JP2856877B2 - Semiconductor nonvolatile storage device - Google Patents

Semiconductor nonvolatile storage device

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JP2856877B2
JP2856877B2 JP26049690A JP26049690A JP2856877B2 JP 2856877 B2 JP2856877 B2 JP 2856877B2 JP 26049690 A JP26049690 A JP 26049690A JP 26049690 A JP26049690 A JP 26049690A JP 2856877 B2 JP2856877 B2 JP 2856877B2
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writing
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、半導体不揮発性記憶装置に係り、特に外部
端子に高電圧が印加される半導体不揮発性記憶装置の書
込み用周辺回路に関する。
Description: Object of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor non-volatile memory device, and more particularly to a write-in peripheral of a semiconductor non-volatile memory device in which a high voltage is applied to an external terminal. Circuit.

(従来の技術) 紫外線消去・再書込み可能な読出し専用記憶装置(EP
ROM)、あるいは、電気的消去・再書込み可能な読出し
専用記憶装置(EEPROM)などの不揮発性半導体記憶装置
では、半導体チップ内部で書込み用の高電位VPPと読み
出し用の電位(通常の電源電圧VCC)とを選択的に発生
する必要があり、VPP/VCC電位切換回路が設けられてい
る。
(Prior art) Read-only storage device (EP
ROM), or, in the nonvolatile semiconductor memory device, such as electrically erasable and re-writable read only memory (EEPROM), a high potential V PP and the potential for reading for writing within the semiconductor chip (normal supply voltage V CC ) must be selectively generated, and a V PP / V CC potential switching circuit is provided.

第2図は、従来のVPP/VCC電位切換回路を示してお
り、1はチップ外部から書込み時にVPP電位(例えば12
V)が印加され、読み出し時に0〜VCC電位(例えば5V)
が印加される切換電位入力ノード、2はVCC電位が印加
されるVCC入力ノード、3は切換電位出力ノード、5は
書込みイネーブル信号▲▼が入力し、VPP電位より
も高い所定の電位に昇圧する昇圧回路、6は前記切換電
位入力ノード1と切換電位出力ノード3との間にドレイ
ン・ソース間が接続され、ゲートに上記昇圧回路5の出
力Aが印加されるエンハンスメント型のNチャネルトラ
ンジスタ、7は前記VCC入力ノード2と切換電位出力ノ
ード3との間にドレイン・ソース間が接続され、ゲート
に書込みイネーブル信号▲▼が印加されるディプレ
ーション型のNチャネルトランジスタである。
FIG. 2 shows a conventional V PP / V CC potential switching circuit. Reference numeral 1 denotes a V PP potential (for example, 12
V) is applied, and at the time of reading, 0 to V CC potential (for example, 5 V)
There altering position input nodes applied, V CC input node V CC potential is applied 2, the switching power level output nodes 3, 5 and input the write enable signal ▲ ▼, higher predetermined potential than V PP potential A boosting circuit 6 having a drain-source connected between the switching potential input node 1 and the switching potential output node 3 and having an output A of the boosting circuit 5 applied to its gate; transistor, 7 which is connected the drain-source between the V CC input node 2 and the switching power level output node 3, an N-channel transistor of the depletion type write enable signal ▲ ▼ is applied to the gate.

上記VPP/VCC電位切換回路において、書込み時に書込
みイネーブル信号▲▼が活性状態(本例では0V)に
なると、昇圧回路5の出力AがVPP電位よりも高い電位
(例えば16V)になる。従って、エンハンスメント型ト
ランジスタ6はオンになり、切換電位出力ノード3に
は、切換電位入力ノード1の印加電位VPPがエンハンス
メント型トランジスタ6を通してそのまま(閾値電圧に
よる低下なしに)現われる。この時、ディプレーション
型トランジスタ7はゲートに0Vが印加されている。
In the V PP / V CC potential switching circuit, when the write enable signal ▼ is activated (0 V in this example) at the time of writing, the output A of the booster circuit 5 becomes a potential higher than the V PP potential (for example, 16 V). . Therefore, enhancement mode transistor 6 is turned on, the switching power level output node 3, (without loss due to the threshold voltage) directly through the applied potential V PP is an enhancement type transistor 6 of the switching power level input node 1 appears. At this time, 0 V is applied to the gate of the depletion type transistor 7.

