JP2835526B2 - Manufacturing method of optical recording medium - Google Patents
Manufacturing method of optical recording mediumInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学記録媒体の新規な製造方法に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel method for manufacturing an optical recording medium.
レーザーを用いた光学記録は、高密度の情報記録保存
および再生を可能とするため、近年、特に、開発が望ま
れている。In recent years, development of optical recording using a laser has been particularly demanded in order to enable high-density information recording and storage and reproduction.
光学記録の一例としては、光ディスクを挙げることが
できる。特に、小型で信頼性が高く、安価な半導体レー
ザーの出現に伴ない、コンパクトディスク(CD)等の再
生専用型光ディスク、次いでTe系無機材料を記録媒体と
する追記型光ディスクが実用化されてきた。これに対し
て、新しい追記型媒体として検討されているレーザー吸
収色素を用いた有機色素系記録材料については、その最
大の特徴はスピンコート法等の塗布により成膜できる点
にあることから、常圧での高生産性により将来のコスト
ダウンの可能性が期待されている。An example of the optical recording is an optical disk. In particular, with the advent of compact, highly reliable and inexpensive semiconductor lasers, read-only optical disks such as compact disks (CDs), and write-once optical disks using Te-based inorganic materials as recording media have been put to practical use. . On the other hand, an organic dye-based recording material using a laser-absorbing dye, which has been studied as a new write-once medium, has the greatest feature in that it can be formed into a film by coating such as spin coating. High pressure productivity is expected to reduce costs in the future.
一般に光ディスクは、円形の透明基板に設けられた薄
い記録層に、1μm程度に集束したレーザー光を照射
し、高密度の情報記録を行なうものである。In general, an optical disc performs high-density information recording by irradiating a thin recording layer provided on a circular transparent substrate with a laser beam focused to about 1 μm.
記録は、照射されたレーザーエネルギーの吸収によ
り、その個所に生じた記録層の分解、蒸発、溶解等の熱
的変形により生成し、そして記録された情報の再生は、
レーザー光により、変形が起きている部分と起きていな
い部分の反射率の差を読み取ることにより行なわれる。The recording is generated by thermal deformation such as decomposition, evaporation, dissolution etc. of the recording layer generated at that location by absorption of the irradiated laser energy, and reproduction of the recorded information,
This is performed by reading the difference in reflectance between a portion where deformation has occurred and a portion where no deformation has occurred, using a laser beam.
また、光ディスクの記録面には、正確な記録・再生を
行うため、案内溝があらかじめ形成されている。通常、
この案内溝はフォトポリマー法または射出成形法により
形成されるが、前者の場合、フォトポリマーから型取り
するために生産性が悪く高価であるという欠点を有して
いた。後者の場合は、射出成形法によるために生産性に
すぐれ、安価なディスクを生産できるが、射出成形法に
使用できる樹脂は、加熱時の流動性が必要なため材料に
制約があり、一般に耐溶剤性が悪い。このような射出成
形プラスチック透明基板にレーザー吸収色素を溶液塗布
によって薄膜形成させる場合、基板上の案内溝が塗布溶
剤におかされないことが必要であるが、塗布に使用でき
る溶剤としては、従来はセロソルブ系溶剤が知られてい
るのみであった。(特開昭62−67068号公報)。In addition, guide grooves are formed in advance on the recording surface of the optical disc in order to perform accurate recording / reproduction. Normal,
This guide groove is formed by a photopolymer method or an injection molding method. In the former case, however, there is a drawback that the productivity is low and the cost is high because the mold is formed from the photopolymer. In the latter case, the productivity is excellent because of the injection molding method, and an inexpensive disk can be produced.However, the resin that can be used for the injection molding method is limited in material due to the need for fluidity during heating and is generally resistant. Poor solvent properties. When forming a thin film of a laser absorbing dye by solution coating on such an injection molded plastic transparent substrate, it is necessary that the guide groove on the substrate is not exposed to the coating solvent. Only system solvents were known. (JP-A-62-67068).
