JP2945453B2 - Partial unevenness image forming material and partial unevenness image forming method - Google Patents

Partial unevenness image forming material and partial unevenness image forming method

Info

Publication number
JP2945453B2
JP2945453B2 JP22900190A JP22900190A JP2945453B2 JP 2945453 B2 JP2945453 B2 JP 2945453B2 JP 22900190 A JP22900190 A JP 22900190A JP 22900190 A JP22900190 A JP 22900190A JP 2945453 B2 JP2945453 B2 JP 2945453B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin layer
photocurable resin
partial
exposed portion
uneven
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP22900190A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH04109248A (en
Inventor
敏浩 小池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kimoto Co Ltd
Original Assignee
Kimoto Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kimoto Co Ltd filed Critical Kimoto Co Ltd
Priority to JP22900190A priority Critical patent/JP2945453B2/en
Publication of JPH04109248A publication Critical patent/JPH04109248A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2945453B2 publication Critical patent/JP2945453B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は凹凸形状部分と平滑な部分とを有する部分凹
凸画像を得るための部分凹凸画像形成材料と、それを用
いた部分凹凸画像形成方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a partial uneven image forming material for obtaining a partial uneven image having an uneven portion and a smooth portion, and a partial uneven image forming method using the same. About.

[従来の技術及び発明が解決しようとする課題] 従来、プラスチックフィルム等の表面を部分的に凹凸
形状にし艶消性を付与することにより模様を形成する方
法としてサンドブラスト加工による模様形成法が用いら
れており、これには(イ)型紙を用いる方法、(ロ)感
光性樹脂によるレジストを用いる方法、(ハ)印刷によ
るインキの防護膜を利用する方法が知られている。
[Problems to be Solved by the Related Art and the Invention] Conventionally, a pattern forming method by sandblasting has been used as a method of forming a pattern by partially making the surface of a plastic film or the like uneven to give a matte property. There are known (a) a method using a pattern paper, (b) a method using a resist made of a photosensitive resin, and (c) a method using an ink protective film by printing.

これらの方法は、(1)(イ)の場合は手細工等によ
り型紙を一々切り抜き、このものをプラスチックフィル
ム等に接着剤を用いて貼り合わせることにより、(ロ)
の場合はプラスチックフィルム等の表面に感光性樹脂を
用いてフォトレジストを形成することにより、(ハ)の
場合、プラスチックフィルム等の表面に直接印刷または
転写することにより所要の模様の防護膜を形成する、
(2)プラスチックフィルム表面にサンドブラスト加工
により砂を噴射せしめて防護膜におおわれていない箇所
に粗面を形成する、(3)溶剤等にて型紙等の防護膜を
剥離し、さらに付着しているケイ砂粉を水で洗浄し、乾
燥するという工程を経ることにより所要の模様を得るも
のである。
In these methods, in the case of (1) and (a), a pattern is cut out by hand or the like, and this is cut out and bonded to a plastic film or the like using an adhesive.
In the case of (1), a photoresist is formed on the surface of a plastic film or the like using a photosensitive resin, and in the case of (3), a protective film having a required pattern is formed by directly printing or transferring on the surface of the plastic film or the like. Do
(2) Sand is blown onto the surface of the plastic film by sand blasting to form a rough surface at a place not covered with the protective film. (3) The protective film such as a pattern is peeled off with a solvent or the like and further adhered. A desired pattern is obtained by washing the silica sand powder with water and drying.

すなわち上記3法とも何らかの方法で防護膜を形成し
たのちにサンドブラスト加工を必要とするため容易に所
要の模様を得ることができるとは言いがたく、作業性、
コストの面からも多品種小量生産には不向きであった。
That is, since the above three methods require sandblasting after forming a protective film by any method, it is difficult to say that a required pattern can be easily obtained.
It was not suitable for high-mix low-volume production in terms of cost.

