JP2864572B2 - Method for removing tertiary alkyl group - Google Patents
Method for removing tertiary alkyl groupInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、第三級アルキル基と水酸基とを芳香環上に
有する芳香族化合物の第三級アルキル基を特定の触媒の
作用により除去する方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention removes a tertiary alkyl group of an aromatic compound having a tertiary alkyl group and a hydroxyl group on an aromatic ring by the action of a specific catalyst. About the method.
p,p′−ビフェノールに代表されるビフェノール類
は、近年、エンジニアリングプラスチックス、耐熱性芳
香族系ポリエステル、液晶ポリマーポリエーテルイミド
等の原料として注目されている化合物である。このビフ
ェノール類は、二量化結合部位によって、いくつかの構
造異性体が生じる可能性があるが、上記の用途のために
は制御された異性体、とりわけp,p′−体の生成が求め
られる。このためには、通常2,6位に保護基を導入し、
二量化の終了後に、これを除去する方法がとられてい
る。例えば、最も基本的なp,p′−ビフェノール類化合
物である、p,p′−ビフェノールは、特開昭61−200935
号公報に記載されるように2,6−ジ−tert−ブチルフェ
ノールを二量化して、テトラブチルビフェノールを製造
し、こののちにtert−ブチル基をすべて除去することに
より製造する方法が一般的である。Biphenols represented by p, p'-biphenol are compounds that have recently attracted attention as raw materials for engineering plastics, heat-resistant aromatic polyesters, liquid crystal polymer polyetherimides, and the like. The biphenols may give rise to several structural isomers due to the dimerization binding site, but the above applications require the production of controlled isomers, especially the p, p'-form. . For this purpose, usually introduce a protecting group at the 2,6 position,
After the end of the dimerization, a method of removing the dimer is used. For example, the most basic p, p'-biphenol compound, p, p'-biphenol, is disclosed in JP-A-61-200935.
As described in the publication, a method is generally used in which 2,6-di-tert-butylphenol is dimerized to produce tetrabutylbiphenol, and thereafter, all tert-butyl groups are removed. is there.
ビフェノール類を得る際のtert−ブチル基の除去は、
例えば硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸触媒および
／又は酸性白土、活性白土の作用によって実施される反
応であった。Removal of the tert-butyl group when obtaining biphenols,
For example, the reaction was carried out by the action of an acid catalyst such as sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid and / or acid clay or activated clay.
一方、フェノール類やアルキルフェノール類は、合成
繊維、農薬、香料、酸化防止剤の原料等に用いられてい
る化合物である。特にtert−アルキルフェノール類はte
rt−アルキル基の結合部位によって、各用途のためには
制御された異性体のみの生成が求められる。このために
は、フェノール類にイソブチレン等の第３級アルキル化
剤を反応させて、tert−アルキルフェノール類の異性体
混合物を得、そのうちの不必要な異性体の第３級アルキ
ル基のみを除去して、必要な異性体だけを分離して得る
方法が一般的である。On the other hand, phenols and alkylphenols are compounds used as raw materials for synthetic fibers, agricultural chemicals, fragrances, antioxidants, and the like. In particular, tert-alkylphenols are te
Depending on the site of attachment of the rt-alkyl group, only controlled isomers are required for each application. To this end, phenols are reacted with a tertiary alkylating agent such as isobutylene to obtain a mixture of isomers of tert-alkylphenols, of which only unnecessary tertiary alkyl groups of the isomers are removed. In general, only the required isomer is separated and obtained.
その様な方法としては例えば３−および４−tert−ブ
チルフェノール混合物に硫酸、リン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、ナフタリンスルホン酸等の酸触媒を使用し、
４−tert−ブチルフェノールのみを脱アルキル化してフ
ェノールとなし、脱tert−ブチル化されない３−tert−
ブチルフェノールを蒸留により得る方法（特公昭50−11
895号公報）が知られている。As such a method, for example, an acid catalyst such as sulfuric acid, phosphoric acid, p-toluenesulfonic acid, or naphthalenesulfonic acid is used for a mixture of 3- and 4-tert-butylphenol,
Only 4-tert-butylphenol is dealkylated to form phenol, and 3-tert- which is not detert-butylated
A method for obtaining butylphenol by distillation (Japanese Patent Publication No. 50-11)
No. 895).
しかしながら、これらの脱tert−アルキル化の方法は
以下に述べる欠点を有している。すなわち、硫酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸等の触媒は
特に高温で金属の腐食性気体を発生するため、反応器の
材質として高価な耐食性の高い材質を使用するか、また
は、熱的に耐性の低いグラスライニング製を使用せざる
を得ないことがあげられる。これらの理由により、これ
らの方法は、工業的に効率が良い脱tert−アルキル化方
法としては、問題があった。However, these detert-alkylation methods have the following disadvantages. That is, sulfuric acid, p-
Catalysts such as toluene sulfonic acid and naphthalene sulfonic acid generate corrosive gas of metal especially at high temperature. It is necessary to use the product made from. For these reasons, these methods have problems as industrially efficient de-tert-alkylation methods.
しかも、従来のtert−アルキルビフェノール類の脱te
rt−アルキル化反応は高温（200℃以上）を必要とする
という欠点があるし、tert−アルキルフェノール異性体
の混合物の脱tert−アルキル化反応は、触媒が高温下で
分解して活性が低下するので、充分に脱tert−アルキル
化が行われないという欠点をも有している。In addition, conventional tert-alkylbiphenols can be
The rt-alkylation reaction has the disadvantage of requiring a high temperature (200 ° C. or higher), and the de-tert-alkylation reaction of a mixture of tert-alkylphenol isomers decomposes at a high temperature to reduce the activity. Therefore, there is also a disadvantage that the detert-alkylation is not sufficiently performed.
本発明者等は、この様な状況に鑑み、芳香環上に第三
級アルキル基と水酸基とを有する芳香族化合物の第三級
アルキル基を除去する方法について鋭意研究した結果、
酸触媒として電子吸引性の官能基を有するアリールスル
ホン酸が顕著な触媒活性を示して、腐食性気体の発生も
なく反応装置を選ばずに、脱tert−アルキル化反応が行
えることを見い出し、本発明を完成するに至った。In view of such circumstances, the present inventors have conducted intensive studies on a method for removing a tertiary alkyl group of an aromatic compound having a tertiary alkyl group and a hydroxyl group on an aromatic ring,
An aryl sulfonic acid having an electron-withdrawing functional group as an acid catalyst has remarkable catalytic activity, has been found to be capable of performing a tert-alkylation reaction without generating a corrosive gas and without selecting a reaction apparatus. The invention has been completed.
