JP2844473B2 - Polybiphenylene ether ketone copolymer film - Google Patents

Polybiphenylene ether ketone copolymer film

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JP2844473B2
JP2844473B2 JP18318689A JP18318689A JP2844473B2 JP 2844473 B2 JP2844473 B2 JP 2844473B2 JP 18318689 A JP18318689 A JP 18318689A JP 18318689 A JP18318689 A JP 18318689A JP 2844473 B2 JP2844473 B2 JP 2844473B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、新規なポリビフェニレンエーテルケトン共
重合体フィルムに関し、更に詳しく言うと、エレクトロ
ニクス分野、電気および熱絶縁分野、およびその他一般
の工業分野の各種用途に幅広く使用することのできるポ
リビフェニレンエーテルケトン共重合体フィルムに関す
る。
The present invention relates to a novel polybiphenylene ether ketone copolymer film, and more particularly, to the field of electronics, electric and thermal insulation, and other general industrial fields. The present invention relates to a polybiphenylene ether ketone copolymer film that can be widely used for various applications.

[従来の技術と発明が解決しようとする課題] 近年、耐熱性や、機械的強度に優れた各種の樹脂フィ
ルムが開発され、これらは電子・電気機器や機械などの
部品の素材として広汎な用途に供されている。
[Problems to be Solved by Conventional Techniques and Inventions] In recent years, various types of resin films having excellent heat resistance and mechanical strength have been developed, and these have been widely used as materials for parts of electronic / electric devices and machines. Has been offered to.

一方、このように樹脂フィルムの用途範囲が広がるに
つれて、従来よりもさらに優れた性質、即ち、耐熱性、
難燃性、機械的強度等の性質を具備する樹脂フィルムが
ますます要求される。
On the other hand, as the range of application of the resin film expands, properties superior to those of the related art, that is, heat resistance,
There is an increasing demand for resin films having properties such as flame retardancy and mechanical strength.

しかしながら、現在用いられている樹脂フィルムの中
で、最も優れた性能を持つといわれているポリエーテル
ケトン系樹脂においてさえ、ガラス転位温度が低く、耐
熱性が十分ではない。またポリエーテルケトン系樹脂
は、その製造条件が苛酷なことからポリマー中にゲルを
含みやすく、故に成形加工性に難があり、すべての点に
おいて満足しうる性質を有するには至っていない。特に
ゲルを含みやすいということは、これらの樹脂をフィル
ム化する際の問題点となっている。
However, even among polyetherketone resins, which are said to have the best performance among the resin films currently used, the glass transition temperature is low and the heat resistance is not sufficient. In addition, polyetherketone resins are liable to contain gels in the polymer due to severe production conditions, and therefore have difficulty in moldability and processability, and do not have satisfactory properties in all respects. In particular, the fact that the resin is easily included is a problem when these resins are formed into a film.

本発明は前記の事情に基いてなされたものである。 The present invention has been made based on the above circumstances.

本発明の目的は、Tg(ガラス転移温度)が高く、ゲル
を全く含まないために成形加工性が良く、優れた機械的
強度、耐熱性、難燃性および耐溶剤性を備えたポリビフ
ェニレンエーテルケトン共重合体フィルムを提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to provide a polybiphenylene ether having a high Tg (glass transition temperature), a good moldability because it does not contain any gel, and excellent mechanical strength, heat resistance, flame retardancy and solvent resistance. An object of the present invention is to provide a ketone copolymer film.

