JP2787704B2 - Novel pyridonecarboxylic acid derivatives and salts thereof - Google Patents

Novel pyridonecarboxylic acid derivatives and salts thereof

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JP2787704B2 JP1108431A JP10843189A JP2787704B2 JP 2787704 B2 JP2787704 B2 JP 2787704B2 JP 1108431 A JP1108431 A JP 1108431A JP 10843189 A JP10843189 A JP 10843189A JP 2787704 B2 JP2787704 B2 JP 2787704B2
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    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、一般式 「式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保護基を;R
2は、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保護さ
れていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよい
アミノ基、保護されていてもよい低級アルキルアミノ基
またはジ−低級アルキルアミノ基を;R3は、水素原子、
低級アルキル基、保護されていてもよいアミノ基、保護
されていてもよい低級アルキルアミノ基、ジ−低級アル
キルアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、
保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、保護され
ていてもよい低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ−
低級アルキルアミノ低級アルキル基および保護されてい
てもよいヒドロキシ低級アルキル基から選ばれる1つ以
上の基を;Aは、酸素原子、硫黄原子または低級アルキル
基で置換されていてもよいイミノ基を;およびXは、ハ
ロゲン原子を示す。」 で表わされるピリドンカルボン酸誘導体およびその塩に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] Wherein R 1 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group;
2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, an optionally protected hydroxyl group, an optionally protected amino group, an optionally protected lower alkylamino group or a di-lower alkylamino group; 3 is a hydrogen atom,
Lower alkyl group, optionally protected amino group, optionally protected lower alkylamino group, di-lower alkylamino group, optionally protected carboxyl group,
An optionally protected amino lower alkyl group, an optionally protected lower alkylamino lower alkyl group, di-
One or more groups selected from a lower alkylamino lower alkyl group and an optionally protected hydroxy lower alkyl group; A represents an imino group optionally substituted with an oxygen atom, a sulfur atom or a lower alkyl group; And X represent a halogen atom. And a salt thereof.

本発明の目的は、グラム陽性菌およびグラム陰性菌、
とりわけ抗生物質耐性菌に対して強力な抗菌作用を発揮
する一般式[I]で表わされる新規な化合物およびその
塩を提供することにある。
An object of the present invention is to provide Gram-positive and Gram-negative bacteria,
In particular, it is an object of the present invention to provide a novel compound represented by the general formula [I] and a salt thereof, which exert a strong antibacterial action against antibiotic-resistant bacteria.

[従来の技術] 従来、ピリドベンゾオキサジン系合成抗菌剤としてオ
フロキサシンが広く臨床で用いられているが、抗菌力に
おいていまだ不十分な面が見られる。
[Related Art] Ofloxacin has been widely used clinically as a pyridobenzoxazine-based synthetic antibacterial agent, but its antibacterial activity is still insufficient.

[発明が解決しようとする課題] そのため、グラム陰性菌のみならずグラム陽性菌に対
しても有効で広範囲の抗菌スペクトルを有する合成抗菌
剤の開発が望まれていた。
[Problems to be Solved by the Invention] Therefore, it has been desired to develop a synthetic antibacterial agent which is effective not only against gram-negative bacteria but also against gram-positive bacteria and has a wide antibacterial spectrum.

[課題を解決するための手段] このような状況下において、本発明者らは鋭意研究を
行った結果、一般式[I]のピリドンカルボン酸誘導体
およびその塩が、上記の目的を達成することを見出し、
本発明を完成するに至った。
[Means for Solving the Problems] Under such circumstances, the present inventors have conducted intensive studies and have found that the pyridonecarboxylic acid derivative of the general formula [I] and a salt thereof achieve the above object. Heading,
The present invention has been completed.

なお、本明細書において特にことわらないかぎり、ハ
ロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子また
はヨウ素原子を;アルキル基とは、たとえば、メチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘ
キシルまたはオクチルなどのC1〜10アルキル基を;低
級アルキル基とは、たとえば、上記したアルキル基のう
ちC1〜5アルキル基を;アルコキシ基とは、たとえ
ば、−O−アルキル基(アルキル基は、上記したC
1〜10アルキル基を示す。)を;低級アルキルアミノ基
とは、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノまたはプ
ロピルアミノなどのC1〜5アルキルアミノ基を;ジ−
低級アルキルアミノ基とは、たとえば、ジメチルアミノ
などのジ−C1〜5アルキルアミノ基を;アミノ低級ア
ルキル基とは、たとえば、アミノメチル、アミノエチル
またはアミノプロピルなどのアミノ−C1〜5アルキル
基を;低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、たとえ
ば、メチルアミノメチル、メチルアミノエチル、エチル
アミノメチル、メチルアミノプロピルまたはプロピルア
ミノエチルなどのC1〜5アルキルアミノ−C1〜5
ルキル基を;ジ−低級アルキルアミノ低級アルキル基と
は、たとえば、ジメチルアミノメチル、ジエチルアミノ
メチル、ジエチルアミノエチルまたはジメチルアミノプ
ロピルなどのジ−C1〜5アルキルアミノ−C1〜5
ルキル基を;ヒドロキシ低級アルキル基とは、たとえ
ば、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチルまたはヒドロ
キシプロピルなどのヒドロキシ−C1〜5アルキル基を
それぞれ意味する。
In the present specification, unless otherwise specified, a halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; an alkyl group is, for example, methyl,
Ethyl, n- propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec- butyl, tert- butyl, pentyl, C 1 to 10 alkyl group such as hexyl or octyl; a lower alkyl group, for example, alkyl groups as described above Of these, a C 1-5 alkyl group; an alkoxy group is, for example, an —O-alkyl group (the alkyl group is
Shows a 1-10 alkyl group. Lower alkylamino group means, for example, a C1-5 alkylamino group such as methylamino, ethylamino or propylamino;
A lower alkylamino group is, for example, a di- C1-5 alkylamino group such as dimethylamino; an amino-lower alkyl group is, for example, amino- C1-5 alkyl such as aminomethyl, aminoethyl or aminopropyl. group; and lower alkylamino-lower alkyl group, for example, methylaminomethyl, methylaminoethyl, ethylaminomethyl, a C 1 to 5 alkyl amino -C 1 to 5 alkyl groups such as methyl aminopropyl or propyl aminoethyl; di - lower alkyl amino lower alkyl group, for example, dimethylaminomethyl, diethylaminomethyl, di -C 1 to 5 alkylamino -C 1 to 5 alkyl group such as diethylaminoethyl or dimethylaminopropyl; and hydroxy lower alkyl group Is, for example, hydroxy Chill means respectively hydroxyalkyl -C 1 to 5 alkyl groups, such as hydroxyethyl or hydroxypropyl.

以下に、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

カルボキシル保護基としては、たとえば、接触還元、
化学的還元もしくはその他の緩和な条件で処理すること
により脱離するエステル形成基;生体内において容易に
脱離するエステル形成基;または水もしくはアルコール
で処理することにより容易に脱離する有機シリル、有機
リンもしくは有機スズ基などの特開昭59−80665号に記
載された通常のカルボキシル保護基などが挙げられる。
Carboxyl protecting groups include, for example, catalytic reduction,
An ester-forming group which is eliminated by chemical reduction or other mild treatment; an ester-forming group which is easily eliminated in vivo; or an organic silyl which is easily eliminated by treatment with water or alcohol; Examples thereof include ordinary carboxyl protecting groups described in JP-A-59-80665, such as organic phosphorus or organic tin groups.

アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ低級アルキ
ル基および低級アルキルアミノ低級アルキル基の保護基
としては、通常当該分野で使用される保護基が挙げら
れ、たとえば、ホルミル、アセチル、ベンジルおよび特
開昭59−80665号に記載された通常のアミノ保護基など
が挙げられる。
Examples of the protecting group for the amino group, lower alkylamino group, amino lower alkyl group and lower alkylamino lower alkyl group include protecting groups usually used in the art, such as formyl, acetyl, benzyl and And ordinary amino protecting groups described in JP-80665.

ヒドロキシル基およびヒドロキシ低級アルキル基の保
護基としては、通常当該分野で使用される保護基が挙げ
られ、たとえば、水またはアルコールで処理することに
より容易に脱離する有機シリル基並びにホルミル、アセ
チルおよびベンジルなどの特開昭59−80665号に記載さ
れた通常のヒドロキシル保護基などが挙げられる。
Examples of the protecting group for the hydroxyl group and the hydroxy lower alkyl group include protecting groups usually used in the art, for example, an organic silyl group which is easily eliminated by treatment with water or an alcohol, and formyl, acetyl and benzyl. And ordinary hydroxyl protecting groups described in JP-A-59-80665.

一般式[I]のピリドンカルボン酸誘導体の塩として
は、通常知られているアミノ基などの塩基性基またはヒ
ドロキシルもしくはカルボキシル基などの酸性基におけ
る塩を挙げることができる。
Examples of the salt of the pyridonecarboxylic acid derivative of the general formula [I] include a salt of a generally known basic group such as an amino group or an acidic group such as a hydroxyl or carboxyl group.

塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、臭化
水素酸もしくは硫酸などの鉱酸との塩;酒石酸、ギ酸、
クエン酸、トリクロロ酢酸もしくはトリフルオロ酢酸な
どの有機カルボン酸との塩;またはメタンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、メシチ
レンスルホン酸もしくはナフタレンスルホン酸などのス
ルホン酸との塩を、また、酸性基における塩としては、
たとえば、ナトリウムもしくはカリウムなどのアルカリ
金属との塩;カルシウムもしくはマグネシウムなどのア
ルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;またはトリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピ
リジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピペリジ
ン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、N−
ベンジル−β−フェネチルアミン、1−エフェナミンも
しくはN,N′−ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒
素有機塩基との塩などを挙げることができる。
Salts in basic groups include, for example, salts with mineral acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid or sulfuric acid; tartaric acid, formic acid,
Salts with organic carboxylic acids such as citric acid, trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid; or methanesulfonic acid,
Benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, a salt with a sulfonic acid such as mesitylenesulfonic acid or naphthalenesulfonic acid, and a salt in the acidic group,
For example, salts with alkali metals such as sodium or potassium; salts with alkaline earth metals such as calcium or magnesium; ammonium salts; or trimethylamine, triethylamine, tributylamine, pyridine, N, N-dimethylaniline, N-methylpiperidine , N-methylmorpholine, diethylamine, dicyclohexylamine, procaine, dibenzylamine, N-
Examples thereof include salts with a nitrogen-containing organic base such as benzyl-β-phenethylamine, 1-ephenamine or N, N′-dibenzylethylenediamine.

また、一般式[I]のピリドンカルボン酸誘導体およ
びその塩において、異性体(たとえば、光学異性体、幾
何異性体、互変異性体など)が存在する場合、本発明
は、それらすべての異性体を包含し、また、溶媒和物、
水和物およびすべての結晶形を包含するものである。
When isomers (for example, optical isomers, geometric isomers, tautomers, and the like) are present in the pyridonecarboxylic acid derivative of the general formula [I] and salts thereof, the present invention relates to all of the isomers And also a solvate,
It includes hydrates and all crystal forms.

つぎに、一般式[I]のピリドンカルボン誘導体およ
びその塩の製造法について説明する。
Next, a method for producing the pyridonecarboxylic derivative of the general formula [I] and a salt thereof will be described.

一般式[I]のピリドンカルボン酸誘導体およびその
塩は、自体公知の方法を組み合わせることによって得る
ことができるが、たとえば、以下に示す製造ルートにし
たがって製造することができる。
The pyridonecarboxylic acid derivative of the general formula [I] and a salt thereof can be obtained by combining methods known per se. For example, they can be produced according to the following production route.

「式中、R1、R3、AおよびXは、前記したと同様の意味
を有し;R2aは、水素原子またはR2と同様のハロゲン原子
を;R2bは、R2と同様のアルコキシまたは保護されていて
もよいヒドロキシル基を;R2cは、R2と同様の保護されて
いてもよいアミノ基、保護されていてもよい低級アルキ
ルアミノ基またはジ−低級アルキルアミノ基を;R4は、
水素原子または保護基を示す。」 R4における保護基としては、ヒドロキシル保護基もし
くはアミノ保護基またはザ・ケミストリー・オブ・ザ・
チオール・グループ パード2 ソウル パタイ編;ジ
ョン・ウイリ・アンド・サンズ(The Chemistry of the
thiol group part2 Edited by Saul Patai;JOHN WILEY
& SONS)第669頁に記載されているチオール保護基が
挙げられる。
Wherein R 1 , R 3 , A and X have the same meanings as described above; R 2a represents a hydrogen atom or a halogen atom similar to R 2 ; R 2b represents the same as R 2 alkoxy or optionally protected hydroxyl group; R 2c is similar optionally protected amino group and R 2, which may be protected lower alkylamino group or a di - lower alkylamino group; R 4 is
Shows a hydrogen atom or a protecting group. The protecting group in "R 4, a hydroxyl protecting group or amino protecting group, or The Chemistry Of The
Chiol Group Pad 2 Soul Patai Edition; John Willi and Sons (The Chemistry of the
thiol group part2 Edited by Saul Patai; JOHN WILEY
& SONS) at page 669.

一般式[I a]、[I b]、[I c]、[II]、[III]
および[IV]の化合物の塩としては、一般式[I]の化
合物の塩で説明したと同様の塩が挙げられる。
General formulas [Ia], [Ib], [Ic], [II], [III]
And salts of the compound of [IV] include the same salts as described for the salts of the compound of general formula [I].

(1) 一般式[I a]の化合物またはその塩は、一般
式[II]の化合物またはその塩を、フッ化塩もしくは塩
基の存在下または不存在下に閉環反応に付すことによっ
て得ることができる。
(1) The compound of the general formula [Ia] or a salt thereof can be obtained by subjecting the compound of the general formula [II] or a salt thereof to a ring closure reaction in the presence or absence of a fluoride salt or a base. it can.

この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を
およぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえ
ば、N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルア
セトアミドなどのアミド類;ジオキサン、アニソール、
ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジメチル
セロソルブなどのエーテル類;メタノールおよびエタノ
ールなどのアルコール類;並びにジメチルスルホキシド
などのスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を
一種または二種以上混合して使用してもよい。
The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction. For example, amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; dioxane, anisole ,
Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether and dimethyl cellosolve; alcohols such as methanol and ethanol; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

この反応で必要に応じて用いられるフッ化塩として
は、たとえば、フッ化ナトリウムまたはフッ化カリウム
などが挙げられ、必要に応じて用いられる塩基として
は、たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム
tert−ブトキシドまたは水素化ナトリウムなどが挙げら
れ、それらの使用量は、一般式[II]の化合物またはそ
の塩に対して、それぞれ、等モル以上、好ましくは、1.
0〜2.5倍モルである。
Examples of the fluoride used as necessary in this reaction include sodium fluoride and potassium fluoride. Examples of the base used as needed include sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, and sodium methoxy. , Sodium ethoxide, potassium
Examples thereof include tert-butoxide and sodium hydride, and the amount of each used is at least equimolar to the compound of the general formula [II] or a salt thereof, preferably 1.
0 to 2.5 times mol.