即ち、本発明は、芳香環上に直接結合した第３級アル
キル基と水酸基とを有する芳香族化合物（Ａ）の脱第３
級アルキル化反応を行うに当り、カルボキシル基、ニト
ロ基、フロロ基、ブロモ基及びクロロ基から選択される
電子吸引性の官能基を有するアリールスルホン酸（Ｂ）
を触媒として用いることを特徴とする前記芳香族化合物
（Ａ）の第３級アルキル基の除去方法を提供するもので
ある。That is, the present invention provides a method for removing an aromatic compound (A) having a tertiary alkyl group and a hydroxyl group bonded directly on an aromatic ring.
Arylsulfonic acid (B) having an electron-withdrawing functional group selected from a carboxyl group, a nitro group, a fluoro group, a bromo group and a chloro group in performing a lower alkylation reaction
A method for removing a tertiary alkyl group of the aromatic compound (A), wherein
本発明に係る芳香族化合物（Ａ）とは、芳香環上に直
接結合した第３級アルキル基と、水酸基とを有する芳香
族化合物である。芳香族化合物（Ａ）としては、tert−
ブチル基、tert−アミル基、tert−オクチル基等の第３
級アルキル基を有する芳香族化合物、例えば４−tert−
ブチルフェノール、２−tert−ブチルフェノール、２−
メチル−４−tert−ブチルフェノール、３−メチル−２
−tert−ブチルフェノール、2,4−ジ−tert−ブチルフ
ェノール、2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2,4,6−
トリ−tert−ブチルフェノール、3,4−ジ−tert−ブチ
ルフェノール、2,3−ジ−tert−ブチルフェノール、２
−メチル−3,4−ジ−tert−ブチルフェノール、３−メ
チル−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、3,5−ジメチ
ル−2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、3,5−ジメチル
−2,4,6−トリ−tert−ブチルフェノール、３−メチル
−4,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2,4−ジメチル−
６−tert−ブチルフェノール、３−メチル−６−tert−
ブチルフェノール、４−メチル−２−tert−ブチルフェ
ノール等の第３級アルキル基を有するモノフェノール、
3,3′,5,5′−テトラ−tert−ブチル−4,4′−ジヒドロ
キシビフェニル、3,3′−ジメチル−5,5′−ジ−tert−
ブチル−4,4′−ジヒドロキシビフェニル、3,3′,5,5′
−テトラ−tert−アミル−4,4′−ジヒドロキシビフェ
ニル、3,3′−ジエチル−5,5′−ジ−tert−ブチル−4,
4′−ジヒドロキシビフェニル、3,3′−ジイソプロピル
−5,5′−ジ−tert−アミル−4,4′−ジヒドロキシビフ
ェニル等の第３級アルキル基を有するビフェノールがあ
げられる。The aromatic compound (A) according to the present invention is an aromatic compound having a tertiary alkyl group directly bonded on an aromatic ring and a hydroxyl group. As the aromatic compound (A), tert-
Tertiary groups such as butyl, tert-amyl, tert-octyl, etc.
Aromatic compounds having a lower alkyl group, for example, 4-tert-
Butylphenol, 2-tert-butylphenol, 2-
Methyl-4-tert-butylphenol, 3-methyl-2
-Tert-butylphenol, 2,4-di-tert-butylphenol, 2,6-di-tert-butylphenol, 2,4,6-
Tri-tert-butylphenol, 3,4-di-tert-butylphenol, 2,3-di-tert-butylphenol, 2
-Methyl-3,4-di-tert-butylphenol, 3-methyl-2,6-di-tert-butylphenol, 3,5-dimethyl-2,6-di-tert-butylphenol, 3,5-dimethyl-2 , 4,6-tri-tert-butylphenol, 3-methyl-4,6-di-tert-butylphenol, 2,4-dimethyl-
6-tert-butylphenol, 3-methyl-6-tert-
Monophenols having a tertiary alkyl group such as butylphenol and 4-methyl-2-tert-butylphenol,
3,3 ', 5,5'-tetra-tert-butyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3'-dimethyl-5,5'-di-tert-
Butyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3 ', 5,5'
-Tetra-tert-amyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3'-diethyl-5,5'-di-tert-butyl-4,
Biphenols having a tertiary alkyl group such as 4'-dihydroxybiphenyl and 3,3'-diisopropyl-5,5'-di-tert-amyl-4,4'-dihydroxybiphenyl are exemplified.
この他、2,2−ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert
−ブチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシ−
3,5−ジ−tert−ブチルフェニル）メタン、2,2−ビス
（４−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルフェニル）
パーフルオロプロパン、１−ヒドロキシ−２−tert−ブ
チルナフタレン、２−ヒドロキシ−１−tert−ブチルナ
フタレン、1,5−ジヒドロキシ−2,6−ジ−tert−ブチル
ナフタレン、2,6−ジヒドロキシ−1,5−ジ−tert−ブチ
ルナフタレン等も挙げられる。In addition, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-di-tert.
-Butylphenyl) propane, bis (4-hydroxy-
3,5-di-tert-butylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylphenyl)
Perfluoropropane, 1-hydroxy-2-tert-butylnaphthalene, 2-hydroxy-1-tert-butylnaphthalene, 1,5-dihydroxy-2,6-di-tert-butylnaphthalene, 2,6-dihydroxy-1 And 5-di-tert-butylnaphthalene.
上記芳香族化合物（Ａ）の内、第３級アルキル基を有
するモノフェノールとしては、オルト位およびパラ位に
位置する第３級アルキル基が、脱第３級アルキル化が極
めて良好に除去することができる。よって、オルト位に
第３級アルキル基を有するフェノール、パラ位に第３級
アルキル基を有するフェノール、或はオルト位とパラ位
の両方に第３級アルキル基を有するフェノール、即ち、
前記芳香族化合物（Ａ）中、2,4,6位の少なくとも一ヶ
所に第３級アルキル基を有するものが好ましい。Among the aromatic compounds (A), as the monophenol having a tertiary alkyl group, the tertiary alkyl groups located at the ortho position and the para position can be removed very well by detertiary alkylation. Can be. Thus, a phenol having a tertiary alkyl group at the ortho position, a phenol having a tertiary alkyl group at the para position, or a phenol having a tertiary alkyl group at both the ortho and para positions, that is,
Among the aromatic compounds (A), those having a tertiary alkyl group in at least one of the 2, 4, and 6 positions are preferred.