[前記課題を解決するための手段] 前記目的を達成するための請求項1に記載の発明は、 次式(I); で表わされる組り返し単位および次式(II); で表される繰り返し単位からなり、前記式(I)で表さ
れる繰り返し単位の組成比が0.15〜0.40モルであるとと
もに、400℃における溶融粘度が3,000〜100,000ポイズ
であるポリビフェニレンエーテルケトン共重合体を、そ
の結晶融点より10〜100℃高い温度で成形したポリビフ
ェニレンエーテルケトン共重合体フィルムであり、 請求項2に記載の発明は、前記請求項1における、ポ
リビフェニレンエーテルケトン共重合体フィルムを、そ
の結晶化温度と結晶融点との間の温度で熱処理してなる
ポリビフェニレンエーテルケトン共重合体フィルムであ
り、 請求項3に記載の発明は、前記請求項1における、ポ
リビフェニレンエーテルケトン共重合体フィルムを、そ
のガラス転移温度と結晶融点との間の温度で、一軸方向
または二軸方向に延伸倍率1.5〜10倍に延伸してなるポ
リビフェニレンエーテルケトン共重合体フィルムであ
り、 請求項4に記載の発明は、前記請求項1における、ポ
リビフェニレンエーテルケトン共重合体フィルムを、そ
のガラス転移温度と結晶融点との間の温度で、一軸方向
または二軸方向に延伸倍率1.5〜10倍に延伸した後、そ
の結晶化温度と結晶融点との間の温度で熱処理してなる
ポリビフェニレンエーテルケトン共重合体フィルムであ
る。
[Means for Solving the Problems] The invention according to claim 1 for achieving the above object has the following formula (I): And the following formula (II): Wherein the composition ratio of the repeating unit represented by the formula (I) is 0.15 to 0.40 mol and the melt viscosity at 400 ° C. is 3,000 to 100,000 poise. It is a polybiphenylene ether ketone copolymer film molded at a temperature higher by 10 to 100 ° C. than its crystal melting point, and the invention according to claim 2 is the polybiphenylene ether ketone copolymer film according to claim 1. Is a polybiphenylene ether ketone copolymer film obtained by heat-treating at a temperature between the crystallization temperature and the crystal melting point. The invention according to claim 3, wherein the polybiphenylene ether ketone copolymer film according to claim 1 is used. The polymer film is stretched in a uniaxial or biaxial direction at a temperature between the glass transition temperature and the crystal melting point of 1.5 to 10%. A polybiphenylene ether ketone copolymer film obtained by stretching the polybiphenylene ether ketone copolymer film according to claim 1, wherein the polybiphenylene ether ketone copolymer film has a glass transition temperature and a crystal melting point. At a temperature in between, after stretching in a uniaxial or biaxial direction at a draw ratio of 1.5 to 10 times, a polybiphenylene ether ketone copolymer film obtained by heat treatment at a temperature between the crystallization temperature and the crystal melting point. .

以下、詳細に説明する。 The details will be described below.

−ポリビフェニレンエーテルケトン共重合体− 本発明のポリビフェニレンエーテルケトン共重合体フ
ィルムにおいて重要な点の一つは、前記ポリビフェニレ
ンエーテルケトン共重合体が、前記式(I)で表わされ
る繰り返し単位と前記式(II)で表わされる繰り返し単
位とからなるとともに、前記式(I)で表わされる繰り
返し単位の組成比(モル比)が0.15〜0.40の範囲にあ
り、式(II)で表わされる繰り返し単位の組成比(モル
比)が0.85〜0.60であることである。
—Polybiphenylene ether ketone copolymer— One of the important points in the polybiphenylene ether ketone copolymer film of the present invention is that the polybiphenylene ether ketone copolymer has a repeating unit represented by the formula (I). A repeating unit represented by the formula (II), wherein the repeating unit represented by the formula (II) has a composition ratio (molar ratio) of 0.15 to 0.40. Has a composition ratio (molar ratio) of 0.85 to 0.60.

前記式(I)で表わされる繰り返し単位の組成比が0.
15未満であると、ポリビフェニレンエーテルケトン共重
合体のガラス転移温度が低くなって耐熱性が低下した
り、融点が高くなって成形性の劣化を招いたりする。一
方、0.60を超えると、ポリビフェニレンエーテルケトン
共重合体の結晶性が失われて、耐熱性、耐溶剤性が低下
する。
When the composition ratio of the repeating unit represented by the formula (I) is 0.
If it is less than 15, the glass transition temperature of the polybiphenylene ether ketone copolymer will be low and the heat resistance will be lowered, or the melting point will be high and the moldability will be deteriorated. On the other hand, if it exceeds 0.60, the crystallinity of the polybiphenylene ether ketone copolymer is lost, and heat resistance and solvent resistance are reduced.

また、本発明のポリビフェニレンエーテルケトン共重
合体においては、温度400℃における溶融粘度(ゼロ剪
断粘度)が3,000〜100,000ポイズであることが重要であ
る。
In the polybiphenylene ether ketone copolymer of the present invention, it is important that the melt viscosity (zero shear viscosity) at a temperature of 400 ° C. is 3,000 to 100,000 poise.

この溶融粘度が3,000ポイズ未満である低分子量のポ
リビフェニレンエーテルケトン共重合体では、充分な耐
熱性および機械的強度を達成することができないからで
ある。
This is because a low molecular weight polybiphenylene ether ketone copolymer having a melt viscosity of less than 3,000 poise cannot achieve sufficient heat resistance and mechanical strength.

また、溶融粘度が100,000ポイズを超えるとフィルム
化が困難になる。
When the melt viscosity exceeds 100,000 poise, it becomes difficult to form a film.

本発明に用いられるポリビフェニレンエーテルケトン
共重合体は、たとえば結晶融点が330〜400℃程度であっ
て、高い結晶性を有するとともに、充分に高分子量であ
り、充分な耐熱性を示すとともに、耐溶剤性、機械的強
度に優れて、たとえば電気・電子機器分野、機械分野等
における新たな素材として好適に用いることができる。
The polybiphenylene ether ketone copolymer used in the present invention has, for example, a crystal melting point of about 330 to 400 ° C., has high crystallinity, has a sufficiently high molecular weight, shows sufficient heat resistance, and has high heat resistance. It is excellent in solvent properties and mechanical strength, and can be suitably used as a new material in, for example, electric / electronic equipment fields, mechanical fields, and the like.

