JP2940242B2 - Electron emission source and method of manufacturing the same - Google Patents

Electron emission source and method of manufacturing the same

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JP2940242B2 JP19736191A JP19736191A JP2940242B2 JP 2940242 B2 JP2940242 B2 JP 2940242B2 JP 19736191 A JP19736191 A JP 19736191A JP 19736191 A JP19736191 A JP 19736191A JP 2940242 B2 JP2940242 B2 JP 2940242B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、螢光表示管等の線状陰
極として用いられる電子放出源とその製造方法に関する
ものである。本発明は、上記のほか、螢光表示管の原理
を利用した平面形表示装置・発光セル・プリンタヘッド
等にも適用できる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron emission source used as a linear cathode of a fluorescent display tube or the like, and a method of manufacturing the same. In addition to the above, the present invention can be applied to a flat display device, a light emitting cell, a printer head, and the like utilizing the principle of a fluorescent display tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】螢光表示管等の線状陰極として用いられ
ている電子放出源は、一般に通電により発熱する芯線の
周囲に電子放出物質層を被着させた構成になっている。
このような線状の電子放出源に振動が発生すると画像表
示に悪影響が生じるので、振動を防止するために該電子
放出源に支持手段を当接させることがあった。
2. Description of the Related Art An electron emission source used as a linear cathode of a fluorescent display tube or the like generally has an electron emission material layer attached around a core wire which generates heat when energized.
When vibration occurs in such a linear electron emission source, an image display is adversely affected. Therefore, in order to prevent the vibration, a support means may be brought into contact with the electron emission source.

【0003】電子放出源の電子放出物質層に支持手段を
直接当接させると、電子放出物質層が剥がれてしまうこ
とがある。このため、図3(c)に示すように芯線10
0の周囲に巻線101を設けるとともに巻線間に電子放
出物質層102を形成し、この巻線を支持手段103に
当接させるように構成した電子放出源104が提案され
ている。
[0003] If the support means is brought into direct contact with the electron emission material layer of the electron emission source, the electron emission material layer may be peeled off. For this reason, as shown in FIG.
An electron emission source 104 has been proposed in which a winding 101 is provided around 0, an electron emission material layer 102 is formed between the windings, and the winding is brought into contact with a support means 103.

【0004】前述した電子放出源104を製造するに
は、まず図3(a)に示すように芯線100の周囲に巻
線101を巻き付ける。次に、図3(b)に示すよう
に、前記芯線100及び巻線101に電子放出物質層1
02を被着させる。次に、図示しない剥離手段を用いて
前記電子放出物質層102の突出部分を機械的に削り落
とし、図3(c)に示すように巻線101の一部を露出
させる。
In order to manufacture the above-described electron emission source 104, first, a winding 101 is wound around a core wire 100 as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 3B, the electron emission material layer 1 is provided on the core wire 100 and the winding 101.
02 is deposited. Next, the projecting portion of the electron emitting material layer 102 is mechanically shaved off by using a peeling means (not shown), and a part of the winding 101 is exposed as shown in FIG.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前述した従来の電子放
出源104によれば次のような問題があった。 電子放出源は熱によって膨張・収縮し、又振動する
ので、前記巻線101に付着している電子放出物質層1
02は支持体103にこすりつけられ、又支持体103
に衝突する。これによって電子放出物質は剥れ落ち、表
示管内に散らばって表示管の機能を低下させる。
According to the above-described conventional electron emission source 104, there are the following problems. Since the electron emission source expands / contracts and vibrates due to heat, the electron emission material layer 1
02 is rubbed against the support 103 and
Collide with As a result, the electron-emitting substance peels off and is scattered in the display tube, thereby deteriorating the function of the display tube.

【0006】 電子放出物質層102を巻線101の
表面に沿って機械的な手段で剥がしているので、剥がれ
方が均一にならず、電子放出に必要な巻線101,10
1間の電子放出物質層102を損傷しやすい。従って、
電子放出物質の被着状態が不均一であり、場所によって
電子放出能力に差違が生じてしまう。
Since the electron emission material layer 102 is peeled off along the surface of the winding 101 by a mechanical means, the peeling is not uniform, and the windings 101 and 10 necessary for electron emission are removed.
One of the electron emitting material layers 102 is easily damaged. Therefore,
The deposition state of the electron emitting material is not uniform, and the electron emitting ability differs depending on the location.

