JP2839940B2 - Sealed aluminum plating equipment - Google Patents

Sealed aluminum plating equipment

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JP2839940B2
JP2839940B2 JP18850390A JP18850390A JP2839940B2 JP 2839940 B2 JP2839940 B2 JP 2839940B2 JP 18850390 A JP18850390 A JP 18850390A JP 18850390 A JP18850390 A JP 18850390A JP 2839940 B2 JP2839940 B2 JP 2839940B2
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節子 高橋
政義 多々納
清 浅川
裕 杉浦
淳 森
忠昭 奈良田
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Mitsubishi Chemical Corp
Nippon Steel Nisshin Co Ltd
Uemera Kogyo Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、鋼等の金属材料に対して密閉雰囲気でアル
ミニウムを電気めっきするときに使用するめっき装置に
関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a plating apparatus used for electroplating aluminum on a metal material such as steel in a closed atmosphere.

[従来の技術] アルミニウムは、表面に形成された酸化皮膜が保護膜
として働き、耐食性に優れた性質を呈する材料である。
この性質を利用して、たとえば鋼板等の金属材料にアル
ミニウムめっきを施すとき、耐食性及び耐久性に優れた
素材が得られる。
[Prior Art] Aluminum is a material in which an oxide film formed on the surface functions as a protective film and exhibits excellent corrosion resistance.
By utilizing this property, for example, when a metal material such as a steel plate is plated with aluminum, a material excellent in corrosion resistance and durability can be obtained.

アルミニウムめっき層は、これまで溶融めっき法によ
って対象物の表面に形成されている。しかし、溶融めっ
き法では、アルミニウムを600℃以上の温度に加熱・溶
融して、めっき浴を形成する必要がある。そのため、加
熱・溶融に使用される熱源の消費が大きい。また、アル
ミニウムを溶融状態に維持するために、めっき槽を構成
する部材及び耐熱性ライニングの選択が要求されると共
に、めっき槽を定期的に補修することが余儀なくされ
る。
The aluminum plating layer has been formed on the surface of the object by the hot-dip plating method. However, in the hot-dip plating method, it is necessary to heat and melt aluminum to a temperature of 600 ° C. or more to form a plating bath. Therefore, the consumption of the heat source used for heating and melting is large. In addition, in order to maintain the aluminum in a molten state, it is necessary to select a member constituting the plating tank and a heat-resistant lining, and it is necessary to periodically repair the plating tank.

そこで、最近では、溶融塩浴を使用しためっき方法
や、200℃以下の比較的低い温度に維持した電解液を使
用した電気めっき方法等が開発されている。たとえば、
特開昭63−26399号公報では、無水有機アルミニウム電
解液を密閉室内のめっき槽に保持し、中間チャンバーを
介して被めっき材料をめっき槽に導入し、電気めっきを
行うことが開示されている。
Therefore, recently, a plating method using a molten salt bath, an electroplating method using an electrolytic solution maintained at a relatively low temperature of 200 ° C. or lower, and the like have been developed. For example,
JP-A-63-26399 discloses that electroplating is performed by holding an anhydrous organic aluminum electrolytic solution in a plating tank in a closed chamber, introducing a material to be plated into the plating tank through an intermediate chamber. .

また、本出願人等も、特開昭64−87799号後報,特開
平1−272788号公報,特開平1−272790号公報等で、こ
の種のアルミニウムめっきに関するめっき浴,めっき方
法,前処理等を紹介している。
Further, the present applicants have also disclosed in JP-A-64-87799, JP-A-1-272788, JP-A-1-272790, etc., a plating bath, a plating method, and a pretreatment for this type of aluminum plating. Etc. are introduced.

[発明が解決しようとする課題] アルミニウムめっき層を電気めっきによって形成する
とき、使用されるめっき浴は、空気中の酸素や水分等に
よって変質し易い。そこで、前掲した特開昭63−26399
号公報に示されているように、めっき浴を大気から遮断
した状態に保持するため、特殊な構造をもっためっき装
置が開発されている。
[Problems to be Solved by the Invention] When an aluminum plating layer is formed by electroplating, a plating bath used is liable to be deteriorated by oxygen, moisture and the like in the air. Therefore, Japanese Patent Application Laid-Open No.
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H11-107, a plating apparatus having a special structure has been developed in order to keep a plating bath shielded from the atmosphere.

しかしながら、特開昭63−26399号公報のめっき装置
では、被めっき物をめっき浴に導入する経路が垂直上
方、水平及び垂直下方の複雑な経路となっているため、
設備構成が複雑化して設備費が高くなり、また設備の保
守・点検が面倒なものとなる。しかも、この設備構成の
複雑化は、めっき浴を大気から遮断された雰囲気に保持
するための気密構造に対する問題も生じさせる。
However, in the plating apparatus disclosed in JP-A-63-26399, the path for introducing the object to be plated into the plating bath is a vertically upward, horizontal and vertically downward complicated path,
The equipment configuration becomes complicated and the equipment cost increases, and maintenance and inspection of the equipment becomes troublesome. In addition, the complexity of the equipment configuration causes a problem with an airtight structure for maintaining the plating bath in an atmosphere shielded from the atmosphere.

そこで、本発明は、めっき槽に対して中間チャンバー
を横方向に配置し、水平方向に前後進する駆動機構で被
めっき材料の導入及び搬出を行うことにより、構造の簡
略化を図ると共に、操作性に優れためっき装置を提供す
ることを目的とする。
Therefore, the present invention aims at simplifying the structure by arranging the intermediate chamber in the lateral direction with respect to the plating tank, and introducing and carrying out the material to be plated by a drive mechanism that moves forward and backward in the horizontal direction. An object of the present invention is to provide a plating apparatus having excellent properties.

