JP2873654B2 - Silver halide photographic light-sensitive material, processing method and processing agent therefor - Google Patents

Silver halide photographic light-sensitive material, processing method and processing agent therefor

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JP2873654B2 JP5169310A JP16931093A JP2873654B2 JP 2873654 B2 JP2873654 B2 JP 2873654B2 JP 5169310 A JP5169310 A JP 5169310A JP 16931093 A JP16931093 A JP 16931093A JP 2873654 B2 JP2873654 B2 JP 2873654B2
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、写真製版用として適し
た超硬調な画像再現をなし得るハロゲン化銀写真感光材
料並びにその処理方法及び処理剤に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material suitable for photolithography and capable of reproducing a super-high contrast image, a processing method and a processing agent therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】写真製版工程には、連続階調の原稿を網
点画像に変換する工程が含まれる。この工程には、超硬
調の画像再現をなし得る写真技術として伝染現像による
技術が用いられてきた。
2. Description of the Related Art The photoengraving process includes a process of converting a continuous tone original into a halftone image. In this process, a technique based on infectious development has been used as a photographic technique capable of reproducing an image having a super-high contrast.

【0003】伝染現像に用いられるリス型ハロゲン化銀
写真感光材料は、例えば平均粒子径が約0.2μmで粒径分
布が狭く、粒子の形も整っていて、かつ塩化銀の含有率
の高い(少なくとも50モル%)塩化銀乳剤を用いてい
る。このようなリス型ハロゲン化銀写真感光材料を亜硫
酸イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン現像液、
いわゆるリス型現像液で処理することにより、高いコン
トラスト、高鮮鋭性、高解像力の画像が得られるもので
ある。しかしながら、このようなリス型現像液は空気酸
化を受けやすいことから保恒性が極めて悪いため、連続
使用の際において現像品質を一定に保つことが難しい。
The lithographic silver halide photographic light-sensitive material used for infectious development has, for example, an average particle diameter of about 0.2 μm, a narrow particle size distribution, a well-defined particle shape, and a high silver chloride content ( (At least 50 mol%) silver chloride emulsion is used. Such a lith-type silver halide photographic light-sensitive material is an alkaline hydroquinone developer having a low sulfite ion concentration,
By processing with a so-called lith type developer, an image with high contrast, high sharpness, and high resolution can be obtained. However, such a squirrel-type developer is very susceptible to air oxidation, and thus has extremely poor preservation. Therefore, it is difficult to keep development quality constant during continuous use.

【0004】一方、保恒性の悪いリス型現像液を使わず
に迅速にかつ高コントラストの画像を得る方法が知られ
ている。例えば、特開昭56-106244号公報等にみられる
ように、ハロゲン化銀写真感光材料中にヒドラジン誘導
体を含有させるものである。この技術によれば、保恒性
が良く迅速処理が可能な現像液で処理することによって
も硬調な画像を得ることができる。
[0004] On the other hand, there is known a method for quickly obtaining a high-contrast image without using a squirrel-type developer having poor preservation. For example, as disclosed in JP-A-56-106244, a hydrazine derivative is contained in a silver halide photographic light-sensitive material. According to this technique, a high-contrast image can be obtained by processing with a developer having good preservation properties and capable of rapid processing.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ヒドラ
ジン誘導体を含有するハロゲン化銀写真感光材料は、経
時により軟調化し、また未露光部分に黒ポツが発生する
欠点がある。
However, silver halide photographic light-sensitive materials containing a hydrazine derivative have the disadvantage that they soften over time and black spots occur in unexposed areas.

【0006】本発明の目的は、ヒドラジン誘導体を含有
するハロゲン化銀写真感光材料の経時により軟調化し、
未露光部分に黒ポツが発生する欠点が改良される技術的
手段を提供することである。
An object of the present invention is to provide a silver halide photographic material containing a hydrazine derivative which softens over time,
It is an object of the present invention to provide a technical means for improving the disadvantage that black spots occur in unexposed areas.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記本発明の目的を達成
する本発明の構成は、下記ないしである。
The constitution of the present invention which achieves the object of the present invention is as follows.

【0008】支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法
において、ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に
ヒドラジン誘導体を硬調化剤として含有し、分岐シクロ
デキストリン、シクロデキストリンポリマー又は下記一
般式〔I〕で表される化合物の存在下で処理することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
In a method for processing a silver halide photographic material having at least one silver halide emulsion layer on a support, a hydrazine derivative is contained in the silver halide emulsion layer and / or a layer adjacent thereto as a high contrast agent. A method for processing a silver halide photographic material, wherein the processing is performed in the presence of a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer or a compound represented by the following general formula [I].

【0009】一般式〔I〕 CD−(O−R)l 〔式中、CDはシクロデキストリン残基を表し、Rはア
ルキル基、−R1COOH、−R1SO3H、−R1NH2又は−N
(R12を表し、R1は炭素数1〜5の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基を表し、lは1〜5の整数を表す。〕支
持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有する
ハロゲン化銀写真感光材料において、ハロゲン化銀乳剤
層及び/又はその隣接層にヒドラジン誘導体を硬調化剤
として含有し、かつ分岐シクロデキストリン、シクロデ
キストリンポリマー又は前記一般式〔I〕で表される化
合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料。
Formula (I) CD- (OR) 1 wherein CD represents a cyclodextrin residue, R represents an alkyl group, —R 1 COOH, —R 1 SO 3 H, and —R 1 NH 2 or -N
(R 1 ) 2 , wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and 1 represents an integer of 1 to 5. A silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support, wherein the silver halide emulsion layer and / or an adjacent layer contains a hydrazine derivative as a high contrast agent, and a branched cyclodextrin And a cyclodextrin polymer or a compound represented by the above general formula [I].

【0010】支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に、ヒドラジ
ン誘導体を硬調化剤として、かつ分岐シクロデキストリ
ン、シクロデキストリンポリマー、前記一般式〔I〕で
表される化合物、サイクロフラクタン又はカレックスア
レーンで包接した包接化合物として含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
In a silver halide photographic material having at least one silver halide emulsion layer on a support,
Include the silver halide emulsion layer and / or its adjacent layer with a hydrazine derivative as a toning agent and with a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer, a compound represented by the above formula [I], cyclofructan or curlexarene. A silver halide photographic light-sensitive material characterized by containing as a clathrate compound.

【0011】支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン
化銀乳剤層及び/又はその隣接層に硬調化剤としてヒド
ラジン誘導体を含有するハロゲン化銀写真感光材料を処
理する処理剤において、該処理剤が分岐シクロデキスト
リン、シクロデキストリンポリマー又は前記一般式
〔I〕で表される化合物を含有することを特徴とするハ
ロゲン化銀写真感光材料の処理剤。
A silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support, the silver halide emulsion layer of which contains a hydrazine derivative as a high contrast agent in a silver halide emulsion layer and / or a layer adjacent thereto. A processing agent for processing a light-sensitive material, wherein the processing agent contains a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer or a compound represented by the above formula (I).

【0012】ヒドラジン誘導体又はヒドラジン誘導体
と分岐シクロデキストリン、シクロデキストリンポリマ
ー又は前記一般式〔I〕で表される化合物との包接化合
物を、ハロゲン化銀乳剤層を形成するハロゲン化銀乳剤
の化学熟成の終了後にハロゲン化銀乳剤に含有させるこ
とを特徴とする前記に記載の処理方法。
Chemical ripening of a hydrazine derivative or a clathrate of a hydrazine derivative with a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer or a compound represented by the above general formula [I] to form a silver halide emulsion forming a silver halide emulsion layer The above-mentioned processing method wherein the silver halide emulsion is incorporated after completion of the above.

【0013】ヒドラジン誘導体又はヒドラジン誘導体
と分岐シクロデキストリン、シクロデキストリンポリマ
ー又は前記一般式〔I〕で表される化合物との包接化合
物を、ハロゲン化銀乳剤層を形成するハロゲン化銀乳剤
の化学熟成の終了後にハロゲン化銀乳剤に含有させるこ
とを特徴とする前記に記載のハロゲン化銀写真感光材
料。
A hydrazine derivative or an inclusion compound of a hydrazine derivative and a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer or a compound represented by the above general formula (I) is chemically ripened to a silver halide emulsion forming a silver halide emulsion layer. The silver halide photographic light-sensitive material as described above, which is incorporated in a silver halide emulsion after completion of the above.

【0014】ヒドラジン誘導体と分岐シクロデキスト
リン、シクロデキストリンポリマー、前記一般式〔I〕
で表される化合物、サイクロフラクタン又はカレックス
アレーンとの包接化合物を、ハロゲン化銀乳剤層を形成
するハロゲン化銀乳剤の化学熟成の終了後に該ハロゲン
化銀乳剤に含有させることを特徴とする前記に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。
A hydrazine derivative, a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer, and a compound represented by the above general formula [I]
Wherein the compound represented by the formula, a cyclofructan or an inclusion compound with curlexarene, is contained in the silver halide emulsion after completion of chemical ripening of the silver halide emulsion forming the silver halide emulsion layer. 3. The silver halide photographic light-sensitive material described in 1. above.

【0015】本発明は、ヒドラジン誘導体が、シクロデ
キストリン誘導体と水溶性包接化合物を形成できるとの
知見に基づき、さらに、包接化合物中に包接されたヒド
ラジン誘導体が安定性に優れ、軟調化を防ぎ、黒ポツの
発生にも効果的であるとの知見に基づくものである。
The present invention is based on the finding that a hydrazine derivative can form a water-soluble inclusion compound with a cyclodextrin derivative, and furthermore, the hydrazine derivative included in the inclusion compound has excellent stability and softening It is based on the finding that it is effective in preventing black spots and in generating black spots.

【0016】以下、本発明について詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0017】まず、本発明のハロゲン化銀写真感光材料
のハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に含有させ
るヒドラジン誘導体について説明する。
First, the hydrazine derivative contained in the silver halide emulsion layer and / or its adjacent layer of the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention will be described.

【0018】本発明に用いるヒドラジン誘導体は下記一
般式〔H〕で表される化合物が好ましい。
The hydrazine derivative used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula [H].

【0019】[0019]

【化1】 Embedded image

【0020】式中、R1は脂肪族基、芳香族基又はイオ
ウ原子若しくは酸素原子を少なくとも1つ含む複素環基
を表し、R2は水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ
基、カルバモイル基、オキシカルボニル基又は−O−R基
を表し、Rはアルキル基又は飽和複素環基を表し、G1
はカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、
In the formula, R 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group containing at least one sulfur atom or oxygen atom, and R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group. It represents group, an amino group, a hydrazino group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group or -O-R group, R represents an alkyl group or a saturated heterocyclic group, G 1
Is a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfoxy group,

【0021】[0021]

【化2】 Embedded image

【0022】チオカルボニル基又はイミノメチレン基を
表し、A1及びA2はともに水素原子あるいは一方が水素
原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル
基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、
又は置換もしくは無置換のアシル基を表す。
A represents a thiocarbonyl group or an iminomethylene group; A 1 and A 2 are each a hydrogen atom or one of a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group;
Or a substituted or unsubstituted acyl group.

【0023】一般式〔H〕において、R1で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであって、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基であ
る。ここで分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以
上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するよう
に環化されていてもよい。またこのアルキル基は、アリ
ール基、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド
基、カルボンアミド基等の置換基を有してもよい。
In the general formula [H], the aliphatic group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, particularly a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. is there. Here, the branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. The alkyl group may have a substituent such as an aryl group, an alkoxy group, a sulfoxy group, a sulfonamide group, and a carbonamide group.

【0024】一般式〔H〕においてR1で表される芳香
族基は単環または2環のアリール基または不飽和ヘテロ
環基である。ここで不飽和ヘテロ環基は単環または2環
のアリール基を縮合してヘテロアリール基を形成しても
よい。
In the general formula [H], the aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may form a heteroaryl group by condensing a monocyclic or bicyclic aryl group.

【0025】例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジ
ン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、
キノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、
チアゾール環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでも
ベンゼン環を含むものが好ましい。
For example, a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring,
Quinoline ring, isoquinoline ring, benzimidazole ring,
Among them, there are a thiazole ring and a benzothiazole ring, and among them, those containing a benzene ring are preferable.

【0026】R1として特に好ましいものはアリール基
である。
Particularly preferred as R 1 is an aryl group.

【0027】R1のアリール基または不飽和ヘテロ環基
は置換されていてもよく、代表的な置換基としては例え
ばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、アシ
ルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタ
ン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シ
アノ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホン
アミド基やカルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシル
アミノ基、イミド基、R2−NHCONR2−CO−基などが挙げ
られ、好ましい置換基としては直鎖、分岐または環状の
アルキル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラル
キル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜3の単
環または2環のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素
数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1
〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミ
ノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、スルホン
アミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、ウレ
イド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、リン酸
アミド基(好ましくは炭素数1〜30のもの)などであ
る。
The aryl group or unsaturated heterocyclic group represented by R 1 may be substituted. Representative examples of the substituent include an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group and a substituted amino group. Group, acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, alkyl Oxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group, carbonamide group, sulfonamide group or carboxyl group, phosphoric acid amide group, diacylamino group, imide group, R 2 -NHCONR 2 -CO- And preferred substitution. A linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), an aralkyl group (preferably a monocyclic or bicyclic alkyl moiety having 1 to 3 carbon atoms), an alkoxy group ( Preferably having 1 to 20 carbon atoms, a substituted amino group (preferably having 1 carbon atom)
An amino group substituted with an alkyl group having from 20 to 20), an acylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms), a sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), a ureido group (preferably having And a phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms).

【0028】一般式〔H〕においてR2で表されるアル
キル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基
であって、例えばハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ
基、スルホ基、アルコキシ基、フェニル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、カルバモイル基、アルキルスルホ基、アリールスル
ホ基、スルファモイル基、ニトロ基、複素芳香環基、
The alkyl group represented by R 2 in the general formula [H] is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, a sulfo group, an alkoxy group, Phenyl group, acyl group,
Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfo group, arylsulfo group, sulfamoyl group, nitro group, heteroaromatic ring group,

【0029】[0029]

【化3】 Embedded image

【0030】基などの置換基を有していてもよく、更に
これらの基が置換されていてもよい。
It may have a substituent such as a group, and these groups may be further substituted.