しかしながら、上記のような従来公知のセロソルブ系
溶剤には高濃度に溶解し得るレーザー吸収色素がほとん
どないばかりか、かかるセロソルブ系溶剤では射出成形
プラスチック透明基板に対して基板をおかすことなく均
一に塗布することは難しいという問題があった。However, the above-mentioned conventionally known cellosolve-based solvents have almost no laser-absorbing dye that can be dissolved in a high concentration, and such cellosolve-based solvents can be uniformly applied to an injection-molded plastic transparent substrate without damaging the substrate. There was a problem that it was difficult to do.
本発明は、上記したような従来の課題を解決して、射
出成形透明プラスチック基板を用いた場合にも基板をお
かすことなく均一に塗布可能で、しかも、レーザー吸収
色素を高濃度に溶解する溶剤を用いた、光学記録媒体の
新規な製造方法の提供を目的とする。The present invention solves the conventional problems as described above, and even when an injection-molded transparent plastic substrate is used, it can be uniformly applied without damaging the substrate, and furthermore, a solvent that dissolves the laser-absorbing dye at a high concentration. It is an object of the present invention to provide a novel method for manufacturing an optical recording medium using the method.
本発明者らは、かかる目的を達成すべく鋭意研究を進
めた結果、射出成形プラスチック透明基板を用いた場合
にも基板をおかすことなく均一に塗布可能で、しかもレ
ーザー吸収色素を高濃度に溶解し得る新規な溶剤として
は、ヒドロキシアセチレン系化合物が好適であることを
初めて見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明
は、有機色素の有機溶媒溶液を透明基板上に塗布したの
ち乾燥して光学記録媒体を製造するに当り、前記有機溶
媒としてヒドロキシアセチレン系化合物を用いることを
特徴とする光学記録媒体の製造方法を要旨とするもので
ある。The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve such an object, and as a result, even when using an injection-molded plastic transparent substrate, it can be applied uniformly without damaging the substrate, and also dissolves the laser absorbing dye at a high concentration. As a novel solvent which can be used, a hydroxyacetylene-based compound was found to be suitable for the first time, and the present invention has been achieved. That is, the present invention provides an optical recording medium in which an organic solvent solution of an organic dye is applied on a transparent substrate and then dried to produce an optical recording medium, wherein a hydroxyacetylene-based compound is used as the organic solvent. Of the present invention.
本発明に使用する透明基板としては、ガラス、プラス
チック等が挙げられるが、種々の点からプラスチックが
好適である。プラスチックとしては、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニト
ロセルロース、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリサル
ホン樹脂等が挙げられる。Examples of the transparent substrate used in the present invention include glass and plastic, but plastic is preferred from various points. Examples of the plastic include acrylic resin, methacrylic resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride resin, nitrocellulose, polyethylene resin, polypropylene resin, polycarbonate resin, polyimide resin, and polysulfone resin.
特に好ましい透明基板としては、量産性にすぐれ、実
用的なレベルの複屈折、軟化点、耐熱性を有している射
出成形ポリカーボネート樹脂基板、ポリメタクリル樹脂
基板が挙げられる。Particularly preferred transparent substrates include injection-molded polycarbonate resin substrates and polymethacrylic resin substrates which are excellent in mass productivity and have practical levels of birefringence, softening point and heat resistance.
レーザー吸収色素としては、ヒドロキシアセチレン系
溶剤に高濃度に溶解するものが挙げられ、600〜900nmの
波長帯域で吸収を有し、しかも分子吸光係数が104〜105
cm-1であるものが好適である。Examples of the laser absorbing dye include those which are dissolved in a high concentration in a hydroxyacetylene-based solvent, have absorption in a wavelength band of 600 to 900 nm, and have a molecular extinction coefficient of 10 4 to 10 5.
Those which are cm -1 are preferred.
