JP2916818B2 - Photosensitive composition for sandblasting - Google Patents

Photosensitive composition for sandblasting

Info

Publication number
JP2916818B2
JP2916818B2 JP41919790A JP41919790A JP2916818B2 JP 2916818 B2 JP2916818 B2 JP 2916818B2 JP 41919790 A JP41919790 A JP 41919790A JP 41919790 A JP41919790 A JP 41919790A JP 2916818 B2 JP2916818 B2 JP 2916818B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
compound
group
ethylenically unsaturated
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP41919790A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH04215659A (en
Inventor
洋之 帯谷
俊身 青山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TOKYO OKA KOGYO KK
Original Assignee
TOKYO OKA KOGYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TOKYO OKA KOGYO KK filed Critical TOKYO OKA KOGYO KK
Priority to JP41919790A priority Critical patent/JP2916818B2/en
Publication of JPH04215659A publication Critical patent/JPH04215659A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2916818B2 publication Critical patent/JP2916818B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、サンドブラストにより
基材の表面に図柄を形成する際に、スクリーン印刷が可
能で、耐ブラスト性に優れた感光性組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive composition which can be screen-printed when a pattern is formed on the surface of a substrate by sandblasting and has excellent blast resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ガラス、陶磁器等の表面にサンド
ブラストにより図柄を作成する場合、紙、ゴム板等を基
材に貼り付け、カッターナイフ等で切り抜き、これをサ
ンドブラスト保護膜としてサンドブラストする方法が知
られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a pattern is formed by sandblasting on the surface of glass, ceramics, or the like, a method in which a paper, a rubber plate, or the like is attached to a base material, cut out with a cutter knife or the like, and sandblasted as a sandblast protective film. Are known.

【0003】しかし、この方法では保護膜を人手により
作成するのが通常であり、図柄が複雑で細かい場合には
保護膜を形成するために多大な時間と労力を要する。
However, in this method, the protection film is usually prepared by hand, and when the design is complicated and fine, it takes a lot of time and labor to form the protection film.

【0004】そこで液状あるいは板状感光性樹脂を用い
て写真的手段により保護膜を基材上に形成し、サンドブ
ラストする方法、あるいはスクリーン印刷により保護膜
を形成し、サンドブラストする方法が提案されている。
[0004] Therefore, a method has been proposed in which a protective film is formed on a substrate by photographic means using a liquid or plate-shaped photosensitive resin and sandblasted, or a method in which the protective film is formed by screen printing and sandblasted. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前者の方法で
は、基材上に直接液状あるいは板状感光性樹脂を塗布、
あるいは貼り付け、目的とする図柄を有するフイルムを
通して露光し、未露光部を溶解、除去しなければなら
ず、手間がかかり、特に大きな基材に模様を作成する場
合には作業が大変困難である。また後者の場合には、イ
ンクが溶剤乾燥型であったり、ウレタン等の二液混合の
反応硬化するものであったりして、スクリーン印刷時に
目詰りを起こしたり、スクリーン印刷のため充分な膜厚
が得られなかたっり、溶媒の蒸発によりインクの粘度が
変化し、均一な印刷が出来ないという問題があった。
However, in the former method, a liquid or plate-shaped photosensitive resin is applied directly on a substrate,
Alternatively, it is necessary to paste and expose through a film having a desired pattern, dissolve and remove the unexposed portion, which is troublesome, and the work is very difficult, especially when creating a pattern on a large base material. . In the latter case, the ink may be a solvent-dry type or a two-component reaction-curable ink such as urethane, which may cause clogging during screen printing or a film thickness sufficient for screen printing. However, since the viscosity of the ink changes due to evaporation of the solvent, uniform printing cannot be performed.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記問題点
を解決するため、検討した結果、 (a)下記一般式で表わされるペンタメチレンカルボニ
ロキシ基の繰返し構造を持つ化合物、
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have studied to solve the above-mentioned problems. As a result, (a) a compound having a repeating structure of a pentamethylenecarbonyloxy group represented by the following general formula;

【0007】[0007]