【0031】アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものであ
る。このアリール基は置換されていてもよく、置換基の
例としてはアルキル基の場合と同様である。
The aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group, for example, one containing a benzene ring. The aryl group may be substituted, and examples of the substituent are the same as those in the case of the alkyl group.

【0032】アルコキシ基としては炭素数1〜8のアル
コキシ基のものが好ましく、ハロゲン原子、アリール基
などで置換されていてもよい。
The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and may be substituted with a halogen atom, an aryl group or the like.

【0033】アリールオキシ基としては単環のものが好
ましく、また置換基としてはハロゲン原子などがある。
The aryloxy group is preferably a single ring, and the substituent includes a halogen atom.

【0034】アミノ基としては無置換アミノ基、及び炭
素数1〜10のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好
ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
The amino group is preferably an unsubstituted amino group, an alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms, or an arylamino group, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, or the like. Good.

【0035】カルバモイル基としては、無置換カルバモ
イル基及び炭素数1〜10のアルキルカルバモイル基、ア
リールカルバモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、カルボキシ基などで置換されていて
もよい。
The carbamoyl group is preferably an unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbamoyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an arylcarbamoyl group, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, or the like.

【0036】オキシカルボニル基としては、炭素数1〜
10のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基などで置換されていてもよい。
As the oxycarbonyl group, one having 1 to carbon atoms
Preferred are 10 alkoxycarbonyl groups and aryloxycarbonyl groups, which may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, or the like.

【0037】R2で表される基のうち好ましいものは、
1がカルボニル基の場合には、水素原子、アルキル基
(例えば、メチル基、トリフルオロメチル基、3-ヒドロ
キシプロピル基、3-メタンスルホンアミドプロピル基、
フェニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例
えば、o-ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基、3,5-ジクロロフェニル基、o-メタン
スルホンアミドフェニル基、4-メタンスルホニルフェニ
ル基など)などであり、特に水素原子が好ましい。
Among the groups represented by R 2 , preferred are
When G 1 is a carbonyl group, a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, a trifluoromethyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 3-methanesulfonamidopropyl group,
Phenylsulfonylmethyl group, aralkyl group (eg, o-hydroxybenzyl group), aryl group (eg, phenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, o-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, etc.) ), And a hydrogen atom is particularly preferable.

【0038】またG1がスルホニル基の場合には、R2
アルキル基(例えば、メチル基など)、アラルキル基
(例えば、o-ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリ
ール基(例えば、フェニル基など)または置換アミノ基
(例えば、ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
When G 1 is a sulfonyl group, R 2 is an alkyl group (eg, a methyl group), an aralkyl group (eg, an o-hydroxyphenylmethyl group), an aryl group (eg, a phenyl group). Alternatively, a substituted amino group (eg, a dimethylamino group) is preferable.

【0039】G1がスルホキシ基の場合、好ましいR2
シアノベンジル基、メチルチオベンジル基などがあり、
When G 1 is a sulfoxy group, preferred R 2 includes a cyanobenzyl group and a methylthiobenzyl group,

【0040】[0040]

【化4】 Embedded image

【0041】基の場合には、R2としてはメトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が
好ましく、特にフェノキシ基が好適である。
In the case of a group, R 2 is a methoxy group,
An ethoxy group, a butoxy group, a phenoxy group and a phenyl group are preferred, and a phenoxy group is particularly preferred.

【0042】G1がN−置換または無置換イミノメチレ
ン基の場合、好ましいR2はメチル基、エチル基又は置
換若しくは無置換のフェニル基である。
When G 1 is an N-substituted or unsubstituted iminomethylene group, preferred R 2 is a methyl group, an ethyl group or a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0043】R2の置換基としてはR1に関して列挙した
置換基が適用できる。
As the substituent for R 2, the substituents listed for R 1 can be applied.

【0044】一般式〔H〕のGとしてはカルボニル基が
最も好ましい。
G in the general formula [H] is most preferably a carbonyl group.

【0045】又、R2はG1−R2の部分を残余分子から分
裂させ、−G1−R2部分の原子を含む環式構造を生成させ
る環化反応を生起するようなものであってもよく、具体
的には一般式(a)で表わすことができるようなもので
ある。
R 2 is such that it causes a cyclization reaction that cleaves the G 1 -R 2 moiety from the residual molecule to form a cyclic structure containing atoms of the -G 1 -R 2 moiety. And more specifically, those which can be represented by the general formula (a).

【0046】一般式(a) −R3−Z1 式中、Z1はG1に対し求核的に攻撃し、G1−R3−Z1部分
を残余分子から分裂させ得る基であり、R3はR2から水
素原子1個除いたもので、Z1がG1に対し求核攻撃し、
1、R3、Z1で環式構造が生成可能なものである。
The general formula (a) -R 3 -Z in 1 set, Z 1 is nucleophilically attacked to G 1, a group capable of splitting the G 1 -R 3 -Z 1 moiety from the remainder molecule , R 3 are those obtained by removing one hydrogen atom from R 2 , and Z 1 attacks nucleophilicly on G 1 ,
G 1 , R 3 and Z 1 can form a cyclic structure.

【0047】さらに詳細には、Z1は、一般式〔H〕の
ヒドラジン化合物が酸化等により次の反応中間体を生成
したときに容易にG1と求核反応し、 R1−N=N−G1−R3−Z1 R1−N=N−基をG1から分裂させうる基であり、具体的
には−OH、−SHまたは−NHR4(R4は水素原子、アルキル
基、アリール基、−COR5、または−SO2R5であり、R5
水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基などを
表す)、COOHなどのようにG1と直接反応する官能基で
あってもよく(ここで、−OH、−SH、−NHR4、−COOHは
アルカリ等の加水分解によりこれらの基を生成するよう
に一時的に保護されていてもよい)、あるいは
More specifically, Z 1 easily undergoes a nucleophilic reaction with G 1 when the hydrazine compound of the general formula [H] generates the next reaction intermediate by oxidation or the like, and R 1 -N = N -G 1 -R 3 -Z 1 R 1 -N = N- is a group capable of splitting an N- group from G 1 , specifically, -OH, -SH or -NHR 4 (R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group , An aryl group, —COR 5 , or —SO 2 R 5 , wherein R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, etc.), a functional group that directly reacts with G 1 such as COOH, etc. (wherein, -OH, -SH, -NHR 4, -COOH may be temporarily protected so as to generate these groups by hydrolysis of an alkali, etc.) a well also, or

【0048】[0048]

【化5】 Embedded image

【0049】(R6、R7は水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基またはヘテロ基またはヘテロ環基
を表す)のように水酸イオンや亜硫酸イオン等のような
求核剤を反応することでG1と反応することが可能にな
る官能基であってもよい。
(R 6 and R 7 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a hetero group or a heterocyclic group) and react with a nucleophilic agent such as a hydroxyl ion or a sulfite ion. or it may be a functional group which becomes capable of reacting with the G 1 by.

【0050】また、G1、R3、Z1で形成される環とし
ては5員または6員のものが好ましい。
The ring formed by G 1 , R 3 and Z 1 is preferably a 5- or 6-membered ring.

【0051】一般式(a)で表されるもののうち、好ま
しいものとしては一般式(b)及び(c)で表されるも
のを挙げることができる。
Among the compounds represented by the general formula (a), preferred are the compounds represented by the general formulas (b) and (c).

【0052】[0052]

【化6】 Embedded image

【0053】式中、R1 b〜R4 bは水素原子、アルキル基
(好ましくは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好
ましくは炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましく
は炭素数6〜12のもの)などを表し、同じでも異なって
もよい。Bは置換基を有してもよい5員環または6員環
を完成するのに必要な原子であり、m、nは0または1
であり、(n+m)は1または2である。
[0053] In the formula, R 1 b ~R 4 b represents a hydrogen atom, an alkyl group (preferably those having 1 to 12 carbon atoms), an alkenyl group (preferably having 2 to 12 carbon atoms), an aryl group (preferably And the like, and may be the same or different. B is an atom necessary to complete a 5- or 6-membered ring which may have a substituent, and m and n are 0 or 1
And (n + m) is 1 or 2.

【0054】Bで形成される5員または6員環として
は、例えば、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベ
ンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリン環、な
どである。
The 5- or 6-membered ring formed by B is, for example, a cyclohexene ring, cycloheptene ring, benzene ring, naphthalene ring, pyridine ring, quinoline ring and the like.

【0055】Z1は一般式(a)のZ1と同義である。[0055] Z 1 has the same meaning as Z 1 in the general formula (a).

【0056】[0056]

【化7】 Embedded image

【0057】式中、RC 1、RC 2は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基又はハロゲン原子などを
表し、同じでも異なってもよい。RC 3は水素原子、アル
キル基、アルケニル基又はアリール基を表す。pは0ま
たは1を表し、qは1〜4の整数を表す。RC 1、RC 2
びRC 3はZ1がRC 1ヘ分子内求核攻撃し得る構造の限り
において互いに結合して環を形成してもよい。
In the formula, R C 1 and R C 2 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a halogen atom, and may be the same or different. R C 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group. p represents 0 or 1, and q represents an integer of 1 to 4. R C 1 , R C 2 and R C 3 may be bonded to each other to form a ring as long as Z 1 is capable of intramolecular nucleophilic attack on R C 1 .

【0058】RC 1、RC 2は好ましくは水素原子、ハロゲ
ン原子またはアルキル基であり、RC 3は好ましくはアル
キル基またはアリール基である。qは好ましくは1〜3
の整数を表し、qが1のときpは0または1を、qが2
のときpは0または1を、qが3のときpは0または1
を表し、qが2または3のときRC 1、RC 2は同一でも異
なってもよい。Z1は一般式(a)のZ1と同義である。
R C 1 and R C 2 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R C 3 is preferably an alkyl group or an aryl group. q is preferably 1 to 3
And when q is 1, p is 0 or 1, and q is 2
When p is 0 or 1, when q is 3, p is 0 or 1.
And when q is 2 or 3, R C 1 and R C 2 may be the same or different. Z 1 has the same meaning as Z 1 in the general formula (a).

【0059】A1、A2は水素原子、炭素数20以下のアル
キルスルホニル基およびアリールスルホニル基(好まし
くはフェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の
和が−0.5以上となるように置換されたフェニルスルホ
ニル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾ
イル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換
基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホン
アミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、
スルホン酸基が挙げられる。))が好ましく、A1、A2
としては水素原子が最も好ましい。
A 1 and A 2 are a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms and an arylsulfonyl group (preferably phenylsulfonyl group or phenyl substituted so that the sum of the substituent constants of Hammett is -0.5 or more). A sulfonyl group), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants becomes -0.5 or more, or a linear, branched or cyclic unsubstituted group And a substituted aliphatic acyl group (for example, a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group,
And sulfonic acid groups. )) Is preferable, and A 1 , A 2
Is most preferably a hydrogen atom.

【0060】一般式〔H〕のR1またはR2はその中にカ
プラー等の不動性写真用添加剤において常用されている
バラスト基またはポリマーが組み込まれているものでも
よい。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対
して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アル
コキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキ
シ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことがで
きる。またポリマーとしては例えば特開平1-100530号に
記載のものが挙げられる。
R 1 or R 2 in the general formula [H] may have a ballast group or polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more, which is relatively inert to photographic properties. For example, the ballast group is selected from an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, an alkylphenoxy group, and the like. Can be. Examples of the polymer include those described in JP-A No. 1-100530.

【0061】一般式〔H〕のR1またはR2はその中にハ
ロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込ま
れているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿
素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリ
アゾール基などの米国特許第4,385,108号、同4,459,347
号、特開昭59-195233号、同59-200231号、同59-201045
号、同59-201046号、同59-201047号、同59-201048号、
同59-201049号、特開昭61-170733号、同61-270744号、
同62-948号、特願昭62-67508号、同62-67501号、同62-6
7,510号に記載された基があげられる。
R 1 or R 2 in the general formula [H] may have a group in which a group which enhances adsorption to the surface of the silver halide grain is incorporated. Examples of such adsorbing groups include thiourea groups, heterocyclic thioamide groups, mercapto heterocyclic groups, triazole groups and the like U.S. Patent Nos. 4,385,108 and 4,459,347.
No., JP-A-59-195233, JP-A-59-200231, JP-A-59-201045
No., 59-201046, 59-201047, 59-201048,
No. 59-201049, JP-A-61-170733, No. 61-270744,
No. 62-948, Japanese Patent Application No. 62-67508, No. 62-67501, No. 62-6
The groups described in 7,510 are exemplified.

【0062】本発明においてこれらのうち更に下記一般
式(H−a)、(H−b)、(H−c)又は(H−d)
で表される化合物が好ましい。
In the present invention, among these, the following general formulas (Ha), (Hb), (Hc) or (Hd)
The compound represented by is preferred.

【0063】[0063]

【化8】 Embedded image

【0064】上記一般式(H−a)中、R23およびR24
はそれぞれ水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基、
2-ヒドロキシプロピル基、2-シアノエチル基、2-クロロ
エチル基)、置換もしくは無置換のフェニル基、ナフチ
ル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジル基
(例えばフェニル基、p-メチルフェニル基、ナフチル
基、α-ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基、p-
メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4-プロピル-2-
ピリジル基、ピロリジル基、4-メチル-2-ピロリジル
基)などを表し、R25は水素原子、置換もしくは無置換
のベンジル基、アルコキシ基またはアルキル基(例えば
ベンジル基、p-メチルベンジル基、メトキシ基、エトキ
シ基、エチル基、ブチル基)を表し、R26およびR27
それぞれ2価の芳香族基(例えばフェニレン基またはナ
フチレン基)を表し、Yはイオウ原子または酸素原子を
表し、Lは2価の結合基(例えば−SO2CH2CH2NH−、−SO
2NH−、−OCH2SO2NH−、−O−−CH=N−)を表し、R28は-
NR′R″または−OR29を表し、R′、R″及びR2 9
それぞれ水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フェニル
基(例えばフェニル基、p-メチルフェニル基、p-メトキ
シフェニル基)、ナフチル基(例えばα-ナフチル基、
β-ナフチル基)または複素環基(例えば、ピリジン、
チオフェン、フランの様な不飽和複素環残基またはテト
ラヒドロフラン、スルホランの様な飽和複素環残基)を
表し、R′とR″は窒素原子と共に環(例えば、ピペリ
ジン、ピペラジン、モルホリン等)を形成してもよい。
In the above general formula (Ha), R 23 and R 24
Represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a dodecyl group,
2-hydroxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 2-chloroethyl group), substituted or unsubstituted phenyl group, naphthyl group, cyclohexyl group, pyridyl group, pyrrolidyl group (for example, phenyl group, p-methylphenyl group, naphthyl group, α-hydroxynaphthyl group, cyclohexyl group, p-
Methylcyclohexyl group, pyridyl group, 4-propyl-2-
R 25 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted benzyl group, an alkoxy group or an alkyl group (for example, a benzyl group, a p-methylbenzyl group, a methoxy group, a pyridyl group, a pyrrolidyl group, a 4-methyl-2-pyrrolidyl group); R 26 and R 27 each represent a divalent aromatic group (for example, a phenylene group or a naphthylene group); Y represents a sulfur atom or an oxygen atom; divalent linking group (e.g., -SO 2 CH 2 CH 2 NH - , - SO
2 NH -, - OCH 2 SO 2 NH -, - OCH = N-) represents, R 28 is -
NR'R "or an -OR 29, R ', R" and R 2 9 are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (e.g. methyl group, an ethyl group, a dodecyl group), a phenyl group (e.g., phenyl , P-methylphenyl group, p-methoxyphenyl group), naphthyl group (for example, α-naphthyl group,
β-naphthyl group) or heterocyclic group (for example, pyridine,
Represents an unsaturated heterocyclic residue such as thiophene or furan or a saturated heterocyclic residue such as tetrahydrofuran or sulfolane), and R 'and R "together with a nitrogen atom form a ring (eg, piperidine, piperazine, morpholine, etc.) May be.

