JP2800600B2 - Laser processing equipment - Google Patents

Laser processing equipment

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JP2800600B2
JP2800600B2 JP4319708A JP31970892A JP2800600B2 JP 2800600 B2 JP2800600 B2 JP 2800600B2 JP 4319708 A JP4319708 A JP 4319708A JP 31970892 A JP31970892 A JP 31970892A JP 2800600 B2 JP2800600 B2 JP 2800600B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は被加工物に無駄なパター
ン情報を転写するのを防止したレーザ加工装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus for preventing useless pattern information from being transferred to a workpiece.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にレーザマーキング装置は、レーザ
発振器からのレーザ光を液晶マスクに照射し、液晶マス
クにパターン情報を表示し、パターン情報を透過したレ
ーザ光の偏光面と、そうでないレーザ光の偏光面とをビ
ームスプリッタに照射すると、ビームスプリッタはパタ
ーン情報を有するレーザ光の偏光面のみが透過し、この
レーザ光を被加工物に照射し、パターン情報を被加工物
に転写例えば刻印,貫通穴を形成する。
2. Description of the Related Art In general, a laser marking device irradiates a liquid crystal mask with laser light from a laser oscillator, displays pattern information on the liquid crystal mask, and determines the polarization plane of the laser light transmitted through the pattern information and the laser light that is not. When the polarization plane is irradiated on the beam splitter, the beam splitter transmits only the polarization plane of the laser light having the pattern information, irradiates the laser light to the workpiece, and transfers the pattern information to the workpiece, for example, marking and penetrating. Form a hole.

【0003】パターン情報が設定通り被加工物に転写さ
れているか否かの検出は、特開平2−187288号公報に提
案されているように、被加工物にパターン情報を転写
後、このパターン情報が正しいか否か確認後に合否を決
めていた。
[0003] Whether the pattern information is transferred to the workpiece as set or not is detected by transferring the pattern information to the workpiece as proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-187288. After confirming whether or not was correct, the decision was made.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、被加工
物にパターン情報を転写した後に、合否を決めているの
では被加工物が無駄になるばかりでなく、液晶マスクに
パターン情報が表示されていない状態でレーザ発振器か
らレーザ光を照射し被加工物を無駄にする場合もあっ
た。
However, if the pass / fail is determined after transferring the pattern information to the workpiece, not only the workpiece is wasted but also the pattern information is not displayed on the liquid crystal mask. In some cases, the workpiece is wasted by irradiating laser light from a laser oscillator in this state.

【0005】本発明の目的は、被加工物の無駄なく効率
良く転写できるレーザ加工装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a laser processing apparatus capable of efficiently transferring a workpiece without waste.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のレーザ加工装置
は、レーザ発振器からのレーザ光を液晶マスクに照射
し、液晶マスクに表示されたパターン情報を有するレー
ザ光を被加工物に照射し、被加工物にパターン情報を転
写し、レーザ発振器と液晶マスクとの間に表示部を電気
的に接続し、表示部にパターン情報を表示した時にレー
ザ発振器よりレーザ光を出射するスイッチを設けたレー
ザ加工装置であって、該表示部と液晶マスクのパターン
情報信号用の駆動電圧を検出すると、該スイッチを動作
させる電圧検出部を設けたことにある。また、レーザ発
振器からのレーザ光を液晶マスクに照射し、液晶マスク
に表示されたパターン情報を有するレーザ光を被加工物
に照射し、被加工物にパターン情報を転写し、レーザ発
振器と液晶マスクとの間に表示部を電気的に接続し、表
示部にパターン情報を表示した時にレーザ発振器よりレ
ーザ光を出射するスイッチを設けたレーザ加工装置であ
って、搬送部により搬送された該被加工物が位置決め検
出装置の所定の位置に来ているか否かによって、搬送部
の移動と該スイッチの動作を制御する制御部を設けたこ
とにある。
A laser processing apparatus according to the present invention irradiates a laser beam from a laser oscillator onto a liquid crystal mask.
And a laser having pattern information displayed on a liquid crystal mask.
Irradiates the workpiece with the light to transfer pattern information to the workpiece.
The display is electrically connected between the laser oscillator and the liquid crystal mask.
When the pattern information is displayed on the display.
Laser with a switch to emit laser light from the oscillator
The processing apparatus, wherein the display unit and a pattern of a liquid crystal mask
Activates the switch when the drive voltage for the information signal is detected.
That is, a voltage detecting unit for causing the voltage to be detected is provided . In addition, the liquid crystal mask is irradiated with laser light from a laser oscillator, the laser light having the pattern information displayed on the liquid crystal mask is irradiated on the work, and the pattern information is transferred to the work. And a switch for emitting a laser beam from a laser oscillator when pattern information is displayed on the display unit.
Therefore, the workpiece transported by the transport unit is positioned and detected.
The transport unit depends on whether or not the
Control unit for controlling the movement of the switch and the operation of the switch.
And there.