またプラスチックフィルム等の表面を凹凸形状にし艶
消性を与える方法としてサンドブラスト法の他に、表面
に直接エンボスロールを押しつけるエンボス方法、表面
に透明塗料を凹凸形状に塗布する方法、表面に艶消剤を
含む塗料を塗布する方法等が知られている。エンボス方
法の場合、部分的に艶消性を与えるにはエンボスロール
に所要の彫刻をしなくてはならず、多品種小量生産には
不向きである。また塗料を塗布する方法の場合は、スク
リーン印刷等の印刷法を用いることになるので刷版を作
らなくてはならず、これも小量多品種生産には不向きで
ある。
In addition to the sandblasting method, the embossing method of pressing an embossing roll directly on the surface, the method of applying a transparent paint on the surface in an uneven shape, and the matting agent There is known a method of applying a paint containing, for example. In the case of the embossing method, a required engraving must be performed on the embossing roll in order to partially impart a mattness, which is not suitable for multi-product small-quantity production. In the case of applying a paint, a printing method such as screen printing is used, so a printing plate must be prepared, which is also unsuitable for small-quantity multi-product production.

他に転写マット法によりプラスチックフィルム等の表
面に凹凸を付与する方法も知られている。これはプラス
チックフィルム等に光硬化性樹脂を塗布しこの樹脂が未
硬化のうちにエンボスフィルム等を重ね、その状態で硬
化させる事により、エンボスフィルム等の凹凸形状を写
し取るもので化粧材の製造などにもちいられており、特
開昭64−51174等でその方法について詳しく述べられて
いる。しかしいずれも全面露光によりエンボスフィルム
等の凹凸形状を全て写し取る方法についてのもので、こ
の方法により部分的に凹凸形状が付与されたシートを得
るには、もととなるエンボスフィルム等に予め所要の模
様を与えておかなくてはならず、これもまた小量多品種
生産には不向きである。
In addition, a method of providing irregularities on the surface of a plastic film or the like by a transfer mat method is also known. This is to apply a photo-curable resin to a plastic film, etc., and to overlay the embossed film etc. while the resin is uncured, and to cure it in that state to copy the uneven shape of the embossed film etc. The method is described in detail in JP-A-64-51174. However, all of these methods relate to a method of copying all the concavo-convex shapes of an embossed film or the like by full-surface exposure. A pattern must be given, which is also unsuitable for small-quantity multi-product production.

また特開昭63−151498号公報に部分マット加工方法に
ついて述べられている。これはホットスタンプ加工によ
り凹凸形状を転写するものであるが、所要の模様に合っ
た刻印を製造しなくてはならず、これも小量多品種には
不向きである。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-151498 describes a method for processing a partial mat. In this method, the uneven shape is transferred by hot stamping. However, it is necessary to manufacture an inscription corresponding to a required pattern, which is also unsuitable for small-quantity multi-products.

本発明は上記のような従来の欠点を除去するためにな
されたもので、極めて容易に部分的に凹凸形状を有する
部分凹凸画像を形成できる部分凹凸画像形成材料を提供
することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to eliminate the above-mentioned conventional drawbacks, and has as its object to provide a partially uneven image forming material capable of forming a partially uneven image having a partially uneven shape very easily.

更に本発明はこのような部分凹凸画像形成材料を用い
て、小量多品種であっても採算性よく部分凹凸画像を形
成することのできる方法、及び物品の所望の位置に所望
の部分凹凸画像を容易に形成することができる方法を提
供することを目的としている。
Furthermore, the present invention provides a method for forming a partial uneven image with good profitability even in a small quantity and a large variety using such a partial uneven image forming material, and a desired partial uneven image at a desired position of an article. It is an object of the present invention to provide a method that can easily form a.

[課題を解決するための手段] 上記目的は本発明によって達成される。[Means for Solving the Problems] The above object is achieved by the present invention.

即ち、本発明の部分凹凸画像形成材料は、一面に凹凸
形状を有する基材と、該基材上に積層された光硬化性樹
脂層と、該光硬化性樹脂層上に積層された光透過性部材
とから成り、光硬化性樹脂層は、基材との界面接着力が
その内部凝集力より小さく、且つ、基材との界面接着力
が光透過性部材との界面接着力より小さいものであっ
て、光硬化性樹脂層は光透過性部材に原稿を重ねて露光
し、非露光部の軟化温度より高く、露光部の軟化温度よ
り低い温度で基材を剥離することにより露光部分のみが
基材の凹凸形状に対応する凹凸形状に硬化して艶消部分
となり、非露光部分が平滑化してなるものである。
That is, the partially uneven image-forming material of the present invention comprises a substrate having an uneven shape on one surface, a photocurable resin layer laminated on the substrate, and a light transmitting layer laminated on the photocurable resin layer. The photocurable resin layer has an interfacial adhesive force with the substrate smaller than its internal cohesive force and an interfacial adhesive force with the substrate smaller than the interfacial adhesive force with the light transmissive member. The light-curable resin layer is exposed by superimposing the original on the light-transmitting member, and exposing the base material at a temperature higher than the softening temperature of the non-exposed part and lower than the softening temperature of the exposed part, thereby exposing only the exposed part. Is cured into an uneven shape corresponding to the uneven shape of the base material to form a matte portion, and a non-exposed portion is smoothed.

