JP2825264B2 - Color picture tube equipment - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は3電子ビーム方式のカラー受像管装置に関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial application field) The present invention relates to a three-electron beam type color picture tube device.
(従来の技術) 一般にカラー受像管は3電子銃方式と呼ばれるものが
主流である。中でも、3電子銃が一列に配列されたイン
ライン形電子銃を使用し、かつ水平偏向磁界を第7図
(a)の如くピンクッション状に、垂直偏向磁界を第7
図(b)の如くバレル状に各々歪ませた非斉一磁界とす
ることにより、3電子ビームを自己集中(セルフコンバ
ーゼンス)させている。この様な自己集中方式によるカ
ラー受像管は消費電力を少なくすることが可能なため、
カラー受像管の品質及び性能向上に大きく貢献してお
り、現在、一般用カラー受像管の主流となっている。(Prior Art) Generally, a color picture tube is mainly called a three-electron gun system. Among them, an in-line type electron gun in which three electron guns are arranged in a line is used, the horizontal deflection magnetic field is set to a pincushion shape as shown in FIG.
The three electron beams are self-concentrated (self-convergence) by using asymmetric magnetic fields each distorted in a barrel shape as shown in FIG. Since such a self-concentrated color picture tube can reduce power consumption,
It greatly contributes to improving the quality and performance of color picture tubes, and is currently the mainstream color picture tubes.
反面、前記の様な偏向磁界の非斉一性は、カラー受像
管の画面周辺部における解像度を低下させる欠点があ
る。即ち、電子ビームの断面形状が電子ビームの偏向角
に伴って歪み、第8図に示すように、画面中央部のビー
ムスポット(4)がほぼ真円となるのに対して、周辺部
のビームスポット(5)は水平方向に長い楕円状の高輝
度コア部(6)の他に、垂直方向に長い低輝度ハロー部
(7)を伴う形状になり、画面周辺部の解像度は著しく
低下する。On the other hand, the inhomogeneity of the deflecting magnetic field as described above has a disadvantage that the resolution at the peripheral portion of the screen of the color picture tube is reduced. That is, the cross-sectional shape of the electron beam is distorted in accordance with the deflection angle of the electron beam, and as shown in FIG. The spot (5) has a shape including a low-luminance halo section (7) that is long in the vertical direction in addition to an elliptical high-luminance core section (6) that is long in the horizontal direction, and the resolution around the screen is significantly reduced.
前述のような電子ビームスポットの歪みは、自己集中
方式における偏向ヨークが、3電子ビームに対して、第
7図(a)及び(b)のような非斉一磁界を与えること
に起因し、偏向磁界内の電子ビームは水平方向に集中を
弱められ、垂直方向において、逆に集束を強められるこ
とが原因となっている。The distortion of the electron beam spot as described above is caused by the fact that the deflection yoke in the self-concentration method gives an asymmetric magnetic field to three electron beams as shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b). This is because the electron beam in the magnetic field is less concentrated in the horizontal direction and conversely stronger in the vertical direction.
このような偏向歪みによる解像度の低下は、主レンズ
内及び偏向磁界内を通過する電子ビーム径を小さくする
ことにより軽減できる。このためには、一般的に、プリ
フォーカスレンズで電子ビームを強く絞る方法がとられ
るが、この場合、クロスオーバ径が増大し、画面中央部
の電子ビームスポット径が大きくなるという欠点があ
る。Such reduction in resolution due to deflection distortion can be reduced by reducing the diameter of the electron beam passing through the main lens and the deflection magnetic field. For this purpose, generally, a method of strongly narrowing the electron beam with a prefocus lens is used. However, in this case, there is a disadvantage that the crossover diameter increases and the electron beam spot diameter at the center of the screen increases.
あるいは、プリフォーカスレンズを非対称レンズと
し、画面中央部で、電子ビームの垂直方向をアンダーフ
ォーカス状態としておくことによっても偏向歪みを軽減
できる。Alternatively, deflection distortion can also be reduced by making the prefocus lens an asymmetric lens and setting the vertical direction of the electron beam in an underfocus state at the center of the screen.