これに対して、書込み時以外には、書込みイネーブル
信号▲▼が非活性状態(本例では5V)になると、昇
圧回路5の出力Aが0Vになり、エンハンスメント型トラ
ンジスタ6はオフになる。この時、ディプレーション型
トランジスタ7はゲートに5Vが印加されることによりオ
ンになり、切換電位出力ノード3には、VCC入力ノード
2の印加電位VCCが現われる。なお、この時、エンハン
スメント型トランジスタ6は切換電位入力ノード1の印
加電位に無関係に完全にオフ状態になるので、通常の読
み出し動作時に上記切換電位入力ノード1に連なる外部
端子を別機能の端子(例えば出力イネーブル入力端子)
として使用し、上記外部端子の共用化を図ることが可能
である。
On the other hand, when the write enable signal ▼ is inactive (5 V in this example) except at the time of writing, the output A of the booster circuit 5 becomes 0 V, and the enhancement transistor 6 is turned off. At this time, the depletion type transistor 7 is turned on by applying 5 V to the gate, and the applied potential V CC of the V CC input node 2 appears at the switching potential output node 3. At this time, the enhancement transistor 6 is completely turned off irrespective of the applied potential of the switching potential input node 1, so that the external terminal connected to the switching potential input node 1 is replaced with a terminal of another function (during normal read operation). (For example, output enable input terminal)
And the external terminals can be shared.

ところで、上記した従来のVPP/VCC電位切換回路は、
昇圧回路5を使用している。この昇圧回路5は、チャー
ジポンプの原理を使用し、チップ内部の静電容量に蓄積
した電荷を使用してチップ外部からの供給電圧よりも高
い電圧を発生させている。そして、一般的な通常の昇圧
回路では、昇圧速度は比較的遅く、5μs程度(近年の
微細化したEPROMセルの書込み速度にほぼ等しい。)で
ある。
By the way, the conventional V PP / V CC potential switching circuit described above
The booster circuit 5 is used. The booster circuit 5 generates a voltage higher than a supply voltage from the outside of the chip by using the charge accumulated in the capacitance inside the chip using the principle of a charge pump. In a general ordinary booster circuit, the boosting speed is relatively slow, about 5 μs (approximately equal to the writing speed of recent miniaturized EPROM cells).

しかし、このようにVPP/VCC電位切換回路の昇圧回路
5の昇圧速度が遅いと、特に大容量の不揮発性半導体記
憶装置で重要となる書込み動作の高速化に支障をきたす
という問題がある。
However, when the boosting speed of the boosting circuit 5 of the V PP / V CC potential switching circuit is slow, there is a problem that the speeding up of the writing operation, which is particularly important in a large-capacity nonvolatile semiconductor memory device, is hindered. .

(発明が解決しようとする課題) 上記したように従来の半導体不揮発性記憶装置は、V
PP/VCC電位切換回路の昇圧回路の昇圧速度が遅いので、
特に大容量の不揮発性半導体記憶装置で重要となる書込
み動作の高速化に支障をきたすという問題がある。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, the conventional semiconductor nonvolatile memory device
Since the boosting speed of the booster circuit of the PP / V CC potential switching circuit is slow,
In particular, there is a problem in that a high-speed writing operation, which is important in a large-capacity nonvolatile semiconductor memory device, is hindered.

