JP2948178B2 - Substrate for magnetic disk - Google Patents

Substrate for magnetic disk

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JP2948178B2
JP2948178B2 JP9221305A JP22130597A JP2948178B2 JP 2948178 B2 JP2948178 B2 JP 2948178B2 JP 9221305 A JP9221305 A JP 9221305A JP 22130597 A JP22130597 A JP 22130597A JP 2948178 B2 JP2948178 B2 JP 2948178B2
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glass
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magnetic disk
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宣雄 中川
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  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスクに係
り、磁気ヘッドの粘着を起こしにくく、耐摺動信頼性,
ヘッド浮上特性にすぐれかつ、低コストな磁気ディスク
を製造するに好適な磁気ディスク基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk, which is less likely to cause sticking of a magnetic head, has high sliding reliability, and has high reliability.
The present invention relates to a magnetic disk substrate having excellent head flying characteristics and suitable for manufacturing a low-cost magnetic disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、薄膜磁気ディスク用基板表面
は、ヘッドの粘着防止等の要求から鏡面であるより、む
しろ適度な粗さが必要とされてきた。例えば特開昭62
−248133号公報に記載のように、Ni−P表面に
テキスチャーと呼ぶ同心円状溝を機械加工する方法と
か、特開昭60−38720号公報のように、アルミナ
−TiCセラミクス基板の材料の凹凸を用いる方法と
か、あるいは特開昭61−123016号公報にあるよ
うに下地めっき膜中に微粒子を分散させる方法とかの方
法が考案され、前記の目的を達成する試みが行われて来
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, a substrate surface for a thin-film magnetic disk has been required to have an appropriate roughness rather than a mirror surface in order to prevent adhesion of a head. For example, JP 62
As described in JP-A-248133, a method of machining a concentric groove called a texture on the Ni-P surface, or as described in JP-A-60-38720, the unevenness of the material of the alumina-TiC ceramics substrate is reduced. There have been devised a method of using such a method, or a method of dispersing fine particles in a base plating film as disclosed in JP-A-61-123016, and attempts have been made to achieve the above object.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術による基
板では、ディスク性能・コスト・量産性の観点から見て
全ての必要特性を達成するものはなく、どれかの特性が
不満足なまま使わざるを得ない状況であった。以下それ
について述べる。
However, none of the substrates according to the prior art achieves all the necessary characteristics from the viewpoint of disk performance, cost and mass productivity. I couldn't get it. This is described below.

【0004】Ni−P基板の鏡面研磨加工表面に下地C
r膜、磁性媒体、保護膜、潤滑油膜を形成した磁気ディ
スクでは、ヘッドの停止時において、ディスクとヘッド
の接触面に潤滑油や水分が集まり、ヘッド粘着現象を生
じる。そのため、ディスクの回転不能や、ヘッドの保持
機構部品の破壊や変形を生じ、問題となる。
[0004] The base C is applied to the mirror-polished surface of the Ni-P substrate.
In a magnetic disk on which an r film, a magnetic medium, a protective film, and a lubricating oil film are formed, when the head is stopped, lubricating oil and moisture collect on the contact surface between the disk and the head, causing a head sticking phenomenon. As a result, the rotation of the disk becomes impossible, and the head holding mechanism parts are broken or deformed, which is a problem.

【0005】このため、Ni−P研磨表面に同心円状の
溝を加工するテキスチャー加工と呼ぶものを行い、ディ
スクの表面を粗して、粘着を防ぐことが、現在広く行わ
れている。しかし、テキスチャー加工には、以下に述べ
る本質的な問題がある。テキスチャー加工は微小な砥粒
でNi−P表面を切削加工する機構であるため、本質的
に加工時の材料の塑性流動によるバリや、切粉の再付着
により、ヘッドに衝突する凸起を生じやすい。このた
め、ディスク全面にわたってたとえば0.2μm程度の
スペーシングでヘッドを浮上させる表面を形成するのが
難しい。
[0005] For this reason, it is currently widely practiced to perform what is called texture processing for processing concentric grooves on the Ni-P polished surface to roughen the disk surface and prevent sticking. However, texture processing has the following essential problems. Texture processing is a mechanism that cuts the Ni-P surface with fine abrasive grains, so burrs due to the plastic flow of the material during processing and bumps that collide with the head due to reattachment of cutting chips are generated. Cheap. For this reason, it is difficult to form a surface for floating the head over the entire surface of the disk with, for example, a spacing of about 0.2 μm.

【0006】将来、ディスクの記録密度を増加させるた
めには、スペーシング距離の段階的低減が必要となる
が、その時、現在のテキスチャー加工では問題が多い。
In order to increase the recording density of a disk in the future, it is necessary to gradually reduce the spacing distance. At that time, however, there are many problems in the current texture processing.

【0007】Ni−Pテキスチャー基板のもう一つの問
題点はコストである。Al素材から出発し、Al素材表
面の機械加工,Ni−Pめっきの処理,Ni−P表面の
研磨加工、そして研磨後表面のテキスチャー加工を行っ
て完成するディスク基板は、工程数が多く、かならずし
も安価ではない。これは一つには、ディスク基板がAl
とNi−Pの異なる二つの材料の多層膜からなる複合体
であるためである。一方、セラミックスやガラスのよう
な単一材料の基板では、工程数も短く済み低価格化が可
能となる。
Another problem with the Ni-P texture substrate is cost. Starting from the Al material, the machining of the Al material surface, the Ni-P plating process, the polishing process of the Ni-P surface, and the texturing process of the polished surface are completed. Not cheap. This is partly because the disk substrate is Al
This is because it is a composite composed of a multilayer film of two materials different from each other and Ni-P. On the other hand, in the case of a substrate made of a single material such as ceramics or glass, the number of steps is reduced and the cost can be reduced.

【0008】以上述べたようにNi−P層をテキスチャ
ー加工するにはヘッド浮上性とコストについて、本質的
な問題を有している。本発明は後で述べるように、これ
らの問題点を解決しうる。
[0008] As described above, texturing the Ni-P layer has essential problems in terms of head levitation and cost. The present invention can solve these problems as described later.

【0009】次に、従来技術であるセラミックス基板に
ついて述べる。これは先に引用したように、Al23
TiCのような複合セラミックス基板を用い、一旦は平
面に研磨加工をした後に、複合材料間の材料物性の差を
利用して、化学的にあるいは物理的エッチングにより段
差を形成するものである。
Next, a conventional ceramic substrate will be described. This is, as quoted above, Al 2 O 3
A composite ceramic substrate such as TiC is used, and once a flat surface is polished, a step is formed by chemical or physical etching utilizing the difference in material properties between the composite materials.

【0010】本法ではAl23とTiCの二つの材料の
分散状態により、最終表面の凸起の高さや凸起間の寸法
が決定されるため、非常に高度な分散技術が必要とな
る。
In this method, the height of the projections on the final surface and the dimension between the projections are determined by the dispersion state of the two materials of Al 2 O 3 and TiC, so that a very advanced dispersion technique is required. .

