JP2861099B2 - Cleaning water supply device - Google Patents
Cleaning water supply deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は水洗式便器へ洗浄水を供給する洗浄給水装置
に関する。The present invention relates to a flush water supply device for supplying flush water to a flush toilet.
(従来の技術) 給水圧にかかわらず、便器へ所定量の洗浄水を供給す
る装置として、量水計により測定された洗浄水の流下量
が所定値に達したときに弁機構を閉にするものが特開昭
63−114734号公報に開示されている。(Prior art) As a device for supplying a predetermined amount of washing water to a toilet irrespective of water supply pressure, a valve mechanism is closed when the flow rate of washing water measured by a water meter reaches a predetermined value. Things are Japanese
It is disclosed in JP-A-63-114734.
(発明が解決しようとする課題) 量水器は、翼車以外に流量積算のためのギヤ機構を備
えているので、量水器そのものが大型であり、広い設置
スペースが必要である。また、ギヤ機構を駆動するため
圧力損失が大きく、特に給水圧力が低い場合には圧力損
失の影響により便器の洗浄が確実に行なわれないことが
ある。(Problems to be Solved by the Invention) Since the water meter is provided with a gear mechanism for integrating the flow rate in addition to the impeller, the water meter itself is large and requires a large installation space. Also, since the gear mechanism is driven, the pressure loss is large, and especially when the water supply pressure is low, the toilet may not be reliably washed due to the influence of the pressure loss.
さらに、サイホン式やサイホンジェット式の便器で
は、便器のボウル部へ供給される洗浄水の勢いあるいは
ジェット噴射孔からトラップ排水路へ向けて噴射される
洗浄水の勢いが弱いと通常(給水圧が所定値以上)の場
合より多量の洗浄水を供給しないとサイホン作用を発生
させることができず、汚物・汚水が搬送(排出)できな
いことがある。Furthermore, in the case of a siphon type or a siphon jet type toilet, if the force of the washing water supplied to the bowl portion of the toilet or the force of the washing water injected from the jet injection hole toward the trap drainage channel is weak (the water supply pressure is increased). Unless a larger amount of washing water is supplied than in the case of (predetermined value or more), the siphon action cannot be generated, and contaminants and wastewater may not be transported (discharged).
本発明はこれらの課題を解決するためになされたもの
で、その目的は、圧力損失が少なく、かつ、小形で便器
に内蔵することもできる所定量の洗浄給水装置を提供す
ることにある。また、給水圧力が低下した場合でも便器
の洗浄を確実に行なうことのできる洗浄給水装置を提供
するものである。The present invention has been made in order to solve these problems, and an object of the present invention is to provide a small-sized flush water supply device which has a small pressure loss and can be built in a toilet. It is another object of the present invention to provide a flush water supply device that can surely clean the toilet even when the water supply pressure is reduced.
(課題を解決するための手段) 前記課題を解決するため本発明に係る洗浄給水装置
は、便器への給水量を検出する流量計の出力に基づいて
制御装置は流量調節弁機構の開度を異ならしめて予め設
定された給水量を便器へ供給するよう構成したことを特
徴とする。(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, in the flush water supply device according to the present invention, the control device determines the opening of the flow control valve mechanism based on the output of a flow meter that detects the amount of water supplied to the toilet. It is characterized in that the water supply amount set in advance is supplied to the toilet separately.
制御装置は流量計の出力が予め設定された瞬間流量と
なるよう流量調節弁機構の開度を異ならしめる構成とし
てもよい。The control device may be configured to vary the opening of the flow control valve mechanism so that the output of the flow meter becomes a preset instantaneous flow rate.
さらに、流量調節弁機構を全開状態に駆動しても予め
設定した瞬間流量が得られない場合、制御装置は予め設
定した給水量より多い水量が便器に供給するよう構成す
ることもできる。Furthermore, if the preset instantaneous flow rate cannot be obtained even when the flow rate control valve mechanism is driven to the fully open state, the control device may be configured to supply a larger amount of water than the preset water supply amount to the toilet.