本発明は、上記問題点を解決すべくなされたもので、
その目的は、書込み電位よりも高い電圧を発生させる昇
圧回路の昇圧出力を使用して書込み電位を選択してチッ
プ内部用の書込み電位を取り出す場合に、書込み電位を
高速に選択でき、書込み動作の高速化に十分に対応し得
る半導体不揮発性記憶装置を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above problems,
The purpose is to select the write potential using the boosted output of the booster circuit that generates a voltage higher than the write potential and to extract the write potential for the inside of the chip. An object of the present invention is to provide a semiconductor nonvolatile memory device which can sufficiently cope with high speed operation.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明の半導体不揮発性記憶装置は、書込み時に書込
み電位が印加される書込み電位入力ノードとチップ内部
用の書込み電位を選択的に取り出すための書込み電位出
力ノードとの間に直列に接続されたエンハンスメント型
のトランジスタおよびディプレーション型のトランジス
タと、書込み時に上記書込み電位よりも高い所定の電位
に昇圧した昇圧出力を発生して上記エンハンスメント型
のトランジスタのゲートに印加する昇圧回路と、上記書
込み電位を電源とし、書込みイネーブル信号に応じてス
イッチ動作し、スイッチ出力を前記ディプレーション型
のトランジスタのゲートに印加するスイッチ回路とを具
備することを特徴とする。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) A semiconductor nonvolatile memory device according to the present invention is provided for selectively extracting a write potential input node to which a write potential is applied at the time of writing and a write potential for the inside of a chip. An enhancement type transistor and a depletion type transistor connected in series between a write potential output node and the enhancement type transistor which generate a boosted output which is boosted to a predetermined potential higher than the write potential during writing; And a switch circuit that uses the write potential as a power supply, performs a switch operation in response to a write enable signal, and applies a switch output to the gate of the depletion type transistor. I do.

(作 用) 書込み時に、昇圧回路から書込み電位より高電位の昇
圧出力がゲートに印加されてエンハンスメント型のトラ
ンジスタがオン状態になり、この状態でスイッチ回路か
ら書込み電位の出力がゲートに印加されてディプレーシ
ョン型のトランジスタがオンになると、書込み電位入力
ノードの書込み電位が高速に書込み電位出力ノードに現
われるようになる。従って、特に大容量の不揮発性半導
体記憶装置で重要となる書込み動作の高速化に十分に対
応することが可能になる。
(Operation) At the time of writing, a boosted output having a higher potential than the write potential is applied to the gate from the booster circuit to turn on the enhancement-type transistor, and in this state, the output of the write potential is applied to the gate from the switch circuit. When the depletion type transistor is turned on, the write potential of the write potential input node appears at the write potential output node at high speed. Accordingly, it is possible to sufficiently cope with a high-speed writing operation, which is particularly important in a large-capacity nonvolatile semiconductor memory device.

(実施例) 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明
する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、半導体不揮発性記憶装置、例えばEPROMに
おけるVPP/VCC電位切換回路を示しており、1はチップ
外部から書込み時にVPP電位(例えば12V)が印加され、
読み出し時に0〜VCC電位(例えば5V)が印加される切
換電位入力ノード、2はVCC電位が印加されるVCC入力ノ
ード、3は切換電位出力ノード、6および8は上記切換
電位入力ノード1と切換電位出力ノード3との間に順に
接続されたエンハンスメント型のNチャネルトランジス
タおよび第1のディプレーション型のNチャネルトラン
ジスタ、7は前記VCC入力ノード2と切換電位出力ノー
ド3との間にドレイン・ソース間が接続され、ゲートに
書込みイネーブル信号▲▼が印加される第2のディ
プレーション型のNチャネルトランジスタ、9は上記切
換電位入力ノード1の電位が0〜VCC電位から書込み電
位VPPに遷移したことを検知する検知回路、5はこの検
知回路9の検知出力を受けて上記書込み電位VPPよりも
高い所定の電位に昇圧した昇圧出力A1を発生して上記エ
ンハンスメント型トランジスタ6のゲートに印加する昇
圧回路、10は上記書込み電位VPPを電源とし、書込みイ
ネーブル信号▲▼に応じてスイッチ動作し、スイッ
チ出力A2(信号▲▼が活性状態の時に書込み電位V
PP、信号▲▼が非活性状態の時に0Vになる。)を前
記第1のディプレーション型トランジスタのゲートに印
加するスイッチ回路である。
FIG. 1 shows a V PP / V CC potential switching circuit in a semiconductor non-volatile memory device, for example, an EPROM, and 1 is applied with a V PP potential (for example, 12 V) at the time of writing from outside the chip.
0 to V CC potential (e.g. 5V) altering position input node to be applied within the time of reading, V CC input node V CC potential is applied 2, the switching power level output node 3, 6 and 8 the switching power level input node 1 and the switching power position connected enhancement type N-channel transistors and N-channel transistors of the first depletion type in the order between the output node 3, 7 between the V CC input node 2 and the switching power level output node 3 a is connected between the drain and the source, a second depletion-type N-channel transistor having a gate to the write enable signal ▲ ▼ is applied, the above switching power level potential of the input node 1 is 0 to V CC write from the potential potential 9 detection circuit for detecting that the transition to the V PP, 5 is boosted to the boosted high predetermined potential than the write potential V PP receives the detection output of the detection circuit 9 Booster circuit generates a force A1 is applied to the gate of the enhancement type transistors 6, 10 the write potential V PP as a power source, and switching operation in response to the write enable signal ▲ ▼, switch output A2 (signal ▲ ▼ is Write potential V when active
PP , 0V when signal ▲ ▼ is inactive. ) Is applied to the gate of the first depletion type transistor.