本発明では、この性質を利用して沸点差の小さい複数
種の異性体を容易に、かつ、収率よく単離できる。In the present invention, by utilizing this property, a plurality of isomers having a small difference in boiling point can be easily isolated with a high yield.
例えば、フェノールをアルキル化してメタ−第３級ア
ルキル化フェノールを製造する場合、通常、メタ位に第
３級アルキル基とパラ位に第３級アルキル基を有するも
のとの混合物として得られるが、本発明の除去方法を施
すことによって、パラ位に第３級アルキル基を有するフ
ェノールの脱アルキル化を良好に行うことができる。そ
の結果、メタ位に第３級アルキル基を有するものを効率
よく単離できる。For example, when a phenol is alkylated to produce a meta-tertiary alkylated phenol, it is usually obtained as a mixture of a tertiary alkyl group at the meta position and a tertiary alkyl group at the para position. By performing the removal method of the present invention, phenol having a tertiary alkyl group at the para position can be satisfactorily dealkylated. As a result, those having a tertiary alkyl group at the meta position can be efficiently isolated.
また、沸点差の近いメタクレゾールとパラクレゾール
とを分離する場合にも、先ず、それらの混合物を第３級
アルキル化反応を行い、それぞれの化合物のオルト位お
よびパラ位に第３級アルキル基を導入する。これらの第
３級アルキル化物の沸点差は、第３級アルキル化反応前
に比べて大きくなっているので、精留で簡単に分離でき
る。分離後、それぞれ本発明の除去方法によって、脱第
３級アルキル化を行えば、メタクレゾールとパラクレゾ
ールとを容易に、かつ、効率よく分離できる。Also, when separating meta-cresol and para-cresol having a close difference in boiling point, first, a tertiary alkylation reaction is performed on the mixture thereof, and a tertiary alkyl group is added to the ortho and para positions of each compound. Introduce. Since the boiling point difference between these tertiary alkylated products is larger than before the tertiary alkylation reaction, they can be easily separated by rectification. After the separation, if the tertiary alkylation is carried out by the removal method of the present invention, meta-cresol and para-cresol can be easily and efficiently separated.
芳香族化合物（Ａ）は、単独使用でも二種以上の併用
でもよい。The aromatic compound (A) may be used alone or in combination of two or more.
本発明に係るアリールスルホン酸（Ｂ）とは、カルボ
キシル基、ニトロ基、フロロ基、ブロモ基及びクロロ基
から選択される電子吸引性の官能基を有するアリールス
ルホン酸である。アリールスルホン酸の構造は特に限定
されるものではないが、例えば、５−スルホイソフタル
酸、４−スルホイソフタル酸、３−スルホテレフタル
酸、３−スルホ安息香酸、3,5−ジスルホ安息香酸、４
−クロロベンゼンスルホン酸、３−ニトロベンゼンスル
ホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、４−ニトロト
ルエンスルホン酸、２−クロロ−５−ニトロトルエン−
４−スルホン酸など４−スルホナフタレン−１−カルボ
ン酸、４−スルホナフタレン−２−カルボン酸、1,2−
ナフタレンジスルホン酸、1,8−ジスルホナフタレン−
３−カルボン酸、４−ブロモベンゼンスルホン酸等が挙
げられる。The arylsulfonic acid (B) according to the present invention is an arylsulfonic acid having an electron-withdrawing functional group selected from a carboxyl group, a nitro group, a fluoro group, a bromo group and a chloro group. Although the structure of the arylsulfonic acid is not particularly limited, for example, 5-sulfoisophthalic acid, 4-sulfoisophthalic acid, 3-sulfoterephthalic acid, 3-sulfobenzoic acid, 3,5-disulfobenzoic acid,
-Chlorobenzenesulfonic acid, 3-nitrobenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 4-nitrotoluenesulfonic acid, 2-chloro-5-nitrotoluene-
4-sulfonaphthalene-1-carboxylic acid such as 4-sulfonic acid, 4-sulfonaphthalene-2-carboxylic acid, 1,2-
Naphthalenedisulfonic acid, 1,8-disulfonaphthalene-
3-carboxylic acid, 4-bromobenzenesulfonic acid and the like.
この他、上記した如き電子吸引基を有するフェナント
レンスルホン酸、ナフタセンスルホン酸、アントラセン
スルホン酸等が挙げられる。In addition, phenanthrene sulfonic acid, naphthacene sulfonic acid, anthracene sulfonic acid and the like having an electron withdrawing group as described above can be used.
アリールスルホン酸（Ｂ）は、単独使用でも二種以上
の併用でもよい。The arylsulfonic acid (B) may be used alone or in combination of two or more.
本発明において、芳香族化合物（Ａ）の脱第３級アル
キル基の除去とは、芳香環上に直接結合した第３級アル
キル基が少なくとも一つは除去されればよく、芳香環上
の全ての第３級アルキル基が除去されてもよい。In the present invention, the removal of the tertiary alkyl group from the aromatic compound (A) means that at least one tertiary alkyl group directly bonded to the aromatic ring needs to be removed. May be removed.
本発明に係る芳香族化合物（Ａ）の脱第３級アルキル
化反応は、触媒として上記アリールスルホン酸（Ｂ）を
用いる以外は、公知慣用の方法や反応条件の適用も可能
であり、特に限定されるものではない。In the detertiary alkylation reaction of the aromatic compound (A) according to the present invention, known methods and reaction conditions can be applied, except that the above-mentioned arylsulfonic acid (B) is used as a catalyst. It is not something to be done.