【0007】[0007]

【作用】このように、本発明ではレーザ光の出射前にパ
ターン情報の正否が判断できるので、被加工物が無駄に
ならず、レーザマーキングの転写能率を向上できるよう
になった。
As described above, according to the present invention, whether the pattern information is correct or not can be determined before the laser beam is emitted, so that the workpiece is not wasted and the transfer efficiency of the laser marking can be improved.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明の実施例を図1ないし図7によ
り説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0009】図1はレーザマーキング装置本体1の内部
構成を示す説明図であり、図2はレーザマーキング装置
の操作面を示し、図2の上方からみたときの図が図3で
あり、操作面の各構成が図4から図7である。
FIG. 1 is an explanatory view showing the internal configuration of the laser marking device main body 1, FIG. 2 shows an operation surface of the laser marking device, and FIG. 3 is a view when viewed from above FIG. Are each shown in FIG. 4 to FIG.

【0010】図2のレーザマーキング装置本体1は操作
面側に制御操作部2を有し、制御操作部2には図4の操
作スイッチ3及び図6のキーボード6,図5,図7の表
示部7を取り付けている。
The laser marking apparatus main body 1 shown in FIG. 2 has a control operation section 2 on the operation surface side. The control operation section 2 has the operation switches 3 shown in FIG. The part 7 is attached.

【0011】表示部7は、レーザマーキング装置本体の
動作状態領域7A,ファイル領域7B,マスクパターン
領域7C,印字データ領域7D,外部設定領域7Eより
構成されている。
The display unit 7 comprises an operation state area 7A of the laser marking device main body, a file area 7B, a mask pattern area 7C, a print data area 7D, and an external setting area 7E.

【0012】この内部は、図3に示すレーザマーキング
装置を構成する各部品が配置されている。即ち、レーザ
発振器10は出射鏡側からレーザ光11Aが出射され
る。
Inside this device, there are arranged components constituting the laser marking device shown in FIG. That is, the laser oscillator 10 emits the laser beam 11A from the exit mirror side.

【0013】レーザ光11Aは第1ベンドミラー12A
を照射すると、第1ベンドミラー12Aより直角方向に
曲げられて、第2ベンドミラー12Bに照射する。第2
ベンドミラー12Bに照射したレーザ光11Aはまた直
角方向に曲げられて出射鏡からのレーザ光と反対方向へ
進行する。そして、第3ベンドミラー12Cによってレ
ーザ発振器側面を通り、反射ミラー12Dを介して下側
に曲げられて被加工物13例えばIC等に照射する。ま
た反射ミラー12Dはレーザ光を下側に折曲げない時は
不要である。
The laser beam 11A is applied to a first bend mirror 12A.
Irradiates the second bend mirror 12B by being bent in a direction perpendicular to the first bend mirror 12A. Second
The laser beam 11A applied to the bend mirror 12B is bent at a right angle, and travels in a direction opposite to the laser beam from the exit mirror. Then, the light passes through the side surface of the laser oscillator by the third bend mirror 12C, is bent downward via the reflection mirror 12D, and irradiates the work 13 such as an IC. The reflection mirror 12D is unnecessary when the laser beam is not bent downward.

