JP2917612B2 - Method for producing polysilane - Google Patents

Method for producing polysilane

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JP2917612B2 JP27310191A JP27310191A JP2917612B2 JP 2917612 B2 JP2917612 B2 JP 2917612B2 JP 27310191 A JP27310191 A JP 27310191A JP 27310191 A JP27310191 A JP 27310191A JP 2917612 B2 JP2917612 B2 JP 2917612B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、末端がトリオルガノシ
リル基で封鎖された高純度のポリシランの製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a high-purity polysilane having a terminal capped with a triorganosilyl group.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ポリシ
ランは、セラミック前駆体、フォトレジスト、非線形光
学材料、光電子材料、有機導電性材料等として有用であ
ることが知られている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Polysilanes are known to be useful as ceramic precursors, photoresists, nonlinear optical materials, optoelectronic materials, organic conductive materials, and the like.

【0003】これらの用途に使用されるポリシランは、
高純度で均一な組成であることが要求されるが、従来、
ポリシランは主としてウルツカップリング反応で得てお
り、このウルツカップリング反応により得られるポリシ
ランは、末端部分の封鎖がなされておらず、Si−H基
などが残り、酸素などの混入の原因となるものであっ
た。
[0003] The polysilanes used in these applications are:
High purity and uniform composition is required, but conventionally,
Polysilane is obtained mainly by the Wurtz coupling reaction, and the polysilane obtained by the Wurtz coupling reaction is not blocked at the end, leaving Si-H groups and the like, which cause contamination of oxygen and the like. Met.

【0004】即ち、ウルツカップリング反応によるポリ
シランの製造は、一般にジハロシラン類に対しナトリウ
ム等のアルカリ金属をやや過剰の条件で反応させ、その
後加水分解、再沈等による精製工程を経るものであり、
得られたポリシランの末端はSi−H基であるといわれ
ていたが、特にこれを処理することなく、Si−H基末
端を未処理のまま使用していたのが現状である。
[0004] That is, the production of polysilane by the Wurtz coupling reaction generally involves reacting a dihalosilane with an alkali metal such as sodium under slightly excessive conditions, followed by a purification step such as hydrolysis and reprecipitation.
It was said that the terminal of the obtained polysilane was a Si—H group, but at present, the terminal of the Si—H group was used without any treatment, without any particular treatment.

【0005】しかし、重合後、酸化反応などを受け易い
Si−H基末端を未処理のまま使用した場合には、ポリ
シランの品質低下を引き起こすおそれがある。
However, if the terminal of the Si—H group, which is susceptible to an oxidation reaction after polymerization, is used without any treatment, the quality of polysilane may be deteriorated.

【0006】これに対し、塩化アルキルなどを用いてポ
リシランの末端を封鎖する方法が提案されている(特開
平2−263831号公報)が、この方法はポリシラン
を単離した後、アルカリ金属により塩化アルキル類と縮
合反応を行なうもので、反応性が乏しい上、ポリシラン
の単離を含む2段階の製造工程を必要とするので、操作
が面倒である。
On the other hand, a method has been proposed in which the end of polysilane is blocked with an alkyl chloride or the like (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 2-263831). It is a condensation reaction with alkyls, which has poor reactivity and requires a two-stage production process including isolation of polysilane, which is troublesome.

