JP2780034B2 - How to apply uneven patterns - Google Patents

How to apply uneven patterns

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JP2780034B2
JP2780034B2 JP1020167A JP2016789A JP2780034B2 JP 2780034 B2 JP2780034 B2 JP 2780034B2 JP 1020167 A JP1020167 A JP 1020167A JP 2016789 A JP2016789 A JP 2016789A JP 2780034 B2 JP2780034 B2 JP 2780034B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は凹凸模様の付与方法に関し、光彩色を発する
微細精密凹凸模様、又はツヤ消しの砂目状模様であって
しかも耐擦傷性に優れた凹凸模様を形成することのでき
る凹凸模様の付与方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for imparting a concavo-convex pattern, which is a fine precision concavo-convex pattern that emits brilliant color or a matte grain pattern and has excellent scratch resistance. The present invention relates to a method for providing a concavo-convex pattern capable of forming a concavo-convex pattern.

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by conventional technology and invention]

シートの表面或いは立体形状を有する物体の表面へ意
匠性の付与を行う方法として、シート或いは物体の表面
に微粉末を吹きつけて表面を粗面化するサンドブラスト
法、表面に直接エンボスロールを押しつけるエンボス方
法、表面に透明塗料を微小凹凸形状に塗布する方法、表
面に微小凹凸形状を有する型を用いる鋳型方法、合成樹
脂フィルム中に艶消し剤を包含させる方法、表面に艶消
し剤を含む塗料を塗布する方法等多数の方法が知られて
いる。
As a method of imparting design properties to the surface of a sheet or the surface of an object having a three-dimensional shape, a sandblast method of spraying fine powder onto the surface of the sheet or the object to roughen the surface, embossing pressing an embossing roll directly on the surface. A method, a method of applying a transparent paint on the surface in a fine uneven shape, a casting method using a mold having a fine uneven shape on the surface, a method of including a matting agent in a synthetic resin film, and a paint containing a matting agent on the surface. Many methods are known, such as a method of applying.

しかしながら、これらの方法においては、表面硬度が
劣り傷が付き易く、又耐溶剤性、耐薬品性に劣るとか、
或いは形成される凹凸が微細でシャープなものが得られ
ないとか、形成された凹凸の保形性が悪いとか等の欠点
の一つ或いは複数を併せ持つという問題があった。
However, in these methods, the surface hardness is poor and easily scratched, and the solvent resistance and chemical resistance are poor,
Alternatively, there is a problem in that one or more of the defects such as the fact that the formed irregularities are not fine and sharp cannot be obtained, or that the formed irregularities have poor shape retention.

これらの欠点を解消する方法として、電離放射線硬化
性樹脂を用いる方法が行われるようになっている。この
方法は基材の表面に電離放射線硬化性樹脂の未硬化状態
のものを塗布し、そこに賦形フィルム或いはエンボスロ
ール等により凹凸形状を付与した後、電離放射線を照射
して樹脂を硬化し、凹凸形状を付与するものである。こ
の方法により得られる凹凸意匠は耐擦傷性に優れ、しか
も微細な凹凸模様を表現できるため極めて優れた方法で
はあるが、賦形フィルム或いはエンボスロールによる凹
凸形状の付与の際に空気の取り込みが起こり易く、その
結果凹凸形状の一部に変形が生じる等の問題があり、い
まだ改善の余地が残されている。
As a method for overcoming these drawbacks, a method using an ionizing radiation-curable resin has been used. In this method, an uncured ionizing radiation-curable resin is applied to the surface of a base material, and then the resin is cured by irradiating with ionizing radiation after applying irregularities to the surface using a shaping film or an embossing roll. , To provide an uneven shape. The concavo-convex design obtained by this method is excellent in abrasion resistance and can express a fine concavo-convex pattern, which is an extremely excellent method, but air is taken in when the concavo-convex shape is applied by a shaping film or an embossing roll. However, there is a problem that a part of the uneven shape is deformed as a result, and there is still room for improvement.