[課題を解決するための手段] 本発明の密閉型アルミニウムめっき装置は、その目的
を達成するため、内部にめっき槽を備えためっき室と、
該めっき室の横方向に水平配置された密閉可能な中間チ
ャンバーと、該中間チャンバーの内部に開口し真空装置
に接続された排気管と、前記中間チャンバーの内部に開
口し不活性ガス供給源に接続された吸気管と、ワークを
吊り下げた治具を搭載する台車と、該台車の側部に設け
られた可動壁と、該可動壁が当接する周縁部をもち、中
間チャンバーとめっき室とを仕切る壁体に形成された台
車通過用の開口と、前記中間チャンバーと前記めっき室
との間で前記台車を横移動させる駆動機構とを備えてお
り、めっき室に送り込まれた前記治具を前記めっき槽に
搬送する移送機構を前記めっき室の内部に設けたことを
特徴とする。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the object, a sealed aluminum plating apparatus of the present invention includes a plating chamber having a plating tank therein,
A sealable intermediate chamber horizontally arranged in the lateral direction of the plating chamber, an exhaust pipe opened to the inside of the intermediate chamber and connected to a vacuum device, and an inert gas supply source opened to the inside of the intermediate chamber. A connected intake pipe, a trolley on which a jig for suspending a workpiece is mounted, a movable wall provided on a side of the trolley, and a peripheral edge with which the movable wall contacts, an intermediate chamber and a plating chamber. An opening for passing a trolley formed in a wall that partitions the trolley, a drive mechanism for laterally moving the trolley between the intermediate chamber and the plating chamber is provided, and the jig sent into the plating chamber is provided. A transfer mechanism for transporting to the plating tank is provided inside the plating chamber.

[作用] 本発明めっき装置においては、めっき室の側部に中間
チャンバーが配置されている。そのため、中間チャンバ
ーからめっき室に或いはめっき室から中間チャンバーに
ワークを搬送することができる。また、中間チャンバー
にワークを一旦保持して、中間チャンバーを所定の不活
性雰囲気に維持した後、ワークがめっき室に送り込まれ
るため、めっき室の内部雰囲気が大気に連通することが
ない。したがって、めっき室内のめっき槽に収容されて
いるめっき液の劣化が防がれる。
[Operation] In the plating apparatus of the present invention, an intermediate chamber is arranged on the side of the plating chamber. Therefore, the work can be transferred from the intermediate chamber to the plating chamber or from the plating chamber to the intermediate chamber. Further, the work is sent into the plating chamber after the work is once held in the intermediate chamber and the intermediate chamber is maintained in a predetermined inert atmosphere, so that the atmosphere inside the plating chamber does not communicate with the atmosphere. Therefore, the deterioration of the plating solution contained in the plating tank in the plating chamber is prevented.

また、台車に設けた可動壁で、中間チャンバーとめっ
き室との間を仕切る壁体に形成した開口を封止すると
き、台車の位置如何によって自動的に中間チャンバーと
めっき室との間が連通状態或いは遮断状態となる。その
ため、めっき室に対する密封機構が簡略化される。
Also, when the movable wall provided on the cart seals the opening formed in the wall separating the intermediate chamber and the plating chamber, the intermediate chamber and the plating chamber automatically communicate with each other depending on the position of the cart. State or cutoff state. Therefore, the sealing mechanism for the plating chamber is simplified.

[実施例] 以下、図面を参照しながら、実施例によって本発明を
具体的に説明する。
[Example] Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings by way of examples.

本実施例のめっき装置は、第1図に示すように中間チ
ャンバー100及びめっき室200を互いに水平横方向に隣接
配置している。これら中間チャンバー100及びめっき室2
00は、直方体状の内部空間をもち、基礎に立設された共
通の壁体150の内部に形成されている。めっき室200は、
中間チャンバー100よりも上方に突出している。中間チ
ャンバー100の床101は、めっき室200の床201より一段高
く設けられている。
In the plating apparatus of the present embodiment, as shown in FIG. 1, the intermediate chamber 100 and the plating chamber 200 are horizontally adjacent to each other. These intermediate chamber 100 and plating room 2
00 has a rectangular parallelepiped internal space and is formed inside a common wall 150 erected on the foundation. The plating room 200
It protrudes above the intermediate chamber 100. The floor 101 of the intermediate chamber 100 is provided one step higher than the floor 201 of the plating chamber 200.

治具350に吊り下げられたワークWを収容する台車300
が、中間チャンバー100及びめっき室200の間を往復可能
に配置されている。台車300の車輪301,302は、中間チャ
ンバー100の床101及びめっき室200の床201にそれぞれ敷
設された一対のレール上を転動する。
A trolley 300 that accommodates the work W suspended by the jig 350
However, it is arranged so as to be able to reciprocate between the intermediate chamber 100 and the plating chamber 200. Wheels 301 and 302 of the trolley 300 roll on a pair of rails laid on the floor 101 of the intermediate chamber 100 and the floor 201 of the plating chamber 200, respectively.

台車300は、床101の近傍で水平に延びる基礎フレーム
320の両端に一対のサポート321を立設している。これら
サポート321は、ワークWの横方向両側で垂直上方に延
び、上端に治具350の横部材351が着座するサドル322を
設けている。また、台車300のめっき室200側には、可動
壁310がブラケット311を介してサポート321の上端部及
び下端部に連結されている。また、可動壁310は、シリ
ンダ400から延びたロッド401にブラケット402及び複数
の圧縮コイルスプリング403を介して接続されている。
The bogie 300 is a base frame that extends horizontally near the floor 101.
A pair of supports 321 are provided upright at both ends of the 320. These supports 321 extend vertically upward on both lateral sides of the work W, and are provided with saddles 322 at the upper ends on which the horizontal members 351 of the jig 350 are seated. A movable wall 310 is connected to an upper end and a lower end of the support 321 via a bracket 311 on the side of the plating chamber 200 of the cart 300. The movable wall 310 is connected to a rod 401 extending from the cylinder 400 via a bracket 402 and a plurality of compression coil springs 403.

これにより、ロッド401を伸長して台車300を第1図右
方向に移動させたとき、可動壁310は、中間チャンバー1
00とめっき室200との間の開口151の周縁部に当接する。
このとき、可動壁310に取り付けられている負数のコイ
ルスプリング403によって、均一な力で開口151の周縁部
に可動壁310が押し付けられ、めっき室200が中間チャン
バー100から気密に隔離される。
Thereby, when the bogie 300 is moved rightward in FIG. 1 by extending the rod 401, the movable wall 310
It contacts the periphery of the opening 151 between the plating chamber 200 and the plating chamber 200.
At this time, the movable wall 310 is pressed against the peripheral portion of the opening 151 with a uniform force by the negative coil spring 403 attached to the movable wall 310, and the plating chamber 200 is airtightly isolated from the intermediate chamber 100.