【0011】このAl23−TiC基板を評価したとこ
ろ、次の2点で問題があった。第一に重いこと、もう一
つはボイドの存在である。重量に関してはAl23(ア
ルミナ)の比重が約4と金属Alの1.5倍程ある。こ
れは高速回転する磁気ディスクの機構からは、好ましく
ない特性である。ただし、セラミックスの強度が大きい
分、板の厚みを減少して対策する方法は残されている。
When this Al 2 O 3 —TiC substrate was evaluated, there were two problems as follows. The first is heavy, and the other is the presence of voids. As for the weight, the specific gravity of Al 2 O 3 (alumina) is about 4, which is about 1.5 times that of metallic Al. This is an undesirable characteristic from the mechanism of a magnetic disk rotating at high speed. However, as the strength of the ceramics is large, there is still a method of reducing the thickness of the plate to take measures.

【0012】しかし、もう一つの問題であるボイドは材
料・プロセスから決まる本質的な問題である。すなわ
ち、セラミックス基板の形成において、セラミックス粉
末を焼結して形成するために、粉末粒子間の空隙が完全
には消滅できない。このため、高圧ホットプレス法等が
検討されてはいるが、ボイドを皆無にはできない。ボイ
ドには加工油や水分がしみ込んで残存しやすく、上側に
形成する膜に欠陥を発生させたり、膜の間の密着力を低
下させる。
However, voids, which is another problem, is an essential problem determined by materials and processes. That is, in forming the ceramic substrate, since the ceramic powder is formed by sintering, the voids between the powder particles cannot be completely eliminated. For this reason, a high-pressure hot press method or the like is being studied, but voids cannot be eliminated. Processing oil and moisture tend to permeate and remain in the voids, causing defects in the film formed on the upper side and reducing the adhesion between the films.

【0013】上記の2点を複合セラミックを用いた基板
は実際の使用について問題がある。これに対し、後述す
るように、本発明はこれらの問題がなく、本質的にすぐ
れた基板材料を提供する。
A substrate using a composite ceramic having the above two points has a problem in actual use. In contrast, as described below, the present invention does not have these problems and provides an essentially excellent substrate material.

【0014】従来技術の三番目に挙げた、めっき膜中に
微粒子を分散させる方法は、具体的にはNi−P化学め
っき液中に、Al23やSiCなどの数μmオーダー、
あるいはサブミクロンオーダーの微粒子を混入し、めっ
き膜中に微粒子を取込ませるものである。これにより、
Ni−Pマトリックス中に、硬質微粒子が点在した膜が
形成される。
The method of dispersing fine particles in a plating film, which is the third method of the prior art, is specifically described in a Ni—P chemical plating solution of the order of several μm such as Al 2 O 3 or SiC.
Alternatively, fine particles on the order of submicrons are mixed to incorporate fine particles into the plating film. This allows
A film in which hard fine particles are scattered is formed in the Ni-P matrix.

【0015】この方法の最大の問題は、Al23やSi
C等の微粒子がめっき膜中に均一に分散できないことで
あり、粒子密度の場所による粗密が生じる。そのために
磁気ディスク基板のように、全面にわたり、均一な表面
粗さや表面形状が要求されるものには不適当である。さ
らに、Ni−Pは250℃程度の加熱により強磁性体化
する問題も有する。
The biggest problem of this method is that Al 2 O 3 or Si
Fine particles such as C cannot be uniformly dispersed in the plating film, and the density varies depending on the location of the particle density. Therefore, it is unsuitable for a magnetic disk substrate that requires uniform surface roughness and surface shape over the entire surface. Further, Ni-P also has a problem that it becomes ferromagnetic when heated at about 250 ° C.

【0016】他方磁気ディスク用基板として、強化ガラ
スを用いることは知られている。これは通常のガラス表
面のナトリウムイオンをそれよりイオン半径の大きなカ
リウムイオン等にイオン交換処理し、表面に圧縮応力を
有する強化層を設けることにより、割れにくいガラス基
板を形成するものである。
On the other hand, it is known to use tempered glass as a magnetic disk substrate. In this method, sodium ions on a normal glass surface are subjected to ion exchange treatment with potassium ions having a larger ionic radius and the like, and a strengthened layer having a compressive stress is provided on the surface to form a glass substrate that is hard to break.

【0017】この強化ガラス基板を実際に用いて、磁気
ディスクを形成するときには、その表面にNi−Pめっ
き膜と同様なテキスチャー加工を行って表面を適度に粗
して用いる必要がある。しかし、圧縮応力が強く入った
ガラス表面をテキスチャー加工するとチッピング(か
け)等が生じ易く、表面形状が均一な無欠陥なテキスチ
ャー加工面を形成するのは、かなり難しい。
When a magnetic disk is formed by actually using this tempered glass substrate, it is necessary to use the same surface as that of the Ni-P plating film and appropriately roughen the surface by performing the same texture processing. However, when texturing a glass surface with a strong compressive stress, chipping or the like is likely to occur, and it is quite difficult to form a textured surface with no defect and a uniform surface shape.

【0018】本発明の目的は、これら従来技術の問題点
を解決し、ディスク特性にすぐれた磁気ディスク用基板
を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the problems of the prior art and to provide a magnetic disk substrate having excellent disk characteristics.

【0019】すなわち、磁気ディスク基板に要求される
非磁性,軽量性,機械的強度および無欠陥性を始めと
し、特に摺動信頼性に関連する、ヘッド粘着を防止する
適切な表面粗さ,表面形状や、実際に磁気ディスクを製
造するときに必要となる生産性,耐熱性,低価格性など
の上記すべての総合特性において、従来の基板よりすぐ
れた新規な基板を提供することを本発明の目的とする。
In other words, the appropriate surface roughness and surface suitable for preventing head adhesion, especially related to sliding reliability, including non-magnetic, lightweight, mechanical strength and defect-free properties required for a magnetic disk substrate. shape and productivity required when actually manufacturing the magnetic disk, heat resistance, in all the above overall characteristics such as low cost of the present invention to provide a novel board which is superior than the conventional substrate The purpose of.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記目的は、非晶質であ
るガラスを連続相とし、該ガラス相中に結晶相を散在す
る複合体である結晶化ガラスを用いて、表面に微小な結
晶相の凸起を形成した磁気ディスク用基板であって、上
記凸起の結晶粒子の面密度が10 2 〜10 6 ヶ/mm 2
範囲であり、かつ基板の単位面積に対する上記結晶相が
凸起となって表面に露出している面積の総和が最大でも
30%である磁気ディスク用基板により達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide an amorphous material.
Glass as the continuous phase, and the crystal phase is dispersed in the glass phase.
Using a crystallized glass that is a complex
A magnetic disk substrate having a crystal phase projection formed thereon.
Surface density of the crystal grains of KitotsuOkoshi is 10 2 to 10 6 months / mm 2
Range, and the crystal phase per unit area of the substrate is
Even if the sum of the areas exposed on the surface
Achieved by a magnetic disk substrate that is 30% .