【化2】 n=25〜100Embedded image n = 25-100

【0008】(b)少なくとも2個のエチレン性不飽和
基を有するウレタンアクリレート、 (c)カルボキシル基を分子内に有する、少なくとも1
個のエチレン性不飽和基を有する化合物、および (d)光重合開始剤を含有して成るサンドブラスト用感
光性組成物が、光硬化性、基材に対する密着性、耐サン
ドブラスト性に優れ、かつブラスト後に容易に基材から
剥離することが出来ることを見出した。
(B) a urethane acrylate having at least two ethylenically unsaturated groups, and (c) at least one urethane acrylate having a carboxyl group in the molecule.
A photosensitive composition for sandblasting comprising a compound having two ethylenically unsaturated groups and (d) a photopolymerization initiator is excellent in photocurability, adhesion to a substrate, sandblast resistance, and blasting. It has been found that it can be easily peeled off from the substrate later.

【0009】本発明で言う基材とは、ガラス、金属、プ
ラスチック、石、木材等をいう。またこれらの基材の表
面に塗料や金属膜等を形成したものも含む。
The substrate in the present invention means glass, metal, plastic, stone, wood and the like. In addition, those in which a paint, a metal film, or the like is formed on the surface of these substrates are also included.

【0010】本発明の感光性組成物はスクリーン印刷に
より、パターン印刷後、紫外線照射により硬化、基材に
密着して耐サンドブラスト性保護膜を形成する。スクリ
ーン印刷が可能なため、大量生産に適し、溶媒分を含ま
ないので、エネルギーロス、溶媒による環境汚染の心配
がない。この紫外線の光源としては、超高圧水銀灯、紫
外線蛍光灯、カーボンアーク灯等が挙げられる。
The photosensitive composition of the present invention is screen-printed, pattern-printed, cured by irradiation with ultraviolet rays, and adheres to a substrate to form a sandblast-resistant protective film. Since screen printing is possible, it is suitable for mass production and contains no solvent, so there is no need to worry about energy loss and environmental pollution caused by the solvent. Ultraviolet light sources, ultraviolet fluorescent lamps, carbon arc lamps, and the like are examples of the ultraviolet light source.

【0011】本発明の感光性組成物はペンタメチレンカ
ルボニロキシ基の繰返し構造を持つ化合物により優れた
密着性、耐衝撃性を有し、また少なくとも2個のエチレ
ン性不飽和基を有するウレタンアクリレートにより、硬
化後の保護膜の柔軟性、密着性、硬化性、耐サンドブラ
スト性に優れている等の特徴を有する。
The photosensitive composition of the present invention has excellent adhesion and impact resistance due to a compound having a repeating structure of a pentamethylenecarbonyloxy group, and a urethane acrylate having at least two ethylenically unsaturated groups. Accordingly, the cured protective film has characteristics such as excellent flexibility, adhesion, curability, and sandblast resistance.

【0012】本発明のペンタメチレンカルボニロキシ基
の繰返し構造を持つ化合物は、一般にε−カプロラクト
ンを開環させて得られる、結晶性、非結晶性の熱可塑性
樹脂で、液状あるいは固体である。この化合物は、非常
に結晶性が強いため、非結晶性で低分子(約10,00
0以下)であることが好ましい。
The compound having a repeating structure of a pentamethylenecarbonyloxy group of the present invention is a crystalline or non-crystalline thermoplastic resin obtained by ring-opening ε-caprolactone, and is a liquid or a solid. Since this compound is very crystalline, it is amorphous and has a low molecular weight (about 10,000).
0 or less).

【0013】また、少なくとも2個のエチレン性不飽和
基を有するウレタンアクリレートは、従来公知の方法で
製造することが出来る。例えば2個のカルボキシル基を
有する化合物と、2個の水酸基を有する化合物を反応さ
せ、末端水酸基を有するポリエステルを製造し、これを
脂肪族ジイソシアネート、例えばヘキサメチレンジイソ
シアネートで縮合、末端にイソシアネート基を有する化
合物とし、これに分子内に水酸基を有するエチレン性不
飽和化合物を反応させて得られる。
The urethane acrylate having at least two ethylenically unsaturated groups can be produced by a conventionally known method. For example, a compound having two carboxyl groups and a compound having two hydroxyl groups are reacted to produce a polyester having a terminal hydroxyl group, which is condensed with an aliphatic diisocyanate, for example, hexamethylene diisocyanate, and having a terminal isocyanate group. A compound is obtained by reacting the compound with an ethylenically unsaturated compound having a hydroxyl group in the molecule.