また、ロッド401を後退させると、可動壁310が第1図
左側に移動し、開口11が開放される。同時に、台車300
は、ワークW及び治具350と共にめっき室200側に移動す
る。
When the rod 401 is retracted, the movable wall 310 moves to the left in FIG. 1, and the opening 11 is opened. At the same time, trolley 300
Moves to the plating chamber 200 side together with the work W and the jig 350.

中間チャンバー100の上部に、蓋体120で開閉される開
口121が形成されている。蓋体120は、アーム122にシリ
ンダ123を介して支持されている。シリンダ123から垂直
下方にロッド124が延びており、その先端が蓋体120の中
央部に固定されている。アーム122は、第2図に示すよ
うに回転軸125が中間チャンバー100の外壁に設けたブラ
ケット126で支持されており、レバー127を介しシリンダ
128のロッド129に連結されている。なお、蓋体120の周
縁部及び該周縁部が当接する壁体130の上端面には、O
リング131が装着されている。また、符番132は、蓋体12
0の垂直方向運動を案内するガイドロッドである。
An opening 121 that is opened and closed by a lid 120 is formed in an upper part of the intermediate chamber 100. The lid 120 is supported by the arm 122 via the cylinder 123. A rod 124 extends vertically downward from the cylinder 123, and its tip is fixed to the center of the lid 120. The arm 122 has a rotating shaft 125 supported by a bracket 126 provided on the outer wall of the intermediate chamber 100 as shown in FIG.
It is connected to 128 rods 129. The peripheral edge of the lid 120 and the upper end surface of the wall 130 with which the peripheral edge abuts are
The ring 131 is mounted. Reference numeral 132 indicates the lid 12
This is a guide rod that guides zero vertical movement.

開口121を開放するときには、ロッド124を後退させ蓋
体120に加えられている押圧力を解除する。そして、シ
リンダ128のロッド129を後退させて、回転軸125を中心
としてアーム122を旋回させる。これにより、蓋体120
は、第2図で時計方向に旋回して壁体130の上端面から
離間する。逆に開口121を閉鎖するときには、シリンダ1
28のロッド129を伸長してアーム122を反時計方向に回転
させた後、シリンダ123のロッド124を伸長し蓋体120を
開口121の周縁部に押し付ける。これにより、蓋体120
は、水平姿勢を維持して下降するため、均等な力で開口
121の周縁部に圧着させ、開口121を気密封止する。
When opening the opening 121, the rod 124 is retracted to release the pressing force applied to the lid 120. Then, the rod 129 of the cylinder 128 is retracted, and the arm 122 is turned around the rotation shaft 125. Thereby, the lid 120
Pivots clockwise in FIG. 2 and separates from the upper end surface of the wall 130. Conversely, when closing the opening 121, the cylinder 1
After extending the rod 129 of the 28 and rotating the arm 122 in the counterclockwise direction, the rod 124 of the cylinder 123 is extended and the lid 120 is pressed against the periphery of the opening 121. Thereby, the lid 120
Is opened with even force to descend while maintaining a horizontal posture.
The opening 121 is hermetically sealed by being pressed against the periphery of the opening 121.

治具350は、ワークWの上方で水平方向に延びる横部
材351,この横部材の両端から上方に突出する短尺の縦部
材352,及び双方の縦部材352から内側に突出した短尺の
係合部材353を備えている。また、横部材351の下部に
は、ワークWを保持する一対のホルダー354が設けられ
ている。
The jig 350 includes a horizontal member 351 extending horizontally above the workpiece W, a short vertical member 352 protruding upward from both ends of the horizontal member, and a short engaging member protruding inward from both the vertical members 352. It has 353. In addition, a pair of holders 354 that hold the work W are provided below the horizontal member 351.

治具350は、めっき室200の内部及び中間チャンバー10
0の外部上方に設けられている移送機構500,550によって
めっき室200及び中間チャンバー100内を移送される。
The jig 350 is located inside the plating chamber 200 and the intermediate chamber 10.
The inside of the plating chamber 200 and the intermediate chamber 100 are transferred by the transfer mechanisms 500 and 550 provided above and outside the zero.

移送機構500は、めっき室200の上部で第3図左右方向
に延びるレール501を備えており、このレール501の上を
台車502が走行する。台車502には下方に延びた昇降ガイ
ド503が設けられており、この昇降ガイド503に沿ってエ
レベータ504が昇降する。エレベータ504に設けられたフ
ック505は、一対の係合部材353の下側に入り込み、エレ
ベータ504に治具350を係合させる。治具350は、エレベ
ータ504の昇降によって上昇或いは下降し、台車502の走
行によって第3図左右方向に移動する。
The transfer mechanism 500 is provided with a rail 501 extending in the left-right direction in FIG. 3 above the plating chamber 200, and a carriage 502 runs on the rail 501. The carriage 502 is provided with a lifting guide 503 extending downward, and the elevator 504 moves up and down along the lifting guide 503. The hook 505 provided in the elevator 504 enters under the pair of engaging members 353, and engages the jig 350 with the elevator 504. The jig 350 moves up or down as the elevator 504 moves up and down, and moves in the left-right direction in FIG.

符番510は、エレベータ504を昇降させるためのモータ
であり、チェーン,減速機等を介してエレベータ504に
連結されている。モータ510は、密閉構造のケーシング5
11内に収容されており、めっき室200内の強い腐食性の
めっき液蒸気にモータ510が晒されることを防いでい
る。
Reference numeral 510 denotes a motor for moving the elevator 504 up and down, and is connected to the elevator 504 via a chain, a speed reducer, and the like. The motor 510 is a casing 5 having a closed structure.
11 prevents the motor 510 from being exposed to strongly corrosive plating solution vapor in the plating chamber 200.