【0007】また、上述したウルツカップリング反応
は、その反応の性質上、反応後の混合物にはかなりの濃
度のアルカリ金属イオンが混入しており、ポリシランの
精製時にポリシランの分解を招く問題もある。この分解
反応は、最近のアルカリ金属イオンによるポリシラン化
合物の分解反応に関する報告(Polymer Pre
prints, Vol.31(2),276(199
0))にも示されているように、特に極性溶媒中で加速
されることから、反応後の加水分解工程やアルコールを
使用する精製工程に進む前に、残存するアルカリ金属イ
オンを効率的に取り除く方法が求められている。
In addition, the above-mentioned Wurtz coupling reaction has a problem that, due to the nature of the reaction, a considerable concentration of alkali metal ions is mixed in the mixture after the reaction, which causes decomposition of the polysilane during purification of the polysilane. . This decomposition reaction has been reported recently on the decomposition reaction of polysilane compounds by alkali metal ions (Polymer Pre.)
prints, Vol. 31 (2), 276 (199
As shown in 0)), since the reaction is accelerated particularly in a polar solvent, the remaining alkali metal ions can be efficiently removed before proceeding to a hydrolysis step after the reaction or a purification step using an alcohol. There is a need for a way to get rid of it.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記問題点を解決するため鋭意検討を行った結果、ジハロ
シランをアルカリ金属の存在下に重合してポリシランを
合成した後、その反応混合物にモノハロシランを該混合
物が酸性になる量で加えることにより、該ポリシラン末
端をトリオルガノシリル基として封鎖することかできる
ことを見出し、本発明に至った。モノハロシランは塩化
アルキル類に比べて反応性が高く、より効率的に上記ポ
リシランに残存する末端Si−H結合を封鎖することが
でき、この場合上記ポリシランは単離することなく、得
られた反応混合物に第二次反応としてモノハロシランを
反応させることができるので、一ポットで製造でき、工
程的にも有利であることを見い出した。
The present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and as a result, after dihalosilane was polymerized in the presence of an alkali metal to synthesize polysilane, the reaction mixture was obtained. It has been found that the terminal of the polysilane can be blocked as a triorganosilyl group by adding a monohalosilane to the mixture in such an amount that the mixture becomes acidic. Monohalosilanes are more reactive than alkyl chlorides and can more efficiently block the terminal Si-H bonds remaining in the polysilane, in which case the polysilane is isolated without isolation and the resulting reaction mixture It has been found that monohalosilane can be reacted as a secondary reaction, so that it can be produced in one pot and is advantageous in terms of the process.

【0009】しかも、モノハロシランを過剰量で使用す
ることにより、末端封鎖をより徹底的に行なうことがで
きると同時に、反応系が酸性で、アルカリ金属イオン濃
度を実質上零或いは極めて低い濃度にすることができる
ため、精製時にポリシランの分解が抑えられ、使用する
ジハロシラン及びモノハロシランの種類に応じ、下記式
(1)で示されるポリシランを高純度で、即ちSi−H
結合及びSi−O結合を含有せず、両末端が完全にトリ
オルガノシリル基で封鎖された重量平均分子量が5,0
00〜2,000,000であるポリシランが得られる
ことを知見し、本発明をなすに至った。
In addition, by using monohalosilane in an excessive amount, terminal blocking can be performed more thoroughly, and at the same time, the reaction system is acidic and the alkali metal ion concentration is made substantially zero or extremely low. Therefore, the decomposition of polysilane during purification is suppressed, and the polysilane represented by the following formula (1) can be converted to high purity, that is, Si—H, depending on the type of dihalosilane and monohalosilane used.
Having no bond and no Si-O bond, and having both ends completely blocked with a triorganosilyl group, having a weight average molecular weight of 5,0.
The present inventors have found that a polysilane having an amount of 00 to 2,000,000 can be obtained, and have accomplished the present invention.

【0010】[0010]

【化2】 (但し、R1〜R5はそれぞれ炭素数1〜20のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示し、nはポリシランの重量平均分子量を5,000〜
2,000,000とする数である。)以下、本発明に
つき更に詳しく説明すると、本発明に係るポリシラン
は、上記式(1)に示されるものであるが、本発明のポ
リシランは重量平均分子量が5,000〜2,000,
000であり、またSi−H結合及びSi−O結合を含
んでいないものである。
Embedded image (However, R 1 to R 5 each represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and n denotes a weight average molecular weight of the polysilane of 5,000 to
The number is 2,000,000. Hereinafter, the present invention will be described in more detail. The polysilane according to the present invention is represented by the above formula (1), and the polysilane of the present invention has a weight average molecular weight of 5,000 to 2,000,
000 and does not contain a Si—H bond and a Si—O bond.