(作用) 制御装置は、流量計の出力が予め設定された瞬間流量
になるよう流量調節弁機構の開度を制御する。(Operation) The control device controls the opening degree of the flow control valve mechanism so that the output of the flow meter becomes the preset instantaneous flow rate.
また、瞬間流量が少ない場合には、制御装置は通常よ
りも開弁時間を長くして多量の洗浄水を便器へ供給する
ので、給水圧が低い場合でも汚物・汚水を搬送させるこ
とができる。When the instantaneous flow rate is small, the control device supplies a large amount of flush water to the toilet with a longer valve-opening time than usual, so that the waste can be conveyed even when the supply pressure is low.
(実施例) 以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明す
る。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
第1図は本発明に係る洗浄給水装置を備えたサイホン
式の便器の縦断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a siphon type toilet provided with a flush water supply device according to the present invention.
便器1は隔壁2で区画されたボウル部3とトラップ排
水路4を有する。トラップ排水路4は、ボウル部3の後
壁下部に開設した流入口5と便器1と後部底面に開設し
た流出口6とを略逆U字状に屈曲して連絡するよう形成
している。トラップ排水路4の流出口6部分には拡径部
4aを形成するとともに、絞り部4bを形成している。The toilet 1 has a bowl 3 partitioned by a partition 2 and a trap drainage channel 4. The trap drainage channel 4 is formed so that an inflow port 5 formed in the lower portion of the rear wall of the bowl portion 3, the toilet 1 and an outflow port 6 formed in the rear bottom surface are bent in a substantially inverted U-shape to communicate with each other. Enlarged portion at the outlet 6 of the trap drainage channel 4
4a as well as the constricted portion 4b.
ボウル部3の上縁リム部7に、リム通水路8をボウル
部3の内方に突出するよう環状に形成し、このリム通水
路8の底面にリム射水口9…を適当間隔毎にボウル部3
に対して斜めに開設している。またリム通水路8は後部
においてリム給水室10に連絡している。A rim water passage 8 is formed in the upper edge rim portion 7 of the bowl portion 3 in an annular shape so as to protrude inward of the bowl portion 3, and rim water outlets 9 are formed on the bottom surface of the rim water passage 8 at appropriate intervals. Part 3
Opened diagonally. The rim water passage 8 communicates with a rim water supply room 10 at the rear.
便器1の後部上方にボックス11を設け、このボックス
11内に洗浄給水装置12を収納する。洗浄給水装置12は、
給水管13に接続された流量調節弁機構(以下弁機構と記
す)14と、この弁機構14の下流側に接続された流量計15
と、弁機構14の開閉駆動を行なう制御装置16と、制御装
置16に洗浄起動入力を与える操作部17からなる。流量計
15の下流側は大気開放弁18を介して、リム給水室10の給
水口10aへ接続している。A box 11 is provided above the rear of the toilet 1, and the box 11
A cleaning water supply device 12 is housed in 11. Cleaning water supply device 12,
A flow control valve mechanism (hereinafter referred to as a valve mechanism) 14 connected to a water supply pipe 13 and a flow meter 15 connected downstream of the valve mechanism 14
And a control unit 16 for opening and closing the valve mechanism 14, and an operation unit 17 for giving a cleaning start input to the control unit 16. Flowmeter
The downstream side of 15 is connected to a water supply port 10a of the rim water supply chamber 10 via an atmosphere release valve 18.
本実施例では、流量計15としては翼車式の流量計を用
い、流量信号を流量信号線15aを介して制御装置16へ入
力している。この流量計15は翼車に磁石が取り付けられ
ており、翼車の回転を電磁気的に検出して、翼車の回転
に比例した周波数の交番起電圧を流量信号としているも
のである。なお、流量計15は翼車の流量計以外に電磁流
量計を用いてもよい。In the present embodiment, an impeller-type flow meter is used as the flow meter 15, and a flow signal is input to the control device 16 via the flow signal line 15a. The flow meter 15 has a magnet attached to the impeller, electromagnetically detects the rotation of the impeller, and uses an alternating electromotive voltage having a frequency proportional to the rotation of the impeller as a flow signal. The flowmeter 15 may be an electromagnetic flowmeter other than the flowmeter of the impeller.