また、本発明の部分凹凸画像形成方法は、一面に凹凸
形状を有する基材に光硬化性樹脂層および光透過性部材
を順次積層して成る本願発明の部分凹凸画像形成材料を
用い、光透過性部材に原稿を重ねて露光し光硬化性樹脂
層の露光部分を硬化させた後、非露光部の軟化温度より
高く、露光部の軟化温度より低い温度で基材を剥離し、
露光部分のみが基材に対応する凹凸形状を有し艶消部分
を形成し、非露光部分が平滑化された部分凹凸画像を形
成するものであり、場合によっては、更に光硬化性樹脂
層全体を露光、硬化させるものである。
Further, the method for forming a partially uneven image of the present invention uses the partially uneven image forming material of the present invention in which a photocurable resin layer and a light transmitting member are sequentially laminated on a substrate having an uneven shape on one surface, After curing the exposed portion of the photocurable resin layer by overlaying the original on the photosensitive member and curing the exposed portion, the base material is peeled at a temperature higher than the softening temperature of the non-exposed portion and lower than the softening temperature of the exposed portion,
Only the exposed portion has an uneven shape corresponding to the substrate to form a matte portion, and the non-exposed portion forms a smoothed partially uneven image, and in some cases, furthermore, the entire photocurable resin layer Is exposed and cured.

更に、部分凹凸画像が形成された光硬化性樹脂層全体
を再露光する前に、光硬化性樹脂層を物品の表面に積層
し、次いで光透過性部材を通して露光することにより光
硬化性樹脂層の非露光部分を硬化させて物品の表面に固
着し、物品に部分凹凸画像を形成するものである。
Furthermore, before re-exposure of the entire photo-curable resin layer on which the partial concavo-convex image has been formed, the photo-curable resin layer is laminated on the surface of the article, and then exposed through a light-transmitting member to expose the photo-curable resin layer. Is cured and fixed to the surface of the article to form a partially uneven image on the article.

以下図面を参照して本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本発明の部分凹凸画像形成材料10は、第1図に示すよ
うに少なくとも一方の面に凹凸形状を有する基材1、光
硬化性樹脂層2及び光透過性部材3を順次積層した構造
を有している。
As shown in FIG. 1, the partially concavo-convex image forming material 10 of the present invention has a structure in which a substrate 1 having a concavo-convex shape on at least one surface, a photocurable resin layer 2, and a light-transmitting member 3 are sequentially laminated. doing.

基材1は、少なくとも光硬化性樹脂層2が積層される
部分にサンドブラスト加工等により凹凸を付与されてお
り、適度の離型性を有しているものである。特に材質は
問わないが、例としてポリ塩化ビニルフィルム、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム、アセテートフィルム、
ガラス板等が上げられる。また場合によっては離型剤な
どにより離型性をもたせることもできる。
The substrate 1 is provided with irregularities by sandblasting or the like at least in a portion where the photocurable resin layer 2 is laminated, and has an appropriate release property. Although the material is not particularly limited, examples include a polyvinyl chloride film, a polyethylene terephthalate film, an acetate film,
A glass plate or the like can be raised. In some cases, release properties can be imparted by a release agent or the like.

光硬化性樹脂層2は、一般的には光重合性化合物すな
わちラジカル重合性の二重結合を有するポリマー、オリ
ゴマー、モノマーに、光重合開始剤や増感剤を含有して
おり、必要に応じて非反応性の有機重合体結合剤、熱重
合禁止剤、その他の添加剤を含んでいる。
The photocurable resin layer 2 generally contains a photopolymerizable compound, that is, a polymer, an oligomer or a monomer having a radical polymerizable double bond, and a photopolymerization initiator or a sensitizer. And non-reactive organic polymer binders, thermal polymerization inhibitors, and other additives.