脱第３級アルキル化反応は、一般的には、例えば、有
機溶剤の存在下又は有機溶剤を用いることなしに、反応
温度100〜250℃で、３〜12時間、アリールスルホン酸
（Ｂ）を触媒として、芳香族化合物（Ａ）の第３級アル
キル基の脱離を行えばよい。The detertiary alkylation reaction is generally performed, for example, by reacting the arylsulfonic acid (B) at a reaction temperature of 100 to 250 ° C. for 3 to 12 hours in the presence of or without using an organic solvent. The tertiary alkyl group of the aromatic compound (A) may be eliminated as a catalyst.
反応時に用いるアリールスルホン酸（Ｂ）の使用量
は、特に限定されるものではないが、芳香族化合物
（Ａ）100重量部に対して、通常0.05〜５重量部、好ま
しくは0.1〜２重量部である。The amount of the arylsulfonic acid (B) used at the time of the reaction is not particularly limited, but is usually 0.05 to 5 parts by weight, preferably 0.1 to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the aromatic compound (A). It is.
アリールスルホン酸（Ｂ）の添加方法としては、化合
物をそのまま添加する、有機溶剤溶液として添加するま
たは、水溶液として添加する、のいずれの方法も採用で
きる。As a method for adding the arylsulfonic acid (B), any method of adding the compound as it is, adding it as an organic solvent solution, or adding it as an aqueous solution can be adopted.
反応に用いることのできる有機溶剤としては、例えば
トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ｐ
−シメン等の芳香族炭化水素系溶剤、アニソール、フェ
ネトール等のエーテル系溶剤等が挙げられる。反応に有
機溶剤を用いる場合におけるその使用量は、芳香族化合
物（Ａ）100重量部に対して、通常50重量部以上、好ま
しくは50〜300重量部である。Examples of the organic solvent that can be used in the reaction include toluene, xylene, mesitylene, ethylbenzene, p
-Aromatic hydrocarbon solvents such as cymene and ether solvents such as anisole and phenetole. When an organic solvent is used in the reaction, the amount is usually 50 parts by weight or more, preferably 50 to 300 parts by weight, per 100 parts by weight of the aromatic compound (A).
脱第３級アルキル化反応条件は、用いるアリールスル
ホン酸（Ｂ）の種類、使用量、有機溶剤の有無等の組み
合せによって異るので適宜選択すればよい。The conditions for the detertiary alkylation reaction vary depending on the combination of the type and amount of the arylsulfonic acid (B) used, the presence or absence of an organic solvent, and the like, and may be appropriately selected.
次に、芳香族化合物（Ａ）のうち、フェノールとビフ
ェノールについて、反応条件や分離方法について各別に
具体的に説明する。Next, among the aromatic compounds (A), phenol and biphenol will be specifically described in terms of reaction conditions and separation methods.
第３級アルキル基を有するモノフェノールの脱第３級
アルキルキル化に好適なアリールスルホン酸（Ｂ）は、
用いる第３級アルキル基を有するモノフェノールの種類
や反応形態により若干左右されることがあるが、スルホ
イソフタル酸である。Arylsulfonic acids (B) suitable for the detertiary alkylation of monophenols having tertiary alkyl groups are:
The sulfoisophthalic acid may be slightly influenced by the type of monophenol having a tertiary alkyl group and the reaction form.
第３級アルキル基を有するモノフェノールの脱第３級
アルキル化反応は、通常有機溶剤の存在しない系で、常
圧下または減圧下で実施されるが、常圧の場合、脱第３
級アルキル化により生じ、反応液中溶解しているオレフ
ィンガスを系外に追い出す効果を高めるため、更に窒素
ガス等の不活性ガスを反応系中に導入しつつ、反応を行
うのが好ましい。The detertiary alkylation reaction of a monophenol having a tertiary alkyl group is usually carried out in a system free of an organic solvent under normal pressure or reduced pressure.
In order to enhance the effect of displacing the olefin gas generated by the lower alkylation and dissolved in the reaction solution to the outside of the system, it is preferable to carry out the reaction while further introducing an inert gas such as nitrogen gas into the reaction system.
この際の反応温度は、脱第３級アルキル化速度が適当
で、発生するオレフィンガスの量の調節が容易な点で、
180〜230℃の範囲内が好ましい。The reaction temperature at this time is such that the detertiary alkylation rate is appropriate and the amount of olefin gas generated can be easily adjusted.
The temperature is preferably in the range of 180 to 230 ° C.
反応中に留出して来る留分は、例えば、コンデンサー
等で冷却して回収することができる。一般にこの留分
は、第３級アルキル基の一部又全部（通常、水酸基のオ
ルト位及び／又はパラ位の第３級アルキル基）が除去さ
れたフェノールを主成分とするものである。The fraction distilling out during the reaction can be recovered by cooling with, for example, a condenser. In general, this fraction is mainly composed of phenol from which part or all of the tertiary alkyl group (usually, the tertiary alkyl group at the ortho and / or para position of the hydroxyl group) has been removed.
又、脱第３級アルキル化反応で生成するオレフィンガ
スはコールドトラップを利用して回収することができ
る。Further, the olefin gas generated by the detertiary alkylation reaction can be recovered using a cold trap.
上記反応終了後に得られる残渣に、反応に用いたアリ
ールスルホン酸（Ｂ）と等モル数以上の塩基性化合物を
添加して、中和を行った後、常圧下または減圧下で、精
留を行えば留分として必要とする化合物を分離すること
ができる。又、中和を行わなくともアリールスルホン酸
（Ｂ）の活性が低くなる温度で精留を行えば、留分とし
て必要とする化合物を分離でき、この場合の残渣は、再
度脱アルキル化触媒として使用することも可能である。After the arylsulfonic acid (B) used in the reaction is added to the residue obtained after completion of the reaction, a basic compound in an equimolar number or more is added to neutralize the mixture, and then rectification is performed under normal pressure or reduced pressure. If it is carried out, compounds required as a fraction can be separated. If rectification is carried out at a temperature at which the activity of the arylsulfonic acid (B) becomes low without neutralization, the compound required as a fraction can be separated, and the residue in this case is used again as a dealkylation catalyst. It is also possible to use.
アリールスルホン酸（Ｂ）の中和に使用できる塩基性
化合物は、特に限定されるものではないが、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
バリウム等の無機塩基、アンモニア、ジメチルアミン、
トリエチルアミン等の有機塩基のいずれも使用できる
が、高温でも安定な無機塩基が好ましい。The basic compound that can be used for neutralization of the arylsulfonic acid (B) is not particularly limited. For example, inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, barium carbonate, ammonia, dimethylamine,
Any organic base such as triethylamine can be used, but an inorganic base that is stable even at high temperatures is preferred.