【0014】この実施例では、レーザ光11はレーザ発
振器10の側面を透過することによって、長いレーザ光
路11Yを長くすることなくコンパクトにまとめて、レ
ーザマーキング装置本体を長丈化することなく、小型で
きるようになった。反射ミラー12Dから被加工物Bに
至るレーザ光路11Yの詳細構成を図1により説明す
る。
In this embodiment, the laser beam 11 is transmitted through the side surface of the laser oscillator 10, so that the long laser beam path 11Y can be compactly formed without elongation, and the laser marking apparatus body can be reduced in size without lengthening. It became so. The detailed configuration of the laser beam path 11Y from the reflection mirror 12D to the workpiece B will be described with reference to FIG.

【0015】レーザ発振器10からのレーザ光11Aは
シリンドリカルレンズ14を介して液晶マスク15を照
射する。
A laser beam 11 A from a laser oscillator 10 irradiates a liquid crystal mask 15 via a cylindrical lens 14.

【0016】液晶マスク15は転写すべきパターン情報
例えばAが表示されている。パターン情報Aは図5の印
字データ領域7Dのパターン情報A〜Iを表示している
が、紙面スペースの関係上Aのみを表示した。
The liquid crystal mask 15 displays pattern information to be transferred, for example, A. As the pattern information A, the pattern information A to I of the print data area 7D in FIG. 5 is displayed, but only A is displayed due to space limitations.

【0017】液晶マスク15では、パターン情報Aを表
示している領域とパターン表示していない領域とでは、
液晶マスク15の偏光面が異なる。
In the liquid crystal mask 15, a region where the pattern information A is displayed and a region where the pattern is not displayed are:
The polarization plane of the liquid crystal mask 15 is different.

【0018】レーザ光12Aは、液晶マスク15の偏光
面を通過して、図示していないビームスプリッタによ
り、パターン情報を有する偏光面のレーザ光12Bが液
晶マスク15より出射される。実際は液晶マスク15よ
り離れた出力側にビームスプリッタは配置されている
が、説明の関係上液晶マスク15より出射したように説
明した。
The laser beam 12A passes through the polarization plane of the liquid crystal mask 15, and a laser beam 12B having a polarization plane having pattern information is emitted from the liquid crystal mask 15 by a beam splitter (not shown). Although the beam splitter is actually arranged on the output side remote from the liquid crystal mask 15, for the sake of explanation, the beam splitter has been described as being emitted from the liquid crystal mask 15.

【0019】パターン情報Aを有するレーザ光11Bの
みが結像レンズ16を透過して被加工物13にパターン
情報Aを照射し、被加工物13の表面を焼いて転写例え
ば刻印,貫通穴等を形成する。
Only the laser beam 11B having the pattern information A passes through the imaging lens 16 and irradiates the workpiece 13 with the pattern information A, burns the surface of the workpiece 13 and transfers the information, for example, engraving, through-holes and the like. Form.

【0020】電源開閉スイッチ20は、モータ23の電
源回路の搬送制御部24と接続されている。搬送制御部
24は被加工物13の位置状態を見る位置決め検出装置
26からの信号によって、正常状態ならばモータ23を
制御してコンベア25の移動・停止をし、位置ずれ状態
ならば電源開閉スイッチ20を開く動作をする。
The power open / close switch 20 is connected to the transport control unit 24 of the power circuit of the motor 23. The transport control unit 24 controls the motor 23 to move and stop the conveyor 25 in a normal state by a signal from the positioning detection device 26 that monitors the position state of the workpiece 13 if the signal is in a normal state. 20 is opened.

【0021】制御スイッチ21は、液晶マスク15及び
表示部7でパターン情報を表示し、この表示されたとき
の駆動電圧を電圧検出部22で検出しているときのみス
イッチを閉じて、検出していないときは開く。また、電
圧検出部22はモータ23の電源回路の搬送制御部24
に接続している。モータ23は被加工物13を載せたコ
ンベア25を移動させ、位置決め検出装置26を用いて
監視している搬送制御部24の制御例えばオン・オフに
よりコンベア25の移動・停止が行なわれる。搬送制御
部24は電圧検出部22で駆動電圧を検出したときに、
モータ23を被加工物13を載せたコンベア25を位置
決め検出装置26の所定位置まで移動する間動作する。
The control switch 21 displays pattern information on the liquid crystal mask 15 and the display unit 7, and closes the switch only when the drive voltage at the time of display is detected by the voltage detection unit 22 to detect the drive voltage. Open when not available. Further, the voltage detection unit 22 is provided with a conveyance control unit 24 of a power supply circuit of the motor 23.
Connected to The motor 23 moves the conveyer 25 on which the workpiece 13 is placed, and the conveyer 25 is moved / stopped by the control, for example, on / off of the transport control unit 24 which is monitored using the positioning detection device 26. When the transport control unit 24 detects the drive voltage by the voltage detection unit 22,
The motor 23 operates while the conveyor 25 on which the workpiece 13 is placed is moved to a predetermined position of the positioning detection device 26.