第2図は制御装置のブロック構成図である。 FIG. 2 is a block diagram of the control device.
制御装置16は、入力インタフェース回路16a、マイク
ロプロセッサ(以下にMPUと記す)16b,メモリ16c、タイ
マ16dおよび出力インタフェース回路16eから構成され
る。入力インタフェース回路16aには操作部17および流
量計15が接続され、出力インタフェース回路16eには弁
駆動線14aを介して弁機構14が接続される。The control device 16 includes an input interface circuit 16a, a microprocessor (hereinafter referred to as MPU) 16b, a memory 16c, a timer 16d, and an output interface circuit 16e. The operation unit 17 and the flow meter 15 are connected to the input interface circuit 16a, and the valve mechanism 14 is connected to the output interface circuit 16e via a valve drive line 14a.
操作部17は、便器1の洗浄を開始させるためのスイッ
チを備えており、このスイッチの開閉は起動信号線17a
により制御装置16に入力される。The operation unit 17 includes a switch for starting the cleaning of the toilet 1, and opening and closing of the switch is performed by a start signal line 17a.
Is input to the control device 16.
なお、操作部17には例えば大便用と小便用とで洗浄水
の供給量を選択できるよう複数のスイッチを設けてもよ
い。また、着座を検出するスイッチあるいはセンサ等を
設け、これらの信号を制御装置16に入力して、着座状態
にのみ操作部17の操作を有効としたり、あるいは、着座
状態から末着座状態となったのち、所定時間後に自動的
に洗浄を開始させる構成であってもよい。The operation unit 17 may be provided with a plurality of switches so that the supply amount of the washing water can be selected for, for example, stool and urine. In addition, a switch or a sensor for detecting a seat is provided, and these signals are input to the control device 16 to enable the operation of the operation unit 17 only in the seated state, or to change from the seated state to the last seated state. After that, the cleaning may be automatically started after a predetermined time.
流量信号線15aにより入力インタフェース回路16aに入
力された流量信号は、入力インタフェース回路16a内で
波形変換され、流量信号の周波数(周期)を保持したま
ま、所定の振巾および所定のパルス幅のパルス信号に変
換されてMPU16bへ入力される。The flow rate signal input to the input interface circuit 16a via the flow rate signal line 15a is converted into a waveform in the input interface circuit 16a, and a pulse having a predetermined amplitude and a predetermined pulse width is maintained while maintaining the frequency (period) of the flow rate signal. The signal is converted into a signal and input to the MPU 16b.
なお、本実施例では、弁機構14の下流側に流量計15を
備えているが、流量計15は弁機構14の上流側に設けても
よい。In this embodiment, the flow meter 15 is provided downstream of the valve mechanism 14. However, the flow meter 15 may be provided upstream of the valve mechanism 14.
また、便器1はボウル部3の底部にトラップ排水路4
の流入口5からトラップ排水路4内へ向けて洗浄水を噴
射するジェット噴射口を備えたサイホンジェット式の便
器でもよく、あるいはサイホンボルテックス式の便器で
あってもよい。The toilet 1 has a trap drainage channel 4 at the bottom of the bowl portion 3.
It may be a siphon-jet type toilet provided with a jet injection port for injecting washing water from the inflow port 5 into the trap drainage channel 4, or a siphon-vortex type toilet.
さらに、洗浄給水装置12を便器1に内蔵せずに、便所
の壁等に配設する構造でもよい。Further, a structure in which the flush water supply device 12 is not built in the toilet 1 but may be provided on a wall or the like of a toilet.