【0065】mおよびnはそれぞれ0または1を表す。
28が−OR29を表すときYはイオン原子を表すことが好
ましい。
M and n each represent 0 or 1.
Y when R 28 represents -OR 29 preferably represents an ion atoms.

【0066】[0066]

【化9】 Embedded image

【0067】一般式(H−b)において、R5,R6およ
びR7はそれぞれ水素原子、アルキル基(例えば、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、3-アリールオキシプロピル
基)、置換もしくは無置換のフェニル基、ナフチル基、
シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジル基、置換も
しくは無置換のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エ
トキシ基、ブトキシ基)または置換もしくは無置換のア
リールオキシ基(例えば、フェノキシ基、4-メチルフェ
ノキシ基)を表す。
In the general formula (Hb), R 5 , R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a 3-aryloxypropyl group), a substituted or unsubstituted group. Substituted phenyl, naphthyl,
A cyclohexyl group, a pyridyl group, a pyrrolidyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, butoxy group) or a substituted or unsubstituted aryloxy group (for example, phenoxy group, 4-methylphenoxy group) Represent.

【0068】本発明においてはR5およびR6はそれぞれ
置換アルキル基(置換基としてはアルコキシ基、アリー
ル基)であることが好ましく、R7は水素原子またはア
ルキル基であることが好ましい。R8は2価の芳香族基
(例えばフェニレン基、ナフチレン基)を表わし、Zは
イオウ原子または酸素原子を表わす。R9は置換もしく
はアルコキシ基、シアノ基、アリール基などが挙げられ
る。
In the present invention, each of R 5 and R 6 is preferably a substituted alkyl group (an alkoxy group or an aryl group as a substituent), and R 7 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group. R 8 represents a divalent aromatic group (for example, a phenylene group or a naphthylene group), and Z represents a sulfur atom or an oxygen atom. R 9 includes a substituted or alkoxy group, a cyano group, an aryl group and the like.

【0069】[0069]

【化10】 Embedded image

【0070】一般式(H−c)及び(H−d)におい
て、Aはアリール基、又は硫黄原子若しくは酸化原子を
少なくとも一つ含む複素環基を表し、nは1又は2を表
す。n=1のとき、R1及びR2はそれぞれ水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
複素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオ
キシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、又は
ヘテロ環オキシ基を表し、R1とR2は窒素原子と共に環
を形成してもよい。n=2のとき、R1及びR2はそれぞ
れ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、飽和若しくは不飽和の複素環基、ヒド
ロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキ
ニルオキシ基、アリールオキシ基、又はヘテロ環オキシ
基を表す。ただしn=2のとき、R1及びR2のうち少な
くとも一方はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素環
基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、又はヘテ
ロ環オキシ基を表すものとする。R3はアルキニル基又
は飽和複素環基を表す。一般式(H−c)又は(H−
d)で表される化合物には、式中の−NHNH−の少なくと
もいずれかのHが置換基で置換されたものを含む。
In the general formulas (Hc) and (Hd), A represents an aryl group or a heterocyclic group containing at least one sulfur atom or oxide atom, and n represents 1 or 2. When n = 1, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group,
Represents a heterocyclic group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an alkynyloxy group, an aryloxy group, or a heterocyclic oxy group, and R 1 and R 2 may form a ring together with a nitrogen atom. When n = 2, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a saturated or unsaturated heterocyclic group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, or an alkynyloxy group. , An aryloxy group, or a heterocyclic oxy group. However, when n = 2, at least one of R 1 and R 2 is an alkenyl group, an alkynyl group, a saturated heterocyclic group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an alkynyloxy group, an aryloxy group, or a heterocyclic oxy group. Represents a group. R 3 represents an alkynyl group or a saturated heterocyclic group. Formula (Hc) or (H-
The compound represented by d) includes a compound in which at least one H of -NHNH- in the formula is substituted with a substituent.

【0071】更に詳しく説明すると、Aはアリール基
(例えば、フェニル、ナフチル等)、又は硫黄原子若し
くは酸素原子を少なくとも一つ含む複素環基(例えば、
チオフェン、フラン、ベンゾチオフェン、ピラン等)を
表す。R1及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基(例
えば、メチル、エチル、メトキシエチル、シアノエチ
ル、ヒドロキシエチル、ベンジル、トリフルオロエチル
等)、アルケニル基(例えば、アリル、ブテニル、ペン
テニル、ペンタジエニル等)、アルキニル基(例えば、
プロパルギル、ブチニル、ペンチニル等)、アリール基
(例えば、フェニル、ナフチル、シアノフェニル、メト
キシフェニル等)、複素環基(例えば、ピリジン、チオ
フェン、フランの様な不飽和複素環基残及びテトラヒド
ロフラン、スルホランの様な飽和複素環残基)、ヒドロ
キシ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、
ベンジルオキシ、シアノメトキシ等)、アルケニルオキ
シ基(例えば、アリルオキシ、ブテニルオキシ等)、ア
ルキニルオキシ基(例えば、プロパルギルオキシ、ブチ
ニルオキシ等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキ
シ、ナフチルオキシ等)、又はヘテロ環オキシ基(例え
ば、ピリジルオキシ、ピリミジルオキシ等)を表し、n
=1のとき、R1とR2は窒素原子と共に環(例えば、ピ
ペリジン、ピペラジン、モルホリン等)を形成してもよ
い。
More specifically, A is an aryl group (eg, phenyl, naphthyl, etc.) or a heterocyclic group containing at least one sulfur atom or oxygen atom (eg,
Thiophene, furan, benzothiophene, pyran, etc.). R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group (eg, methyl, ethyl, methoxyethyl, cyanoethyl, hydroxyethyl, benzyl, trifluoroethyl, etc.), an alkenyl group (eg, allyl, butenyl, pentenyl, pentadienyl, etc.), Alkynyl group (for example,
Propargyl, butynyl, pentynyl, etc.), aryl groups (eg, phenyl, naphthyl, cyanophenyl, methoxyphenyl, etc.), heterocyclic groups (eg, pyridine, thiophene, unsaturated heterocyclic groups such as furan, tetrahydrofuran, sulfolane and the like). Such as a saturated heterocyclic residue), a hydroxy group, an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy,
Benzyloxy, cyanomethoxy, etc.), alkenyloxy group (eg, allyloxy, butenyloxy, etc.), alkynyloxy group (eg, propargyloxy, butynyloxy, etc.), aryloxy group (eg, phenoxy, naphthyloxy, etc.), or heterocyclic oxy A group (eg, pyridyloxy, pyrimidyloxy, etc.), and n
When = 1, R 1 and R 2 may form a ring (eg, piperidine, piperazine, morpholine, etc.) together with the nitrogen atom.

【0072】ただしn=2のとき、R1及びR2のうち少
なくとも一方はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素
環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基又はヘテロ
環オキシ基を表すものとする。
When n = 2, at least one of R 1 and R 2 is alkenyl, alkynyl, saturated heterocyclic, hydroxy, alkoxy, alkenyloxy, alkynyloxy, aryloxy or heterooxy. It represents a ring oxy group.

【0073】R3で表されるアルキニル基及び飽和複素
環基の具体例としては、上述したようなものが挙げられ
る。
Specific examples of the alkynyl group and the saturated heterocyclic group represented by R 3 include those described above.

【0074】Aで表されるアリール基、又は硫黄原子若
しくは酸素原子を少なくとも一つ有する複素環基に、種
々の置換基が導入できる。導入できる置換基としては例
えばハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、スルホニル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、スルファモイル基、アシル基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、アリールアミノチオカルボニルアミノ基、
ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基などが挙げられる。これらの置換基のうちスルホ
ンアミド基が好ましい。
Various substituents can be introduced into the aryl group represented by A or the heterocyclic group having at least one sulfur atom or oxygen atom. Examples of the substituent that can be introduced include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, Acyl group, amino group, alkylamino group, arylamino group, acylamino group, sulfonamide group, arylaminothiocarbonylamino group,
Examples include a hydroxy group, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, and a cyano group. Of these substituents, a sulfonamide group is preferred.

【0075】一般式(H−c)及び(H−d)中、Aは
耐拡散基又はハロゲン化銀吸着促進基を少なくとも一つ
含むことが好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不
動性写真用添加剤において常用されているバラスト基が
好ましい。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性
に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、
アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェ
ノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶこと
ができる。
In the general formulas (Hc) and (Hd), A preferably contains at least one diffusion-resistant group or a silver halide adsorption promoting group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable. A ballast group is a group having a carbon number of 8 or more, which is relatively inert to photographic properties, such as an alkyl group,
It can be selected from an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, an alkylphenoxy group and the like.

【0076】ハロゲン化銀吸着剤促進基としてチオ尿素
基、チオウレタン基、複素環チオアミド基、メルカプト
複素環基、トリアゾール基などの米国特許4,385,108号
に記載された基が挙げられる。
The groups described in US Pat. No. 4,385,108 such as a thiourea group, a thiourethane group, a heterocyclic thioamide group, a mercapto heterocyclic group, and a triazole group are exemplified as the silver halide adsorbent accelerating group.

【0077】一般式(H−c)及び(H−d)中の−NH
NH−のH、即ちヒドラジンの水素原子は、スルホニル基
(例えばメタンスルホニル、トルエンスルホニル等)、
アシル基(例えば、アセチル、トリフルオロアセチル、
エトキシカルボニル等)、オキザリル基(例えば、エト
キザリル、ピルボイル等)等の置換基で置換されていて
もよく、一般式(H−c)及び(H−d)で表される化
合物はこのようなものをも含む。
In the general formulas (Hc) and (Hd), -NH
H of NH—, that is, the hydrogen atom of hydrazine is a sulfonyl group (eg, methanesulfonyl, toluenesulfonyl, etc.),
Acyl groups (eg, acetyl, trifluoroacetyl,
Ethoxycarbonyl) or an oxalyl group (eg, ethoxylyl, pyruvoyl, etc.), and may be substituted. The compounds represented by the general formulas (Hc) and (Hd) are such compounds. Including.

【0078】本発明においてより好ましい化合物は、一
般式(H−c)のn=2の場合の化合物及び一般式(H
−d)の化合物である。
More preferred compounds in the present invention are the compound of the general formula (Hc) wherein n = 2 and the compound of the general formula (Hc)
-D).

【0079】一般式(H−c)のn=2の化合物におい
て、R1及びR2が水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、飽和若しくは不飽和複
素環基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基であり、かつ
1及びR2のうち少なくとも一方はアルケニル基、アル
キニル基、飽和複素環基、ヒドロキシ基、又はアルコキ
シ基を表す化合物が好ましい。
In the compound of the formula (Hc) where n = 2, R 1 and R 2 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a saturated or unsaturated heterocyclic group, a hydroxy group, Alternatively, a compound which is an alkoxy group and at least one of R 1 and R 2 represents an alkenyl group, an alkynyl group, a saturated heterocyclic group, a hydroxy group, or an alkoxy group is preferable.

【0080】上記一般式〔H〕で表される代表的な化合
物を以下に示す。
Representative compounds represented by the above general formula [H] are shown below.

【0081】[0081]

【化11】 Embedded image

【0082】[0082]

【化12】 Embedded image

【0083】[0083]

【化13】 Embedded image

【0084】[0084]

【化14】 Embedded image

【0085】[0085]

【化15】 Embedded image

【0086】[0086]

【化16】 Embedded image

【0087】[0087]

【化17】 Embedded image

【0088】[0088]

【化18】 Embedded image

【0089】[0089]

【化19】 Embedded image

【0090】本発明に用いられるヒドラジン誘導体につ
いて一般式〔H−a〕〜〔H−d〕で表される化合物の
具体例を挙げたが、さらに、一般式〔H〕で表される化
合物の具体例として以下のような化合物が挙げられる。
Specific examples of the hydrazine derivative used in the present invention are shown by the compounds represented by the general formulas [Ha] to [Hd]. Specific examples include the following compounds.

【0091】[0091]

【化20】 Embedded image

【0092】[0092]

【化21】 Embedded image

【0093】[0093]

【化22】 Embedded image

【0094】[0094]

【化23】 Embedded image

【0095】[0095]

【化24】 Embedded image

【0096】[0096]

【化25】 Embedded image

【0097】[0097]

【化26】 Embedded image

【0098】[0098]

【化27】 Embedded image

【0099】[0099]

【化28】 Embedded image

【0100】及び特開平3-174,143号公報第24頁右上欄
〜第26頁右下欄に記載された化合物II−7〜II−54。
Compounds II-7 to II-54 described in JP-A-3-174,143, page 24, upper right column to page 26, lower right column.

【0101】本発明に用いるヒドラジン誘導体は前述し
た一般式〔H〕で表される化合物が好ましいが、下記一
般式〔H′〕で表されるヒドラジン化合物を用いてもよ
い。
The hydrazine derivative used in the present invention is preferably a compound represented by the aforementioned general formula [H], but a hydrazine compound represented by the following general formula [H '] may be used.