このスイッチ回路10は、例えば図示のように、書込み
イネーブル信号▲▼が入力するインバータ回路20
と、このインバータ回路20の後段に接続されるレベル変
換回路21とからなる。このレベル変換回路21は、Vcc系
の信号をVpp系にレベルシフトするためのものであり、
図示のように、入力段のインバータ回路22と、エンハン
スメント型のNチャネルトランジスタ23、24と、エンハ
ンスメント型のPチャネルトランジスタ25、26が接続さ
れている。いま、インバータ回路22の出力が“L"レベル
(0V)になると、トランジスタ26および23を介して高電
位Vppから電流が流れ出す。この電流により、トランジ
スタ25のゲート電位が上昇し、これがVpp−Vthp(Vthp
はPチャネルトランジスタの閾値電圧)に到達するまで
トランジスタ25がオンになる。このトランジスタ25がオ
ンしている時、高電位Vppにより出力ノードが充電さ
れ、スイッチ出力A2が書き込み電位Vppになる。そし
て、出力ノードの電位がVpp−Vthpに到達すると、トラ
ンジスタ26がオフになる。この時には、トランジスタ25
もオフにされており、高電位Vppからの電流流出経路が
なくなる。これに対して、インバータ回路22の出力が
“H"レベル(5V)になると、トランジスタ24がオンし、
出力ノードは放電され、スイッチ出力A2は0Vになる。
The switch circuit 10 includes, for example, an inverter circuit 20 to which a write enable signal
And a level conversion circuit 21 connected to the subsequent stage of the inverter circuit 20. This level conversion circuit 21 is for level-shifting the Vcc system signal to the Vpp system,
As shown in the figure, an inverter circuit 22 in the input stage, enhancement-type N-channel transistors 23 and 24, and enhancement-type P-channel transistors 25 and 26 are connected. Now, when the output of the inverter circuit 22 becomes “L” level (0 V), a current flows from the high potential Vpp via the transistors 26 and 23. Due to this current, the gate potential of the transistor 25 rises, which is Vpp−Vthp (Vthp
, The threshold voltage of the P-channel transistor). When the transistor 25 is on, the output node is charged by the high potential Vpp, and the switch output A2 becomes the write potential Vpp. When the potential of the output node reaches Vpp-Vthp, the transistor 26 is turned off. At this time, transistor 25
Is also turned off, and there is no current outflow path from the high potential Vpp. On the other hand, when the output of the inverter circuit 22 becomes “H” level (5 V), the transistor 24 turns on,
The output node is discharged and switch output A2 goes to 0V.