【0007】 巻線101,101間の電子放出物質
層102の厚さが、巻線101の直径と同じなので、電
子放出物質層102は支持体103に接触して剥がれて
しまう。
Since the thickness of the electron emitting material layer 102 between the windings 101, 101 is the same as the diameter of the winding 101, the electron emitting material layer 102 comes into contact with the support 103 and peels off.

【0008】本発明は、支持体と接触しても巻線間の電
子放出物質が剥がれにくい電子放出源とその製造方法を
提供することを目的としている。
An object of the present invention is to provide an electron emission source in which the electron emission material between the windings is not easily peeled off even when it comes into contact with the support, and a method for manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の電子放出源は、
通電加熱される芯線と、前記芯線の周囲に設けられて周
面にはスパイラル状の溝部が形成された電子放出物質層
と、前記電子放出物質層の溝部に隙間をもって設けられ
たスパイラル状の巻線とを具備している。
The electron emission source according to the present invention comprises:
A core wire to be electrically heated; an electron emission material layer provided around the core wire and having a spiral groove formed on a peripheral surface thereof; and a spiral winding provided with a gap in the groove of the electron emission material layer. Line.

【0010】本発明に係る電子放出源の製造方法は、有
機物系絶縁層を被覆した巻線を芯線の周囲に卷装する工
程と、前記芯線のみに電子放出物質を被着させる工程
と、前記芯線を真空中で加熱する工程とを有している。
The method of manufacturing an electron emission source according to the present invention comprises the steps of: winding a winding covered with an organic insulating layer around a core wire; applying an electron emission material only to the core wire; Heating the core wire in a vacuum.

【0011】[0011]

【作用】支持体に当接する巻線は、芯線の電子放出物質
層に形成された溝に、電子放出物質と固着しないで卷装
されている。従って、該巻線と支持体が当接しても、電
子放出物質層には不都合な力が加わりにくく、剥がれに
くい。
The winding in contact with the support is wound in the groove formed in the electron emitting material layer of the core wire without being fixed to the electron emitting material. Therefore, even when the winding and the support come into contact with each other, an undesired force is hardly applied to the electron-emitting substance layer and the electron-emitting substance layer is hardly peeled off.

【0012】[0012]

【実施例】本発明の一実施例を図1及び図2によって説
明する。図1(a)に示す芯線1は、タングステン又は
Re3%含有タングステンからなり、線径は数μmから
数十μmである。ここでは、材質はRe3%含有タング
ステン、線径は25μmとしている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The core wire 1 shown in FIG. 1A is made of tungsten or tungsten containing Re3%, and has a wire diameter of several μm to several tens μm. Here, the material is tungsten containing Re3%, and the wire diameter is 25 μm.

【0013】図1(a)に示す巻線2は、タングステン
又はRe3%含有タングステンからなり、線径は数μm
から数十μmである。ここでは、材質はタングステン、
線径は8〜10μmとしている。
The winding 2 shown in FIG. 1A is made of tungsten or tungsten containing Re3%, and has a wire diameter of several μm.
To several tens of μm. Here, the material is tungsten,
The wire diameter is set to 8 to 10 μm.

【0014】前記巻線2の周囲には絶縁層3が設けられ
ている。この絶縁層3を構成する物質は、真空中で加熱
することによって分解蒸発する絶縁性の物質であればよ
く、ここではアクリル樹脂が用いられている。絶縁層3
の形成方法は特に限定しないが、ここでは例えばデイッ
ピング法を用いており、材厚は数百Å〜1μm程度であ
る。
An insulating layer 3 is provided around the winding 2. The material constituting the insulating layer 3 may be any insulating material that decomposes and evaporates when heated in a vacuum. In this case, an acrylic resin is used. Insulating layer 3
Although there is no particular limitation on the forming method, here, for example, a dipping method is used, and the material thickness is about several hundreds of .mu.m to 1 .mu.m.