この反応は、通常、0〜180℃で、5分〜30時間実施
すればよい。
This reaction may be usually performed at 0 to 180 ° C. for 5 minutes to 30 hours.

(2) 一般式[I b]の化合物またはその塩は、塩基
の存在下または不存在下、R2aがハロゲン原子である一
般式[I a]の化合物またはその塩に、一般式[III]の
アルコール類またはその塩を反応させることによって得
ることができる。
(2) The compound of the general formula [Ib] or a salt thereof, in the presence or absence of a base, can be prepared by adding the compound of the general formula [Ia] or a salt thereof, wherein R 2a is a halogen atom, By reacting an alcohol or a salt thereof.

この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を
およぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえ
ば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭
化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフランおよびジエ
チルエーテルなどのエーテル類;塩化メチレン、クロロ
ホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類;アセトニトリルなどのニトリル類;並びにN,N−ジ
メチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミド
などのアミド類などが挙げられ、また、これらの溶媒を
一種または二種以上混合して使用してもよい。
The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and examples thereof include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dioxane, tetrahydrofuran and diethyl ether. Ethers; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane; nitriles such as acetonitrile; and amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide. One or a mixture of two or more solvents may be used.

また、この反応で必要に応じて用いられる塩基として
は、たとえば、ナトリウム、カリウム、カリウムtert−
ブトキシドまたは水素化ナトリウムなどが挙げられる。
Further, as the base used as necessary in this reaction, for example, sodium, potassium, potassium tert-
Butoxide or sodium hydride.

一般式[III]のアルコール類またはその塩および必
要に応じて用いられる塩基の使用量は、R2aがハロゲン
原子である一般式[I a]の化合物またはその塩に対し
て、それぞれ等モル以上である。
The amount of the alcohol of the general formula [III] or a salt thereof and the base to be used if necessary is at least equimolar to the compound of the general formula [Ia] or a salt thereof, wherein R 2a is a halogen atom. It is.

この反応は、通常、0〜150℃で、10分〜20時間実施
すればよい。
This reaction may be usually performed at 0 to 150 ° C. for 10 minutes to 20 hours.

(3) 一般式[I c]の化合物またはその塩は、塩基
の存在下または不存在下、R2aがハロゲン原子である一
般式[I a]の化合物またはその塩に一般式[IV]のア
ミン類またはその塩を反応させることによって得ること
ができる。
(3) The compound of the general formula [Ic] or a salt thereof can be prepared by adding a compound of the general formula [Ia] or a salt thereof, wherein R 2a is a halogen atom, in the presence or absence of a base. It can be obtained by reacting an amine or a salt thereof.

この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響お
よぼさないものであれば特に限定されないが、たとえ
ば、前述の(2)で挙げたと同様の溶媒が挙げられる。
The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and examples thereof include the same solvents as those described in the above (2).

また、この反応で必要に応じて用いられる塩基として
は、たとえば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]ウンデク−
7−エン(DBU)、ピリジン、カリウムtert−ブトキシ
ド、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムまたは水素化ナトリ
ウムなどの有機または無機塩基が挙げられる。
Bases used as necessary in this reaction include, for example, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] undec-
Organic or inorganic bases such as 7-ene (DBU), pyridine, potassium tert-butoxide, potassium carbonate, sodium carbonate or sodium hydride.

一般式[IV]のアミン類またはその塩の使用量は、R
2aがハロゲン原子である一般式[I a]の化合物または
その塩に対して、好ましくは、2〜10倍モルであるが、
塩基を適宜使用することによって一般式[IV]のアミン
類またはその塩の使用量を減らすことができる。
The amount of the amines represented by the general formula [IV] or a salt thereof is represented by R
The compound of the general formula [Ia] or a salt thereof, wherein 2a is a halogen atom, is preferably 2 to 10 moles,
By appropriately using a base, the amount of the amines represented by the general formula [IV] or a salt thereof can be reduced.

この反応は、通常、0〜150℃、好ましくは、15〜100
℃で、5分〜30時間実施すればよい。
This reaction is usually carried out at 0 to 150 ° C., preferably 15 to 100 ° C.
C. for 5 minutes to 30 hours.

また、一般式[I]の化合物またはその塩を、たとえ
ば、酸化、還元、転位、置換、ハロゲン化および加水分
解などの自体公知の反応に付すことによって、またはそ
れらを適宜組み合わせることによって、他の一般式
[I]の化合物またはその塩に変換することができる。
Alternatively, the compound of the general formula [I] or a salt thereof is subjected to a reaction known per se such as, for example, oxidation, reduction, rearrangement, substitution, halogenation and hydrolysis, or by appropriately combining them to obtain another compound. It can be converted to a compound of the general formula [I] or a salt thereof.

上で述べた製造法における[II]の化合物において、
異性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体、互変異性
体など)が存在する場合、これらすべての異性体を使用
することができ、また、溶媒和物、水和物およびすべて
の結晶形を使用することができる。
In the compound of [II] in the above-mentioned production method,
When isomers exist (eg, optical isomers, geometric isomers, tautomers, and the like), all of these isomers can be used, and solvates, hydrates, and all crystalline forms Can be used.

一般式[II]、[III]および[IV]の化合物におい
て、アミノ基、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を
有する化合物は、あらかじめこれらの基を通常の保護基
で保護しておき、反応後、必要に応じて自体公知の方法
でこれらの保護基を脱離することもできる。
In the compounds of the general formulas [II], [III] and [IV], compounds having an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group may be protected beforehand by protecting these groups with a usual protecting group. Accordingly, these protecting groups can be eliminated by a method known per se.

このようにして得られた一般式[I]の化合物または
その塩は、抽出、晶出、カラムクロマトグラフィーなど
の常法にしたがって単離精製することができる。
The compound of the general formula [I] or a salt thereof thus obtained can be isolated and purified according to a conventional method such as extraction, crystallization, and column chromatography.

本発明化合物を製造するための原料である一般式[I
I]の化合物またはその塩は、新規化合物であり、自体
公知の方法を組み合わせることによって得ることができ
るが、たとえば、つぎに示す製造ルートにしたがって製
造することができる。
The general formula [I] which is a raw material for producing the compound of the present invention
The compound [I] or a salt thereof is a novel compound and can be obtained by combining methods known per se. For example, it can be produced according to the following production route.

「式中、R1、R2a、R4、AおよびXは、前記したと同様
の意味を有し;R1aおよびR1bは、R1と同様のカルボキシ
ル保護基を;R3aは、水素原子またはR3と同様の保護され
ていてもよいアミノ基、保護されていてもよい低級アル
キルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、保護されて
いてもよいアミノ低級アルキル基、保護されていてもよ
い低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ−低級アルキ
ルアミノ低級アルキル基および保護されていてもよいヒ
ドロキシ低級アルキル基から選ばれる1つ以上の基を;R
3bは、R3と同様の低級アルキル基を;R3cは、水素原子ま
たはR3と同様の低級アルキル基を示す。」 一般式[VI]、[VII]または[II c]の化合物もし
くはそれらの塩において、2つのR1bは同一または異な
っていてもよい。
Wherein R 1 , R 2a , R 4 , A and X have the same meanings as described above; R 1a and R 1b have the same carboxyl protecting group as R 1 ; R 3a has hydrogen atoms or R 3 the same optionally protected amino group, unprotected or protected lower alkylamino group, di - lower alkylamino group, a protected or unprotected amino-lower alkyl group, which may be protected One or more groups selected from good lower alkylamino lower alkyl groups, di-lower alkylamino lower alkyl groups and optionally protected hydroxy lower alkyl groups;
3b is a lower alkyl group similar to R 3; R 3c shows the same lower alkyl group and a hydrogen atom or R 3. In the compounds of the general formulas [VI], [VII] or [IIc] or salts thereof, two R 1b may be the same or different.