このようなポリビフェニレンエーテルケトン共重合体
は、以下のようにして製造することができる。
Such a polybiphenylene ether ketone copolymer can be produced as follows.

−ポリビフェニレンエーテルケトン共重合体の製造方法
− ポリビフェニレンエーテルケトン共重合体は、特定使
用比率でジハロゲノベンゾニトリル、および4,4′−ビ
フェノール、ならびにアルカリ金属化合物を中性極性溶
媒の存在下に反応させた後、反応生成物と特定量の4,
4′−ジハロゲノベンゾフェノンとの共重合反応を行な
うことにより、製造することができる。
-Method for producing polybiphenylene ether ketone copolymer-Polybiphenylene ether ketone copolymer is prepared by dihalogenobenzonitrile, 4,4'-biphenol, and an alkali metal compound at a specific use ratio in the presence of a neutral polar solvent. After the reaction, the reaction product and a certain amount of 4,
It can be produced by performing a copolymerization reaction with 4'-dihalogenobenzophenone.

使用に供される前記ジハロゲノベンゾニトリルの具体
例としては、たとえば、次式; (ただし、式中、Xはハロゲン原子である。) で表わされる2,6−ジハロゲノベンゾニトリル、2,4−ジ
ハロゲノベンゾニトリルなどが挙げられる。
Specific examples of the dihalogenobenzonitrile to be used include, for example, the following formula; (Wherein, X is a halogen atom.) 2,6-dihalogenobenzonitrile, 2,4-dihalogenobenzonitrile and the like.

これらの中でも、好ましいのは2,6−ジクロロベンゾ
ニトリル、2,6−ジフルオロベンゾニトリル、2,4−ジク
ロロベンゾニトリル、2,4−ジフルオロベンゾニトリル
であり、特に好ましいのは2,6−ジクロロベンゾニトリ
ルである。
Among these, preferred are 2,6-dichlorobenzonitrile, 2,6-difluorobenzonitrile, 2,4-dichlorobenzonitrile, and 2,4-difluorobenzonitrile, and particularly preferred is 2,6-dichlorobenzonitrile. Benzonitrile.

本発明の方法においては、前記ジハロゲノベンゾニト
リルと次式; で表わされる4,4′−ビフェノールとをアルカリ金属化
合物および中性極性溶媒の存在下で反応させる。
In the method of the present invention, the dihalogenobenzonitrile and the following formula: Is reacted in the presence of an alkali metal compound and a neutral polar solvent.

使用に供される前記アルカリ金属化合物は、前記4,
4′−ビフェノールをアルカリ金属塩にすることのでき
るものであればよく、特に制限はないが、好ましいのは
アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩である。
The alkali metal compound to be used is the 4,
Any material can be used as long as it can convert 4'-biphenol into an alkali metal salt, and there is no particular limitation. Preferred are an alkali metal carbonate and an alkali metal bicarbonate.

前記アルカリ金属炭酸塩としては、たとえば炭酸リチ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウ
ム、炭酸セシウムなどが挙げられる。
Examples of the alkali metal carbonate include lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, rubidium carbonate, and cesium carbonate.

これらの中でも、好ましいのは炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムである。
Among them, preferred are sodium carbonate and potassium carbonate.

前記アルカリ金属炭酸水素塩としては、たとえば炭酸
水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸水素ルビジウム、炭酸水素セシウムなどが挙げ
られる。
Examples of the alkali metal bicarbonate include lithium bicarbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, rubidium bicarbonate, and cesium bicarbonate.

これらの中でも、好ましいのは炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウムである。
Of these, preferred are sodium bicarbonate,
Potassium bicarbonate.

本発明の方法においては、上記各種のアルカリ金属化
合物の中でも、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムを特に好
適に使用することができる。
In the method of the present invention, sodium carbonate and potassium carbonate can be particularly preferably used among the above various alkali metal compounds.

