JP2809216B2 - Nonlinear optical waveguide - Google Patents

Nonlinear optical waveguide

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JP2809216B2 JP29868396A JP29868396A JP2809216B2 JP 2809216 B2 JP2809216 B2 JP 2809216B2 JP 29868396 A JP29868396 A JP 29868396A JP 29868396 A JP29868396 A JP 29868396A JP 2809216 B2 JP2809216 B2 JP 2809216B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ファィバ通信や
光情報処理等の分野で用いられる光スイッチの構成要素
である非線形光導波路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nonlinear optical waveguide which is a component of an optical switch used in fields such as optical fiber communication and optical information processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】光通信システムや光情報処理システムの
高速化には、伝送路、多重/分離回路、さらには論理回
路に「光−電気」や「電気−光」の変換回路を必要とし
ない全光化システムの構築が必要であると考えられる。
このような全光化システムの構築には、高速動作の可能
な光制御素子が求められる。
2. Description of the Related Art To increase the speed of an optical communication system or an optical information processing system, a transmission line, a multiplexing / demultiplexing circuit, and a logic circuit do not require an "optical-electrical" or "electrical-optical" conversion circuit. It is considered necessary to build an all-optical system.
To construct such an all-optical system, a light control element capable of high-speed operation is required.

【0003】従来、光制御素子においては電気信号によ
り光制御を行う方法(電気−光制御)がとられてきた
が、近年、より高速性が期待される方法として、光によ
り光制御を行う方法(光―光制御)が注目されている。
特に、光通信システムにおいて、高速動作可能な光−光
制御によるスイッチ(光−光スイッチ)を光分離回路
(光デマルチプレクサ)に用いることができれば、時間
分割多重方式による大容量化を実現する上で大きなブレ
イクスルーとなる。
Conventionally, a method of performing light control by an electric signal (electric-light control) has been used in a light control element. In recent years, as a method expected to have higher speed, a method of performing light control by light has been proposed. (Light-light control) is drawing attention.
In particular, if an optical-optical control switch (optical-optical switch) capable of operating at high speed can be used for an optical demultiplexing circuit (optical demultiplexer) in an optical communication system, a large capacity can be realized by a time division multiplexing method. Is a big breakthrough.

【0004】光−光スイッチを実用化する上で要求され
る性能は、上記のような高速性だけでなく、低スイッチ
ングエネルギー、高繰り返し動作、コンパクトなサイズ
など多岐にわたる。特に、スイッチングエネルギーに関
しては、半導体レーザ、ファイバアンプ、あるいは半導
体レーザアンプによって到達可能な光パルスエネルギー
の範囲内にあることが求められる。
[0004] The performance required for putting the optical-optical switch into practical use is not limited to the above-described high-speed performance, but also includes a wide range such as low switching energy, high repetition operation, and compact size. In particular, the switching energy is required to be within the range of the light pulse energy that can be reached by the semiconductor laser, the fiber amplifier, or the semiconductor laser amplifier.

【0005】要求される性能を実現する上で、まず問題
となるのは、光−光スイッチの駆動原理である非線形光
学効果のフイギュアオブメリット「χ(3)/τα(χ
(3):非線形性の大きさ、τ:応答時間、α:信号損
失)」が一般的にほぼ一定であるという点である。すな
わち、大きな非線形性と高速性とを同時に満足する非線
形光学効果を得ることは困難であると考えられている。
In realizing the required performance, the first problem is that the figure of merit of the nonlinear optical effect “χ (3) / τα (χ), which is the driving principle of the optical-optical switch.
(3): magnitude of non-linearity, τ: response time, α: signal loss) are generally substantially constant. That is, it is considered difficult to obtain a nonlinear optical effect that satisfies both large nonlinearity and high speed at the same time.

【0006】非線形光学効果を非共鳴励起型と共鳴励起
型に大別した場合、まず、非共鳴励起型においては、高
速性が期待されるが、非線形性が小さいという問題があ
る。現在のところ、非共鳴励起による非線形光学効果を
実用レベルのスイッチングエネルギーで利用することは
かなり難しいと考えられる。これに対して、共鳴励起型
においては、非線形光学媒質中に実励起される電子の緩
和が遅く、高速動作実現の上で問題となるが、非線形性
は大きい。この点は実用上大きな魅力であり、これまで
に電子の緩和が遅いという間題を解決した、高速動作を
実現するための様々な方法が提案されてきた。ここで
は、光−光スイッチの構成要素である非線形光導波路に
おいて、高効率な共鳴励起型非線形光学効果が用いられ
た従来例を挙げる。
When the nonlinear optical effect is roughly classified into a non-resonance excitation type and a resonance excitation type, first, the non-resonance excitation type is expected to have high speed, but has a problem that the nonlinearity is small. At present, it is considered to be quite difficult to utilize the nonlinear optical effect due to non-resonant excitation at a practical level of switching energy. On the other hand, in the resonance excitation type, the relaxation of electrons actually excited in the nonlinear optical medium is slow, which is a problem in realizing high-speed operation, but the nonlinearity is large. This point is of great appeal in practical use, and various methods for realizing high-speed operation, which have solved the problem of slow electron relaxation, have been proposed. Here, a conventional example in which a highly efficient resonance-excited nonlinear optical effect is used in a nonlinear optical waveguide which is a component of an optical-optical switch will be described.