【0011】この場合、ポリシランの分子量が5,00
0より小さいと製膜性が悪く、2,000,000より
大きいと有機溶剤に対する溶解性が十分でなく、ポリシ
ランの各種用途に使用し難い。なお、ポリシランの使用
性からより好適な重量平均分子量は10,000〜10
0,000である。
In this case, the molecular weight of the polysilane is 5,000.
If it is less than 0, the film-forming property is poor, and if it is more than 2,000,000, the solubility in organic solvents is not sufficient, and it is difficult to use polysilane for various uses. In addition, the weight average molecular weight more preferable from the usability of polysilane is 10,000 to 10
It is 0000.

【0012】また、本発明のポリシランは、上述したよ
うに、Si−H結合、Si−O結合を含まないものであ
るが、ここでSi−H結合、Si−O結合を含まないと
は、IRスペクトルによりSi−H結合(波長2100
cm-1)及びSi−O結合(波長1000〜1100c
-1)のピークが実質的に存在しないことを意味する。
As described above, the polysilane of the present invention does not contain a Si—H bond or a Si—O bond. According to the IR spectrum, a Si-H bond (wavelength 2100
cm -1 ) and Si-O bond (wavelength 1000-1100c)
m -1 ) is substantially absent.

【0013】なお、上記式(1)において、R1〜R5
定義は上記した通りであるが、より好適にはR1〜R5
それぞれ同一又は異種の炭素数1〜6のアルキル基、炭
素数5〜6のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアリ
ール基、炭素数7〜14のアラルキル基である。
In the above formula (1), the definitions of R 1 to R 5 are as described above. More preferably, R 1 to R 5 are the same or different alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms. A cycloalkyl group having 5 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 14 carbon atoms.

【0014】上述した如きポリシランを得る方法とし
て、本発明は、ジハロシランをアルカリ金属の存在下に
重合してポリシランを合成した後、その反応混合物にモ
ノハロシランを該混合物が酸性になる量で加えて、上記
ポリシランの末端をトリオルガノシリル基として封鎖す
る反応を行なうという方法を採用する。
As a method for obtaining the above-mentioned polysilane, the present invention provides a method for producing a polysilane by polymerizing a dihalosilane in the presence of an alkali metal, and then adding a monohalosilane to the reaction mixture in such an amount that the mixture becomes acidic. A method of performing a reaction of blocking the terminal of the polysilane as a triorganosilyl group is employed.

【0015】ここで、ジハロシランとしては、通常ポリ
シランの製造に使用されるジクロロシラン類、ジブロモ
シラン類等を用いることができるが、特に上記式(1)
のポリシランを得る場合は、下記式(2)で示されるジ
ハロシランを使用する。
Here, as the dihalosilane, dichlorosilanes, dibromosilanes and the like which are usually used in the production of polysilane can be used. In particular, the above formula (1)
When the polysilane is obtained, a dihalosilane represented by the following formula (2) is used.

【0016】[0016]

【化3】 (但し、Xはハロゲン原子、R4,R5は上記と同様の意
味を示す。)なお、本発明においては、上記ジハロシラ
ンの1種を単独で使用しても2種以上を併用するように
してもよい。
Embedded image (However, X represents a halogen atom, and R 4 and R 5 have the same meanings as described above.) In the present invention, the above dihalosilanes may be used alone or in combination of two or more. You may.

【0017】アルカリ金属としては、ナトリウムが一般
に使用されるが、リチウムやカリウムも有効に使用する
ことができる。この場合、アルカリの使用量としては、
ジハロシランに対し若干過剰量、具体的にはジハロシラ
ン1モルに対し1.05〜1.2当量、特に1.05〜
1.1当量の量で使用することが好ましい。
As the alkali metal, sodium is generally used, but lithium and potassium can also be used effectively. In this case, the amount of alkali used is
Slight excess in relation to dihalosilane, specifically 1.05 to 1.2 equivalents, especially 1.05 to 1 mol of dihalosilane
It is preferred to use 1.1 equivalents.