前記中性極性溶媒としては、たとえばN,N−ジメチル
ホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−
ジプロピルアセトアミド、N,N−ジメチル安息香酸アミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピ
ロリドン、N−イソプロピル−2−ピロリドン、N−イ
ソブチル−2−ピロリドン、N−n−プロピル−2−ピ
ロリドン、N−n−ブチル−2−ピロリドン、N−シク
ロヘキシル−2−ピロリドン、N−メチル−3−メチル
−2−ピロリドン、N−エチル−3−メチル−2−ピロ
リドン、N−メチル−3,4,5−トリメチル−2−ピロリ
ドン、N−メチル−2−ピペリドン、N−エチル−2−
ピペリドン、N−イソプロピル−2−ピペリドン、N−
メチル−6−メチル−2−ピペリドン、N−メチル−3
−エチルピペリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチル
スルホキシド、1−メチル−1−オキソスルホラン、1
−エチル−1−オキソスルホラン、1−フェニル−1−
オキソスルホラン、N,N′−ジメチルイミダゾリジノ
ン、ジフェニルスルホンなどが挙げられる。
Examples of the neutral polar solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N, N-
Dipropylacetamide, N, N-dimethylbenzoic acid amide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, N-isopropyl-2-pyrrolidone, N-isobutyl-2-pyrrolidone, Nn-propyl -2-pyrrolidone, Nn-butyl-2-pyrrolidone, N-cyclohexyl-2-pyrrolidone, N-methyl-3-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-3-methyl-2-pyrrolidone, N-methyl -3,4,5-trimethyl-2-pyrrolidone, N-methyl-2-piperidone, N-ethyl-2-
Piperidone, N-isopropyl-2-piperidone, N-
Methyl-6-methyl-2-piperidone, N-methyl-3
-Ethylpiperidone, dimethylsulfoxide, diethylsulfoxide, 1-methyl-1-oxosulfolane,
-Ethyl-1-oxosulfolane, 1-phenyl-1-
Oxosulfolane, N, N'-dimethylimidazolidinone, diphenylsulfone and the like.

本発明の方法においては、前記アルカリ金属化合物お
よび前記中性極性溶媒の存在下での前記ジハロゲノベン
ゾニトリルと前記4,4′−ビフェノールとの反応を行な
って得られる反応生成物と前記4,4′−ジハロゲノベン
ゾフェノンとを反応させる。
In the method of the present invention, a reaction product obtained by reacting the dihalogenobenzonitrile with the 4,4′-biphenol in the presence of the alkali metal compound and the neutral polar solvent, React with 4'-dihalogenobenzophenone.

使用に供される前記4,4′−ジハロゲノベンゾフェノ
ンは、次式; (ただし、Xは前記と同じ意味である。) で表わされる化合物であり、本発明の方法においては、
4,4′−ジフルオロベンゾフェノン、4,4′−ジクロロベ
ンゾフェノンを特に好適に使用することができる。
The 4,4′-dihalogenobenzophenone to be used has the following formula: (Where X has the same meaning as described above). In the method of the present invention,
4,4'-difluorobenzophenone and 4,4'-dichlorobenzophenone can be particularly preferably used.

本発明のポリビフェニレンエーテルケトン共重合体の
製造における前記ジハロゲノベンゾニトリルの使用割合
は、前記2,6−ジクロロベンゾニトリル:4,4′−ジハロ
ゲノベンゾフェノン:4,4′−ビフェノール:炭酸カリウ
ムの比率が、0.15〜0.4:0.85〜0.6:1:1.2である。
In the production of the polybiphenylene ether ketone copolymer of the present invention, the ratio of the dihalogenobenzonitrile used is 2,6-dichlorobenzonitrile: 4,4'-dihalogenobenzophenone: 4,4'-biphenol: potassium carbonate Is 0.15 to 0.4: 0.85 to 0.6: 1: 1.2.

2,6−ジクロロベンゾニトリルと4,4′−ジハロゲノベ
ンゾフェノンとの合計量の、前記4,4′−ビフェノール
の使用量に対するモル比が、通常、0.98〜1.02、好まし
くは、1.00〜1.01である。炭酸カリウムのモル比は、通
常、1.03〜2.50、好ましくは、1.05〜1.25である。
The molar ratio of the total amount of 2,6-dichlorobenzonitrile and 4,4'-dihalogenobenzophenone to the amount of the 4,4'-biphenol used is usually 0.98 to 1.02, preferably 1.00 to 1.01. is there. The molar ratio of potassium carbonate is usually 1.03 to 2.50, preferably 1.05 to 1.25.

前記中性極性溶媒の使用量については、特に制限はな
いが、通常、前記ジハロゲノベンゾニトリルと、前記4,
4′−ビフェノールと、前記アルカリ金属化合物との合
計100重量部当り、200〜2,000重量部の範囲で選ばれ
る。
The amount of the neutral polar solvent used is not particularly limited, but usually, the dihalogenobenzonitrile and the 4,4
It is selected in the range of 200 to 2,000 parts by weight per 100 parts by weight of the total of 4'-biphenol and the alkali metal compound.