上記した第３級アルキル基を有するモノフェノールの
脱第３級アルキル化反応の条件等は、第３級アルキル基
のみを有するモノフェノールだけでなく、第１級及び／
又は第２級のアルキル基と第３級アルキル基とを併用す
る化合物についても適用することができるのは勿論であ
る。The conditions for the detertiary alkylation reaction of the above-mentioned monophenol having a tertiary alkyl group include not only monophenol having only a tertiary alkyl group but also primary and / or
Alternatively, it is needless to say that the present invention can be applied to a compound in which a secondary alkyl group and a tertiary alkyl group are used in combination.
第３級アルキル基を有するビフェノールの脱第３級ア
ルキル化に好適なアリールスルホン酸（Ｂ）は、用いる
第３級アルキル基を有するビフェノールの種類や反応形
態により若干左右されることがあるが、ニトロベンゼン
スルホン酸である。The arylsulfonic acid (B) suitable for detertiary alkylation of a biphenol having a tertiary alkyl group may slightly depend on the type and reaction form of the biphenol having a tertiary alkyl group, Nitrobenzenesulfonic acid.
本発明による第３級アルキル基を有するビフェノール
の脱第３級アルキル化反応は、一般的には115〜180℃の
反応温度で、第３級アルキル基を有するビフェノール
が、一般に有機溶剤に可溶であることから、有機溶剤に
溶解された状態で通常実施される。ここで選択される溶
剤は上記した有機溶剤に限らず、反応に不活性なもので
あればよく、沸点115℃以上、なかでも135℃以上のもの
が望ましい。The tertiary alkylation reaction of biphenol having a tertiary alkyl group according to the present invention is generally carried out at a reaction temperature of 115 to 180 ° C., and the biphenol having a tertiary alkyl group is generally soluble in an organic solvent. Therefore, it is usually carried out in a state of being dissolved in an organic solvent. The solvent selected here is not limited to the above-mentioned organic solvents, and any solvent may be used as long as it is inert to the reaction.
脱第３級アルキル化に要する時間はアリールスルホン
酸（Ｂ）の使用量によって変化するが変質の第３級アル
キル基を有するビフェノール100重量部に対して0.3重量
部を用いる場合には、およそ８時間を要し、触媒の増加
によりこれよりも短縮することが可能である。The time required for the detertiary alkylation varies depending on the amount of the arylsulfonic acid (B) used. However, when 0.3 parts by weight is used per 100 parts by weight of the biphenol having an altered tertiary alkyl group, about 8 parts are required. It takes time and can be shortened by increasing the number of catalysts.
脱離させるべき第３級アルキル基がtert−ブチル基で
ある場合、反応中に発生するイソブチレンは熱交換器を
経て系外にガスとして除去される。反応中に発生するイ
ソブチレンガスの流量の制御には触媒の分割添加及び／
又は反応系の昇温操作が有効である。When the tertiary alkyl group to be eliminated is a tert-butyl group, isobutylene generated during the reaction is removed as a gas outside the system via a heat exchanger. In order to control the flow rate of the isobutylene gas generated during the reaction, divided addition of the catalyst and / or
Alternatively, a heating operation of the reaction system is effective.
脱第３級アルキル化反応の進行に伴い反応液からは白
色結晶が析出してくる場合もあるが、これはほぼ100％
目的とする脱第三級アルキル化の完了したビフェノール
であり、部分的にせよ第三級アルキル基を保持している
ビフェノールは液相中にのみ存在することとなる。脱第
三級アルキル基化反応は、一般に100％の進行を期待す
る場合には、非常に長時間のあるいは高温の条件を必要
とするが、本発明の方法では目的とする完全に第三級ア
ルキル基の除去されたビフェノールと部分的にせよ第三
級アルキル基を残す原料あいは中間体との分離が上記の
理由により容易であるため、反応の進行を100％進行さ
せなくとも、例えば95％以上といった一定程度以上の脱
第三級アルキル基化反応を行った後、過によって未反
応物を除去し、液に再び原料である第三級アルキル基
を有するビフェノールを供給し、再度反応させることに
よりプロセスとしてきわめて効率的な方法を採用するこ
とができる。この時、触媒として用いるアリールスルホ
ン酸（Ｂ）は、第３級アルキル基を有するフェノールの
場合と同様に塩基性化合物で中和してもよいが、ほとん
ど完全に液中に回収することができるので通常中和は
行わない。この液は次の反応の際に特に新たに触媒を
追加することなしに再使用が可能であり、経済的であ
る。As the tertiary alkylation reaction proceeds, white crystals may precipitate from the reaction solution, but this is almost 100%.
The biphenol that has been subjected to the desired detertiary alkylation and that at least partially retains the tertiary alkyl group will be present only in the liquid phase. The detertiary alkylation reaction generally requires very long or high-temperature conditions when 100% progress is expected. However, the method of the present invention requires completely tertiary tertiary alkylation. For the above-mentioned reasons, it is easy to separate the biphenol from which the alkyl group has been removed and the raw material which leaves a tertiary alkyl group at least partially from the intermediate. % Of the tertiary alkyl group-forming reaction of a certain degree or more, such as% or more, remove unreacted substances by excess, supply the raw material as the starting material, the biphenol having a tertiary alkyl group, and react again. As a result, a very efficient method can be adopted as the process. At this time, the arylsulfonic acid (B) used as a catalyst may be neutralized with a basic compound as in the case of the phenol having a tertiary alkyl group, but can be almost completely recovered in the liquid. Therefore, neutralization is not usually performed. This solution can be reused in the next reaction without particularly adding a new catalyst, and is economical.
上記した第３級アルキル基を有するビフェノールの脱
第３級アルキル化反応の条件等は、第３級アルキル基の
みを有するフェノールだけでなく、第１級及び／又は第
２級のアルキル基と第３級アルキル基とを併用する化合
物についても適用することができる。The conditions for the detertiary alkylation reaction of the biphenol having a tertiary alkyl group described above include not only phenol having only a tertiary alkyl group but also a primary and / or secondary alkyl group and a secondary alkyl group. The present invention can be applied to a compound used in combination with a tertiary alkyl group.
