JP2874441B2 - Testing method for low power supply voltage data retention characteristics of semiconductor static RAM - Google Patents

Testing method for low power supply voltage data retention characteristics of semiconductor static RAM

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JP2874441B2
JP2874441B2 JP4090593A JP9059392A JP2874441B2 JP 2874441 B2 JP2874441 B2 JP 2874441B2 JP 4090593 A JP4090593 A JP 4090593A JP 9059392 A JP9059392 A JP 9059392A JP 2874441 B2 JP2874441 B2 JP 2874441B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体スタティックR
AMの低電源電圧データ保持特性の試験方法に関し、特
に短時間で正確なデータ保持特性の試験をすることがで
きる半導体スタティックRAMの低電源電圧データ保持
特性の試験方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor static R
The present invention relates to a method for testing low power supply voltage data retention characteristics of an AM, and more particularly to a method for testing low power supply voltage data retention characteristics of a semiconductor static RAM that can accurately test data retention characteristics in a short time.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体スタティックRAMの低電
源電圧データ保持特性の試験方法としては、例えば、図
2及び図3に示すような方法が用いられている。図2
は、従来の一般的な半導体スタティックRAMのメモリ
セルの一例を示す回路図である。図3は、図2に示すメ
モリセルのデータ保持特性試験中におけるセルノード電
位の遷移を示すグラフであり、図中の一点鎖線は電源電
圧の遷移を示す。
2. Description of the Related Art As a conventional test method of a low power supply voltage data retention characteristic of a semiconductor static RAM, for example, a method as shown in FIGS. 2 and 3 is used. FIG.
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a memory cell of a conventional general semiconductor static RAM. FIG. 3 is a graph showing the transition of the cell node potential during the data retention characteristic test of the memory cell shown in FIG. 2, and the dashed line in the figure shows the transition of the power supply voltage.

【0003】図2に示す半導体スタティックRAMのメ
モリセルであるMOSスタティック型メモリセル1は、
データを記憶するフリップフロップ2、スイッチングト
ランジスタ5,6、ディジット線D,−D(Dのバー信
)及びワード線WLにより構成されている。なお、本
明細書においては、Dの反転信号をDの前に−を付して
表わす。但し、図面においては、反転信号は通常の表記
法に従って符号の上にバーを付して表わす。フリップフ
ロップ2は、MOSトランジスタ3,4及び高抵抗負荷
R1,R2により構成されている。MOSトランジスタ
3のゲートはセルノードNとされる。高抵抗負荷R1,
R2には、電源VCCが印加されている。フリップフロッ
プ2は、スイッチングトランジスタ5,6を介してディ
ジット線D,−Dに接続され、スイッチングトランジス
タ5,6のゲートは、共通にワード線WLに接続されて
いる。スイッチングトランジスタ5,6は、MOSスタ
ティック型メモリセル1を選択したときONになるトン
ランスファーゲートであり、非選択時はOFFになって
いる。
A MOS static memory cell 1 which is a memory cell of a semiconductor static RAM shown in FIG.
A flip-flop 2 for storing data, switching transistors 5 and 6, digit lines D, -D (D signal
It is constituted by No.) and the word line WL. The book
In the specification, an inverted signal of D is indicated by adding-before D.
Express. However, in the drawing, the inverted signal is a normal notation
According to the law, a bar is added to the code. The flip-flop 2 includes MOS transistors 3 and 4 and high resistance loads R1 and R2. The gate of MOS transistor 3 is set to cell node N. High resistance load R1,
A power supply VCC is applied to R2. The flip-flop 2 is connected to digit lines D and -D via switching transistors 5 and 6, and the gates of the switching transistors 5 and 6 are commonly connected to a word line WL. The switching transistors 5 and 6 are transfer gates that are turned on when the MOS static memory cell 1 is selected, and are turned off when not selected.