このような有機色素としては、フタロシアニン系色
素、ナフタロシアニン系色素、ホルマザンニッケル系色
素、シアニン系色素、ピコリン系色素、ナフトラクタム
系色素、アズレン系色素、スクワリリウム系色素、含金
属インドアニリン系色素、含金属アゾ系色素、ジチオー
ルニッケル系色素、アントラキノン系色素、ビスアンス
ロン系色素、フタロイルナフタルイミド系色素、シアノ
メチレンピロリン系色素、ナフトキノンメチド系色素、
インドアニリン系色素、ナフトキノン系色素、フェノチ
アジン系色素、縮合環系色素等が挙げられる。Examples of such organic dyes include phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, formazan nickel dyes, cyanine dyes, picoline dyes, naphtholactam dyes, azulene dyes, squalilium dyes, metal-containing indoaniline dyes, and the like. Metal azo dyes, dithiol nickel dyes, anthraquinone dyes, bisanthrone dyes, phthaloylnaphthalimide dyes, cyanomethylenepyrroline dyes, naphthoquinone methide dyes,
Indoaniline dyes, naphthoquinone dyes, phenothiazine dyes, condensed ring dyes and the like can be mentioned.
更に、本発明において特に好ましい有機色素として
は、例えば下記一般式〔I〕、〔II〕、〔III〕、〔I
V〕で表わされる色素化合物等が挙げられる。Further, particularly preferred organic dyes in the present invention include, for example, the following general formulas (I), (II), (III), (I
V].
一般式〔I〕 (式中、環A1およびB1は置換基を有していてもよいベン
ゼン環またはナフタレン環を示し、R1およびR2はC1〜C8
のアルキル基またはアルケニル基を示し、nは0〜4の
整数を示し、X-は陰イオンを示す。)で表わされる化合
物。General formula [I] (Wherein, rings A 1 and B 1 represent a benzene ring or a naphthalene ring which may have a substituent, and R 1 and R 2 represent C 1 to C 8
And n represents an integer of 0 to 4, and X − represents an anion. ).
一般式〔II〕 (式中、A2,B2は または酸素原子を示し、R3,R4,R5,R6は水素原子、アル
キル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、ハロ
メチル基またはハロゲン原子を示し、R7,R8は水素原子
またはハロゲン原子を示す。)で表わされる化合物。General formula (II) (Where A 2 and B 2 are Or an oxygen atom; R 3 , R 4 , R 5 , R 6 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, a halomethyl group or a halogen atom, and R 7 , R 8 represent a hydrogen atom or a halogen atom Is shown. ).
一般式〔III〕 〔式中、R9,R10のうちのいずれか一つは−O(C2H4O)p
R12(式中、R11は分枝していてもよいアルキル基を、p
は1〜6の整数をそれぞれ表わす。)を示し、他の一つ
は水素原子を示し、A3はVOまたはCu、NiもしくはCoの金
属原子を示す。〕で表わされる化合物。General formula (III) [Wherein one of R 9 and R 10 is —O (C 2 H 4 O) p
R 12 wherein R 11 represents an alkyl group which may be branched,
Represents an integer of 1 to 6, respectively. ), The other one represents a hydrogen atom, and A 3 represents VO or a metal atom of Cu, Ni or Co. ] The compound represented by these.
一般式〔IV〕 (式中、Mは金属原子を示し、環A4,B3は置換基を有し
ていてもよく、Qは置換または非置換の芳香族アミンの
残基を示し、Z-は陰イオンを示し、mは2または3の数
を示す。)で表わされる含金属インドアニリン系化合
物。General formula (IV) (Wherein, M represents a metal atom, rings A 4 and B 3 may have a substituent, Q represents a residue of a substituted or unsubstituted aromatic amine, and Z − represents an anion. And m represents a number of 2 or 3.).
上記の一般式〔I〕、〔II〕、〔III〕および〔IV〕
で表わされる有機色素において、環A1および環B1のベン
ゼン環またはナフタレン環の置換基の例としては、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基等
のハロゲン化アルキル基、メトキシ基、エトキシ基等の
アルコキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシアル
コキシ基、エトキシエチル基等のアルコキシアルキル基
等が挙げられる。The above general formulas (I), (II), (III) and (IV)
In the organic dye represented by, examples of the substituent of the benzene ring or naphthalene ring of the ring A 1 and the ring B 1 include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, and an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group. And a halogenated alkyl group such as trifluoromethyl group, an alkoxy group such as methoxy group and ethoxy group, an alkoxyalkoxy group such as methoxyethoxy group, and an alkoxyalkyl group such as ethoxyethyl group.