一般式[V]、[VII]、[VIII]、[IX]、
[X]、[XI]、[XII]、[II a]、[II b]、[II
c]、[II d]および[II e]の化合物の塩としては、
一般式[I]の化合物の塩で説明したと同様の塩が挙げ
られる。
Formulas [V], [VII], [VIII], [IX],
[X], [XI], [XII], [IIa], [IIb], [II
c], [II d] and the salt of the compound of [II e]
Salts similar to those described for the salt of the compound of the general formula [I] can be mentioned.

また、一般式[VI]および[VIII]の化合物の活性メ
チレンの塩としては、たとえば、ナトリウム、カリウム
またはリチウムなどのアルカリ金属との塩が挙げられ
る。
Examples of the salt of active methylene of the compounds of the general formulas [VI] and [VIII] include salts with an alkali metal such as sodium, potassium or lithium.

ついで、一般式[II]の化合物またはその塩の製造法
を前述の製造ルートにしたがってさらに詳細に説明す
る。
Next, a method for producing the compound of the general formula [II] or a salt thereof will be described in more detail according to the aforementioned production route.

一般式[V]の化合物またはその塩は、特開昭58−10
3393号に記載された方法によって得ることができる。
The compound of the general formula [V] or a salt thereof is disclosed in JP-A-58-10
It can be obtained by the method described in No. 3393.

一般式[V]の化合物またはその塩を、米国特許第3,
590,036号に記載の方法に準じて、一般式[VI]の化合
物またはその塩と反応させることによって、一般式[VI
I]の化合物またはその塩に誘導し、これを通常の方法
によって、脱保護および脱炭酸反応を行い、ついで、カ
ルボキシル保護基を導入することによって、一般式[VI
II]の化合物またはその塩に誘導することができる。
The compound of the general formula [V] or a salt thereof is prepared according to US Pat.
The compound of the general formula [VI] can be reacted with the compound of the general formula [VI] or a salt thereof according to the method described in 590,036.
I] or a salt thereof, which is subjected to deprotection and decarboxylation by a conventional method, followed by introduction of a carboxyl-protecting group, thereby obtaining a compound of the general formula [VI]
II] or a salt thereof.

一般式[VIII]の化合物をケーミシェ・ベリヒテ(Ch
em.Ber.)第99巻、第2407頁(1966年)に記載の方法に
準じて、一般式[IX]の化合物またはその塩に誘導する
ことができる。
The compound of the general formula [VIII] is converted to Chemiché Berichte (Ch
em. Ber.) Vol. 99, p. 2407 (1966), and can be derived into a compound of the general formula [IX] or a salt thereof.

さらに、一般式[IX]の化合物またはその塩を、ジア
ゾアルカンと反応させることによって、一般式[X]の
化合物またはその塩に誘導することができる。
Furthermore, the compound of the general formula [IX] or a salt thereof can be derived by reacting the compound of the general formula [IX] or a salt thereof with a diazoalkane.

また、一般式[XI]の化合物またはその塩は、通常の
方法によって、一般式[IX]の化合物もしくはその塩ま
たは一般式[X]の化合物もしくはその塩を水素化ナト
リウムなどの塩基存在下に、ヨウ化トリメチルスルホキ
ソニウムと反応させることによって得ることができる。
Further, the compound of the general formula [XI] or a salt thereof can be prepared by a conventional method by converting the compound of the general formula [IX] or a salt thereof or the compound of the general formula [X] or a salt thereof in the presence of a base such as sodium hydride. And trimethylsulfoxonium iodide.

一般式[II a]の化合物またはその塩は、一般式[X
I]の化合物またはその塩を、脱保護、還元、アミノ
化、クルチウム(Curtius)反応もしくはアルキル化な
どの自体公知の反応に付すことによって、またはこれら
の反応を適宜組み合わせることによって得ることができ
る。
The compound of the general formula [IIa] or a salt thereof has the general formula [X
Compound [I] or a salt thereof can be obtained by subjecting the compound to a known reaction such as deprotection, reduction, amination, Curtius reaction or alkylation, or by appropriately combining these reactions.

一般式[II b]の化合物またはその塩は、一般式[I
X]の化合物またはその塩を、通常の方法により、脱保
護および脱炭酸反応に付すことによって、一般式[XI
I]の化合物またはその塩に誘導し、ついで、これをジ
アゾアルカンと1,3−双極子付加反応を行い、さらに加
熱脱窒素反応させることによって得ることができる。
The compound of the general formula [IIb] or a salt thereof has the general formula [I
X] or a salt thereof by subjecting the compound of the general formula [XI] to deprotection and decarboxylation by a conventional method.
I] or a salt thereof, which is then subjected to a 1,3-dipole addition reaction with a diazoalkane, followed by a thermal denitrification reaction.

また、別法として一般式[II b]の化合物またはその
塩は、一般式[XI]の化合物またはその塩を通常の脱保
護および脱炭酸反応に付しても得ることができる。
Alternatively, the compound of the general formula [IIb] or a salt thereof can be obtained by subjecting the compound of the general formula [XI] or a salt thereof to a usual deprotection and decarboxylation reaction.

一般式[II c]の化合物またはその塩は、一般式[XI
I]の化合物またはその塩を、臭素化または塩素化反応
に付した後、たとえば、DBUなどの塩基を作用させ、つ
いで、一般式[VI]の化合物またはその塩を反応させる
ことによって得ることができる。
The compound of the general formula [IIc] or a salt thereof is represented by the general formula [XI:
After subjecting the compound of the formula I] or a salt thereof to a bromination or chlorination reaction, for example, a base such as DBU is allowed to act thereon, and then the compound of the general formula [VI] or a salt thereof is reacted. it can.

一般式[II d]の化合物またはその塩は、一般式[II
c]の化合物またはその塩を通常の脱保護反応および脱
炭酸反応に付し、さらに、カルボキシル保護基を導入す
ることによって得ることができる。
The compound of the general formula [II d] or a salt thereof has the general formula [II d
Compound [c] or a salt thereof is subjected to a conventional deprotection reaction and decarboxylation reaction, and further, a carboxyl protecting group is introduced.

さらに、一般式[II d]の化合物またはその塩を、脱
保護、還元、アミノ化、クルチウス反応もしくはアルキ
ル化などの自体公知の反応に付すことによって、または
これらの反応を適宜組み合わせることによって、一般式
[II e]の化合物またはその塩を得ることができる。
Further, by subjecting the compound of the general formula [II d] or a salt thereof to a reaction known per se such as deprotection, reduction, amination, Curtius reaction or alkylation, or by appropriately combining these reactions, A compound of the formula [IIe] or a salt thereof can be obtained.

上で述べた製造法における一般式[V]、[VII]、
[VIII]、[IX]、[X]、[XI]および[XII]の化
合物において、異性体(たとえば、光学異性体、幾何異
性体、互変異性体など)が存在する場合、これらすべて
の異性体を使用することができ、また、溶媒和物、水和
物およびすべての結晶形を使用することができる。
The general formulas [V], [VII],
In the compounds of [VIII], [IX], [X], [XI] and [XII], when isomers (for example, optical isomers, geometric isomers, tautomers and the like) are present, all of these areomers are used. Isomers can be used, and solvates, hydrates and all crystalline forms can be used.