ポリビフェニレンエーテルケトン共重合体を得るに
は、たとえば、前記中性極性溶媒中に、前記ジハロゲノ
ベンゾニトリルと、前記4,4′−ビフェノールと、前記
アルカリ金属化合物とを、同時に添加して、前記ジハロ
ゲノベンゾニトリルと前記4,4′−ビフェノールとの反
応を行なわせた後、さらに前記4,4′−ジロゲノベンゾ
フェノンを添加し、通常は150〜380℃、好ましくは180
〜330℃の範囲の温度において一連の反応を行なわせ
る。反応温度が150℃未満では、反応速度が遅すぎて実
用的ではないし、380℃を超えると、副反応を招くこと
がある。
To obtain a polybiphenylene ether ketone copolymer, for example, in the neutral polar solvent, the dihalogenobenzonitrile, the 4,4'-biphenol, and the alkali metal compound are added simultaneously, After the reaction between the dihalogenobenzonitrile and the 4,4'-biphenol, the 4,4'-dilogenobenzophenone is further added, usually at 150 to 380 ° C, preferably 180 ° C.
A series of reactions is performed at a temperature in the range of 330330 ° C. If the reaction temperature is lower than 150 ° C, the reaction rate is too slow to be practical, and if it exceeds 380 ° C, a side reaction may occur.

また、この一連の反応の反応時間は、通常、0.1〜10
時間であり、好ましくは1時間〜5時間である。
The reaction time of this series of reactions is usually 0.1 to 10
Time, preferably 1 hour to 5 hours.

反応の終了後、得られるポリビフェニレンエーテルケ
トン共重合体を含有する中性極性溶媒溶液から、公知の
方法に従って、ポリビフェニレンエーテルケトン共重合
体を分離、精製することにより、ポリビフェニレンエー
テルケトン共重合体を得ることができる。
After completion of the reaction, the polybiphenylene ether ketone copolymer is separated and purified from a neutral polar solvent solution containing the obtained polybiphenylene ether ketone copolymer according to a known method, thereby obtaining a polybiphenylene ether ketone copolymer. Coalescence can be obtained.

−ポリビフェニレンエーテルケトン共重合体フィルムの
製造方法− 請求項1に記載のポリビフェニレンエーテルケトン共
重合体フィルムは、前記ポリビフェニレンエーテルケト
ン共重合体をフィルム化することにより得られる。
—Method for Producing Polybiphenylene Ether Ketone Copolymer Film— The polybiphenylene ether ketone copolymer film according to claim 1 is obtained by forming the polybiphenylene ether ketone copolymer into a film.

フィルム化は、プレス成形法や押出成形法等、通常の
方法を用いて、結晶融点より10〜100℃高い温度で、好
ましくは、結晶融点より30〜70℃高い温度で行い、急冷
することによって、透明性のよい非晶性フィルムが得ら
れる。
The film is formed by a usual method such as a press molding method or an extrusion molding method, at a temperature 10 to 100 ° C. higher than the crystal melting point, preferably at a temperature 30 to 70 ° C. higher than the crystal melting point, and by quenching. Thus, an amorphous film having good transparency can be obtained.

このようにして得られた非晶性フィルムを、その結晶
化温度と結晶融点との間の温度において熱処理すること
によって、結晶性フィルムを得ることができる。
By subjecting the thus obtained amorphous film to a heat treatment at a temperature between its crystallization temperature and the crystal melting point, a crystalline film can be obtained.

また、延伸フィルムの成形は、一軸あるいは二軸で行
い、Tg(ガラス転移温度)からTm(結晶融点)の間の温
度で行う。
The stretching film is formed uniaxially or biaxially and at a temperature between Tg (glass transition temperature) and Tm (crystal melting point).

さらに、この延伸フィルムの熱処理は、必要に応じて
緊張下または無緊張下で行い、Tcc[結晶化温度:上記
フィルム化で非晶化したポリマーが、熱処理(昇温)で
結晶化する温度]より高くTm(結晶融点)より低い温度
で行う。
Further, the heat treatment of the stretched film is performed under tension or no tension as necessary, and Tcc [crystallization temperature: a temperature at which the polymer which has been made amorphous by the above film formation crystallizes by heat treatment (heating)]. It is performed at a temperature higher than Tm (crystal melting point).

本発明においては、前記ポリビフェニレンエーテルケ
トン共重合体フィルムを前記延伸方法により、延伸倍率
1.5〜10倍に延伸することが好ましく、特に延伸倍率2
〜5倍に延伸するのが好ましい。
In the present invention, the polybiphenylene ether ketone copolymer film is stretched by the stretching method described above.
It is preferable to stretch 1.5 to 10 times, especially stretching ratio 2
It is preferable to stretch the film up to 5 times.

延伸倍率が、1.5倍未満では十分な延伸効果(引張強
度、引張弾性率等のフィルム物性の改良効果)が奏され
ないことがあるし、また、10倍を越えて延伸したとして
も、延伸効果はさらには向上しないことがある。
If the draw ratio is less than 1.5 times, a sufficient draw effect (effect of improving film properties such as tensile strength and tensile elasticity) may not be achieved, and even if the draw ratio exceeds 10 times, the draw effect is not sufficient. Furthermore, it may not improve.

