JP2847169B2 - Method for pulverizing polymer - Google Patents

Method for pulverizing polymer

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JP2847169B2 JP20763690A JP20763690A JP2847169B2 JP 2847169 B2 JP2847169 B2 JP 2847169B2 JP 20763690 A JP20763690 A JP 20763690A JP 20763690 A JP20763690 A JP 20763690A JP 2847169 B2 JP2847169 B2 JP 2847169B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はポリマーの微粉末化方法にかかわるもので、
とくに放射線による崩壊作用を利用してポリテトラフル
オルエチレン樹脂その他の崩壊型のポリマーを微粉末化
するポリマーの微粉末化方法に関するものである。
The present invention relates to a method for pulverizing a polymer,
In particular, the present invention relates to a method for pulverizing a polymer by pulverizing a polytetrafluoroethylene resin or other degradable polymers by utilizing the disintegration effect of radiation.

[従来の技術] ポリテトラフルオルエチレン樹脂(以下「PTFE」と略
す)はポリエチレンの水素原子を全部フッ素原子により
置換した化学構造を持つ高分子である。このPFTEは、不
燃性かつ熱可塑性であるとともに、すべての有機溶剤に
安定であるため、機械部品、ライニングその他の用途に
使用されている。
[Prior Art] Polytetrafluoroethylene resin (hereinafter abbreviated as “PTFE”) is a polymer having a chemical structure in which all hydrogen atoms of polyethylene are replaced by fluorine atoms. This PFTE is nonflammable and thermoplastic and stable in all organic solvents, so it is used for mechanical parts, linings and other applications.

ここで言うPTFEは、市販されている新品のPTFE、ある
いは新品のPTFEの加工工程から発生したもの、および成
形後製品として使用されしかるのちスクラップとして回
収されたものが該当する。
The PTFE mentioned here corresponds to a commercially available new PTFE, a PTFE generated from a processing step of a new PTFE, and a PTFE that is used as a product after molding and then collected as scrap.

上記新品のPTFEの加工工程から発生したPTFEについて
若干説明する。すなわち、PTFEは熱可塑性の樹脂ではあ
るが、溶融粘度が異常に高く、通常の樹脂に使用されて
いる射出成形等の加工方法では成形することができな
い。したがって、新品PTFEの粉末を一度圧縮して予備成
形し、融点以上の温度に加熱して焼成後、冷却し、製品
の寸法調整工程を経て、目的とする製品を製造する方法
が一般に行われている。当該PTFEの加工工程から発生し
たものとは、この製品の寸法調整工程において発生する
切削屑のことである。
The PTFE generated from the process of processing the above-mentioned new PTFE will be briefly described. That is, although PTFE is a thermoplastic resin, its melt viscosity is abnormally high and cannot be molded by a processing method such as injection molding used for ordinary resins. Therefore, new PTFE powder is once compressed, pre-molded, heated to a temperature equal to or higher than the melting point, fired, cooled, and subjected to a product dimensional adjustment process to produce the desired product. I have. What is generated from the PTFE processing step is cutting chips generated in the dimension adjusting step of the product.

なおPTFEの形状としては、切削屑、粉末、成形体等の
いずれの形状でもよい。
The shape of the PTFE may be any shape such as cutting chips, powder, and a compact.

しかして、こうしたPTFEは化学的にきわめて安定であ
るためその廃棄あるいは再生の処理に難点がある。こう
したPTFEを処理するにあたって、従来の技術として、PT
FEに放射線、とくに電離放射線と呼ばれているα線、β
線、γ線、電子線その他各種の放射線を照射することが
行われている。すなわち、PTFEに放射線を照射すると高
分子量のPTFEが低分子量化し、微粉砕し易くなるので、
この現象を利用してPTFEを微粉砕、ないしは微粉末化す
ることとしている。
However, since such PTFE is extremely stable chemically, there is a problem in its disposal or regeneration. In processing such PTFE, the conventional technology is PT
FE has radiation, especially α-ray and β which are called ionizing radiation
Irradiation with rays, gamma rays, electron beams, and various other types of radiation has been performed. In other words, irradiating PTFE with radiation lowers the molecular weight of high molecular weight PTFE and makes it easier to pulverize,
Utilizing this phenomenon, PTFE is pulverized or pulverized.