【0022】次に、本発明のレーザマーキング装置の作
用について説明する。
Next, the operation of the laser marking device of the present invention will be described.

【0023】レーザ発振器本体1は始動スイッチ3Aを
オンすると表示部7を駆動する。表示部7には、レーザ
マーキング装置本体の動作状態領域7A,ファイル領域
7B,マスクパターン領域7C,印字データ領域7D,
外部設定領域7Eが同時に表示される。
The laser oscillator main body 1 drives the display unit 7 when the start switch 3A is turned on. The display section 7 includes an operation state area 7A, a file area 7B, a mask pattern area 7C, a print data area 7D,
The external setting area 7E is displayed at the same time.

【0024】レーザマーキング装置本体の動作状態領域
7Aはレーザマーキング装置本体の状態例えばレーザ発
振器10の制御部の動作状態を表示する。
The operation state area 7A of the laser marking device main body displays the state of the laser marking device main body, for example, the operation state of the control unit of the laser oscillator 10.

【0025】ファイル領域7Bは、操作制御部2に登録
されている全てのパターン情報のファイル名例えば転写
内容がわかるファイル名を表示する。
The file area 7B displays the file names of all the pattern information registered in the operation control unit 2, for example, the file names whose transfer contents are known.

【0026】マスクパターン領域7Cは、ファイル領域
7Bから選択したパターン情報の内容を表示する。
The mask pattern area 7C displays the contents of the pattern information selected from the file area 7B.

【0027】印字データ領域7Dは、液晶マスク15に
表示するパターン情報と同じ内容を表示する。
The print data area 7D displays the same contents as the pattern information displayed on the liquid crystal mask 15.

【0028】外部設定領域7Eは、操作制御部2から引
き出せるキーボード6からパターン情報の設定を行なう
ことができるファンクションキーの内容を表示する。
The external setting area 7E displays the contents of function keys for setting pattern information from the keyboard 6 which can be pulled out from the operation control section 2.

【0029】これらの表示が終了すると、操作制御部2
に収納されているキーボード6を外部に引き出す。
When these displays are completed, the operation control unit 2
The keyboard 6 housed in the box is pulled out.

【0030】図2,図5,図7で被加工物13に転写す
るパターン情報を液晶マスク15に表示させる手順を説
明する。
The procedure for displaying the pattern information to be transferred to the workpiece 13 on the liquid crystal mask 15 will be described with reference to FIGS.

【0031】外部のパターン情報作成装置で作成された
パターン情報が収納されているフロッピーディスク4を
操作制御部2にセットする。
The floppy disk 4 storing the pattern information created by the external pattern information creating device is set in the operation control section 2.

【0032】外部設定領域7Eの中のF1:マスクパタ
ーン読込みを選択するためキーボード6のファンクショ
ンキーF1を押す。F1キーを押すと図5のような画面
が現われ、外部設定領域7Eの中のF1:マスクパター
ン読込みの表示が反転し、現在どのファンクションキー
を選択したかわかるようになっている。
The function key F1 of the keyboard 6 is pressed to select F1: mask pattern reading in the external setting area 7E. When the F1 key is pressed, a screen as shown in FIG. 5 appears, and the display of F1: mask pattern reading in the external setting area 7E is inverted so that it is possible to know which function key is currently selected.