このようにして得られたポリビフェニレンエーテルケ
トン共重合体フィルムは、 (1)エレクトロニクス分野において フレキシブルプリント基板用ベースフィルム、フレキ
シブルプリント基板用裏打材、メンブレン用電極板、メ
ンブリン用裏打材、透明電極用ベースフィルム、液晶用
フィルムセル、ICキャリヤーテープ、光カード、垂直磁
化用ベースフィルム等に使用することができ、 (2)電気および熱絶縁分野において、 面状発熱体ベースおよび表面カバーフィルム、絶縁テ
ープ(モーター、発電機、変圧器)、コンデンサー、電
線被覆、電子レンジその他熱機器用遮蔽板、スピーカー
振動板、照明機器カパー、計器類表示盤等に使用するこ
とができ、 (3)一般工業用途において、 オーバーヘッドプロジェクター原紙、航空機内装材、
原子力関連機器、ソーラーコレクターカバー、限外濾過
膜等に使用することができ、 (4)その他において、 耐熱ラベル、耐熱銘板、航空・車両・防衛関係等コン
ポジット等に使用することができる。
The polybiphenylene ether ketone copolymer film thus obtained can be used in the field of electronics for: (1) base film for flexible printed circuit board, backing material for flexible printed circuit board, electrode plate for membrane, backing material for membrane, transparent electrode It can be used for base film, film cell for liquid crystal, IC carrier tape, optical card, base film for perpendicular magnetization, etc. (2) In the field of electric and thermal insulation, sheet heating element base and surface cover film, insulating tape (Motors, generators, transformers), condensers, electric wire coverings, shielding plates for microwave ovens and other thermal equipment, speaker diaphragms, lighting equipment covers, instrument display panels, etc. (3) General industrial use In overhead projector base paper, aircraft interior ,
It can be used for nuclear related equipment, solar collector cover, ultrafiltration membrane, etc. (4) In addition, it can be used for heat-resistant labels, heat-resistant nameplates, composites for aviation, vehicles, defense, etc.

[実施例] (製造例1) トルエンを満たしたディーンスタルクトラップ、撹拌
装置およびアルゴンガス吹込管を備えた内容積5の反
応器に、2,6−ジクロロベンゾニトリル32.34g(0.188モ
ル)、4,4′−ビフェノール139.66g(0.75モル)、炭酸
カリウム124.39g(0.9モル)およびN−メチルピロリド
ン1.5を入れ、アルゴンガスを吹込みながら、1時間
かけて室温より195℃まで昇温した。
[Examples] (Production Example 1) A reactor having an inner volume of 5 equipped with a Dein-Stark trap filled with toluene, a stirrer, and an argon gas blowing tube was charged with 32.34 g (0.188 mol) of 2,6-dichlorobenzonitrile, 4 139.66 g (0.75 mol) of 4,4'-biphenol, 124.39 g (0.9 mol) of potassium carbonate and 1.5 of N-methylpyrrolidone were added, and the temperature was raised from room temperature to 195 ° C. over 1 hour while blowing argon gas.

昇温後、少量のトルエンを加えて生成する水を共沸に
より除去した。
After the temperature was raised, a small amount of toluene was added and water generated was removed by azeotropic distillation.

次いで、温度195℃にて30分間反応を行なった後、4,
4′−ジフルオロベンゾフェノン122.85g(0.563モル)
をN−メチルピロリドン1.5に溶解した溶液を加え
て、さらに1時間反応を行なった。
Next, after performing a reaction at a temperature of 195 ° C. for 30 minutes,
122.85 g of 4'-difluorobenzophenone (0.563 mol)
Was dissolved in N-methylpyrrolidone 1.5, and the mixture was further reacted for 1 hour.

反応終了後、生成物をブレンダー(ワーニング社製)
で粉砕し、アセトン、メタノール、水、アセトンの順に
洗浄を行なってから、乾燥させて、白色粉末状で嵩密度
が0.12g/cm3の共重合体259.36g(収率98%)を得た。
After the reaction is completed, the product is blended (Warning)
And washed with acetone, methanol, water and acetone in this order, and then dried to obtain 259.36 g (98% yield) of a white powdery copolymer having a bulk density of 0.12 g / cm 3 . .

このポリビフェニレンエーテルケトン共重合体の特性
について測定したところ、温度400℃における溶融粘度
(ゲロ剪断粘度)は13,000ポイズであり、ガラス転移温
度182℃、結晶融点379℃、結晶化温度241℃、熱分解開
始温度が562℃(空気中、5%重量減)であった。
When the properties of this polybiphenylene ether ketone copolymer were measured, the melt viscosity at 400 ° C (Gero shear viscosity) was 13,000 poise, the glass transition temperature was 182 ° C, the crystal melting point was 379 ° C, the crystallization temperature was 241 ° C, The decomposition onset temperature was 562 ° C (5% weight loss in air).