この場合には、一般的に画面中央部での電子ビームス
ポットは垂直方向に長軸を有する楕円状となり、やは
り、画面中央部の解像度の低下を伴う。In this case, the electron beam spot at the center of the screen generally has an elliptical shape having a major axis in the vertical direction, and the resolution of the center of the screen is also reduced.
あるいは、偏向に同期して電子レンズの強度を変化さ
せる方法、いわゆるダイナミックフォーカス方式により
画面周辺部の電子ビームスポット径を改善できる。Alternatively, the diameter of the electron beam spot at the periphery of the screen can be improved by a method of changing the intensity of the electron lens in synchronization with the deflection, that is, a so-called dynamic focus method.
このようなダイナミックフォーカス方式には、プリフ
ォーカスレンズあるいはサブレンズにおいて垂直方向の
電子ビームの発散角をダイナミックに変化させるもの
と、メインレンズの垂直方向の集束力をダイナミックに
変化させる方式とがあるが、いずれの方式においても偏
向磁界内における電子ビームの垂直方向径は画面中央部
偏向時よりも画面周辺部偏向時のほうが大きくなるた
め、偏向角が特に大きい領域では、電子ビームはより大
きな偏向収差を受け、結果として、ビームスポット径改
善の効果が小さくなるという欠点がある。Such a dynamic focus method includes a method in which a divergence angle of a vertical electron beam is dynamically changed in a prefocus lens or a sub lens, and a method in which a vertical focusing power of a main lens is dynamically changed. In either case, the vertical diameter of the electron beam in the deflecting magnetic field is larger at the time of deflection at the periphery of the screen than at the time of deflection at the center of the screen. As a result, there is a disadvantage that the effect of improving the beam spot diameter is reduced.
電子ビームが受ける偏向収差は垂直偏向磁界よりも水
平偏向磁界による分のほうが大きいので、高品位テレビ
のように横長の画面の広偏向角で走査する場合には特に
このような欠点が問題となり、画面水平方向最外部及び
画面対角最外部においてビームスポット径が劣化し、解
像度が低下する。Since the deflection aberration of the electron beam is greater due to the horizontal deflection magnetic field than the vertical deflection magnetic field, such a drawback becomes a problem especially when scanning at a wide deflection angle of a horizontally long screen such as a high definition television, The beam spot diameter is deteriorated at the outermost part in the horizontal direction of the screen and at the outermost part of the screen diagonally, and the resolution is reduced.
このように、ダイナミックフォーカスの効果が小とな
る領域は、電子銃及び偏向ヨークの方式、ディメンジョ
ン等により多少異なるが、水平方向の偏向角が約90゜以
上となる場合に問題である。これは第12図(a)及び第
12図(b)に示すように、画面のアスペクト比4:3、100
゜偏向の場合に全スクリーンの約10%(第12図(a)の
斜線部)、アスペクト比16:9、110゜偏向の場合に全ス
クリーンの約20%に(第12図(b)の斜線部)に相当す
る。As described above, the region where the effect of the dynamic focus is small is slightly different depending on the method, dimensions, and the like of the electron gun and the deflection yoke. However, there is a problem when the horizontal deflection angle is about 90 ° or more. This is shown in FIG.
12 As shown in Figure (b), the screen aspect ratio is 4: 3, 100
゜ About 10% of the whole screen in the case of deflection (shaded area in FIG. 12 (a)), aspect ratio 16: 9, 110 ゜ About 20% of the whole screen in the case of deflection (FIG. 12 (b) (Hatched area).
従って、特に、アスペクト比16:9の場合に問題であ
り、画面周辺部まで高い解像度を要求される高品位テレ
ビ用ブラウン管では大きな問題となる。Therefore, this is a problem particularly when the aspect ratio is 16: 9, and becomes a serious problem in a high-definition television CRT requiring a high resolution up to the periphery of the screen.
(発明が解決しようとする課題) 上述したように、従来技術では、広角偏向時の画面水
平方向最外部及び画面対角方向最外部においてビームス
ポット径が劣化するという問題点がある。(Problems to be Solved by the Invention) As described above, the conventional technique has a problem that the beam spot diameter is deteriorated at the outermost position in the horizontal direction and the outermost position in the diagonal direction of the screen at the time of wide-angle deflection.