次に本実施例の動作を第3図から第4図のフローチャ
ートを参照して説明する。なお、S1,S2…等の符号はフ
ローチャートのステップを示すものである。Next, the operation of this embodiment will be described with reference to the flowcharts of FIGS. Reference numerals such as S1, S2... Indicate steps in the flowchart.
先ず第3図のフローチャートの場合において、ステッ
プS1では操作部17からの起動信号により制御装置16が所
定の瞬間流量になるよう弁機構14の開度を制御する。こ
れにより、便器1のボウル部3に洗浄水が供給され、ボ
ウル部3内に渦を発生してボウル部3の洗浄を行なう。First, in the case of the flowchart of FIG. 3, in step S1, the control device 16 controls the opening degree of the valve mechanism 14 so that a predetermined instantaneous flow rate is obtained by a start signal from the operation unit 17. As a result, the washing water is supplied to the bowl portion 3 of the toilet bowl 1 and a vortex is generated in the bowl portion 3 to wash the bowl portion 3.
ステップS2では、予め設定された瞬間流量に達したか
否かを判断し、達していればステップS3へ進み、達して
いなければステップS6へ進む。In step S2, it is determined whether or not a preset instantaneous flow rate has been reached. If the instantaneous flow rate has been reached, the process proceeds to step S3, and if not, the process proceeds to step S6.
ステップS3では、流量計15の出力から流量を積算す
る。そしてステップS4で予め設定された給水量が給水さ
れたか否かを判断し、給水されていなければステップS3
へ戻り、給水されていると判断すればステップS5へ進ん
で弁機構14を閉状態にして給水制御が終了する。In step S3, the flow rate is integrated from the output of the flow meter 15. Then, in step S4, it is determined whether or not a predetermined water supply amount has been supplied.
Returning to step S5, if it is determined that water is being supplied, the process proceeds to step S5, where the valve mechanism 14 is closed, and the water supply control ends.
また、ステップS6では、弁機構14を全開状態か否かを
判断し、全開状態であれば、ステップS7へ進み、全開状
態でなければステップSへ戻る。In step S6, it is determined whether or not the valve mechanism 14 is fully open. If the valve mechanism 14 is fully open, the process proceeds to step S7. If not, the process returns to step S7.
更にステップS7では、所定給水量よりも多い給水量を
給水すべく瞬間流量に対応して新たに給水量を設定す
る。Further, in step S7, a new water supply amount is set corresponding to the instantaneous flow rate in order to supply a water supply amount larger than the predetermined water supply amount.
ステップS8では、流量計15の出力から流量を積算す
る。そしてステップS9で新たに設定した給水量が給水さ
れたか否かを判断し、給水されていなければステップS8
へ戻り、給水されていると判断すればステップS5へ進ん
で弁機構14を閉状態にして給水制御が終了する。In step S8, the flow rate is integrated from the output of the flow meter 15. Then, it is determined in step S9 whether or not the newly set water supply amount has been supplied.
Returning to step S5, if it is determined that water is being supplied, the process proceeds to step S5, where the valve mechanism 14 is closed, and the water supply control ends.
(発明の効果) 以上説明したように本発明によれば、流量計の出力を
制御回路で処理する構成であるから、量水計と比較して
圧力損失を軽減でき、給水圧にかかわらず所定量の給水
ができる。(Effect of the Invention) As described above, according to the present invention, since the output of the flow meter is processed by the control circuit, the pressure loss can be reduced as compared with the water meter and the location can be reduced regardless of the feed water pressure. Can supply a fixed amount of water.
また、瞬間流量が少ない場合は、便器への給水量を増
加するので確実に洗浄することができる。In addition, when the instantaneous flow rate is small, the amount of water supplied to the toilet is increased, so that the toilet can be reliably washed.