【0015】図1(a)に示すように、アクリル樹脂か
らなる絶縁層3に覆われた前記巻線2を、前記芯線1に
75μmのピッチで巻き付け、芯線部4を形成する。
As shown in FIG. 1A, the winding 2 covered with an insulating layer 3 made of acrylic resin is wound around the core 1 at a pitch of 75 μm to form a core 4.

【0016】次に、図2に示す電着装置11を用いて、
前記芯線部4に電子放出物質層5を被着させる。電着槽
12内には電着液13が貯えられている。この電着液1
3は、熱電子放出物質となる(Ba,Cr,Ca)CO
3 粉末と電解質となるアクリルがアセトン中に分散・溶
解したものである。この電着液13は電着槽12の底部
に接続連通されたポンプ14によって槽内に送られ、オ
ーバーフローすることにより該ポンプ14で回収される
ようになっている。そして、電着槽12上に設けられた
支持ローラ15により、線状の芯線部4を電着液13内
に浸漬できるようになっている。
Next, using the electrodeposition apparatus 11 shown in FIG.
An electron emission material layer 5 is applied to the core wire portion 4. An electrodeposition liquid 13 is stored in the electrodeposition tank 12. This electrodeposition liquid 1
3 is (Ba, Cr, Ca) CO which is a thermionic emission material
(3) Acrylic powder and electrolyte are dispersed and dissolved in acetone. The electrodeposition liquid 13 is sent into the tank by a pump 14 connected to the bottom of the electrodeposition tank 12, and is collected by the pump 14 by overflow. The linear core 4 can be immersed in the electrodeposition liquid 13 by the support roller 15 provided on the electrodeposition tank 12.

【0017】前記電着槽12の隣には,電極槽16が設
けられている。電極槽16内には硝酸バリウムを含む電
解液17が貯えられている。そして電極槽16上に設け
られた3個1組の導入ローラ18によって、線状の芯線
部4を前記電解液17内に浸漬できるようになってい
る。
Next to the electrodeposition tank 12, an electrode tank 16 is provided. An electrolytic solution 17 containing barium nitrate is stored in the electrode tank 16. The linear core portion 4 can be immersed in the electrolytic solution 17 by a set of three introduction rollers 18 provided on the electrode tank 16.

【0018】電源19の陽極は前記電着槽12に接続さ
れ、陰極は電着槽12の隣にある前記電極槽16に接続
されている。前記電極槽16とは反対側の電着槽12の
隣には、支持ローラ20が設けられている。
The anode of the power source 19 is connected to the electrodeposition tank 12, and the cathode is connected to the electrode tank 16 adjacent to the electrodeposition tank 12. A support roller 20 is provided next to the electrodeposition tank 12 on the opposite side of the electrode tank 16.

【0019】前記芯線部4は、ドラム状の送出器21に
卷装され、電極槽16及び電着槽12内へ向けて送出さ
れる。即ち、芯線部4は導入ローラ18及び支持ローラ
15,20に案内されて電解液17及び電着液13中を
通過し、さらに乾燥器22を経て巻き取り器23に巻き
取られていくようになっている。
The core wire portion 4 is wound around a drum-shaped sending device 21 and sent out into the electrode bath 16 and the electrodeposition bath 12. That is, the core wire portion 4 is guided by the introduction roller 18 and the support rollers 15 and 20, passes through the electrolyte solution 17 and the electrodeposition solution 13, and is further wound around the winder 23 through the dryer 22. Has become.

