めした後に位置決めマークの変位量を求めれば、その
変位量から基板上の塗布対象箇所のパターンがどれだけ
基準位置から相対的にずれているかが判るという観点か
ら前記座標データの補正を行うものである。
The positioning marks are provided on the TFT array substrate because of the cutting accuracy of the substrate, the printing position accuracy of the pattern with respect to the outer shape of the substrate, and the repetition accuracy of the positioning mechanism. This is because the target location may vary. However, since the positioning mark and the application target portion are made on the same screen, there is no variation in their positional relationship. Therefore, conventionally, if the displacement amount of the positioning mark is determined after positioning based on the outer shape reference, it is possible to determine from the displacement amount how much the pattern of the application target portion on the substrate is relatively deviated from the reference position. This is to correct the coordinate data.

【0005】このような銀ペーストの塗布技術として
は、特開平2−137339号公報に開示されたよう
に、位置決めマークを2組のモニタカメラにより撮像し
た結果から基板の変位量を求める技術、あるいは、特開
平1−122127号公報に開示されたように、ペース
トの塗布ヘッドに搭載したモニタカメラによって位置決
めマークを撮像し、同様にして基板の変位量を求める技
術、などが知られている。なお、これらの技術では、モ
ニタカメラにより位置決めマークを照明するための照明
装置を備えており、それ故に装置構成がやや複雑になっ
ている。
As a technique for applying such a silver paste, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-137339, a technique for obtaining the displacement of a substrate from the result of imaging a positioning mark with two sets of monitor cameras, or As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-122127, a technique is known in which a positioning camera is imaged by a monitor camera mounted on a paste application head, and a displacement amount of a substrate is similarly obtained. In these techniques, an illuminating device for illuminating the positioning mark with the monitor camera is provided, and therefore, the device configuration is somewhat complicated.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
塗布位置の補正方法は、位置決めマークの変位量に基づ
いて前記制御機構の座標データをずらす手法なので、結
果的に全ての塗布対象箇所に対応する塗布位置が一様に
補正される。ところが、従来の補正方法では、例えば回
転ずれがあると、座標原点から距離が離れるほど補正の
誤差が強く影響して全ての塗布位置を正しい方向に補正
しきれない場合がある。また、補正した個々の塗布位置
が本当に所定の位置なのかの確認もできない。そのた
め、全ての塗布対象箇所に正しく銀ペーストを塗布でき
ない場合があり、TFTアレイ基板の歩留まりの向上を
図ることができない問題があった。
As described above, the conventional coating position correction method shifts the coordinate data of the control mechanism based on the displacement amount of the positioning mark. Is uniformly corrected. However, in the conventional correction method, for example, if there is a rotational deviation, the correction error may have a greater effect as the distance from the coordinate origin increases, and it may not be possible to correct all application positions in the correct direction. Further, it cannot be confirmed whether the corrected individual application positions are really predetermined positions. Therefore, there is a case where the silver paste cannot be correctly applied to all the application target portions, and there is a problem that the yield of the TFT array substrate cannot be improved.

【0007】本発明の課題は、上記問題点に鑑み、複数
の塗布対象箇所の全てに対して正確にペーストを塗布す
るための補正方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a correction method for accurately applying paste to all of a plurality of application target portions in view of the above problems.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明のペースト塗布装置における塗布位置の補正方法は、
加工対象となる基板を所定部位に位置決めする位置決め
手段,位置決めされた前記基板上の複数の塗布対象箇所
の各々にペーストを塗布するための塗布機構,前記塗布
機構と共に取り付けられたモニタカメラ,及び前記塗布
機構の位置を制御する制御機構を備えたペースト塗布装
置に於いて前記モニタカメラを前記塗布機構と共に前記
基板上の一の塗布対象箇所に対応する塗布位置まで移動
させ、当該箇所を撮像してその中心位置を計測する第1
の段階と、前記計測された中心位置と予め定めた基準位
置との変位量を検出する第2の段階と、検出された前記
変位量低減するように前記塗布機構の位置を補正する
第3の段階とを少なくともこの順に実行することを特徴
とする。なお、前記塗布位置の補正後に塗布対象箇所の
基準位置からの変位量が補正可能な範囲か否かの判定を
前記撮像に基づく演算結果により行い、範囲外であれ
ば、前記第1及び第2の段階を再度実行するようにして
も良い。
A method for correcting a coating position in a paste coating apparatus according to the present invention for solving the above-mentioned problems is described below.
Positioning means for positioning the substrate to be processed at a predetermined position, applying mechanism for applying a paste to each of the plurality of coating target portion on the substrate that is positioned, the coating
Attached monitor camera with mechanisms, and corresponding said monitor camera at the paste applying apparatus provided with a control mechanism for controlling the position of the coating mechanism to an application target portion on the substrate together with the coating mechanism Move to dispensing position
It is first to measure the center position by imaging the portion
And a second step of detecting a displacement amount between the measured center position and a predetermined reference position, and a third step of correcting the position of the application mechanism so that the detected displacement amount is reduced. Are executed at least in this order . In addition, after the correction of the application position,
Determine whether the displacement from the reference position is within the correctable range
Performed based on the calculation result based on the imaging, and if it is out of range
For example, the first and second steps may be executed again.