【0014】カルボキシル基を分子内に有する、少なく
とも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物として
は、フタル酸と2−ヒドロキシエチルアクリレートの反
応物、ビスアクリルアミド酢酸等が挙げられる。これら
はサンドブラスト後の水、あるいは薄いアルカリ水溶液
での剥離を行う際に有用である。
Examples of the compound having a carboxyl group in the molecule and having at least one ethylenically unsaturated group include a reaction product of phthalic acid and 2-hydroxyethyl acrylate, bisacrylamide acetic acid, and the like. These are useful when stripping with water after sandblasting or a thin alkaline aqueous solution.

【0015】本発明におけるペンタメチレンカルボニロ
キシ基の繰返し構造を持つ化合物と少なくとも2個のエ
チレン性不飽和基を有するウレタンアクリレート、カル
ボキシル基を分子内に有する、少なくとも1個のエチレ
ン性不飽和基を有する化合物の比率は、ペンタメチレン
カルボニロキシ基の繰返し構造を持つ化合物を1(重量
部比以下同じ)とすると、少なくとも2個のエチレン性
不飽和基を有し、脂肪族炭化水素で構成されるウレタン
アクリレートは0.5〜3、カルボキシル基を分子内に
有する、少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する
化合物は、0.5〜1の範囲で実施される。少なくとも
2個のエチレン性不飽和基を有するウレタンアクリレー
トが0.5未満では、紫外線照射時の硬化性が低下し、
耐サンドブラスト性が低下する。3を超えれば粘度が高
くなり、スクリーン印刷が困難になる。また、カルボキ
シル基を分子内に有する、少なくとも1個のエチレン性
不飽和基を有する化合物が、0.5未満であると、サン
ドブラスト後の剥離性が低下し、1を超えると紫外線硬
化時の保護膜が脆くなる傾向がある。
In the present invention, a compound having a repeating structure of a pentamethylenecarbonyloxy group, a urethane acrylate having at least two ethylenically unsaturated groups, and at least one ethylenically unsaturated group having a carboxyl group in a molecule. When the compound having a repeating structure of pentamethylenecarbonyloxy group is 1 (the same applies to the parts by weight ratio or less), the compound having at least two ethylenically unsaturated groups and composed of an aliphatic hydrocarbon The urethane acrylate is in the range of 0.5 to 3, and the compound having a carboxyl group in the molecule and having at least one ethylenically unsaturated group is in the range of 0.5 to 1. If the urethane acrylate having at least two ethylenically unsaturated groups is less than 0.5, the curability upon irradiation with ultraviolet light is reduced,
Sandblast resistance is reduced. If it exceeds 3, the viscosity becomes high and screen printing becomes difficult. When the number of compounds having a carboxyl group in the molecule and having at least one ethylenically unsaturated group is less than 0.5, the releasability after sandblasting is reduced. The film tends to be brittle.

【0016】本発明に用いられる光重合開始剤として
は、1−クロロアントラキノン、2−エチルアントラキ
ノン等のアントラキノン類、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイ
ン類、ベンゾフェノン、N,N−ジエチルアミノベンゾ
フェノン等のベンゾフェノン類、1−クロロチオキサン
トン、2−メチルチオキサントン等のチオキサントン類
等、従来公知のものが、単独あるいは2種以上混合して
用いられる。この使用量は、少なくとも2個のエチレン
性不飽和基を有するウレタンアクリレートとカルボキシ
ル基を分子内に有する、少なくとも1個のエチレン性不
飽和基を有する化合物の和に対し、0.1〜10%の範
囲で使用される。0.1%未満では硬化性が低下し、耐
サンドブラスト性が低下する。10%を超えても特に顕
著な効果が見られず、かえつて性能の低下を起こすこと
があり、経済的ではない。
The photopolymerization initiator used in the present invention includes anthraquinones such as 1-chloroanthraquinone and 2-ethylanthraquinone, benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether and benzoin ethyl ether, benzophenone and N, N-diethylamino. Conventionally known compounds such as benzophenones such as benzophenone and thioxanthones such as 1-chlorothioxanthone and 2-methylthioxanthone are used alone or in combination of two or more. This amount is 0.1 to 10% based on the sum of a urethane acrylate having at least two ethylenically unsaturated groups and a compound having at least one ethylenically unsaturated group having a carboxyl group in the molecule. Used in the range. If it is less than 0.1%, the curability decreases and the sandblast resistance decreases. If it exceeds 10%, no particularly remarkable effect is observed, and the performance may be deteriorated, which is not economical.