本発明は上記従来技術の欠点を解消した優れた凹凸模
様の付与方法を提供することを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for imparting an excellent concavo-convex pattern that has solved the above-mentioned disadvantages of the prior art.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明転写箔は上記課題を解決するため、以下に示す
構成を有するものである。
The transfer foil of the present invention has the following configuration to solve the above problems.

本発明は、(1)下記各工程を順次行うことを特徴と
する凹凸模様の付与方法 (a)表面に凸部と凹部の高低差が0.1〜90μmであ
り、凸部と凸部もしくは凹部と凹部のピッチ幅が0.1〜1
00μmである平行線微細凹凸を有し、且つ電離放射線硬
化性樹脂の硬化物と離型性を有する賦形フィルムを準備
する工程。
The present invention provides (1) a method for imparting a concavo-convex pattern, which comprises sequentially performing the following steps: (a) a height difference between a convex portion and a concave portion on the surface is 0.1 to 90 μm; The pitch of the recess is 0.1-1
A step of preparing a shaped film having parallel-line fine irregularities of 00 μm and a releasability with a cured product of the ionizing radiation-curable resin.

(b)上記賦形フィルムの凹凸両側に電離放射線硬化
性樹脂を塗布する工程。
(B) a step of applying an ionizing radiation-curable resin to both sides of the irregularities of the shaped film.

(c)基材表面に未硬化状態の前記電離放射線硬化性
樹脂が塗布された賦形フィルムを該電離放射線硬化性樹
脂が基材と接する如く積層する工程。
(C) a step of laminating a shaped film having the uncured ionizing radiation-curable resin applied to the surface of the substrate so that the ionizing radiation-curable resin is in contact with the substrate.

(d)電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂を
硬化し、且つ基材と接着せしめた後、賦形フィルムを除
去する工程。
(D) a step of irradiating with ionizing radiation, curing the ionizing radiation-curable resin, and bonding the resin to the substrate, and then removing the shaped film.

(2)賦形フィルム表面における微細凹凸が高低差0.1
〜90μm、凸部と凸部若しくは凹部と凹部とのピッチ幅
が0.1〜100μmの砂目形状である上記(1)記載の凹凸
模様の付与方法。
(2) Fine irregularities on the surface of the shaped film have a height difference of 0.1
(1) The method for providing a concavo-convex pattern according to the above (1), wherein the concavo-convex pattern has a grain size of about 90 μm and a pitch width of the convex part or the convex part or the concave part and the concave part of 0.1 to 100 μm.

本発明方法においては、まず、賦形フィルムを準備す
る。本発明における賦型フィルム1は第1図(a)に示
す如く、賦型層2単独からなるもの、或いは第2図に示
す如く賦型層2と支持フィルム3との積層体、或いは特
に図示しないが2層以上の支持フィルムと賦型層との積
層体から構成される。又、賦型層2の表面には平行線微
細凹凸、又な砂目状微細凹凸4が施されている。尚、第
2図中5は接着層を示す。
In the method of the present invention, first, a shaped film is prepared. The shaping film 1 in the present invention comprises a shaping layer 2 alone as shown in FIG. 1 (a), or a laminate of the shaping layer 2 and a support film 3 as shown in FIG. However, it is composed of a laminate of two or more support films and a shaping layer. Further, the surface of the shaping layer 2 is provided with parallel line fine unevenness and grain-like fine unevenness 4. In FIG. 2, reference numeral 5 denotes an adhesive layer.