さらに、一般式[V]、[VII]、[VIII]、[I
X]、[X]、[XI]、[XII]、[II c]および[II
d]の化合物において、アミノ基、ヒドロキシル基また
はカルボキシル基を有する化合物は、あらかじめこれら
の基を通常の保護基で保護しておき、反応後、必要に応
じて自体公知の方法でこれらの保護基を脱離することも
できる。
Further, general formulas [V], [VII], [VIII], [I
X], [X], [XI], [XII], [IIc] and [II
In the compound d), the compound having an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group may be protected with a conventional protecting group in advance, and after the reaction, if necessary, by a method known per se. Can also be desorbed.

このようにして得られた一般式[I]の化合物および
その塩は、抽出、晶出およびカラムクロマトグラフィー
などの常法にしたがって単離精製することができる。
The thus-obtained compound of the general formula [I] and a salt thereof can be isolated and purified according to a conventional method such as extraction, crystallization and column chromatography.

本発明化合物を医薬として用いる場合、通常製剤化に
使用される賦形剤、担体および希釈剤などの製剤助剤を
適宜混合してもよく、これらは常法により、錠剤、カプ
セル剤、散剤、シロップ剤、細粒剤、顆粒剤、丸剤、懸
濁剤、乳剤、液剤、粉体製剤、坐剤、軟膏剤または注射
剤などの形態で経口または非経口で投与することができ
る。また投与方法、投与量および投与回数は、患者の年
齢、体重および症状に応じて適宜選択することができ、
通常成人に対しては、経口または非経口(たとえば、注
射、点滴、直腸部位への投与など)的投与により、1
日、0.1〜100mg/Kgを1回から数回に分割して投与すれ
ばよい。
When the compound of the present invention is used as a medicament, excipients usually used in the preparation, formulation aids such as carriers and diluents may be appropriately mixed, and these are tablet, capsule, powder, and the like by a conventional method. It can be administered orally or parenterally in the form of syrups, fine granules, granules, pills, suspensions, emulsions, solutions, powders, suppositories, ointments or injections. In addition, the administration method, dosage and number of administration can be appropriately selected according to the patient's age, body weight and symptoms,
Usually, for adults, oral or parenteral (eg, injection, infusion, administration to rectal site, etc.)
The daily dose of 0.1 to 100 mg / Kg may be administered in one to several divided doses.

つぎに、本発明の代表的化合物についての薬理作用に
ついて述べる。
Next, the pharmacological action of the representative compound of the present invention will be described.

1.抗菌作用 試験方法 日本化学療法学会標準法[ケモテラピー(CHEMOTHERA
PY)第29巻、第1号、第76〜79頁(1981年)]にしたが
い、ハート・インフュージョン・ブロース(Heart Infu
sion broth)(栄研化学社製)で37℃、20時間培養し、
菌量を106個/mlに調整した菌液1白金耳を、試験化合物
を含むハート・インフュージョン・アガー(Heart Infu
sion agar)培地(栄研化学社製)に接種し、37℃で20
時間培養した後、菌の発育の有無を観察し、菌の発育が
阻止された最少濃度をもってMIC(μg/ml)とした。
1. Antimicrobial activity test method Japanese Society of Chemotherapy standard method [CHEMOTHERA
PY) Vol. 29, No. 1, pp. 76-79 (1981)], and Heart Infuture Broth (Heart Infu
sion broth) (manufactured by Eiken Chemical Co., Ltd.) at 37 ° C for 20 hours.
One platinum loop of the bacterial solution adjusted to a cell count of 10 6 cells / ml was added to a heart infusion agar containing a test compound (Heart Infugen).
sion agar) medium (manufactured by Eiken Chemical Co., Ltd.)
After culturing for a period of time, the presence or absence of the growth of the bacteria was observed, and the MIC (μg / ml) was defined as the minimum concentration at which the growth of the bacteria was inhibited.

その結果を表−1に示す。 Table 1 shows the results.

なお、表−1中の記号はつぎの意味を示す。 The symbols in Table 1 have the following meanings.

*:β−ラクタマーゼ産生菌 試験化合物 A:8−(1−アミノシクロプロピル)−9,1−エポキシ:
メタノ−7−フルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,
2−a]キノリン−4−カルボン酸 B:8−シクロプロピル−9,1−エポキシ:メタノ−7−フ
ルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キノリ
ン−4−カルボン酸 [発明の効果] 以上の結果から、本発明化合物は、優れた抗菌作用を
発揮することが明らかであり、抗菌剤として利用するこ
とができる。
*: Β-lactamase-producing bacteria Test compound A: 8- (1-aminocyclopropyl) -9,1-epoxy:
Methano-7-fluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,
2-a] quinoline-4-carboxylic acid B: 8-cyclopropyl-9,1-epoxy: methano-7-fluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid [Effects of the Invention] From the above results, it is clear that the compound of the present invention exhibits an excellent antibacterial action, and can be used as an antibacterial agent.

[実施例] つぎに本発明化合物の製造法を具体的に参考例および
実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
[Examples] Next, the production method of the compound of the present invention will be specifically described with reference to Reference Examples and Examples, but the present invention is not limited thereto.

なお、溶離液における混合比は、すべて容量比であ
り、また、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、
特にことわらない限り、キーゼルゲル60、アート.7734
(Kieselgel 60、Art.7734、メルク社製)を用いた。
The mixing ratios in the eluent are all volume ratios, and the carrier in column chromatography is
Unless otherwise specified, Kieselgel 60, Art.7734
(Kieselgel 60, Art.7734, manufactured by Merck) was used.

参考例1 60%水素化ナトリウム1.16gをジメチルスルホキシド6
0mlに懸濁させ、水冷下、マロン酸ジ−tert−ブチルエ
ステル6.30gを20分間を要して滴下し、同温度で1時間
撹拌した後、1−アセトキシメチル−7,8,9−トリフル
オロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キノリン
−4−カルボン酸エチルエステル2.9gを加え、室温で2
時間撹拌する。反応液を水100mlおよび酢酸エチル100ml
の混合液に加え、2N塩酸でpH2に調整した後、有機層を
分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフィー(溶離液;トルエン:酢酸エチル=3:1)で精
製すれば、1−アセトキシメチル−8−ジ−tert−ブト
キシカルボニルメチル−7,9−ジフルオロ−5−オキソ
−5H−チアゾロ[3,2−a]キノリン−4−カルボン酸
エチルエステル4.3g(収率99.4%)を得る。
Reference Example 1 1.16 g of 60% sodium hydride was added to dimethyl sulfoxide 6
Suspended in water, and 6.30 g of malonic acid di-tert-butyl ester was added dropwise over 20 minutes under cooling with water. After stirring at the same temperature for 1 hour, 1-acetoxymethyl-7,8,9-triester was added. 2.9 g of fluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester was added, and the mixture was added at room temperature.
Stir for hours. The reaction solution was mixed with 100 ml of water and 100 ml of ethyl acetate.
The mixture is adjusted to pH 2 with 2N hydrochloric acid, and the organic layer is separated. The separated organic layer is sequentially washed with water and saturated saline, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography (eluent; toluene: ethyl acetate = 3: 1) to give 1-acetoxymethyl-8-di-tert-butoxycarbonylmethyl. 4.3 g (99.4% yield) of -7,9-difluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester is obtained.