【0102】一般式〔H′〕 R1−NH−NH−R2 一般式〔H′〕において、R1はキノリル、ピリジルも
しくはシクロヘキシルまたは以下の式(a)〜(h)で
表される基:
Formula [H '] R 1 -NH-NH-R 2 In Formula [H'], R 1 is quinolyl, pyridyl or cyclohexyl or a group represented by the following formulas (a) to (h). :

【0103】[0103]

【化29】 Embedded image

【0104】R2は水素原子またはフェニル基、R3は水
素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基もし
くはアルコキシ基またはスルホンアミド基、R4および
5は水素原子またはハロゲン原子、R6は炭素数1〜4
のアルキル基またはアルコキシ基を表す。
R 2 is a hydrogen atom or a phenyl group; R 3 is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a sulfonamide group; R 4 and R 5 are a hydrogen atom or a halogen atom; 6 has 1 to 4 carbon atoms
Represents an alkyl group or an alkoxy group.

【0105】一般式〔H′〕で表される化合物の具体例
を下記に示す。
Specific examples of the compound represented by the general formula [H '] are shown below.

【0106】[0106]

【化30】 Embedded image

【0107】[0107]

【化31】 Embedded image

【0108】ヒドラジン誘導体として一般式(H−c)
又は(H−d)の化合物を含有する場合は、特願平2-23
4203号69頁1行〜144頁12行に記載されている造核促進
化合物の少なくとも1種を、ハロゲン化銀乳剤層及び/
または支持体上のハロゲン化銀乳剤層側にある非感光性
層に含むことが好ましい。
The hydrazine derivative represented by the general formula (Hc)
Or when the compound of (Hd) is contained,
No. 4203, page 69, line 1 to page 144, line 12, at least one of the nucleation promoting compounds described above was used in combination with a silver halide emulsion layer and / or
Alternatively, it is preferably contained in a non-photosensitive layer on the side of the silver halide emulsion layer on the support.

【0109】造核促進化合物の代表的具体例を以下に示
す。
The typical specific examples of the nucleation promoting compound are shown below.

【0110】[0110]

【化32】 Embedded image

【0111】[0111]

【化33】 Embedded image

【0112】[0112]

【化34】 Embedded image

【0113】[0113]

【化35】 Embedded image

【0114】[0114]

【化36】 Embedded image

【0115】更に他の具体例としては、特願平2-234203
号69頁〜72頁に記載されている化合物I-1〜I-26、73頁
〜78頁に記載されている化合物II-1〜II-29、80頁〜83
頁に記載されている化合物III-1〜III-25、84頁〜90頁
に記載されている化合物IV-1〜IV-41、92頁〜96頁に記
載されている化合物V-1-1〜V-1-27、98頁〜103頁に
記載されている化合物V-II-1〜V-II-30、105頁〜111頁
に記載されている化合物V-III-1〜V-III-35、113頁〜1
21頁に記載されている化合物IV-1〜IV-I-44、123頁〜1
35頁に記載されている化合物VI-II-1〜VI-II-68及び13
7頁〜143頁に記載されている化合物VI-III-1〜VI-III-
35の中の上述の代表的具体例以外のものがある。
As still another specific example, Japanese Patent Application No. Hei.
Nos. 1 to 1-26 described on pages 69 to 72, compounds II-1 to II-29 described on pages 73 to 78, pages 80 to 83
Compounds III-1 to III-25 described on page 84, compounds IV-1 to IV-41 described on pages 84 to 90, and compound V-1-1 described on pages 92 to 96 Compounds V-II-1 to V-II-30 described on pages 98 to 103, compounds V-III-1 to V-III described on pages 105 to 111 -35, 113 ~ 1
Compounds IV-1 to IV-I-44 described on page 21, pages 123 to 1
Compounds VI-II-1 to VI-II-68 and 13 described on page 35
Compounds VI-III-1 to VI-III- described on pages 7 to 143
There are other than the representative examples described above in 35.

【0116】上記以外の具体的化合物としては、特開平
2-841号 542(4)頁〜546(8)頁に記載されている化合物
例(1)〜(61)、及び(65)〜(75)がある。
Specific compounds other than those described above are described in
There are compound examples (1) to (61) and (65) to (75) described on pages 542 (4) to 546 (8) of 2-841.

【0117】一般式〔H〕及び〔H′〕で表されるヒド
ラジン誘導体は、特開平2-841号 546(8)頁〜550(12)頁
に示された方法等で合成できる。
The hydrazine derivatives represented by the general formulas [H] and [H '] can be synthesized by the method described in JP-A-2-841, pages 546 (8) to 550 (12).

【0118】該ヒドラジン誘導体の添加位置はハロゲン
化銀乳剤層及び/またはその隣接層である。添加量は、
銀1モルあたり1×10-6〜1×10-1モルが好ましく、更
に好ましくはハロゲン化銀1モルあたり1×10-5〜1×
10-2モルである。
The hydrazine derivative is added at the silver halide emulsion layer and / or the layer adjacent thereto. The amount of addition
It is preferably 1 × 10 -6 to 1 × 10 -1 mol per mol of silver, and more preferably 1 × 10 -5 to 1 × per mol of silver halide.
10 -2 moles.

【0119】次に、分岐シクロデキストリン、シクロデ
キストリンポリマー及び一般式〔I〕で表される化合物
について説明する。
Next, the branched cyclodextrin, the cyclodextrin polymer and the compound represented by the general formula [I] will be described.

【0120】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンとは公知のシクロデキストリンにグルコース、マルト
ース、セロビオーズ、ラクトース、ショ糖、ガラクトー
ス、グルコサミン等の単糖類や2糖類等の水溶性物質を
分岐付加ないし結合させたものであり、好ましくは、シ
クロデキストリンにマルトースを結合させたマルトシル
シクロデキストリン(マルトースの結合分子数は1分
子、2分子、3分子等いずれでもよい)やシクロデキス
トリンにグルコースを結合させたグルコシルシクロデキ
ストリン(グルコースの結合分子数は1分子、2分子、
3分子等いずれでもよい)が挙げられる。
The branched cyclodextrin used in the present invention is a known cyclodextrin obtained by branching or binding a water-soluble substance such as a monosaccharide such as glucose, maltose, cellobiose, lactose, sucrose, galactose and glucosamine and a disaccharide to a known cyclodextrin. Preferably, maltosyl cyclodextrin in which maltose is bound to cyclodextrin (the number of binding molecules of maltose may be one, two, or three), or glucosyl in which glucose is bound to cyclodextrin Cyclodextrin (The number of binding molecules of glucose is 1 molecule, 2 molecules,
Or any of three molecules).

【0121】これら分岐シクロデキストリンの具体的な
合成方法は、例えば澱粉化学、第33巻、第2号、P.119
〜126(1986)、同P.127〜132(1986)、澱粉化学、第3
0巻、第2号、P.231〜239(1983)等に記載された公知
の合成法で合成可能であり、例えばマルトシルシクロデ
キストリンはシクロデキストリンとマルトースを原料と
し、イソアミラーゼやプルラナーゼ等の酵素を利用し
て、シクロデキストリンにマルトースを結合させる方法
で製造できる。グルコシルシクロデキストリンも同様の
方法で製造できる。
Specific methods for synthesizing these branched cyclodextrins are described, for example, in Starch Chemistry, Vol. 33, No. 2, p. 119.
-126 (1986), P.127-132 (1986), Starch Chemistry, No.3
Vol. 0, No. 2, pp. 231 to 239 (1983) can be synthesized by a known synthesis method. For example, maltosyl cyclodextrin is obtained by using cyclodextrin and maltose as raw materials and isoamylase and pullulanase. It can be produced by a method of binding maltose to cyclodextrin using an enzyme. Glucosylcyclodextrin can be produced in a similar manner.

【0122】本発明において、好ましく用いられる分岐
シクロデキストリンとしては、以下に示す具体的例示化
合物を挙げることができる。
In the present invention, examples of the branched cyclodextrin preferably used include the following specific compounds.

【0123】 〔例示化合物〕 D−1 マルトースが1分子結合したα-シクロデキストリン、 D−2 マルトースが1分子結合したβ-シクロデキストリン、 D−3 マルトースが1分子結合したγ-シクロデキストリン、 D−4 マルトースが2分子結合したα-シクロデキストリン、 D−5 マルトースが2分子結合したβ-シクロデキストリン、 D−6 マルトースが2分子結合したγ-シクロデキストリン、 D−7 マルトースが3分子結合したα-シクロデキストリン、 D−8 マルトースが3分子結合したβ-シクロデキストリン、 D−9 マルトースが3分子結合したγ-シクロデキストリン、 D−10 グルコースが1分子結合したα-シクロデキストリン、 D−11 グルコースが1分子結合したβ-シクロデキストリン、 D−12 グルコースが1分子結合したγ-シクロデキストリン、 D−13 グルコースが2分子結合したα-シクロデキストリン、 D−14 グルコースが2分子結合したβ-シクロデキストリン、 D−15 グルコースが2分子結合したγ-シクロデキストリン、 D−16 グルコースが3分子結合したα-シクロデキストリン、 D−17 グルコースが3分子結合したβ-シクロデキストリン、 D−18 グルコースが3分子結合したγ-シクロデキストリン、 これら分岐シクロデキストリンの構造については、HPL
C,NMR,TLC(薄層クロマトグラフィー),INEPT法(In
sensitive nuclei enhanced by polarization transfe
r)等の測定法で種々検討されてきているが、現在の科
学技術をもってしてもいまだ確定されておらず推定構造
の段階にある。しかしながら、各単糖類又は2糖類等が
シクロデキストリンに結合していることは上記測定法で
誤りのないことである。この故に、本発明においては、
単糖類や2糖類の多分子がシクロデキストリンに結合し
ている際には、例えば下記に示すようにシクロデキスト
リンの各ぶどう糖に個々に結合している場合や、1つの
ぶどう糖に直鎖状に結合しているものの両方を包含する
ものである。
[Exemplary Compounds] D-1 α-cyclodextrin with one molecule bonded to maltose, D-2 β-cyclodextrin with one molecule bonded to maltose, D-3 γ-cyclodextrin with one molecule bonded to maltose, D -4 α-cyclodextrin with two molecules of maltose bonded, D-5 β-cyclodextrin with two molecules of maltose bonded, γ-cyclodextrin with two molecules of maltose bonded, and three molecules of D-7 maltose bonded α-cyclodextrin, D-8 β-cyclodextrin in which three molecules of maltose are bonded, D-9 γ-cyclodextrin in which three molecules of maltose are bonded, D-10 α-cyclodextrin in which one molecule of glucose is bonded, D-11 Β-cyclodextrin with one molecule of glucose bound, D-12 one molecule of glucose bound γ-cyclodextrin, α-cyclodextrin in which two molecules of D-13 glucose are bonded, β-cyclodextrin in which two molecules of D-14 glucose are bonded, γ-cyclodextrin in which two molecules of D-15 glucose are bonded, D-16 Α-cyclodextrin in which three molecules of glucose are bound, β-cyclodextrin in which three molecules of D-17 glucose are bound, γ-cyclodextrin in which three molecules of D-18 glucose are bound, and the structures of these branched cyclodextrins are described in HPL.
C, NMR, TLC (thin layer chromatography), INEPT method (In
sensitive nuclei enhanced by polarization transfe
Although various measurement methods such as r) have been studied, they have not yet been determined even with current science and technology, and are in the stage of estimation structure. However, the fact that each monosaccharide or disaccharide or the like is bound to cyclodextrin is that there is no error in the above measurement method. Therefore, in the present invention,
When multiple molecules of monosaccharides or disaccharides are bonded to cyclodextrin, for example, they are individually bonded to each glucose of cyclodextrin as shown below, or linearly bonded to one glucose. It is intended to include both of the above.

【0124】[0124]

【化37】 Embedded image

【0125】既存のシクロデキストリンの環構造はその
まま保持されているので、既存のシクロデキストリンと
同様な包接作用を示し、かつ水溶性の高いマルトースな
いしグルコースが付加し、水への溶解性が飛躍的に向上
しているのが特徴である。
Since the ring structure of the existing cyclodextrin is kept as it is, it exhibits the same inclusion function as that of the existing cyclodextrin, and the addition of highly water-soluble maltose or glucose increases the solubility in water. The feature is that it has been improved.

【0126】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンは市販品としての入手も可能であり、例えばマルトシ
ルシクロデキストリンは塩水港精糖社製イソエリート
(登録商標)として市販されている。
The branched cyclodextrin used in the present invention can be obtained as a commercial product. For example, maltosyl cyclodextrin is commercially available as Isoelite (registered trademark) manufactured by Shimizu Minato Seika.

【0127】次に、本発明に用いられるシクロデキスト
リンポリマーについて説明する。
Next, the cyclodextrin polymer used in the present invention will be described.

【0128】本発明に用いられるシクロデキストリンポ
リマーとしては、下記一般式〔II〕で表されるものが好
ましい。
The cyclodextrin polymer used in the present invention is preferably a polymer represented by the following general formula [II].

【0129】[0129]

【化38】 Embedded image

【0130】本発明に用いられるシクロデキストリンポ
リマーは、シクロデキストリンを例えばエピクロルヒド
リンにより架橋高分子化して製造できる。
The cyclodextrin polymer used in the present invention can be produced by polymerizing cyclodextrin with, for example, epichlorohydrin.

【0131】前記シクロデキストリンポリマーは、その
水溶性すなわち水に対する溶解度が、25℃で水100mlに
対し20g以上であることが好ましく、そのためには下記
一般式〔IV〕における重合度n2を3〜4とすればよ
く、この値が小さい程シクロデキストリンポリマー自身
の水溶性および前記物質の可溶化効果が高い。
The cyclodextrin polymer preferably has a water solubility, that is, a solubility in water of not less than 20 g per 100 ml of water at 25 ° C., and for this purpose, the polymerization degree n 2 in the following general formula [IV] is 3 to 3. The water solubility of the cyclodextrin polymer itself and the effect of solubilizing the substance are higher as this value is smaller.

【0132】これらシクロデキストリンポリマーは、例
えば特開昭61-97025号明細書や、ドイツ特許3,544,842
号明細書等に記載された一般的な方法で合成できる。
These cyclodextrin polymers are described, for example, in JP-A-61-97025 and German Patent 3,544,842.
It can be synthesized by a general method described in the specification and the like.