【0009】[0009]

【0010】[0010]

【作用】本発明では、位置決めされた基板上のの塗布
対象箇所を塗布機構に随伴するモニタカメラで撮像し、
個々の塗布対象箇所と予め定めた基準位置との変位量を
例えば画像処理によって求め、この求めた変位量低減
するように塗布機構の位置を補正する。これにより従来
のように全ての塗布対象箇所に対応する塗布位置が一様
に補正されるのと異なり、塗布位置が塗布対象箇所毎に
補正されるので、特定の塗布位置については正しく補正
されるが他の塗布位置については補正しきれないという
ことがなくなる
According to the present invention captures a monitor camera associated one of the coating target portion of the substrate that is positioned in the coating mechanism,
The amount of displacement between each application target portion and a predetermined reference position is determined by, for example, image processing, and the position of the coating mechanism is corrected so that the determined amount of displacement is reduced. In this way, unlike the conventional case, the application positions corresponding to all the application target locations are uniformly corrected, but the application position is corrected for each application target location. Correction can be performed correctly, but it is not impossible to correct other application positions .

【0011】ペースト塗布後においては、同じモニタカ
メラによって、塗布対象箇所におけるペーストの塗布形
状を撮像し、撮像された塗布形状と基準形状との比較を
行うことにより当該塗布対象箇所におけるペーストの塗
布状態の適否を把握することができる。
After the paste application, the same monitor camera captures an image of the paste application shape at the application target location, and compares the imaged application shape with the reference shape to determine the paste application status at the application target location. Can be grasped.

【0012】[0012]

【実施例】次に、銀ペーストを使用してTFTアレイ基
板を製造する場合を例に挙げて本発明の実施例を図面を
参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一実施例の
ペースト塗布装置の外観斜視図である。このペースト塗
布装置は、位置決め部1、搬送コンベア2、排出コンベ
ア3、位置決め機構4、直交型ロボット5、塗布機構
6、モニタカメラ7、視覚装置8、などから構成され
る。
Next, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, taking as an example a case where a TFT array substrate is manufactured using a silver paste. FIG. 1 is an external perspective view of a paste application device according to one embodiment of the present invention. This paste application device includes a positioning unit 1, a conveyor 2, a discharge conveyor 3, a positioning mechanism 4, an orthogonal robot 5, a coating mechanism 6, a monitor camera 7, a visual device 8, and the like.

【0013】位置決め部1及び位置決め機構4は、前工
程から搬送されたTFTアレイ基板を銀ペースト塗布の
ために機械的に位置決めして固定するものであり、搬送
コンベア2は、前工程からのTFTアレイ基板を矢印の
方向に搬送するものである。排出コンベア3は、銀ペー
スト塗布後のTFTアレイ基板を次工程に排出するもの
である。
The positioning section 1 and the positioning mechanism 4 are for mechanically positioning and fixing the TFT array substrate conveyed from the previous process for applying silver paste. The array substrate is transported in the direction of the arrow. The discharge conveyor 3 discharges the TFT array substrate after the silver paste has been applied to the next step.

【0014】また、直交型ロボット5は、図示しない制
御機構からの制御により、塗布機構6及びモニタカメラ
7の水平方向(X、Y軸方向)および垂直方向(Z軸方
向)における移動の制御をするものであり、例えば、3
軸直交座標型ロボットとして市販されているものが使用
される。塗布機構6については、後で図2を用いて詳し
く説明する。
The orthogonal robot 5 controls the movement of the coating mechanism 6 and the monitor camera 7 in the horizontal direction (X and Y axis directions) and the vertical direction (Z axis direction) by control from a control mechanism (not shown). For example, 3
What is marketed as an axis orthogonal coordinate type robot is used. The application mechanism 6 will be described later in detail with reference to FIG.