【0004】上述のように構成された従来のMOSスタ
ティック型メモリセル1において、データ保持電源電圧
VCCDR2.0Vを保証する試験の一例について説明す
る。先ず奨励動作電源電圧5V(±10%)にて、全て
のメモリセルに“0”を書き込む。即ち、ディジット線
Dにローレベル、ディジット線−Dにハイレベルの電圧
を印加し、ワード線WLの電位を上昇させることによ
り、セルノードNに“H”が書き込まれる。
An example of a test for guaranteeing the data holding power supply voltage VCCDR of 2.0 V in the conventional MOS static memory cell 1 configured as described above will be described. First, “0” is written to all the memory cells at the recommended operation power supply voltage of 5 V (± 10%). That is, "H" is written to the cell node N by applying a low level voltage to the digit line D and a high level voltage to the digit line -D to increase the potential of the word line WL.

【0005】その後、測定サンプルは非選択状態とさ
れ、全てのワード線の電位は下降する。このとき、セル
ノードNの電位は、高抵抗負荷R1を介して図3に示す
電位Vまで上昇している。低電源電圧データ保持特性を
確認するため、非選択状態のまま電源電圧を電位Vから
データ保持電源電圧VCCDR以下即ち1.9V程度まで下
降させると図3に示すように、時定数CRに従ってセル
ノードNのレベルは下降し、ホールド時間t=Taにお
いて、データ保持電源電圧VCCDR2.0Vを保証可能な
測定ができるようになる。ここで、Cは、セルノードN
に寄生する容量値、Rは、高抵抗負荷R1,R2の抵抗
値、Taは、図3に示す所定のデータ保持時間である。
セルノードNの電位が2.0V以下まで下降するに十分
なホールド時間(図3に示すTa以上)が経過した後、
電源電圧を再び電位Vまで上昇させ、書き込みデータ
“0”が保持されているか否かを読み出して確認する。
[0005] Thereafter, the measurement sample is set to a non-selected state, and the potentials of all the word lines fall. At this time, the potential of the cell node N has risen to the potential V shown in FIG. 3 via the high resistance load R1. In order to confirm the low power supply voltage data retention characteristic, when the power supply voltage is lowered from the potential V to the data retention power supply voltage VCCDR or lower, that is, about 1.9 V in a non-selected state, as shown in FIG. At the hold time t = Ta, a measurement capable of guaranteeing the data holding power supply voltage VCCDR of 2.0 V can be performed. Here, C is the cell node N
, R is the resistance value of the high resistance loads R1 and R2, and Ta is the predetermined data holding time shown in FIG.
After a lapse of a hold time (Ta or more shown in FIG. 3) sufficient for the potential of the cell node N to fall to 2.0 V or less,
The power supply voltage is raised to the potential V again, and it is read and confirmed whether or not the write data “0” is held.

【0006】以上の試験を書き込みデータ“1”の場合
についても実施することにより、データ保持電源電圧V
CCDR2.0Vを保証することができる。
The above test is also performed for the case of write data “1”, so that the data holding power supply voltage V
CCDR 2.0V can be guaranteed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の半導体スタティックRAMの低電源電圧データ
保持特性の試験方法では、上述したように十分なホール
ド時間をかけて試験をしなければならない。また、高抵
抗負荷の抵抗値Rは温度によって著しく変化する。これ
らのため、特に低温において半導体スタティックRAM
の低電源電圧データ保持特性の試験をする場合には、時
定数が過大になり、ホールド時間が10数秒以上必要と
なるので、大量の製品を試験する場合は現実問題として
膨大な時間が必要になるという問題点がある。
However, in the above-described conventional method for testing the low power supply voltage data retention characteristic of a semiconductor static RAM, the test must be performed with a sufficient hold time as described above. Further, the resistance value R of the high resistance load changes significantly depending on the temperature. For these reasons, semiconductor static RAM, especially at low temperatures
When testing low power supply voltage data retention characteristics, the time constant becomes excessive and the hold time is required more than 10 seconds. Therefore, when testing a large number of products, a huge amount of time is required as a real problem. There is a problem that becomes.