上記VPP/VCC電位切換回路において、切換電位入力ノ
ード1の電位が0〜VCC電位から書込み電位VPPに遷移す
ると、この変化を検知回路9が検知し、昇圧回路5は上
記検知回路9の検知出力を受けて上記書込み電位VPP
りも高い所定の電位(例えば16V)に昇圧した昇圧出力A
1を発生してエンハンスメント型トランジスタ6のゲー
トに印加する。従って、切換電位入力ノード1に書込み
電位VPPが印加されると、エンハンスメント型トランジ
スタ6はオン状態になり、エンハンスメント型トランジ
スタ6および第1のディプレーション型トランジスタ8
の直列接続ノードには、切換電位入力ノード1の印加電
位VPPがエンハンスメント型トランジスタ6を通してそ
のまま(閾値電圧による低下なしに)現われる。
In the V PP / V CC potential switching circuit, when the potential of the switching potential input node 1 transitions from 0 to V CC potential to the writing potential V PP , this change is detected by the detection circuit 9, and the booster circuit 5 detects the change in the detection circuit. 9, a boosted output A boosted to a predetermined potential (for example, 16 V) higher than the write potential VPP in response to the detected output 9
1 is generated and applied to the gate of the enhancement transistor 6. Therefore, when the write potential V PP is applied to the switching potential input node 1, the enhancement type transistor 6 is turned on, and the enhancement type transistor 6 and the first depletion type transistor 8 are turned on.
The series connection nodes, (without loss due to the threshold voltage) as applied potential V PP for altering position input node 1 through enhancement transistor 6 appears.

この時、書込みイネーブル信号▲▼が非活性状態
(本例では5V)であるとすると、スイッチ回路10のスイ
ッチ出力A2は0Vになり、第1のディプレーション型トラ
ンジスタ8はオフ状態になる。この時、第2のディプレ
ーション型トランジスタ7はゲートに5Vが印加されるこ
とによりオンになり、切換電位出力ノード3には、VCC
入力ノード2の印加電位VCCが現われる。
At this time, assuming that the write enable signal ▼ is inactive (5V in this example), the switch output A2 of the switch circuit 10 becomes 0V, and the first depletion type transistor 8 is turned off. At this time, the second depletion-type transistor 7 is turned on by 5V is applied to the gate, the switching power level output node 3, V CC
The applied potential V CC of the input node 2 appears.

上記とは逆に、書込みイネーブル信号▲▼が活性
状態(本例では0V)になると、スイッチ回路10のスイッ
チ出力A2はVPP電位になり、第1のディプレーション型
トランジスタ8はオン状態になる。この時、第2のディ
プレーション型トランジスタ7はゲートに0Vが印加され
ることによりオフになる。従って、切換電位出力ノード
3には、切換電位入力ノード1の印加電位VPPがエンハ
ンスメント型トランジスタ6および第1のディプレーシ
ョン型トランジスタ8を通して現われる。
Contrary to the above, when the write enable signal ▲ ▼ is (0V in this embodiment) activated state switch output A2 of the switch circuit 10 becomes V PP potential, a first depletion type transistor 8 is turned on . At this time, the second depletion type transistor 7 is turned off by applying 0V to the gate. Therefore, the switching power level output node 3, the applied potential V PP for altering position input node 1 appears through enhancement type transistor 6 and the first depletion type transistor 8.

なお、読み出し時には、昇圧回路5は昇圧動作を行わ
ず、昇圧出力A1は0Vになるので、エンハンスメント型ト
ランジスタ6はオフ状態になり、VCC入力ノード2から
切換電位入力ノード1への電流経路は切換電位入力ノー
ド1の電位に無関係に遮断される。
At the time of reading, the booster circuit 5 does not perform the boosting operation, since the boosted output A1 is to 0V, and enhancement type transistor 6 is turned off, the current path from V CC input node 2 to the switching power level input node 1 It is cut off regardless of the potential of the switching potential input node 1.