【0018】この第一次反応は通常溶媒を使用して行な
う。溶媒としては、キシレン,トルエン,ベンゼン等の
芳香族系のもの、ドデカン等の脂肪族系のもの、それら
の混合溶媒などが使用される。この場合、反応は溶媒に
アルカリ金属を分散させた後、これにジハロシランを滴
下して反応を行なわせることが好ましく、反応温度は通
常98℃〜溶媒還流温度である。なお、反応時間は通常
1〜10時間である。
This primary reaction is usually carried out using a solvent. As the solvent, aromatic solvents such as xylene, toluene, and benzene, aliphatic solvents such as dodecane, and a mixed solvent thereof are used. In this case, the reaction is preferably carried out by dispersing an alkali metal in a solvent and then dropwise adding dihalosilane to the reaction. The reaction temperature is usually from 98 ° C. to the reflux temperature of the solvent. The reaction time is usually 1 to 10 hours.

【0019】本発明は、上記第一次反応で得られたポリ
シランにこれを単離することなく反応混合物のままでモ
ノハロシランを反応させ(第二次反応)、第一次反応で
得られたポリシランの末端を封鎖する。
According to the present invention, the polysilane obtained in the first reaction is reacted with the monohalosilane without isolation of the polysilane obtained in the first reaction (secondary reaction), and the polysilane obtained in the first reaction is obtained. Block the end.

【0020】モノハロシランとしては、特に下記式
(3)で示されるものが好適に用いられる。
As the monohalosilane, a compound represented by the following formula (3) is particularly preferably used.

【0021】[0021]

【化4】 Embedded image

【0022】具体的には、モノハロシランとして、トリ
メチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメ
チルヨードシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、ジ
メチルブチルブロモシランなど、ウルツカップリング反
応条件下で分解しないシラン類なら原則的にいずれのも
のも使用できるが、これらの中で反応性の高いフェニル
シラン類、ブロモシラン類などが特に好適である。
More specifically, in principle, any monohalosilane, such as trimethylchlorosilane, trimethylbromosilane, trimethyliodosilane, dimethylphenylchlorosilane, dimethylbutylbromosilane, which is not decomposed under Wurtz coupling reaction conditions, can be used. Among them, phenylsilanes and bromosilanes having high reactivity among them are particularly preferable.

【0023】モノハロシランの使用量は、上記反応混合
物を酸性にし得る量であり、好適にはこの反応混合物中
の残存アルカリ金属に対し1.1〜20倍モルである。
より好ましくは、効果的にアルカリ金属イオンを除くこ
とができ、かつ経済性の面から1.2〜10倍モル、更
に好ましくは1.5〜5倍モルである。モノハロシラン
の添加量が少なく、反応系がアルカリ性のままである
と、残存するアルカリイオンによるポリシランの分解、
低分子化が起こるという不利が生じる。
The amount of the monohalosilane used is such that the reaction mixture can be acidified, and is preferably 1.1 to 20 times the molar amount of the residual alkali metal in the reaction mixture.
More preferably, the alkali metal ion can be effectively removed, and from the viewpoint of economy, the molar ratio is 1.2 to 10 times, more preferably 1.5 to 5 times. If the addition amount of monohalosilane is small and the reaction system remains alkaline, decomposition of polysilane by remaining alkali ions,
The disadvantage of low molecular weight occurs.

【0024】この第二次反応は、例えば98℃〜溶媒還
流温度で行なうことができ、上記第一次反応後、そのま
まモノシランを滴下し、第二次反応を行なうことができ
る。なお、反応時間は通常1〜4時間である。
The secondary reaction can be carried out, for example, at a temperature of 98 ° C. to the reflux temperature of the solvent. After the primary reaction, the secondary reaction can be carried out by dropping monosilane as it is. The reaction time is usually 1 to 4 hours.

【0025】第二次反応終了後は、常法により反応混合
物を加水分解し、濃縮した後、アルコール等の極性溶媒
で精製することにより、高純度のポリシランを得ること
ができる。
After the completion of the secondary reaction, the reaction mixture is hydrolyzed and concentrated by a conventional method, and then purified with a polar solvent such as alcohol to obtain high-purity polysilane.