【0020】前記電着装置11において、送出器21及
び巻き取り器23によって前記芯線部4を搬送し、該芯
線部4に電解液17及び電着液13内を通過させなが
ら、電極槽16と電着槽12の間に直流電界を加える。
前記芯線部4の巻線2は絶縁層3で覆われている為マイ
ナス電位にならず、マイナスの電位が印加されるのは芯
線1のみである。従って電着槽12内では、電気泳動の
原理によって、(Ba,Sr,Ca)CO3 が芯線部4
の芯線1のみに電着し、巻線2には付着しない。本工程
により、図1(b)に示すように、電子放出物質層5が
被着した芯線1の周面に巻線2の絶縁層3がスパイラル
状にあらわれている構造が得られる。なお、電子放出物
質層5の被着厚さは、少なくとも巻線2の直径よりも小
さくしておく。
In the electrodeposition apparatus 11, the core portion 4 is transported by the feeder 21 and the take-up device 23, and is passed through the electrolyte solution 17 and the electrodeposition solution 13 while passing through the core portion 4. A DC electric field is applied between the electrodeposition tanks 12.
Since the winding 2 of the core 4 is covered with the insulating layer 3, it does not have a negative potential, and a negative potential is applied only to the core 1. Therefore, in the electrodeposition tank 12, (Ba, Sr, Ca) CO 3 is deposited on the core 4 by the principle of electrophoresis.
And is not attached to the winding 2. By this step, as shown in FIG. 1B, a structure is obtained in which the insulating layer 3 of the winding 2 is spirally formed on the peripheral surface of the core wire 1 on which the electron emission material layer 5 is adhered. Note that the thickness of the electron emitting material layer 5 to be applied is set to be at least smaller than the diameter of the winding 2.

【0021】前述の工程で得られた芯線部4を螢光表示
管の外囲器内に線状陰極として実装する。そして、外囲
器内を排気して高真空状態にするとともに、前記芯線部
4を通電によって加熱分解して前記炭酸塩を酸化物にす
る。
The core portion 4 obtained in the above-described process is mounted as a linear cathode in an envelope of a fluorescent display tube. Then, the interior of the envelope is evacuated to a high vacuum state, and the core 4 is heated and decomposed by energization to convert the carbonate into an oxide.

【0022】このいわゆるライティング工程において、
前記芯線部4の巻線2を覆っていた絶縁層3が分解蒸発
し、図1(c)に示すような線状の電子放出源6が得ら
れる。図1(c)に示すように、前記巻線2は、電子放
出物質層5に固着することなく、電子放出物質層5にス
パイラル状に形成された溝部7に隙間をもって卷装され
た状態となる。また、前述したように電子放出物質層5
の厚さは巻線2の直径よりも小さいので、巻線2の少な
くとも一部分は電子放出物質層5の溝部7から上方に突
出する。
In this so-called writing process,
The insulating layer 3 covering the winding 2 of the core wire portion 4 is decomposed and evaporated, and a linear electron emission source 6 as shown in FIG. 1C is obtained. As shown in FIG. 1 (c), the winding 2 is not fixed to the electron-emitting material layer 5, but is wound with a gap in a spiral groove 7 formed in the electron-emitting material layer 5. Become. Further, as described above, the electron emission material layer 5 is formed.
Is smaller than the diameter of the winding 2, at least a portion of the winding 2 protrudes upward from the groove 7 of the electron emission material layer 5.

【0023】本実施例の電子放出源6によれば、外部の
支持体に接触するのは、電子放出物質層5の溝部7から
外方に突出した巻線2のみである。そして該巻線2は、
溝部7に卷装されているが電子放出物質層5に固着して
はいない。従って、電子放出源6が振動したり熱によっ
て膨張・収縮したりしても、支持体から電子放出物質層
5に過大な力が直接加わることはない。このため、電子
放出物質層5ははがれにくい。また、電子放出物質層5
が均一に形成されているので、場所によって電子放出特
性に差違が生じることがない。
According to the electron emission source 6 of this embodiment, only the windings 2 projecting outward from the grooves 7 of the electron emission material layer 5 come into contact with the external support. And the winding 2 is
Although it is wound in the groove 7, it is not fixed to the electron emission material layer 5. Therefore, even if the electron emission source 6 vibrates or expands or contracts due to heat, an excessive force is not directly applied to the electron emission material layer 5 from the support. For this reason, the electron-emitting substance layer 5 does not easily peel off. In addition, the electron emission material layer 5
Are uniformly formed, so that there is no difference in electron emission characteristics depending on the location.