【0033】このとき、ファイル領域7Bにはフロッピ
ーディスク4に収納されているパターン情報のファイル
名がすべて表示され、キーボード6の矢印キーを使って
登録するパターン情報のファイル名(反転表示部)を選
択する。選択したパターン情報はキーボード6の実行キ
ーを押すことによって、操作制御部2に登録される。図
7のファイル領域7Bに表示されているパターン情報の
内容を表示させる場合はキーボード6の矢印キーを使っ
て表示させるパターン情報のファイル名(反転表示部)
を選択する。選択したパターン情報はキーボード6の実
行キーを押すことによって、マスクパターン領域7Cに
表示される。
At this time, all the file names of the pattern information stored in the floppy disk 4 are displayed in the file area 7B, and the file name of the pattern information to be registered (inverted display section) is registered using the arrow keys of the keyboard 6. select. The selected pattern information is registered in the operation control unit 2 by pressing an execution key on the keyboard 6. When displaying the contents of the pattern information displayed in the file area 7B of FIG. 7, the file name of the pattern information to be displayed using the arrow keys of the keyboard 6 (inverted display section)
Select The selected pattern information is displayed in the mask pattern area 7C by pressing the execution key of the keyboard 6.

【0034】マスクパターン領域7Cに表示されたパタ
ーン情報Aを液晶マスクに表示させる場合は、外部設定
領域7Eの中のF3:印字データセットを選択するため
キーボード6のファンクションキーF3を押す。このと
き、図7に示したようにマスクパターン領域7Cに表示
されたパターン情報が印字データ領域7Dに表示され、
同時に液晶マスク15にも同じパターン情報が表示され
る。
When the pattern information A displayed in the mask pattern area 7C is to be displayed on the liquid crystal mask, the function key F3 of the keyboard 6 is pressed in order to select F3: a print data set in the external setting area 7E. At this time, the pattern information displayed in the mask pattern area 7C is displayed in the print data area 7D as shown in FIG.
At the same time, the same pattern information is displayed on the liquid crystal mask 15.

【0035】この他に、パターン情報を液晶マスク15
に表示させる方法は、図示していないが上位コンピュー
タを用いて行なうことができ、この場合は上位コンピュ
ータと操作制御部2をつないだ状態で外部設定領域7E
の中のF5:オンラインを選択すればよい。
In addition, the pattern information is transferred to the liquid crystal mask 15.
Can be performed by using a host computer (not shown). In this case, the external setting area 7E is connected with the host computer and the operation control unit 2 connected.
F5: Online may be selected.

【0036】また、パターン情報の登録及び内容の確認
は、レーザマーキング装置が現在印字データ領域7Dに
表示されているパターン情報を被加工物13に転写して
いる場合でも作業を中断する事なく行なうことができ
る。このため、次に転写するパターン情報をマスクパタ
ーン領域7Cに表示させておき、即時にパターン情報を
替えることができる。
The registration of the pattern information and the confirmation of the contents are performed without interruption even when the laser marking device is transferring the pattern information currently displayed in the print data area 7D to the workpiece 13. be able to. Therefore, the pattern information to be transferred next is displayed in the mask pattern area 7C, and the pattern information can be changed immediately.

【0037】印字データ領域7Dと液晶マスク15とに
パターン情報Aが表示されると、電圧検出部22は制御
スイッチ21は閉じられ、図4のレーザ励起電源スイッ
チ3Bを作業員がオンすると、アンド回路10Cの出力
はオンする。この状態で、作業者がレーザ照射スイッチ
3Cをオンすると励起ランプ10Bが点灯し、レーザ発
振器10よりレーザ光11Aを出射する。
When the pattern information A is displayed on the print data area 7D and the liquid crystal mask 15, the voltage detection unit 22 closes the control switch 21 and turns on the laser excitation power switch 3B shown in FIG. The output of the circuit 10C turns on. In this state, when the operator turns on the laser irradiation switch 3C, the excitation lamp 10B is turned on, and the laser oscillator 11 emits laser light 11A.

【0038】ここで、レーザ出射モード切換スイッチ3
Dが単発になっているときは一回出射し、連続になって
いるときは連続出射を行なう。外部は、搬送側からの制
御信号により、レーザ照射スイッチ3Cを制御できる。
Here, the laser emission mode changeover switch 3
When D is single-shot, light is emitted once, and when D is continuous, continuous emission is performed. The outside can control the laser irradiation switch 3C by a control signal from the transport side.

【0039】このようにして、レーザ光11Aが液晶マ
スク14を透過してレーザ光11Bに変わって被加工物
13にパターン情報を転写する。
In this way, the laser beam 11A passes through the liquid crystal mask 14 and is transferred to the workpiece 13 instead of the laser beam 11B.