次に本発明を実施例により詳細に説明する。 Next, the present invention will be described in detail with reference to examples.
以下、特に断わりのない限り、「部」は「重量部」
を、「％」は「重量％」を表わすものである。Hereinafter, “parts” are “parts by weight” unless otherwise specified.
And "%" represents "% by weight".
実施例１ 攪拌装置、温度計および冷却コンデンサーを備えた50
0mlのガラス製フラスコにモノ−tert−ブチルフェノー
ル（75％の３−tert−ブチルフェノールと25％の４−te
rt−ブチルフェノールの混合物）150g（1.0モル）と５
−スルホイソフタル酸0.98g（４×10-3モル）を加え、
昇温し、220℃で７時間反応させた。フェノールを主留
とする反応留分を回収し、イソブチレンガスをコールド
ラップで回収した。反応後、残渣をガスクロマトグラフ
により分析すると、３−tert−ブチルフェノール対４−
tert−ブチルフェノールの比率は95.2:4.8であった。Example 1 50 equipped with a stirrer, thermometer and cooling condenser
In a 0 ml glass flask, mono-tert-butylphenol (75% 3-tert-butylphenol and 25% 4-te
mixture of rt-butylphenol) 150 g (1.0 mol) and 5
0.98 g (4 × 10 -3 mol) of sulfoisophthalic acid are added,
The temperature was raised and the reaction was carried out at 220 ° C. for 7 hours. A reaction fraction mainly containing phenol was collected, and isobutylene gas was collected by cold wrap. After the reaction, the residue was analyzed by gas chromatography to find that 3-tert-butylphenol vs. 4-tert-butylphenol.
The ratio of tert-butylphenol was 95.2: 4.8.
尚、反応中に腐食性気体は発生しなかった。 No corrosive gas was generated during the reaction.
実施例２ ｐ−クロルベンゼンスルホン酸を４×10-3モル用いる
以外は、実施例１と全く同様にして反応を行い、その残
渣をガスクロマトグラフにより分析した。その結果を第
１表に示した。Example 2 A reaction was carried out in exactly the same manner as in Example 1 except that 4 × 10 -3 mol of p-chlorobenzenesulfonic acid was used, and the residue was analyzed by gas chromatography. The results are shown in Table 1.
尚、反応中に腐食性気体は発生しなかった。 No corrosive gas was generated during the reaction.
比較例１〜２ ｐ−トルエンスホン酸または硫酸をそれぞれ４×10-3
モル用いる以外は、実施例１と全く同様にして反応を行
い、その残渣をガスクロマトグラフにより分析した。そ
の結果を第１表に示した。Comparative Examples 1-2 Each of p-toluenesulfonic acid or sulfuric acid was added to 4 × 10 −3.
The reaction was carried out in exactly the same manner as in Example 1 except for using a mole, and the residue was analyzed by gas chromatography. The results are shown in Table 1.
尚、反応中に腐食性気体の発生が見られた。 In addition, generation of corrosive gas was observed during the reaction.
実施例３ 攪拌装置、温度計および冷却コンデンサーを備えた１
のガラス製フラスコにモノ−tert−ブチルフェノール
（75％の３−tert−ブチルフェノールおよび25％の４−
tert−ブチルフェノールの混合物）800g（5.3モル）と
５−スルホイソフダル酸4.0g（1.6×10-2モル）を加
え、220〜230℃で窒素ガスを25ml/分で導入しながら10
時間反応させて、残渣600g、反応中留出する留分145g
と、反応中発生したイソブチレンガスについてはドライ
アイス−アセトンのトラップにて、48gを回収した。
尚、反応中に腐食性気体は発生しなかった。上記残渣と
反応中留出する留分をガスクロマトグラフにより分析す
ると、残渣の組成は、フェノール３％、モノ−tert−ブ
チルフェノール82％、ジ−tert−ブチルフェノール15％
からなるものであり、反応中留出する留分の組成は、フ
ェノール90％、モノ−tert−ブチルフェノール10％から
なるものであった。さらにこの残渣に48％NaOH水溶液1.
4gを加え中和後、精留塔つき蒸留装置を用いて圧力100
〜70mmHg、釜温160〜190℃で蒸留を行なった。その結
果、モノ−tert−ブチルフェノール465gを得た。このモ
ノ−tert−ブチルフェノールの組成は、ガスクロマトグ
ラフによる分析の結果、３−tert−ブチルフェノール99
％と４−tert−ブチルフェノール1.0％からなるもので
あった。 Example 3 1 equipped with a stirrer, a thermometer and a cooling condenser
Mono-tert-butylphenol (75% 3-tert-butylphenol and 25% 4-
800 g (5.3 mol) of tert-butylphenol) and 4.0 g (1.6 × 10 -2 mol) of 5-sulfoisofudaric acid were added, and nitrogen gas was introduced at 220 to 230 ° C. while introducing nitrogen gas at 25 ml / min.
After reacting for 600 hours, residue 600g, fraction 145g distilled during the reaction
And 48 g of isobutylene gas generated during the reaction was collected by a dry ice-acetone trap.
No corrosive gas was generated during the reaction. When the residue and a fraction distilled during the reaction were analyzed by gas chromatography, the composition of the residue was as follows: phenol 3%, mono-tert-butylphenol 82%, di-tert-butylphenol 15%
The composition of the fraction distilled during the reaction was composed of 90% of phenol and 10% of mono-tert-butylphenol. Then add 48% NaOH aqueous solution to this residue.
After neutralization by adding 4 g, the pressure was adjusted to 100 using a distillation apparatus equipped with a rectification column.
Distillation was performed at 70 mmHg and a pot temperature of 160 to 190 ° C. As a result, 465 g of mono-tert-butylphenol was obtained. The composition of this mono-tert-butylphenol was determined by gas chromatography to be 3-tert-butylphenol99.
% And 4-tert-butylphenol 1.0%.