IR(ニート)cm-1c=01735 参考例2 1−アセトキシメチル−8−ジ−tert−ブトキシカル
ボニルメチル−7,9−ジフルオロ−5−オキソ−5H−チ
アゾロ[3,2−a]キノリン−4−カルボン酸エチルエ
ステル4.25gにトリフルオロ酢酸20mlを加えた後、室温
で12時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた
残留物にジイソプロピルエーテルを加えて結晶を取す
れば、1−アセトキシメチル−8−カルボキシメチル−
7,9−ジフルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−
a]キノリン−4−カルボン酸エチルエステル2.94g
(収率93.8%)を得る。
IR (neat) cm -1 ; v c = 0 1735 Reference Example 2 1-acetoxymethyl-8-di-tert-butoxycarbonylmethyl-7,9-difluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a 20 ml of trifluoroacetic acid is added to 4.25 g of quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester, and the mixture is stirred at room temperature for 12 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and diisopropyl ether was added to the obtained residue to collect crystals, whereby 1-acetoxymethyl-8-carboxymethyl-
7,9-difluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-
a] Quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester 2.94 g
(93.8% yield).

IR(KBr)cm-1c=01740 参考例3 1−アセトキシメチル−8−カルボキシメチル−7,9
−ジフルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]
キノリン−4−カルボン酸エチルエステル2.90gをクロ
ロホルム30mlに懸濁させ、室温でジフェニルジアゾメタ
ン−酢酸エチル溶液を赤色が消失しなくなるまで滴下す
る。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物にジエチ
ルエーテルを加えて結晶を取すれば、1−アセトキシ
メチル−7,9−ジフルオロ−8−ジフェニルメトキシカ
ルボニルメチル−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−
a]キノリン−4−カルボン酸エチルエステル3.44g
(収率86.1%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; v c = 0 1740 Reference Example 3 1-acetoxymethyl-8-carboxymethyl-7,9
-Difluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a]
Quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester (2.90 g) is suspended in chloroform (30 ml), and a diphenyldiazomethane-ethyl acetate solution is added dropwise at room temperature until the red color disappears. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and diethyl ether was added to the obtained residue to collect crystals, whereby 1-acetoxymethyl-7,9-difluoro-8-diphenylmethoxycarbonylmethyl-5-oxo-5H- Thiazolo [3,2-
a] Quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester 3.44 g
(86.1% yield).

IR(KBr)cm-1c=01735 参考例4 1−アセトキシメチル−7,9−ジフルオロ−8−ジフ
ェニルメトキシカルボニルメチル−5−オキソ−5H−チ
アゾロ[3,2−a]キノリン−4−カルボン酸エチルエ
ステル2.90gをジメチルスルホキシド29mlに懸濁させ、3
7%ホルムアルデヒド水溶液0.78gおよび炭酸水素ナトリ
ウム20mgを加え、50℃で1時間撹拌する。反応液に酢酸
エチル300mlおよび水200mlを加えた後、有機層を分取す
る。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶
媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィ
ー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=1:1)で精製
すれば、1−アセトキシメチル−7,9−ジフルオロ−8
−(1−ジフェニルメトキシカルボニル−2−ヒドロキ
シエチル)−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キ
ノリン−4−カルボン酸エチルエステル2.25g(収率73.
9%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; v c = 0 1735 Reference Example 4 1-acetoxymethyl-7,9-difluoro-8-diphenylmethoxycarbonylmethyl-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline- 2.90 g of 4-carboxylic acid ethyl ester was suspended in 29 ml of dimethyl sulfoxide, and 3
0.78 g of a 7% aqueous formaldehyde solution and 20 mg of sodium hydrogen carbonate are added, and the mixture is stirred at 50 ° C. for 1 hour. After adding 300 ml of ethyl acetate and 200 ml of water to the reaction solution, the organic layer is separated. The separated organic layer is sequentially washed with water and saturated saline, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography (eluent; chloroform: ethyl acetate = 1: 1) to give 1-acetoxymethyl-7,9-difluoro-8.
2.25 g of-(1-diphenylmethoxycarbonyl-2-hydroxyethyl) -5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester (yield 73.
9%).

IR(KBr)cm-1c=01745,1730(sh) 参考例5 1−アセトキシメチル−7,9−ジフルオロ−8−(1
−ジフェニルメトキシカルボニル−2−ヒドロキシエチ
ル)−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キノリン
−4−カルボン酸エチルエステル2.18gを塩化メチレン2
2mlに懸濁させ、氷冷下、メタンスルホニルクロリド0.4
7gを加えた後、トリエチルアミン0.83gを5分間を要し
て滴下し、室温で30分間撹拌する。反応液に水20mlを加
え、2N塩酸でpH2に調整した後、有機層を分取する。分
取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶
離液;トルエン:酢酸エチル=3:1)で精製すれば、1
−アセトキシメチル−7,9−ジフルオロ−8−(1−ジ
フェニルメトキシカルボニルビニル)−5−オキソ−5H
−チアゾロ[3,2−a]キノリン−4−カルボン酸エチ
ルエステル1.77g(収率83.6%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; ν c = 0 1745,1730 (sh) Reference Example 5 1-acetoxymethyl-7,9-difluoro-8- (1
-Diphenylmethoxycarbonyl-2-hydroxyethyl) -5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester 2.18 g in methylene chloride 2
Suspended in 2 ml, and cooled with ice under methanesulfonyl chloride 0.4
After adding 7 g, 0.83 g of triethylamine is added dropwise over 5 minutes, and the mixture is stirred at room temperature for 30 minutes. After adding 20 ml of water to the reaction solution and adjusting the pH to 2 with 2N hydrochloric acid, the organic layer is separated. After sequentially washing the separated organic layer with water and saturated saline,
Dry over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography (eluent; toluene: ethyl acetate = 3: 1) to give 1
-Acetoxymethyl-7,9-difluoro-8- (1-diphenylmethoxycarbonylvinyl) -5-oxo-5H
1.77 g (83.6% yield) of ethyl thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylate were obtained.

IR(KBr)cm-1c=01735,1715 参考例6 ヨウ化トリメチルスルホキソニウム0.73gをジメチル
スルホキシド17mlに懸濁させ、60%水素化ナトリウム0.
13gを加え、室温で40分間撹拌した後、1−アセトキシ
メチル−7,9−ジフルオロ−8−(1−ジフェニルメト
キシカルボニルビニル)−5−オキソ−5H−チオゾロ
[3,2−a]キノリン−4−カルボン酸エチルエステル
1.70gを加え、同温度で1時間撹拌する。反応液に酢酸
エチル100mlおよび水100mlを加え、2N塩酸でpH2に調整
した後、有機層を分取する。分取した有機層を水および
飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエン:酢酸エ
チル=3:1)で精製すれば、1−アセトキシメチル−7,9
−ジフルオロ−8−(1−ジフェニルメトキシカルボニ
ルシクロプロピル)−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2
−a]キノリン−4−カルボン酸エチルエステル1.14g
(収率65.6%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; ν c = 0 1735,1715 Reference Example 6 0.73 g of trimethylsulfoxonium iodide was suspended in 17 ml of dimethyl sulfoxide, and 0.5% of 60% sodium hydride was added.
After adding 13 g and stirring at room temperature for 40 minutes, 1-acetoxymethyl-7,9-difluoro-8- (1-diphenylmethoxycarbonylvinyl) -5-oxo-5H-thiozolo [3,2-a] quinoline- 4-carboxylic acid ethyl ester
Add 1.70 g and stir at the same temperature for 1 hour. 100 ml of ethyl acetate and 100 ml of water are added to the reaction solution, the pH is adjusted to 2 with 2N hydrochloric acid, and then the organic layer is separated. The separated organic layer is sequentially washed with water and saturated saline, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography (eluent; toluene: ethyl acetate = 3: 1) to give 1-acetoxymethyl-7,9.
-Difluoro-8- (1-diphenylmethoxycarbonylcyclopropyl) -5-oxo-5H-thiazolo [3,2
-A] Quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester 1.14 g
(65.6% yield).