【0040】このような状態で、液晶マスク15の制御
系にノイズが進入したときや、操作制御部2の内部で故
障が生じたことによって、液晶マスク15及び印字デー
タ領域7Dにパターン情報Aが表示されなくなった場
合、電圧検出部22では表示されたときの駆動電圧が検
出されなくなる。このとき、制御スイッチ21は開き、
アンド回路10Cの出力がオフになるので、レーザ発振
器10は出射することができなくなる。このため被加工
物13には、レーザ光11Bが照射されないので誤転写
を防ぐことができる。尚、電圧検出器を使用しない時に
は、作業員が制御スイッチを操作して行なう。
In this state, when noise enters the control system of the liquid crystal mask 15 or a failure occurs in the operation control unit 2, the pattern information A is stored in the liquid crystal mask 15 and the print data area 7D. When the display is stopped, the voltage detection unit 22 does not detect the drive voltage at the time of the display. At this time, the control switch 21 opens,
Since the output of the AND circuit 10C is turned off, the laser oscillator 10 cannot emit light. Therefore, the workpiece 13 is not irradiated with the laser beam 11B, so that erroneous transfer can be prevented. When the voltage detector is not used, the operator operates the control switch.

【0041】このとき、搬送スイッチ24も動作しない
ので、モータ23は動かず、被加工物13が移動しない
ので無駄な移動が防げる。
At this time, since the transport switch 24 does not operate, the motor 23 does not move and the workpiece 13 does not move, so that useless movement can be prevented.

【0042】[0042]

【発明の効果】このような本発明によれば、操作制御部
に取り付けた表示部に各領域を設けたことにより、レー
ザマーキングの工程が表示されるので進行状況がわか
り、作業員が安心して作業できる。
According to the present invention, by providing each area on the display unit attached to the operation control unit, the process of laser marking is displayed, so that the progress can be understood and the operator can feel safe. Can work.

【0043】また、表示部の印字データ領域にパターン
情報が表示されていないときは、液晶マスクにもパター
ン情報が表示されていないので、レーザ発振器からレー
ザ光が出射されず、被加工物の無駄を防ぐことができる
ようになった。
When the pattern information is not displayed in the print data area of the display section, the pattern information is not displayed on the liquid crystal mask, so that the laser beam is not emitted from the laser oscillator, and the workpiece is wasted. Can now be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の図2に示すレーザマーキング装置本体
の内部を説明する構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating the inside of a laser marking device main body shown in FIG. 2 of the present invention.

【図2】本発明のレーザマーキング装置本体の全体を示
す外観斜視図。
FIG. 2 is an external perspective view showing the entire laser marking device main body of the present invention.

【図3】本発明の図1を上方から視た時の平面図。FIG. 3 is a plan view when FIG. 1 of the present invention is viewed from above.

【図4】本発明の図1の表示部に示した制御操作部の正
面図。
FIG. 4 is a front view of a control operation unit shown in the display unit of FIG. 1 of the present invention.

【図5】本発明の図1の表示部の詳細説明図。FIG. 5 is a detailed explanatory view of a display unit of FIG. 1 of the present invention.

【図6】本発明の図1のキーボードを示す斜視図。FIG. 6 is a perspective view showing the keyboard of FIG. 1 of the present invention.

【図7】本発明の図1の表示部の詳細説明図。FIG. 7 is a detailed explanatory diagram of the display unit of FIG. 1 of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…制御操作部、7…表示部、10…レーザ発振器、1
1,11A,11B…レーザ光、B…被加工物、15…
液晶マスク、21…制御スイッチ。
2 ... Control operation unit, 7 ... Display unit, 10 ... Laser oscillator, 1
1, 11A, 11B: laser beam, B: workpiece, 15:
Liquid crystal mask, 21 ... Control switch.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑原 皓二 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株式会社 日立製作所 日立研究所内 (56)参考文献 特開 昭56−38888(JP,A) 特開 平5−309482(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B23K 26/00 B23K 26/06──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Koji Kuwahara 7-1-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Within Hitachi Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (56) References JP-A-56-38888 (JP, A) JP-A-5-309482 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B23K 26/00 B23K 26/06