本発明は、偏向角の大きい場合や、高品位テレビのよ
うに横長の画面においても、画面中央部から画面最外部
まで高い解像度を有するカラー受像管装置を提供するも
のである。An object of the present invention is to provide a color picture tube device having a high resolution from the center of the screen to the outermost part of the screen even when the deflection angle is large or in a horizontally long screen such as a high-definition television.
(課題を解決するための手段) 本発明にかかわるカラー受像管装置の電子銃部は少な
くとも第1、第2の2個の電子レンズをもつものであ
り、偏向量の少ない第1の偏向領域においては第2の電
子レンズの強弱を変化させて偏向磁界によるビームスポ
ットの歪を補正し、偏向量の大きい第2の偏向領域にお
いては第1の電子レンズの強弱を変化させて偏向磁界に
よるビームスポットの歪を補正するものである。(Means for Solving the Problems) The electron gun section of the color picture tube device according to the present invention has at least first and second two electron lenses, and is used in a first deflection area having a small deflection amount. Corrects the beam spot distortion due to the deflecting magnetic field by changing the strength of the second electron lens, and changes the strength of the first electron lens in the second deflecting area where the deflection amount is large, thereby changing the beam spot due to the deflecting magnetic field. This is to correct the distortion.
特に偏向量の大きい領域では、偏向磁界中のビームス
ポット径を減少させるように、なされているため、偏向
量が大きい場合でも偏向収差を小さくすることができ、
良好なビームスポットが得られる。Particularly, in a region where the deflection amount is large, the beam spot diameter in the deflection magnetic field is reduced so that even when the deflection amount is large, the deflection aberration can be reduced.
A good beam spot is obtained.
(作用) 本発明のカラー受像管装置の電子銃による電子ビーム
の垂直方向の集束状態を第2図、第3図及び第4図に等
価光学モデルで示す。第2図は電子ビームを偏向しない
場合、第3図は偏向量が小さい場合、第4図は偏向量が
大きい場合である。(Operation) The vertical focusing state of the electron beam by the electron gun of the color picture tube device of the present invention is shown by an equivalent optical model in FIGS. 2, 3 and 4. 2 shows a case where the electron beam is not deflected, FIG. 3 shows a case where the deflection amount is small, and FIG. 4 shows a case where the deflection amount is large.
電子ビームを偏向しない場合では第2図に示す様にカ
ソードKで発生した電子ビームはプリフォーカスレンズ
PL、第1のレンズL1、第2のレンズL2ともある程度集束
された後、第3のレンズL3で集束されスクリーン上でジ
ャストフォカースとなる。In the case where the electron beam is not deflected, the electron beam generated at the cathode K as shown in FIG.
After the PL, the first lens L 1 , and the second lens L 2 are also focused to some extent, they are focused by the third lens L 3 to form a just focus on the screen.
偏向量が小さい場合では、第3図に示す様に第2のレ
ンズL2が弱められる。従って、カソードKで発生した電
子ビームはプリフォーカスレンズPL、第1のレンズL1で
集束された後第2のレンズL2ではほとんど集束されずに
第3のレンズL3で集束される。このため、偏向磁界がな
ければスクリーン上でアンダーフォーカスとなるが、偏
向磁界によりオーバーフォーカス方向の力を受けてジャ
ストフォーカスとなる。In the case the amount of deflection is small, the second lens L 2 is weakened as shown in Figure 3. Therefore, the electron beam generated by the cathode K is focused by the pre-focus lens PL, a third lens L 3 is hardly focused in the second lens L 2 after being focused by the first lens L 1. For this reason, if there is no deflecting magnetic field, underfocusing occurs on the screen, but the deflecting magnetic field receives a force in the overfocus direction to achieve just focus.
偏向量が大きい場合では第4図に示す様に第1のレン
ズが強められ、第2のレンズは弱められたままとする。
従って、カソードKで発生した電子ビームはプリフォー
カスレンズPLで集束された後、第1のレンズL1で大きく
集束され、第1のレンズL1と第3のレンズL3の間でクロ
スオーバー点を生じる。When the amount of deflection is large, the first lens is strengthened and the second lens remains weak as shown in FIG.