【0007】特開平2−193128号公報には、半導
体光増幅媒質において制御光入射によるキャリア密度の
減少によって生じる非線形屈折率変化を利用した光−光
スイッチが記載されている。この光スイッチの構成は、
図3のように表わされる。フアイバから成る3dBカプ
ラ22、23によりマッハ・ツェンダー干渉計が構成さ
れており、信号光はポート25より入射され、カプラ2
2で分岐され、カプラ23で干渉する。マッハ・ツェン
ダー干渉計の一方のアームに非線形光導波路21が挿入
されており、干渉する二光波の位相差により信号光がポ
ート27、28のどちらから出力されるかが定まる。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-193128 discloses an optical-optical switch utilizing a nonlinear refractive index change caused by a decrease in carrier density due to incident control light in a semiconductor optical amplifying medium. The configuration of this optical switch is
It is represented as in FIG. A Mach-Zehnder interferometer is constituted by 3 dB couplers 22 and 23 composed of fibers.
The light is branched at 2 and interferes with the coupler 23. The nonlinear optical waveguide 21 is inserted into one arm of the Mach-Zehnder interferometer, and the phase difference between the two interfering light waves determines which of the ports 27 and 28 the signal light is output from.

【0008】図4(a)は、非線形光導波路21の素子
構造を示す図である。nドープInP基板2上に、選択
成長によりノンドープInGaAsPストライプ3およ
びノンドープInP4を形成した後、pドープInP5
およびnドープInP6によりブロック層を形成し、p
ドープエnGaAsキャップ層7を形成する。結晶成長
には、いずれも有機全属気相エピタキシー(MOVP
E)法を用いている。その後、表面にSiO2絶縁膜8
を形成し、ストライプ3の直上部分のみをウェットエッ
チングにより取り除く。さらに、表面に電極9を形成
し、ウェハーを研磨した後、裏面に電極1を形成し、ウ
ェハーをへき開した後、両端面に無反射コーテイングを
施す。InGaAsPより成る光導波部は、吸収端波長
1.50μmであり、厚さ0.3μm、幅1μm、長さ
300μmである。非線形光導波路1は、バイアス電流
を注入することにより利得を示し、その利得ピーク波長
は1.47μmとなった。
FIG. 4A is a diagram showing an element structure of the nonlinear optical waveguide 21. As shown in FIG. After a non-doped InGaAsP stripe 3 and a non-doped InP 4 are formed on an n-doped InP substrate 2 by selective growth, p-doped InP 5 is formed.
And n-doped InP6 to form a block layer,
A doped nGaAs cap layer 7 is formed. For the crystal growth, all organic vapor phase epitaxy (MOVP)
E) method is used. Then, a SiO 2 insulating film 8 is formed on the surface.
Is formed, and only the portion immediately above the stripe 3 is removed by wet etching. Further, an electrode 9 is formed on the front surface, the wafer is polished, the electrode 1 is formed on the back surface, the wafer is cleaved, and both end surfaces are subjected to anti-reflection coating. The optical waveguide portion made of InGaAsP has an absorption edge wavelength of 1.50 μm, a thickness of 0.3 μm, a width of 1 μm, and a length of 300 μm. The nonlinear optical waveguide 1 showed a gain by injecting a bias current, and the gain peak wavelength was 1.47 μm.

【0009】制御光パルスは、ポート26より入射され
波長選択カプラ24を通過して非線形光導波路21ヘ入
力される。制御光波長は、非線形光導波路21の利得領
域に設定されている。したがって、制御光パルスが非線
形光導波路21に入射されると、制御光増幅に伴ってキ
ャリアが減少し、屈折率変化が引き起こされる。このと
き、非線形光導波路21を通過する信号光は非線形位相
シフトを受ける。信号光がポート27より出射される状
態を初期状態とした場合、非線形光導波路21における
屈折率変化により、信号光の出射ポートはポート28に
切り替わる。こうして、制御光による信号光の切替動作
が可能となる。
The control light pulse is input from the port 26, passes through the wavelength selection coupler 24, and is input to the nonlinear optical waveguide 21. The control light wavelength is set in the gain region of the nonlinear optical waveguide 21. Therefore, when the control light pulse is incident on the nonlinear optical waveguide 21, the number of carriers is reduced along with the amplification of the control light, and a change in the refractive index is caused. At this time, the signal light passing through the nonlinear optical waveguide 21 undergoes a nonlinear phase shift. When the state in which the signal light is emitted from the port 27 is set to the initial state, the signal light emission port is switched to the port 28 due to a change in the refractive index in the nonlinear optical waveguide 21. Thus, the switching operation of the signal light by the control light becomes possible.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】図4(b)は、非線形
光導波路21において制御光パルス通過前(A)と通過
後(B)のキャリア密度の分布を示す図である。横軸
は、伝搬方向に沿った位置を示す。入射部付近では制御
光パルスエネルギーは小さいため、制御光パルス増幅と
引き換えにキャリア密度が減少する量は小さい。制御光
は、伝搬とともにある程度増幅された後、利得を飽和さ
せるようになる。その場合、キャリア密度は制御光に対
して利得も吸収も示さなくなる大きさ(N0)まで減少
する。したがって、非線形光導波路全体で制御光増幅に
寄与することにより減少するキャリアの量は、図4
(b)のAとBで挟まれた領域の面積で表わされる。信
号光が受ける非線形位相シフト量はこの面積にほぼ比例
すると考えられる。
FIG. 4B is a diagram showing the carrier density distribution before (A) and after (B) the control light pulse passes through the nonlinear optical waveguide 21. As shown in FIG. The horizontal axis indicates a position along the propagation direction. Since the control light pulse energy is small in the vicinity of the incident portion, the amount by which the carrier density decreases in exchange for the control light pulse amplification is small. The control light is amplified to some extent as it propagates, and then saturates the gain. In that case, the carrier density decreases to a size (N0) at which neither gain nor absorption is exhibited for the control light. Therefore, the amount of carriers reduced by contributing to the control light amplification in the entire nonlinear optical waveguide is as shown in FIG.
(B) It is represented by the area of the region sandwiched between A and B. It is considered that the amount of nonlinear phase shift received by the signal light is almost proportional to this area.