【0017】本発明においては、スクリーン印刷適性を
持たせるために必要に応じて、少なくとも1個のエチレ
ン性不飽和基を有する化合物、充填剤、レベリング剤、
消泡剤等を添加することもできる。また顔料、染料等を
添加して保護膜を見易くすることができる。
In the present invention, a compound having at least one ethylenically unsaturated group, a filler, a leveling agent,
An antifoaming agent or the like can be added. In addition, the protective film can be easily seen by adding a pigment, a dye or the like.

【0018】本発明の感光性組成物を用いて基材に図柄
を形成する方法は、スクリーン印刷により基材に直接印
刷し、紫外線を照射して硬化する方法、あるいは転写
紙、転写フィルムに印刷して紫外線硬化、転写する方法
がある。本発明の感光性組成物は紫外線照射した後に
も、柔軟性があり、タックを有するため、転写法におい
ても、接着剤あるいは組成の限定がない。
The method for forming a pattern on a substrate using the photosensitive composition of the present invention is a method of directly printing on a substrate by screen printing and curing by irradiating ultraviolet rays, or a method of printing on a transfer paper or a transfer film. UV curing and transfer. Since the photosensitive composition of the present invention has flexibility and tackiness even after being irradiated with ultraviolet rays, there is no limitation on the adhesive or composition even in the transfer method.

【0019】サンドブラスト後には、基材上に形成され
た保護膜は基材から剥離されるが、剥離方法は水、ある
いは薄いアルカリ水溶液に浸漬するだけで基材から剥離
される。浸漬時間は保護膜の厚み、基材の種類により異
なるが、通常10分程度、薄いアルカリ水溶液を用いれ
ばさらに短時間で剥離が可能である。当然物理的な力を
借りればさらに短時間で剥離可能となる。
After the sandblasting, the protective film formed on the substrate is peeled off from the substrate. The method for peeling off the protective film is simply immersion in water or a thin alkaline aqueous solution. Although the immersion time varies depending on the thickness of the protective film and the type of the base material, the immersion time is usually about 10 minutes. Naturally, peeling can be performed in a shorter time if physical force is used.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明の感光性組成物は、水あるいは薄
いアルカリ水溶液で容易に剥離出来るにも拘らず、基材
に対する密着性に優れ、また保護膜が薄い場合でも充分
な硬化性、耐ブラスト性を有するという利点がある。
The photosensitive composition of the present invention is excellent in adhesion to a substrate even though it can be easily peeled off with water or a thin alkaline aqueous solution, and has sufficient curability and resistance even when the protective film is thin. There is an advantage of having blast properties.

【0021】次に実施例によって本発明を具体的に説明
するが、これによって何ら制限を受けるものではない。
Now, the present invention will be described in further detail with reference to Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0022】[0022]