【0015】モニタカメラ7は、例えばCCD(固体撮
像素子)などが用いられ、位置決め部1に載置されたT
FTアレイ基板上の塗布対象箇所と銀ペースト塗布後の
塗布形状とを撮像してそれぞれ画像認識するもので、そ
の信号は視覚装置8に送信される。視覚装置8は、この
送信された信号に基づいて、塗布対象箇所の所定ポイン
ト、例えば中心位置を演算して求めるとともに、銀ペー
スト塗布後は画像認識された塗布形状と予め定められた
基準形状とを比較する。形状の比較は、例えば面積比較
により行う。そして、塗布形状の面積が基準面積よりも
小さい場合には、後述するように、塗布機構6による塗
布処理を行う。
The monitor camera 7 is, for example, a CCD (solid-state image sensor) or the like.
The image of the application target portion on the FT array substrate and the application shape after the silver paste is applied are image-recognized, and the signals are transmitted to the visual device 8. Based on the transmitted signal, the visual device 8 calculates and calculates a predetermined point, for example, a center position, of the application target location, and after applying the silver paste, applies the image-recognized application shape and a predetermined reference shape. Compare. The comparison of the shapes is performed by, for example, an area comparison. If the area of the application shape is smaller than the reference area, an application process is performed by the application mechanism 6 as described later.

【0016】塗布機構6は、図2のように、直交型ロボ
ット5に取り付けられた塗布機構ベース21、並びに塗
布機構ベース21にスライドレール12を介して取り付
けられたシリンジベース13などから構成される。これ
により、シリンジベース13は塗布機構ベース21に対
して垂直方向に移動可能となる。また、シリンジベース
13には、シリンジホルダ14によって、銀ペースト入
りのシリンジ16が保持される。シリンジ16には塗布
ノズル17が装着される。塗布機構ベース21とシリン
ジベース13との間には、引っ張りばね15が取り付け
られている。この引っ張りばね15の作用により、シリ
ンジベース13には常に下向きの荷重がかけられてい
る。塗布機構ベース21には、センサホルダ20によっ
て接触検出センサ19が保持されている。接触センサ1
9の先端はシリンジベース13に接しており、これによ
り、シリンジベース13の変位を検知することができ
る。すなわち、塗布ノズル17がTFTアレイ基板11
に接触した場合には、シリンジベース13がスライドし
て、接触検出センサ19が作動する。
As shown in FIG. 2, the coating mechanism 6 includes a coating mechanism base 21 mounted on the orthogonal robot 5 and a syringe base 13 mounted on the coating mechanism base 21 via the slide rail 12. . As a result, the syringe base 13 can move in the vertical direction with respect to the coating mechanism base 21. A syringe 16 containing silver paste is held by the syringe base 13 by the syringe holder 14. An application nozzle 17 is mounted on the syringe 16. A tension spring 15 is attached between the application mechanism base 21 and the syringe base 13. Due to the action of the tension spring 15, a downward load is always applied to the syringe base 13. The contact detection sensor 19 is held on the application mechanism base 21 by a sensor holder 20. Contact sensor 1
The tip of 9 is in contact with the syringe base 13, whereby the displacement of the syringe base 13 can be detected. That is, the application nozzle 17 is moved to the TFT array substrate 11
When the contact is made, the syringe base 13 slides and the contact detection sensor 19 operates.

【0017】次に、本実施例の動作を図3〜5をも参照
して説明する。なお、図3は、位置決め機構4によっ
て、TFTアレイ基板11が位置決め部1上の所定の位
置に位置決めされた状態を示したものである。すなわ
ち、図示しない前工程(上流)からTFTアレイ基板1
1を搬入し(ステップ(以下、Sと略称する)1)、こ
れを位置決め部1の所定部位に導いて外型の位置決めを
行う(S2)。次に、直交型ロボット5に塗布機構6と
共に取り付けられたモニタカメラ7をこの位置決めされ
たTFTアレイ基板11上の一の塗布対象箇所に対応す
る塗布位置まで移動させ、当該箇所を撮像して位置計測
を行う(S3)。そして、この撮像に基づいて、視覚装
置8に於いて塗布対象箇所の中心位置を演算により求め
る。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 3 shows a state where the TFT array substrate 11 is positioned at a predetermined position on the positioning unit 1 by the positioning mechanism 4. In other words, the TFT array substrate 1
1 is carried in (step (hereinafter abbreviated as S) 1) and guided to a predetermined portion of the positioning section 1 to perform positioning of the outer mold (S2). Next, the monitor camera 7 attached to the orthogonal robot 5 together with the coating mechanism 6 is moved to a coating position corresponding to one of the coating target positions on the TFT array substrate 11 thus positioned, and the position is imaged. Measurement is performed (S3). Then, based on this imaging, the visual device 8 calculates the center position of the application target portion by calculation.