【0011】上記からわかるように、従来の非線形光導
波路は、入射部付近においてキャリアが反転分布のまま
残ってしまう。この部分のキャリアは、非線形屈折率変
化に寄与せずに無駄になっている。そのため、従来は、
十分な非線形屈折率変化を得るために、高い注入電流量
が必要とされていた。
As can be seen from the above, in the conventional nonlinear optical waveguide, carriers remain in an inversion distribution near the incident portion. The carriers in this portion are wasted without contributing to the nonlinear refractive index change. Therefore, conventionally,
In order to obtain a sufficient nonlinear refractive index change, a high injection current amount was required.

【0012】また、このように注入電流量が高くなるも
のにおいては、光増幅媒質(レーザ媒質)におけるレー
ザ発振を抑えるために必要とされる無反射コーティング
の反射率ヘの要求が厳しくなるという問題も生じる。
[0012] Further, when the injection current amount is high, the requirement for the reflectance of the antireflection coating required to suppress laser oscillation in the optical amplification medium (laser medium) becomes severe. Also occurs.

【0013】本発明の目的は、上記の問題を解決し、低
い注入電流量で十分な非線形屈折率変化が得られる非線
形光導波路を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a nonlinear optical waveguide capable of obtaining a sufficient nonlinear refractive index change with a small amount of injected current.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の非線形光導波路は、制御光に対して光増幅
を示すとともに、該光増幅に伴って非線形屈折率変化が
引き起こされる半導体光増幅媒質よりなり、入力された
信号光に対して前記制御光の入力に伴う非線形屈折率変
化によって位相シフトが生じる光導波路と、前記半導体
光増幅媒質への電流の注入を行うための複数の電極と、
前記複数の電極に対して、それぞれ独立に電流を注入す
る複数の電流注入手段と、を有し、前記複数の電極は、
前記半導体光増幅媒質の入射口側から光伝搬方向に沿っ
て設けられており、これら電極における電流密度が入射
口側から段階的に高くなるように前記複数の電流注入手
段の注入電流量が設定されたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a nonlinear optical waveguide according to the present invention exhibits optical amplification with respect to control light and causes a change in a nonlinear refractive index with the optical amplification. An optical waveguide comprising an amplifying medium, in which a phase shift is caused by a non-linear refractive index change with the input of the control light with respect to the input signal light, and a plurality of electrodes for injecting a current into the semiconductor optical amplifying medium When,
For the plurality of electrodes, a plurality of current injection means for independently injecting a current, and, the plurality of electrodes,
The injection current amount of the plurality of current injection means is set so that the current density at these electrodes is increased stepwise from the entrance side from the entrance side of the semiconductor optical amplification medium. It is characterized by having been done.

【0015】上記の場合、前記複数の電極における電流
密度の段階的な増加は、前記制御光の光増幅に応じた単
調増加となるようにすることが望ましい。
In the above case, it is desirable that the stepwise increase in the current density in the plurality of electrodes is monotonic increase in accordance with the optical amplification of the control light.

【0016】また、前記半導体光増幅媒質を多重量子井
戸構造としてもよい。この場合、前記多重量子井戸構造
は、バンドギャップ波長が入射口側から段階的に長波長
側にシフトした構造となるようにしてもよい。さらに、
前記バンドギャップ波長の長波長側へのシフトが、前記
複数の電極における電流密度の増加に伴う利得ピーク波
長の短波長側へのシフトに応じて設定されるようにして
もよい。
Further, the semiconductor optical amplification medium may have a multiple quantum well structure. In this case, the multiple quantum well structure may have a structure in which the band gap wavelength is shifted stepwise from the entrance side to the longer wavelength side. further,
The shift of the bandgap wavelength to the longer wavelength side may be set according to the shift of the gain peak wavelength to the shorter wavelength side with an increase in current density in the plurality of electrodes.

【0017】上記のとおりの本発明によれば、半導体光
増幅媒質の入射口側から光伝搬方向に沿って複数の電極
が設けられ、電極毎に独立に電流注入がなされるように
構成されているので、各電極における電流密度を自由に
設定できる。この特徴により、以下のような作用を有す
る。
According to the present invention as described above, a plurality of electrodes are provided along the light propagation direction from the entrance side of the semiconductor optical amplifying medium, and the current is independently injected for each electrode. Therefore, the current density at each electrode can be set freely. This feature has the following effects.

【0018】半導体光増幅媒質における光増幅では、光
強度は伝搬とともに指数関数的に急激に増大し、その
後、利得は飽和することになる。したがって、入射部付
近では増幅度が低く、光強度も低くなっている。本発明
では、各電極の電流密度は入射口側から段階的に高くな
るように設定されるので、キャリア密度は入射部付近で
は低く、光が伝搬するにつれて段階的に高くなる。これ
により、光強度が低い入射部付近においても利得が飽和
することとなり、注入されたキャリアはほぼ無駄なく光
増幅に寄与することになる。したがって、従来のよう
に、キャリアが入射部付近において反転分布のまま残っ
てしまい、屈折率変化に寄与せずに無駄になるといった
ことがなくなる。
In optical amplification in a semiconductor optical amplification medium, light intensity increases exponentially and rapidly with propagation, and thereafter, the gain is saturated. Therefore, the amplification degree is low and the light intensity is low near the incident part. In the present invention, the current density of each electrode is set so as to gradually increase from the entrance side, so that the carrier density is low near the incident portion and gradually increases as light propagates. As a result, the gain is saturated even in the vicinity of the incident portion where the light intensity is low, and the injected carriers contribute to the optical amplification almost without waste. Therefore, unlike the related art, the carriers remain in the population inversion in the vicinity of the incident portion, and are not wasted without contributing to the change in the refractive index.