本発明の目的に特に好ましい光重合性化合物としては
メタクリル酸、メチルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート等のメタ
クリル酸エステル、スチレン、N−ビニルピロリドン、
アクリロニトリル、テトラエチレングリコールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、1,6
−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等
の低分子量の光重合性化合物、もしくはウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレ
ート、不飽和ポリエステル等の高分子量の光重合性化合
物であり、これらの一種もしくは二種以上が使用でき
る。
Particularly preferred photopolymerizable compounds for the purpose of the present invention are methacrylic acid, methyl methacrylate, butyl methacrylate, methacrylic acid esters such as 2-hydroxyethyl methacrylate, styrene, N-vinylpyrrolidone,
Acrylonitrile, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, 1,6
-Low molecular weight photopolymerizable compounds such as hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, or high molecular weight compounds such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, and unsaturated polyester. It is a photopolymerizable compound, and one or more of these can be used.

光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、3,3−ジメ
チル−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン
系、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチ
ルケタール等のベンゾイン系、2−クロルチオキサンソ
ン、2,4−ジエチルチオキサンソン等のチオキサンソン
系、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン等のアセトフェノン系等の従来より知られている
光重合開始剤の一種もしくは二種以上が使用できる。
Examples of the photopolymerization initiator include benzophenones such as benzophenone and 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzoins such as benzoin isopropyl ether and benzyl dimethyl ketal, 2-chlorothioxanthone, and 2,4-diethylthioxane. One or two types of conventionally known photopolymerization initiators such as thioxanthone-based photopolymerization initiators such as acetophenones such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; The above can be used.

有機重合体結合剤としては、熱可塑性であり光重合性
化合物との相溶性に優れた非反応性のポリマーで、例え
ば、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸、ポリビニルエ
ーテル、ポリメタクリル酸エステル、ポリアミド、ウレ
タン樹脂、エポキシ樹脂等が使用できる。
As the organic polymer binder, a non-reactive polymer that is thermoplastic and has excellent compatibility with the photopolymerizable compound, for example, polyvinyl chloride, polymethacrylic acid, polyvinyl ether, polymethacrylate, polyamide, Urethane resin, epoxy resin and the like can be used.

熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、P−メトキ
シフェノール等が使用できる。
Hydroquinone, P-methoxyphenol, and the like can be used as the thermal polymerization inhibitor.

さらに添加剤として、光硬化を阻害しない程度の、染
料、顔料を入れる事もできる。
Further, as an additive, a dye or a pigment which does not inhibit photocuring can be added.

光透過性部材3は、例としてポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、アセテートフィルム、ポリ塩化ビニルフ
ィルム、ガラス板等が上げられる。また必要に応じてコ
ロナ処理等の易接着処理を施す事もできる。
Examples of the light transmitting member 3 include a polyethylene terephthalate film, an acetate film, a polyvinyl chloride film, and a glass plate. If necessary, an easy adhesion treatment such as a corona treatment can be performed.

ここで基材1と光硬化性樹脂層2の界面接着力が光硬
化性樹脂層2の硬化未硬化によらず、光硬化性樹脂層2
の内部凝集力より小さく、且つ、基材と光硬化性樹脂層
の界面接着力が光硬化性樹脂層2と光透過性部材3の界
面接着力よりも小さくなっていることが必要である。
Here, the interfacial adhesive force between the base material 1 and the photocurable resin layer 2 is not dependent on whether the photocurable resin layer 2 has been cured or uncured.
It is necessary that the interfacial adhesion between the substrate and the photocurable resin layer is smaller than the interfacial adhesion between the photocurable resin layer 2 and the light transmitting member 3.