【0018】この場合、塗布対象箇所の基準位置からの
変位量が補正可能な範囲か否かの判定を行い(S4)、
範囲外であればS2からS4の処理を所定回数繰り返
す。繰り返し後の計測結果が不十分であればエラー停止
する(S6)。一方、S4に於いて補正可能範囲内と判
定したときは、上記演算された中心位置と基準位置との
変位量に基づいて、制御機構による塗布機能の位置補正
(座標補正)を行う(S7)。正しく補正されたか否か
を確認する場合は、上記S3及びS4の処理を実行すれ
ば良い。
In this case, it is determined whether or not the amount of displacement of the application target portion from the reference position is within a correctable range (S4).
If it is out of the range, the processes from S2 to S4 are repeated a predetermined number of times. If the measurement result after the repetition is insufficient, an error stop is performed (S6). On the other hand, when it is determined in S4 that the position is within the correctable range, the position correction (coordinate correction) of the coating function is performed by the control mechanism based on the calculated displacement amount between the center position and the reference position (S7). . In order to confirm whether or not the correction has been performed correctly, the processes in S3 and S4 may be performed.

【0019】次いで、上記補正に基づいて、塗布ノズル
17から該当個所への銀ペーストの塗布を行う(S
8)。その後、塗布結果の良否を判定し(S9)、不良
であれば、所定回数だけS8からS9の処理を繰り返
す。そして、所定回数の繰り返し後も塗布結果が不良で
あればエラー停止する(S11)。なお、この塗布不良
の判定については、後述する。
Next, based on the above correction, the silver paste is applied from the application nozzle 17 to the corresponding location (S
8). Thereafter, the quality of the application result is determined (S9). If the result is poor, the processes from S8 to S9 are repeated a predetermined number of times. If the result of the application is not good even after the predetermined number of repetitions, the error is stopped (S11). The determination of the coating failure will be described later.

【0020】次に、全ての塗布対象箇所について塗布が
終了したかを判定し(S12)、終了した場合には、次
の工程(ポジション)にTFTアレイ基板11を搬出す
る(S14)。未了の場合には、塗布ノズル17を次の
塗布対象箇所に移動し、同様の手順で当該箇所の塗布処
理を行う(S13)。図5に、上記の塗布良否の判定手
順を示す。この図を参照すると、まず、モニタカメラ7
により撮像された塗布形状に基づき、視覚装置8におい
て塗布状態を画像認識し(S15)、この塗布形状の面
積から銀ペーストの塗布の適否を判断し、正常に塗布さ
れているか否かを判定する(S16)。そして、不良と
判定した場合には、塗布機構6によって当該箇所におけ
る銀ペーストの塗布を行う(S17)。その後、再びモ
ニタカメラ7により撮像し(S18)、正常に塗布され
たかを視覚装置8により判定する(S19)。
Next, it is determined whether or not the application has been completed for all the application target locations (S12). When the application has been completed, the TFT array substrate 11 is carried out to the next step (position) (S14). When the application is not completed, the application nozzle 17 is moved to the next application target location, and the application processing of the location is performed in the same procedure (S13). FIG. 5 shows a procedure for determining the quality of the coating. Referring to this figure, first, the monitor camera 7
The visual state of the application state is recognized by the visual device 8 on the basis of the application shape captured by the above (S15), and the applicability of the silver paste is determined based on the area of the application shape, and it is determined whether the silver paste is applied normally. (S16). If it is determined that the silver paste is defective, the application mechanism 6 applies the silver paste at the corresponding location (S17). Thereafter, an image is taken again by the monitor camera 7 (S18), and it is determined by the visual device 8 whether or not the coating has been performed normally (S19).

【0021】なお、以上は、本発明をTFTアレイ基板
における銀ペーストの塗布に適用する例についての説明
であるが、同様なペースト塗布を行う他の基板の加工に
ついても本発明を適用できることは勿論である。
Although the above is an explanation of an example in which the present invention is applied to the application of silver paste on a TFT array substrate, the present invention can of course be applied to the processing of other substrates that perform similar paste application. It is.