微粉砕されたPTFEは、潤滑材、塗料・プラスチック・
ゴム・印刷インクなどへの滑剤、オイル・グリース極圧
添加剤など幅広い用途に利用されている。
Finely ground PTFE is used for lubricants, paints, plastics,
It is used for a wide range of applications, such as lubricants for rubber and printing inks, and oil and grease extreme pressure additives.

たとえば、特開昭49−22449号においては、PTFEに放
射線を照射し、ついでハロゲン化メタンと酸素成分の共
存下において加熱を行ったのち、機械粉砕を行うことが
開示されている。また、特開昭55−31506号において
は、PTFEに放射線を照射中、あるいは照射後、加熱処理
を行い、微粉砕することが開示されている。これらの方
法は、放射線を照射し、さらに加熱処理を行って、PTFE
の分解ないし低分子量化への促進を行うものであり、加
熱処理の効果に重点を置いている。
For example, JP-A-49-22449 discloses that PTFE is irradiated with radiation, heated in the presence of a halogenated methane and an oxygen component, and then subjected to mechanical pulverization. Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-31506 discloses that PTFE is subjected to a heat treatment during or after irradiation with radiation to be finely pulverized. In these methods, irradiate radiation, further heat treatment, PTFE
It promotes the decomposition or reduction of the molecular weight, and focuses on the effect of heat treatment.

しかしながら、いずれの方法にしても所定の粒径にま
で微粉末化するためにその照射する放射線の線量が多く
なり、コスト上の問題が生じている。
However, in any method, since the powder is pulverized to a predetermined particle size, the irradiation dose of the radiation is increased, which causes a problem in cost.

さらに、PTFEは既述のようにインク等への滑剤などと
して利用されているが、最近ではこのPTFEをポリカーボ
ネート等のエンジニアリングプラスチックに添加するこ
とにより、素材としてプラスチックの性能限界を打破す
るとともにその改質等を行う目的でさかんに使用してい
る。
Furthermore, PTFE is used as a lubricant for inks and the like, as described above. Recently, however, the addition of this PTFE to engineering plastics such as polycarbonate has overcome the performance limitations of plastics as a raw material and has been improved. It is used extensively for quality purposes.

しかして、とくにエンジニアリングプラスチックにPT
FEを添加して使用する場合には、PTFEの融点が非常に重
要である。すなわち、PTFE微粉末を添加されたエンジニ
アリングプラスチックは、成形されて各種用途の製品と
して利用されるのであるが、この成形工程において加熱
処理をともなう場合、もとの素材であるエンジニアリン
グプラスチックより融点の低いPTFE微粉末を使用とする
と、製造された製品中に気泡等の不具合が生じてしまう
という問題がある。
However, especially for engineering plastics, PT
When FE is used, the melting point of PTFE is very important. In other words, engineering plastics to which PTFE fine powder is added are molded and used as products for various applications, but when this molding process involves heat treatment, the melting point is lower than that of the original material, engineering plastics. When PTFE fine powder is used, there is a problem that defects such as bubbles occur in the manufactured product.

[発明が解決しようとする課題] 本発明は以上のような諸問題にかんがみてなされたも
ので、PTFEその他のポリマーに放射線を照射する工程に
おいて、照射雰囲気中の酸素濃度をコントロールするこ
とにより、その融点、粉砕生成物の小粒径化および照射
線量の低下を目的とするポリマーの微粉末化方法を提供
することを課題とする。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made in view of the above problems, and in a step of irradiating PTFE or other polymer with radiation, by controlling the oxygen concentration in the irradiation atmosphere, An object of the present invention is to provide a method for pulverizing a polymer for the purpose of reducing the melting point, the particle size of a pulverized product, and reducing the irradiation dose.