このような構成の部分凹凸画像形成材料10の光透過性
部材3側に、第2図に示すように所定の光不透過性のポ
ジまたはネガの模様、文字4a等が形成された原稿4を密
着させて、この原稿4を通して露光する。これにより露
光部分2aの光硬化性樹脂は硬化し軟化温度が上がるた
め、非露光部分2bと軟化温度の差を生じる。そこで第3
図のように基材1を剥離すると、露光部分2aの軟化温度
と非露光部分2bの軟化温度の間の温度で露光部分2aは基
材1の凹凸が転写された形状をとどめるのに対し、非露
光部分2bは外部からの強制がなくなったことにより流動
して凹凸形状が消え、平滑になる。即ち、露光部分2aの
みが基材1の凹凸形状に対応する凹凸形状を有し非露光
部分2bが未硬化且つ平滑である部分凹凸部材20を得るこ
とができる。
A document 4 having a predetermined light-impermeable positive or negative pattern, characters 4a, etc. formed on the light-transmissive member 3 side of the partially concavo-convex image forming material 10 as shown in FIG. The original 4 is brought into close contact and exposed through the original 4. As a result, the photocurable resin in the exposed portion 2a is hardened and the softening temperature rises, so that a difference between the softening temperature and the unexposed portion 2b occurs. So the third
When the substrate 1 is peeled off as shown in the figure, the exposed portion 2a keeps the shape where the irregularities of the substrate 1 are transferred at a temperature between the softening temperature of the exposed portion 2a and the softening temperature of the unexposed portion 2b. The non-exposed portion 2b flows due to the elimination of the forcing from the outside, and the uneven shape disappears and becomes smooth. That is, it is possible to obtain a partially uneven member 20 in which only the exposed portion 2a has an uneven shape corresponding to the uneven shape of the substrate 1, and the unexposed portion 2b is uncured and smooth.

さらに、第4図に示すように部分凹凸部材20を全面露
光をすれば、非露光部分2bは平滑な状態で硬化し、部分
的に凹凸形状を有し艶消性が与えられた部分凹凸部材21
を得ることができる。
Further, as shown in FIG. 4, when the partial uneven member 20 is entirely exposed, the non-exposed portion 2b is cured in a smooth state, and the partially uneven member having a partially uneven shape and imparting a matte property is provided. twenty one
Can be obtained.

次に、本発明の部分凹凸画像形成材料10を用いて物品
5に部分凹凸画像を形成するには、第5図に示すように
画像を形成しようとする物品5の所定の部分に、部分凹
凸部材20の光硬化性樹脂層をその非露光部分2bの粘着性
を利用して貼着する。しかる後に、光透過性部材3を通
して露光することにより非露光部分2bを硬化させて物品
5の表面に固着し、部分凹凸画像を形成するものであ
る。
Next, in order to form a partially uneven image on the article 5 using the partially uneven image forming material 10 of the present invention, a predetermined uneven portion is formed on a predetermined portion of the article 5 on which an image is to be formed as shown in FIG. The photocurable resin layer of the member 20 is attached by utilizing the adhesiveness of the unexposed portion 2b. Thereafter, by exposing through the light transmitting member 3, the non-exposed portion 2b is cured and fixed to the surface of the article 5, thereby forming a partially uneven image.

光透過性部材3として可撓性のある材料を用いれば平
面状の部分のみならず、曲面にもこのような部分凹凸画
像を形成することができる。
If a flexible material is used as the light transmissive member 3, such a partial concavo-convex image can be formed not only on a planar portion but also on a curved surface.

更に窓ガラスに本発明による部分凹凸部材20を貼り付
け、太陽光等により全面露光して窓ガラス表面に固着す
ることにより、意匠性と飛散防止効果を兼ね備えること
ができる。
Further, the partial uneven member 20 according to the present invention is attached to the window glass, and the entire surface is exposed to sunlight or the like to be fixed to the surface of the window glass, whereby both the design property and the scattering prevention effect can be provided.

[実施例] 以下、実施例により本発明を説明する。[Examples] Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples.

実施例1 下記の組成からなる光硬化性樹脂溶液を調製した。Example 1 A photocurable resin solution having the following composition was prepared.

ポリエステル(東洋紡製 バイロン200) 60g テトラエチレングリコールジアクリレート 30g ベンゾフェノン 2.6g 4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン 0.4g メチルエチルケトン 86.4g トルオール 86.4g この溶液をEC処理した75μmのポリエステルフィルム
3上にワイヤーバーで塗布後オーブンにて100℃で90秒
乾燥、約10μmの光硬化性樹脂層2を得た。
Polyester (Toyobo Byron 200) 60 g Tetraethylene glycol diacrylate 30 g Benzophenone 2.6 g 4,4'-diethylaminobenzophenone 0.4 g Methyl ethyl ketone 86.4 g Toluol 86.4 g It was dried in an oven at 100 ° C. for 90 seconds to obtain a photocurable resin layer 2 having a thickness of about 10 μm.

この上にサンドブラスト加工されたポリエスルフィル
ム1の加工面を光硬化性樹脂層2に合わせてヒートラミ
ネーターを用い50℃、3m/分でラミネートし、第1図の
ような部分凹凸画像形成材料10を得た。
The processed surface of the sandblasted polyester film 1 was laminated on the photocurable resin layer 2 at 50 ° C. and 3 m / min using a heat laminator to obtain a partially uneven image forming material 10 as shown in FIG. Obtained.