IR(KBr)cm-1c=01740,1720 参考例7 1−アセトキシメチル−7,9−ジフルオロ−8−(1
−ジフェニルメトキシカルボニルシクロプロピル)−5
−オキソ−5H−チオゾロ[3,2−a]キノリン−4−カ
ルボン酸エチルエステル1.09gをアニソール10mlに懸濁
させ、トリフルオロ酢酸10mlを加え、室温で1時間撹拌
する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物にジエ
チルエーテルを加えて結晶を取すれば、1−アセトキ
シメチル−8−(1−カルボキシシクロプロピル)−7,
9−ジフルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]
キノリン−4−カルボン酸エチルエステル0.76g(収率9
4.6%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; ν c = 0 1740,1720 Reference Example 7 1-acetoxymethyl-7,9-difluoro-8- (1
-Diphenylmethoxycarbonylcyclopropyl) -5
1.09 g of -oxo-5H-thiozolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester was suspended in 10 ml of anisole, 10 ml of trifluoroacetic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and diethyl ether was added to the obtained residue to collect crystals, whereby 1-acetoxymethyl-8- (1-carboxycyclopropyl) -7,
9-difluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a]
0.76 g of quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester (yield 9
4.6%).

IR(KBr)cm-1c=01760,1735 参考例8 1−アセトキシメチル−8−(1−カルボキシシクロ
プロピル)−7,9−ジフルオロ−5−オキソ−5H−チオ
ゾロ[3,2−a]キノリン−4−カルボン酸エチルエス
レル400mgをアセトン5mlに懸濁させ、トリエチルアミン
105mgを加える。ついで、反応液を−20℃に冷却し、ク
ロル炭酸エチル115mgを加え、−20〜−10℃で30分間撹
拌する。ついで、−20℃でアジ化ナトリウム73mgを含む
水溶液0.3mlを加え、氷冷下で30分間撹拌する。反応液
に酢酸エチル20mlおよび水20mlを加え、2N塩酸でpH2に
調整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物にジオキサン5mlおよびベンジルアルコール190mgを加
え、1時間還流する。減圧下に反応液を濃縮し、得られ
た残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエ
ン:酢酸エチル1:1)で精製すれば、1−アセトキシメ
チル−8−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシク
ロプロピル)−7,9−ジフルオロ−5−オキソ−5H−チ
アゾロ[3,2−a]キノリン−4−カルボン酸エチルエ
ステル340mg(収率69.3%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; v c = 1760,1735 Reference Example 8 1-acetoxymethyl-8- (1-carboxycyclopropyl) -7,9-difluoro-5-oxo-5H-thiozolo [3,2 -A] 400 mg of ethyl quinoline-4-carboxylate suspended in 5 ml of acetone, triethylamine
Add 105 mg. Then, the reaction solution is cooled to -20 ° C, 115 mg of ethyl chlorocarbonate is added, and the mixture is stirred at -20 to -10 ° C for 30 minutes. Then, 0.3 ml of an aqueous solution containing 73 mg of sodium azide is added at -20 ° C, and the mixture is stirred for 30 minutes under ice cooling. 20 ml of ethyl acetate and 20 ml of water are added to the reaction solution, the pH is adjusted to 2 with 2N hydrochloric acid, and the organic layer is separated. The separated organic layer is sequentially washed with water and saturated saline, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and 5 ml of dioxane and 190 mg of benzyl alcohol were added to the obtained residue, followed by refluxing for 1 hour. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography (eluent; toluene: ethyl acetate 1: 1) to give 1-acetoxymethyl-8- (1-benzyloxycarbonylaminocyclohexane). Propyl) -7,9-difluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester (340 mg, yield 69.3%) was obtained.

IR(KBr)cm-1c=01745,1720 参考例9 1−アセトキシメチル−8−(1−カルボキシシクロ
プロピル)−7,9−ジフルオロ−5−オキソ−5H−チア
ゾロ[3,2−a]キノリン−4−カルボン酸エチルエス
テル280mgをバーナー直火で約30秒間反応させ、脱炭酸
を完結させる。得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー(溶離液;トルエン:酢酸エチル=3:1)で精製す
れば、1−アセトキシメチル−8−シクロプロピル−7,
9−ジフルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]
キノリン−4−カルボン酸エチルエステル95mg(収率3
7.5%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; v c = 1745,1720 Reference Example 9 1-acetoxymethyl-8- (1-carboxycyclopropyl) -7,9-difluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2 -A] React 280 mg of quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester over a direct burner for about 30 seconds to complete decarboxylation. The obtained residue was purified by column chromatography (eluent; toluene: ethyl acetate = 3: 1) to give 1-acetoxymethyl-8-cyclopropyl-7,
9-difluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a]
Quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester 95 mg (yield 3
7.5%).

IR(KBr)cm-1c=01745 実施例1 1−アセトキシメチル−8−(1−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノシクロプロピル)−7,9−ジフルオロ−
5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キノリン−4−
カルボン酸エチルエステル330mgをエタノール10mlに懸
濁させ、氷冷下、ナトリウムエトキシド90mgを加え、室
温で1時間撹拌する。反応液にクロロホルム100mlおよ
び水100mlを加え、2N塩酸でpH2に調整した後、有機層を
分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエーテル
を加えて結晶を取すれば、8−(1−ベンジルオキシ
カルボニルアミノシクロプロピル)−9,1−エポキシ:
メタノ−7−フルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,
2−a]キノリン−4−カルボン酸エチルエステル250mg
(収率85.0%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; v c = 0 1745 Example 1 1-acetoxymethyl-8- (1-benzyloxycarbonylaminocyclopropyl) -7,9-difluoro-
5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-
330 mg of carboxylic acid ethyl ester is suspended in 10 ml of ethanol, 90 mg of sodium ethoxide is added under ice cooling, and the mixture is stirred at room temperature for 1 hour. 100 ml of chloroform and 100 ml of water are added to the reaction solution, the pH is adjusted to 2 with 2N hydrochloric acid, and the organic layer is separated. The separated organic layer is sequentially washed with water and saturated saline, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, diethyl ether was added to the obtained residue, and the crystals were collected to give 8- (1-benzyloxycarbonylaminocyclopropyl) -9,1-epoxy.
Methano-7-fluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,
2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester 250 mg
(85.0% yield).

IR(KBr)cm-1c=01720 実施例2 1−アセトキシメチル−8−シクロプロピル−7,9−
ジフルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キ
ノリン−4−カルボン酸エチルエステル85mgをエタノー
ル2mlに懸濁させ、氷冷下、ナトリウムエトキシド34mg
を加え、室温で1時間撹拌する。析出結晶を取すれ
ば、8−シクロプロピル−9,1−エポキシ:メタノ−7
−フルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キ
ノリン−4−カルボン酸エチルエステル65mg(収率89.7
%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; v c = 0 1720 Example 2 1-acetoxymethyl-8-cyclopropyl-7,9-
85 mg of difluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester was suspended in 2 ml of ethanol, and 34 mg of sodium ethoxide was added under ice-cooling.
And stirred at room temperature for 1 hour. If the precipitated crystal is removed, 8-cyclopropyl-9,1-epoxy: methano-7
-Fluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester 65 mg (89.7 yield)
%).

IR(KBr)cm-1c=01710 実施例3 30%臭化水素−酢酸溶液2mlに、氷冷下、8−(1−
ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル)−9,
1−エポキシ:メタノ−7−フルオロ−5−オキソ−5H
−チアゾロ[3,2−a]キノリン−4−カルボン酸エチ
ルエステル200mgを加え、室温で2時間撹拌する。減圧
下に反応液を濃縮し、得られた残留物にクロロホルムを
加えて結晶を取すれば、8−(1−アミノシクロプロ
ピル)−9,1−エポキシ:メタノ−7−フルオロ−5−
オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キノリン−4−カル
ボン酸エチルエステルの臭化水素酸塩175mg(収率97.7
%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; v c = 0 1710 Example 3 To a 30% hydrogen bromide-acetic acid solution (2 ml) was added 8- (1-
Benzyloxycarbonylaminocyclopropyl) -9,
1-epoxy: methano-7-fluoro-5-oxo-5H
200 mg of -thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester is added, and the mixture is stirred at room temperature for 2 hours. The reaction solution is concentrated under reduced pressure, chloroform is added to the obtained residue, and the crystals are collected to give 8- (1-aminocyclopropyl) -9,1-epoxy: methano-7-fluoro-5-.
175 mg of the hydrobromide of oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester (yield 97.7%)
%).

IR(KBr)cm-1c=01670 実施例4 8−(1−アミノシクロプロピル)−9,1−エポキ
シ:メタノ−7−フルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ
[3,2−a]キノリン−4−カルボン酸エチルエステル
の臭化水素酸塩100mgをエタノール1mlおよびジオキサン
1mlの混合液に懸濁させ、1N水酸化ナトリウム水溶液1ml
を加え、40℃で1.5時間撹拌する。減圧下に反応液を濃
縮し、得られた残留物に水2mlを加え、2N塩酸でpH7に調
整した後、結晶を取すれば、8−(1−アミノシクロ
プロピル)−9,1−エポキシ:メタノ−7−フルオロ−
5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キノリン−4−
カルボン酸45mg(収率59.2%)を得る。
IR (KBr) cm -1 ; v c = 0 1670 Example 4 8- (1-Aminocyclopropyl) -9,1-epoxy: methano-7-fluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-] a] 100 mg of hydrobromide of quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester in 1 ml of ethanol and dioxane
Suspended in a mixture of 1 ml, 1 ml of 1N sodium hydroxide aqueous solution
And stirred at 40 ° C. for 1.5 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, 2 ml of water was added to the obtained residue, and the mixture was adjusted to pH 7 with 2N hydrochloric acid, and the crystals were collected to give 8- (1-aminocyclopropyl) -9,1-epoxy. : Methano-7-fluoro-
5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-
45 mg of carboxylic acid (59.2% yield) are obtained.

融点;270〜275℃ (再結晶溶媒;クロロホルム−エタノール) IR(KBr)cm-1c=01680 NMR(d1−TFA)δ値; 1.30〜2.20(4H,m),5.97(2H,s), 7.70〜8.30(2H,m) 実施例5 8−シクロプロピル−9,1−エポキシ:メタノ−7−
フルオロ−5−オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キノ
リン−4−カルボン酸エチルエステル60mgをエタノール
5mlおよびジオキサン5mlの混合液に懸濁させ、1N水酸化
ナトリウム水溶液1mlを加え、40℃で1.5時間撹拌する。
減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物に水5mlおよ
びクロロホルム50mlを加え、2N塩酸でpH2に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエ
チルエーテルを加えて結晶を取すれば、8−シクロプ
ロピル−9,1−エポキシ:メタノ−7−フルオロ−5−
オキソ−5H−チアゾロ[3,2−a]キノリン−4−カル
ボン酸50mg(収率90.4%)を得る。
Melting point: 270 to 275 ° C (recrystallization solvent: chloroform-ethanol) IR (KBr) cm -1 ; v c = 1680 NMR (d 1 -TFA) δ value: 1.30 to 2.20 (4H, m), 5.97 (2H) , s), 7.70 to 8.30 (2H, m) Example 5 8-Cyclopropyl-9,1-epoxy: methano-7-
60 mg of fluoro-5-oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid ethyl ester was added to ethanol
It is suspended in a mixture of 5 ml and 5 ml of dioxane, 1 ml of a 1N aqueous sodium hydroxide solution is added, and the mixture is stirred at 40 ° C. for 1.5 hours.
The reaction solution is concentrated under reduced pressure, 5 ml of water and 50 ml of chloroform are added to the obtained residue, the pH is adjusted to 2 with 2N hydrochloric acid, and the organic layer is separated. The separated organic layer is sequentially washed with water and saturated saline, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, diethyl ether was added to the obtained residue, and the crystals were collected to give 8-cyclopropyl-9,1-epoxy: methano-7-fluoro-5-.
50 mg (90.4% yield) of oxo-5H-thiazolo [3,2-a] quinoline-4-carboxylic acid are obtained.

融点;265〜268℃ (再結晶溶媒;クロロホルム−エタノール) IR(KBr)cm-1c=01680 NMR(d1−TFA)δ値; 0.80〜1.80(4H,m),1.90〜2.70(1H,m), 5.72(2H,s),7.50〜8.10(2H,m)Melting point: 265 to 268 ° C (recrystallization solvent; chloroform-ethanol) IR (KBr) cm -1 ; v c = 1680 NMR (d 1 -TFA) δ value: 0.80 to 1.80 (4H, m), 1.90 to 2.70 (1H, m), 5.72 (2H, s), 7.50-8.10 (2H, m)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−117888(JP,A) 特開 昭57−136588(JP,A) 特開 昭62−175485(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07D 513/06,513/16 C07D 498/06,498/16 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-1-117888 (JP, A) JP-A-57-136588 (JP, A) JP-A-62-175485 (JP, A) (58) Field (Int. Cl. 6 , DB name) C07D 513 / 06,513 / 16 C07D 498 / 06,498 / 16 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式 「式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保護基を;R
2は、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保護さ
れていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよい
アミノ基、保護されていてもよい低級アルキルアミノ基
またはジ−低級アルキルアミノ基を;R3は、水素原子、
低級アルキル基、保護されていてもよいアミノ基、保護
されていてもよい低級アルキルアミノ基、ジ−低級アル
キルアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、
保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、保護され
ていてもよい低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ−
低級アルキルアミノ低級アルキル基および保護されてい
てもよいヒドロキシ低級アルキル基から選ばれる1つ以
上の基を;Aは、酸素原子、硫黄原子または低級アルキル
基で置換されていてもよいイミノ基を;およびXは、ハ
ロゲン原子を示す。」 で表わされるピリドンカルボン酸誘導体およびその塩。
(1) General formula Wherein R 1 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group;
2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, an optionally protected hydroxyl group, an optionally protected amino group, an optionally protected lower alkylamino group or a di-lower alkylamino group; 3 is a hydrogen atom,
Lower alkyl group, optionally protected amino group, optionally protected lower alkylamino group, di-lower alkylamino group, optionally protected carboxyl group,
An optionally protected amino lower alkyl group, an optionally protected lower alkylamino lower alkyl group, di-
One or more groups selected from a lower alkylamino lower alkyl group and an optionally protected hydroxy lower alkyl group; A represents an imino group optionally substituted with an oxygen atom, a sulfur atom or a lower alkyl group; And X represent a halogen atom. The pyridonecarboxylic acid derivative represented by these, and its salt.
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