[課題を解決するための手段] すなわち本発明は、ポリテトラフルオルエチレン樹脂
(PTFE)その他のポリマーに放射線を照射することによ
りこれを微粉末化するポリマーの微粉末化方法であっ
て、上記ポリマーを取り囲む照射雰囲気ガス中の酸素濃
度を制御することにより、上記微粉末化されるポリマー
の粒度を制御することを特徴とするポリマーの微粉末化
方法である。
[Means for Solving the Problems] That is, the present invention is a method for pulverizing a polymer, which comprises irradiating a polytetrafluoroethylene resin (PTFE) or other polymer with a radiation to pulverize the polymer. A method for pulverizing a polymer, comprising controlling the particle size of the polymer to be pulverized by controlling the oxygen concentration in an irradiation atmosphere gas surrounding the polymer.

なおポリマーとしては、上述のようなポリテトラフル
オルエチレン樹脂はもちろん、ポリ塩化三フッ化エチレ
ン、ポリイソブチレン等の放射線による崩壊型のポリマ
ーを対象とすることもできる。また、高分子であるセル
ロースを含有している木材、ワラ、モミガラあるいは紙
などの微細化にも応用可能である。ただし、易燃性の対
象物では酸素濃度に制限を加える必要がある。
In addition, as the polymer, not only the above-mentioned polytetrafluoroethylene resin, but also a radiation-degradable polymer such as polychlorinated ethylene trifluoride and polyisobutylene can be used. In addition, the present invention can also be applied to miniaturization of wood, straw, fir, paper or the like containing cellulose as a polymer. However, for flammable objects, it is necessary to limit the oxygen concentration.

以下第1図にもとづき本発明をより詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to FIG.

第1図は、本発明を実施するための放射線照射装置1
の概略図であつて、この放射線照射装置1は、電子加速
器2と、酸素濃度コントロール装置3と、照射容器4
と、フッ化水素除去装置5と、オゾン分解装置6と、ブ
ロワー7と、スタック8とを有する。
FIG. 1 shows a radiation irradiation apparatus 1 for carrying out the present invention.
The radiation irradiation apparatus 1 includes an electron accelerator 2, an oxygen concentration control apparatus 3, and an irradiation container 4.
, A hydrogen fluoride removing device 5, an ozone decomposing device 6, a blower 7, and a stack 8.

電子加速器2は、所定線量の電子線を照射容器4に向
けて照射する。
The electron accelerator 2 irradiates the irradiation container 4 with a predetermined dose of an electron beam.

酸素濃度コントロール装置3は、所定濃度の酸素を照
射容器4内に供給するもので、酸素分析計9からの検出
信号を信号ライン10を介して受信し、照射容器4内の酸
素濃度を一定量になるように適宜制御するものである。
この酸素濃度コントロール装置3による供給酸素は、空
気を原料としてPSA法(圧力変動吸着法)により酸素を
製造し、供給してもよく、またボンベ、CE装置等から供
給してもよい。
The oxygen concentration control device 3 supplies a predetermined concentration of oxygen into the irradiation container 4, receives a detection signal from the oxygen analyzer 9 via the signal line 10, and reduces the oxygen concentration in the irradiation container 4 by a certain amount. Is appropriately controlled so that
The oxygen supplied by the oxygen concentration control device 3 may be produced and supplied by PSA method (pressure fluctuation adsorption method) using air as a raw material, or may be supplied from a cylinder, a CE device or the like.

照射容器4は、所定容積の容器であって、所定の酸素
濃度に制御されたガスは、照射容器4内に収容したPTFE
11にまんべんなく接触するように供給すればよい。照射
容器4は固定床、移動床、流動床等いずれの形でもよ
い。なお、照射容器4の出口ガスの一部をブロワー12を
介して照射容器4の入り口部に戻すことにより酸素を有
効に利用することとしてもよい。
The irradiation container 4 is a container having a predetermined volume, and a gas controlled to a predetermined oxygen concentration is made of PTFE contained in the irradiation container 4.
What is necessary is just to supply so that it may contact 11 evenly. The irradiation container 4 may have any form such as a fixed bed, a moving bed, and a fluidized bed. The oxygen may be effectively used by returning a part of the outlet gas of the irradiation container 4 to the entrance of the irradiation container 4 via the blower 12.