【0008】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、短時間で正確なデータ保持特性の試験をす
ることができる半導体スタティックRAMの低電源電圧
データ保持特性の試験方法を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and provides a method for testing a low power supply voltage data retention characteristic of a semiconductor static RAM capable of performing an accurate data retention characteristic in a short time. The purpose is to:

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体スタ
ティックRAMの低電源電圧データ保持特性の試験方法
は、半導体スタティックRAMに対し、通常の推奨動作
電圧にてデータを書き込み、データ保持状態にした後、
一旦、電源電圧をデータ保持保証電圧よりも低い永久デ
ータ保持可能な第1の保持電源電圧まで電源電圧を降下
させ、所定の保持時間経過後、永久データ保持可能な第
2の保持電源電圧まで電源電圧を上昇させて、データ確
認のための読み出し動作をすることを特徴とする。
According to the method for testing the low power supply voltage data holding characteristic of a semiconductor static RAM according to the present invention, data is written to a semiconductor static RAM at a normal recommended operating voltage to be in a data holding state. rear,
Once, low permanent de than the power supply voltage data retention guarantee voltage
Power supply voltage drops to the first holding power supply voltage that can hold data
After the elapse of a predetermined retention time,
The power supply voltage is raised to the holding power supply voltage
The to Rukoto characterized the read operation for the certification.

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【作用】本発明に係る半導体スタティックRAMの低電
源電圧データ保持特性の試験方法においては、半導体ス
タティックRAMにおいて、通常の推奨動作電圧にてデ
ータを書き込んでデータ保持状態にした後、永久データ
保持可能な第1の保持電源電圧(1V以下)まで電源電
圧を降下させて、急激にセルノード電位を下げる。次
に、所定の保持時間経過後、永久データ保持可能な第2
の保持電源電圧(1.9V程度)まで電源電圧を上昇さ
せて、ゆっくりとセルノード電位を下げる。この後、デ
ータ確認のための読み出し動作をする。これらにより、
本発明に係る半導体スタティックRAMの低電源電圧デ
ータ保持特性の試験方法は、必要以上にセルノード電位
を下げる危険性をなくすことができ、短時間で正確に半
導体スタティックRAMのデータ保持電圧の測定をする
ことができる。
In the method for testing the low power supply voltage data retention characteristics of a semiconductor static RAM according to the present invention, permanent data can be retained in a semiconductor static RAM after writing data at a normal recommended operating voltage to bring the data into a data retention state. The power supply voltage is reduced to a first holding power supply voltage (1 V or less) to rapidly lower the cell node potential. Next, after a predetermined retention time has elapsed, the second
The power supply voltage is raised to the holding power supply voltage (about 1.9 V), and the cell node potential is slowly lowered. Thereafter, a read operation for data confirmation is performed. By these,
The test method of the low power supply voltage data retention characteristic of the semiconductor static RAM according to the present invention can eliminate the risk of lowering the cell node potential more than necessary, and can accurately measure the data retention voltage of the semiconductor static RAM in a short time. be able to.

【0012】[0012]

【実施例】次に、本発明の実施例について添付の図面を
参照して説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0013】図1は、本発明の実施例に係る半導体スタ
ティックRAMの低電源電圧データ保持特性の試験方法
を説明するための、メモリセルのデータ保持特性試験中
におけるセルノード電位の遷移を示すグラフである。図
1における一点鎖線は電源電圧の遷移を示す。本実施例
において、図3に示す従来の半導体スタティックRAM
の低電源電圧データ保持特性の試験方法と異なる点は、
データ保持特性試験中に電源電圧Vccを変化させる点で
ある。
FIG. 1 is a graph showing a transition of a cell node potential during a data retention characteristic test of a memory cell for explaining a test method of a low power supply voltage data retention characteristic of a semiconductor static RAM according to an embodiment of the present invention. is there. The dashed line in FIG. 1 indicates the transition of the power supply voltage. In this embodiment, the conventional semiconductor static RAM shown in FIG.
What is different from the test method of low power supply voltage data retention characteristics of
The point is that the power supply voltage Vcc is changed during the data retention characteristic test.