【0021】すなわち、非晶質であるガラスを連続相と
し、そのガラス相中に結晶相を孤立分散させた、一種の
複合材料である結晶化ガラスを基板材料として用い、か
つ本材料の特性を活用して、その表面に微細な凸起を多
数形成することにより、先に述べた目的に好適な基板を
形成するものである。
That is, crystallized glass, which is a kind of composite material in which an amorphous glass is used as a continuous phase and a crystal phase is isolated and dispersed in the glass phase, is used as a substrate material. Utilizing and forming a large number of fine protrusions on the surface, a substrate suitable for the above-mentioned purpose is formed.

【0022】上記問題解決のために結晶化ガラスがどの
ように作用するかを、結晶化ガラス中の分散粒子として
存在する結晶化部分と、連続したマトリックス層である
ガラス層に大別して説明する。
How the crystallized glass works to solve the above-mentioned problem will be roughly described in terms of a crystallized portion existing as dispersed particles in the crystallized glass and a glass layer which is a continuous matrix layer.

【0023】その前に、結晶化ガラスの材料と製造プロ
セスを概説する。結晶化ガラスとはアルカリ金属酸化物
(Li2O,Na2O,K2O)やアルカリ土類酸化物
(MgO,CaO,BaO,SrO)やAl23,Si
2等より選び組合せた材料よりなるものである。製造
法は原料溶融後にガラス板化し、その後結晶化のための
熱処理等により、非晶質ガラス中に部分的に、例えばL
2O,2SiO2等の結晶を析出させるものである。
Before that, the materials of the crystallized glass and the manufacturing process will be outlined. Crystallized glass refers to alkali metal oxides (Li 2 O, Na 2 O, K 2 O), alkaline earth oxides (MgO, CaO, BaO, SrO), Al 2 O 3 , Si
It is made of a material selected and combined from O 2 and the like. The production method is to form a glass plate after melting the raw material, and then to partially form, for example, L in the amorphous glass by a heat treatment for crystallization.
It precipitates crystals such as i 2 O and 2SiO 2 .

【0024】結晶化部の寸法は後で述べるように100
Å〜3.0μm程度が好適範囲であり、寸法と密度は、
熱処理条件により制御できる。この結晶化部の組成は、
Li2O・2SiO2,Li2O・SiO2,LiO2・A
23・2SiO2,Li2O・Al23・4SiO2
SiO2あるいは2MgO・2Al23・5SiO2など
である。結晶化部は、一般にマトリックス層と比較して
硬く、化学的にも安定なため、加工方法・条件を適切に
選ぶことにより、基板表面に均一に分散する微小凸起と
なる。この微小凸起は、磁気ヘッドの点状接触点となる
ため、潤滑油や水分を原因とするヘッドとの粘着現象を
防ぐ効果を有する。また、ディスクが高速回転する時に
間歇的に接触する磁気ヘッドとの衝突による、磁性膜の
損傷を防ぐ役目をする。さらに、この微小の凸起は磁気
ヘッドのスライダー面に堆積する汚れをクリーニングす
る作用をも有する。このため、ヘッドの墜落や衝突を防
止し、ディスク装置の信頼性寿命を飛躍的に増加させる
効果をも有する。
The size of the crystallized portion is set to 100
The preferred range is about Å to 3.0 μm, and the dimensions and density are as follows:
It can be controlled by heat treatment conditions. The composition of this crystallized part is
Li 2 O · 2SiO 2, Li 2 O · SiO 2, LiO 2 · A
l 2 O 3 · 2SiO 2 , Li 2 O · Al 2 O 3 · 4SiO 2 ,
It is such as SiO 2 or 2MgO · 2Al 2 O 3 · 5SiO 2. The crystallized portion is generally harder and more chemically stable than the matrix layer. Therefore, by appropriately selecting the processing method and conditions, the crystallized portion becomes a small protrusion uniformly distributed on the substrate surface. Since the minute projections serve as point-like contact points of the magnetic head, they have an effect of preventing the sticking phenomenon with the head due to lubricating oil or moisture. In addition, it serves to prevent damage to the magnetic film due to collision with a magnetic head that comes into contact intermittently when the disk rotates at high speed. Further, the minute protrusion has an effect of cleaning dirt deposited on the slider surface of the magnetic head. For this reason, it also has the effect of preventing the head from falling or colliding, and dramatically increasing the reliability life of the disk device.

【0025】すなわち、従来広く実用化されている、テ
キスチャー加工表面が有する作用・効果以上の特性を、
この結晶化したガラス表面にある微小凸起は有する。
In other words, the characteristics and effects of the textured surface, which have been widely used in the past, are obtained.
There are minute projections on the crystallized glass surface.

【0026】微結晶は上述のように、本質的には非晶質
体が安定な結晶体へと変態する自然現象により生じ、凸
起はガラス部と結晶化部の硬度等の材料物性の差を用い
て形成している。本質的に形成工程に無理がないプロセ
スである。そのため従来のテキスチャー加工で問題とな
る、バリ、チッピング、切粉の再付着という問題がな
い。さらに、結晶微粒子の寸法の密度を最適化すること
により、凸起の高さを制御でき、その結果基板全面にお
いて、ヘッド浮上特性が非常にすぐれた面を形成でき
る。
As described above, microcrystals are essentially generated by a natural phenomenon in which an amorphous material is transformed into a stable crystal, and the protrusion is caused by a difference in material properties such as hardness between a glass portion and a crystallized portion. It is formed by using. The process is essentially a natural process. Therefore, there is no problem of burrs, chipping, and reattachment of chips, which are problems in the conventional texture processing. Furthermore, by optimizing the density of the size of the crystal fine particles, the height of the protrusion can be controlled, and as a result, a surface with extremely excellent head floating characteristics can be formed over the entire surface of the substrate.

【0027】結晶化部はガラス連続層に生じるミクロク
ラックの終点になるため、クラックの成長、拡大を抑制
する作用を持つ。このため結晶化ガラスの機械的強度や
硬度が増加し割れにくくなり、磁気ディスク基板として
十分な機械強度を実現する作用効果も有する。
The crystallized portion serves as an end point of microcracks generated in the continuous glass layer, and thus has an effect of suppressing the growth and expansion of cracks. For this reason, the mechanical strength and hardness of the crystallized glass are increased, so that the glass is less likely to be broken, and has the effect of realizing sufficient mechanical strength as a magnetic disk substrate.