フッ化水素除去装置5は、PTFE11が電子照射され、低
分子量化する際に発生するフッ化水素(HF)を処理して
無害化する。
The hydrogen fluoride removing device 5 treats hydrogen fluoride (HF) generated when the PTFE 11 is irradiated with electrons to reduce the molecular weight, and renders the harmless.

オゾン分解装置6は、照射雰囲気中の酸素と電子線と
が衝突することにより発生した少量のオゾンを処理し無
害化する。
The ozone decomposer 6 treats a small amount of ozone generated by collision of oxygen in an irradiation atmosphere with an electron beam to render the ozone harmless.

ブロワー7は、照射容器4から排出されるガスを吸引
する。このガスはフッ化水素除去装置5およびオゾ分解
装置6において処理後、スタック8を介して大気中に放
出される。
The blower 7 sucks the gas discharged from the irradiation container 4. This gas is discharged into the atmosphere via the stack 8 after being processed in the hydrogen fluoride removing device 5 and the azo decomposition device 6.

なお、放射線としては、電子線に限ることなく、一般
に電離放射線と呼ばれている放射線を用いることができ
る。
The radiation is not limited to the electron beam, and radiation generally called ionizing radiation can be used.

また、PTFE11への照射方法としては、照射容器4のか
わりに金網、ダンボール、その他の容器にこのPTFE11を
入れ、あるいはそのままで、プラスチックまたは金属性
のフィルム製の袋に入れたのち、所定の濃度の酸素ガス
を封入し、カート・コンベアに乗せ、電子加速器2の下
を通過させて照射する方法でもよい。
As a method of irradiating the PTFE 11, the PTFE 11 is put into a wire net, cardboard, or another container instead of the irradiation container 4, or the PTFE 11 is put into a bag made of a plastic or metal film as it is, and then a predetermined concentration is applied. May be filled with oxygen gas, placed on a cart conveyor, and passed under the electron accelerator 2 for irradiation.

PTFE11に電子線を照射したときのPTFE11の分解メカニ
ズムは明らかではないが、以下のように進むものと考え
られる。
Although the decomposition mechanism of PTFE11 when the PTFE11 is irradiated with an electron beam is not clear, it is considered that the process proceeds as follows.

すなわち、PTFE11を空気中あるいは高濃度の酸素中に
放置してもこれは分解しない。また、酸素が全くない雰
囲気中たとえば窒素の雰囲気でPTFE11に電子線を照射し
た場合には、通常の方法では粉砕不可能であり、PTFE11
の分解は非常に遅い。
That is, even if the PTFE 11 is left in the air or in a high concentration of oxygen, it does not decompose. Further, when the PTFE 11 is irradiated with an electron beam in an atmosphere containing no oxygen, for example, in a nitrogen atmosphere, the PTFE 11 cannot be pulverized by an ordinary method, and
Decomposition is very slow.

一方酸素が存在するガス中で、PTFE11に電子線を照射
すると、その分解が著しく進行する。すなわち、電子線
の作用の下に酸素とPTFE11とが反応し、まずPTFE11の過
酸化物等が生成される。この過酸化物等がHF、CO2、CO
およびその他微量のCOF2に変化する。この過酸化物等が
CO2、CO等に変化するときにPTFE11の低分子量化が起こ
ると考えられる。
On the other hand, when the PTFE 11 is irradiated with an electron beam in a gas containing oxygen, its decomposition proceeds significantly. That is, oxygen reacts with PTFE 11 under the action of an electron beam, and firstly, peroxide of PTFE 11 and the like are generated. This peroxide is HF, CO2, CO
And other trace amounts of COF2. This peroxide etc.
It is considered that the molecular weight of PTFE 11 is reduced when it is changed to CO2, CO, or the like.

また、照射時の酸素濃度に応じて、照射済みPTFE11中
にこの過酸化物等が生成・残留すると考えられる。この
生成・残留した過酸化物等と照射時の低分子量化とが微
粉砕に寄与するものと考えられる。
Further, it is considered that the peroxide and the like are generated and remain in the irradiated PTFE 11 according to the oxygen concentration at the time of irradiation. It is considered that the generated and remaining peroxide and the like and the reduction in molecular weight at the time of irradiation contribute to fine pulverization.

つまり、PTFE11の過酸化物等をできるだけ多く生成さ
せることによりPTFE11の分解を促進させることができ
る。したがって、酸素濃度をコントロールすることによ
りPTFE11の分解を制御することが可能である。
That is, decomposition of PTFE 11 can be promoted by generating as much peroxide and the like of PTFE 11 as possible. Accordingly, it is possible to control the decomposition of PTFE 11 by controlling the oxygen concentration.

たとえば、所定の粒度ないしは粒径を有するように微
粉末化を行いたいときには、これに対応した濃度の酸素
を照射容器4内のPTFE11に供給すればよい。
For example, when it is desired to carry out pulverization so as to have a predetermined particle size or a particle size, oxygen having a corresponding concentration may be supplied to the PTFE 11 in the irradiation container 4.

また、電子線の照射線量の増加に応じてPTZTE11の融
点は次第に低下するが、同一照射線量であれば酸素濃度
によらずPTFE11の融点が同じであることが見い出され
た。つまり上述のような過酸化物等が、PTFE11の融点の
降下には作用しないものと考えられる。
In addition, it was found that the melting point of PTZTE11 gradually decreased as the irradiation dose of the electron beam increased, but that the melting point of PTFE11 was the same regardless of the oxygen concentration at the same irradiation dose. In other words, it is considered that the above-mentioned peroxides do not act to lower the melting point of PTFE 11.

かくして、本発明においては、酸素濃度をコントロー
ルすることにより放射線の照射線量を低減させることが
可能となり、しかもこうした照射線量を適宜選択するこ
とによって、微粉末化するPTFE等の粒径および融点を所
望の範囲内におさめることができる。さらには、必要で
あれば加熱処理を実施することも可能で、こうした加熱
に要する時間の短縮、および加熱に要するエネルギーを
節約することも可能である。
Thus, in the present invention, the irradiation dose of radiation can be reduced by controlling the oxygen concentration, and the particle size and melting point of PTFE or the like to be finely powdered can be reduced by appropriately selecting such irradiation dose. Can be set within the range. Furthermore, heat treatment can be performed if necessary, so that the time required for such heating can be reduced and the energy required for heating can be saved.

[作用] 本発明によるポリマーの微粉末化方法においては、放
射線をポリテトラフルオルエチレン樹脂その他のポリマ
ーに照射するにあたって酸素濃度を制御することとした
ので、その酸素濃度に応じた照射線量、粒径および融点
を得ることができる。
[Function] In the method of pulverizing a polymer according to the present invention, the radiation concentration is controlled when irradiating radiation to a polytetrafluoroethylene resin or other polymer. The size and melting point can be obtained.

[実施例] つぎに本発明によるポリマーの微粉末化方法の実施例
を説明する。
[Example] Next, an example of the method for pulverizing a polymer according to the present invention will be described.

第1図に示した放射線照射装置1によりPTFE11に電子
線を照射した。具体的にはPTFE11を縦3mm、横3mm、厚さ
0.05mmの小片からなる薄片切削屑とし、この1Kgを幅217
mm、奥行き397mm、深さ100mmのステンレス製の照射容器
4に充填収納し、上部の照射面を0.05mmの厚さのステン
レス製薄膜で密閉した。しかるのちに、この密閉照射容
器4の両サイドについているバルブを開け、ガス混合器
つまり酸素濃度コントロール装置3から所定の濃度の酸
素および窒素を含んだガスを流通して、内部のガスを充
分に置換したのち、バルブを閉じて再密閉した。
The PTFE 11 was irradiated with an electron beam by the radiation irradiation device 1 shown in FIG. Specifically, PTFE 11 is 3 mm long, 3 mm wide, and thickness
Thin chips made of small pieces of 0.05 mm are used.
The container was filled and stored in a stainless steel irradiation container 4 having a thickness of 397 mm, a depth of 397 mm, and a depth of 100 mm, and the upper irradiation surface was sealed with a stainless steel thin film having a thickness of 0.05 mm. Thereafter, the valves on both sides of the closed irradiation container 4 are opened, and a gas containing a predetermined concentration of oxygen and nitrogen is circulated from the gas mixer, that is, the oxygen concentration control device 3, so that the gas inside the container is sufficiently discharged. After replacement, the valve was closed and resealed.

この所定の濃度の酸素雰囲気にさせた密閉照射容器4
を速度調整可能なカート(図示せず)に乗せ、加速電圧
5MV、電流値10mAの照射条件で、所望の照射線量が得ら
れるように電子加速器2から電子線の照射を行った。な
お、照射線量数Mrad照射ごとに酸素濃度コントロール装
置3から密閉照射器4に、所定の濃度の酸素を含んだガ
スを供給し、内部の酸素ガス濃度が一定になるようにし
た。
The sealed irradiation container 4 in which the oxygen atmosphere of the predetermined concentration is set.
On a speed-adjustable cart (not shown).
Electron beam irradiation was performed from the electron accelerator 2 under the irradiation conditions of 5 MV and a current value of 10 mA so as to obtain a desired irradiation dose. In addition, a gas containing a predetermined concentration of oxygen was supplied from the oxygen concentration control device 3 to the sealed irradiation device 4 at every irradiation dose of several Mrad, so that the oxygen gas concentration in the inside became constant.

所定の照射線量になったところで、この照射ずみのPT
FE11をラボ用ジェット粉砕器により微粉末化を行った。
When the prescribed irradiation dose is reached, this irradiated PT
FE11 was pulverized with a laboratory jet grinder.

また、照射済みのPTFE11の融点を、熱分析装置(図示
せず)を使用して算出した。
The melting point of the irradiated PTFE 11 was calculated using a thermal analyzer (not shown).

第2図は、酸素濃度0〜100%の条件下における照射
線量と融点との関係を示すグラフ、第3図は、ある照射
線量の条件下での酸素濃度に対する融点の関係を示すグ
ラフである。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the irradiation dose and the melting point under the condition of oxygen concentration of 0 to 100%, and FIG. 3 is a graph showing the relationship between the oxygen concentration and the melting point under a certain irradiation dose. .

第2図から判明するように、照射線量の増加にともな
い融点が所定の勾配でほぼ直線的に降下する。しかも第
3図に示すように、同一照射線量であるならば照射雰囲
気ガス中の酸素濃度を変化させても融点は全く変らない
ことが判明した。
As can be seen from FIG. 2, the melting point decreases almost linearly with a predetermined gradient as the irradiation dose increases. Moreover, as shown in FIG. 3, it was found that the melting point was not changed at all even if the oxygen concentration in the irradiation atmosphere gas was changed if the irradiation dose was the same.

第4図は、各酸素濃度の条件下における照射線量と粉
砕後の平均粒径Dp50との関係を示すグラフである。照射
線量の増加にともない平均粒度は小さくなり、また照射
雰囲気ガス中の酸素濃度を増加することにより平均粒度
が著しく小さくなることがわかる。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the irradiation dose under each oxygen concentration condition and the average particle size Dp50 after pulverization. It can be seen that the average particle size decreases as the irradiation dose increases, and that the average particle size decreases significantly by increasing the oxygen concentration in the irradiation atmosphere gas.

たとえば、平均粒径5μmの微粒子を得たい場合に、
酸素濃度21%のときの照射線量は90Mradとする。酸素濃
度60%のときの照射線量は70Mradとする。酸素濃度100
%の時の照射線量は50Mradとする。これらの照射線量に
おけるそれぞれ融点は、第2図から313℃、316.5℃、31
9.5℃である。
For example, to obtain fine particles having an average particle size of 5 μm,
The irradiation dose when the oxygen concentration is 21% is 90 Mrad. When the oxygen concentration is 60%, the irradiation dose is 70 Mrad. Oxygen concentration 100
The irradiation dose at% is 50 Mrad. The melting points at these irradiation doses are 313 ° C, 316.5 ° C, 31
9.5 ° C.

また、目的とする融点が320℃の微粉末化PTFE11を得
たいときには、酸素濃度100%、および照射線量50Mrad
に成るように照射すればよく、酸素濃度および照射線量
を組み合わせることにより、粒径および融点等、目的の
物性を持つPTFE微粉末を製造することが可能である。
Also, when it is desired to obtain a fine powdered PTFE 11 having a desired melting point of 320 ° C., an oxygen concentration of 100% and an irradiation dose of 50 Mrad
It is possible to produce PTFE fine powder having desired physical properties such as particle diameter and melting point by combining the oxygen concentration and the irradiation dose.

[発明の効果] 以上のように本発明によれば、放射線の照射とともに
酸素濃度を制御するようにしたので、照射線量を低減さ
せることが可能となるとともに、所定の酸素濃度に設定
することにより、任意の粒度および融点を有する微粒子
を得ることができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, since the oxygen concentration is controlled together with the irradiation of radiation, it is possible to reduce the irradiation dose and to set the oxygen concentration to a predetermined value. And fine particles having any particle size and melting point can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明によるポリマーの微粉末化方法を実施す
るための放射線照射装置1の概略図、 第2図は、酸素濃度0〜100%の条件下における照射線
量と融点との関係を示すグラフ、 第3図は、ある照射線量の条件下での酸素濃度に対する
融点の関係を示すグラフ、 第4図は、各酸素濃度の条件下における照射線量と粉砕
後の平均粒径Dp50との関係を示すグラフである。 1……放射線照射装置 2……電子加速器 3……酸素濃度コンロール装置 4……照射容器 5……フッ化水素除去装置 6……オゾン分解装置 7……ブロワー 8……スタック 9……酸素分析計 10……信号ライン 11……PTFE(ポリテトラフルオルエチレン) 12……ブロワー
FIG. 1 is a schematic view of a radiation irradiation apparatus 1 for carrying out a method of pulverizing a polymer according to the present invention, and FIG. 2 shows a relationship between an irradiation dose and a melting point under conditions of an oxygen concentration of 0 to 100%. Graph, FIG. 3 is a graph showing the relationship between the oxygen concentration and the melting point under a certain irradiation dose condition, and FIG. 4 is a relationship between the irradiation dose under each oxygen concentration condition and the average particle size after pulverization Dp50. FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Radiation irradiation apparatus 2 ... Electron accelerator 3 ... Oxygen concentration control apparatus 4 ... Irradiation container 5 ... Hydrogen fluoride removal apparatus 6 ... Ozone decomposition apparatus 7 ... Blower 8 ... Stack 9 ... Oxygen analysis Total 10: Signal line 11: PTFE (polytetrafluoroethylene) 12: Blower

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小田切 恵三郎 神奈川県平塚市夕陽ケ丘63番30号 住友 重機械工業株式会社平塚研究所内 (56)参考文献 特開 昭55−124612(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08J 3/12,3/28 C08L 1/00,27/18,9/00──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Keisaburo Odagiri 63-30 Yuyugaoka, Hiratsuka-shi, Kanagawa Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Inside Hiratsuka Research Laboratory (56) References JP-A-55-124612 (JP, A) ( 58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) C08J 3 / 12,3 / 28 C08L 1 / 00,27 / 18,9 / 00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ポリマーに放射線を照射することによりこ
れを微粉末化するポリマーの微粉末化方法であって、 前記ポリマーを取り囲む照射雰囲気ガス中の酸素濃度を
制御することにより、前記微粉末化されるポリマーの粒
度を制御することを特徴とするポリマーの微粉末化方
法。
1. A method for pulverizing a polymer, which comprises irradiating a polymer with radiation to pulverize the polymer, comprising controlling the oxygen concentration in an irradiation atmosphere gas surrounding the polymer. A method for pulverizing a polymer, comprising controlling the particle size of the polymer to be produced.
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