Therefore, after the electron beam generated at the cathode K, which is focused by the pre-focus lens PL, which focuses largely by the first lens L 1, the cross-over point between the first lens L 1 and the third lens L 3 Is generated.
第2のレンズL2はほとんど電子ビームは集束されずに
第3のレンズL3で集束される。このため第3のレンズL3
における仮想物点位置が大きくスクリーン側に移動する
ため、偏向磁界がない場合ではスクリーン上ではアンダ
ーフォーカスとなる。実際には偏向磁界によりオーバー
フォーカス方向の力を受けてジャストフォーカスとな
る。また、この場合では、偏向磁界内での電子ビームの
垂直方向径D3は、偏向しない場合の径(第2図D1)より
大幅に小さくなるため、偏向量が大きい場合では電子ビ
ームが受ける偏向収差が減少し、かなり大きな偏向角の
場合でも容易にスクリーン上でジャストフォーカスする
ことが可能である。The second lens L 2 most electron beam is converged by the third lens L 3 without being focused. Therefore, the third lens L 3
The position of the virtual object point is largely moved to the screen side, so that there is no defocus on the screen when there is no deflection magnetic field. Actually, just-focus is obtained by receiving a force in the overfocus direction by the deflection magnetic field. Further, in this case, the vertical diameter D 3 of the electron beam in the deflection magnetic field, it becomes significantly smaller than the diameter in the case of not deflected (Fig. 2 D 1), the electron beam is subjected in the case deflection amount is large Deflection aberrations are reduced, and just-focusing can be easily performed on the screen even at a considerably large deflection angle.
なお、電子ビームの水平方向の集束については、偏向
磁界によるスポット径の劣化は小さいため、第1のレン
ズL1、第2のレンズL2の強弱を変えても電子ビームの集
束状態が変化しないようにしなければならない。このた
め第1のレンズL1、第2のレンズL2は例えば第10図に示
すような状態の電極を対向したレンズとして、垂直方向
にのみ作用するレンズとする。Regarding the focusing of the electron beam in the horizontal direction, since the deterioration of the spot diameter due to the deflection magnetic field is small, the focusing state of the electron beam does not change even if the intensity of the first lens L 1 and the second lens L 2 is changed. I have to do it. For this reason, the first lens L 1 and the second lens L 2 are lenses acting only in the vertical direction, for example, with the electrodes in the state shown in FIG. 10 facing each other.
(実 施 例) 第1図は、本発明を実施したカラー受像管装置のネッ
ク部付近にスクリーン部の一部分のX−Z面の断面を示
す。(Embodiment) FIG. 1 is a cross-sectional view of a part of a screen portion taken along the XZ plane near a neck portion of a color picture tube device embodying the present invention.
第1図に於いて、ネック(5)内に配置されている電
子銃部(100)は、カソード(陰極)K,第1グリッドG1,
第2グリッドG2,第3グリッドG3,第4グリッドG4,第5
グリッドG5,第6グリッドG6,第7グリッドG7,第8グリ
ッドG8とこれらを支持する絶縁支持体BG及びバルブスペ
ーサ(112)から成り、電子銃(100)はネック下部のス
テムピン(113)に固定されている。In FIG. 1, an electron gun portion (100) arranged in a neck (5) includes a cathode (cathode) K, a first grid G 1 ,
Second grid G 2 , third grid G 3 , fourth grid G 4 , fifth
A grid G 5 , a sixth grid G 6 , a seventh grid G 7 , an eighth grid G 8 , an insulating support BG supporting these grids and a valve spacer (112), and the electron gun (100) has a stem pin ( 113).
前記カソードKは、内部にそれぞれヒータをもってお
り、3本の電子ビームBR,BG,BBを発生する。The cathode K is has a respective internal heaters, three electron beams B R, B G, generates the B B.