第1図は本発明に係る洗浄給水装置を備えたサイホン式
の便器の縦断面図、第2図は制御装置のブロック構成
図、第3図は給水装置の動作を示すフローチャートであ
る。 尚図面中、1は便器、12は洗浄給水装置、13は給水管、
14は流量調節弁機構、15は流量計、16は制御装置であ
る。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a siphon-type toilet provided with a flush water supply device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram of a control device, and FIG. 3 is a flowchart showing the operation of the water supply device. In the drawings, 1 is a toilet bowl, 12 is a flush water supply device, 13 is a water supply pipe,
14 is a flow control valve mechanism, 15 is a flow meter, and 16 is a control device.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柴田 信次 神奈川県茅ケ崎市本村2丁目8番1号 東陶機器株式会社茅ケ崎工場内 (72)発明者 新原 登 神奈川県茅ケ崎市本村2丁目8番1号 東陶機器株式会社茅ケ崎工場内 (56)参考文献 特開 昭63−114734(JP,A) 特開 昭63−22931(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) E03D 5/10 E03D 3/00──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Shinji Shibata 2-8-1, Honmura, Chigasaki-shi, Kanagawa Prefecture Tochiki Kiki Co., Ltd. No. 1 In the Toga Kikai Co., Ltd. Chigasaki factory (56) References JP-A-63-114743 (JP, A) JP-A-63-22931 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , (DB name) E03D 5/10 E03D 3/00
Claims (2)
弁機構および流量計を介設し、この流量調節弁機構の制
御装置は、前記流量計の流量出力に基づいて流量調節弁
機構の開度を異ならしめ、予め設定された給水量を便器
へ供給すると共に、前記流量出力が予め設定された瞬間
流量となるよう構成したことを特徴とする洗浄供給水装
置。1. A flow control valve mechanism and a flow meter are provided in a water supply pipe for supplying flush water to a toilet, and a control device of the flow control valve mechanism includes a flow control valve mechanism based on a flow rate output of the flow meter. A cleaning water supply device characterized in that the opening degree of the cleaning water supply device is varied so that a predetermined water supply amount is supplied to the toilet and the flow rate output becomes a predetermined instantaneous flow rate.
弁機構および流量計を介設し、この流量調節弁機構の制
御装置は、前記流量計の流量出力に基づいて流量調節弁
機構の開度を異ならしめ、予め設定された給水量を便器
へ供給すると共に、流量調節弁機構を全開状態に駆動し
ても予め設定された瞬間流量が得られない場合には、前
記予め設定した給水量よりも多い水量を便器へ供給する
よう構成したことを特徴とする洗浄給水装置。2. A flow control valve mechanism and a flow meter are provided in a water supply pipe for supplying flush water to a toilet, and a control device of the flow control valve mechanism includes a flow control valve mechanism based on a flow rate output of the flow meter. The opening degree is made different, and a preset water supply amount is supplied to the toilet, and if the preset instantaneous flow rate cannot be obtained even when the flow rate control valve mechanism is driven to the fully open state, the preset flow rate is set. A flush water supply device configured to supply a larger amount of water to a toilet bowl than the amount of water supplied.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22803489A JP2861099B2 (en) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | Cleaning water supply device |
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JP22803489A JP2861099B2 (en) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | Cleaning water supply device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0390734A JPH0390734A (en) | 1991-04-16 |
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ID=16870162
Family Applications (1)
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JP22803489A Expired - Lifetime JP2861099B2 (en) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | Cleaning water supply device |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7538206B2 (en) | 2018-12-13 | 2024-08-21 | 株式会社ジェイテクトサーモシステム | Heat Treatment Equipment |
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---|---|---|---|---|
US20140117265A1 (en) | 2012-10-26 | 2014-05-01 | Kohler Co. | Dispensing device and battery package |
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1989
- 1989-09-01 JP JP22803489A patent/JP2861099B2/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP7538206B2 (en) | 2018-12-13 | 2024-08-21 | 株式会社ジェイテクトサーモシステム | Heat Treatment Equipment |
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JPH0390734A (en) | 1991-04-16 |
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