(製造例2〜6) 各原料の仕込み比率および反応条件を一部変更したほ
かは、前記製造例1と同様の操作をして、第1表に示す
各種性状を有するポリビフェニレンエーテルケトン系共
重合体を製造した。
(Production Examples 2 to 6) The same operation as in Production Example 1 was carried out, except that the charging ratio of each raw material and the reaction conditions were partially changed, to obtain polybiphenylene ether ketones having various properties shown in Table 1. A polymer was produced.

第1表に各ポリマーの繰り返し単位の含有割合、溶融
粘度、ガラス転移温度、結晶融点および結晶化温度を示
す。
Table 1 shows the content of the repeating unit, the melt viscosity, the glass transition temperature, the crystal melting point, and the crystallization temperature of each polymer.

(実施例1) 前記製造例1で製造した共重合体を、400℃において
プレス成形し、ついでこれを水中に投入し急冷して透明
な非晶性フィルムを得た。
Example 1 The copolymer produced in Production Example 1 was press-molded at 400 ° C., and then poured into water and quenched to obtain a transparent amorphous film.

得られたフィルムの厚さは200μmであった。 The thickness of the obtained film was 200 μm.

このフィルムの物性を測定したところ、引張強度が9k
g/mm2、引張弾性率210kg/mm2、破断伸度210%(以上、A
STM D882に準拠)、酸素指数31.5%(ASTM D2863に準
拠)であった。
When the physical properties of this film were measured, the tensile strength was 9 k.
g / mm 2 , tensile modulus 210 kg / mm 2 , elongation at break 210% (A,
The oxygen index was 31.5% (according to ASTM D2863).

(実施例2) 前記製造例1で製造したポリマーを、400℃でプレス
形成し、これを氷水中に投入して透明な非晶性フィルム
を得た。フィルムの厚さは200μmであった。このフィ
ルムを250℃で1分熱処理して、結晶化したフィルムを
作製した。
Example 2 The polymer produced in Production Example 1 was press-formed at 400 ° C. and poured into ice water to obtain a transparent amorphous film. The thickness of the film was 200 μm. This film was heat-treated at 250 ° C. for 1 minute to produce a crystallized film.

このフィルムの物性を測定したところ、引張強度が11
kg/mm2であり、引張弾性率が250kg/mm2であり、破断伸
度が130%であった。次に、このフィルムの酸素指数を
測定したところ31.5%であり難燃性に優れていた。
When the physical properties of this film were measured, the tensile strength was 11
kg / mm 2 , the tensile modulus was 250 kg / mm 2 , and the breaking elongation was 130%. Next, when the oxygen index of this film was measured, it was 31.5% and was excellent in flame retardancy.

また、この結晶化フィルムは、長時間に渡って濃硫酸
に浸漬すると膨潤するが、塩酸、硝酸、ジクロル酢酸、
トリフルオロ酢酸などの強酸や、苛性ソーダ、苛性カリ
などの強アルカリ、アセトン、ジメチルエーテル、メチ
ルエチルケトン、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、ジ
メチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、塩化メチ
レンなどの有機溶媒、熱水に対して侵されることなく、
全く安定であった。
In addition, this crystallized film swells when immersed in concentrated sulfuric acid for a long time, but hydrochloric acid, nitric acid, dichloroacetic acid,
Attacks against strong acids such as trifluoroacetic acid, strong alkalis such as caustic soda and potassium hydroxide, organic solvents such as acetone, dimethyl ether, methyl ethyl ketone, benzene, toluene, ethyl acetate, dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and methylene chloride, and hot water. Without being
It was quite stable.

(比較例1) ポリエーテルケトン[ICI社製:PEEK450G]を前記実施
例1と同様の条件でフィルムを作成し、同様に物性を測
定した。
(Comparative Example 1) A film was prepared from polyetherketone [PEEK450G manufactured by ICI] under the same conditions as in Example 1, and the physical properties were measured in the same manner.

そのフィルムの引張強度は9kg/cm2であり、引張弾性
率は210kg/mm2であり、破断伸度は170%であり、酸素指
数は23.5%であった。
The tensile strength of the film was 9 kg / cm 2 , the tensile modulus was 210 kg / mm 2 , the elongation at break was 170%, and the oxygen index was 23.5%.

また、このフィルムは濃硫酸以外にp−クロロフェノ
ール、ジクロロ酢酸等に溶解し、アセトンでは若干クレ
ーズが発生した。
In addition, this film was dissolved in p-chlorophenol, dichloroacetic acid and the like in addition to concentrated sulfuric acid, and a little craze occurred in acetone.

(実施例3) 前記製造例1で製造したポリマーを、400℃でプレス
成形し、これを氷水中に投入して透明な非晶性フィルム
を得た。
Example 3 The polymer produced in Production Example 1 was press-molded at 400 ° C. and poured into ice water to obtain a transparent amorphous film.

そのフィルムの厚さは200μmであった。 The thickness of the film was 200 μm.