【0028】次に連続層としてのガラス層の作用・効果
を以下に示す。 (1)材料組成的に非磁性であり、加熱等により磁化す
る心配がないこと。(2)地球上に豊富に存在する元素
(Al,Si,Na,O等)よりなる原材料のため本質
的に安価であること。(3)材料的には、単一基板材料
であるため、工程数が少なくて済み製造コストを低くで
きる。(4)溶融過程を経てガラス化して形成するた
め、焼結材料で問題となる、ボイド,空隙が無い。
Next, the operation and effect of the glass layer as a continuous layer will be described below. (1) The material composition is non-magnetic, and there is no fear of being magnetized by heating or the like. (2) It is essentially inexpensive because it is a raw material composed of elements (Al, Si, Na, O, etc.) which are abundant on the earth. (3) Since the material is a single substrate material, the number of steps is small and the manufacturing cost can be reduced. (4) Since it is formed by vitrification through a melting process, there are no voids and voids, which are problems with sintered materials.

【0029】その他、結晶化ガラスは結晶化という自然
現象を利用しているため、析出する微結晶粒子は本質的
に均一に分散する特性を持つ。
In addition, since crystallized glass utilizes a natural phenomenon called crystallization, precipitated microcrystalline particles have a property of being substantially uniformly dispersed.

【0030】以上に示したように結晶化ガラスは析出結
晶層とマトリックスガラス層がそれぞれの長所を出し合
い、また、その相互作用によりすぐれた物性を持つ。よ
って、磁気ディスク用高性能基板として好適な複合材料
である。
As described above, in the crystallized glass, the precipitated crystal layer and the matrix glass layer have advantages of each other, and have excellent physical properties due to their interaction. Therefore, it is a composite material suitable as a high-performance substrate for a magnetic disk.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(実施例1)以下に、本発明の一実施例を説明する。結
晶化ガラスを用いた磁気ディスク基板の製造工程は材料
調整から出発し、以下続いて加熱溶融,ガラス板の形
成,円板形状の加工,核発生熱処理,核成長熱処理,表
面研磨加工の順序で行うのが基本である。
(Embodiment 1) An embodiment of the present invention will be described below. The process of manufacturing a magnetic disk substrate using crystallized glass starts with material adjustment, and then continues in the order of heat melting, glass plate formation, disk shape processing, nucleation heat treatment, nucleus growth heat treatment, and surface polishing. It is basically to do.

【0032】製造工程は上記に限ったものではなく、例
えば表面研磨加工の代わりににスパッタエッチングや化
学的エッチングを行っても良いし、円板形状加工後に円
板表面の高速の平坦平滑性実現のための機械加工を実施
してから熱処理しても良い。また熱処理は一段で済ます
こともできる。
The manufacturing process is not limited to the above. For example, sputter etching or chemical etching may be performed instead of surface polishing, or high-speed flat smoothness of the disk surface can be realized after the disk shape processing. The heat treatment may be performed after performing the machining for the purpose. The heat treatment can be completed in one step.

【0033】技術内容,材料特性に応じて工程の順序
や、工程の内容を変更することは、本発明の主旨に反す
るものではない。
Changing the order of the steps and the contents of the steps in accordance with the technical contents and material characteristics does not depart from the gist of the present invention.

【0034】以下に上記した代表的な工程手順に従っ
て、実施例を説明していく。本実施例においては材料と
してLi2O−SiO2−P25系を用いた。すなわち、
Li2O成分が19.4wt%,SiO2成分が77.9
wt%,P25成分が2.7wt%になるように、原料
粉末であるLi2CO3,SiO2,H3PO4を秤量し、
通常の方法で混合した。
Examples will be described below in accordance with the above-described typical process procedures. In this embodiment, a Li 2 O—SiO 2 —P 2 O 5 system was used as a material. That is,
Li 2 O component 19.4 wt%, SiO 2 component 77.9
The raw material powders Li 2 CO 3 , SiO 2 , and H 3 PO 4 are weighed so that the wt% and the P 2 O 5 component become 2.7 wt%.
Mix in the usual way.

【0035】次に材料を1400℃で加熱溶融した後、
液体金属スズを用いたフロート法を用い、厚さ2.0m
mのガラス板に形成する。このガラス板より直径130
−内径40の寸法にガラス円板を機械加工により切出し
た。
Next, after heating and melting the material at 1400 ° C.,
2.0 m thick using float method using liquid metal tin
m on a glass plate. 130 diameter from this glass plate
-A glass disk was cut out by machining to an inner diameter of 40.

【0036】次にガラス円板を熱処理炉に入れ、10℃
/min.の昇温速度で550℃まで加熱後に1分間保
持し、その後10℃/min.の昇温速度で600℃ま
で昇温し、同温度で1分間保持した後に冷却した。冷却
は5℃/min.の速度で行った。
Next, the glass disk is placed in a heat treatment furnace and placed at 10 ° C.
/ Min. After heating to 550 ° C. at a heating rate of 1 minute, the temperature was maintained for 1 minute, and then 10 ° C./min. The temperature was raised to 600 ° C. at the temperature rising rate, and the temperature was maintained for 1 minute, followed by cooling. Cooling was performed at 5 ° C./min. At a speed of

【0037】上記の550℃の熱処理は、ガラス中に結
晶核を発生するための処理であり、その後の600℃の
熱処理はその結晶核を成長し、所定の寸法にするための
処理である。磁気ディスク用の結晶化ガラス基板では、
ガラス中に析出する結晶核の密度と寸法が、磁気ディス
クとしての特性と密度に関連するため、特に重要とな
る。
The above-mentioned heat treatment at 550 ° C. is a treatment for generating crystal nuclei in the glass, and the subsequent heat treatment at 600 ° C. is a treatment for growing the crystal nuclei to a predetermined size. For crystallized glass substrates for magnetic disks,
The density and size of the crystal nuclei precipitated in the glass are particularly important because they relate to the characteristics and density of the magnetic disk.

【0038】上記した熱処理の温度と時間は、結晶核の
密度と寸法を決定する。従って本実施例で示した条件以
外にも必要に応じて熱処理温度と時間を変えることはか
まわない。一般的には核形成温度はガラス転移温度より
少し高い温度が好ましく、核成長温度は核発生の処理温
度よりは高く、かつ軟化温度よりは低い温度が好適な範
囲である。
The temperature and time of the heat treatment determine the density and size of the crystal nucleus. Therefore, other than the conditions described in this embodiment, the heat treatment temperature and time may be changed as needed. Generally, the nucleation temperature is preferably slightly higher than the glass transition temperature, and the nucleus growth temperature is preferably higher than the nucleation processing temperature and lower than the softening temperature.

【0039】次に熱処理冷却後のガラス基板を研磨加工
機で加工する。研磨機は研磨定盤を上下に2枚設けたも
ので、加工するガラス基板を治具を用いてその中間には
さみ、定盤を回転することにより、加工する。
Next, the glass substrate after the heat treatment and cooling is processed by a polishing machine. The polishing machine is provided with two polishing plates on the upper and lower sides. The glass substrate to be processed is sandwiched between jigs using a jig, and the polishing is performed by rotating the platen.