他方、台車502をレール501に沿って移動させるため、
めっき室200の上壁上側にモータ520が設けられている。
このモータ520は、チェーン及び減速機等を介し台車502
に連結されている。
On the other hand, in order to move the carriage 502 along the rail 501,
A motor 520 is provided above the upper wall of the plating chamber 200.
The motor 520 is connected to the carriage 502 via a chain and a speed reducer.
It is connected to.

中間チャンバー100に配置される移送機構550も、移送
機構500と同様な構造をもっており、治具350を昇降及び
水平移動させる。第1図では、この移送機構550の下部
を示し、他を省略している。
The transfer mechanism 550 disposed in the intermediate chamber 100 also has the same structure as the transfer mechanism 500, and moves the jig 350 up and down and horizontally. FIG. 1 shows the lower part of the transfer mechanism 550, and the other parts are omitted.

中間チャンバー100の側壁には、真空ポンプに接続さ
れた排気管140及び不活性ガス供給源に接続された吸気
管141が設けられている。中間チャンバー100が密閉され
ると、排気管140を介して中間チャンバー100の内部空気
が排気され、続いて吸気管141から窒素等の不活性ガス
が送り込まれる。これによって、中間チャンバー100の
内部は、不活性雰囲気に維持される。なお、真空引き及
び不活性ガス導入を繰り返すことにより、内部雰囲気に
含まれている酸素を完全に除去することができる。
On the side wall of the intermediate chamber 100, an exhaust pipe 140 connected to a vacuum pump and an intake pipe 141 connected to an inert gas supply source are provided. When the intermediate chamber 100 is sealed, the air inside the intermediate chamber 100 is exhausted through the exhaust pipe 140, and subsequently, an inert gas such as nitrogen is sent from the intake pipe 141. Thus, the inside of the intermediate chamber 100 is maintained in an inert atmosphere. Note that oxygen contained in the internal atmosphere can be completely removed by repeating the evacuation and the introduction of the inert gas.

めっき室200には、めっき槽250が配置されている。図
示の例では、めっき槽250を第3図左右方向に2槽直列
配置しているが、この槽数はめっき装置のスケールに応
じて適宜変更することができる。めっき槽250は、治具3
50を保持するサドル251を槽壁に取り付けている。ま
た、ワークWの両面に対向するアノード保持具252が設
けられている。
In the plating chamber 200, a plating tank 250 is disposed. In the illustrated example, two plating tanks 250 are arranged in series in the left-right direction in FIG. 3, but the number of these tanks can be appropriately changed according to the scale of the plating apparatus. The plating tank 250 has a jig 3
A saddle 251 holding 50 is attached to the tank wall. Further, anode holders 252 facing both surfaces of the work W are provided.

アノード保持具252は、第4図に示すようにワークW
とほぼ同じ幅及び高さをもった箱状の本体253を備えて
おり、ワークWに対向する側及び上面が開放されてい
る。また、上下方向の側壁254は、ワークW側の縁部が
内方に若干突出し、側壁254の内面を底面とする溝部255
となっている。この溝部255の幅は、棒状アノード260の
径よりも若干大きく、且つ径の2倍未満にすることが好
ましい。
The anode holder 252 is provided with the workpiece W as shown in FIG.
A box-shaped main body 253 having substantially the same width and height as that of the workpiece W is provided, and the side facing the workpiece W and the upper surface are open. Further, the vertical side wall 254 has a groove portion 255 whose edge on the side of the work W slightly projects inward and whose inner surface is the bottom surface.
It has become. The width of the groove 255 is preferably slightly larger than the diameter of the rod-shaped anode 260 and less than twice the diameter.

ワークWと反対側のアノード保持具252の端壁は、側
壁254より上方に突出している。端壁256の上端には横部
材257が取り付けられており、この横部材257の両端に立
設された縦部材258の上端に係合部材259が設けられてい
る。
The end wall of the anode holder 252 opposite to the workpiece W projects above the side wall 254. A horizontal member 257 is attached to an upper end of the end wall 256, and an engagement member 259 is provided at an upper end of a vertical member 258 provided on both ends of the horizontal member 257.

棒状のアノード260は、上方からアノード保持具252に
供給され、両端が溝部255に挿入された状態で保持され
る。このとき、アノード260の径よりも溝部255の幅が若
干大きいため、供給されたアノード260は、上下方向に
関して千鳥状に配置される。そして、端壁256側に配置
されたアノード260は、上方にあるアノード260の加重を
受けて端壁256に押し付けられる。
The rod-shaped anode 260 is supplied to the anode holder 252 from above, and is held with both ends inserted into the groove 255. At this time, since the width of the groove portion 255 is slightly larger than the diameter of the anode 260, the supplied anodes 260 are arranged in a staggered manner in the vertical direction. Then, the anode 260 disposed on the end wall 256 side is pressed against the end wall 256 under the load of the anode 260 located above.

めっき用電流は、電源から縦部材258及び横部材257を
介して端壁256に供給される。そして、端壁256に接触し
ているアノード260を介してワークWに流れる。このと
き、端壁256側に配置されたアノード260が端壁256に押
圧されているので、そのアノード260と端壁256との間の
接触抵抗が小さく、めっき用電流は効率よくアノード26
0に伝えられる。また、アノード保持具252のワークW側
が開放されているので、アノード260とワークWとの間
の通電効率も良好である。
The plating current is supplied from a power source to the end wall 256 via the vertical member 258 and the horizontal member 257. Then, it flows to the work W via the anode 260 in contact with the end wall 256. At this time, since the anode 260 disposed on the end wall 256 side is pressed against the end wall 256, the contact resistance between the anode 260 and the end wall 256 is small, and the plating current is efficiently applied to the anode 26.
Conveyed to 0. Further, since the work W side of the anode holder 252 is open, the energization efficiency between the anode 260 and the work W is also good.

めっき反応の進行に従って、アノード260が消耗され
る。消耗した分のアノードは、新規の棒状アノードをア
ノード保持具252の上部開口から挿入することにより補
給される。この補給作業は、移送機構500でめっき槽250
からアノード保持具252を引き上げ、中間チャンバー100
を経て室外に取り出した後で行われる。
The anode 260 is consumed as the plating reaction proceeds. The exhausted anode is replenished by inserting a new rod-shaped anode through the upper opening of the anode holder 252. This replenishment work is performed by the transfer mechanism 500 using the plating tank 250
Pull the anode holder 252 out of the middle chamber 100
This is performed after being taken out of the room via.