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】レーザ発振器からのレーザ光を液晶マスク
に照射し、液晶マスクに表示されたパターン情報を有す
るレーザ光を被加工物に照射し、被加工物にパターン情
報を転写し、レーザ発振器と液晶マスクとの間に表示部
を電気的に接続し、表示部にパターン情報を表示した時
にレーザ発振器よりレーザ光を出射するスイッチを設け
たレーザ加工装置であって、該表示部と液晶マスクのパ
ターン情報信号用の駆動電圧を検出すると、該スイッチ
を動作させる電圧検出部を設けたことを特徴とするレー
ザ加工装置。
A laser beam from a laser oscillator is applied to a liquid crystal mask, a laser beam having pattern information displayed on the liquid crystal mask is applied to a workpiece, and the pattern information is transferred to the workpiece. The display is electrically connected between the LCD and the liquid crystal mask, and a switch is provided to emit laser light from the laser oscillator when pattern information is displayed on the display.
Laser processing apparatus, wherein the display unit and the liquid crystal mask are separated.
When the drive voltage for the turn information signal is detected, the switch
A laser processing apparatus comprising a voltage detecting unit for operating the laser processing device.
【請求項2】レーザ発振器からのレーザ光を液晶マスク
に照射し、液晶マスクに表示されたパターン情報を有す
るレーザ光を被加工物に照射し、被加工物にパターン情
報を転写し、レーザ発振器と液晶マスクとの間に表示部
を電気的に接続し、表示部にパターン情報を表示した時
にレーザ発振器よりレーザ光を出射するスイッチを設け
たレーザ加工装置であって、搬送部により搬送された該
被加工物が所定の位置決め検出装置の所定の位置に来て
いるか否かによって、搬送部の移動と該スイッチの動作
を制御する制御部を設けたレーザ加工装置。
2. A laser beam from a laser oscillator is applied to a liquid crystal mask, a laser beam having pattern information displayed on the liquid crystal mask is applied to a workpiece, and the pattern information is transferred to the workpiece. The display is electrically connected between the LCD and the liquid crystal mask, and a switch is provided to emit laser light from the laser oscillator when pattern information is displayed on the display.
Laser processing device, wherein the
When the workpiece comes to the specified position of the specified position detection device
The movement of the transport unit and the operation of the switch depending on whether or not
Laser processing device provided with a control unit for controlling the laser processing.
【請求項3】請求項1に記載の前記被加工物を搬送する
搬送部の位置決め検出装置が被加工物を停止させる所定
の位置からのずれを検出した場合、レーザ励起電源回路
内のスイッチを停止させる搬送スイッチを設けたことを
特徴とするレーザ加工装置。
3. Conveying the workpiece according to claim 1.
Predetermined stop of work piece by positioning detection device of transport unit
When the deviation from the position is detected, the laser excitation power supply circuit
A laser processing apparatus provided with a transport switch for stopping a switch inside the laser processing apparatus.
【請求項4】請求項1に記載の前記表示部にはマスクパ
ターン領域と印字データ領域とを設けたことを特徴とす
るレーザ加工装置。
4. The display unit according to claim 1, wherein the display unit has a mask panel.
A laser processing apparatus having a turn area and a print data area .
【請求項5】請求項1に記載の前記表示部にはレーザ加
工装置の動作状態を示す動作状態領域と外部設定条件を
示す外部設定領域とを設けたことを特徴とするレーザ加
工装置。
5. The laser display according to claim 1, wherein
The operation state area indicating the operation state of the
A laser processing apparatus provided with an external setting area shown in FIG.
【請求項6】レーザ発振器からのレーザ光を液晶マスク
に照射し、液晶マスクに表示されたパターン情報を有す
るレーザ光を被加工物に照射し、被加工物にパターン情
報を転写するレーザ光路を有し、該レーザ光路はレーザ
発振器側面を透過し、被加工物にレーザ光を照射する
とを特徴とするレーザ加工装置。
6. A liquid crystal mask using laser light from a laser oscillator.
And has the pattern information displayed on the liquid crystal mask.
The workpiece is irradiated with a laser beam
A laser beam path for transferring information, said laser beam path being a laser beam path.
Passes through the oscillator side, a laser processing device comprising a this <br/> irradiating a laser beam to the workpiece.
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