【0040】当研磨加工の目的は、結晶化ガラス表面に
微細な凸起を作るためである。すなわち結晶化ガラス中
のガラス部分が結晶化部と比較して、硬度が低いため比
較的すみやかに研磨加工され、結果として表面に微細な
凸起を形成できる。この場合結晶化部が凸起となる。し
かも、好適なことには、万一表面に異常に高い凸起があ
る場合定盤加圧力がその点に集中するため、このような
高い凸起はすみやかに除去される。
The purpose of this polishing process is to form fine projections on the surface of the crystallized glass. That is, since the glass portion in the crystallized glass has a lower hardness than the crystallized portion, it is polished relatively promptly, and as a result, a fine projection can be formed on the surface. In this case, the crystallized portion becomes convex. In addition, it is preferable that if there is an abnormally high protrusion on the surface, the platen pressure is concentrated at that point, and such a high protrusion is promptly removed.

【0041】従って当加工法を用いれば、基板面内で凸
起の高さがよく揃った加工表面を得ることができる。従
って、磁気ヘッドに衝突する異常に高い凸起がなく、か
つ、摺動信頼性や粘着を防止するに必要十分な微細で均
一な凸起を有する表面が得られる。
Therefore, by using this processing method, it is possible to obtain a processed surface in which the heights of the protrusions are uniform in the plane of the substrate. Therefore, it is possible to obtain a surface having no abnormally high protrusions colliding with the magnetic head and having fine and uniform protrusions necessary and sufficient for preventing sliding reliability and adhesion.

【0042】尚、当研磨加工の定盤加圧力,回転速度,
時間や研磨材質は、加工面の微細凸起形状を支配する重
要なものである。
The polishing platen pressure, rotation speed,
The time and the polishing material are important in controlling the fine convex shape of the processed surface.

【0043】次に有機溶剤,純水を用い、ブラッシング
や超音波を用いて、基板の表面を洗浄した。
Next, the surface of the substrate was washed with an organic solvent and pure water using brushing or ultrasonic waves.

【0044】その後、真空スパッタ装置内にて300℃
で真空ベークした後、クロム下地膜,Co−Ni磁性膜
およびカーボン保護膜を順次形成する。最後に大気中で
表面にフッ素形炭化水素よりなる潤滑油を塗布して磁気
ディスクとして完成する。尚、Cr下地層は場合によっ
ては設けなくてもかまわない。
Thereafter, in a vacuum sputtering apparatus at 300 ° C.
Then, a chromium base film, a Co—Ni magnetic film, and a carbon protective film are sequentially formed. Finally, a lubricating oil composed of fluorine-type hydrocarbon is applied to the surface in the atmosphere to complete a magnetic disk. The Cr underlayer may not be provided in some cases.

【0045】本実施例に係る磁気ディスクの性能を試験
したところ、記録密度は65,000bit/inch
を達成し、この時のヘッドの最小浮上高さは0.08μ
mであった。また、摺動信頼性として耐CSS特性(C
ontact StartStop)を評価したとこ
ろ、50,000回まで実施しても、ヘッドクラッシュ
を生じることなく、かつ試験後の磁気ヘッドスライダー
面に汚れ等の付着は皆無であった。
When the performance of the magnetic disk according to the present embodiment was tested, the recording density was 65,000 bits / inch.
And the minimum flying height of the head at this time is 0.08 μm.
m. In addition, CSS resistance (C
As a result of evaluation of the contact start stop, no head crash occurred and no adhesion of dirt or the like was observed on the magnetic head slider surface after the test even when the test was performed up to 50,000 times.

【0046】粘着力も従来のコーティングディスクと同
等以下の低い値を示し、実用上の問題は無いことを確認
した。
The adhesive strength also showed a low value equal to or lower than that of the conventional coated disk, and it was confirmed that there was no practical problem.

【0047】(実施例2)実施例1においては材料とし
てLi2O−SiO2−P25系を用いたが、結晶化ガラ
ス材料としてはこれに限るものではなく、以下の材料系
も好適なディスク用結晶化ガラス基板を提供する。 Li2O−SiO2系 Li2O−Al23−SiO2系 Li2O−MgO−Al23−SiO2系 MgO−Al23−SiO2系 Na2O−Al23−SiO2系 BaO−Al23−SiO2系 また、上記の材料系より得られる析出結晶相としては、
次のものがある。 Li2O・SiO2 Li2O・2SiO2 LiO2・Al23・2SiO2 Li2O・Al23・4SiO2 SiO2 2MgO・2Al23・5SiO2 これらの析出相は出発材料,熱処理条件および後に述べ
る核形成促進剤などによって決定されるもので、様々な
組合せで析出するものであり、決して一義的に決まるも
のではない。
Example 2 In Example 1, a Li 2 O—SiO 2 —P 2 O 5 system was used as a material, but the crystallized glass material is not limited to this, and the following material systems are also used. A crystallized glass substrate for a disk is provided. Li 2 O—SiO 2 system Li 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 system Li 2 O—MgO—Al 2 O 3 —SiO 2 system MgO—Al 2 O 3 —SiO 2 system Na 2 O—Al 2 O 3- SiO 2 system BaO-Al 2 O 3 -SiO 2 system In addition, as a precipitated crystal phase obtained from the above-mentioned material system,
There are the following: Li 2 O · SiO 2 Li 2 O · 2SiO 2 LiO 2 · Al 2 O 3 · 2SiO 2 Li 2 O · Al 2 O 3 · 4SiO 2 SiO 2 2MgO · 2Al 2 O 3 · 5SiO 2 these precipitation phases starting It is determined by the material, the heat treatment conditions, the nucleation accelerator described below, and the like, and is precipitated in various combinations, and is not uniquely determined.

【0048】一般に結晶化ガラスを作製するのに核形成
剤の添加がしばしば行われている。例えば、金や銀や銅
とセリウムとの組合せで生じる金属コロイゴを用いる方
法がある。その他にもTiO2,ZrO2,P25のよう
な酸化物も核形成促進剤として使用可能であり、これ以
外にもNb,Ta,Mo,W元素などを用いても良い。
一方、ガラス材料の種類によっては核形成剤を添加しな
くても良いものもある。
In general, a nucleating agent is often added to produce crystallized glass. For example, there is a method using metal colligo produced by a combination of gold, silver, copper and cerium. In addition, oxides such as TiO 2 , ZrO 2 , and P 2 O 5 can also be used as nucleation promoters, and Nb, Ta, Mo, W elements, etc. may be used.
On the other hand, some types of glass materials do not require the addition of a nucleating agent.