R1およびR2のC1〜C8のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、直鎖状または分枝状のプロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基が挙げられ、アルケニル基としてはアリル基、2−メ
チルアリル基、3−メチルアリル基、2−ブロモアリル
基、3−ブロモアリル基、2−クロロアリル基、3−ク
ロロアリル基等が挙げられる。The alkyl group of C 1 -C 8 of R 1 and R 2, include methyl group, ethyl group, linear or branched propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group Examples of the alkenyl group include an allyl group, a 2-methylallyl group, a 3-methylallyl group, a 2-bromoallyl group, a 3-bromoallyl group, a 2-chloroallyl group, and a 3-chloroallyl group.
X-、Z-の陰イオンとしては、I-、Br-、Cl-、PF6 -、Cl
O4 -、BF4 -、SCN-、 等を挙げることができる。X -, Z - The anionic, I -, Br -, Cl -, PF 6 -, Cl
O 4 -, BF 4 -, SCN -, And the like.
R3、R4、R5、R6で示されるアルキル基としては、メチ
ル基、エチル基、直鎖状又は分岐状のプロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル
基等のC1〜8のアルキル基が挙げられる。アルコキシ
基としては、メトキシ基、エトキシ基、直鎖状又は分岐
状のプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘ
プチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基
等のC1〜8のアルコキシ基が挙げられる。また、アル
コキシアルコキシ基としては、メトキシエトキシ基、エ
トキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、ブトキシエ
トキシ基等が挙げられ、ハロメチル基としては、クロロ
メチル基、ブロモメチル基等が挙げられる。ハロゲン原
子としては、フッ素原子、臭素原子、塩素原子、ヨウ素
原子が挙げられる。Examples of the alkyl group represented by R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 include a methyl group, an ethyl group, a linear or branched propyl group, a butyl group, a pentyl group, a heptyl group, a hexyl group, and an octyl group. And a C 1-8 alkyl group. Examples of the alkoxy group include a C 1-8 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a linear or branched propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a heptyloxy group, a hexyloxy group, and an octyloxy group. Can be Examples of the alkoxyalkoxy group include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxypropoxy group, and a butoxyethoxy group. Examples of the halomethyl group include a chloromethyl group and a bromomethyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a bromine atom, a chlorine atom, and an iodine atom.
また、R7、R8で示されるハロゲン原子としては、フッ
素原子、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子が挙げられ
る。Examples of the halogen atom represented by R 7 and R 8 include a fluorine atom, a bromine atom, a chlorine atom, and an iodine atom.
また、Qで表わされる置換もしくは非置換の芳香族ア
ミンの残基としては、例えばテトラヒドロキノリン類、
又は一般式 (式中、R14及びR15はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アル
キルスルホニルアミノ基又はアルコキシカルボニルアミ
ノ基を表わす。R12及びR13はそれぞれ、水素原子、アル
キル基、アリール基又はシクロヘキシル基を表わし、そ
のアルキル基、アリール基又はシクロヘキシル基は炭素
数1〜20であり、置換基として、例えばアルコキシ基、
アルコキシアルコキシ基、アルコキシアルコキシアルコ
キシ基、アリルオキシ基、アリール基、アリールオキシ
基、シアノ基、ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基等
を有していてもよい。)で表わされる基が挙げられる。Examples of the residue of the substituted or unsubstituted aromatic amine represented by Q include tetrahydroquinolines,
Or general formula (Wherein, R 14 and R 15 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an acylamino group, an alkoxy group, an alkylsulfonylamino group or an alkoxycarbonylamino group. R 12 and R 13 each represent a hydrogen atom, an alkyl Group, an aryl group or a cyclohexyl group, wherein the alkyl group, the aryl group or the cyclohexyl group has 1 to 20 carbon atoms, and as a substituent, for example, an alkoxy group,
It may have an alkoxyalkoxy group, an alkoxyalkoxyalkoxy group, an allyloxy group, an aryl group, an aryloxy group, a cyano group, a hydroxy group, a tetrahydrofuryl group, or the like. ).