【0019】また、上記のように入射口側の電極の電流
密度が低く設定されるものにおいては、入射口側の注入
電流量が低くなった分、トータルの注入電流量が従来の
ものに比べて低くなる。実際は、出射口側の電極の電流
密度が従来のもののそれと同じに設定される。
In the case where the current density of the electrode on the entrance side is set to be low as described above, the total injection current amount is lower than that of the conventional one because the injection current amount on the entrance side is lower. Lower. Actually, the current density of the electrode on the exit side is set to be the same as that of the conventional one.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0021】<実施形態1>図1(a)は、本発明の第
一の実施の形態の非線形光導波路の構造を示す図であ
る。nドープInP基板2上に、選択成長によりノンド
ープInGaAsPストライプ3およびノンドープIn
P4を形成した後、pドープInP5およびnドープI
nP6によりブロック層を形成し、全面にpドープIn
GaAsキャップ層7を形成する。ここでは、結晶成長
に有機金属気相エピタキシー(MOVPE)法を用いて
いる。
<First Embodiment> FIG. 1A is a view showing a structure of a nonlinear optical waveguide according to a first embodiment of the present invention. On an n-doped InP substrate 2, a non-doped InGaAsP stripe 3 and a non-doped InP
After forming P4, p-doped InP5 and n-doped IP
A block layer is formed from nP6, and p-doped In
A GaAs cap layer 7 is formed. Here, metal organic vapor phase epitaxy (MOVPE) is used for crystal growth.

【0022】キャップ層7を形成した後、表面にSiO
2絶縁膜8を形成し、ストライプ(あるいはチャネルと
もいうが、以下の説明では光導波路と称す)3の直上部
分のみをウェットエッチングにより取り除く。さらに、
表面に電極9を形成し、該電極9を光伝搬方向に対して
領域11〜13の3つの領域に分割するように溝を形成
する。この電極9を分割する各溝(領域11〜13間の
溝)は、例えば幅が10μmで、深さがノンドープIn
P層4にまで達し、各領域11〜13間を電気的に絶縁
する。
After the cap layer 7 is formed, the surface is
(2) An insulating film 8 is formed, and only a portion immediately above a stripe (or a channel, but referred to as an optical waveguide in the following description) 3 is removed by wet etching. further,
An electrode 9 is formed on the surface, and a groove is formed so as to divide the electrode 9 into three regions 11 to 13 in the light propagation direction. Each groove (groove between the regions 11 to 13) dividing the electrode 9 has, for example, a width of 10 μm and a depth of non-doped In.
As far as the P layer 4, the regions 11 to 13 are electrically insulated.

【0023】上記のようにして電極9を形成した後、ウ
ェハーを研磨してウェハー裏面に電極1を形成し、さら
に、ウェハーをへき開した後、両端面に無反射コーティ
ングを施し、非線形光導波路を完成する。
After the electrodes 9 are formed as described above, the wafer is polished to form the electrodes 1 on the back surface of the wafer, and after the wafer is cleaved, non-reflective coatings are applied to both end surfaces to form a nonlinear optical waveguide. Complete.

【0024】上述のようにして形成された非線形光導波
路の電極9には、各領域11〜13に対して電流源14
〜16がそれぞれ接続される。これにより、ストライプ
3へのキャリア注入を各領域11〜13毎に所望の電流
注入量で行うことができる。すなわち、光導波路3にお
けるキャリアの密度を、各領域毎に所望のキャリア密度
に設定できる。
The electrode 9 of the nonlinear optical waveguide formed as described above has a current source 14 for each of the regions 11 to 13.
To 16 are respectively connected. As a result, carrier injection into the stripe 3 can be performed at a desired current injection amount for each of the regions 11 to 13. That is, the carrier density in the optical waveguide 3 can be set to a desired carrier density for each region.

【0025】また、ノンドープInGaAsP3は、電
極9(領域11〜13)に電流が注入されることによ
り、所定波長の制御光に対して利得を示し、制御光の増
幅により非線形屈折率変化を引き起こす非線形光学媒質
である。本形態では、このストライプ3は、例えば吸収
端波長が1.50μm、厚さが0.3μm、幅が1μ
m、長さが300μmとなっている。なお、ストライプ
3において電流注入により利得を生じる光の波長範囲を
利得領域、これ以外の波長(利得を生じない光の波長)
範囲を透明領域という。
The non-doped InGaAsP3 exhibits a gain with respect to control light of a predetermined wavelength when a current is injected into the electrode 9 (regions 11 to 13), and causes a nonlinear refractive index change due to amplification of the control light. It is an optical medium. In this embodiment, the stripe 3 has, for example, an absorption edge wavelength of 1.50 μm, a thickness of 0.3 μm, and a width of 1 μm.
m and length are 300 μm. The wavelength range of light in which a gain is caused by current injection in the stripe 3 is defined as a gain region, and other wavelengths (wavelengths of light in which no gain is generated).
The range is called a transparent area.