【0049】(実施例3)実施例1の場合に、二段階の
熱処理工程により生じた析出結晶相は平均密度5×10
4ヶ/mm2であり、平均粒子の寸法は、0.05μmで
あった。
(Example 3) In the case of Example 1, the precipitated crystal phase produced by the two-step heat treatment step had an average density of 5 × 10
4 particles / mm 2 , and the average particle size was 0.05 μm.

【0050】この析出結晶相の出発材料が同一の場合に
は平均密度と平均粒子の寸法は、二段階の熱処理温度と
時間によって決定される。ここで重要なのは熱処理条件
ではなく、得られる析出結晶相の密度と寸法である。我
々は数多くの基板サンプルと、その基板を用いたときの
ディスクの性能を評価した実験結果から、析出結晶相の
平均粒子の径が0.01〜3.0μmであり、その平均
密度が102〜106ヶ/mm2の範囲であることが、デ
ィスク用基板として好適な特性範囲であることを明らか
にした。
When the starting material of the precipitated crystal phase is the same, the average density and the average particle size are determined by the two-stage heat treatment temperature and time. What is important here is not the heat treatment condition but the density and size of the obtained precipitated crystal phase. From the results of a large number of substrate samples and the results of an experiment evaluating the performance of the disk using the substrate, the average particle size of the precipitated crystal phase was 0.01 to 3.0 μm, and the average density was 10 2. in the range of 10 6 months / mm 2 has revealed that the preferred range of properties as a substrate for a disk.

【0051】粒子径が100Å以下であると、基板上に
形成する微小な凸起が小さすぎてしまい、磁気ヘッドと
の粘着という不具合を生じる。他方、粒子径が3.0μ
m以上になると表面の凸起が大きくなり過ぎ、磁気ヘッ
ドの浮上障害となるような凸起が多数生じて不具合であ
る。またビットエラーも増加する。
If the particle diameter is less than 100 °, the minute projections formed on the substrate will be too small, causing a problem of sticking to the magnetic head. On the other hand, the particle size is 3.0 μm.
When it is more than m, the protrusion on the surface becomes too large, and a large number of protrusions are generated which may cause the magnetic head to fly, which is a problem. Also, bit errors increase.

【0052】以上の結果から析出結晶相の好適な平均粒
径は0.01〜3.0μmの範囲である。
From the above results, the preferred average particle size of the precipitated crystal phase is in the range of 0.01 to 3.0 μm.

【0053】粒子密度に関しても同様に下限と上限があ
り、102ヶ/mm2以下の粒子密度になると、磁気ヘッ
ドの粘着を生じやすくなる。逆に粒子密度が106ヶ/
mm2を超えると、磁気ヘッドのスライダー面の摩耗が
大きくなることや信号ノイズの増加が生じるといった不
具合を生じる。
Similarly, the particle density has a lower limit and an upper limit. When the particle density is 10 2 particles / mm 2 or less, the magnetic head tends to stick. Conversely, the particle density is 10 6 /
If it exceeds mm 2 , problems such as an increase in wear of the slider surface of the magnetic head and an increase in signal noise occur.

【0054】以上の結果から析出結晶相の好適な密度は
102〜106ヶ/mm2である。
From the above results, the preferred density of the precipitated crystal phase is 10 2 to 10 6 / mm 2 .

【0055】また、凸起となって表面に存在している結
晶粒子の面積の総和が、基板の単位面積に対して占める
割合も重要である。比率が30%を超えると、ヘッド浮
上特性に不具合を生じるため、30%以下が好適範囲であ
り、十分である。
It is also important that the total area of the crystal grains present on the surface in the form of protrusions occupy a unit area of the substrate. If the ratio exceeds 30%, a problem occurs in the flying characteristics of the head. Therefore, 30% or less is a preferable range and is sufficient.

【0056】(実施例4)先の実施例1においては2段
階の熱処理後に研磨加工をすることにより、表面に凸起
を形成した。表面における凸起の定量的表現としては、
凸起の高さを用いる。これは連続相であるガラス相が持
つ表面粗さの中心位置を基準線とし、そこから結晶相よ
りなる凸起の頂上までの平均高さを言う。
(Example 4) In Example 1 above, a projection was formed on the surface by polishing after two-step heat treatment. As a quantitative expression of the protrusion on the surface,
The height of the protrusion is used. This refers to the average height from the center position of the surface roughness of the glass phase, which is a continuous phase, to a reference line and from there to the top of the protrusion made of the crystal phase.

【0057】実施例1での研磨加工後の平均の凸起の高
さは0.02μmであった。この平均の凸起の高さは、
析出結晶相の寸法,密度、および研磨加工条件により制
御可能な量であるが、種々検討した結果、凸起の高さは
0.005〜0.20μmの範囲が好適な範囲であるこ
とを明らかにした。
The average height of protrusions after polishing in Example 1 was 0.02 μm. The height of this average protrusion is
It is an amount that can be controlled by the size, density, and polishing conditions of the precipitated crystal phase. However, as a result of various studies, it is clear that the height of the protrusion is preferably in the range of 0.005 to 0.20 μm. I made it.

【0058】すなわち、凸起高さが0.20μmを超え
てより高くなると、表面粗さが大きくなって、磁気ヘッ
ドが安定して浮上しなくなることや、S/Nが悪くなる
不具合を生じる。逆に、その高さが0.005μm以下
になると、表面特性が鏡面のそれに近づくために、ヘッ
ドとの粘着の発生等の不具合を生じる。
That is, when the height of the protrusion exceeds 0.20 μm and becomes higher, the surface roughness increases, and the magnetic head does not stably fly or the S / N deteriorates. Conversely, if the height is less than 0.005 μm, the surface characteristics approach those of a mirror surface, causing problems such as generation of adhesion to the head.

【0059】以上の結果により、微小凸起の平均高さは
0.005〜0.20μmが好適な範囲であることが判
る。
From the above results, it is understood that the average height of the fine protrusions is preferably in the range of 0.005 to 0.20 μm.

【0060】(実施例5)先の実施例1においては、結
晶核成長のための熱処理後に研磨加工を実施し、結晶相
とガラス相の硬度差を利用して、表面の凸起を形成し
た。この研磨加工は一応用例であり、それ以外にも、ガ
ラス基板を真空中にセットして、Ar+イオンを高速で
衝突させてエッチングする、いわゆるイオンミーリング
やスパッタエッチング法によっても代替可能である。
(Example 5) In Example 1 described above, polishing was performed after heat treatment for crystal nucleus growth, and surface protrusions were formed using the difference in hardness between the crystal phase and the glass phase. . This polishing is one application example, and in addition, it can be replaced by a so-called ion milling or sputter etching method in which a glass substrate is set in a vacuum and bombarded with Ar + ions at a high speed to perform etching.

【0061】同様にAl23やSiCの微粒子を空気と
共に吹きつけて加工する、いわゆるサンドブラスト処理
と言われている方法によっても可能である。
Similarly, a method called so-called sand blasting, in which fine particles of Al 2 O 3 or SiC are blown together with air for processing, is also possible.