実施例４〜９ 第２表に示すアリールスルホン酸（Ｂ）を1.6×10-2
モルを用いる以外は、実施例３と全く同様にして反応を
行い、最終残渣をガスクロマトグラフで分析し、３−te
rt−ブチルフェノール対４−tert−ブチルフェノールの
重量比率を求めた。その結果を第２表に示した。尚、い
ずれの実施例においても、反応中に腐食性気体の発生は
なかった。Examples 4 to 9 1.6 × 10 -2 aryl sulfonic acid (B) shown in Table 2
The reaction was carried out in exactly the same manner as in Example 3 except that the mole was used, and the final residue was analyzed by gas chromatography,
The weight ratio of rt-butylphenol to 4-tert-butylphenol was determined. The results are shown in Table 2. In each of the examples, no corrosive gas was generated during the reaction.
実施例10 攪拌装置、温度計および冷却コンデンサーを備えた１
のガラス製フラスコに、３−メチル−4,6−ジ−tert
−ブチルフェノール800g（3.64モル）と５−スルホイソ
フタル酸4.0g（1.6×10-2モル）を加え、220〜230℃で
窒素ガスを25ml/分で導入しながら10時間反応させて、
残渣390gを得た。得られた残渣をガスクロマトグラフで
分析すると、その組成は、３−クレゾール99.0％、モノ
−および−ジ−tert−ブチル−３−クレゾール1.0％か
らなるものであった。尚、反応中に腐食性気体の発生は
なかった。 Example 10 1 equipped with stirrer, thermometer and cooling condenser
Into a glass flask of 3-methyl-4,6-di-tert.
800 g (3.64 mol) of -butylphenol and 4.0 g (1.6 × 10 -2 mol) of 5-sulfoisophthalic acid were added, and reacted at 220 to 230 ° C. for 10 hours while introducing nitrogen gas at 25 ml / min.
390 g of a residue were obtained. Analysis of the resulting residue by gas chromatography indicated that its composition consisted of 99.0% of 3-cresol and 1.0% of mono- and -di-tert-butyl-3-cresol. No corrosive gas was generated during the reaction.
実施例11 攪拌装置、温度計および還流コンデンサーを備えた１
のガラス製フラスコに3,3′,5,5′−テトラ−tert−
ブチル−4,4′−ジヒドロキシビフェニル410g（１モ
ル）とキシレン410gを加熱混合し、ｍ−ニトロベンゼン
スルホン酸1.2g（5.91×10-3モル）を加えた後、昇温し
て内温を145℃に８時間保持した。尚、反応中に腐食性
気体の発生はなかった。８時間後、スラリー状の内容物
を一部サンプリングして、アセトンに溶解後、ガスクロ
マトグラフィーで分析したところ、原料のｔ−ブチル基
の99％が脱離していることがわかった。この反応液を10
0℃まで冷却した後、析出した白色結晶を過すること
により、p,p′−ビフェノールの結晶を178g得た。この
結晶の純度は、ガスクロマトグラフィーによる分析の結
果、99.9％であった。Example 11 1 equipped with stirrer, thermometer and reflux condenser
3,3 ′, 5,5′-tetra-tert-
410 g (1 mol) of butyl-4,4'-dihydroxybiphenyl and 410 g of xylene were heated and mixed, and 1.2 g (5.91 × 10 −3 mol) of m-nitrobenzenesulfonic acid was added. C. for 8 hours. No corrosive gas was generated during the reaction. Eight hours later, a part of the slurry content was sampled, dissolved in acetone, and analyzed by gas chromatography. As a result, it was found that 99% of the t-butyl group in the raw material had been eliminated. This reaction solution is added to 10
After cooling to 0 ° C., 178 g of p, p′-biphenol crystals were obtained by filtering the precipitated white crystals. The purity of the crystals was 99.9% as a result of analysis by gas chromatography.
実施例12 3,3′,5,5′−テトラ−tert−ブチル−4,4′−ジヒド
ロキシビフェニル410gの代わりに3,3′−ジメチル−5,
5′−ジ−tert−ブチル−4,4′−ジヒドロキシビフェニ
ル326gを用い、ｍ−ニトロベンゼンスルホン酸2.0gの代
わりに４−ニトロトルエン−２−スルホン酸2.0gを用い
た以外は実施例11と同様にして、3,3′−ジメチル−4,
4′−ジヒドロキシビフェニルの結晶を198gを得た。
尚、反応中に腐食性気体の発生はなかった。Example 12 3,3'-Dimethyl-5, instead of 410 g of 3,3 ', 5,5'-tetra-tert-butyl-4,4'-dihydroxybiphenyl
Same as Example 11 except that 326 g of 5'-di-tert-butyl-4,4'-dihydroxybiphenyl was used and 2.0 g of 4-nitrotoluene-2-sulfonic acid was used instead of 2.0 g of m-nitrobenzenesulfonic acid. 3,3'-dimethyl-4,
198 g of 4'-dihydroxybiphenyl crystals were obtained.
No corrosive gas was generated during the reaction.
実施例13 ｍ−ニトロベンゼンスルホン酸の2.0gの代わりに、６
−クロロ−４−ニトロトルエン−３−スルホン酸2.0gを
用いた以外は、実施例１と同様にして、p,p′−ビフェ
ノールの結晶を175gを得た。尚、反応中に腐食性気体の
発生はなかった。Example 13 Instead of 2.0 g of m-nitrobenzenesulfonic acid, 6 g
175 g of p, p'-biphenol crystals were obtained in the same manner as in Example 1 except that 2.0 g of -chloro-4-nitrotoluene-3-sulfonic acid was used. No corrosive gas was generated during the reaction.
実施例14 実施例11の反応液410gに触媒を追加することなしに
3,3′,5,5′−テトラ−tert−ブチル−4,4′−ジヒドロ
キシビフェニル410gを混合し、昇温して、内温を145℃
に８時間保持した。８時間後のガスクロマトグラフィー
による内容物の分析で、ｔ−ブチル基の99％が脱離して
いることがわかった。この反応液を65℃まで冷却した
後、析出した結晶を過することにより、純度99.9％の
p,p′−ビフェノールの結晶を183g得た。尚、反応中の
腐食性気体の発生はなかった。Example 14 Without adding a catalyst to 410 g of the reaction solution of Example 11
Mix 3,3 ', 5,5'-tetra-tert-butyl-4,4'-dihydroxybiphenyl 410 g, raise the temperature, and raise the internal temperature to 145 ° C.
For 8 hours. Analysis of the contents by gas chromatography after 8 hours showed that 99% of the t-butyl groups had been eliminated. After cooling the reaction solution to 65 ° C., by passing the precipitated crystals, a purity of 99.9% was obtained.