また、第1グリッドG1,第2グリッドG2は前記3個の
カソードKに対応して3つの比較的小さなビーム通過孔
を有し、この部分においてカソードKからの電子ビーム
を制御,加速し、いわゆる電子ビーム形成部GEとなる。
次いで、第3グリッドG3(G2に対向する側)は同じく3
つのカソードKに対応した第9図に示すような3つの比
較的大きな円形ビーム通過孔を有する。The first grid G 1 and the second grid G 2 have three relatively small beam passage holes corresponding to the three cathodes K, and control and accelerate the electron beam from the cathode K in these portions. , A so-called electron beam forming unit GE.
Next, the third grid G 3 (the side facing G 2 ) is also 3
There are three relatively large circular beam passage holes as shown in FIG.
また、第3グリッドG3の第4グリッド側電極、第4グ
リッドG4,第5グリッドG5,第6グリッドG6、および第7
グリッドG7の第6グリッド側電極のビーム通過孔は第10
図に示すように3電子ビームに共通で、水平方向孔径が
垂直方向孔径の約5倍以上の大きさとなる形状となって
いる。このため第3グリッドG3,第4グリッドG4,第5グ
リッドG5から形成されるユニポテンシャルレンズ、およ
び第5グリッドG5,第6グリッドG6,第7グリッドG7から
形成されるユニポテンシャルレンズは、水平方向にはほ
とんどレンズ作用を持たず、垂直方向にのみ集束作用を
持つレンズ、すなわち、いわゆる平行平板レンズとな
る。The fourth grid side electrode of the third grid G 3, fourth grid G 4, the fifth grid G 5, sixth grid G 6, and 7
Beam through holes of the sixth grid side electrode of the grid G 7 is 10
As shown in the figure, the shape is such that the horizontal hole diameter is about 5 times or more the vertical hole diameter in common to the three electron beams. Therefore the third grid G 3, fourth grid G 4, unipotential lenses formed from the fifth grid G 5, and the fifth grid G 5, sixth grid G 6, Uni formed of seventh grid G 7 The potential lens has almost no lens action in the horizontal direction and has a focusing action only in the vertical direction, that is, a so-called parallel plate lens.
第7グリッドG7の途中の第8グリッドG8側に近い方に
は3本の電子ビームの集中、集束に関する補正手段とし
て、第11図に示す如く3個の非円形円形開孔を有する電
極(G7D)が設けられている。Concentration of three electron beams are closer to the eighth grid G 8 side of the middle of the seventh grid G 7, as the correction means of Focusing, electrodes having three non-circular circular opening as shown in FIG. 11 (G 7 D).
第8グリッドG8は第7グリッドG7と一部重なり、円筒
状電極である第7グリッドG7を包含した実質的に円筒状
の電極であり、第7グリッドG7の大円形ビーム通過孔
(G7T)との間に実質的に大口径円形レンズを形成す
る。The eighth grid G 8 partially overlaps the seventh grid G 7, a substantially cylindrical electrode which includes a seventh grid G 7 is cylindrical electrodes, large circular beam through holes of the seventh grid G 7 (G 7 T) to form a substantially large-diameter circular lens.
第8グリッドG8の先端外周には、バルブスペーサー
(112)が付いていて、ファンネル(4)内壁からネッ
ク(5)内壁に塗布してある導電膜(10)と接触してい
て、ファンネルに設けてある陽極端子から陽極高電圧を
供給するようになっている。第8グリッドG8の先端に
は、偏向ヨークによる磁界に対する磁界修正素子を置く
こともできる。以上カソードK,第1グリッドG1から第8
グリッドG8まで絶縁支持体BGによって固定支持されてい
る。The outer periphery of the tip end of the eighth grid G 8, valve spacer (112) to have a, in contact with the funnel (4) neck from the inner wall (5) conductive film that is applied to the inner wall (10), the funnel An anode high voltage is supplied from the provided anode terminal. The distal end of the eighth grid G 8, can be placed a magnetic field modifying element with respect to the magnetic field by the deflection yoke. More cathodes K, first from the grid G 1 8
It is fixedly supported by insulating support BG to grid G 8.