【実施例】実施例1 ポリエステルとヘキサメチレンジイソシアネートとε−
カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチルアクリレート
から合成される少なくとも2個のエチレン性不飽和基を
有するウレタンアクリレート(商品名SR−6138ダ
イセルユーシービー社製)50重量部とペンタメチレン
カルボニロキシ基の繰返し構造を持つ化合物(商品名プ
ラクセルL220ALダイセル化学社製)25重量部、
フタル酸モノ(2−ヒドロキシエチルアクリレート)2
5重量部を混合した。得られた物にジメチルベンジルケ
タール3重量部、2,4−ジメチルチオキサントン3重
量部、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル
3重量部、メチルヒドロキノン0.01重量部を加え溶
解した。
EXAMPLES Example 1 Polyester, hexamethylene diisocyanate and ε-
The repeating structure of urethane acrylate having at least two ethylenically unsaturated groups synthesized from caprolactone-modified 2-hydroxyethyl acrylate (trade name: SR-6138, manufactured by Daicel UCB) and a pentamethylenecarboniloxy group was 50 parts by weight. 25 parts by weight of compound (trade name: Praxel L220AL manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.)
Phthalic acid mono (2-hydroxyethyl acrylate) 2
5 parts by weight were mixed. 3 parts by weight of dimethylbenzyl ketal, 3 parts by weight of 2,4-dimethylthioxanthone, 3 parts by weight of isoamyl p-dimethylaminobenzoate and 0.01 part by weight of methylhydroquinone were added to the obtained product and dissolved.

【0023】上記で調製した組成物をガラス板にポリエ
ステル製のスクリーン印刷版(70メッシュ)で300
μのパターンを印刷し、超高圧水銀灯で100mJ/c
紫外線照射した。照射後の膜厚は40μであった。
このパターンを粒径範囲70〜85μmの酸化アルミニ
ウム粉末を80%以上含有する研磨剤を用いてブラスト
圧4kg/cm、距離15cm、45秒間サンドブラ
ストしたところ、ガラス板は約0.3mm彫れ、かつパ
ターンの剥離はなかった。
The above-prepared composition was applied to a glass plate by a screen printing plate (70 mesh) made of polyester for 300 minutes.
Print a μ pattern and use an ultra-high pressure mercury lamp for 100mJ / c
m 2 and ultraviolet irradiation. The film thickness after irradiation was 40 μ.
When this pattern was sandblasted with an abrasive containing 80% or more of aluminum oxide powder having a particle size range of 70 to 85 μm at a blast pressure of 4 kg / cm 2 and a distance of 15 cm for 45 seconds, the glass plate was carved about 0.3 mm, and There was no peeling of the pattern.

【0024】このガラス板を水に浸漬したところ約10
分で印刷パターンが剥離された。
When this glass plate was immersed in water,
The print pattern was peeled off in minutes.

【0025】実施例2 ポリエステルとヘキサメチレンジイソシアネートとε−
カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチルアクリレート
から合成される少なくとも2個のエチレン性不飽和基を
有するウレタンアクリレート(商品名SR−6138ダ
イセルユーシービー社製)75重量部とペンタメチレン
カルボニロキシ基の繰返し構造を持つ化合物(商品名プ
ラクセルL220ALダイセル化学社製)25重量部、
フタル酸モノ(2−ヒドロキシエチルアクリレート)2
5重量部を混合した。得られた物を50℃に加温し、ジ
メチルベンジルケタール4重量部、2,4−ジメチルチ
オキサントン3重量部、p−ジメチルアミノ安息香酸イ
ソアミルエステル3重量部、N−ニトロソフェニルヒド
ロキシルアミンアルミニウム塩0.01重量部を加え溶
解した。
Example 2 Polyester, hexamethylene diisocyanate and ε-
The repeating structure of 75 parts by weight of a urethane acrylate having at least two ethylenically unsaturated groups (trade name: SR-6138, manufactured by Daicel UCB) and a pentamethylenecarboniloxy group synthesized from caprolactone-modified 2-hydroxyethyl acrylate was used. 25 parts by weight of a compound (trade name: Praxel L220AL manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.)
Phthalic acid mono (2-hydroxyethyl acrylate) 2
5 parts by weight were mixed. The obtained product was heated to 50 ° C., and 4 parts by weight of dimethylbenzyl ketal, 3 parts by weight of 2,4-dimethylthioxanthone, 3 parts by weight of isoamyl p-dimethylaminobenzoate, aluminum salt of N-nitrosophenylhydroxylamine 0 0.01 part by weight was added and dissolved.