【0022】以上の説明から明らかなように、本発明に
よれば、一の塗布対象箇所に対応する塗布位置の補正
が、塗布対象箇所の中心位置と基準位置との変位量に基
づいて行われるため、基板上に複数の塗布対象箇所が存
在してもペーストを各箇所に正確に塗布することが可能
となる効果がある
As apparent from the above description, according to the present invention, the correction of the coating position corresponding to one coating target portion is performed based on the displacement amount between the center position of the coating target portion and the reference position.
To be done by Zui, the effect of making it possible plurality of coating target portion on the substrate accurately applies even exist paste each location.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係るペースト塗布装置の構
成を示す外観斜視図。
FIG. 1 is an external perspective view showing a configuration of a paste application device according to one embodiment of the present invention.

【図2】(a)は図1のペースト塗布装置を構成する塗
布機構の正面図、(b)は同じく側面図。
2 (a) is a front view of an application mechanism constituting the paste application apparatus of FIG. 1, and FIG. 2 (b) is a side view thereof.

【図3】本実施例のペースト塗布装置によりペースト塗
布をするTFTアレイ基板の一例を示した説明図。
FIG. 3 is an explanatory view showing an example of a TFT array substrate on which paste is applied by the paste application apparatus of the present embodiment.

【図4】本実施例における全体的な処理手順を示したフ
ローチャート。
FIG. 4 is a flowchart showing an overall processing procedure in the embodiment.

【図5】本実施例におけるにおける塗布良否の処理手順
を示したフローチャート。
FIG. 5 is a flowchart illustrating a processing procedure of coating quality in the present embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 位置決め部 4 位置決め機構 5 直交型ロボット 6 塗布機構 7 モニタカメラ 8 視覚装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Positioning part 4 Positioning mechanism 5 Orthogonal robot 6 Coating mechanism 7 Monitor camera 8 Visual device

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−334319(JP,A) 特開 平7−290892(JP,A) 特開 平7−50467(JP,A) 特開 平4−17388(JP,A) 特開 平2−284672(JP,A) 実開 昭61−115160(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B05C 5/00,5/02 B05C 13/02 B05D 1/26 G09F 9/00 338 H05K 3/34 505 - 512 H05K 3/34 501 Continuation of the front page (56) References JP-A-6-334319 (JP, A) JP-A-7-290892 (JP, A) JP-A-7-50467 (JP, A) JP-A-4-17388 (JP) , A) JP-A-2-284672 (JP, A) JP-A-61-115160 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B05C 5/00, 5/02 B05C 13/02 B05D 1/26 G09F 9/00 338 H05K 3/34 505-512 H05K 3/34 501

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 加工対象となる基板を所定部位に位置決
めする位置決め手段,位置決めされた前記基板上の複数
の塗布対象箇所の各々にペーストを塗布するための塗布
機構,前記塗布機構と共に取り付けられたモニタカメ
ラ,及び前記塗布機構の位置を制御する制御機構を備え
たペースト塗布装置に於いて前記モニタカメラを前記塗
布機構と共に前記基板上の一の塗布対象箇所に対応する
塗布位置まで移動させ、当該箇所を撮像してその中心位
置を計測する第1の段階と、前記計測された中心位置と 予め定めた基準位置との変位
量を検出する第2の段階と、 検出された前記変位量低減するように前記塗布機構の
位置を補正する第3の段階とを少なくともこの順に実行
することを特徴とするペースト塗布装置における塗布位
置の補正方法。
1. A positioning means for positioning a substrate to be processed at a predetermined site, a coating mechanism for coating a paste on each of a plurality of coating target locations on the positioned substrate, and a mounting mechanism attached with the coating mechanism. Monitor turtle
La, and the coating of said monitor camera at the paste applying apparatus provided with a control mechanism for controlling the position of the coating mechanism
Along with the cloth mechanism, it corresponds to one application target location on the substrate.
It is moved to the application position, the center position by capturing the location
A first step of measuring the position, a second step of detecting a displacement amount between the measured center position and a predetermined reference position, and the application mechanism of the application mechanism so that the detected displacement amount is reduced . A method for correcting a coating position in a paste coating device, wherein the third step of correcting the position is performed at least in this order .
【請求項2】 前記第3の段階は、前記検出された変位
量が補正可能な範囲か否かを判定し、補正不能のときは
第1及び第2の段階を所定回数繰り返し、補正可能範囲
内になったときに前記塗布機構の位置補正を行うことを
特徴とする請求項1記載の補正方法。
2. The method according to claim 1, wherein the third step includes detecting the detected displacement.
It is determined whether or not the amount is within a correctable range. If the amount cannot be corrected, the first and second steps are repeated a predetermined number of times, and the correctable range is determined.
2. The correction method according to claim 1 , wherein the position of the application mechanism is corrected when the position becomes inside .
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