【0024】なお本実施例で用いた前記電着装置11で
は、芯線部4に負電位を与えるために、電解液17を満
たした電極槽16を備えていたが、このような構成のほ
か、ブラシ状の電極を芯線部4に接触させるようにして
も、同様の目的を達することができる。
In the electrodeposition apparatus 11 used in this embodiment, the electrode bath 16 filled with the electrolytic solution 17 is provided in order to apply a negative potential to the core wire portion 4. The same purpose can be achieved by bringing the brush-like electrode into contact with the core wire portion 4.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明によれば次のような効果がある。 巻線の周囲に電子放出物質が被着しておらず、巻線
と電子放出物質が直接固着されていないので、電子放出
源が支持体に接触しても電子放出物質が剥がれて表示管
内のゴミとなることがない。
According to the present invention, the following effects can be obtained. Since the electron emitting material is not attached to the periphery of the winding and the winding and the electron emitting material are not directly fixed, even if the electron emitting source contacts the support, the electron emitting material is peeled off and the inside of the display tube is removed. No garbage.

【0026】 従来のように巻線に被着した電子放出
物質を機械的に掻き取る必要がなく、巻線間の芯線上だ
けに電子放出物質を均一に被着させることができるの
で、均一な線状の電子放出源が得られる。
Since it is not necessary to mechanically scrape off the electron-emitting substance deposited on the winding as in the related art, the electron-emitting substance can be uniformly deposited only on the core wire between the windings, so that a uniform A linear electron emission source is obtained.

【0027】 電子放出物質層の厚さを巻線の直径よ
りも小さくすれば、巻線と支持体が接触した場合に、電
子放出物質層と支持体がより接触しにくくなる。従って
電子放出物質層が剥れてゴミとなることが確実に防止さ
れる。
If the thickness of the electron emitting material layer is smaller than the diameter of the winding, the contact between the winding and the support makes the electron emitting material layer and the support less likely to contact. Therefore, it is possible to reliably prevent the electron-emitting substance layer from peeling off and becoming dust.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施例に係る電子放出源の製造工程を示す断
面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of an electron emission source according to an embodiment.

【図2】本実施例に係る電子放出源の製造に用いる電着
装置の模式構造図である。
FIG. 2 is a schematic structural view of an electrodeposition apparatus used for manufacturing an electron emission source according to the present embodiment.

【図3】従来の電子放出源の製造工程を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a conventional electron emission source.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 芯線 2 巻線 3 絶縁層 5 電子放出物質層 6 電子放出源 7 溝部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Core wire 2 Winding 3 Insulating layer 5 Electron emission material layer 6 Electron emission source 7 Groove

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新山 剛宏 千葉県茂原市大芝629 双葉電子工業株 式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01J 31/15 H01J 1/16 H01J 9/04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Takehiro Niiyama 629 Oshiba, Mobara-shi, Chiba Futaba Electronics Co., Ltd. (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01J 31/15 H01J 1 / 16 H01J 9/04

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 通電加熱される芯線と、前記芯線の周囲
に設けられて周面にはスパイラル状の溝部が形成された
電子放出物質層と、前記電子放出物質層の溝部に隙間を
もって設けられたスパイラル状の巻線とを具備する電子
放出源。
1. A core wire to be electrically heated, an electron emitting material layer provided around the core wire and having a spiral groove formed on a peripheral surface, and a gap provided in the groove of the electron emitting material layer. An electron emission source comprising a spiral winding.
【請求項2】 前記電子放出物質層の厚さが、前記巻線
の直径よりも小さい請求項1記載の電子放出源。
2. The electron emission source according to claim 1, wherein a thickness of the electron emission material layer is smaller than a diameter of the winding.
【請求項3】 有機物系絶縁層を被覆した巻線を芯線の
周囲に卷装する工程と、前記芯線のみに電子放出物質を
被着させる工程と、前記芯線を真空中で加熱する工程と
を有する電子放出源の製造方法。
3. A step of winding a winding covered with an organic insulating layer around a core wire, a step of applying an electron emitting material only to the core wire, and a step of heating the core wire in a vacuum. Of manufacturing an electron emission source having the same.
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