めっき槽250の上端には、第3図のV−V部分断面図
である第5図に示したように、サドル261が設けられて
いる。サドル261は、アノード保持具252がめっき槽250
に潰けられた状態で、横部材257を下方から支持する。
A saddle 261 is provided at the upper end of the plating tank 250, as shown in FIG. 5, which is a partial sectional view taken along line VV in FIG. The saddle 261 has the anode holder 252 and the plating tank 250
The horizontal member 257 is supported from below in a state of being collapsed.

サドル261に着座する横部材257の側方で、めっき室20
0の外壁201の外面に給電装置270が取り付けられてい
る。給電装置270は、外壁201の孔を通過してめっき室20
0の内部から外部まで延びた給電ロッド271を備えてい
る。給電ロッド271の外側端部は、ブラケット272を介し
てその延長線上に配置したシリンダ273のシリンダロッ
ドに連結されている。
Beside the horizontal member 257 seated on the saddle 261, the plating chamber 20
The power supply device 270 is attached to the outer surface of the outer wall 201 of the “0”. The power supply device 270 passes through the hole in the outer wall 201 and passes through the plating chamber 20.
It has a power supply rod 271 extending from the inside to the outside. The outer end of the power supply rod 271 is connected via a bracket 272 to a cylinder rod of a cylinder 273 disposed on an extension of the same.

また、外壁201の外面には、給電ロッド271を摺動自在
に気密保持するガイド274が固定されている。このガイ
ド274に、複数のブラケット275を介しシリンダ273が固
定されている。そして、ブラケット272とガイド274との
間で、給電ケーブル276が給電ロッド271の外面に形成し
たネジ孔に接続されている。
A guide 274 for slidably holding the power supply rod 271 in an airtight manner is fixed to the outer surface of the outer wall 201. The cylinder 273 is fixed to the guide 274 via a plurality of brackets 275. Then, between the bracket 272 and the guide 274, the power supply cable 276 is connected to a screw hole formed on the outer surface of the power supply rod 271.

第5図は、アノード260を補給するため、アノード保
持具252をめっき槽250から上方に引き揚げることができ
るように、シリンダ273により給電ロッド271を後退させ
た状態を示している。所定量のアノード260を補給した
後、アノード保持具252の横部材257をサドル261に着座
させる。次いで、シリンダ273によって給電ロッド271を
突出させ、その先端面277を横部材257に押し付け電気的
接続を得る。このとき、給電ロッド271の先端面277に編
目状の細かな溝を刻設しておくと、横部材257に対する
給電ロッド271の接触抵抗を減少することができ、電圧
損失を低減し、めっきコストを抑えることが可能とな
る。
FIG. 5 shows a state in which the power supply rod 271 is retracted by the cylinder 273 so that the anode holder 252 can be pulled up from the plating tank 250 to replenish the anode 260. After supplying a predetermined amount of the anode 260, the horizontal member 257 of the anode holder 252 is seated on the saddle 261. Next, the power supply rod 271 is protruded by the cylinder 273, and the distal end surface 277 is pressed against the horizontal member 257 to obtain an electrical connection. At this time, if a fine stitch-shaped groove is formed in the tip end surface 277 of the power supply rod 271, the contact resistance of the power supply rod 271 to the horizontal member 257 can be reduced, voltage loss can be reduced, and plating cost can be reduced. Can be suppressed.

カソード給電機構600は、第3図のVI−VI断面図であ
る第6図に示されるように、治具350の幅方向側部で、
めっき室200の外壁601に開口602を形成し、開口602の周
縁部外面に箱状のケーシング603を取り付けている。ケ
ーシング603の内部は、外部空間から密閉されており、
開口602を介してめっき室200に連通している。
As shown in FIG. 6, which is a cross-sectional view taken along the line VI-VI of FIG.
An opening 602 is formed in the outer wall 601 of the plating chamber 200, and a box-shaped casing 603 is attached to the outer peripheral surface of the opening 602. The inside of the casing 603 is sealed from the external space,
It communicates with the plating chamber 200 through the opening 602.

ケーシング603には、横方向に延びる一対のレール60
4,605が上部及び下部にそれぞれ設けられている。
The casing 603 has a pair of rails 60 extending in the lateral direction.
4,605 are provided in the upper part and the lower part, respectively.

フレーム610は、複数対の車輪611で下側のレール604
を挟持することによって、レール604に支持されてい
る。フレーム610の上面には横方向に延びるシリンダ612
が取り付けられており、そのロッド613が治具350側に突
出している。
The frame 610 is composed of a pair of wheels 611 and a lower rail 604.
Are supported by the rail 604. A cylinder 612 extending in the lateral direction is provided on the upper surface of the frame 610.
Is attached, and the rod 613 protrudes toward the jig 350 side.

上側のレール605にも、レール605を上下からはさむ複
数対の車輪621を介してフレーム620支持されている。フ
レーム620には、シリンダ622がそのロッド623を治具350
側に突出させた状態で取り付けられている。ロッド623
の下側で、前方に突出したブラケット624がフレーム620
に取り付けられている。そして、ブラケット624の前端
部に支持軸625を垂直に取り付けている。
The frame 620 is also supported on the upper rail 605 via a plurality of pairs of wheels 621 that sandwich the rail 605 from above and below. On the frame 620, the cylinder 622 mounts the rod 623 on the jig 350
It is attached with it protruding to the side. Rod 623
At the underside, a forwardly projecting bracket 624 attaches to the frame 620
Attached to. The support shaft 625 is vertically attached to the front end of the bracket 624.