この上に第2図のように原稿4を密着させ1m離れた2k
W高圧水銀灯から25秒間露光した後、サンドブラスト加
工されたポリエステルフィルム1を剥離、露光された部
分が艶消しとなった部分マットフィルム20を得た。
The original 4 is brought into close contact with it as shown in Fig.
After exposure from a W high-pressure mercury lamp for 25 seconds, the polyester film 1 subjected to sandblasting was peeled off to obtain a partial mat film 20 in which the exposed portion was matted.

さらに未露光の光硬化性樹脂も硬化させるため全面露
光した。
Furthermore, the entire surface was exposed to cure the unexposed photocurable resin.

このようにして容易に得られた部分マットフィルム21
は、従来のサンドブラスト法により複雑な工程を経て作
られた部分マットフィルムと同様の外観を有しており、
艶消性、解像力ともに十分なものであった。
The partial mat film 21 thus easily obtained
Has the same appearance as a partial mat film made through a complicated process by the conventional sand blast method,
Both matting properties and resolution were satisfactory.

実施例2 実施例1と同様に光硬化性樹脂溶液を調製し、これを
EC処理した75μmのポリエステルフィルム3上に塗布乾
燥、約10μmの光硬化性樹脂層2を得た。さらにこの上
に梨地状にエンボス加工されたポリ塩化ビニルフィルム
1を50℃、3m/分でラミネートし、第1図のような部分
凹凸画像形成材料10を得た。
Example 2 A photocurable resin solution was prepared in the same manner as in Example 1, and
It was applied and dried on a 75 μm polyester film 3 which had been subjected to EC treatment to obtain a photocurable resin layer 2 having a thickness of about 10 μm. Further, a polyvinyl chloride film 1 embossed in a satin shape was laminated thereon at 50 ° C. at 3 m / min to obtain a partially uneven image forming material 10 as shown in FIG.

この上に第2図のように原稿4を密着させ1m離れた2k
W高圧水銀灯から25秒間露光した後、上記ポリ塩化ビニ
ルフィルム1を剥離、露光された部分が梨地状となった
部分マットフィルム20を得た。
The original 4 is brought into close contact with it as shown in Fig.
After exposing for 25 seconds from a W high-pressure mercury lamp, the polyvinyl chloride film 1 was peeled off to obtain a partial mat film 20 in which the exposed portion had a satin finish.

さらに未露光の光硬化性樹脂も硬化させるため全面露
光した。
Furthermore, the entire surface was exposed to cure the unexposed photocurable resin.

この方法により、梨地に任意の模様のクリヤー部、抜
き文字を容易に得ることができた。
By this method, it was possible to easily obtain a clear portion of any pattern and a blank character on the satin finish.

実施例3 実施例1と同様の方法で得た部分マットフィルムの光
硬化性樹脂層をガラス面に合わせるようにしてヒートラ
ミネーターを用い50℃、3m/分でラミネートした。更に
光透過性フィルムを通して1m離れた2kW高圧水銀灯から2
5秒間全面露光してガラス表面に固着させ、第5図のよ
うにガラス表面に部分艶消画像を形成した。
Example 3 The photocurable resin layer of the partial mat film obtained in the same manner as in Example 1 was laminated at 50 ° C. at 3 m / min using a heat laminator so as to match the glass surface. 2m from a 2kW high pressure mercury lamp 1m away through a light transmissive film
The entire surface was exposed for 5 seconds and fixed on the glass surface to form a partially matte image on the glass surface as shown in FIG.

このようにしてガラス板5に部分マットフィルムを固
着させることにより、ガラス板にも容易に部分艶消画像
が得られた。
By fixing the partial mat film to the glass plate 5 in this manner, a partially matte image was easily obtained on the glass plate.

実施例4 実施例1と同様の方法で、露光された部分が艶消しと
なった部分マットフィルム20を得た後、窓ガラスにこの
部分マットフィルムの光硬化性樹脂層をガラス面に合わ
せるようにして貼り付けた。更に太陽光により全面露光
して窓ガラス表面に固着した。
Example 4 In the same manner as in Example 1, after obtaining a partially matte film 20 in which the exposed portion became matte, the photocurable resin layer of this partial matte film was fitted to the window glass to the glass surface. And pasted. Furthermore, the entire surface was exposed to sunlight and fixed on the surface of the window glass.