【0026】上記で調製した組成物を、ガラス板にポリ
エステル製のスクリーン印刷版(355メッシュ)で網
点65線のパターンを印刷し、超高圧水銀灯で125m
J/cm紫外線照射した。照射後の膜厚は10μであ
った。このパターンを粒径範囲53μm以下の酸化アル
ミニウム粉末を80%以上含有する研磨剤を用いてブラ
スト圧3kg/cm、距離30cm、15秒間サンド
ブラストしたところ、ガラス板はマット化され、かつパ
ターンの剥離はなかった。
The above-prepared composition was printed on a glass plate with a screen pattern made of polyester using a screen printing plate (355 mesh) having 65 halftone dots, and 125 m with an ultrahigh pressure mercury lamp.
J / cm 2 UV irradiation was performed. The film thickness after irradiation was 10 μm. When this pattern was sandblasted with an abrasive containing 80% or more of aluminum oxide powder having a particle size range of 53 μm or less at a blast pressure of 3 kg / cm 2 and a distance of 30 cm for 15 seconds, the glass plate was matted and the pattern was peeled. There was no.

【0027】このガラス板を0.1%の炭酸ソーダ水溶
液に浸漬したところ、約5分で印刷パターンが剥離され
た。
When this glass plate was immersed in a 0.1% aqueous sodium carbonate solution, the printed pattern was peeled off in about 5 minutes.

【0028】実施例3 ポリエステルとヘキサメチレンジイソシアネートとε−
カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチルアクリレート
から合成される、少なくとも2個のエチレン性不飽和基
を有するウレタンアクリレート(商品名SR−6178
ダイセルユーシービー社製)75重量部とペンタメチレ
ンカルボニロキシ基の繰返し構造を持つ化合物(商品名
プラクセルA1220ALダイセル化学社製)50重量
部、フタル酸モノ(2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト)25重量部、ノニルフェノキシポリエチレングリコ
ールモノアクリレート25重量部を混合した。この液に
ジメチルベンジルケタール5重量部、2,4−ジメチル
チオキサントン5重量部、p−ジメチルアミノ安息香酸
エチルエステル5重量部、メチルハイドロキノン0.0
2重量部を溶解した。
Example 3 Polyester, hexamethylene diisocyanate and ε-
Urethane acrylate having at least two ethylenically unsaturated groups (trade name: SR-6178, synthesized from caprolactone-modified 2-hydroxyethyl acrylate)
75 parts by weight of a compound having a repeating structure of a pentamethylenecarbonyloxy group (trade name: Praxel A1220AL, manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), 75 parts by weight, 25 parts by weight of mono (2-hydroxyethyl acrylate) phthalate, 25 parts by weight of nonylphenoxy polyethylene glycol monoacrylate were mixed. To this solution, 5 parts by weight of dimethylbenzyl ketal, 5 parts by weight of 2,4-dimethylthioxanthone, 5 parts by weight of ethyl p-dimethylaminobenzoate, 0.0 part of methylhydroquinone
2 parts by weight were dissolved.

【0029】上記で調製した組成物を、実施例1とブラ
スト圧を4kg/cmに変更した以外は同様にサンド
ブラストしたところ、ガラス板は約0.1mm彫れ、か
つパターンの剥離はなかった。このガラス板を10%の
トリエタノールアミン水溶液に浸漬したところ約4分で
パターンは剥離された。
When the composition prepared above was subjected to sand blasting in the same manner as in Example 1 except that the blast pressure was changed to 4 kg / cm 2 , the glass plate was carved about 0.1 mm and the pattern did not peel off. When this glass plate was immersed in a 10% aqueous solution of triethanolamine, the pattern was peeled off in about 4 minutes.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/12 G03F 7/12 (56)参考文献 特開 昭60−10242(JP,A) 特開 昭55−36812(JP,A) 特開 昭60−104939(JP,A) 特開 昭60−140938(JP,A) 特開 昭61−21118(JP,A) 特開 昭58−32662(JP,A) 特開 昭63−162715(JP,A) 特開 平4−145111(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03F 7/032 G03F 7/004 G03F 7/027 G03F 7/028 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI G03F 7/12 G03F 7/12 (56) References JP-A-60-10242 (JP, A) JP-A-55-36812 (JP) JP-A-60-104939 (JP, A) JP-A-60-140938 (JP, A) JP-A-61-21118 (JP, A) JP-A-58-32662 (JP, A) 63-162715 (JP, A) JP-A-4-145111 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G03F 7/032 G03F 7/004 G03F 7/027 G03F 7 / 028