上記VPP/VCC電位切換回路によれば、昇圧回路5の昇
圧速度は遅く、インバータ回路20およびレベル変換回路
21からなるスイッチ回路10は高速に動作する。そして、
書込み電位VPPが高電位に遷移した段階で昇圧回路5の
昇圧動作が完了し、その後の非書込みと書込みの動作は
高速のスイッチ回路10により制御される。従って、書込
み時に、昇圧回路5から書込み電位VPPより高電位の昇
圧出力A1がゲートに印加されるエンハンスメント型トラ
ンジスタ6がオン状態になり、この状態でスイッチ回路
10から書込み電位VPPの出力がゲートに印加される第1
のディプレーション型トランジスタ8がオンになると、
切換電位入力ノード1の書込み電位VPPが高速に切換電
位出力ノード3に現われるようになる。
According to the V PP / V CC potential switching circuit, the boosting speed of the boosting circuit 5 is low, and the inverter circuit 20 and the level conversion circuit
The switch circuit 10 composed of 21 operates at high speed. And
The boosting operation of the booster circuit 5 is completed when the write potential VPP transitions to the high potential, and the subsequent non-write and write operations are controlled by the high-speed switch circuit 10. Therefore, at the time of writing, the enhancement-type transistor 6 boosted output A1 of higher potential than the write voltage V PP is applied to the gate from the booster circuit 5 are turned on, the switch circuit in this state
The output of the write potential V PP from 10 is applied to the gate.
When the depletion type transistor 8 is turned on,
Write potential V PP for altering position input node 1 is to appear in the altering position output node 3 at a high speed.

なお、上記実施例では、切換電位入力ノード1と切換
電位出力ノード3との間にエンハンスメント型トランシ
スタ6およびディプレーション型トランジスタ8の順に
接続した場合を示したが、この逆の順に接続してもよ
く、要するに互いに直列に接続すればよい。
In the above embodiment, the case where the enhancement type transistor 6 and the depletion type transistor 8 are connected between the switching potential input node 1 and the switching potential output node 3 in this order is shown. In short, they may be connected in series.

また、上記実施例では、切換電位入力ノード1にチッ
プ外部から直接に書込み時にVPP電位を印加した場合を
示したが、チップ外部から印加された書込み電圧をチッ
プ内部で降圧して切換電位入力ノード1に印加するよう
にしてもよい。
Further, in the embodiment, although the case of applying the V PP potential altering position input node 1 when directly writing from the outside of the chip, the step-down to the altering position input a write voltage applied from the outside of the chip in the chip You may make it apply to node 1.

また、上記実施例では、VPP/VCC電位切換回路を示し
たが、本発明はこれに限ることなく、半導体不揮発性記
憶装置において書込み時に書込み電位が印加される書込
み電位入力ノードの書込み電位をチップ内部用の書込み
電位を選択的に取り出すための書込み電位出力ノードに
選択的に出力させる場合に適用することが可能である。
Further, in the above embodiment, the V PP / V CC potential switching circuit is shown. However, the present invention is not limited to this, and the write potential of the write potential input node to which the write potential is applied at the time of writing in the semiconductor nonvolatile memory device. Can be selectively output to a write potential output node for selectively extracting a write potential for the inside of the chip.