また、ネック(5)からファンネル(4)にかけて偏
向ヨーク(7)が取り付けられており、電子銃からの3
本の電子ビームBR,BG,BBを水平,垂直に偏向するための
水平偏向コイルと垂直偏向コイルから成る。さらにビー
ムの軌道の調整のための多極磁石(51)が配置してあ
る。A deflection yoke (7) is attached from the neck (5) to the funnel (4).
Of electron beams B R, B G, and B B horizontally, consisting of a horizontal deflection coil and a vertical deflection coil for deflecting vertically. Further, a multipole magnet (51) for adjusting the trajectory of the beam is provided.
以上の電極構成において、例えば、カソードKは約15
0Vのカットオフ電圧とし、これに映像信号を加え、第1
グリッドG1は接地電位とし、第2グリッドG2は500V〜1K
V、第3グリッドG3は5〜10KV,第4グリッドG4は2〜10
KV,第5グリッドG5は5〜10KV,第6グリッドG6は3〜10
KV、第7グリッドG7は5〜10KV、第8グリッドG8は陽極
高電圧の25〜35KVを印加する。In the above electrode configuration, for example, the cathode K is about 15
The cutoff voltage is 0 V, and the video signal is added to the cutoff voltage.
Grid G 1 is the ground potential, the second grid G 2 is 500V~1K
V, the third grid G 3 are 5 to 10 kV, the fourth grid G 4 are 2-10
KV, the fifth grid G 5 is 5 to 10 kV, the sixth grid G 6 3 to 10
KV, the seventh grid G 7 5 to 10 kV, the eighth grid G 8 applies a 25~35KV anode high voltage.
また、第4グリッドG4および第6グリッドG6にはそれ
ぞれ第5図、第6図に示すような、偏向に同期して変化
する電圧を印加する。Further, voltages that change in synchronization with the deflection as shown in FIGS. 5 and 6 are applied to the fourth grid G 4 and the sixth grid G 6 , respectively.
すなわち、第5図に示す第4グリッドG4に印加される
電圧VD2は、水平方向偏向角が約90゜以下の比較的偏向
量が小さい場合は5〜10KVのほぼ一定の電圧であり、水
平偏向角が約90゜以上の比較的偏向量の大きい場合は1
〜5KV低下した電圧となる。また、第6図に示す第6グ
リッドG6に印加される電圧VD1は、水平方向偏向角が約9
0゜以下の偏向量が小さい場合は、偏向量の増加に従っ
て約3〜10KVの間で増大するパラボラ形状となり、水平
方向偏向角が約90゜以上の偏向量が大きい場合は、5〜
10KVの一定電圧となる。That is, the voltage V D2 applied to the fourth grid G 4 shown in FIG. 5 is a substantially constant voltage of 5 to 10 KV when the horizontal deflection angle is about 90 ° or less and the deflection amount is relatively small, 1 when the horizontal deflection angle is about 90 ° or more and the deflection amount is relatively large.
The voltage is reduced by about 5 KV. The voltage V D1 applied to the sixth grid G 6 shown in FIG.
When the deflection amount of 0 ° or less is small, the parabolic shape increases between about 3 to 10 KV according to the increase of the deflection amount, and when the horizontal deflection angle is about 90 ° or more, the parabolic shape increases.
It becomes a constant voltage of 10KV.
このような電位構成とする事により、各カソードから
発生したビームは第1グリッドG1,第2グリッドG2によ
り第1のクロスオーバーを形成して第2グリッドG2,第
3グリッドG3によるプリフォーカスレンズで集束されて
第3グリッドG3に入射していく。With such a potential configuration, the beams generated from the respective cathodes form a first crossover by the first grid G 1 and the second grid G 2 and are formed by the second grid G 2 and the third grid G 3 . go incident on third grid G 3 is focused by the pre-focus lens.