【0014】次に、本実施例に係る半導体スタティック
RAMの低電源電圧データ保持特性の試験方法の手順に
ついて詳細に説明する。なお、図2に示す従来の半導体
スタティックRAMのメモリセルについて、本発明の実
施例に係る半導体スタティックRAMの低電源電圧デー
タ保持特性の試験方法を適用した例を以下に説明する。
Next, a procedure of a test method of a low power supply voltage data retention characteristic of the semiconductor static RAM according to the present embodiment will be described in detail. An example in which the method for testing the low power supply voltage data retention characteristic of the semiconductor static RAM according to the embodiment of the present invention is applied to the memory cell of the conventional semiconductor static RAM shown in FIG. 2 will be described below.

【0015】データ書き込み後、先ず電源電圧をデータ
保持電源電圧VCCDR(2.0V)よりも低い通常永久デ
ータ保持可能な図1に示す第1の保持電源電圧Vb
(1.0V以下)まで下げると、図2に示すセルノード
Nの電位は、セルノードNに寄生する容量値C及び高抵
抗負荷R1,R2の抵抗値Rによって決定される時定数
に応じて、図1に示す実線又は破線のように下降する。
時定数が大きい場合は、瞬時にセルノードNの電位は第
1の保持電源電圧Vbまでは降下しないため、一定時間
メモリセルのデータは保持されている。半導体スタティ
ックRAMを構成する全てのメモリセルにおける時定数
CRの製造バラツキは、(CR)MAX/(CR)MIN≦2
と考えられる。図1における実線波形は、セルノードN
の時定数が(CR)MINの場合を表わし、t=TMINにお
いてセルノードNの電位はデータ保持電源電圧VCCDR
(2.0V)に達する。t=TMIN以降は、セルノードN
の電位が必要以上に降下しないように、電源電圧を第1
の保持電源電圧Vbから第2の保持電源電圧1.9V程
度まで上昇させる。
After data writing, first, the first holding power supply voltage Vb shown in FIG. 1 capable of holding normal permanent data whose power supply voltage is lower than the data holding power supply voltage VCCDR (2.0 V).
(1.0 V or less), the potential of the cell node N shown in FIG. 2 changes according to the time constant determined by the parasitic capacitance C of the cell node N and the resistance R of the high resistance loads R1 and R2. It descends as indicated by a solid line or a broken line shown in FIG.
When the time constant is large, the potential of the cell node N does not immediately drop to the first holding power supply voltage Vb, and the data of the memory cell is held for a certain period of time. The manufacturing variation of the time constant CR in all the memory cells constituting the semiconductor static RAM is (CR) MAX / (CR) MIN ≦ 2
it is conceivable that. The solid line waveform in FIG.
At (CR) MIN, the potential of the cell node N at t = TMIN is equal to the data holding power supply voltage VCCDR.
(2.0 V). After t = TMIN, the cell node N
Power supply voltage to prevent the potential of
From the holding power supply voltage Vb to about 1.9 V of the second holding power supply voltage.

【0016】図1に示す破線波形は、セルノードNの時
定数が(CR)MAXの場合を表わしており、t=TMINま
では急激にセルノードNの電位は下降する。これ以後
は、電源電圧が第1の保持電源電圧Vbから第2の保持
電源電圧1.9V程度まで上昇するため、セルノードN
の電位は、ゆっくりと下降し、t=TMAXにおいてデー
タ保持電源電圧VCCDR(2.0V)になる。
The dashed waveform shown in FIG. 1 represents a case where the time constant of the cell node N is (CR) MAX, and the potential of the cell node N rapidly drops until t = TMIN. Thereafter, the power supply voltage rises from the first holding power supply voltage Vb to about the second holding power supply voltage 1.9 V, so that the cell node N
At the time t = TMAX, becomes the data holding power supply voltage VCCDR (2.0 V).