平行線状微細凹凸4は第3図に示す如く、深さhが0.
1〜90μmであり、ピッチdが0.1〜100μmの平行直線
又は曲線群微細凹凸である。この様な深さとピッチを有
することにより付与される凹凸意匠が斜光により虹彩色
を発する美麗なものとなる。平行直線又は曲線群の意匠
上望ましい構成は第4図に示す如く閉曲線で囲まれた領
域の集合体よりなり、同一領域内の平行線群の方向が同
一なもので、平行線群特有の光沢、虹彩色が該領域の形
状となって見える。更に望ましくは辺を介して隣接する
領域の平行線群の方向を第4図の如く全て異なる様配置
するのが良く、この場合、平行線群の方向は最低4種類
必要である。又、隣接する領域の光沢差を明瞭化する
為、隣接領域の角度差は5゜以上が望ましい。この場合
は見る方向の違いによって4種類以上の異なった光沢、
虹彩色パターンの柄が観測される。又、該領域間に平行
線群の施されていない土手部を設けることは隣接領域と
の光沢差を明瞭化する為、及び平行線群を作成する際の
位置ズレ誤差、吸収の点から望ましい。又、砂目状微細
凹凸4は、深さhが0.1〜90μm、ピッチdが0.1〜100
μmの半球、角錐、角柱、又はこれらに類する突起形状
が平面的に配列したもので、表面の艶消し、滑り防止等
の目的を持つ。
As shown in FIG. 3, the parallel linear fine unevenness 4 has a depth h of 0.
1 to 90 μm, and the pitch d is 0.1 to 100 μm. The uneven design provided by having such a depth and a pitch becomes a beautiful one that emits an iris color by oblique light. The desirable design of the parallel straight line or curve group consists of a set of areas surrounded by closed curves as shown in FIG. 4, where the parallel lines in the same area have the same direction, and the gloss characteristic of the parallel lines is unique. The iris color appears as the shape of the region. More desirably, the directions of the parallel line groups in the area adjacent to each other via the side are preferably different from each other as shown in FIG. 4. In this case, at least four types of parallel line groups are required. Further, in order to clarify the gloss difference between adjacent areas, the angle difference between adjacent areas is desirably 5 ° or more. In this case, four or more different glosses depending on the viewing direction,
An iris pattern is observed. Also, it is desirable to provide a bank portion without a parallel line group between the regions in order to clarify the difference in gloss from an adjacent region, and from the viewpoint of positional deviation error and absorption when creating a parallel line group. . The fine grained irregularities 4 have a depth h of 0.1 to 90 μm and a pitch d of 0.1 to 100 μm.
A μm hemisphere, pyramid, prism, or similar projections are arranged in a plane, and have the purpose of matting the surface and preventing slippage.

賦形フィルムを構成する賦形層及び支持フィルムの材
質としては、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポ
リアミド、ポリスチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体等の合成樹脂、テフロン、ポリフッ化ビニリデン等の
フッ素樹脂が使用でき、また支持フィルムとしてはこれ
らの積層体或いはこれらと紙との積層体等も使用でき
る。必要に応じて離型製向上の為、表面にシリコーン、
ワックス類等を含有する離型製塗料をコートしてもよ
い。
As the material of the imprinting layer and the support film constituting the imprinting film, polyester, polyethylene, polypropylene, polyolefin such as polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate, polyamide, polystyrene, ethylene-vinyl acetate copolymer Synthetic resins such as coalesced resins, and fluororesins such as Teflon and polyvinylidene fluoride can be used, and a laminate of these or a laminate of these and paper can also be used as the support film. Silicone on the surface to improve mold release if necessary
A release coating containing waxes or the like may be coated.

賦形フィルムへの凹凸形状の付与は公知の方法によっ
て行うことができ、例えば、エンボス版として、エッチ
ング法、ミル押出し法、電鋳法などにより作成されたも
のを使用したエンボスロールを加熱して行うか、あるい
は同様にして作成されたエンボス版を用いて、高周波エ
ンボス法によってもよい。あるいは又、賦形フィルムを
製膜するときに凹凸形状を有するシート、板、ロール上
に樹脂を塗工、キャスティング、又はエクストルージョ
ンコートし、硬化後離型して作っても良い。
The application of the concavo-convex shape to the shaping film can be performed by a known method, for example, by heating an embossing roll using an embossing plate, an etching method, a mill extrusion method, an electroforming method or the like. Alternatively, a high frequency embossing method using an embossing plate prepared in the same manner may be used. Alternatively, the resin may be formed by applying, casting, or extrusion coating a resin on a sheet, plate, or roll having an uneven shape when forming a shaped film, and then releasing the resin after curing.

次いで本発明においては上記賦形フィルムに電離放射
線硬化性樹脂を塗布する。例えば第1図(b)に示す如
く、賦形フィルムの凹凸面側に電離放射線硬化性樹脂6
を塗布する。
Next, in the present invention, an ionizing radiation-curable resin is applied to the shaped film. For example, as shown in FIG. 1 (b), the ionizing radiation-curable resin 6
Is applied.

ここで電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のう
ち、物質を電離させる能力を有するものを言い、種々の
ものがあるが、工業的に利用できるのは、紫外線もしく
は電子線であり、この他γ線なども利用できる。電離放
射線硬化性樹脂としては、分子中にエチレン性不飽和結
合を有するプレポリマーまたはオリゴマー、例えば、不
飽和ポリエステル類,ポリエステルアクリレート,エポ
キシアクリレート,ウレタンアクリレート,ポリエーテ
ルアクリレート,ポリオールアクリレート,メラミンア
クリレートなどの各種アクリレート類,ポリエステルメ
タクリレート,ポリエーテルメタクリレート,ポリオー
ルメタクリレート,メラミンメタクリレートなどの各種
メタクリレート類などの一種もしくは二種以上と、分子
中にエチレン性不飽和結合を有するモノマー、例えば、
スチレン,α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマ
ー類、アクリル酸メチル,アクリル酸−2−エチルヘキ
シル,アクリル酸メトキシエチル,アクリル酸ブトキシ
エチル,アクリル酸ブチル,アクリル酸メトキシブチ
ル,アクリル酸フェニルなどのアクリル酸エステル類、
メタクリル酸エチル,メタクリル酸プロピル,メタクリ
ル酸メトキシエチル,メタクリル酸エトキシメチル,メ
タクリル酸フェニル,メタクリル酸ラウリルなどのメタ
クリル酸エステル類、アクリルアミド,メタクリルアミ
ドなどの不飽和カルボン酸アミド、アクリル酸−2−
(N,Nジエチルアミノ)エチル,メタクリル酸−2−
(N,Nジメチルアミノ)エチル,アクリル酸−2−(N,N
−ジベンジルアミノ)エチル,メタクリル酸(N,N−ジ
メチルアミノ)メチル,アクリル酸−2−(N,Nジエチ
ルアミノ)プロピルなどの不飽和酸の置換アミノアルコ
ースエステル類、エチレングリコールジアクリレート,
プロピレングリコールジアクリレート,ネオペンチルグ
リコールジアクリレート,1,6−ヘキサンジオールジアク
リレート,ジエチレングリコールジアクリレート,トリ
エチレングリコールジアクリレート,ジプロピレングリ
コールジアクリレート,エチレングリコールアクリレー
ト,プロピレングリコールジメタクリレート,ジエチレ
ングリコールジメタクリレートなどの多官能性化合物、
及び(又は)分子中に2個以上のチオール基を有するポ
リチオール化合物、例えば、トリメチロールプロパント
リチオグリコレート,トリメチロールプロパントリチオ
プロピレート,ペンタエリスリトールテトラチオグリコ
ールなどを混合した塗工用組成物で形成されるものであ
る。
Here, ionizing radiation refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having the ability to ionize a substance.There are various types, but industrially usable ones are ultraviolet rays or electron beams. Gamma rays can also be used. Examples of the ionizing radiation-curable resin include prepolymers or oligomers having an ethylenically unsaturated bond in the molecule, such as unsaturated polyesters, polyester acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, polyether acrylates, polyol acrylates, melamine acrylates and the like. One or more of various acrylates, polyester methacrylate, polyether methacrylate, polyol methacrylate, and various methacrylates such as melamine methacrylate, and a monomer having an ethylenically unsaturated bond in a molecule, for example,
Styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene, and acrylic acids such as methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butyl acrylate, methoxybutyl acrylate, and phenyl acrylate Esters,
Ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxymethyl methacrylate, phenyl methacrylate, methacrylic acid esters such as lauryl methacrylate, unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide, acrylic acid-2-
(N, N diethylamino) ethyl, methacrylic acid-2-
(N, N dimethylamino) ethyl, acrylic acid-2- (N, N
Substituted aminoalkose esters of unsaturated acids such as -dibenzylamino) ethyl, (N, N-dimethylamino) methyl methacrylate, 2- (N, N diethylamino) propyl acrylate, ethylene glycol diacrylate,
Propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol acrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, etc. Polyfunctional compounds,
And / or a coating composition obtained by mixing a polythiol compound having two or more thiol groups in a molecule, for example, trimethylolpropanetrithioglycolate, trimethylolpropanetrithiopropylate, pentaerythritol tetrathioglycol, and the like. It is formed by

前記塗工用組成物は以上の化合物を任意に混合して得
られるものであるが、該組成物に通常のコーティング適
性を持たせるために、前記プレポリマー又はオリゴマー
を5重量%以上、同じく前記モノマー及び(又は)ポリ
チオールを95重量%以下とすることが好ましい。
The coating composition is obtained by arbitrarily mixing the above compounds. In order to impart ordinary coating suitability to the composition, the prepolymer or oligomer is added in an amount of 5% by weight or more. It is preferable that the content of the monomer and / or polythiol is not more than 95% by weight.

上記電離放射線硬化性樹脂は例えばブレートコーティ
ング方法、グラビアコーティング方法、ロッドコーティ
ング方法、ナイフコーティング方法、リバースロールコ
ーティング方法、スプレーコーティング方法、オフセッ
トグラビアコーティング方法、キスコーティング方法等
任意の塗布方法により上記の賦形フィルム上に塗布され
るが、特に塗布厚の精度、塗布表面の平滑性等に優れた
グラビアコーティング方法、リバースロールコーティン
グ方法、オフセットグラビアコーティング方法等が好適
である。
The above ionizing radiation-curable resin can be coated by any coating method such as a blade coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a knife coating method, a reverse roll coating method, a spray coating method, an offset gravure coating method, and a kiss coating method. The gravure coating method, reverse roll coating method, offset gravure coating method and the like, which are excellent in accuracy of the coating thickness, smoothness of the coating surface, etc., are particularly preferable.

又、上記の電離放射線硬化性樹脂の塗布量は少なすぎ
ると充分な表面硬度や耐擦傷性が得られず、又、多過ぎ
ると硬化速度の低下や硬化時の賦形フィルムのカール等
の歪みが生じるため、0.5〜100g/m2、特に2〜40g/m2
範囲が好適である。
In addition, if the amount of the ionizing radiation-curable resin is too small, sufficient surface hardness and abrasion resistance cannot be obtained.If the amount is too large, the curing speed decreases or distortion such as curling of the shaped film at the time of curing occurs. since occurs, 0.5~100g / m 2, is particularly from 2 to 40 g / m 2 is preferred.

この様な凹凸表面への電離放射線硬化性樹脂の塗布を
行うという工程は、今までの基材表面に塗布された電離
放射線硬化性樹脂に賦形フィルムを積層する場合と比較
して空気の取り込みが殆ど無く、その結果形成される凹
凸表面に変形が生じる虞はない。
The process of applying ionizing radiation-curable resin to such uneven surfaces takes in air more than the conventional method of laminating a shaped film on the ionizing radiation-curable resin applied to the substrate surface. And there is no possibility that the resulting uneven surface will be deformed.

次いで、本発明においては、基材表面に未硬化状態の
電離放射線硬化性樹脂が塗布された賦形フィルムを該電
離放射線硬化性樹脂が基材と接する如く積層する。例え
ば第1図(c)に示す如く、基材7表面に電離放射線硬
化性樹脂6が接する如く賦形フィルム1を当接して積層
する。また電離放射線硬化製樹脂の塗工に際して生じる
賦形フィルム凹凸部への空気の残留を防止するた為、塗
工樹脂ほ低粘度、望ましくは2000CPS以下に調整する。
その為には電離放射線硬化性樹脂の組成を低粘度モノマ
ーを主体とするか、又は揮発性希釈溶剤にて希釈する
か、又は塗料、賦形フィルム、雰囲気等を加温し低粘度
化する等の方法があるが、溶剤乾燥の為の時間、排気設
備等が不要なこと、残留溶剤による電離放射線硬化性樹
脂中への気泡発生防止、基材への溶剤アタック等防止に
有利なことより、塗料を無溶剤で低粘度タイプにするの
が望ましい。
Next, in the present invention, a shaped film having an uncured ionizing radiation-curable resin applied to the surface of the substrate is laminated so that the ionizing radiation-curable resin is in contact with the substrate. For example, as shown in FIG. 1 (c), the shaped film 1 is abutted and laminated so that the ionizing radiation-curable resin 6 is in contact with the surface of the substrate 7. Further, in order to prevent air from remaining in the uneven portion of the shaped film generated during application of the ionizing radiation-curable resin, the applied resin is adjusted to have a low viscosity, preferably 2000 CPS or less.
For that purpose, the composition of the ionizing radiation-curable resin is mainly composed of a low-viscosity monomer, or is diluted with a volatile diluting solvent, or the viscosity is reduced by heating a paint, a shaped film, an atmosphere, or the like. Although there is a method for drying the solvent, the need for exhaust equipment and the like is unnecessary, prevention of bubbles generated in the ionizing radiation curable resin by the residual solvent, because it is advantageous in preventing solvent attack on the base material, It is desirable to use a low viscosity type paint without solvent.

本発明における基材としては通常の合成樹脂、或いは
紙、その他のシートの他、平板、立体形状を有する基材
に対しても応用することが可能である。
The substrate in the present invention can be applied not only to ordinary synthetic resin, paper, and other sheets, but also to a substrate having a flat or three-dimensional shape.

次いで、電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂
を硬化し、且つ基材と接着せしめた後、賦形フィルムを
除去することにより基材表面に凹凸形状を付与すること
ができる。
Next, the substrate is irradiated with ionizing radiation to cure the ionizing radiation-curable resin and adhere to the substrate, and then the shaping film is removed, whereby the substrate surface can be provided with an uneven shape.

例えば第1図(c)に示す如く、賦形フィルム側から
電離放射線8を照射し、電離放射線硬化性樹脂6を硬化
した後、第1図(d)に示す如く賦形フィルム1を剥離
し、基材7表面に凹凸模様9を形成する。
For example, as shown in FIG. 1 (c), ionizing radiation 8 is irradiated from the side of the shaped film to cure the ionizing radiation-curable resin 6, and then the shaped film 1 is peeled off as shown in FIG. 1 (d). Then, an uneven pattern 9 is formed on the surface of the substrate 7.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例を上げて本発明を更に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

実施例1 厚さ25μmのポリプロピレンフィルムに熱ロールエン
ボス法により凹凸の最大高低差が35μm、ピッチ幅が5
〜70μmの砂目状凹凸を付与して賦形フィルムとした。
この賦形フィルムの凹凸面に紫外線硬化性樹脂塗料(大
日精化工業(株)製:セイカビームPHC,ポリエステルア
クリレート系)をロールコーティング法により25μmの
厚みに塗布した。この積層フィルムを厚さ100μmのポ
リエステルフィルム(東レ製:T−60)の表面に紫外線硬
化性樹脂塗料がポリエステルフィルムと接する如く積層
した。
Example 1 A polypropylene film having a thickness of 25 μm was formed by a hot roll embossing method with a maximum unevenness of 35 μm and a pitch width of 5 μm.
A grain-shaped unevenness of about 70 μm was provided to obtain a shaped film.
An ultraviolet-curable resin paint (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd .: Seika Beam PHC, polyester acrylate) was applied to the uneven surface of the shaped film to a thickness of 25 μm by a roll coating method. This laminated film was laminated on a surface of a 100 μm-thick polyester film (manufactured by Toray: T-60) so that an ultraviolet-curable resin paint was in contact with the polyester film.

しかる後、出力160W/cmのオゾン発生型紫外線ランプ
3灯の下を20m/minの速度で通過させてポリプロピレン
フィルム側から紫外線を照射し、紫外線硬化性樹脂塗料
を硬化させ、硬化後ポリプロピレンフィルムを剥離して
表面に砂目状凹凸を有するフィルムを得た。
After that, it passes under three ozone generating ultraviolet lamps of output 160W / cm at a speed of 20m / min and irradiates ultraviolet rays from the polypropylene film side to cure the ultraviolet curable resin paint, and after curing, the polypropylene film is cured. By peeling off, a film having grain-like irregularities on the surface was obtained.

得られたフィルムの表面60゜反射グロス値は23.5であ
り、艶の消えた表面を有し、且つ#0000スチールウール
10回ラビングによる耐擦傷性テスト結果も良好であり、
しかも上記ラビングの擦傷による艶変化もなかった。
The surface of the obtained film has a reflection gloss value of 23.5, a matte surface, and # 0000 steel wool.
Scratch resistance test result by rubbing 10 times is also good,
In addition, there was no gloss change due to the rubbing scratches.

実施例2 実施例1に於いて、砂目の代りに図4の如き、直径1c
m前後の閉曲線領域内に、深さ5μm、ピッチ20μmの
溝状の平行線群を有し、平行線群相互の角度が0゜(基
準)、30゜、60゜、90゜の4種で、辺を介して隣接する
平行線群の角度が総て異る様にした凹凸を賦形フィルム
に賦与し、実施例1と同様な方法で塗工し、直径150mm
のアクリル樹脂円筒の外周面上に塗工面を介してラッピ
ングし、実施例1と同じ紫外線ランプにて賦形フィルム
側から照射、賦形フィルムを剥離した。
Example 2 In Example 1, a diameter 1c was used instead of the grain as shown in FIG.
Within a closed curve area around m, there is a groove-shaped parallel line group having a depth of 5 μm and a pitch of 20 μm, and the angles between the parallel line groups are 0 ° (reference), 30 °, 60 °, and 90 °. Irregularities such that the angles of the parallel lines adjacent to each other through the sides are all different are imparted to the shaped film, coated in the same manner as in Example 1, and 150 mm in diameter.
Was wrapped on the outer peripheral surface of the acrylic resin cylinder through a coating surface, irradiated with the same ultraviolet lamp as in Example 1 from the shaped film side, and the shaped film was peeled off.