【0026】本形態の非線形光導波路の特徴は、電極9
を分割し、光導波路3へのキャリア注入を各領域11〜
13毎に所望のキャリア密度で行うことができるように
したことにあり、ここでは、領域11〜13における電
流密度をそれぞれJl〜J3とし、キャリア密度をそれ
ぞれNl〜N3とすると、各電流密度はJl<J2<J
3の関係となるように、各キャリア密度はNl<N2<
N3の関係となるように設定される。より具体的には、
制御光のエネルギーは光導波部3を伝搬するにつれて増
幅することに着目し、入射側ではキャリア密度を低く、
出射側に進むにつれてキャリア密度が高くなるように、
制御光のエネルギー増幅に応じたキャリア密度が設定さ
れる。
The feature of the nonlinear optical waveguide of this embodiment is that the electrode 9
And carrier injection into the optical waveguide 3 is performed in each of the regions 11 to
In this case, the current density in each of the regions 11 to 13 is set to J1 to J3, and the carrier density is set to N1 to N3. Jl <J2 <J
3, each carrier density is Nl <N2 <
N3 is set. More specifically,
Focusing on the fact that the energy of the control light is amplified as it propagates through the optical waveguide 3, the carrier density is low on the incident side,
As the carrier density increases toward the emission side,
The carrier density is set according to the energy amplification of the control light.

【0027】次に、この非線形光導波路の光制御素子と
しての動作原理について説明する。
Next, the principle of operation of the nonlinear optical waveguide as a light control element will be described.

【0028】光導波路3には、波長が1.47μmなる
利得領域に設定されたパルス幅1psの制御光、および
波長が1.55μmなる透明領域に設定された信号光が
入射される。このときの制御光パルス通過前(A)と通
過後(B)における非線形光導波路中のキャリア密度の
分布を図1(b)に示す。同図では、横軸は伝搬方向に
沿った位置を示す。
The control light having a pulse width of 1 ps set in a gain region with a wavelength of 1.47 μm and the signal light set in a transparent region with a wavelength of 1.55 μm enter the optical waveguide 3. FIG. 1B shows the carrier density distribution in the nonlinear optical waveguide before (A) and after (B) the control light pulse at this time. In the figure, the horizontal axis indicates a position along the propagation direction.

【0029】電極9の領域11の電流密度は入射時の制
御光のエネルギーに応じて低く設定されているので、該
領域11からのキャリア注入による光導波路3における
キャリア密度は低くなっている。したがって、入射され
た制御光パルスは、入射部付近においても利得を飽和さ
せる。
Since the current density in the region 11 of the electrode 9 is set low according to the energy of the control light at the time of incidence, the carrier density in the optical waveguide 3 due to the injection of carriers from the region 11 is low. Therefore, the incident control light pulse saturates the gain even near the incident part.

【0030】電極9の領域12,13の電流密度は制御
光のエネルギーの増幅に応じて段階的に高くなるように
設定されているので、これらの領域12,13からのキ
ャリア注入による光導波路3におけるキャリア密度も各
領域毎に段階的に高くなっている。したがって、制御光
パルスは、光導波路3の領域12,13に対応するそれ
ぞれの領域においても利得を飽和させる。このようにし
て、本形態の光導波路では、制御光は光導波路3のほぼ
全域で利得を飽和させながら進むことになる。
Since the current densities of the regions 12 and 13 of the electrode 9 are set so as to increase stepwise according to the amplification of the energy of the control light, the optical waveguide 3 is formed by injecting carriers from these regions 12 and 13. The carrier density in each region also increases stepwise in each region. Therefore, the control light pulse saturates the gain in each of the regions corresponding to the regions 12 and 13 of the optical waveguide 3. As described above, in the optical waveguide of the present embodiment, the control light travels while saturating the gain in almost the entire area of the optical waveguide 3.

【0031】上述のように、制御光パルス通過後、キャ
リア密度は光導波路3のほば全域で吸収も利得も示さな
いキャリア密度N0に達する。これにより、注入された
キャリアは、ほぼ無駄なく制御光の増幅に寄与すること
になる。したがって、非線形光導波路ヘのトータルの注
入電流量を低く抑えることができ、かつ、信号光に対し
て十分な非線形位相シフトを効率的に与えることが可能
となる。
As described above, after passing the control light pulse, the carrier density reaches the carrier density N0 at which almost no absorption or gain is exhibited in almost the entire area of the optical waveguide 3. Thus, the injected carriers contribute to the amplification of the control light almost without waste. Therefore, it is possible to reduce the total amount of current injected into the nonlinear optical waveguide, and to efficiently give a sufficient nonlinear phase shift to the signal light.

【0032】<実施形態2>図2(a)は、本発明の第
二の実施の形態の非線形光導波路の構造を示す図であ
る。nドープInP基板2上に、減圧MOVPE法によ
る選択成長を用いて、ノンドープInGaAs/InG
aAsP(1.15μm組成)多重量子井戸(MQW)
構造14およびノンドープInP4を形成した以外は前
述の図1に示した第1の実施形態の構成とほぼ同様の構
成となっている。図中同じ構成には同じ符号を付してい
る。
<Embodiment 2> FIG. 2A is a view showing the structure of a nonlinear optical waveguide according to a second embodiment of the present invention. On the n-doped InP substrate 2, non-doped InGaAs / InG
aAsP (1.15 μm composition) multiple quantum well (MQW)
The structure is substantially the same as the structure of the first embodiment shown in FIG. 1 except that the structure 14 and the non-doped InP4 are formed. In the drawings, the same components are denoted by the same reference numerals.