【0017】以上説明したような方法により、ホールド
時間TMAXにおいて全てのメモリセルにおけるハイレベ
ル側セルノードNの電位をデータ保持電源電圧VCCDR
(2.0V)以下に設定することができ、時定数CRの
バラツキ等により必要以上にセルノードNの電位が下が
る危険もない。ホールド後は、従来例と同様に電源電圧
を推奨動作電圧まで上昇させて読み出し確認をする。
According to the method described above, the potentials of the high-level cell nodes N in all the memory cells are changed to the data holding power supply voltage VCCDR during the hold time TMAX.
(2.0 V) or less, and there is no danger that the potential of the cell node N drops unnecessarily due to variations in the time constant CR and the like. After the hold, the power supply voltage is raised to the recommended operating voltage as in the conventional example, and reading is confirmed.

【0018】以上説明した本実施例に係る半導体スタテ
ィックRAMの低電源電圧データ保持特性の試験方法に
よれば、低温の場合において従来例と比較して、従来の
半導体スタティックRAMの低電源電圧データ保持特性
の試験方法では10数秒かかる試験が、数秒に短縮する
ことができる。
According to the test method of the low power supply voltage data retention characteristic of the semiconductor static RAM according to the present embodiment described above, the low power supply voltage data retention of the conventional semiconductor static RAM is lower than that of the conventional example at a low temperature. With the characteristic test method, a test that takes 10 seconds or more can be reduced to several seconds.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る半導体
スタティックRAMの低電源電圧データ保持特性の試験
方法によれば、データ保持特性試験中において、一旦、
電源電圧をデータ保持保証電圧よりも低い永久データ保
持可能な電位まで下げることにより、短時間で正確に半
導体スタティックRAMのデータ保持電圧の測定をする
ことができる。
As described above, according to the test method of the low power supply voltage data retention characteristic of the semiconductor static RAM according to the present invention, the data retention characteristic is temporarily measured during the data retention characteristic test.
By lowering the power supply voltage to a potential lower than the data retention guarantee voltage and capable of retaining permanent data, the data retention voltage of the semiconductor static RAM can be accurately measured in a short time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例に係る半導体スタティックRA
Mの低電源電圧データ保持特性の試験方法を説明するた
めの、メモリセルのデータ保持特性試験中におけるセル
ノード電位の遷移を示すグラフである。
FIG. 1 shows a semiconductor static RA according to an embodiment of the present invention.
6 is a graph illustrating transition of a cell node potential during a data retention characteristic test of a memory cell, for describing a test method of a low power supply voltage data retention characteristic of M.

【図2】従来の半導体スタティックRAMのメモリセル
の一例を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a memory cell of a conventional semiconductor static RAM.

【図3】図2に示すメモリセルのデータ保持特性試験中
におけるセルノード電位の遷移を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing transition of cell node potential during a data retention characteristic test of the memory cell shown in FIG. 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ;MOSスタティック型メモリセル 2 ;フリップフロップ 3,4 ;トランジスタ 5,6 ;スイッチングトランジスタ D,−D ;ディジット線 WL ;ワード線DESCRIPTION OF SYMBOLS 1; MOS static memory cell 2; Flip-flop 3, 4; Transistor 5, 6; Switching transistor D, -D ; Digit line WL;

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体スタティックRAMに対し、通常
の推奨動作電圧にてデータを書き込み、データ保持状態
にした後、一旦、電源電圧をデータ保持保証電圧よりも
低い永久データ保持可能な第1の保持電源電圧まで電源
電圧を降下させ、所定の保持時間経過後、永久データ保
持可能な第2の保持電源電圧まで電源電圧を上昇させ
て、データ確認のための読み出し動作をすることを特徴
とする半導体スタティックRAMの低電源電圧データ保
持特性の試験方法。
In a semiconductor static RAM, data is written at a normal recommended operating voltage, a data holding state is set, and then a power supply voltage is temporarily held lower than a data holding assurance voltage, and first data holding is possible. Power supply up to power supply voltage
Reduce the voltage, and after the specified retention time has elapsed, save the permanent data.
Raising the power supply voltage to a second holding power supply voltage
Te method of testing low power supply voltage data retention characteristic of the semiconductor static RAM and said to Rukoto a read operation for data confirmation.
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