支持軸625には、第6図のVII−VII断面である第7図
に示したように、チャック630の一対の爪又はアームが
回転自在に支持されている。チャック630は、基端部が
レバーアームを介しロッド623に連結されており、支持
軸625より前方の部分で治具350の縦部材352を両側から
挟持するようになっている。
7, a pair of claws or arms of a chuck 630 are rotatably supported on the support shaft 625, as shown in FIG. 7, which is a cross section taken along line VII-VII of FIG. The chuck 630 has a base end connected to the rod 623 via a lever arm, and holds the vertical member 352 of the jig 350 from both sides at a portion forward of the support shaft 625.

レール605の上方には、第6図に示すように横方向に
延びる給電ロッド640が設けられている。この給電ロッ
ド640は、ケーシング603の端壁上部に設けられたシール
ガイド641によって、ケーシング603内に密閉状態で摺動
自在に配置されている。給電ロッド640の一端は、シー
ルガイド641から外部に突出しており、外部に配置され
たカソード給電源(図示せず)から延びた給電ケーブル
642が接続されている。
Above the rail 605, a power supply rod 640 extending in the lateral direction is provided as shown in FIG. The power supply rod 640 is slidably disposed in the casing 603 in a sealed state by a seal guide 641 provided on an upper end wall of the casing 603. One end of the power supply rod 640 protrudes outside from the seal guide 641, and a power supply cable extending from a cathode power supply (not shown) disposed outside.
642 is connected.

給電ロッド640の前部は、ケーシング603の内部でフレ
ーム620に設けたブラケット624に固定されている。これ
により、外部の給電源から給電ケーブル642,給電ロッド
640,ケーブル643及びチャック630を経て治具350に給電
され、治具350からワークWに給電される。
A front portion of the power supply rod 640 is fixed to a bracket 624 provided on the frame 620 inside the casing 603. This allows the power supply cable 642, power supply rod
Power is supplied to the jig 350 via the 640, the cable 643, and the chuck 630, and the power is supplied to the work W from the jig 350.

ケーシング603の底壁下面には、モータ650が固定され
ている。モータ650の出力軸651は、ケーシング603内に
上向きに突出して設けられており、その上端部に回転板
652が水平に取り付けられている。回転板652には、その
上側に配置したローラ653の支軸が垂直に取り付けられ
ている。ローラ653は、フレーム610の下面に形成した溝
654に嵌り込んでおり、フレーム610に対する横方向の相
対的な移動が規制されている。
A motor 650 is fixed to the lower surface of the bottom wall of the casing 603. An output shaft 651 of the motor 650 is provided to protrude upward in the casing 603, and a rotating plate is provided at an upper end thereof.
652 is mounted horizontally. On the rotating plate 652, a support shaft of a roller 653 disposed above the rotating plate 652 is vertically attached. The roller 653 is a groove formed on the lower surface of the frame 610.
It is fitted into the 654, and the relative movement in the lateral direction with respect to the frame 610 is restricted.

ローラ653の中心は、第7図に示すように出力軸651の
中心から水平方向にずれている。したがって、出力軸65
1が回転すると、ローラ653は、出力軸651の回りを旋回
し、フレーム610を横方向に往復運動させる。
The center of the roller 653 is horizontally offset from the center of the output shaft 651 as shown in FIG. Therefore, output shaft 65
When 1 rotates, the rollers 653 pivot about the output shaft 651, causing the frame 610 to reciprocate in the lateral direction.

なお、第2図の符番700は、めっき室200の内部を観察
するため、外壁201に設けられた覗き窓であり、耐薬品
性に優れた強化ガラス701が嵌め込まれている。
Reference numeral 700 in FIG. 2 is a viewing window provided on the outer wall 201 for observing the inside of the plating chamber 200, in which tempered glass 701 having excellent chemical resistance is fitted.

以上に説明しためっき装置で、ワークWに対するめっ
きが行われる。このとき、めっきを良好に行い且つめっ
き後の表面性状を向上させるため、前処理及び後処理を
ワークWに施すことが必要とされる。そこで、第8図に
示すように、めっき装置10に前処理ライン20及び後処理
ライン30を付設する。前処理ライン20は、それぞれ脱
脂,洗浄,酸洗等を行う複数の槽21を直列に配置してい
る。他方、後処理ライン30は、それぞれ洗浄,化成処理
等を行う複数の槽31を直列に配置している。また、前処
理ライン20及び後処理ライン30とめっき装置10との間に
は、ワークWを横方向に移動する搬送機40が設けられて
いる。
The plating for the workpiece W is performed by the plating apparatus described above. At this time, it is necessary to perform a pre-treatment and a post-treatment on the workpiece W in order to perform plating well and improve the surface properties after plating. Therefore, as shown in FIG. 8, a pre-processing line 20 and a post-processing line 30 are added to the plating apparatus 10. In the pretreatment line 20, a plurality of tanks 21 for performing degreasing, washing, pickling, and the like are arranged in series. On the other hand, the post-processing line 30 has a plurality of tanks 31 for performing cleaning, chemical conversion, and the like, respectively, arranged in series. Further, between the pre-processing line 20 and the post-processing line 30 and the plating apparatus 10, a transfer device 40 for moving the workpiece W in the lateral direction is provided.

なお、第8図では、めっき装置10の片側に、前処理ラ
イン20及び後処理ライン30を並列に配置したレイアウト
を採用している。しかし、これに拘束されることなく、
前処理ライン20及び後処理ライン30を直線状に配列し、
その中間にめっき装置を組み込んだレイアウトを採用す
ることができるのは勿論である。この場合、めっき室20
0の前後両側に中間チャンバー100を配置し、それぞれを
挿入用及び排出用に使用することが好ましい。
In FIG. 8, a layout in which a pre-processing line 20 and a post-processing line 30 are arranged in parallel on one side of the plating apparatus 10 is adopted. However, without being bound by this,
Pre-processing line 20 and post-processing line 30 are arranged linearly,
It goes without saying that a layout incorporating a plating apparatus in the middle can be adopted. In this case, the plating chamber 20
It is preferable to arrange the intermediate chambers 100 on both front and rear sides of 0 and use them for insertion and discharge.

次いで、以上のめっき装置を使用しためっき作業を説
明する。
Next, a plating operation using the above plating apparatus will be described.