【0033】MQW構造14は、InGaAsウェル層
とInGaAsPバリア層が交互に20層ずつ積層され
た構造となっている。MQW構造14の成長前には、I
nP基板2上にあらかじめ堆積させたSiO2をパター
ニングし、図2(b)に示すようなマスク15を形成し
ておく。MQW構造14を成長させるためのストライプ
開口部の幅は例えば2μm(W1)、ストライプ開口部
の両脇のマスク幅は、例えば領域11では5μm(W
2)、領域12では10μm(W3)、領域13では1
5μm(W4)である。ここで、各領域11〜13の長
さは、それぞれ150μmである。
The MQW structure 14 has a structure in which 20 InGaAs well layers and 20 InGaAsP barrier layers are alternately stacked. Prior to the growth of MQW structure 14, I
The SiO 2 previously deposited on the nP substrate 2 is patterned to form a mask 15 as shown in FIG. The width of the stripe opening for growing the MQW structure 14 is, for example, 2 μm (W1), and the mask width on both sides of the stripe opening is, for example, 5 μm (W
2), 10 μm (W3) in region 12, 1 in region 13
5 μm (W4). Here, the length of each of the regions 11 to 13 is 150 μm.

【0034】MQW構造14を成長した後、マスク15
を除去し、前述の第1の実施形態と同様にpドープIn
P5およびnドープInP6によりブロック層を形成
し、さらにpドープInGaAsキャップ層7を形成し
た後、電極9を形成してこれを領域11〜13に分割す
る。ここでも、結晶成長にMOVPE法が用いられる。
After growing the MQW structure 14, the mask 15
Is removed, and p-doped In is performed in the same manner as in the first embodiment.
After forming a block layer of P5 and n-doped InP6 and further forming a p-doped InGaAs cap layer 7, an electrode 9 is formed and divided into regions 11 to 13. Here, too, the MOVPE method is used for crystal growth.

【0035】本形態の非線形光導波路は、前述の第1の
実施形態で説明した、光導波路におけるキャリア密度
を、入射側ではキャリア密度を低く、出射側に進むにつ
れてキャリア密度が高くなるように、制御光のエネルギ
ー増幅に応じて設定することに加えて、以下のうような
特徴を備えている。
The nonlinear optical waveguide according to the present embodiment has a carrier density in the optical waveguide described in the above-described first embodiment such that the carrier density is low on the incident side and increases as it goes to the output side. In addition to the setting according to the energy amplification of the control light, the following features are provided.

【0036】すなわち、本形態では、利得のピーク波長
が注入される電流密度の増加(すなわち、電流密度が領
域11,12,13の順に増加していること)に伴い、
一般には短波長側へシフトすることに着目し、この波長
シフトに応じて、多重量子井戸構造14よりなる光導波
路のバンドギャップ波長を多段階に長波長側にシフトす
るような構成とすることにより、その利得のピーク波長
の短波長側へシフトを防止するようになっている。
That is, in the present embodiment, as the current density at which the peak wavelength of the gain is injected increases (that is, the current density increases in the order of the regions 11, 12, and 13),
In general, attention is paid to shifting to the short wavelength side, and by adopting a configuration in which the bandgap wavelength of the optical waveguide including the multiple quantum well structure 14 is shifted to the long wavelength side in multiple steps according to this wavelength shift. The shift of the peak wavelength of the gain to the shorter wavelength side is prevented.

【0037】具体的には、選択成長により形成されたI
nGaAs/InGaAsP多重量子井戸構造14は、
領域11、12、13でInGaAs層の厚さが異なる
ようになっている。これは、ストライプ両脇のマスク幅
が、領域11、12、13で異なるためである。この多
重量子井戸構造14よりなる光導波路の各領域11〜1
3におけるフォトルミネセンスのピーク波長を測定する
と、領域11ではl.48μm、領域12では1.50
μm、領域13では1.52μmとなり、バンドギャッ
プ波長が入射面側から進むつれて(領域11、12、1
3の順に)長波長側にシフトした構成となっている。
Specifically, I formed by selective growth
The nGaAs / InGaAsP multiple quantum well structure 14
The thickness of the InGaAs layer is different in the regions 11, 12, and 13. This is because the mask width on both sides of the stripe is different in the regions 11, 12, and 13. Each region 11 to 1 of the optical waveguide having the multiple quantum well structure 14
3, the peak wavelength of photoluminescence was measured. 48 μm, 1.50 in region 12
μm in the region 13 and 1.52 μm in the region 13, and as the band gap wavelength advances from the incident surface side (regions 11, 12, 1).
(In the order of 3).

【0038】なお、上記の多重量子井戸構造14よりな
る光導波路のバンドギャップ波長はストライプ両脇に形
成されるマスク幅に依存することから、このマスク幅を
変えることにより所望のバンドギャップ波長シフトを設
定することができる。これにより、利得のピーク波長の
短波長側へのシフトに応じたバンドギャップ波長シフト
が可能になる。
Since the band gap wavelength of the optical waveguide having the multiple quantum well structure 14 depends on the mask width formed on both sides of the stripe, a desired band gap wavelength shift can be obtained by changing the mask width. Can be set. This allows a bandgap wavelength shift in accordance with the shift of the peak wavelength of the gain to the shorter wavelength side.

【0039】次に、この非線形光導波路の光制御素子と
しての動作原理について説明する。以下の説明において
も、前述の第1の実施形態の場合と同様、波長が1.4
7μmなる利得領域に設定されたパルス幅1psの制御
光、および波長が1.55μmなる透明領域に設定され
た信号光が光導波路に入射されるものとする。
Next, the principle of operation of the nonlinear optical waveguide as a light control element will be described. In the following description, as in the case of the first embodiment, the wavelength is 1.4.
It is assumed that control light having a pulse width of 1 ps set in a gain region of 7 μm and signal light set in a transparent region having a wavelength of 1.55 μm enter the optical waveguide.