【0062】さらに化学的方法としては、結晶相とガラ
ス相のフッ酸系の処理液に対するエッチング速度の差を
利用し、結晶相を凸起として形成する方法も可能であ
る。この場合は結晶化ガラス基板を一定時間、処理液に
浸漬するという、比較的安価なプロセスとなる得る長所
がある。
Further, as a chemical method, a method in which a crystal phase is formed as a protrusion by utilizing a difference between an etching rate of a crystal phase and a glass phase with respect to a hydrofluoric acid-based processing solution is also possible. In this case, there is an advantage that a relatively inexpensive process of immersing the crystallized glass substrate in the treatment liquid for a certain time can be obtained.

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明によれば、結晶化ガラスの有する
すぐれた特性を活用する磁気ディスク用基板を形成でき
るため、以下に挙げる数々の実用上の効果が得られる。
According to the present invention, it is possible to form a magnetic disk substrate utilizing the excellent properties of crystallized glass, so that the following practical effects can be obtained.

【0064】1.ヘッド浮上特性,ヘッド粘着特性の向
上 本発明に係る結晶化ガラス基板は、磁気ヘッドの粘着現
象を防ぎつつ、安定したヘッドの低浮上特性を実現でき
る。定量的に示せば、ヘッド粘着力の値として実績のあ
るコーティングディスクのそれを1.0とすれば、従来
のNi−Pテキスチャー基板のそれは1.2〜1.3で
あるが、本発明の値は0.9〜1.0である。
1. Improvement of Head Flying Characteristics and Head Adhesion Characteristics The crystallized glass substrate according to the present invention can realize stable low flying characteristics of the head while preventing the adhesion phenomenon of the magnetic head. Quantitatively, if the value of the head adhesive force is assumed to be 1.0 for a coated disk having a proven track record, that of a conventional Ni-P texture substrate is 1.2 to 1.3, but that of the present invention is The value is between 0.9 and 1.0.

【0065】磁気ヘッドの浮上特性に関しては、基板の
状態でヘッドに衝突する凸起が無いときの最小限界浮上
量を比較する。従来のNi−Pテキスチャー基板のそれ
は0.15μmに対し、本発明の浮上量は0.08μm
である。
Regarding the flying characteristics of the magnetic head, a comparison is made between the minimum limit flying height when there is no protrusion that collides with the head in the state of the substrate. The flying height of the present invention is 0.08 μm, while that of the conventional Ni—P texture substrate is 0.15 μm.
It is.

【0066】重要なことはヘッド粘着力を低く保ったま
ま、ヘッドの浮上量を0.08μmまで低減できること
である。
It is important that the flying height of the head can be reduced to 0.08 μm while keeping the adhesive strength of the head low.

【0067】これは、本発明に係るディスク基板の表面
の凸起は本質的には非晶質から結晶への相変化を活用し
て形成しているため、均一で再現性と制御性とに富むた
めである。
This is because the projections on the surface of the disk substrate according to the present invention are formed essentially by utilizing the phase change from amorphous to crystalline, so that the reproducibility and controllability are uniform. To be rich.

【0068】また、形成した表面の凹凸の形状は円板面
内で円周方向にも半径方向にも等方的に分布しているた
め、磁気ヘッドの円周方向、半径方向での粘着力が等方
的になる。これはテキスチャー加工が円周方向のみの一
方向加工で非対称である点と本質的に異なる。
Further, since the formed irregularities on the surface are isotropically distributed both in the circumferential direction and in the radial direction within the disk surface, the adhesive force of the magnetic head in the circumferential direction and in the radial direction is obtained. Becomes isotropic. This is essentially different from the fact that the texturing is asymmetrical in one direction only in the circumferential direction.

【0069】2.ヘッド・ディスク摺動信頼性の向上 本発明に係るディスク基板を用いて製造した薄膜磁気デ
ィスクの耐CSS回数は50,000回以上を記録し、
従来から実績のあるコーティングディスクと比較しても
遜色はない。比較として、テキスチャー加工したNi−
P基板を用いて製造した薄膜磁気ディスクのそれはCS
Sが32,000回でヘッドクラッシュを生じた。
2. Improvement of head-disk sliding reliability The thin-film magnetic disk manufactured using the disk substrate according to the present invention has a CSS resistance count of 50,000 or more,
There is no inferiority to the coated disk that has been used in the past. As a comparison, textured Ni-
A thin-film magnetic disk manufactured using a P substrate has a CS
When S was 32,000 times, a head crash occurred.

【0070】結晶化ガラス基板を用いることにより、こ
のように摺動信頼性が向上するのは次の理由による。
The use of the crystallized glass substrate improves the sliding reliability for the following reasons.

【0071】一つには、基板表面に散在する結晶化部よ
りなる凸起先端が磁気ヘッドのスライダー面に付着する
汚れ等をクリーニングする効果をもつこと。
One is that the protruding tip made of crystallization portions scattered on the substrate surface has an effect of cleaning dirt and the like adhering to the slider surface of the magnetic head.

【0072】二つには、散在する凸起の間の空間が、ヘ
ッドディスクの摺動で生じる微小な摩耗粉のトラップ場
所になること。
Secondly, the space between the scattered protrusions serves as a place for trapping minute wear powder generated by sliding of the head disk.

【0073】三つめには上記凸起先端でヘッドスライダ
ーを支えるため、粘着が生じにくくなり、かつ保護膜や
媒体の面状破壊を生じにくくしていることである。な
お、ある確率にて、凸起の先端では保護膜や媒体が除去
され、硬い結晶析出相が露出することもあるが、それに
よって本発明の効果がそこなわれるものではない。
Thirdly, since the head slider is supported by the protruding tip, adhesion is hardly generated, and the protective film and the medium are hardly destructed. Note that, at a certain probability, the protective film and the medium are removed at the tips of the protrusions, and a hard crystal precipitation phase may be exposed, but this does not impair the effects of the present invention.

【0074】3.工程短縮 現在広く用いられているAl合金上にNi−Pめっき膜
を形成した2層構造の基板と比較し、本発明の結晶化ガ
ラス基板は単層,単一基板である。従って工程数の大巾
低減が出来る。Ni−P基板の場合は、一例を挙げれば
Alの電解精錬より出発し、以下、鋳造,熱間圧廷,冷
間圧廷,円板プレス打抜き,内外径加工,表面荒加工,
熱処理,表面仕上加工,めっき前処理,Ni−Pめっ
き,めっき表面研磨加工を経て、ようやく基板が完成す
る。その工程数は12にもなる。一方本発明の結晶化ガ
ラス基板の製造工程数は、実施例にも挙げたように、せ
いぜい6工程であり、半減できる。この結果、製造設備
費や加工費も約半減でき、基板製造コスト低減に大きな
効果をもつ。
3. Process Shortening Compared with a substrate having a two-layer structure in which a Ni-P plating film is formed on an Al alloy, which is widely used at present, the crystallized glass substrate of the present invention is a single-layer, single-layer substrate. Therefore, the number of steps can be greatly reduced. In the case of a Ni-P substrate, starting from electrolytic refining of Al, for example, casting, hot pressing, cold pressing, disk press punching, inner / outer diameter processing, surface roughing,
The substrate is finally completed through heat treatment, surface finishing, plating pretreatment, Ni-P plating, and plating surface polishing. The number of steps is as large as twelve. On the other hand, the number of manufacturing steps of the crystallized glass substrate of the present invention is at most six as described in the examples, and can be reduced by half. As a result, manufacturing equipment costs and processing costs can be reduced by about half, and this has a great effect on reducing substrate manufacturing costs.