【0133】該シクロデキストリンポリマーについて
も、前記の如くシクロデキストリンポリマーの包接化合
物として使用してもよい。
The cyclodextrin polymer may be used as an inclusion compound of the cyclodextrin polymer as described above.

【0134】これらシクロデキストリン、シクロデキス
トリン誘導体、分岐シクロデキストリン又はシクロデキ
ストリンポリマーの本発明における使用量は例えば現像
液1000ml当たり0.1〜100gの範囲が好ましく、より好ま
しくは、0.5〜50g/lである。
The amount of the cyclodextrin, cyclodextrin derivative, branched cyclodextrin or cyclodextrin polymer used in the present invention is, for example, preferably in the range of 0.1 to 100 g, more preferably 0.5 to 50 g / l per 1,000 ml of the developing solution.

【0135】前記一般式〔I〕におけるCDは、前記一
般式〔III〕で表されるシクロデキストリンの残基(シ
クロデキストリン分子が有する複数の水酸基の一部が除
去された)である。
CD in the general formula [I] is a residue of the cyclodextrin represented by the general formula [III] (part of a plurality of hydroxyl groups of the cyclodextrin molecule has been removed).

【0136】[0136]

【化39】 Embedded image

【0137】このうち本発明に特に有用なものはn=4
のα-シクロデキストリン、n=5のβ-シクロデキスト
リン又はn=6のγ-シクロデキストリンのそれぞれ残
基である。
Among them, those particularly useful in the present invention are n = 4
Α-cyclodextrin, β-cyclodextrin with n = 5 or γ-cyclodextrin with n = 6, respectively.

【0138】一般式〔I〕で表される化合物の具体例を
以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
Specific examples of the compound represented by the formula [I] are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0139】 一般式〔I〕で表される化合物のハロゲン化銀写真感光
材料の添加対象層はハロゲン化銀乳剤層及び/又はその
隣接層である。その添加量は1〜2000mg/m2の範囲が好
ましく更に好ましくは5〜500mg/m2の範囲である。一
般式〔I〕で表される化合物を処理液に含有させる場
合、該処理液とは、現像液又は定着液を指し、その添加
量は0.1〜100g/lの範囲が好ましく、更に好ましくは
0.5〜50g/lである。
[0139] The layer to be added to the silver halide photographic material of the compound represented by the formula [I] is a silver halide emulsion layer and / or a layer adjacent thereto. The amount added more preferably preferably in the range of 1 to 2000 mg / m 2 in the range of 5 to 500 mg / m 2. When the compound represented by the general formula [I] is contained in a processing solution, the processing solution refers to a developing solution or a fixing solution, and the amount of addition is preferably in the range of 0.1 to 100 g / l, more preferably
It is 0.5 to 50 g / l.

【0140】本発明の一般式〔I〕の化合物を感光材料
のハロゲン化銀乳剤層またその隣接層に含有される場
合、ヒドラジン誘導体及び一般式〔I〕の化合物の少な
くとも一方は、該ハロゲン化銀乳剤層を形成するハロゲ
ン化銀乳剤の化学熟成の終了後に上記層又は該層を形成
する塗布用組成物に含有させる。
When the compound of the general formula [I] of the present invention is contained in the silver halide emulsion layer of the light-sensitive material or an adjacent layer thereof, at least one of the hydrazine derivative and the compound of the general formula [I] is converted to the silver halide emulsion layer. After the chemical ripening of the silver halide emulsion forming the silver emulsion layer is completed, the silver halide emulsion is contained in the above layer or the coating composition for forming the layer.

【0141】本発明に用いられるサイクロフラクタンは
下記一般式〔IV〕で表される。
The cyclofructan used in the present invention is represented by the following general formula [IV].

【0142】[0142]

【化40】 Embedded image

【0143】このうち本発明に特に有用なものはn=
5、n=6及びn=7である。
Of these, those particularly useful in the present invention are those wherein n =
5, n = 6 and n = 7.

【0144】更に本発明に係るサイクロフラクタン部分
は包接作用を行い包接化合物を形成するが、本発明にお
いては該包接化合物を使用することも可能である。
Furthermore, the cyclofructan moiety according to the present invention performs an inclusion function to form an inclusion compound. In the present invention, the inclusion compound can be used.

【0145】該サイクロフラクタンの包接化合物とは、
シクロデキストリンの包接化合物と同様で、例えばエフ
・クラマー著(F.Cramer)、「アインシュルス・フエ
ルビンドゥンゲン」(Einschlus verbindungen)Spri
nger(1954)あるいはエム・ハーゲン著(M.Hagan)
「クラスレートインクルージョンコンパウンド」(Cla
thrate Inclusion Conpounde)Reinheld(1962)に
記載の如く「原子または分子が結合してできた3次元構
造の内部に適当な大きさの空孔があって、その中にほか
の原子または分子が一定の組成比で入りこんで特定の結
晶構造をつくっている物質」のことをいう。
The inclusion compound of cyclofructan is
Similar to the inclusion compound of cyclodextrin, for example, F. Cramer, "Einschlus verbindungen" Spri
nger (1954) or by M. Hagen (M. Hagan)
"Clathrate Inclusion Compound" (Cla
As described in “Thrate Inclusion Compound” Reinheld (1962), “a three-dimensional structure formed by bonding atoms or molecules has pores of an appropriate size, in which other atoms or molecules are fixed. A substance that forms a specific crystal structure by entering at a composition ratio. "

【0146】該サイクロフラクタンの包接化合物の製造
例は、下記に示すシクロデキストリン包接化合物の製造
例と同様にして作ることができる。これは単にその数例
であって勿論これらに限定されるものではない。
The cyclofructan clathrate can be prepared in the same manner as the cyclodextrin clathrate shown below. This is merely a few examples, and is of course not limited to these.

【0147】◎ジャーナル オブ ジ アメリカン ケ
ミカル ソサエテイ(Journal ofthe American Chem
ical Society)第71巻第354頁1949年 ◎ケミッシェ ベリッヒテ(Chemishe Berichte)第9
0巻第2572頁1957年 ◎同第90巻第2561頁1957年 本発明の一般式〔IV〕で示されるサイクロフラクタン化
合物を感光材料に添加する場合、好ましくは1mg/m2
1000mg/m2で更に好ましくは10mg/m2〜500mg/m2であ
る。また、処理液に添加する場合は、処理液は好ましく
は現像液あるいは定着液で更に好ましくは現像液であ
る。添加量は0.1g〜100g/lの範囲が好ましく、より好
ましくは0.5g〜50g/lである。
◎ Journal of the American Chemical Society
ical Society, Vol. 71, p. 354, 1949 ◎ Chemishe Berichte, ninth
0, 2572, 1957 ◎ 90, 2561, 1957 When the cyclofructan compound represented by the general formula [IV] of the present invention is added to a light-sensitive material, it is preferably 1 mg / m 2 or more.
More preferably at 1000 mg / m 2 is 10mg / m 2 ~500mg / m 2 . When added to the processing solution, the processing solution is preferably a developing solution or a fixing solution, and more preferably a developing solution. The addition amount is preferably in the range of 0.1 g to 100 g / l, more preferably 0.5 g to 50 g / l.

【0148】 本発明に用いられるカレックスアレーンは下記一般式
〔V〕で表される。
[0148] The curlex arene used in the present invention is represented by the following general formula [V].

【0149】[0149]

【化41】 Embedded image

【0150】分岐シクロデキストリン、シクロデキスト
リンポリマー、一般式〔I〕で表される化合物、サイク
ロフラクタン及びカレックスアレーンは、ヒドラジン誘
導体を包接して包接化合物を形成する。本発明におい
て、このような包接化合物を使用することもできる。
The branched cyclodextrin, the cyclodextrin polymer, the compound represented by the general formula [I], the cyclofructan and the kalex arene form an inclusion compound by including a hydrazine derivative. In the present invention, such an inclusion compound can also be used.

【0151】本発明の構成によって奏される効果は、通
常の多糖類又はセルロースの効果と全く異なり、これら
から予想することは出来ない。
The effects produced by the constitution of the present invention are completely different from those of ordinary polysaccharides or cellulose and cannot be predicted from them.

【0152】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料
は、支持体上に少なくとも1層の導電性層を設けること
もできる。導電性層を形成する代表的方法としては、水
溶性導電性ポリマー、疎水性ポリマー、硬化剤を用いて
形成する方法と金属酸化物を用いて形成する方法があ
る。これらの方法については例えば特開平3-265842号第
5頁〜第15頁記載の方法を用いることができる。本発明
に係るハロゲン化銀写真感光材料に使用されるハロゲン
化銀乳剤には、ハロゲン化銀として例えば臭化銀、沃臭
化銀、沃塩化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロ
ゲン化銀乳剤に使用される任意のものを用いることがで
きるが、好ましくは、塩臭化銀、臭化銀又は4モル%以
下の沃化銀を含む沃臭化銀である。
In the silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention, at least one conductive layer can be provided on the support. Typical methods for forming the conductive layer include a method using a water-soluble conductive polymer, a hydrophobic polymer, and a curing agent, and a method using a metal oxide. For these methods, for example, the methods described in JP-A-3-265842, pages 5 to 15 can be used. In the silver halide emulsion used in the silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention, silver halides such as silver bromide, silver iodobromide, silver iodochloride, silver chlorobromide, and silver chloride are usually used. Any of the silver halide emulsions used for the above silver halide emulsion can be used, but silver chlorobromide, silver bromide or silver iodobromide containing 4 mol% or less of silver iodide is preferred.

【0153】また上記、ハロゲン化銀乳剤に含まれるハ
ロゲン化銀粒子は(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)
×100で表される変動係数が15%以下である単分散粒子
であることが好ましい。
The silver halide grains contained in the silver halide emulsion are (standard deviation of particle size) / (average value of particle size).
Monodisperse particles having a coefficient of variation represented by × 100 of 15% or less are preferable.

【0154】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に
は当業界公知の各種技術、添加剤等を用いることができ
る。
For the silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention, various techniques and additives known in the art can be used.

【0155】例えば、ハロゲン化銀写真乳剤及びバッキ
ング層には、各種の化学増感剤、色調剤、硬膜剤、界面
活性剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現像抑制剤、紫外
線吸収剤、イラジェーション防止剤染料、重金属、マッ
ト剤等を各種の方法で更に含有させることができる。
又、ハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層中にはポリ
マーラテックスを含有させることができる。
For example, the silver halide photographic emulsion and the backing layer may contain various chemical sensitizers, color tones, hardeners, surfactants, thickeners, plasticizers, sliding agents, development inhibitors, ultraviolet absorbers. Agents, antiirradiation dyes, heavy metals, matting agents and the like can be further contained by various methods.
Further, a polymer latex can be contained in the silver halide photographic emulsion and the backing layer.

【0156】これらの添加剤は、より詳しくは、リサー
チ・ディスクロージャ第176巻Item/7643(1978年12月)
および同187巻Item/8716(1979年11月)に記載されてお
り、その該当個所を以下にまとめて示した。
These additives are described in more detail in Research Disclosure, Vol. 176, Item / 7643 (December 1978).
And Vol. 187, Item / 8716 (November 1979), and the relevant locations are summarized below.

【0157】 添加剤種類 RD/7643 RD/8716 1.化学増感剤 23頁 648頁右欄 2.感度上昇剤 同上 3.分光増感剤 23〜24頁 648頁右欄〜 強色増感剤 649頁右欄 4.増白剤 24頁 5.かぶり防止剤および安定剤 24〜25頁 649頁右欄 6.光吸収剤、フイルター染料 25〜26頁 649頁右欄〜 紫外線吸収剤 650頁左欄 7.ステイン防止剤 25頁右欄 650頁左〜右欄 8.色素画像安定剤 25頁 9.硬膜剤 26頁 651頁左欄 10.バインダー 26頁 同上 11.可塑剤、潤滑剤 27頁 650頁右欄 12.塗布助剤、表面活性剤 26〜27頁 同上 13.スタチック防止剤 27頁 同上 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いることができ
る支持体としては、酢酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、ポ
リエチレンのようなポリオレフィン、ポリスチレン、バ
ライタ紙、ポリオレフィンを塗布した紙、ガラス、金属
等を挙げることができる。これらの支持体は必要に応じ
て下地加工が施される。
Additive Type RD / 7643 RD / 8716 Chemical sensitizer page 23 648 right column 2. Sensitivity increasing agent Same as above 3. 3. Spectral sensitizers, pages 23 to 24, right column, page 648 to supersensitizers, right column, page 649. Brightener page 24 5. 5. Antifoggant and stabilizer page 24 to 25 page 649, right column 6. Light absorbers, filter dyes, pages 25 to 26, right column, page 649 to ultraviolet absorbers, left column, page 650 7. Stain inhibitor 25 pages right column 650 pages left to right column 8. Dye image stabilizer page 25 Hardening agent Page 26 651 Left column 10. Binder page 26 Same as above 11. Plasticizers and lubricants Page 27 Right column on page 650 12. Coating aids, surfactants 26-27 Same as above 13. Examples of the support that can be used in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention include cellulose acetate, cellulose nitrate, and the like.
Examples thereof include polyester such as polyethylene terephthalate, polyolefin such as polyethylene, polystyrene, baryta paper, paper coated with polyolefin, glass, and metal. These supports are subjected to a base treatment as required.

【0158】[0158]

【実施例】以下、本発明を実施例でより具体的に説明す
る。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples.

【0159】比較例1 (ハロゲン化銀写真乳剤Aの調製) 同時混合法を用いて沃臭化銀乳剤(銀1モル当たり沃化
銀2モル%)を調製した。この混合時にK2IrCl6を銀1
モル当たり8×10-7モル添加した。得られた乳剤は、平
均粒径0.20μmの立方体単分散乳剤(粒径分布の変動係
数9%)であった。常法で水洗、脱塩した。脱塩後の40
℃のpAgは8.0であった。引き続きこの乳剤に銀1モル当
たり下記増感色素D−1を200mgとD−2を10mg添加
し、さらに下記化合物〔A〕、〔B〕及び〔C〕の混合
物を添加し、その後硫黄増感を施して乳剤Aを得た。
Comparative Example 1 (Preparation of silver halide photographic emulsion A) A silver iodobromide emulsion (2 mol% of silver iodide per mol of silver) was prepared by a double jet method. During this mixing, K 2 IrCl 6 was added to silver 1
8 × 10 -7 mol was added per mol. The obtained emulsion was a cubic monodispersed emulsion having an average particle size of 0.20 μm (the coefficient of variation of the particle size distribution was 9%). Washing and desalting were carried out in a conventional manner. 40 after desalination
The pAg at ℃ was 8.0. Subsequently, 200 mg of the following sensitizing dye D-1 and 10 mg of D-2 per mol of silver were added to this emulsion, and a mixture of the following compounds [A], [B] and [C] was further added. To give Emulsion A.