このようにして窓ガラスに部分マットフィルムを固着
することにより、意匠性と飛散防止効果を兼ね備えるこ
とができた。
By fixing the partial mat film to the window glass in this way, it was possible to have both the design property and the scattering prevention effect.

[発明の効果] 以上の実施例からも明らかなように本発明によれば、
部分凹凸画像形成材料と原稿とを重ねて露光、基材を剥
離するだけで、容易に所望の模様の部分マットシート等
の部分凹凸部材を得ることができるため、作業性を大幅
に改善することができ、小量多品種の生産におけるコス
トの低減に効果がある。
[Effects of the Invention] As is clear from the above embodiments, according to the present invention,
It is possible to easily obtain a partial uneven member such as a partial mat sheet having a desired pattern simply by exposing and partially exposing the partially uneven image forming material and the original, thereby greatly improving workability. This is effective in reducing costs in the production of small-quantity multi-products.

又、また本発明による部分凹凸画像は、改めて接着剤
等を用いることなく他の物品に固着することができるた
め、容易に他の物品に部分艶消画像をもたせることがで
き、物品に装飾性、飛散防止効果を付与することができ
る。
In addition, since the partially uneven image according to the present invention can be fixed to another article without using an adhesive or the like again, another article can be easily provided with a partially matte image, and the article can have decorativeness. And a scattering prevention effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明に係る部分画像形成材料の断面図、第2
図〜第4図はそれぞれ本発明に係る部分凹凸画像形成方
法の一実施例を示す図、第5図は本発明に係る部分画像
形成方法の一実施例を示す図である。 1……基材 2……光硬化性樹脂層 3……光透過性部材 4……原稿 5……物品 10……部分画像形成材料 20、21……部分凹凸部材
FIG. 1 is a sectional view of a partial image forming material according to the present invention, and FIG.
4 are diagrams showing one embodiment of the method of forming a partial uneven image according to the present invention, and FIG. 5 is a diagram showing one embodiment of the method of forming a partial image according to the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material 2 ... Photocurable resin layer 3 ... Light transmissive member 4 ... Original 5 ... Article 10 ... Partial image forming material 20, 21 ... Partially uneven member

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03F 7/004 G03F 7/09 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G03F 7/004 G03F 7/09