183 g of crystals of p, p'-biphenol were obtained. No corrosive gas was generated during the reaction.
比較例３ ｍ−ニトロベンゼンスルホン酸2.0gの代わりにｐ−ト
ルエンスルホン酸2.0gを用いた以外は実施例１と同様に
して反応を行った。８時間後、内容物をガスクロマトグ
ラフィーで分析したところ、全体の47％のｔ−ブチル基
しか脱離しておず、p,p′−ビフェノールは実施例の様
に高収率では生成していなかった。尚、反応中に腐食性
気体の発生が見られた。Comparative Example 3 A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 2.0 g of p-toluenesulfonic acid was used instead of 2.0 g of m-nitrobenzenesulfonic acid. Eight hours later, the content was analyzed by gas chromatography. As a result, only 47% of the total t-butyl group had been eliminated, and p, p'-biphenol was produced in high yield as in the examples. Did not. In addition, generation of corrosive gas was observed during the reaction.
本発明の芳香族化合物の第３級アルキル基の除去方法
では、電子吸引性の官能基を有するアリールスルホン酸
を触媒として用いており、金属腐食性の気体が発生する
ことがないので、反応装置を選ばずに脱第３級アルキル
化反応を効率よく行うことができる。In the method for removing a tertiary alkyl group of an aromatic compound according to the present invention, an arylsulfonic acid having an electron-withdrawing functional group is used as a catalyst, and no metal corrosive gas is generated. The detertiary alkylation reaction can be carried out efficiently without selecting any of the above.
しかも、本発明で用いる触媒は、従来のそれに比べて
高活性であり、かつ高温下で分解することもないので、
脱第３級アルキル化の収率を低下させないで、反応条件
の設定の自由度が大きくなり、更に触媒反応終了後回収
して、再使用も可能であるという長所を有する。In addition, the catalyst used in the present invention has higher activity than conventional ones and does not decompose at high temperatures.
There is an advantage that the degree of freedom in setting the reaction conditions is increased without lowering the yield of the detertiary alkylation, and that the catalyst can be recovered after the completion of the catalytic reaction and reused.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−222138（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−52233（ＪＰ，Ａ) 特公 昭44−29850（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 37/50 C07C 39/02 - 39/11────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-63-222138 (JP, A) JP-A-58-52233 (JP, A) JP-B-44-29850 (JP, B1) (58) Field (Int.Cl. 6 , DB name) C07C 37/50 C07C 39/02-39/11
Claims (8)
と水酸基とを有する芳香族化合物（Ａ）の脱第３級アル
キル化反応を行うに当り、カルボキシル基、ニトロ基、
フロロ基、ブロモ基及びクロロ基から選択される電子吸
引性の官能基を有するアリールスルホン酸（Ｂ）を触媒
として用いることを特徴とする前記芳香族化合物（Ａ）
の第３級アルキル基の除去方法。1. A detertiary alkylation reaction of an aromatic compound (A) having a tertiary alkyl group and a hydroxyl group directly bonded on an aromatic ring, wherein a carboxyl group, a nitro group,
The aromatic compound (A), wherein an arylsulfonic acid (B) having an electron-withdrawing functional group selected from a fluoro group, a bromo group and a chloro group is used as a catalyst.
Method for removing a tertiary alkyl group.
と水酸基とを有する芳香族化合物（Ａ）が、芳香環上に
直接結合した第３級アルキル基を有するビフェノールで
ある請求項１記載の除去方法。2. The aromatic compound (A) having a tertiary alkyl group directly bonded to an aromatic ring and a hydroxyl group is a biphenol having a tertiary alkyl group directly bonded to an aromatic ring. The removal method described.
ホン酸（Ｂ）が、ニトロベンゼンスルホン酸である請求
項２記載の除去方法。3. The removal method according to claim 2, wherein the arylsulfonic acid (B) having an electron-withdrawing functional group is nitrobenzenesulfonic acid.
応を行う請求項２または３記載の方法。4. The method according to claim 2, wherein the detertiary alkylation reaction is carried out in the presence of an organic solvent.
と水酸基とを有する芳香族化合物（Ａ）が、芳香環上に
直接結合した第３級アルキル基を有するモノフェノール
である請求項１記載の方法。5. The aromatic compound (A) having a tertiary alkyl group directly bonded to an aromatic ring and a hydroxyl group is a monophenol having a tertiary alkyl group directly bonded to an aromatic ring. The method of claim 1.
と水酸基とを有する芳香族化合物（Ａ）が、オルト位に
第３アルキル基を有するフェノール、パラ位に第３級ア
ルキル基を有するフェノール、或いはオルト位とパラ位
の両方に第３級アルキル基を有するものである請求項５
記載の方法。6. An aromatic compound (A) having a tertiary alkyl group and a hydroxyl group directly bonded to an aromatic ring, comprising a phenol having an tertiary alkyl group at the ortho position and a tertiary alkyl group at the para position. 6. A phenol having a tertiary alkyl group at both the ortho and para positions.
The described method.
と水酸基とを有する芳香族化合物として、メタ位に第３
級アルキル基を有するフェノールと、パラ位に第３級ア
ルキル基を有するフェノールとの混合物として用いる請
求項５または６記載の方法。7. An aromatic compound having a tertiary alkyl group and a hydroxyl group directly bonded to an aromatic ring as a third compound at the meta position.
The method according to claim 5 or 6, which is used as a mixture of a phenol having a tertiary alkyl group and a phenol having a tertiary alkyl group at the para position.
ホン酸（Ｂ）が、スルホイソフタル酸である請求項５、
６または７記載の方法。8. The arylsulfonic acid (B) having an electron-withdrawing functional group is a sulfoisophthalic acid.
8. The method according to 6 or 7.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP1281707A JP2864572B2 (en) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | Method for removing tertiary alkyl group |
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Publications (2)
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| JPH03145434A JPH03145434A (en) | 1991-06-20 |
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|---|---|---|---|---|
| KR20030074758A (en) * | 2001-01-31 | 2003-09-19 | 스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | Process for production of 4,4'-biphenol |
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1989
- 1989-10-31 JP JP1281707A patent/JP2864572B2/en not_active Expired - Lifetime
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