【0075】4.材料物性による効果 従来広く用いられているAl合金上にNi−Pめっき膜
を形成した基板では、Al合金の比重が2.63であ
る。これに対し、本発明に係る結晶化ガラス基板の比重
は2.4〜2.5であり、Al合金より少しだが軽い。
従ってディスク装置の回転機構等への負担が低減できる
効果をもつ。
4. Effect of Material Properties In a substrate in which a Ni—P plating film is formed on an Al alloy that has been widely used in the past, the specific gravity of the Al alloy is 2.63. On the other hand, the specific gravity of the crystallized glass substrate according to the present invention is 2.4 to 2.5, which is slightly lighter than the Al alloy.
Therefore, there is an effect that the load on the rotating mechanism of the disk device can be reduced.

【0076】本発明による材料は、本質的に非磁性材料
であるため、例え300℃〜400℃の加熱をしても、
磁化する心配が皆無である。これはNi−P基板が約2
50〜280℃以上で磁化し、基板として使えなくなる
のに比較し、プロセス上の大きな耐熱マージンを持ち、
十分な基板の脱ガス等が可能となる。
Since the material according to the present invention is essentially a non-magnetic material, even if it is heated at 300 ° C. to 400 ° C.,
There is no worry about magnetization. This is because the Ni-P substrate is about 2
It has a large heat-resisting margin in the process compared to being magnetized at 50 to 280 ° C or higher and becoming unusable as a substrate,
Degassing of the substrate can be sufficiently performed.

【0077】本発明に係る磁気ディスク基板は一度溶融
し、液体状態を経てからガラス化しているため、本質的
にボイド欠陥が無い。これはセラミックス基板が粉体焼
結法で作られ、ボイドを発生しやすい点と対称的であ
る。ビットエラーの極めて少ない磁気ディスクを製造で
きる。
Since the magnetic disk substrate according to the present invention is once melted and vitrified after passing through a liquid state, there is essentially no void defect. This is symmetric with the point that the ceramic substrate is made by the powder sintering method and voids are easily generated. A magnetic disk with extremely few bit errors can be manufactured.

【0078】本発明に係る磁気ディスク基板は材料物性
として、通常の一般のガラスと比較して、はるかに高強
度である。例えば一般的な板ガラスの曲げ強度が約50
0kg/cm2であるのに対し、本発明に係る結晶化ガ
ラスは1500から最高3500kg/cm2にも達す
る。
The magnetic disk substrate according to the present invention has a material property much higher in strength than ordinary general glass. For example, the bending strength of general sheet glass is about 50
In contrast to 0 kg / cm 2 , the crystallized glass according to the invention reaches from 1500 up to 3500 kg / cm 2 .

【0079】これは、割れにくい、実用強度を持つ基板
を形成できる。
This makes it possible to form a substrate which is hard to crack and has practical strength.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る結晶化ガラス基板を有する磁気デ
ィスクの断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a magnetic disk having a crystallized glass substrate according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…結晶化ガラス基板、 2…Cr下地膜、 3…Co−Ni系磁性膜、 4…カーボン保護膜(表面潤滑油塗布)。 1. Crystallized glass substrate, 2. Cr underlayer, 3. Co-Ni magnetic film, 4. Carbon protective film (surface lubricating oil applied).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 5/62 C03B 32/02 C03C 10/04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G11B 5/62 C03B 32/02 C03C 10/04

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】非晶質であるガラスを連続相とし、該ガラ
ス相中に結晶を散在する複合体である結晶化ガラス
用いて、表面に微小な結晶の凸起を形成した磁気ディ
スク用基板であって、上記凸起の結晶粒子の面密度が1
2〜106ヶ/mm2の範囲であり、かつ基板の単位面
積に対する上記結晶相が凸起となって表面に露出してい
る面積の総和が最大でも30%であることを特徴とする
磁気ディスク用基板。
An amorphous glass is used as a continuous phase, and crystallized glass , which is a composite in which a crystal phase is scattered in the glass phase, is used to form a small crystal phase on the surface. Wherein the areal density of the protruding crystal grains is 1
0 2 to 10 6 / mm 2 and the unit surface of the substrate
The crystal phase with respect to the product is convex and is exposed on the surface.
A substrate for a magnetic disk having a total area of at most 30%.
【請求項2】(2) 非晶質であるガラスを連続相とし、該ガラThe amorphous glass is used as a continuous phase, and the glass
ス相中に結晶相を散在する複合体である結晶化ガラスをCrystallized glass, which is a complex in which the crystalline phase is scattered in the
用いて、表面に微小な結晶相の凸起を形成した磁気ディA magnetic crystal with a microcrystalline phase bump on the surface.
スクであって、上記凸起の結晶粒子の面密度が10Wherein the area density of the protruding crystal grains is 10 2Two ~
1010 66 ヶ/mmPcs / mm 2Two の範囲であり、かつ基板の単位面積に対And the unit area of the substrate
する上記結晶相が凸起となって表面に露出している面積The area where the above-mentioned crystal phase becomes convex and is exposed on the surface
の総和が最大でも30%であり、この基板に磁性膜,保The total sum of the substrates is at most 30%.
護膜及び潤滑油層を設けたことを特徴とする磁気ディスA magnetic disk comprising a protective film and a lubricating oil layer.
ク。H.
【請求項3】(3) 表面に結晶相が凸起となって露出する結晶Crystals that are exposed due to the protruding crystal phase on the surface
粒子の面密度が10When the areal density of particles is 10 2Two 〜10-10 66 ヶ/mmPcs / mm 2Two の範囲にありかIn the range of
つ板の単位面積に対する上記結晶相が凸起となって露出The above crystal phase with respect to the unit area of the veneer becomes convex and exposed
する結晶粒子の面積の総和が最大でも30%である微小With the total area of the crystal grains to be grown is at most 30%
な結晶化ガラスの凸起を形成するための微細な結晶を、Fine crystals to form the projections of
ガラス内部に多数析出させたことを特徴とする磁気ディA magnetic layer characterized by being deposited in large numbers inside glass
スク用ガラス板。Glass plate for disc.
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