このフィルムを、第2表に示す成形条件で、一軸延伸
機(柴田機械(株)製)および二軸延伸機(東洋精機制
作所製)により、延伸を行なった(延伸速度;1000%/
分)。
This film was stretched by a uniaxial stretching machine (manufactured by Shibata Machine Co., Ltd.) and a biaxial stretching machine (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho) under the molding conditions shown in Table 2 (stretching speed: 1000% /
Minutes).

得られた延伸フィルムの特性を第2表に示す。なお、
測定法は、ASTM D882を用いた。
Table 2 shows the properties of the obtained stretched film. In addition,
ASTM D882 was used for the measurement method.

(実施例4〜6) 製造例4、5、6の非晶性フィルムを用い、第2表に
示す延伸条件および熱固定条件で延伸フィルムを作製し
た。
(Examples 4 to 6) Stretched films were produced using the amorphous films of Production Examples 4, 5, and 6 under the stretching conditions and heat setting conditions shown in Table 2.

得られたフィルムの特性を合わせて第2表に示す。 Table 2 shows the properties of the obtained film.

(実施例7〜8) 製造例4の非晶性フィルムを用いて、実施例3と異な
る延伸倍率、熱固定条件で延伸フィルムを作成した。
(Examples 7 and 8) Using the amorphous film of Production Example 4, stretched films were produced under different stretching ratios and heat setting conditions from those of Example 3.

その延伸フィルムの特性を第2表に示す。 Table 2 shows the properties of the stretched film.

(比較例2) ポリエーテルケトン[ICI社製:PEEK 450G]から、第
2表に示す延伸条件および熱固定条件により、延伸フィ
ルムを作成した。
(Comparative Example 2) A stretched film was prepared from polyether ketone [PEEK 450G manufactured by ICI] under the stretching conditions and heat setting conditions shown in Table 2.

得られた延伸フィルムの特性を第2表に示す。 Table 2 shows the properties of the obtained stretched film.

[発明の効果] 本発明のフィルムは、原料樹脂として、ガラス転移温
度が高く、またゲル分を含まない共重合体を用いるの
で、成形加工性が良好であり、しかも優れた機械的強
度、耐熱性、難燃性および耐溶剤性を有している。
[Effects of the Invention] Since the film of the present invention uses a copolymer having a high glass transition temperature and no gel component as a raw material resin, it has good moldability, and has excellent mechanical strength and heat resistance. Has flame resistance, flame retardancy and solvent resistance.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】次式(I); で表される繰り返し単位及び次式(II); で表される繰り返し単位からなり、前記式(I)で表さ
れる繰り返し単位の組成比が0.15〜0.40モルであるとと
もに、400℃における溶融粘度が3000〜100,00ポイズで
あるポリビフェニレンエテルケトン共重合体を、その結
晶融点より10〜100℃高い温度で成形したポリビフェニ
レンエーテルケトン共重合体フィルム。
(1) The following formula (I): And a repeating unit represented by the following formula (II): Wherein the composition ratio of the repeating unit represented by the formula (I) is 0.15 to 0.40 mol and the melt viscosity at 400 ° C. is 3000 to 100,000 poise. A polybiphenylene ether ketone copolymer film formed by molding a copolymer at a temperature 10 to 100 ° C. higher than its crystalline melting point.
【請求項2】請求項1における、ポリビフェニレンエー
テルケトン共重合体フィルムを、その結晶化温度と結晶
融点との間の温度で熱処理してなるポリビフェニレンエ
テルケトン共重合体フィルム。
2. The polybiphenylene ether ketone copolymer film according to claim 1, wherein the polybiphenylene ether ketone copolymer film is heat-treated at a temperature between the crystallization temperature and the crystal melting point.
【請求項3】請求項1における、ポリビフェニレンエー
テルケトン共重合体フィルムを、そのガラス転移温度と
結晶融点との間で、一軸方向または二軸方向に延伸倍率
1.5〜10倍に延伸してなるポリビフェニレンエーテルケ
トン共重合体フィルム。
3. The stretching ratio of the polybiphenylene ether ketone copolymer film according to claim 1 in a uniaxial or biaxial direction between its glass transition temperature and crystal melting point.
A polybiphenylene ether ketone copolymer film stretched 1.5 to 10 times.
【請求項4】請求項1における、ポリビフェニレンエー
テルケトン共重合体フィルムを、そのガラス転移温度と
結晶融点との間で、一軸方向または二軸方向に延伸倍率
1.5〜10倍に延伸した後、その結晶化温度と結晶化融点
との間で熱処理してなるポリビフェニレンエーテルケト
ン共重合体フィルム。
4. The stretching ratio of the polybiphenylene ether ketone copolymer film according to claim 1 in a uniaxial or biaxial direction between its glass transition temperature and crystal melting point.
A polybiphenylene ether ketone copolymer film stretched 1.5 to 10 times and then heat-treated between its crystallization temperature and its crystallization melting point.
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