[発明の効果] 上述したように本発明によれば、書込み電位よりも高
い電圧を発生させる昇圧回路の昇圧出力を使用して書込
み電位を選択してチップ内部用の書込み電位を取り出す
場合、例えばEPROMやEEPROMにおけるVPP/VCC電位切換回
路などに適用することにより、書込み電位を高速に選択
でき、書込み動作の高速化に十分に対応し得る半導体不
揮発性記憶装置を実現することができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, when the write potential is selected using the boosted output of the booster circuit that generates a voltage higher than the write potential to extract the write potential for the inside of the chip, for example, By applying the present invention to a V PP / V CC potential switching circuit in an EPROM or an EEPROM, a write potential can be selected at a high speed, and a semiconductor nonvolatile memory device which can sufficiently cope with a high-speed write operation can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の半導体不揮発性記憶装置におけるVPP/
VCC電位切換回路の一実施例を示す回路図、第2図は従
来のEPROMにおけるVPP/VCC電位切換回路を示す回路図で
ある。 1……切換電位入力ノード、2……VCC入力ノード、3
……切換電位出力ノード、5……昇圧回路、6……エン
ハンスメント型のNチャネルトランジスタ、7……第2
のディプレーション型のNチャネルトランジスタ、8…
…第1のディプレーション型のNチャネルトランジス
タ、9……検知回路、10……スイッチ回路、20、22……
インバータ回路、21……レベル変換回路、23、24……エ
ンハンスメント型のNチャネルトランジスタ、25、26…
…エンハンスメント型のPチャネルトランジスタ。
FIG. 1 shows V PP / V in a semiconductor nonvolatile memory device of the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of a V CC potential switching circuit, and FIG. 2 is a circuit diagram showing a V PP / V CC potential switching circuit in a conventional EPROM. 1 ... Switching potential input node, 2 ... V CC input node, 3
... Switching potential output node, 5 ... Boost circuit, 6 ... Enhancement type N-channel transistor, 7 ... Second
Depletion-type N-channel transistors, 8 ...
... First depletion type N-channel transistor, 9 ... Detection circuit, 10 ... Switch circuit, 20, 22 ...
Inverter circuit, 21 Level conversion circuit, 23, 24 Enhancement type N-channel transistor, 25, 26 ...
... An enhancement type P-channel transistor.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】書込み時に書込み電位が印加される書込み
電位入力ノードとチップ内部用の書込み電位を選択的に
取り出すための書込み電位出力ノードとの間に直列に接
続されたエンハンスメント型のトランジスタおよびディ
プレーション型のトランジスタと、 書込み時に、上記書込み電位よりも高い所定の電位に昇
圧した昇圧出力を発生して上記エンハンスメント型のト
ランジスタのゲートに印加する昇圧回路と、 上記書込み電位を電源とし、書込みイネーブル信号に応
じてスイッチ動作し、スイッチ出力を前記ディプレーシ
ョン型のトランジスタのゲートに印加するスイッチ回路 とを具備することを特徴とする半導体不揮発性記憶装
置。
An enhancement type transistor and a dip connected in series between a write potential input node to which a write potential is applied at the time of writing and a write potential output node for selectively extracting a write potential for the inside of a chip. A writing transistor, a booster circuit for generating a boosted output boosted to a predetermined potential higher than the write potential and applying the boosted output to the gate of the enhancement transistor at the time of writing, A switch circuit that performs a switch operation in response to a signal and applies a switch output to the gate of the depletion type transistor.
【請求項2】書込み時/読み出し時に対応して書込み電
位/読み出し電位が印加される切換電位入力ノードと上
記書込み電位あるいは読み出し電位選択的に取り出すた
めの切換え電位出力ノードとの間に直列に接続されたエ
ンハンスメント型のトランジスタおよび第1のディプレ
ーション型のトランジスタと、 通常の読み出し電源電位が印加される読み出し電源入力
ノードと上記切換え電位出力ノードとの間に接続され、
ゲートに書込みイネーブル信号が印加される第2のディ
プレーション型のトランジスタと、 書込み時に、上記書込み電位よりも高い所定の電位に昇
圧した昇圧出力を発生して上記エンハンスメント型のト
ランジスタのゲートに印加する昇圧回路と、 上記書込み電位を電源とし、前記書込みイネーブル信号
に応じてスイッチ動作し、スイッチ出力を前記第1のデ
ィプレーション型のトランジスタのゲートに印加するス
イッチ回路 とを具備することを特徴とする請求項1記載の半導体不
揮発性記憶装置。
2. A switching potential input node to which a writing potential / reading potential is applied corresponding to a writing / reading operation and a switching potential output node for selectively taking out the writing potential or the reading potential are connected in series. The enhancement-type transistor and the first depletion-type transistor, connected between a read power supply input node to which a normal read power supply potential is applied and the switching potential output node,
A second depletion-type transistor having a gate to which a write enable signal is applied; and a write-up output which is boosted to a predetermined potential higher than the write potential during writing and applied to the gate of the enhancement-type transistor. A booster circuit; and a switch circuit that uses the write potential as a power supply, performs a switch operation in response to the write enable signal, and applies a switch output to the gate of the first depletion type transistor. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1.
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