Mとしては、VIII族、I b族、II b族、III b族、IV a
族、V a族、VI a族、VII a族の金属原子が挙げられ、好
ましくはNi、Cu、Coの金属原子が挙げられる。M includes VIII group, Ib group, IIb group, IIIb group, IVa
Group, Va, VIa and VIIa metal atoms, preferably Ni, Cu and Co metal atoms.
環A4、環B3の置換基としては、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アル
コキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ
基等が挙げられる。Examples of the substituent of ring A 4 and ring B 3 include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an alkylsulfonylamino group, and the like.
本発明の製造法において、塗布による記録層の成膜
は、前示一般式〔I〕、〔II〕、〔III〕および〔IV〕
で表わされる有機色素を、そのままあるいはバインダー
とともにヒドロキシアセチレン系溶剤中に溶解させたも
のをスピンコートすることにより実施される。その際使
用するバインダーとしては、ヒドロキシアセチレン系溶
剤に溶解するものであればよい。In the production method of the present invention, the recording layer is formed by coating according to the general formulas (I), (II), (III) and (IV) shown above.
Is carried out by spin-coating an organic dye represented by the formula (1) as it is or dissolved together with a binder in a hydroxyacetylene-based solvent. The binder used at this time may be any binder that can be dissolved in a hydroxyacetylene-based solvent.
本発明に使用するヒドロキシアセチレン系溶剤として
は、通常、炭素数3〜8の脂肪族ヒドロキシアセチレン
系溶剤が挙げられ、具体的には例えば下記のものなどを
挙げることができる。As the hydroxyacetylene-based solvent used in the present invention, an aliphatic hydroxyacetylene-based solvent having 3 to 8 carbon atoms is usually mentioned, and specific examples thereof include the following.
これらのうち、好ましいものとしては、沸点120〜180
℃のもの、特に下記構造式 で示される化合物等が挙げられる。 Of these, preferred are those having a boiling point of 120 to 180.
° C, especially the following structural formula And the like.
本発明のヒドロキシアセチレン系溶剤に対する有機色
素の比率は、特に好ましくは0.5〜3.0重量%である。ま
た、バインダーに対する有機色素の比率は10重量%以上
が好ましい。The ratio of the organic dye to the hydroxyacetylene-based solvent of the present invention is particularly preferably 0.5 to 3.0% by weight. The ratio of the organic dye to the binder is preferably 10% by weight or more.
このように有機色素を溶解させた溶液は、0.3μm以
下のフィルターで過することが好ましい。It is preferable that the solution in which the organic dye is dissolved is passed through a filter of 0.3 μm or less.
スピンコートの回転数は500〜2000rpmが好ましい。ス
ピンコートの後、場合によっては加熱あるいは溶媒蒸気
にあてる等の処理を行なってもよい。また、塗布膜の膜
厚は300〜3000Åが好ましい。The rotation speed of the spin coating is preferably from 500 to 2000 rpm. After the spin coating, if necessary, a treatment such as heating or exposure to a solvent vapor may be performed. Further, the thickness of the coating film is preferably 300 to 3000 °.
更に、記録媒体の安定性や耐光性向上のために一重項
酸素クエンチャーとして還移金属キレート化合物(アセ
チルアセトナート、ビスフェニルジチオール、サリチル
アルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等のキ
レート)を含有していてもよい。Further, a transfer metal chelate compound (chelate such as acetylacetonate, bisphenyldithiol, salicylaldehyde oxime, bisdithio-α-diketone) is contained as a singlet oxygen quencher for improving the stability and light resistance of the recording medium. May be.
本発明の光学記録媒体の記録層は基板の両面に設けて
もよいし、片面だけに設けてもよい。The recording layer of the optical recording medium of the present invention may be provided on both sides of the substrate, or may be provided only on one side.
上記のようにして得られた記録媒体への記録は、基体
の両面または、片面に設けた記録層に1μm程度に集束
したレーザー光、好ましくは、半導体レーザーの光をあ
てることにより行なう。レーザー光の照射された部分に
は、レーザーエネルギーの吸収による、分解、蒸発、溶
融等の記録層の熱的変形が起こる。Recording on the recording medium obtained as described above is performed by irradiating a laser beam, preferably a semiconductor laser beam, focused to about 1 μm on a recording layer provided on both sides or one side of the substrate. Thermal deformation of the recording layer, such as decomposition, evaporation, and melting, occurs due to absorption of laser energy in the portion irradiated with the laser light.