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一面に凹凸形状を有する基材と、該基材上
に積層された光硬化性樹脂層と、該光硬化性樹脂層上に
積層された光透過性部材とから成り、前記光硬化性樹脂
層は、前記基材との界面接着力がその内部凝集力より小
さく、且つ、前記基材との界面接着力が前記光透過性部
材との界面接着力より小さいものであって、前記光透過
性部材に原稿を重ねて露光し、非露光部の軟化温度より
高く、露光部の軟化温度より低い温度で前記基材を剥離
することにより露光部分のみが前記基材の凹凸形状に対
応する凹凸形状に硬化して艶消部分となり、非露光部分
が平滑化することを特徴とする部分凹凸画像形成材料。
1. A base material having an uneven shape on one surface, a photocurable resin layer laminated on the base material, and a light transmitting member laminated on the photocurable resin layer, The photocurable resin layer has an interfacial adhesive force with the base material smaller than its internal cohesive force, and an interfacial adhesive force with the base material smaller than the interfacial adhesive force with the light transmissive member. An original is superposed and exposed on the light transmitting member, and the base material is peeled off at a temperature higher than the softening temperature of the non-exposed portion and lower than the softening temperature of the exposed portion, so that only the exposed portion has the uneven shape of the base material. A partially uneven image forming material characterized in that the material is hardened into an uneven shape corresponding to the above, becomes a matte portion, and an unexposed portion is smoothed.
【請求項2】一面に凹凸形状を有する基材に光硬化性樹
脂層および光透過性部材を順次積層して成る第1項記載
の部分凹凸画像形成材料を用い、前記光透過性部材に原
稿を重ねて露光し前記光硬化性樹脂層の露光部分を硬化
させた後、非露光部の軟化温度より高く、露光部の軟化
温度より低い温度で前記基材を剥離し、前記露光部分の
みが前記基材に対応する凹凸形状を有し、非露光部分が
平滑化された部分凹凸画像を形成することを特徴とする
部分凹凸画像形成方法。
2. A partially uneven image forming material according to claim 1, wherein a light-curable resin layer and a light-transmitting member are sequentially laminated on a substrate having an uneven shape on one surface, and a document is formed on said light-transmitting member. After the exposed portion of the photocurable resin layer is cured by overlapping, the base material is peeled at a temperature higher than the softening temperature of the non-exposed portion and lower than the softening temperature of the exposed portion, and only the exposed portion is exposed. A method for forming a partial concavo-convex image, comprising: forming a concavo-convex image having a concavo-convex shape corresponding to the base material, wherein a non-exposed portion is smoothed.
【請求項3】第2項記載の部分凹凸画像形成方法により
部分凹凸画像を形成し、更に前記光硬化性樹脂層全体を
露光、硬化させることを特徴とする部分凹凸画像形成方
法。
3. A method for forming a partial uneven image, comprising forming a partial uneven image by the method for forming a partial uneven image according to claim 2, and exposing and curing the entire photocurable resin layer.
【請求項4】第2項記載の部分凹凸画像形成方法により
部分画像を形成し、前記光硬化性樹脂層を物品の表面に
積層、更に前記光透過性部材を通して露光することによ
り前記光硬化性樹脂層の前記非露光部分を硬化させて前
記物品の表面に固着し、前記物品に部分凹凸画像を形成
することを特徴とする部分凹凸画像形成方法。
4. The photocurable resin composition according to claim 2, wherein a partial image is formed, the photocurable resin layer is laminated on the surface of the article, and the photocurable resin layer is exposed through the light transmissive member. A method for forming a partial uneven image, wherein the non-exposed portion of the resin layer is cured and fixed to the surface of the article to form a partial uneven image on the article.
JP22900190A 1990-08-30 1990-08-30 Partial unevenness image forming material and partial unevenness image forming method Expired - Fee Related JP2945453B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22900190A JP2945453B2 (en) 1990-08-30 1990-08-30 Partial unevenness image forming material and partial unevenness image forming method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22900190A JP2945453B2 (en) 1990-08-30 1990-08-30 Partial unevenness image forming material and partial unevenness image forming method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04109248A JPH04109248A (en) 1992-04-10
JP2945453B2 true JP2945453B2 (en) 1999-09-06

Family

ID=16885207

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22900190A Expired - Fee Related JP2945453B2 (en) 1990-08-30 1990-08-30 Partial unevenness image forming material and partial unevenness image forming method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2945453B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04109248A (en) 1992-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3607264A (en) Image reproduction process involving photohardening and delamination
JPS5830748A (en) Photopolymerizing print composition suitable for production of photoresist layer
CA1144805A (en) Photosensitive materials including a first carrier sheet, a photosensitive layer, an image forming layer and a second carrier sheet
JP2945453B2 (en) Partial unevenness image forming material and partial unevenness image forming method
WO2001092957A1 (en) Transfer sheet for transferring protective layer for photographic emulsion face and photomask with protective layer
JPS63147154A (en) Image forming material
JP3145421B2 (en) Partial unevenness image display and partial unevenness image forming method
JPS5917656B2 (en) Pattern formation method
JPH0524495B2 (en)
JPH0545868A (en) Image forming composition, partial rugged image forming material and partially rugged image forming method
JPS60177343A (en) Photosensitive plate material
JP2003344982A (en) Photographic emulsion surface protective layer transferring sheet, method for forming photographic emulsion surface protective layer and photomask with protective layer
JPS6285926A (en) Manufacture of panel sheet
JPS63147164A (en) Image forming method
JP3144426B2 (en) Method of forming transparent protective layer
JP3371989B2 (en) Photosensitive resin plate for foil stamping
JPH05341114A (en) Manufacture of color filter
JP3412913B2 (en) Photosensitive resin plate for foil stamping
JPH01166998A (en) Method of transferring irregular pattern and transfer sheet used for said method
JPH11288084A (en) Photosensitive sheet, lenticular screen using same and its production
JPH05297579A (en) Fine resist pattern forming material
JPH1010315A (en) Photosensitive film for color filters and production of color filters by using the same
JPH0664358A (en) Substrate for photosensitive resin form plate
JPH08122516A (en) Production of extremely thin photosensitive film and color filter
JPH0394256A (en) Manufacture of display body, and pattern sheet and its manufacture

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090625

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees