JP2911964B2 - Storehouse - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 被保管物、例えば半導体ウェーハ等を保管する保管庫
に関し、 室内の空気を循環させるクリーンルーム内などで安全
に使用できるとともに、被保管物の表面に塵埃を付着す
ることなく且つ被保管物の表面の酸化を防止できる保管
庫の提供を目的とし、 空気を加熱する加熱手段と該空気を循環する循環する
循環手段と該空気中の浮遊塵を除く除塵手段とを庫内に
配置して被保管物を収納保管する保管庫において、前記
加熱手段、循環手段及び除塵手段が配置されて前記空気
を循環させる主流路と、該主流路から前記空気を分流す
る複数の分流路と、該分流路からの空気を上部の吹き出
し孔から下方に吹き下ろして底部から前記主流路に還流
させ、かつ被保管物を保管するための複数の保管空間と
を備えて構成する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Summary] The present invention relates to a storage for storing an object to be stored, for example, a semiconductor wafer or the like. A heating means for heating air, a circulating means for circulating the air, and a dust removing means for removing airborne dust in the air, for the purpose of providing a storage which can prevent oxidation of the surface of the storage object without adhering. And a main channel for circulating the air by disposing the heating unit, the circulating unit, and the dust removing unit, and diverting the air from the main channel. A plurality of branch channels, and a plurality of storage spaces for storing air to be stored by storing air from the branch channels in a downward direction from an upper outlet and flowing back from the bottom to the main channel. That.
本発明は、半導体ウェーハなどを保管する保管庫、特
に室内の空気を循環させるクリーンルーム内などで安全
に使用できるとともに、被保管物の表面に塵埃を付着す
ることなく且つ被保管物の表面の酸化を防止できる保管
庫に関する。INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used safely in a storage for storing semiconductor wafers and the like, particularly in a clean room for circulating indoor air, etc., without adhering dust to the surface of the storage object and oxidizing the surface of the storage object. Storage that can prevent
クリーンルーム内の空気は、浮遊塵が除塵されている
ことは固より、温度と相対湿度もある範囲内に調整され
ているのが通常である。Normally, the temperature and relative humidity of the air in the clean room are adjusted within a certain range, rather than the fact that floating dust is removed.
このため、かかるクリーンルームにおいてはクリーン
度の保持や、空気の温度や湿度を調整する空調装置を運
転する際の電力や冷却水の節減を計るために、クリーン
ルーム内に送り込む空気は、クリーンルームから還流さ
せた空気に外気を僅かに混ぜたものとなっている。For this reason, in such a clean room, the air sent into the clean room is returned from the clean room to maintain cleanliness and to save power and cooling water when operating an air conditioner that adjusts the temperature and humidity of the air. The air is slightly mixed with outside air.
斯くして、このように室内の空気の多くが循環するク
リーンルーム内においても、クリーンルーム内の空気中
の酸素濃度の低下により発生する人身上の酸欠事故を引
き起こすことのない保管庫が強く望まれている。Thus, even in a clean room where much of the indoor air circulates, a storage that does not cause a personal oxygen deficiency accident caused by a decrease in the oxygen concentration in the air in the clean room is strongly desired. ing.
次に、従来の保管庫について図面を参照しながら説明
する。Next, a conventional storage will be described with reference to the drawings.
第２図は、従来の保管庫を説明するための概略側断面
図である。FIG. 2 is a schematic side sectional view for explaining a conventional storage.
尚、同じ部品・材料に対しては全図を通して同じ記号
を付与してある。The same symbols are given to the same parts and materials throughout the drawings.
従来の保管庫は、第２図に示すように側面に一つの開
口部21aを有する直方体状の箱21と、 蝶番22を介して箱21の側面に取り付けられて、箱21の
開口部21aを自在に開閉する扉23と、 箱21の内壁に表面を水平にして固定されて、被保管
物、例えば半導体ウェーハ31を収納した収納容器32を載
置する棚30と、 箱21の側壁21bを貫通して当該側壁21bにそれぞれ離隔
して固定された導入管24、及び排出管25を含んで構成し
たものである。The conventional storage is, as shown in FIG. 2, a rectangular parallelepiped box 21 having one opening 21a on the side, and is attached to the side of the box 21 via a hinge 22 so that the opening 21a of the box 21 A door 23 that can be freely opened and closed, a shelf 30 that is fixed to the inner wall of the box 21 with the surface horizontal and holds an object to be stored, for example, a storage container 32 that stores the semiconductor wafer 31, and a side wall 21b of the box 21 It is configured to include an introduction pipe 24 and a discharge pipe 25 which penetrate and are fixed to the side wall 21b so as to be separated from each other.
このような従来の保管庫のクリーンルーム内への設置
は、導入管24に保管庫内に導入する気体を貯蔵したタン
ク（図示せず）に接続した気体導入管26を連結するとと
もに、排出管25にクリーンルーム外に一端を開放した気
体排出管27を接続して行っていた。To install such a conventional storage in a clean room, a gas introduction pipe 26 connected to a tank (not shown) storing gas to be introduced into the storage is connected to an introduction pipe 24, and a discharge pipe 25 is connected. A gas discharge pipe 27 having an open end was connected to the outside of the clean room.
そして、クリーンルーム内に設置した保管庫に収納容
器32に収納した半導体ウェーハ31を保管する際には、保
管庫内の相対湿度を下げて半導体ウェーハ31表面の酸化
を防止するために、矢印Ａで示すように導入管24から浮
遊塵と水分を含まないクリーンな気体、例えば窒素ガス
を連続的に導入するとともに、保管庫内の余分な窒素ガ
スを矢印Ｂで示す如く排出管25から気体排出管27を経由
してクリーンルーム外に連続的に排出していた。Then, when storing the semiconductor wafer 31 stored in the storage container 32 in a storage room installed in a clean room, in order to lower the relative humidity in the storage room and prevent oxidation of the surface of the semiconductor wafer 31, the arrow A is used. As shown in the drawing, a clean gas containing no floating dust and moisture, for example, nitrogen gas, is continuously introduced from the introduction pipe 24, and excess nitrogen gas in the storage is discharged from the discharge pipe 25 to the gas discharge pipe as shown by the arrow B. It was continuously discharged outside the clean room via 27.
〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、保管庫は、被保管物の出し入れを行う際に
扉を開閉することを余儀なくされる。[Problems to be Solved by the Invention] However, in a storage, it is necessary to open and close a door when a storage object is taken in and out.
従って、従来の保管庫においては、この時、保管庫内
の窒素ガスがクリーンルーム内に流れ出すこととなる。Therefore, in the conventional storage, at this time, the nitrogen gas in the storage flows into the clean room.
そして、クリーンルーム内に流れ出した窒素ガスは、
場合によってクリーンルーム内の空気の酸素ガスの濃度
を低下し、クリーンルームで作業している作業者の気分
を悪くする危険性があった。And the nitrogen gas that has flowed into the clean room
In some cases, the concentration of oxygen gas in the air in the clean room is reduced, and there is a risk that a worker working in the clean room may feel bad.
特に、突発的な停電や事故によるクリーンルーム内の
空気を循環している空調設備の機能が止まり、クリーン
ルーム内の空気の循環が突然できなくなると人身上の酸
欠事故をも発生させる危険性もあった。In particular, if the function of the air-conditioning system that circulates air in the clean room is stopped due to a sudden power outage or accident, and if the air in the clean room suddenly becomes unable to circulate, there is a danger of causing a physical oxygen deficiency accident. Was.
本発明は、このような問題を解決するためになされた
もので、その目的は室内の空気を循環させるクリーンル
ーム内などで安全に使用できるとともに、被保管物の表
面に塵埃を付着することなく且つ被保管物の表面の酸化
を防止できる保管庫の提供にある。The present invention has been made to solve such a problem, and its purpose is to be able to use it safely in a clean room or the like that circulates indoor air, without adhering dust to the surface of an object to be stored, and An object of the present invention is to provide a storage that can prevent oxidation of the surface of a storage object.
前記目的は、第１図に示すように被保管物31を内部に
収納して保管する保管庫において、 加熱手段17、循環手段18及び除塵手段19を空間Ｂの主
流路に配設するとともに、この主流路から空気を分流す
る複数の分流路14a2,14b2を備え、分流路14a2,14b2から
の空気を天板15a,15bの吹き出し孔15a1,15b1から下方に
吹き下ろし、底部から還流させる互いに仕切られた複数
の保管空間10b,10cを備えて構成することにより達成さ
れる。The purpose is to arrange the heating means 17, the circulating means 18 and the dust removing means 19 in the main flow path of the space B in a storage where the object to be stored 31 is stored inside as shown in FIG. A plurality of branch channels 14a 2 and 14b 2 for diverting the air from the main channel are provided, and the air from the branch channels 14a 2 and 14b 2 is blown downward from the blowing holes 15a 1 and 15b 1 of the top plates 15a and 15b. This is achieved by including a plurality of storage spaces 10b and 10c which are separated from each other and are refluxed from the bottom.
本発明の保管庫は、保管庫内の気体を高温にして当該
保管庫内の相対湿度を低下できるように構成されるとと
もに、保管庫内の気体中の浮遊塵も補集されるように構
成されている。The storage of the present invention is configured so that the gas in the storage can be heated to a high temperature to reduce the relative humidity in the storage, and the floating dust in the gas in the storage is also collected. Have been.
従って、クリーンルーム内の空気を保管庫内に導入す
ることができるため、本発明の保管庫はクリーンルーム
内で安全に使用することを可能にするとともに、保管し
た被保管物の表面に塵埃を付着することなく且つ被保管
物の表面の酸化を防止できることとなる。Therefore, since the air in the clean room can be introduced into the storage, the storage of the present invention enables safe use in the clean room and adheres dust to the surface of the stored object. This makes it possible to prevent oxidation of the surface of the article to be stored without causing any oxidation.
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら
説明する。Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
第１図は、本発明の一実施例の保管庫を説明するため
の図で、同図（ａ）は保管庫の概略側断面図、同図
（ｂ）は保管庫のＡ−Ａ線断面図である。FIG. 1 is a view for explaining a storage of one embodiment of the present invention. FIG. 1 (a) is a schematic sectional side view of the storage, and FIG. 1 (b) is a cross section taken along line AA of the storage. FIG.
本発明の一実施例の保管庫は、同図（ａ）に示すよう
に庫内に二つの保管空間10b,10cを有し、かつ側面に共
通する一つの開口部10aを有する直方体状の箱10と、 浅い升形をして開口面11a1を箱10の開口部10aに対向
させた側壁11aと、側壁11aに固定されて開口面11a1の上
端部を閉塞する閉塞板11b1と、閉塞11b1に固定されて開
口面11a1の中央部の閉塞と閉塞板11b1との間で吹き出し
孔11cの形成及び側壁11aとの間で流路11dを形成する閉
塞板11b2とで構成した扉11と、 箱10と扉11とを連結して、扉11が箱10の開口部10aを
自在に開閉できるようにする蝶番12と、 箱10の内壁に水平に固定され、被保管物、例えば半導
体ウェーハ31を収納した収納容器32を載置する複数の通
気孔13a1,13b1をそれぞれ設けた棚13a,13bと、 同図（ａ）及び同図（ｂ）に示すように箱10の開口部
10aと対向する内壁と棚13aとの間に、内壁と離隔且つ平
行且つ箱10内の天井とも上端を離隔して配設され、流路
14a1と分流路14a2とを形成する仕切板14aと、 箱10の開口面10aと対向する内壁と棚13bとの間に、直
上の仕切板14aと離隔且つ平行にして配設され、流路14b
1と分流路14b2とを形成する仕切板14bと、 棚13aと対向且つ平行に、また仕切板14aを挟むように
して箱10に配設した複数の吹き出し孔15a1を有する天板
15aと、 棚13bと対向且つ平行に、また仕切板14bを挟むように
して箱10に配設した複数の吹き出し孔15b1を有する天板
15bと、 棚13aと対向且つ平行且つ離隔して、一端を仕切板14a
の下端に結合した底板16aと、 棚13bと対向且つ平行且つ離隔して、一端を仕切板14b
の下端に結合した底板16bと、 箱10内の底と底板16b間で形成される空間Ｂの開口部1
0aよりの端部に配設され、空気を高温にする加熱手段、
例えば電流ヒータ17と、 空間Ｂの中央部に配設され、電流ヒータ17が高温にし
て気体を、空間Ｂの他端に配設した除塵手段19、例えば
通過した空気中の粒径0.1μｍの浮遊塵を99.999％以上
補集するULPAフィルター（Ultra Low Penetration Air
−Filter）19を通過させて、空間Ｂと連通した流路14b1
に送り出す循環手段、例えば回転ファン18とを含んで構
成したものである。The storage of one embodiment of the present invention is a rectangular parallelepiped box having two storage spaces 10b and 10c in the storage and one opening 10a common to the side as shown in FIG. 10, a side wall 11a having a shallow square shape and an opening surface 11a 1 facing the opening 10a of the box 10, a closing plate 11b 1 fixed to the side wall 11a and closing the upper end of the opening surface 11a 1 , is fixed to 11b 1 is constituted by a closing plate 11b 2 which forms a flow channel 11d between the formation and the side wall 11a of the blowing holes 11c between the closure and the closure plate 11b 1 of the central portion of the opening face 11a 1 A door 11, a hinge 10 for connecting the box 10 and the door 11 so that the door 11 can freely open and close the opening 10a of the box 10, and a hinge 12 fixed horizontally to the inner wall of the box 10; For example, shelves 13a and 13b provided with a plurality of ventilation holes 13a 1 and 13b 1 for mounting a storage container 32 storing a semiconductor wafer 31, and a box 10 as shown in FIGS. Opening
A flow path which is disposed between the inner wall facing shelf 10a and the shelf 13a, is spaced apart from and parallel to the inner wall, and also has the upper end separated from the ceiling in the box 10.
And the partition plate 14a to form the 14a 1 and the branch passage 14a 2, between the inner wall and the shelf 13b facing the opening surface 10a of the box 10, is disposed in the spaced apart and parallel to the partition plate 14a immediately above, a flow Road 14b
1 and a partition plate 14b forming a branch channel 14b 2; and a top plate having a plurality of blowout holes 15a 1 disposed in the box 10 so as to face and be parallel to the shelf 13a and to sandwich the partition plate 14a.
Top plate having a 15a, the rack 13b and the opposed and parallel, also a plurality of blowing holes 15b 1 which is arranged in a box 10 so as to sandwich the partition plate 14b
15b, one end of a partition plate 14a facing and parallel to and separated from the shelf 13a.
A bottom plate 16a coupled to the lower end of the base plate, and a partition plate 14b having one end facing, parallel to and separated from the shelf 13b.
A bottom plate 16b connected to the lower end of the box 10 and an opening 1 of a space B formed between the bottom in the box 10 and the bottom plate 16b.
Heating means disposed at the end from 0a to raise the temperature of the air,
For example, a current heater 17 and a dust removing means 19 disposed in the center of the space B and heating the current heater 17 to a high temperature to dispose the gas at the other end of the space B, for example, a particle having a particle diameter of 0.1 μm in the passed air. ULPA filter (Ultra Low Penetration Air) that collects more than 99.999% of airborne dust
-Filter) 19, and the flow path 14b 1 communicating with the space B
Circulating means, for example, a rotating fan 18.
次に、斯かる構成をして、例えばクリーンルーム内に
配設した本発明の一実施例の保管庫の使用方法について
説明する。Next, a description will be given of a method of using the storage having such a configuration and disposed in, for example, a clean room according to an embodiment of the present invention.
まず、半導体ウェーハ31を収納した収納容器32を棚13
a,13bに載置した後に、保管庫の箱10の開口部10aを扉11
により閉める。First, the storage container 32 storing the semiconductor wafer 31 is placed on the shelf 13.
a, 13b, the opening 10a of the storage box 10 is
To close.
この後、電流ヒータ17を作動するとともに、回転ファ
ン18も作動する。Thereafter, the current heater 17 is operated and the rotating fan 18 is also operated.
すると、回転ファン18は、電流ヒータ17により加熱さ
れて高温になった保管庫内の空気をULPAフィルター19を
通過させて、空間Ｂから流路14b1に送り出す。Then, rotating the fan 18 is passed through the ULPA filter 19 the air in is heated depot became hot by the current heater 17 feeds from the space B in the flow path 14b 1.
そして、ULPAフィルター19により浮遊塵を除塵されて
空間Ｂの主流路から送り出された空気は、矢印で示すよ
うに流路14b1から分流路14b2へ分流し、さらに流路14a1
から分流路14a2に分流される。そして、それぞれの分流
路14b2,14a2からの空気は、天板15b,15aの吹き出し孔15
b1,15a1からそれぞれの保管空間10b,10cに吹き下ろさ
れ、保管空間10b,10cのそれぞれの底部の通気孔13b1,13
a1を通り抜けて扉11の内側に形成された流路11dに合流
し、再び加熱手段17（電流ヒータ）へ還流することによ
り、保管庫の保管空間10b,10c内を絶え間無く循環する
こととなる。The air fed floating dust from the main path of the dust removal has been space B by ULPA filter 19, diverted from the flow path 14b 1 as shown by the arrow to the branch passage 14b 2, further passage 14a 1
Divisional channel 14a 2 divided into two parts from. Then, the air from the respective branch channels 14b 2 , 14a 2 is supplied to the air outlets 15 of the top plates 15b, 15a.
b 1 , 15a 1 are blown down to the respective storage spaces 10b, 10c, and the ventilation holes 13b 1 , 13 at the bottom of the respective storage spaces 10b, 10c.
Through a 1 , it joins the flow path 11 d formed inside the door 11, and returns to the heating means 17 (current heater) again, thereby circulating continuously in the storage spaces 10 b and 10 c of the storage. Become.
このように本発明の一実施例の保管庫は、庫内を循環
する空気を加熱して高温にすることにより、空気の相対
湿度を低くし、空気中の浮遊塵のブラウン運動が高めら
れた状態の乾いた空気を循環手段（回転ファン）の直後
に備えた除塵手段（ULPAフィルター）に通すことによ
り、浮遊塵を効率よく除去（捕捉）することができる。Thus, the storage of one embodiment of the present invention, by heating the air circulating in the storage to a high temperature, the relative humidity of the air was lowered, the Brownian motion of the airborne dust in the air was increased By passing the dry air in a state through a dust removing means (ULPA filter) provided immediately after the circulating means (rotary fan), floating dust can be efficiently removed (captured).
斯くして、本発明の保管庫は、クリーンルーム内での
使用を安全にし、また保管した半導体ウェーハの表面に
塵埃を付着することなく、且つその表面の酸化をも防止
できることとなる。Thus, the storage of the present invention can be used safely in a clean room, and can prevent dust from adhering to the surface of the stored semiconductor wafer and prevent oxidation of the surface.
以上の説明から明らかなように本発明によれば、クリ
ーンルーム内の使用を安全にし、また保管した半導体ウ
ェーハの表面に塵埃を付着することなく、且つその表面
の酸化を防止できる保管庫の提供が可能となる。As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to provide a storage that can be used safely in a clean room and that can prevent oxidation of the surface of a stored semiconductor wafer without adhering dust to the surface. It becomes possible.
第１図は、本発明の一実施例の保管庫を説明するための
図、 第２図は、従来の保管庫を説明するための概略側断面図
である。 図において、10bと10cは保管空間、 11は扉、 12は蝶番、 13a及び13bは棚、 14aと14bは仕切板、 14a2と14b2は分流路、 15aと15bは天板、 16aと16bは底板、 17は電流ヒータ（加熱手段）、 18は回転ファン（循環手段）、 19はULPAフィルター（除塵手段）をそれぞれ示す。FIG. 1 is a view for explaining a storage of one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic side sectional view for explaining a conventional storage. In the figure, 10b and 10c are storage spaces, 11 is a door, 12 is a hinge, 13a and 13b are shelves, 14a and 14b are partition plates, 14a 2 and 14b 2 are branch channels, 15a and 15b are top plates, 16a and 16b Denotes a bottom plate, 17 denotes a current heater (heating means), 18 denotes a rotating fan (circulating means), and 19 denotes a ULPA filter (dust removing means).
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実開 平２−30829（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) F24F 5/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-2-30829 (JP, U) (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) F24F 5/00
Claims (2)
る循環手段と該空気中の浮遊塵を除く除塵手段とを庫内
に配置して被保管物を収納保管する保管庫において、 前記加熱手段、循環手段及び除塵手段が配置されて前記
空気を循環させる主流路と、 該主流路から前記空気を分流する複数の分流路と、 該分流路からの空気を上部の吹き出し孔から下方に吹き
下ろして底部から前記主流路に還流させ、かつ被保管物
を保管するための複数の保管空間と、 を備えてなることを特徴とする保管庫。A storage means for arranging a heating means for heating air, a circulating means for circulating the air, and a dust removing means for removing airborne dust in the air in the storage, and for storing and storing an object to be stored; A main flow path in which a heating means, a circulation means, and a dust removing means are arranged to circulate the air; a plurality of flow paths for diverting the air from the main flow path; and the air from the flow path being directed downward from an upper blowing hole. A plurality of storage spaces for flowing down from the bottom to the main flow path and for storing objects to be stored.
互いに近接して直列に配置されることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の保管庫。2. The heating means, the circulating means and the dust removing means,
2. The storage according to claim 1, wherein the storages are arranged in series close to each other.
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