【0040】非線形光導波路は、電流が注入されること
により利得を示す。領域11、12、13における電流
密度は、前述の第1の実施形態の場合と同様、Jl<J
2<J3である。したがって、キャリア密度はNl<N
2<N3となる。これにより、本形態においても、前述
の第1の実施形態と同様に、制御光は光導波路のほぼ全
域で利得を飽和させながら進むことになる。よって、注
入されたキャリアはほぼ無駄なく制御光の増幅に寄与す
ることになり、非線形光導波路ヘのトータルの注入電流
量を低く抑えたままで、信号光に十分な非線形位相シフ
トを与えることが可能となる。
The nonlinear optical waveguide exhibits a gain when a current is injected. The current densities in the regions 11, 12, 13 are Jl <J, as in the first embodiment.
2 <J3. Therefore, the carrier density is Nl <N
2 <N3. Thus, also in this embodiment, similarly to the first embodiment, the control light travels while saturating the gain in almost the entire area of the optical waveguide. Therefore, the injected carriers contribute to the amplification of the control light almost without waste, and it is possible to give a sufficient nonlinear phase shift to the signal light while keeping the total injection current amount to the nonlinear optical waveguide low. Becomes

【0041】この際、利得のピーク波長は注入される電
流密度の増加に伴って短波長側ヘシフトするが、本形態
の非線形光導波路においては、あらかじめ多重量子井戸
構造14よりなる光導波路のバンドギャップ波長を領域
11、12、13の順に長波長側ヘシフトさせているた
め、各領域11〜13において利得ピーク波長は全て
l.47μmとなる。よって、利得のピーク波長は各領
域11〜13において制御光の波長と一致することとな
り、効率の良い非線形位相シフト(非線形屈折率変化)
を得られることになる。
At this time, the peak wavelength of the gain shifts to the shorter wavelength side as the injected current density increases. In the nonlinear optical waveguide of this embodiment, the band gap of the optical waveguide having the multiple quantum well structure 14 is previously determined. Since the wavelength is shifted to the longer wavelength side in the order of the regions 11, 12, and 13, the gain peak wavelength in each of the regions 11 to 13 is all l.l. 47 μm. Therefore, the peak wavelength of the gain coincides with the wavelength of the control light in each of the regions 11 to 13, and the nonlinear phase shift (nonlinear refractive index change) with high efficiency is achieved.
Will be obtained.

【0042】<他の実施形態>上述した第1および第2
の実施形態の非線形光導波路を用いて、前述の図3に示
した光路切替型の光―光スイッチ(光制御スイッチ素
子)を構成することができる。すなわち、ファイバから
成る3dBカプラ22、23によりマッハ・ツェンダー
干渉計が構成されており、信号光はポート25より入射
され、カプラ22で分岐され、カプラ23で干渉する。
干渉する二光波の位相差により信号光がポート27、2
8のどちらから出力されるかが定まる。第1の実施形態
または第2の実施形態で説明した非線形光導波路21
が、マッハ・ツェンダー干渉計の一方のアームに挿入さ
れる。
<Other Embodiments> The First and Second Embodiments
The optical path switching type optical-optical switch (optical control switch element) shown in FIG. 3 described above can be configured using the nonlinear optical waveguide of the embodiment. That is, a Mach-Zehnder interferometer is constituted by the 3 dB couplers 22 and 23 made of fiber, and the signal light enters from the port 25, is branched by the coupler 22, and interferes with the coupler 23.
Due to the phase difference between the two interfering light waves, the signal light
8 is determined. Nonlinear optical waveguide 21 described in the first embodiment or the second embodiment
Is inserted into one arm of the Mach-Zehnder interferometer.

【0043】制御光パルスは、ポート26より入射され
波長選択カプラ24を通過して非線形光導波路21ヘ入
力される。利得領域に波長を設定された制御光パルス
は、非線形光導波路21に入射され、屈折率変化を引き
起こす。このとき、非線形光導波路21を通過する信号
光は非線形位相シフトを受ける。信号光がポート27よ
り出射される状態を初期状態とした場合、非線形光導波
路21におけ屈折率変化により、信号光の出射ポートは
ポート28に切り替わる。こうして、制御光による信号
光の切替動作が可能となる。
The control light pulse is input from the port 26, passes through the wavelength selection coupler 24, and is input to the nonlinear optical waveguide 21. The control light pulse whose wavelength is set in the gain region enters the nonlinear optical waveguide 21 and causes a change in the refractive index. At this time, the signal light passing through the nonlinear optical waveguide 21 undergoes a nonlinear phase shift. When the state in which the signal light is emitted from the port 27 is the initial state, the signal light emission port is switched to the port 28 due to a change in the refractive index in the nonlinear optical waveguide 21. Thus, the switching operation of the signal light by the control light becomes possible.

【0044】以上、光導波部をInGaAsPあるいは
InGaAs/InGaAsP多重量子井戸としInP
をクラッドとした非線形光導波路を例にとって説明した
が、本発明によれば、GaAs基板上に形成し得る材料
を用いた場合など他の材料から成る非線形光導波路を用
いた場合においても同様の効果を得られる。
As described above, the optical waveguide portion is made of InGaAsP or InGaAs / InGaAsP multiple quantum well, and
Although the description has been made by taking a nonlinear optical waveguide having a cladding as an example, according to the present invention, the same effect can be obtained even when a nonlinear optical waveguide made of another material is used, such as when a material that can be formed on a GaAs substrate is used. Can be obtained.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
制御光増幅に伴う屈折率変化を利用する非線形光導波路
において、従来に比べて、低い注入電流量で光増幅に伴
う屈折率変化の動作が可能となるので、低エネルギー光
制御素子を実現できる。
As described above, according to the present invention,
In a non-linear optical waveguide utilizing a change in the refractive index accompanying the amplification of the control light, the operation of the change in the refractive index associated with the amplification of the light can be performed with a smaller amount of injection current than in the related art, so that a low energy light control element can be realized.