【0026】この最終ポリシランは、モノハロシランを
反応系が酸性になるように添加して一次反応で得られた
ポリシランの末端を封鎖するものであるが、予め反応系
が酸性になっているので、塩酸水や緩衝液を使用する必
要がなく、そのまま脱イオン水などにより加水分解する
ことができる。また、精製時にメタノール等のアルコー
ルやアセトン等のケトン、その他の極性溶媒を用いて再
沈により精製してもポリシランの分解がなく、Si−H
結合及びSi−O結合を含まない高純度のものである。
In this final polysilane, monohalosilane is added so as to make the reaction system acidic, and the terminal of the polysilane obtained in the primary reaction is blocked. However, since the reaction system is previously acidic, hydrochloric acid is used. There is no need to use water or a buffer, and the hydrolysis can be carried out directly with deionized water or the like. In addition, even when purified by reprecipitation using an alcohol such as methanol, a ketone such as acetone, or another polar solvent at the time of purification, polysilane is not decomposed, and Si—H
It is a high-purity material containing no bond and no Si—O bond.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明の製造方法は、Si−H結合及び
Si−O結合を含まず、イオン分の混入が少なく、高品
質であるため、セラミック前駆体、フォトレジスト、非
線形光学材料、光電子材料、有機導電性材料などとして
有効に使用し得る高純度のポリシランを一ポットで簡単
に製造することができるもので、末端をトリオルガノシ
リル基で確実に封鎖し得ると共に、ワークアップ時のア
ルカリ金属イオンによるポリシランの分解を防ぐことが
できるものである。
The production method of the present invention does not contain Si--H bonds and Si--O bonds, has a low ionic content, and has high quality. Therefore, the ceramic precursor, the photoresist, the non-linear optical material, the photoelectron High-purity polysilane that can be used effectively as a material, organic conductive material, etc. can be easily produced in a single pot.The end can be reliably blocked with a triorganosilyl group, and alkali at the time of work-up can be used. It can prevent decomposition of polysilane by metal ions.

【0028】[0028]

【0029】[0029]

【実施例】以下、実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

【0030】[実施例1]モーター撹拌機、温度計、滴
下ロート、還流コンデンサーを備えた500mlの4つ
口フラスコに150mlのキシレンと12g(520m
mol)のナトリウムを入れ、130℃以上に加熱して
ナトリウム分散物を作り、これに激しい撹拌と還流状態
を保ったままメチルフェニルジクロロシラン48.0g
(250mmol)をゆっくりと滴下した。135〜1
40℃にて4時間反応を行なった(第一次反応)後、フ
ェニルジメチルクロロシラン5.0g(30mmol)
を滴下し、更に2時間同条件で反応させた(第二次反
応)。
Example 1 A 500 ml four-necked flask equipped with a motor stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a reflux condenser was charged with 150 ml of xylene and 12 g (520 m).
mol) of sodium and heated to 130 ° C. or higher to form a sodium dispersion, and 48.0 g of methylphenyldichlorosilane was added thereto while maintaining vigorous stirring and reflux.
(250 mmol) was slowly added dropwise. 135-1
After reacting at 40 ° C. for 4 hours (primary reaction), 5.0 g (30 mmol) of phenyldimethylchlorosilane was obtained.
Was added dropwise, and reacted for 2 hours under the same conditions (secondary reaction).

【0031】反応混合物を加水分解し、次いで濃縮し、
更にメタノール、次にアセトンによる再沈で精製し、真
空乾燥させることにより、下記式(4)で示されるポリ
シラン10.5g(収率35%)を得た。
The reaction mixture is hydrolyzed and then concentrated,
The product was further purified by reprecipitation with methanol and then acetone, and dried under vacuum to obtain 10.5 g (yield 35%) of polysilane represented by the following formula (4).

【0032】このポリシランは、重量平均分子量が4
5,000であり、IRスペクトルの結果よりSi−H
結合及びSi−O結合が含まれていないことを確認し
た。
This polysilane has a weight average molecular weight of 4
5,000. From the result of the IR spectrum,
It was confirmed that no bond and no Si—O bond were included.