【0160】[0160]

【化42】 Embedded image

【0161】(ハロゲン化銀写真感光材料の調製) 下引加工済のポリエチレンテレフタレート支持体の片面
に、下記処方(1)の感光性ハロゲン化銀乳剤層をゼラ
チン量が2.0g/m2、銀量が3.2g/m2になる様に塗設し、
更にその上に下記処方(2)の乳剤保護層をゼラチン量
が1.0g/m2になる様に塗設し、また、該乳剤層と反対側
の支持体面(下引加工済)には下記処方(3)のバッキ
ング層をゼラチン量が2.4g/m2になる様に塗設し、更に
その上に下記処方(4)のバッキング保護層をゼラチン
量が1g/m2になる様に塗設した。
(Preparation of silver halide photographic light-sensitive material) A photosensitive silver halide emulsion layer of the following formula (1) was coated on one side of an undercoated polyethylene terephthalate support with a gelatin amount of 2.0 g / m 2 and silver by coating as the amount is 3.2g / m 2,
Further, an emulsion protective layer having the following formula (2) was coated thereon so that the amount of gelatin became 1.0 g / m 2 , and the surface of the support opposite to the emulsion layer (subbed) was coated with the following. The backing layer of formula (3) is coated so that the amount of gelatin is 2.4 g / m 2, and the backing protective layer of formula (4) below is further coated so that the amount of gelatin is 1 g / m 2. Established.

【0162】尚、炭酸ナトリウム及び/又はクエン酸に
て各層のpHを調整し、最外層の膜面pHを調整し、表1
に示す(1)〜(4)の感光材料を作成した。
The pH of each layer was adjusted with sodium carbonate and / or citric acid, and the film surface pH of the outermost layer was adjusted.
(1) to (4) were prepared.

【0163】 処方(1)(感光性ハロゲン化銀乳剤層組成) ゼラチン 2.0g/m2 ハロゲン化銀乳剤A 銀量 3.2g/m2 安定剤:4-メチル-6-ヒドロキシ-1,3,3a,7-テトラザインデン 30mg/m2 カブリ防止剤:5-ニトロインダゾール 10mg/m2 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 5mg/m2 界面活性剤:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.1g/m2 Formulation (1) (Composition of photosensitive silver halide emulsion layer) Gelatin 2.0 g / m 2 Silver halide emulsion A Silver amount 3.2 g / m 2 Stabilizer: 4-methyl-6-hydroxy-1,3, 3a, 7-tetrazaindene 30 mg / m 2 Antifoggant: 5-nitroindazole 10 mg / m 2 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 5 mg / m 2 Surfactant: sodium dodecylbenzenesulfonate 0.1 g / m 2

【0164】[0164]

【化43】 Embedded image

【0165】 表1に示すヒドラジン誘導体 7×10-5モル/m2 Hydrazine derivatives shown in Table 1 7 × 10 −5 mol / m 2

【0166】[0166]

【化44】 Embedded image

【0167】処方(3)(バッキング層組成)Formulation (3) (backing layer composition)

【0168】[0168]

【化45】 Embedded image

【0169】 ゼラチン 2.4g/m2 界面活性剤:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.1g/m2 界面活性剤:S-1 6mg/m2 コロイダルシリカ 100mg/m2 硬膜剤 :E 55mg/m2 Gelatin 2.4 g / m 2 Surfactant: Sodium dodecylbenzenesulfonate 0.1 g / m 2 Surfactant: S-1 6 mg / m 2 Colloidal silica 100 mg / m 2 Hardener: E 55 mg / m 2

【0170】[0170]

【化46】 Embedded image

【0171】 処方 (4) (バッキング保護層組成) ゼラチン 1g/m2 マット剤:平均粒径5.0μmの単分散ポリメチルメタアクリート 50mg/m2 界面活性剤:S-2 10mg/m2 硬膜剤:グリオキザール 25mg/m2 硬膜剤:HA-1 35mg/m2 感光材料(1)〜(4)を、23℃50%RHの条件で24時間
保存後、密閉包装し(保存I)、経時代用サーモ処理と
して55℃で3日間放置した(保存II)。上記2種の保存
条件の感光材料試料にステップウェッジを密着し、3200
Kのタングステン光で5秒間露光した後、下記に示す組
成の現像液及び定着液を投入したコニカ(株)製迅速処理
用自動現像機GR-26SRにて下記条件で処理を行った。
[0171] Formulation (4) (Backing protective layer composition) Gelatin 1 g / m 2 Matting agent: average particle size 5.0μm monodisperse polymethyl methacrylate A cleat 50 mg / m 2 Surfactant: S-2 10mg / m 2 dura Agent: Glyoxal 25 mg / m 2 Hardener: HA-1 35 mg / m 2 Photosensitive materials (1) to (4) were stored at 23 ° C. and 50% RH for 24 hours and then sealed and packaged (Storage I). It was left at 55 ° C. for 3 days as a thermotreatment for the age (preservation II). A step wedge was stuck to the photosensitive material sample under the above two storage conditions,
After exposure to tungsten light of K for 5 seconds, processing was carried out under the following conditions using a rapid processing automatic developing machine GR-26SR manufactured by Konica Corporation into which a developing solution and a fixing solution having the following compositions were charged.

【0172】処理条件は以下の通りである。The processing conditions are as follows.

【0173】 現像液処方(1) 重亜硫酸ナトリウム 40g N-メチル-p-アミノフェノール硫酸塩 350mg エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 1g 塩化ナトリウム 5g 臭化カリウム 1.2g リン酸三ナトリウム 75g 5-メチルベンズトリアゾール 250mg 2-メルカプトベンズチアゾール 23mg ベンズトリアゾール 83mg ハイドロキノン 29g ジイソプロピルアミノエタノール 2.3ml アミン化合物Am−1 0.5ml 水酸化カリウム 使用液のpHを11.6にする量 使用時に水を加えて1lに仕上げた。Developer Formulation (1) Sodium bisulfite 40 g N-methyl-p-aminophenol sulfate 350 mg Disodium ethylenediaminetetraacetate 1 g Sodium chloride 5 g Potassium bromide 1.2 g Trisodium phosphate 75 g 5-methylbenztriazole 250 mg 2-Mercaptobenzthiazole 23 mg Benztriazole 83 mg Hydroquinone 29 g Diisopropylaminoethanol 2.3 ml Amine compound Am-1 0.5 ml Potassium hydroxide Amount to adjust the pH of the working solution to 11.6 Water was added at the time of use to make 1 L.

【0174】[0174]

【化47】 Embedded image

【0175】 定着液処方(1) チオ硫酸アンモニウム(59.5% W/V水溶液) 830ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 515mg 亜硫酸ナトリウム 63g ホウ酸 22.5g 酢酸(90% W/V水溶液) 82g クエン酸(50% W/V水溶液) 15.7g グルコン酸(50% W/W水溶液) 8.55g 硫酸アルミニウム(48% W/W水溶液) 13ml グルタルアルデヒド 3g 硫酸 使用液のpHを4.6にする量 使用時に水を加えて1lに仕上げた。Fixer Formulation (1) Ammonium thiosulfate (59.5% W / V aqueous solution) 830 ml Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 515 mg Sodium sulfite 63 g Boric acid 22.5 g Acetic acid (90% W / V aqueous solution) 82 g Citric acid (50% W aqueous solution) / V aqueous solution) 15.7 g Gluconic acid (50% W / W aqueous solution) 8.55 g Aluminum sulfate (48% W / W aqueous solution) 13 ml Glutaraldehyde 3 g Sulfuric acid Amount to bring the pH of the working solution to 4.6 Add water at the time of use to 1 L Finished.

【0176】 [0176]

【0177】得られた試料を光学濃度計コニカPDA-65で
濃度測定し、試料No.1の濃度2.5における感度を100と
した相対感度で示し、更に濃度0.1と2.5との正接をもっ
てガンマを表示した。6未満のガンマ値では使用不可能
であり、6.0以上10.0未満のガンマ値ではまだ不十分な
硬調性能である。ガンマ値10.0以上で超硬調な画像とな
り、十分に実用可能となる。
The density of the obtained sample was measured with an optical densitometer Konica PDA-65, and the relative sensitivity was defined as 100 when the sensitivity at a density of 2.5 of sample No. 1 was set to 100. Further, the gamma was indicated by the tangent of the density of 0.1 and 2.5. did. A gamma value of less than 6 cannot be used, and a gamma value of 6.0 or more and less than 10.0 still has insufficient high contrast performance. When the gamma value is 10.0 or more, the image becomes a super-high contrast image, and is sufficiently practical.

【0178】又、未露光部の黒ポツも40倍のルーペを使
って評価した。全く黒ポツの発生していないものを最高
ランク「5」とし、黒ポツの発生度に応じてランク
「4」、「3」、「2」、「1」とそのランクを順次下げて評
価した。なお、3.5は3と4の中間、4.5は4と5の中間
を意味する。ランク「1」及び「2」は実用上好ましく
ないレベルである。
The black spots in the unexposed areas were also evaluated using a magnifier of 40 times. When no black spots were generated, the highest rank was set to "5", and ranks "4", "3", "2", and "1" were sequentially reduced according to the degree of black spots and evaluated. . Note that 3.5 means the middle between 3 and 4, and 4.5 means the middle between 4 and 5. Ranks "1" and "2" are levels that are not practically desirable.

【0179】この結果を表1に示す。Table 1 shows the results.

【0180】[0180]

【表1】 [Table 1]

【0181】比較例2増感色素D−1及びD−2の代わ
りに下記増感色素D−3を銀1モル当たり15mg添加
し、前記処方(1)中の「ヒドラジン誘導体を例示化合物
D−1で包接化合物にしたもの」の代わりに表2に示す
ヒドラジン誘導体を用い、かつ該処方(1)に造核促進化
合物N-10の3×10-5モル/m2添加を加えたほかは感光
材料(1)〜(4)と同様にして感光材料(5)〜(8)を作製
した。感光材料(5)〜(8)について、現像液処方を下記
現像液処方(2)に変えたほかは比較例1と同様の処理を
行った(実験No.2-1〜2-4)。この結果を表2に示
す。
Comparative Example 2 In place of sensitizing dyes D-1 and D-2, the following sensitizing dye D-3 was added in an amount of 15 mg per mol of silver. A hydrazine derivative shown in Table 2 was used in place of "the inclusion compound obtained in 1", and 3 × 10 -5 mol / m 2 of the nucleation promoting compound N-10 was added to the formula (1). Prepared photosensitive materials (5) to (8) in the same manner as photosensitive materials (1) to (4). The photosensitive materials (5) to (8) were treated in the same manner as in Comparative Example 1 except that the developer formulation was changed to the following developer formulation (2) (Experiment Nos. 2-1 to 2-4). Table 2 shows the results.

【0182】[0182]

【化48】 Embedded image

【0183】 現像液処方(2) (組成A) 純水(イオン交換水) 150ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2g ジエチレングリコール 50g 亜硫酸カリウム(55% W/V水溶液) 100ml 炭酸カリウム 50g ハイドロキノン 15g 5-メチルベンゾトリアゾール 200ml 1-フェニル-5-メチルカプトテトラゾール 30mg 水酸化カリウム 使用液のpHを10.5にする量 臭化カリウム 4.5g (組成B) 純水(イオン交換水) 3ml ジエチレングリコール 50g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 25g 酢酸(90%水溶液) 0.3ml 5-ニトロインダゾール 110mg 1-フェニル-3-ピラゾリドン 500mg 現像液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成Bの順
に溶かし、1lに仕上げて用いた。
Developer formulation (2) (Composition A) Pure water (ion-exchanged water) 150 ml Disodium ethylenediaminetetraacetate 2 g Diethylene glycol 50 g Potassium sulfite (55% w / v aqueous solution) 100 ml Potassium carbonate 50 g Hydroquinone 15 g 5-methylbenzo Triazole 200ml 1-Phenyl-5-methylcaptotetrazole 30mg Potassium hydroxide Amount to adjust pH of working solution to 10.5 Potassium bromide 4.5g (Composition B) Pure water (ion-exchanged water) 3ml Diethylene glycol 50g Disodium ethylenediaminetetraacetate 25g Acetic acid (90% aqueous solution) 0.3 ml 5-Nitroindazole 110 mg 1-phenyl-3-pyrazolidone 500 mg When using a developing solution, the above composition A and composition B were dissolved in 500 ml of water in this order in order and finished to 1 liter.

【0184】[0184]

【表2】 [Table 2]

【0185】比較例3 感光材料として比較例1及び比較例2の感光材料(1)
〜(8)を用い、現像液として前記現像液処方(1)及び
(2)による現像液を用い、両者の組み合わせを下記表3
及び表4に示すとおりとし、定着液処方及び現像処理条
件を下記のとおりとしたほかは比較例1と同様の実験を
行った。この結果を下記表3及び表4に示す。
Comparative Example 3 The photosensitive materials of Comparative Examples 1 and 2 (1) were used as photosensitive materials.
To (8), and as the developer, the developer formulation (1) and
Using the developer according to (2), the combination of the two is shown in Table 3 below.
The same experiment as in Comparative Example 1 was performed except that the formulation of the fixing solution and the processing conditions were as shown below. The results are shown in Tables 3 and 4 below.