記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変
形が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を
読み取ることにより行なう。Reproduction of recorded information is performed by reading the difference in reflectance between a portion where thermal deformation has occurred and a portion where thermal deformation has not occurred using a laser beam.
光源としては、各種のレーザーを用いることができる
が、価格、大きさの点で、半導体レーザーが特に好まし
い。半導体レーザーとしては、中心波長830nm、中心波
長780nmのレーザーが望ましい。As the light source, various lasers can be used, but a semiconductor laser is particularly preferable in terms of price and size. As the semiconductor laser, a laser having a center wavelength of 830 nm and a center wavelength of 780 nm is desirable.
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明する
が、本発明は以下の実施例により制限されるものではな
い。Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.
実施例1 上記式〔V〕で表わされるシアニン系色素1gを、下記
構造式 で示されるヒドロキシアセチレン系溶剤50gに溶解し、
0.22μmのフィルターで過し、溶解液を得た。この溶
液2mlを、深さ700Å、巾0.7μmの溝(グルーブ)つき
射出成形メタクリル樹脂基板(直径130mm)上に滴下
し、1200rpmの回転数で塗布した。塗布後、60℃で10分
間乾燥した。膜厚測定のため、同一条件でガラス板に塗
布してα−ステップによる膜厚測定をしたところ、1500
Åであった。塗布膜の最大吸収波長は790nmであり、そ
のピークは巾広かった。Example 1 1 g of the cyanine dye represented by the above formula [V] is represented by the following structural formula Dissolved in 50 g of hydroxyacetylene-based solvent represented by
The solution was passed through a 0.22 μm filter to obtain a solution. 2 ml of this solution was dropped onto an injection-molded methacrylic resin substrate (130 mm in diameter) having a depth of 700 mm and a width of 0.7 μm and having a groove (groove), and applied at 1200 rpm. After the application, it was dried at 60 ° C. for 10 minutes. For film thickness measurement, when applied to a glass plate under the same conditions and the film thickness was measured by α-step, 1500
Was Å. The maximum absorption wavelength of the coating film was 790 nm, and the peak was broad.
この塗布膜に、中心波長830nmの半導体レーザー光
を、出力6mWのビーム径1μmで照射したところ、巾約
1μm、ピット長約2μmの輪郭の極めて明瞭な孔(ピ
ット)が形成された。キャリヤーレベル/ノイズレベル
(C/N)比は52dBであった。保存安定性(60℃、80%R
H)も良好であった。When this coating film was irradiated with a semiconductor laser beam having a center wavelength of 830 nm at an output of 6 mW and a beam diameter of 1 μm, extremely clear holes (pits) having a width of about 1 μm and a pit length of about 2 μm were formed. The carrier level / noise level (C / N) ratio was 52 dB. Storage stability (60 ℃, 80% R
H) was also good.
実施例2 上記式〔VI〕で表わされるシアニン系色素1gとニトロ
セルロース1.5g(ダイヤセル化学社製、RS−20)を、下
記構造式 で示されるヒドロキシアセチレン系溶剤50gに溶解し、
0.22μmのフィルターで過し、溶解液を得た。この溶
液の3mlを、深さ650Å、巾0.7μmのグルーブつき射出
成形メタクリル樹脂基板(直径120mm)上に滴下し、150
0rpmの回転数で塗布した。塗布後、60℃で10分間乾燥し
た。膜厚測定のために、同様な方法でガラス板に塗布
し、α−ステップにより測定したところ、膜厚1200Åで
あった。塗布膜の最大吸収波長は820nmであり、ピーク
は巾広かった。Example 2 1 g of the cyanine dye represented by the above formula [VI] and 1.5 g of nitrocellulose (RS-20, manufactured by Diacel Chemical Co., Ltd.) were converted into the following structural formula Dissolved in 50 g of hydroxyacetylene-based solvent represented by
The solution was passed through a 0.22 μm filter to obtain a solution. 3 ml of this solution is dropped on a 650 mm deep, injection molded methacrylic resin substrate with a groove of 0.7 μm width (120 mm diameter),
The coating was performed at a rotation speed of 0 rpm. After the application, it was dried at 60 ° C. for 10 minutes. In order to measure the film thickness, it was applied to a glass plate in the same manner and measured by α-step to find that the film thickness was 1200 °. The maximum absorption wavelength of the coating film was 820 nm, and the peak was broad.