めっきが施されるワークWは、治具350に吊り下げら
れて移送機構550により、前処理ライン20をめっき装置1
0に向けて送られながら、各前処理槽21で脱脂,酸洗,
乾燥等が施され、その表面がめっきに適した表面状態に
調質される。
The workpiece W to be plated is suspended by a jig 350 and moved by the transfer mechanism 550 to the pretreatment line 20 by the plating apparatus 1.
While being sent toward 0, degreasing, pickling,
Drying or the like is performed, and the surface is conditioned to a surface state suitable for plating.

前処理されたワークWは、蓋体120を開放した中間チ
ャンバー100に挿入される。中間チャンバー100内では、
ワークWを吊り下げた治具350の横部材351がサドル322
に搭載される。そして、開口121に蓋体120を装着し中間
チャンバー100を密閉した後、排気管140を経由した真空
吸引及び吸気管141を経由した不活性ガスの導入によっ
て中間チャンバー100内部を酸素,及び水分を含有しな
い不活性雰囲気に維持する。
The pre-processed work W is inserted into the intermediate chamber 100 with the lid 120 opened. In the intermediate chamber 100,
The horizontal member 351 of the jig 350 that hangs the work W is saddle 322
Mounted on Then, after attaching the lid body 120 to the opening 121 and sealing the intermediate chamber 100, the inside of the intermediate chamber 100 is purged of oxygen and moisture by vacuum suction via the exhaust pipe 140 and introduction of inert gas via the intake pipe 141. Maintain an inert atmosphere that does not contain it.

このとき、台車300が第1図で右側の移動端部に位置
し、可動壁310が壁体150に押し付けられている。そのた
め、蓋体120を開放することにより大気と連通した中間
チャンバー100内の雰囲気がめっき室200側に流入するこ
とが防止される。
At this time, the bogie 300 is located at the right moving end in FIG. 1, and the movable wall 310 is pressed against the wall 150. Therefore, opening the lid 120 prevents the atmosphere in the intermediate chamber 100 communicating with the atmosphere from flowing into the plating chamber 200 side.

中間チャンバー100内が所定の不活性雰囲気に達し、
ワークWに対するめっきを行う段階になると、シリンダ
400を駆動してロッド401を後退させる。これにより、台
車300は、ロッド401に引っ張られてめっき室200側に移
動する。
The inside of the intermediate chamber 100 reaches a predetermined inert atmosphere,
At the stage of plating the work W, the cylinder
Driving 400 moves the rod 401 backward. Thereby, the cart 300 is pulled by the rod 401 and moves to the plating chamber 200 side.

めっき室200では、移送機構500で台車300から治具350
を受け取り、所定のめっき槽250にワークWを浸漬す
る。めっき槽250に浸漬されたワークWを吊り下げてい
る治具350に対し、カソード給電機構600から通電を行
う。他方、アノード260に対しては、給電装置270から通
電を行う。そして、ワークWをアノード260と対向させ
た状態でワークWをめっきする。
In the plating room 200, the jig 350
Is received, and the work W is immersed in a predetermined plating tank 250. Electric power is supplied from the cathode power supply mechanism 600 to the jig 350 that suspends the work W immersed in the plating tank 250. On the other hand, power is supplied to the anode 260 from the power supply device 270. Then, the work W is plated with the work W facing the anode 260.

使用されるめっき液としては、たとえば本出願人等が
特開昭64−17889号公報,特開平1−272788号公報等で
提案したハロゲン化アルミニウム,アルキル,ピリジニ
ウム,第4級アンモニウム塩等を含有する非水液が使用
することができる。このようなめっき浴は、雰囲気中に
含まれている酸素や水分により変質し易いものである。
しかし、前述したように中間チャンバー100を介してめ
っき室200を大気から遮断された状態においているた
め、めっき液は安定した初期状態に維持される。そのた
め、同一条件下でめっきを行うことができ、一定した品
質のめっき製品が得られる。
The plating solution used includes, for example, aluminum halide, alkyl, pyridinium, quaternary ammonium salts, etc. proposed by the present applicant in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 17889/1989 and 272788/1982. Non-aqueous liquids can be used. Such a plating bath is easily changed by oxygen and moisture contained in the atmosphere.
However, as described above, since the plating chamber 200 is shielded from the atmosphere via the intermediate chamber 100, the plating solution is maintained in a stable initial state. Therefore, plating can be performed under the same conditions, and a plated product of constant quality can be obtained.

なお、このめっき液は、所定成分を高濃度で溶解した
原液を調製しておき、その原液から適量をめっき浴と供
給するように、流入制御することが好ましい。たとえ
ば、めっき浴の成分及びその量を検出し、検出結果に基
づいて不足するめっき成分を適宜の流量調整機構を会し
て補給する手段が採用される。これにより、めっき槽25
0に収容されているめっき浴は、常に一定の成分及び組
成を持つものとなり、安定した条件下でめっきを継続す
ることができる。
In addition, it is preferable to prepare a stock solution in which a predetermined component is dissolved at a high concentration, and to control the inflow of this plating solution so that an appropriate amount of the stock solution is supplied to a plating bath. For example, a means is employed in which the components of the plating bath and the amounts thereof are detected, and based on the detection results, the insufficient plating components are supplied through an appropriate flow rate adjusting mechanism. Thereby, the plating tank 25
The plating bath housed in 0 always has constant components and compositions, and plating can be continued under stable conditions.

めっきされたワークWは、装入時とは逆の動作によっ
てめっき槽250から引上げられ、台車300に搭載されて中
間チャンバー100に送られる。そして、蓋体120を開口12
1から取り外して、移送機構550により中間チャンバー10
0から排出し、後処理ライン30に送り出される。後処理
ライン30で洗浄,乾燥,化成処理等の適宜の処理が施さ
れた後、製品とされる。
The plated work W is pulled up from the plating tank 250 by an operation reverse to that at the time of loading, mounted on the carriage 300, and sent to the intermediate chamber 100. Then, open the lid 120 with the opening 12
Remove from 1 and transfer mechanism 550 to intermediate chamber 10
It is discharged from 0 and sent to the post-processing line 30. After being subjected to appropriate treatments such as washing, drying and chemical conversion treatment in the post-treatment line 30, the product is obtained.