【0186】[0186]

【表3】 [Table 3]

【0187】[0187]

【表4】 [Table 4]

【0188】実施例1 (ハロゲン化銀写真乳剤Bの調製) 同時混合法を用いて沃臭化銀乳剤(銀1モル当たり沃化
銀2モル%)を調製した。この混合時にK2IrCl6を銀1
モル当たり8×10-7モル添加した。得られた乳剤は、平
均粒径0.20μmの立方体単分散度粒子(変動係数9%)
からなる乳剤であった。常法で水洗、脱塩した。脱塩後
の40℃のpAgは8.0であった。引き続きこの乳剤に銀1モ
ル当たり0.1モル%の沃化カリウム水溶液を添加して粒
子表面のコンバージョンを行い、その後銀1モル当り前
記増感色素D−1を200mgとD−2を10mg添加し、さら
に前記化合物〔A〕、〔B〕及び〔C〕の混合物を添加
して乳剤Bを得た。
Example 1 (Preparation of silver halide photographic emulsion B) A silver iodobromide emulsion (2 mol% of silver iodide per mol of silver) was prepared by a double jet method. During this mixing, K 2 IrCl 6 was added to silver 1
8 × 10 -7 mol was added per mol. The resulting emulsion is cubic monodispersity particles having an average particle size of 0.20 μm (coefficient of variation 9%).
The emulsion was composed of Washing and desalting were carried out in a conventional manner. The pAg at 40 ° C. after desalting was 8.0. Subsequently, a 0.1 mol% aqueous solution of potassium iodide per mol of silver was added to the emulsion to convert the surface of the grains, and then 200 mg of the sensitizing dye D-1 and 10 mg of D-2 were added per mol of silver. Further, a mixture of the compounds [A], [B] and [C] was added to obtain an emulsion B.

【0189】(ハロゲン化銀写真感光材料の調製) 下引加工剤のポリエチレンテレフタレート支持体の片面
に、下記処方(5)の感光性ハロゲン化銀乳剤層をゼラ
チン量が2.0g/m2、銀量が3.2g/m2になる様に塗設し、
更にその上に前記処方(2)の乳剤保護層をゼラチン量
が1.0g/m2になる様に塗設し、又反対側のもう一方の下
塗層上には前記処方(3)に従ってバッキング層をゼラ
チン量が2.4g/m2になる様に塗設し、更にその上に前記
処方(4)のバッキング保護層をゼラチン量が1g/m2
になる様に塗設した。
(Preparation of a silver halide photographic light-sensitive material) A photosensitive silver halide emulsion layer having the following formulation (5) was coated on one side of a polyethylene terephthalate support as an undercoating agent with a gelatin amount of 2.0 g / m 2 and silver by coating as the amount is 3.2g / m 2,
Further, an emulsion protective layer of the above formula (2) was coated thereon so that the amount of gelatin became 1.0 g / m 2, and a backing layer was formed on the other undercoat layer on the opposite side according to the above formula (3). The layer was coated so that the amount of gelatin was 2.4 g / m 2, and the backing protective layer of the above formula (4) was further coated thereon with the amount of gelatin of 1 g / m 2.
It was applied so as to become.

【0190】尚、炭酸ナトリウム及び/又はクエン酸に
て各層のpHを調整し、最外層の膜面pH面を調整し、表
5に示すように感光材料(14)〜(18)を作製した。
The pH of each layer was adjusted with sodium carbonate and / or citric acid, and the pH of the outermost layer was adjusted to prepare photosensitive materials (14) to (18) as shown in Table 5. .

【0191】 処方(5)(感光性ハロゲン化銀乳剤層組成) ゼラチン 2.0g/m2 ハロゲン化銀写真乳剤B 銀量 3.2g/m2 安定剤:4-メチル-6-ヒドロキシ-1,3,3a,7-テトラザインデン 30mg/m2 カブリ防止剤:アデニン 10mg/m2 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 5mg/m2 界面活性剤:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.1g/m2 界面活性剤:S−1 8mg/m2 表5に記載のヒドラジン誘導体をイソエリートP(商標、分岐型シクロデキス トリン、塩水港精糖(株)製)で包接化合物にしたもの 包接化合物中のヒドラジン誘導体の含有量 7×10-5モル/m2 イソエリートPの量 7×10-3モル/m2 ラテックスポリマーPoly-1(前記) 1g/m2 ポリエチレングリコール分子量4000 0.1g/m2 硬膜剤HA−1(前記) 60mg/m2 比較例4 処方(5)中のヒドラジン誘導体をイソエリートPで包
接しないで含有させたほかは感光材料(14)〜(18)と
同様にして感光材料(9)〜(13)を作製した。
Formulation (5) (Composition of photosensitive silver halide emulsion layer) Gelatin 2.0 g / m 2 Silver halide photographic emulsion B Silver amount 3.2 g / m 2 Stabilizer: 4-methyl-6-hydroxy-1,3 , 3a, 7- tetrazaindene 30 mg / m 2 antifoggant: adenine 10 mg / m 2 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 5 mg / m 2 surfactant: sodium dodecylbenzenesulfonate 0.1 g / m 2 surfactant : S-1 8 mg / m 2 A hydrazine derivative shown in Table 5 converted into an inclusion compound with Isoelite P (trademark, branched cyclodextrin, manufactured by Shimizu Port Refining Co., Ltd.) of the hydrazine derivative in the inclusion compound Content 7 × 10 −5 mol / m 2 Amount of isoelite P 7 × 10 −3 mol / m 2 Latex polymer Poly-1 (described above) 1 g / m 2 Polyethylene glycol molecular weight 4000 0.1 g / m 2 Hardener HA -1 (the) 60 mg / m 2 Comparative example 4 formulation (5) hydrazine derivatives in Soerito P well which contains not inclusion in to prepare a light-sensitive material in the same manner as the photosensitive material (14) to (18) (9) to (13).

【0192】これらの感光材料を、前記現像液処方
(1)の現像液を用い比較例1と同様に処理し評価し
た。結果を表5に示す。
These photosensitive materials were processed and evaluated in the same manner as in Comparative Example 1 using the developing solution of the developing solution formulation (1). Table 5 shows the results.

【0193】[0193]

【表5】 [Table 5]

【0194】実施例2 ハロゲン化銀写真乳剤Bの増感色素D−1とD−2のか
わりに前記D−3を銀1モル当り150mg添加し、処方
(5)の感光性ハロゲン化銀乳剤層に造核促進剤N−10
を3×10-5モル/m2添加した以外は比較例1と同様の方
法で試料を得た。
Example 2 A photosensitive silver halide emulsion of the formula (5) was prepared by adding 150 mg of the above-mentioned D-3 per mol of silver instead of the sensitizing dyes D-1 and D-2 of the silver halide photographic emulsion B. Nucleation accelerator N-10 in the layer
Was added in the same manner as in Comparative Example 1 except that 3 × 10 −5 mol / m 2 was added.

【0195】ただし、露光は、光学ウェッジと633nmの
干渉フィルターを介して10-5秒で行い、現像液処方は前
記現像液処方(2)を用いた。結果を表6に示す。
However, the exposure was performed for 10-5 seconds through an optical wedge and an interference filter of 633 nm, and the developer formulation used was the aforementioned developer formulation (2). Table 6 shows the results.

【0196】[0196]

【表6】 [Table 6]

【0197】実施例3 感光材料(9)〜(30)を用い、実施例1と同様の実験
を行った。ただし、現像液としては前記現像液処方
(1)及び(2)並びに下記(3)及び(4)の現像液
を使用し、感光材料と現像液との組み合わせを表7〜表
8に示すとおりとした。結果を表7〜表8に示す。
Example 3 The same experiment as in Example 1 was performed using the photosensitive materials (9) to (30). However, as the developing solution, the developing solution formulations (1) and (2) and the developing solutions of the following (3) and (4) are used. And The results are shown in Tables 7 and 8.

【0198】 現像液処方(3) エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩 1g 亜硫酸ナトリウム 60g ホウ酸 40g ハイドロキノン 35g 水酸化ナトリウム 8g 臭化ナトリウム 3g 5-メチルベンゾトリアゾール 0.2g 2-メルカプトベンゾチアゾール 0.1g 2-メルカプトベンゾチアゾール-5-スルホン酸 0.2g 1-フェニル-4,4-ジメチル-3-ピラゾリドン 0.2g イソエリートP 7g 水を加えて 1l 水酸化ナトリウムにてpH調整 10.8 現像液処方(4) 重亜硫酸ナトリウム 40g N-メチル-P-アミノフェノール硫酸塩 350mg エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 1g 塩化ナトリウム 5g 臭化カリウム 1.2g リン酸カリウム 27g リン酸カリウム 20g 5-メチルベンズトリアゾール 250mg 2-メルカプトベンズチアゾール 23mg ベンズトリアゾール 83mg ハイドロキノン 29g ジイソプロピルアミノエタノール 2.3ml イソエリートP 7g アミン化合物Am−1(前記) 0.5ml 水酸化カリウム 使用液のpHを11.6にする量 使用時に水を加えて1lに仕上げた。Developer formulation (3) Ethylenediaminetetraacetic acid sodium salt 1 g Sodium sulfite 60 g Boric acid 40 g Hydroquinone 35 g Sodium hydroxide 3 g Sodium bromide 3 g 5-methylbenzotriazole 0.2 g 2-mercaptobenzothiazole 0.1 g 2-mercaptobenzothiazole -5-sulfonic acid 0.2g 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone 0.2g Isoelite P 7g Add water and adjust pH with 1L sodium hydroxide 10.8 Developer formulation (4) Sodium bisulfite 40g N -Methyl-P-aminophenol sulfate 350mg Disodium ethylenediaminetetraacetate 1g Sodium chloride 5g Potassium bromide 1.2g Potassium phosphate 27g Potassium phosphate 20g 5-Methylbenztriazole 250mg 2-Mercaptobenzthiazole 23mg Benztriazole 83mg Hydroquinone 29g 2.3 ml of diisopropylaminoethanol Finished with 1l in water was added and the pH of the elite P 7 g amine compound Am-1 (the) 0.5 ml potassium hydroxide solution used when the amount used to 11.6.

【0199】[0199]

【表7】 [Table 7]

【0200】[0200]

【表8】 [Table 8]

【0201】実施例4 下引加工剤のポリエチレンテレフタレート支持体の片面
に、下記処方(6)の感光性のハロゲン化銀乳剤層をゼ
ラチン量が2.0g/m2、銀量が3.2g/m2になる様に塗設
し、更にその上に前記処方(2)の乳剤保護層をゼラチ
ン量が1.0g/m2になる様に塗設し、また、該乳剤層と反
対側の支持体面(下引加工済)には前記処方(3)のバ
ッキング層をゼラチン量が2.4g/m2になる様に塗設し、
更にその上に前記処方(4)のバッキング保護層をゼラ
チン量が1g/m2になる様に塗設した。
Example 4 A photosensitive silver halide emulsion layer having the following formulation (6) was coated on one side of a polyethylene terephthalate support as an undercoating agent with a gelatin content of 2.0 g / m 2 and a silver content of 3.2 g / m 2 . 2 and an emulsion protective layer of the above formula (2) is further coated thereon so that the amount of gelatin becomes 1.0 g / m 2 , and the surface of the support opposite to the emulsion layer is coated. In (undercoating finished), the backing layer of the above formula (3) is applied so that the gelatin amount becomes 2.4 g / m 2 ,
Further, a backing protective layer of the above formula (4) was applied thereon so that the amount of gelatin became 1 g / m 2 .

【0202】尚、炭酸ナトリウム及び/又はクエン酸に
て各層のpHを調整し、最外層の膜面pH面を調整し、表
9に示す感光材料(31)〜(36)を作製した。
The pH of each layer was adjusted with sodium carbonate and / or citric acid, and the pH of the outermost layer was adjusted to prepare photosensitive materials (31) to (36) shown in Table 9.

【0203】 処方(6)(感光性ハロゲン化銀乳剤層組成) ゼラチン 2.0g/m2 ハロゲン化銀乳剤A(前記) 銀量 3.2g/m2 安定剤:4-メチル-6-ヒドロキシ-1,3,3a,7-テトラザインデン 30mg/m2 カブリ防止剤:5-ニトロインダゾール 10mg/m2 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 5mg/m2 界面活性剤:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.1g/m2 界面活性剤:S−1(前記) 8mg/m2 ヒドラジン誘導体(表9に記載) 7×10-5モル/m2 一般式〔I〕の化合物(表9に記載) 1×10-4モル/m2 Formula (6) (Composition of photosensitive silver halide emulsion layer) Gelatin 2.0 g / m 2 Silver halide emulsion A (described above) Silver amount 3.2 g / m 2 Stabilizer: 4-methyl-6-hydroxy-1 , 3,3a, 7-tetrazaindene 30 mg / m 2 Antifoggant: 5-nitroindazole 10 mg / m 2 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 5 mg / m 2 Surfactant: sodium dodecylbenzenesulfonate 0.1 g / m 2 surfactant: S-1 (described above) 8 mg / m 2 hydrazine derivative (described in Table 9) 7 × 10 −5 mol / m 2 Compound of general formula [I] (described in Table 9) 1 × 10 − 4 mol / m 2

【0204】[0204]

【化49】 Embedded image

【0205】感光材料(31)〜(36)を用い、比較例1
と同様の実験を行った。ただし、現像液としては前記現
像液処方(1)の現像液を使用した。結果を表9に示
す。
Comparative Example 1 using photosensitive materials (31) to (36)
The same experiment was performed. However, as the developing solution, the developing solution of the developing solution formulation (1) was used. Table 9 shows the results.

【0206】[0206]

【表9】 [Table 9]

【0207】表9より、ハロゲン化銀写真感光材料のハ
ロゲン化銀乳剤層中に、ヒドラジン誘導体と一般式
〔I〕の化合物を共存させることによって経時による軟
調化及び黒ポツの発生を大幅におさえることができるこ
とがわかる。
From Table 9, it can be seen that the coexistence of the hydrazine derivative and the compound of the formula [I] in the silver halide emulsion layer of the silver halide photographic light-sensitive material significantly suppresses the softening over time and the occurrence of black spots. We can see that we can do it.

【0208】実施例5 一般式〔I〕の化合物を添加しないほかは実施例1の感
光材料(31)〜(36)と同様にして6種のハロゲン化銀
写真感光材料(37)〜(42)を作製した。
Example 5 Six kinds of silver halide photographic light-sensitive materials (37) to (42) were prepared in the same manner as the light-sensitive materials (31) to (36) of Example 1 except that the compound of the formula [I] was not added. ) Was prepared.

【0209】感光材料(37)〜(42)を用い、比較例1
と同様の実験を行った。ただし、現像液としては下記現
像液処方(5)の現像液を使用した。結果を表10に示
す。
Comparative Example 1 using photosensitive materials (37) to (42)
The same experiment was performed. However, a developer having the following developer formulation (5) was used as the developer. Table 10 shows the results.