【0046】また、注入電流量を低くすることができる
ことから、光増幅媒質(レーザ媒質)におけるレーザ発
振を抑えるために必要とされる無反射コーティングの反
射率ヘの要求が緩和されるという効果がある。
Further, since the amount of injected current can be reduced, the effect that the requirement for the reflectance of the antireflection coating required for suppressing laser oscillation in the optical amplification medium (laser medium) is reduced. is there.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は本発明の非線形光導波路の第1の実施
の形態の素子構造を示す図、(b)は導波路中のキャリ
ア密度分布を示す図である。
FIG. 1A is a diagram showing a device structure of a nonlinear optical waveguide according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a diagram showing a carrier density distribution in the waveguide.

【図2】(a)は本発明の非線形光導波路の第2の実施
の形態の素子構造を示す図、(b)は光導波部の結晶成
長を行う際に用いられるマスクの一例を示す図である。
FIG. 2A is a diagram showing an element structure of a nonlinear optical waveguide according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a diagram showing an example of a mask used when performing crystal growth of an optical waveguide. It is.

【図3】非線形光導波路を用いた光路切替型の光スイッ
チの構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of an optical path switching type optical switch using a nonlinear optical waveguide.

【図4】(a)は従来の非線形光導波路の素子構造を示
す図、(b)は導波路中のキャリア密度分布を示す図で
ある。
4A is a diagram showing a device structure of a conventional nonlinear optical waveguide, and FIG. 4B is a diagram showing a carrier density distribution in the waveguide.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,9 電極 2 nドープInP基板 3 ノンドープInGaAsPストライプ 4 ノンドープInP層 5 電流ブロック用pドープInP層 6 電流ブロック用nドープInP層 7 pドープInPキャップ層 8 SiO2絶縁膜 11〜13 領域 14 InGaAs/InGaAsP多重量子井戸 15 マスク 21 非線形光導波路 22 3dBカプラ 23 3dBカプラ 24 波長選択カプラ 25 信号光入力ポート 26 制御光入力ポート 27 信号光出力ポート 28 信号光出力ポート1, 9 electrode 2 n-doped InP substrate 3 non-doped InGaAsP stripe 4 non-doped InP layer 5 p-doped InP layer for current block 6 n-doped InP layer for current block 7 p-doped InP cap layer 8 SiO 2 insulating film 11 to 13 region 14 InGaAs / InGaAsP multiple quantum well 15 mask 21 nonlinear optical waveguide 22 3 dB coupler 23 3 dB coupler 24 wavelength selective coupler 25 signal light input port 26 control light input port 27 signal light output port 28 signal light output port

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 制御光に対して光増幅を示すとともに、
該光増幅に伴って非線形屈折率変化が引き起こされる半
導体光増幅媒質よりなり、入力された信号光に対して前
記制御光の入力に伴う非線形屈折率変化によって位相シ
フトが生じる光導波路と、 前記半導体光増幅媒質への電流の注入を行うための複数
の電極と、 前記複数の電極に対して、それぞれ独立に電流を注入す
る複数の電流注入手段と、を有し、 前記複数の電極は、前記半導体光増幅媒質の入射口側か
ら光伝搬方向に沿って設けられており、これら電極にお
ける電流密度が入射口側から段階的に高くなるように前
記複数の電流注入手段の注入電流量が設定されたことを
特徴とする非線形光導波路。
1. An optical amplifier for controlling a control light,
An optical waveguide comprising a semiconductor optical amplifying medium in which a nonlinear refractive index change is caused by the optical amplification, wherein an optical waveguide in which a phase shift is caused by a nonlinear refractive index change caused by input of the control light with respect to input signal light; A plurality of electrodes for injecting a current into the optical amplification medium; anda plurality of current injection units each independently injecting a current into the plurality of electrodes, wherein the plurality of electrodes are The injection current amounts of the plurality of current injection means are set so that the current density at these electrodes is increased stepwise from the entrance side, being provided from the entrance side of the semiconductor optical amplification medium along the light propagation direction. A nonlinear optical waveguide.
【請求項2】 請求項1に記載の非線形光導波路におい
て、 前記複数の電極における電流密度の段階的な増加が、前
記制御光の光増幅に応じた単調増加となっていることを
特徴とする非線形光導波路。
2. The nonlinear optical waveguide according to claim 1, wherein the stepwise increase in the current density in the plurality of electrodes is a monotonic increase in accordance with the optical amplification of the control light. Nonlinear optical waveguide.
【請求項3】 請求項1に記載の非線形光導波路におい
て、 前記半導体光増幅媒質が、多重量子井戸構造を有するこ
とを特徴とする非線形光導波路。
3. The nonlinear optical waveguide according to claim 1, wherein the semiconductor optical amplification medium has a multiple quantum well structure.
【請求項4】 請求項3に記載の非線形光導波路におい
て、 前記多重量子井戸構造は、バンドギャップ波長が入射口
側から段階的に長波長側にシフトした構造を有すること
を特徴とする非線形光導波路。
4. The nonlinear optical waveguide according to claim 3, wherein the multiple quantum well structure has a structure in which a band gap wavelength is shifted stepwise from an entrance side to a longer wavelength side. Wave path.
【請求項5】 請求項4に記載の非線形光導波路におい
て、 前記バンドギャップ波長の長波長側へのシフトが、前記
複数の電極における電流密度の増加に伴う利得ピーク波
長の短波長側へのシフトに応じて設定されたことを特徴
とする非線形光導波路。
5. The nonlinear optical waveguide according to claim 4, wherein the shift of the bandgap wavelength to a longer wavelength side shifts a gain peak wavelength to a shorter wavelength side with an increase in current density in the plurality of electrodes. A nonlinear optical waveguide set according to:
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