得られた円筒の表面は見る方向により、各領域内の光
沢が変化する意匠を持ち、且つ、耐擦傷性も実施例1と
同様良好であった。
The surface of the obtained cylinder had a design in which the gloss in each region changed depending on the viewing direction, and the scratch resistance was as good as in Example 1.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明した如く本発明方法によれば、形成される賦
形フィルム通りの凹凸を付与することができるととも
に、耐擦傷性に優れ、しかも微細な凹凸模様を形成する
ことが可能である。更に本発明の方法は、賦形フィルム
の凹凸両側に電離放射線硬化性樹脂を塗布する工程を採
用したことにより、従来の基材表面に塗布された電離放
射線硬化性樹脂に、賦形フィルムを積層したり、エンボ
スロール等により、凹凸を形成する方法と比較して、空
気の取り込みがほとんどなく、形成される凹凸表面に変
形が生じるおそれがないという効果が得られる。
As described above, according to the method of the present invention, it is possible to provide the irregularities according to the shaped film to be formed, and it is possible to form a fine irregular pattern having excellent scratch resistance. Furthermore, the method of the present invention employs a step of applying an ionizing radiation-curable resin on both sides of the irregularities of the shaped film, thereby laminating the shaped film to the conventional ionizing radiation-curable resin applied to the substrate surface. As compared with the method of forming unevenness by using an embossing roll or the like, there is obtained an effect that air is hardly taken in and there is no possibility that the formed uneven surface is deformed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明方法を説明する説明図、第2図は賦形シ
ートを示す縦断面図、第3図は凹凸面を説明する説明
図、第4図は角度が異なる平行線群より構成された微細
凹凸を示す要部平面拡大図である。 1……賦形フィルム 4……平行線微細凹凸 6……電離放射線硬化性樹脂 7……基材 8……電離放射線 9……凹凸模様
FIG. 1 is an explanatory view for explaining the method of the present invention, FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a shaped sheet, FIG. 3 is an explanatory view for explaining an uneven surface, and FIG. 4 is composed of parallel line groups having different angles. It is a principal part enlarged view which shows the fine unevenness | corrugation which was performed. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Shaped film 4 ... Fine parallel line unevenness 6 ... Ionizing radiation curable resin 7 ... Base material 8 ... Ionizing radiation 9 ... Uneven pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // C08J 7/00 305 C08J 7/00 305 (72)発明者 後藤 英夫 東京都新宿区市谷加賀町1丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 田中 宏 東京都新宿区市谷加賀町1丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−24729(JP,A) 特開 昭57−122969(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B05D 5/06 B05D 3/06 B32B 27/16 B44C 1/20 C08J 7/00──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI // C08J 7/00 305 C08J 7/00 305 (72) Inventor Hideo Goto 1-1-1 Kagamachi, Ichigaya-cho, Shinjuku-ku, Tokyo Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Tanaka 1-1-1, Ichigaya Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Dai Nippon Printing Co., Ltd. (56) References JP-A-59-24729 (JP, A) 57-122969 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B05D 5/06 B05D 3/06 B32B 27/16 B44C 1/20 C08J 7/00

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】下記各工程を順次行うことを特徴とする凹
凸模様の付与方法 (a)表面に凸部と凹部の高低差が0.1〜90μmであ
り、凸部と凸部もしくは凹部と凹部のピッチ幅が0.1〜1
00μmである平行線微細凹凸を有し、且つ電離放射線硬
化性樹脂の硬化物と離型性を有する賦形フィルムを準備
する工程。 (b)上記賦形フィルムの凹凸面側に電離放射線硬化性
樹脂を塗布する工程。 (c)基材表面に未硬化状態の前記電離放射線硬化性樹
脂が塗布された賦形フィルムを該電離放射線硬化性樹脂
が基材と接する如く積層する工程。 (d)電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂を硬
化し、且つ基材と接着せしめた後、賦形フィルムを除去
する工程。
1. A method for imparting a concavo-convex pattern, which comprises sequentially performing the following steps: (a) a height difference between a convex portion and a concave portion on the surface is 0.1 to 90 μm; Pitch width 0.1-1
A step of preparing a shaped film having parallel-line fine irregularities of 00 μm and a releasability with a cured product of the ionizing radiation-curable resin. (B) a step of applying an ionizing radiation-curable resin to the uneven surface side of the shaped film. (C) a step of laminating a shaped film having the uncured ionizing radiation-curable resin applied to the surface of the substrate so that the ionizing radiation-curable resin is in contact with the substrate. (D) a step of irradiating with ionizing radiation, curing the ionizing radiation-curable resin, and bonding the resin to the substrate, and then removing the shaped film.
【請求項2】賦形フィルム表面における微細凹凸が高低
差0.1〜90μm、凸部と凸部若しくは凹部と凹部とのピ
ッチ幅が0.1〜100μmの砂目形状である請求項1記載の
凹凸模様の付与方法。
2. The uneven pattern according to claim 1, wherein the fine irregularities on the surface of the shaped film are in a grain shape with a height difference of 0.1 to 90 μm and a pitch width between the convex portions and the convex portions or the concave portions and the concave portions of 0.1 to 100 μm. Assignment method.
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