【0210】 現像液処方(5) 重亜硫酸ナトリウム 40g N-メチル-p-アミノフェノール硫酸塩 350mg エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 1g 塩化ナトリウム 5g 臭化カリウム 1.2g リン酸カリウム 27g リン酸カリウム 20g 5-メチルベンゾトリアゾール 250mg 2-メルカプトベンゾチアゾール 23mg ベンゾトリアゾール 83mg ハイドロキノン 29g ジイソプロピルアミノエタノール 2.3ml アミノ化合物Am−1(前記) 0.5ml 一般式〔I〕の化合物(表10に記載) 7g 水酸化カリウム 使用液のpHを11.6にする量 使用時に水を加えて1lに仕上げた。Developer Formulation (5) Sodium bisulfite 40 g N-methyl-p-aminophenol sulfate 350 mg Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 1 g Sodium chloride 5 g Potassium bromide 1.2 g Potassium phosphate 27 g Potassium phosphate 20 g 5-methyl Benzotriazole 250mg 2-Mercaptobenzothiazole 23mg Benzotriazole 83mg Hydroquinone 29g Diisopropylaminoethanol 2.3ml Amino compound Am-1 (as described above) 0.5ml Compound of general formula [I] (described in Table 10) 7g Potassium hydroxide pH of working solution The amount was adjusted to 11.6. Water was added at the time of use to make 1 liter.

【0211】[0211]

【表10】 [Table 10]

【0212】表10より、ヒドラジン誘導体を含有するハ
ロゲン化銀写真感光材料をシクロデキストリン化合物を
含有する処理液で処理することにより、経時による軟調
化及び黒ポツの発生を大幅におさえることができること
がわかる。
From Table 10, it can be seen that, by treating a silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine derivative with a processing solution containing a cyclodextrin compound, softening over time and the occurrence of black spots can be significantly suppressed. Recognize.

【0213】実施例6 比較例2における前記処方(1)中の「ヒドラジン誘導
体を、表11に示すヒドラジン誘導体をサイクロフラクタ
ンCF−2又はカレックスアレーンKで包接した包接化
合物を代えたほかは比較例2の感光材料(5)〜(8)
と同様にして感光材料(43)〜(50)を作製し、その他
は比較例2と同様の実験を行った。その結果を表11に示
す。
Example 6 Comparative Example 2 was repeated except that the hydrazine derivative in the above-mentioned formulation (1) was replaced with the inclusion compound in which the hydrazine derivative shown in Table 11 was included in cyclofructan CF-2 or Karexarene K. Light-sensitive materials (5) to (8) of Comparative Example 2
In the same manner as in Comparative Example 2, photosensitive materials (43) to (50) were prepared. Table 11 shows the results.

【0214】[0214]

【表11】 [Table 11]

【0215】[0215]

【発明の効果】本発明によれば、ヒドラジン誘導体を含
有するハロゲン化銀写真感光材料の経時により軟調化
し、未露光部分に黒ポツが発生する欠点が改良される。
According to the present invention, the disadvantage that the silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine derivative is softened with the passage of time and black spots are formed in unexposed portions is improved.

【0216】更に本発明の効果について下記〜を付
記する。
Further, the effects of the present invention will be described below.

【0217】ヒドラジン誘導体は水に難溶性のものが
多く、塩酸塩として水に溶かしたり、適当な溶媒に溶か
して添加剤として使用する。しかし、本発明の一般式
〔I〕で表される化合物の水溶液中にはヒドラジン誘導
体を10-2モル/lもの濃度で十分に溶解できる。これに
よって、ヒドラジン誘導体の添加手段が容易になる。
Many hydrazine derivatives are hardly soluble in water, and are used as additives after being dissolved in water as a hydrochloride or dissolved in an appropriate solvent. However, the hydrazine derivative can be sufficiently dissolved in an aqueous solution of the compound represented by the general formula [I] of the present invention at a concentration of 10 -2 mol / l. This facilitates the means for adding the hydrazine derivative.

【0218】ヒドラジン誘導体は水溶液中で分解した
り、周りの雰囲気で非常に不安定であるが、本発明の一
般式〔I〕で表される化合物を存在させることにより、
ヒドラジン誘導体の安定性が増し、経時や高温放置によ
っても安定な画像形成が可能である。
The hydrazine derivative is decomposed in an aqueous solution or is very unstable in the surrounding atmosphere. However, the presence of the compound of the present invention represented by the general formula [I]
The stability of the hydrazine derivative is increased, and stable image formation is possible even with aging or left at high temperatures.

【0219】ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接
層にヒドラジン誘導体を含有するハロゲン化銀写真感光
材料(一般式〔I〕で表される化合物を含有しない)を
本発明の一般式〔I〕で表される化合物を含む現像液で
処理した場合にも、一般式〔I〕で表される化合物を感
光材料に含有させた場合と同様にハロゲン化銀写真感光
材料の安定性が増し、経時や高温放置によっても硬調で
黒ポツ発生の少ない安定した画像形成がなされる。
A silver halide photographic material (containing no compound represented by the general formula [I]) containing a hydrazine derivative in a silver halide emulsion layer and / or a layer adjacent thereto is prepared according to the general formula [I] of the present invention. When processed with a developer containing a compound represented by the formula (I), the stability of the silver halide photographic light-sensitive material is increased in the same manner as in the case where the compound represented by the general formula (I) is contained in the light-sensitive material. Even at high temperatures, stable image formation with high contrast and little black spots can be achieved.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−107680(JP,A) 特開 昭53−48735(JP,A) 特開 昭53−276050(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03C 1/06 501 G03C 1/06 502 G03C 1/04 G03C 5/29 501 G03C 5/305 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-5-107680 (JP, A) JP-A-53-48735 (JP, A) JP-A-53-276050 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 6 , DB name) G03C 1/06 501 G03C 1/06 502 G03C 1/04 G03C 5/29 501 G03C 5/305

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法
において、ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に
ヒドラジン誘導体を硬調化剤として含有し、分岐シクロ
デキストリン、シクロデキストリンポリマー又は下記一
般式〔I〕で表される化合物の存在下で処理することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 一般式〔I〕 CD−(O−R)l 〔式中、CDはシクロデキストリン残基を表し、Rはア
ルキル基、−R1COOH、−R1SO3H、−R1NH2又は−N
(R12を表し、R1は炭素数1〜5の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基を表し、lは1〜5の整数を表す。〕
1. A method for processing a silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support, wherein a hydrazine derivative is used as a high contrast agent in the silver halide emulsion layer and / or an adjacent layer thereof. A method for processing a silver halide photographic light-sensitive material, comprising processing in the presence of a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer or a compound represented by the following general formula [I]. In the general formula (I) CD- (O-R) l [wherein, CD represents a cyclodextrin residue, R represents an alkyl group, -R 1 COOH, -R 1 SO 3 H, -R 1 NH 2 or - N
(R 1 ) 2 , wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and 1 represents an integer of 1 to 5. ]
【請求項2】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層にヒドラジン
誘導体を硬調化剤として含有し、かつ分岐シクロデキス
トリン、シクロデキストリンポリマー又は下記一般式
〔I〕で表される化合物を含有することを特徴とするハ
ロゲン化銀写真感光材料。 一般式〔I〕 CD−(O−R)l 〔式中、CDはシクロデキストリン残基を表し、Rはア
ルキル基、−R1COOH、−R1SO3H、−R1NH2又は−N
(R12を表し、R1は炭素数1〜5の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基を表し、lは1〜5の整数を表す。〕
2. A silver halide photographic material having at least one silver halide emulsion layer on a support,
The silver halide emulsion layer and / or the layer adjacent thereto contain a hydrazine derivative as a high contrast agent, and contain a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer or a compound represented by the following general formula [I]. Silver halide photographic material. In the general formula (I) CD- (O-R) l [wherein, CD represents a cyclodextrin residue, R represents an alkyl group, -R 1 COOH, -R 1 SO 3 H, -R 1 NH 2 or - N
(R 1 ) 2 , wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and 1 represents an integer of 1 to 5. ]
【請求項3】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に、ヒドラジ
ン誘導体を硬調化剤として、かつ分岐シクロデキストリ
ン、シクロデキストリンポリマー、下記一般式〔I〕で
表される化合物、サイクロフラクタン又はカレックスア
レーンで包接した包接化合物として含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式〔I〕 CD−(O−R)1 〔式中、CDはシクロデキストリン残基を表し、Rはア
ルキル基、−R1COOH、−R1SO3H、−R1NH2又は−N
(R12を表し、R1は炭素数1〜5の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基を表し、lは1〜5の整数を表す。〕
3. A silver halide photographic material having at least one silver halide emulsion layer on a support,
Include the silver halide emulsion layer and / or its adjacent layer with a hydrazine derivative as a toning agent and with a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer, a compound represented by the following general formula [I], cyclofructan or curexarene A silver halide photographic light-sensitive material characterized by containing as a clathrate compound. In the general formula (I) CD- (O-R) 1 [wherein, CD represents a cyclodextrin residue, R represents an alkyl group, -R 1 COOH, -R 1 SO 3 H, -R 1 NH 2 or - N
(R 1 ) 2 , wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and 1 represents an integer of 1 to 5. ]
【請求項4】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン
化銀乳剤層及び/又はその隣接層に硬調化剤としてヒド
ラジン誘導体を含有するハロゲン化銀写真感光材料を処
理する処理剤において、該処理剤が分岐シクロデキスト
リン、シクロデキストリンポリマー又は下記一般式
〔I〕で表される化合物を含有することを特徴とするハ
ロゲン化銀写真感光材料の処理剤。 一般式〔I〕 CD−(O−R)l 〔式中、CDはシクロデキストリン残基を表し、Rはア
ルキル基、−R1COOH、−R1SO3H、−R1NH2又は−N
(R12を表し、R1は炭素数1〜5の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基を表し、lは1〜5の整数を表す。〕
4. A silver halide emulsion layer of a silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support and / or a layer adjacent to the silver halide emulsion layer containing a hydrazine derivative as a high contrast agent. A processing agent for processing a silver photographic light-sensitive material, wherein the processing agent contains a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer or a compound represented by the following general formula [I]. Agent. In the general formula (I) CD- (O-R) l [wherein, CD represents a cyclodextrin residue, R represents an alkyl group, -R 1 COOH, -R 1 SO 3 H, -R 1 NH 2 or - N
(R 1 ) 2 , wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and 1 represents an integer of 1 to 5. ]
【請求項5】 ヒドラジン誘導体又はヒドラジン誘導体
と分岐シクロデキストリン、シクロデキストリンポリマ
ー又は下記一般式〔I〕で表される化合物との包接化合
物を、ハロゲン化銀乳剤層を形成するハロゲン化銀乳剤
の化学熟成の終了後にハロゲン化銀乳剤に含有させるこ
とを特徴とする請求項1記載の処理方法。 一般式〔I〕 CD−(O−R)l 〔式中、CDはシクロデキストリン残基を表し、Rはア
ルキル基、−R1COOH、−R1SO3H、−R1NH2又は−N
(R12を表し、R1は炭素数1〜5の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基を表し、lは1〜5の整数を表す。〕
5. A silver halide emulsion for forming a silver halide emulsion layer, comprising a hydrazine derivative or an inclusion compound of a hydrazine derivative and a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer or a compound represented by the following general formula [I]. 2. The processing method according to claim 1, wherein the silver halide emulsion is contained in the silver halide emulsion after the completion of chemical ripening. In the general formula (I) CD- (O-R) l [wherein, CD represents a cyclodextrin residue, R represents an alkyl group, -R 1 COOH, -R 1 SO 3 H, -R 1 NH 2 or - N
(R 1 ) 2 , wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and 1 represents an integer of 1 to 5. ]
【請求項6】 ヒドラジン誘導体又はヒドラジン誘導体
と分岐シクロデキストリン、シクロデキストリンポリマ
ー又は下記一般式〔I〕で表される化合物との包接化合
物を、ハロゲン化銀乳剤層を形成するハロゲン化銀乳剤
の化学熟成の終了後にハロゲン化銀乳剤に含有させるこ
とを特徴とする請求項3記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 一般式〔I〕 CD−(O−R)l 〔式中、CDはシクロデキストリン残基を表し、Rはア
ルキル基、−R1COOH、−R1SO3H、−R1NH2又は−N
(R12を表し、R1は炭素数1〜5の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基を表し、lは1〜5の整数を表す。〕
6. A hydrazine derivative or an inclusion compound of a hydrazine derivative and a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer or a compound represented by the following general formula [I], 4. A silver halide photographic material according to claim 3, wherein said photographic material is incorporated into a silver halide emulsion after completion of chemical ripening. In the general formula (I) CD- (O-R) l [wherein, CD represents a cyclodextrin residue, R represents an alkyl group, -R 1 COOH, -R 1 SO 3 H, -R 1 NH 2 or - N
(R 1 ) 2 , wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and 1 represents an integer of 1 to 5. ]
【請求項7】 ヒドラジン誘導体と分岐シクロデキスト
リン、シクロデキストリンポリマー、下記一般式〔I〕
で表される化合物、サイクロフラクタン又はカレックス
アレーンとの包接化合物を、ハロゲン化銀乳剤層を形成
するハロゲン化銀乳剤の化学熟成の終了後に該ハロゲン
化銀乳剤に含有させることを特徴とする請求項3記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。 一般式〔I〕 CD−(O−R)l 〔式中、CDはシクロデキストリン残基を表し、Rはア
ルキル基、−R1COOH、−R1SO3H、−R1NH2又は−N
(R12を表し、R1は炭素数1〜5の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基を表し、lは1〜5の整数を表す。〕
7. A hydrazine derivative and a branched cyclodextrin, a cyclodextrin polymer, represented by the following general formula [I]
Wherein the compound represented by the formula (I), a cyclofructan or an inclusion compound with calexarene is contained in the silver halide emulsion after completion of chemical ripening of the silver halide emulsion forming the silver halide emulsion layer. Item 6. A silver halide photographic material according to item 3. In the general formula (I) CD- (O-R) l [wherein, CD represents a cyclodextrin residue, R represents an alkyl group, -R 1 COOH, -R 1 SO 3 H, -R 1 NH 2 or - N
(R 1 ) 2 , wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and 1 represents an integer of 1 to 5. ]
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