【0033】[0033]

【化5】 Embedded image

【0034】[比較例]実施例1において、フェニルジ
メチルクロロシランによる第二次反応を行なわず、第一
次反応後の反応混合物を実施例1と同様に精製した結
果、重量平均分子量45,000のポリシラン10.3
g(収率34%)が得られたが、このポリシランは、I
RスペクトルによりSi−H結合のピークが明瞭に認め
られ、Si−H結合が含まれているものであった。
Comparative Example In Example 1, the reaction mixture after the primary reaction was purified in the same manner as in Example 1 without performing the secondary reaction with phenyldimethylchlorosilane, and as a result, the reaction mixture having a weight average molecular weight of 45,000 was obtained. Polysilane 10.3
g (yield 34%) was obtained.
The peak of the Si-H bond was clearly recognized from the R spectrum, and the Si-H bond was contained.

【0035】[実施例2]実施例1において、メチルフ
ェニルジクロロシランの代わりにジヘキシルジクロロシ
ランを用いて第一次反応を行ない、またフェニルジメチ
ルクロロシランの代わりにトリメチルブロモシランを用
いて第二次反応を行なった以外は実施例1と同様にし
て、下記式(5)で示されるポリシラン8.9g(収率
18%)を得た。
[Example 2] In Example 1, the primary reaction was carried out using dihexyldichlorosilane instead of methylphenyldichlorosilane, and the secondary reaction was carried out using trimethylbromosilane instead of phenyldimethylchlorosilane. 8.9 g (yield 18%) of polysilane represented by the following formula (5) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the above was carried out.

【0036】このポリシランは、重量平均分子量が1,
100,000及び7.000のバイモーダルな分布を
示した。また、IRスペクトルの結果によると、Si−
H結合及びSi−O結合は含まれていないものであっ
た。
This polysilane has a weight average molecular weight of 1,
Bimodal distributions of 100,000 and 7.000 were shown. Also, according to the result of IR spectrum, Si-
H bond and Si—O bond were not included.

【0037】[0037]

【化6】 Embedded image

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ジハロシランをアルカリ金属の存在下に
重合してポリシランを合成した後、その反応混合物にモ
ノハロシランを該混合物が酸性になる量で加えて、上記
ポリシラン中の末端Si−H結合をトリオルガノシリル
基として封鎖する反応を行うことを特徴とするポリシラ
ンの製造方法。
After a dihalosilane is polymerized in the presence of an alkali metal to synthesize a polysilane, a monohalosilane is added to the reaction mixture in such an amount that the mixture becomes acidic, and the terminal Si-H bond in the polysilane is tritiated. A method for producing a polysilane, comprising performing a reaction of blocking as an organosilyl group.
【請求項2】 ジハロシランが下記一般式(2) 【化7】 (但し、Xはハロゲン原子、R,Rはそれぞれ炭素
数1〜20のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基又はアラルキル基を示す。)で示されるものであり、
モノハロシランが下記一般式(3) 【化8】 (但し、Xはハロゲン原子、R〜Rはそれぞれ炭素
数1〜20のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基又はアラルキル基を示す。)で示されるものであり、
ポリシランが下記一般式(1) 【化1】 (但し、R〜Rは上記の通りであり、nはポリシラ
ンの重量平均分子量を5,000〜2,000,000
とする数である。)で示され、重量平均分子量が5,0
00〜2,000,000のものである請求項1記載の
ポリシランの製造方法。
2. The dihalosilane is represented by the following general formula (2): (However, X represents a halogen atom, and R 4 and R 5 each represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group).
Monohalosilane is represented by the following general formula (3): Wherein X represents a halogen atom, and R 1 to R 3 each represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group.
The polysilane is represented by the following general formula (1): (However, R 1 to R 5 are as described above, and n is a weight average molecular weight of the polysilane of 5,000 to 2,000,000.)
It is a number to be. ), Having a weight average molecular weight of 5,0
2. The method for producing a polysilane according to claim 1, wherein the amount is from 00 to 2,000,000.
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