第3グリッドG3,第4グリッドG4,第5グリッドG5より
形成されるユニポテンシャルレンズ(第1の平行平板レ
ンズと呼ぶ)及び第5グリッドG5,第6グリッドG6,第7
グリッドG7より形成されるユニポテンシャルレンズ(第
2の平行平板レンズと呼ぶ)は前述したように垂直方向
にのみ作用するレンズであるため、ビームの水平方向で
はこれらのレンズの影響を受けずに第6グリッドG6,第
7グリッドG7により形成される大口径レンズにより、集
束作用かつ両側のビームは集中作用を受けてスクリーン
上に集束、集中する。The third grid G 3, fourth grid G 4, the fifth grid G 5 unipotential lenses formed from (referred to as the first parallel plate lens) and the fifth grid G 5, sixth grid G 6, 7
For unipotential lenses formed from grid G 7 (referred to as a second parallel plate lens) is a lens that acts only in the vertical direction as described above, in the horizontal direction of the beam without being affected by these lenses By the large-diameter lens formed by the sixth grid G 6 and the seventh grid G 7 , the beams on both sides are focused and concentrated on the screen under the focusing action.
次にビームの垂直方向の集束について説明する。偏向
を受けない場合では、第1の平行平板レンズは弱い集束
作用、第2の平行平板レンズでは強い集束作用を示す。Next, the vertical focusing of the beam will be described. When no deflection occurs, the first parallel plate lens exhibits a weak focusing effect, and the second parallel plate lens exhibits a strong focusing effect.
従って第3グリッドG3に入射したビームは第1,第2の
平行平板レンズでそれぞれ集束された後第7グリッド
G7,第8グリッドG8による大口径レンズで集束されてス
クリーン上にジャストフォーカスする。Accordingly beam incident on third grid G 3 are seventh grid after being focused respectively in the first, second parallel plate lens
G 7, according to the eighth grid G 8 is focused by a large diameter lens to just focus on the screen.
水平偏向角が約90゜以下の比較的偏向量が小さい領域
では、第6グリッド電位が高くなり第5,第7グリッド電
位との電位差が小さくなるため第2の平行平板レンズが
弱められ、大口径レンズに入射するビームの発散角が大
きくなり、偏向のない場合に比較してアンダーフォーカ
ス方向に変化する。この電子ビームは偏向磁界によりオ
ーバーフォーカス方向に力を受けるため、スクリーン上
ではジャストフォーカスとなる。In a region where the horizontal deflection angle is about 90 ° or less and the deflection amount is relatively small, the sixth grid potential becomes high and the potential difference between the fifth and seventh grid potentials becomes small, so that the second parallel flat lens is weakened, The divergence angle of the beam incident on the aperture lens increases, and changes in the underfocus direction as compared with the case without deflection. Since this electron beam receives a force in the overfocus direction due to the deflection magnetic field, the electron beam is just focused on the screen.
水平方向偏向角が約90゜以上の比較的偏向量が大きい
領域では第4グリッド電位が低くなるため、第1の平行
平板レンズが強められ、第1の平行平板レンズと大口径
レンズとの間に第2のクロスオーバを形成して再び発散
して大口径レンズに入射する。このためビームは偏向の
ない場合に比較して大きくアンダーフォーカス方向に変
化する。この電子ビームは偏向磁界によりオーバーフォ
ーカス方向に変化するためスクリーン上ではジャストフ
ォーカスとなる。ただし、偏向磁界中でのビーム垂直方
向径は偏向がない場合よりも大幅に減少しているため、
ビームが受ける偏向収差の量も減少し、かなり大きな偏
向角でも良好にフォーカスされる。In a region where the horizontal deflection angle is about 90 ° or more and the amount of deflection is relatively large, the fourth grid potential becomes low, so that the first parallel plate lens is strengthened, and the distance between the first parallel plate lens and the large aperture lens is increased. A second crossover is formed, diverges again, and enters the large-diameter lens. Therefore, the beam largely changes in the underfocus direction as compared with the case where there is no deflection. Since this electron beam changes in the overfocus direction due to the deflection magnetic field, it becomes just focus on the screen. However, the diameter in the vertical direction of the beam in the deflecting magnetic field is much smaller than in the case without deflection,
The amount of deflection aberration experienced by the beam is also reduced and good focusing is achieved even at fairly large deflection angles.