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (a)下記一般式で表わされるペンタ
メチレンカルボニロキシ基の繰返し構造を持つ化合物、 【化1】 n=25〜100 (b)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を有するウ
レタンアクリレート、 (c)カルボキシル基を分子内に有する、少なくとも1
個のエチレン性不飽和基を有する化合物、および (d)光重合開始剤を含有して成るサンドブラスト用感
光性組成物
(A) a compound having a repeating structure of a pentamethylenecarboniloxy group represented by the following general formula: n = 25 to 100 (b) urethane acrylate having at least two ethylenically unsaturated groups, (c) at least one having a carboxyl group in the molecule
COMPOSITION HAVING EACH ETHYLENE UNSATURATED GROUP AND (d) A SENSITIVE COMPOSITION FOR SAND BLAST CONTAINING A PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR
JP41919790A 1990-12-14 1990-12-14 Photosensitive composition for sandblasting Expired - Lifetime JP2916818B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP41919790A JP2916818B2 (en) 1990-12-14 1990-12-14 Photosensitive composition for sandblasting

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP41919790A JP2916818B2 (en) 1990-12-14 1990-12-14 Photosensitive composition for sandblasting

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04215659A JPH04215659A (en) 1992-08-06
JP2916818B2 true JP2916818B2 (en) 1999-07-05

Family

ID=18526853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP41919790A Expired - Lifetime JP2916818B2 (en) 1990-12-14 1990-12-14 Photosensitive composition for sandblasting

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2916818B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4328348A1 (en) * 1993-08-24 1995-03-02 Du Pont Deutschland A tonable radiation-sensitive mixture and process for making multicolor images by means of such a mixture
JP4671540B2 (en) * 2001-06-05 2011-04-20 日本合成化学工業株式会社 Pattern formation method
KR101190945B1 (en) * 2005-10-25 2012-10-12 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Photosensitive resin composition, photosensitive element comprising the same, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04215659A (en) 1992-08-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6142954B2 (en)
TW300289B (en)
GB1565671A (en) Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials
AU671184B2 (en) Polymerisable compositions containing tetraacrylates
JPS608100A (en) Spray etching method
EP0427950A2 (en) A photosensitive resin composition for use in forming a relief structure
EP0405464A2 (en) Polyether acrylamide derivatives and active energy ray curable resin composition
JP4010547B2 (en) Self-polymerizing photopolymerization initiator and photosensitive resin composition using the same
JP2916818B2 (en) Photosensitive composition for sandblasting
TW475098B (en) Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminated film containing the same
US4789621A (en) Screen emulsions comprised of diacetone acrylamide
JPH08218296A (en) Active energy beam-curable composition for paper coating
US6322947B1 (en) Photosensitive composition for sandblasting and photosensitive film laminate comprising the same
JPS6010242A (en) Photosetting resin composition resistant to etching by solid particle blast
US6200733B1 (en) Photosensitive composition for sandblasting and photosensitive film comprising the same
JP2804582B2 (en) Active energy ray polymerizable unsaturated resin composition and curable composition containing the same
JPH06161098A (en) Photosensitive resin composition for sand blasting and photosensitive film formed by using the same
JP5316534B2 (en) Letterpress printing plate for laser engraving and letterpress printing plate obtained therefrom
JPH06161097A (en) Photosensitive resin composition for sand blasting and laminated film formed by using the same
JPH05125136A (en) Radiation-curable resin composition and screen printing ink composition for radiation-curable type strippable masking material
JP3150207B2 (en) Screen printing ink composition
JP3236461U (en) Photosensitive resin composition for sandblasting
JPH09152713A (en) Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminated film using the composition
JPH05287696A (en) Active energy ray-curable resin composition for paper and cured product therefrom
JP3060088B2 (en) Photocurable printing ink composition

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100423

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110423

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110423

Year of fee payment: 12