この塗布膜に、中心波長830nmの半導体レーザー光
を、出力6mWのビーム径1μmで照射したところ、巾約
1μm、ピット長約2μmの輪郭の極めて明瞭なピット
が形成された。C/N比は51dBであった。保存安定性(60
℃、80%RH)も良好であった。When this coating film was irradiated with a semiconductor laser beam having a center wavelength of 830 nm at a beam diameter of 1 μm at an output of 6 mW, extremely clear pits having a width of about 1 μm and a pit length of about 2 μm were formed. The C / N ratio was 51 dB. Storage stability (60
° C, 80% RH).
比較例1−1〜2−2 実施例1で示されるシアニン系色素を用い、本発明の
ヒドロキシアセチレン系溶剤を使用した実施例の場合と
それ以外の従来の溶剤を使用した比較例の場合とについ
て、射出成形ポリカーボネート透明基板への影響〔白
化、溝ダレの有無〕および塗布膜の結晶化を比較したと
ころ、本発明の実施例の方が著しくすぐれていた。Comparative Examples 1-1 to 2-2 Using the cyanine dye shown in Example 1, the case of the example using the hydroxyacetylene solvent of the present invention and the case of the comparative example using other conventional solvents. In comparison, the effect of the present invention on the transparent substrate of the injection-molded polycarbonate (whether or not there was whitening and groove sagging) and the crystallization of the coating film were compared, and the Example of the present invention was significantly superior.
また、実施例2で示されるシアニン系色素を用い同様
の比較を行ったところ、本発明の実施例の方が著しくす
ぐれていた。When the same comparison was performed using the cyanine dye shown in Example 2, the Example of the present invention was remarkably superior.
以上の比較結果を下記第1表にまとめて示す。 The above comparison results are summarized in Table 1 below.
実施例3 上記式〔VII〕で表されるナフタロシアニン系色素
を、下記構造式 で示されるヒドロキシアセチレン系溶剤に溶解し、2%
の溶液を調製し、この溶液をスピンコート法(回転数10
00rpm)によりグルーブ付きの射出成形メタクリル樹脂
基板上に塗布した。塗布された薄膜(記録層)の最大吸
収波長は840nmであり、その吸収ピークは巾広かった。 Example 3 The naphthalocyanine dye represented by the above formula (VII) has the following structural formula Dissolved in a hydroxyacetylene-based solvent represented by
Is prepared, and this solution is spin-coated (rotation speed 10
(00 rpm) on an injection-molded methacrylic resin substrate with a groove. The maximum absorption wavelength of the coated thin film (recording layer) was 840 nm, and the absorption peak was broad.
この薄膜に、中心波長830nmのレーザー光を出力4mW、
ビーム径約1μmで照射したところ、巾約1μm、ピッ
ト長さ約2μmの輪郭の極めて明瞭なピットが形成さ
れ、そのときのC/N比は51dBであった。また、その保存
安定性は、温度60℃、相対湿度80%の恒温・恒湿槽中で
10日間保存した後の半導体レーザー光による書き込み性
能のC/N比によると51dBであった。A laser beam with a center wavelength of 830 nm is output to this thin film at 4 mW,
Irradiation with a beam diameter of about 1 μm resulted in formation of extremely clear pits having a width of about 1 μm and a pit length of about 2 μm, and the C / N ratio at that time was 51 dB. Its storage stability is in a constant temperature / humidity chamber at a temperature of 60 ° C and a relative humidity of 80%.
According to the C / N ratio of the writing performance by the semiconductor laser light after storage for 10 days, it was 51 dB.