以上述べたように、本発明のカラー受像管装置によれ
ばかなり大きな偏向角の場合でも画面全体で良好なビー
ムスポットを得ることができ、画像性能の向上されたカ
ラー受像管装置を得ることができる。As described above, according to the color picture tube device of the present invention, it is possible to obtain a good beam spot over the entire screen even with a considerably large deflection angle, and to obtain a color picture tube device with improved image performance. it can.
第1図は本発明を実施したカラー受像管装置の要部概略
断面図、第2図乃至第4図は電子銃部のY−Z断面の光
学的等価図、第5図及び第6図は実施例で与える電極電
圧波形、第7図及び第8図は偏向収差によるビーム歪を
示す模式図、第9図乃至第11図は実施例における電極形
状を示す電極の正面図、第12図(a)及び第12図(b)
はダイナミックフォーカス効果を説明するためのスクリ
ーンの模式図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a main part of a color picture tube apparatus embodying the present invention, FIGS. 2 to 4 are optical equivalent views of a YZ cross section of an electron gun, and FIGS. FIGS. 7 and 8 are schematic diagrams showing beam distortion due to deflection aberration, FIGS. 9 to 11 are front views of electrodes showing electrode shapes in the embodiment, and FIGS. a) and FIG. 12 (b)
FIG. 3 is a schematic diagram of a screen for explaining a dynamic focus effect.
フロントページの続き (72)発明者 下河邊 慈郎 埼玉県深谷市幡羅町1―9―2 株式会 社東芝深谷ブラウン管工場内 (56)参考文献 特開 昭61−42841(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01J 29/48 - 29/51Continuation of the front page (72) Inventor Jiro Shimokawabe 1-9-2 Hara-cho, Fukaya-shi, Saitama Prefecture Inside the Toshiba Fukaya CRT plant (56) References ) Surveyed field (Int. Cl. 6 , DB name) H01J 29/48-29/51
Claims (1)
え、前記電子銃部から発射される電子ビームを偏向部に
より垂直方向および水平方向に偏向走査するカラー受像
管装置において、 前記電子銃部は電子ビームを発生、加速、制御するカソ
ードを含む電子ビーム形成部とこの電子ビームを集束、
集中させる主電子レンズ部を備え、 前記主電子レンズ部は陰極に近い側から第1電子レン
ズ、第2電子レンズ及び大口径レンズを有し、前記偏向
部による一方向の偏向は偏向量の小さい第1偏向領域及
び偏向量の大きい第2偏向領域より成り、 前記第1電子レンズのレンズ強度は前記第2偏向領域の
偏向量に応じて変化して、前記第1電子レンズと前記大
口径レンズの間にクロスオーバを形成し、 前記第2電子レンズのレンズ強度は前記第1偏向領域の
偏向量に応じて変化することを特徴とするカラー受像管
装置。1. A color picture tube device comprising an electron gun section, a deflecting section, and a screen section, wherein a deflection section scans an electron beam emitted from the electron gun section in a vertical direction and a horizontal direction. Is an electron beam forming unit that includes a cathode that generates, accelerates, and controls the electron beam, and focuses this electron beam.
A main electron lens portion for focusing; the main electron lens portion has a first electron lens, a second electron lens, and a large-diameter lens from a side close to the cathode; A first deflection area and a second deflection area having a large deflection amount, wherein the lens strength of the first electron lens changes in accordance with the deflection amount of the second deflection area; A color picture tube apparatus, wherein a crossover is formed between the first and second electron lenses, and a lens strength of the second electron lens changes according to a deflection amount of the first deflection area.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1084652A JP2825264B2 (en) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | Color picture tube equipment |
Applications Claiming Priority (1)
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JP1084652A JP2825264B2 (en) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | Color picture tube equipment |
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JPH02265151A JPH02265151A (en) | 1990-10-29 |
JP2825264B2 true JP2825264B2 (en) | 1998-11-18 |
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Family Applications (1)
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JP1084652A Expired - Fee Related JP2825264B2 (en) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | Color picture tube equipment |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2825264B2 (en) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6142841A (en) * | 1984-08-02 | 1986-03-01 | Matsushita Electronics Corp | Color picture tube |
-
1989
- 1989-04-05 JP JP1084652A patent/JP2825264B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JPH02265151A (en) | 1990-10-29 |
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