[発明の効果] 以上に説明したように、本発明のめっき装置において
は、めっきされるワークは、基本的に水平移動しながら
中間チャンバーからめっき室に送り込まれる。そのた
め、装置構成が大型化することなく特に高さを抑え、し
かも簡単な駆動機構で中間チャンバーとめっき室との間
でワークを搬送することができる。また、台車に設けた
可動壁により中間チャンバーとめっき室との遮断状態を
維持することができ、めっき室に対する密閉構造が簡単
になる。このように、大気から遮断された雰囲気下に維
持されためっき室でめっきが行われるため、アルミニウ
ムめっき液の変質が抑制され、安定した条件の下で一定
したアルミニウムめっき製品を製造することが可能とな
る。
[Effects of the Invention] As described above, in the plating apparatus of the present invention, the workpiece to be plated is sent from the intermediate chamber to the plating chamber while basically moving horizontally. Therefore, the height can be particularly suppressed without increasing the size of the apparatus configuration, and the work can be transferred between the intermediate chamber and the plating chamber with a simple driving mechanism. In addition, the movable wall provided on the cart can maintain a state of shutoff between the intermediate chamber and the plating chamber, thereby simplifying the sealing structure for the plating chamber. As described above, since the plating is performed in the plating chamber maintained in an atmosphere shielded from the atmosphere, deterioration of the aluminum plating solution is suppressed, and it is possible to manufacture a constant aluminum plating product under stable conditions. Becomes

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明実施例のアルミニウムめっき装置をワー
ク搬入方向から見た第8図のI−I断面図、第2図は同
じく第8図のII−II断面図、第3図は第1図の部分断面
図、第4図はアノード保持具の斜視図、第5図は第3図
のV−V断面図、第6図は第2図のVI−VI断面図、第7
図は第2図のVII−VII断面図、第8図は該めっき装置を
組み込んだめっきラインの全体を示す平面図である。 100:中間チャンバー、140:排気管 141:吸気管、150:壁体 151:開口、200:めっき室 250:めっき槽 300:台車、310:可動壁 350:治具、400:シリンダ(駆動機構) 500:移送機構、W:ワーク
FIG. 1 is a sectional view taken along the line II of FIG. 8 of the aluminum plating apparatus according to the embodiment of the present invention viewed from the work loading direction, FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II of FIG. 4 is a perspective view of the anode holder, FIG. 5 is a sectional view taken along line VV of FIG. 3, FIG. 6 is a sectional view taken along line VI-VI of FIG.
The figure is a sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 2, and FIG. 8 is a plan view showing the entire plating line incorporating the plating apparatus. 100: Intermediate chamber, 140: Exhaust pipe 141: Intake pipe, 150: Wall 151: Opening, 200: Plating chamber 250: Plating tank 300: Dolly, 310: Movable wall 350: Jig, 400: Cylinder (drive mechanism) 500: Transfer mechanism, W: Work

フロントページの続き (72)発明者 高橋 節子 千葉県市川市高谷新町7番地の1 日新 製鋼株式会社新材料研究所内 (72)発明者 多々納 政義 大阪府堺市石津西町5番地 日新製鋼株 式会社鉄鋼研究所内 (72)発明者 浅川 清 大阪府南河内郡河南町大宝4―31―16 (72)発明者 杉浦 裕 兵庫県神戸市東灘区西岡本3丁目10番18 号 (72)発明者 森 淳 大阪府高槻市栄町4丁目26―1―306 (72)発明者 奈良田 忠昭 大阪府寝屋川市池田北町24―1―1405 (56)参考文献 特開 昭53−129130(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C25D 17/00,17/06,3/66Continued on the front page (72) Inventor Setsuko Takahashi 1-7-1, Takatani-Shimmachi, Ichikawa-shi, Chiba Nisshin Steel Co., Ltd. New Materials Research Laboratory (72) Inventor Masayoshi Tatana 5-5 Ishizu-Nishimachi, Sakai-shi, Osaka (72) Inventor Kiyoshi Asakawa 4-31-16, Daiho, Kanan-cho, Minamikawachi-gun, Osaka (72) Inventor Hiroshi Sugiura 3-10-18 Nishiokamoto, Higashinada-ku, Kobe-shi, Hyogo (72) Inventor Mori Jun Jun 26-1-306, Sakae-cho, Takatsuki-shi, Osaka (72) Inventor Tadaaki Narada 24-1-1405, Ikeda-kitamachi, Neyagawa-shi, Osaka (56) References JP-A-53-129130 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) C25D 17/00, 17/06, 3/66

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】内部にめっき槽を備えためっき室と、該め
っき室の横方向に水平配置された密閉可能な中間チャン
バーと、該中間チャンバーの内部に開口し真空装置に接
続された排気管と、前記中間チャンバーの内部に開口し
不活性ガス供給源に接続された吸気管と、ワークを吊り
下げた治具を搭載する台車と、該台車の側部に設けられ
た可動壁と、該可動壁が当接する周縁部をもち、中間チ
ャンバーとめっき室とを仕切る壁体に形成された台車通
過用の開口と、前記中間チャンバーと前記めっき室との
間で前記台車を横移動させる駆動機構とを備えており、
めっき室に送り込まれた前記治具を前記めっき槽に搬送
する移送機構を前記めっき室の内部に設けたことを特徴
とする密閉型アルミニウムめっき装置。
1. A plating chamber having a plating tank therein, a sealable intermediate chamber horizontally arranged in a horizontal direction of the plating chamber, and an exhaust pipe opened inside the intermediate chamber and connected to a vacuum device. An intake pipe opened to the inside of the intermediate chamber and connected to an inert gas supply source, a bogie on which a jig for suspending a work is mounted, and a movable wall provided on a side portion of the bogie; An opening for bogie passage having a peripheral portion with which a movable wall abuts and formed in a wall separating the intermediate chamber and the plating chamber, and a drive mechanism for laterally moving the bogie between the intermediate chamber and the plating chamber And
A closed aluminum plating apparatus, wherein a transfer mechanism for transferring the jig sent into the plating chamber to the plating tank is provided inside the plating chamber.
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