実施例4 上記式〔VIII〕で表わされる含金属インドアニリン系
色素0.15gを、下記構造式 で示されるヒドロキシアセチレン系溶剤10gに溶解し、
0.22μmのフィルターで過し、溶解液を得た。この溶
液5mlを板厚1.2mmの1.6μmピッチのグルーブつきポリ
カーボネート樹脂基板(射出成形品、直径5インチ)上
に滴下し、スピナー法により800rpmの回転数で塗布し
た。塗布後、60℃で10分間乾燥した。塗布膜の最大吸収
波長は805nmであり、その反射率は34%(830nm)であっ
た。Example 4 0.15 g of the metal-containing indoaniline dye represented by the above formula (VIII) is represented by the following structural formula Dissolved in 10 g of hydroxyacetylene-based solvent represented by
The solution was passed through a 0.22 μm filter to obtain a solution. 5 ml of this solution was dropped onto a grooved polycarbonate resin substrate (injection molded product, diameter 5 inch) having a thickness of 1.2 mm and a pitch of 1.6 μm, and was applied at a rotation speed of 800 rpm by a spinner method. After the application, it was dried at 60 ° C. for 10 minutes. The maximum absorption wavelength of the coating film was 805 nm, and the reflectance was 34% (830 nm).
上記記録層を成膜した5インチのポリカーボネート樹
脂基板を4m/sで回転させながら、中心波長830nmの半導
体レーザー光でパルス幅500nsecで照射したところ、出
力6mWでC/N比54dBを得た。保存安定性(60℃、80%RH)
も良好であった。When the 5-inch polycarbonate resin substrate on which the recording layer was formed was irradiated with a semiconductor laser light having a center wavelength of 830 nm at a pulse width of 500 nsec while rotating at 4 m / s, a C / N ratio of 54 dB was obtained at an output of 6 mW. Storage stability (60 ° C, 80% RH)
Was also good.
本発明の製造方法によれば、レーザー吸収色素を高濃
度に溶解し、射出成形プラスチック透明基板を用いた場
合にも基板をおかす(白化、溝ダレ等)ことなく均一に
塗布可能であり、塗布時に結晶化もなく、得られた塗布
膜は保存安定性にすぐれ、反射率が高く、高感度でC/N
比も高い、光学記録媒体を工業的有利に製造し得る、と
いう顕著な効果を奏することができる。ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the manufacturing method of this invention, a laser-absorbing pigment is melt | dissolved in high density | concentration, and even if it uses an injection molded plastic transparent substrate, it can apply | coat uniformly without damaging a substrate (whitening, groove sagging, etc.) Occasionally there is no crystallization, the resulting coating film has excellent storage stability, high reflectance, high sensitivity and C / N
A remarkable effect that the ratio is high and the optical recording medium can be manufactured industrially advantageously can be obtained.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−164579(JP,A) 特開 昭63−160890(JP,A) 特開 昭63−74690(JP,A) 特開 平2−89683(JP,A) 特開 昭62−67068(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B41M 5/26Continuation of front page (56) References JP-A-2-164579 (JP, A) JP-A-63-160890 (JP, A) JP-A-63-74690 (JP, A) JP-A-2-89683 (JP, A) , A) JP-A-62-67068 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B41M 5/26
Claims (1)
布したのち乾燥して光学記録媒体を製造するに当り、前
記有機溶媒としてヒドロキシアセチレン系化合物を用い
ることを特徴とする光学記録媒体の製造方法。1. A method for producing an optical recording medium, comprising applying a solution of an organic dye in an organic solvent onto a transparent substrate and then drying it, wherein a hydroxyacetylene compound is used as the organic solvent. Production method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1223177A JP2835526B2 (en) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | Manufacturing method of optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0386582A JPH0386582A (en) | 1991-04-11 |
JP2835526B2 true JP2835526B2 (en) | 1998-12-14 |
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Families Citing this family (2)
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---|---|---|---|---|
CA2576197C (en) | 2004-08-09 | 2011-10-18 | Silverbrook Research Pty Ltd | Synthetically expedient water-dispersible ir dyes having improved lightfastness |
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-
1989
- 1989-08-31 JP JP1223177A patent/JP2835526B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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