JP2779569B2 - Output control device of laser device - Google Patents

Output control device of laser device

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JP2779569B2
JP2779569B2 JP4280250A JP28025092A JP2779569B2 JP 2779569 B2 JP2779569 B2 JP 2779569B2 JP 4280250 A JP4280250 A JP 4280250A JP 28025092 A JP28025092 A JP 28025092A JP 2779569 B2 JP2779569 B2 JP 2779569B2
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oscillation
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energy
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仙聡 伊藤
芳穂 天田
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  • Lasers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、主として逐次移動型縮
小投影露光装置(以下、「ステッパ」と呼ぶ)の光源と
して用いられ、放電励起されることによってレーザを発
振するレーザ装置の出力制御装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is mainly used as a light source of a step-and-step type reduction projection exposure apparatus (hereinafter referred to as "stepper"), and an output control apparatus of a laser apparatus which oscillates a laser by being excited by discharge. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】ステッパにおいては、回路パターンの解
像度を一定レベル以上に維持するために厳密な露光量制
御が必要とされる。一方、このステッパの光源として使
用されるエキシマレーザは、いわゆるパルス放電励起ガ
スレーザのために1パルス毎にパルスエネルギーにバラ
ツキがあり、露光量制御の精度向上のためにはこのバラ
ツキを小さくする必要がある。しかも、断続光であるた
めに、連続光である水銀ランプを光源とした場合の従来
のシャッタ制御とは異なった露光量制御が必要である。
2. Description of the Related Art In a stepper, strict exposure control is required to maintain the resolution of a circuit pattern at a certain level or more. On the other hand, an excimer laser used as a light source for this stepper has a variation in pulse energy for each pulse because of a so-called pulse discharge excitation gas laser, and it is necessary to reduce this variation in order to improve the accuracy of exposure control. is there. In addition, since the light is an intermittent light, an exposure amount control different from the conventional shutter control when a mercury lamp which is a continuous light is used as a light source is required.

【0003】そこで、たとえば、文献(宮地ほか、「エ
キシマレーザリソグラフィ」、国際レーザ/アプリケー
ション’91、セミナーL−5、P36−51)に見ら
れるように、複数のパルスを連続発振して露光を行う、
いわゆる複数パルス露光によって露光量制御の精度向上
を図ろうとするものがある。
[0003] Therefore, as described in the literature (Miyaji et al., “Excimer Laser Lithography”, International Laser / Application '91, Seminar L-5, P36-51), exposure is performed by continuously oscillating a plurality of pulses. Do,
There is a technique that attempts to improve the accuracy of exposure control by so-called multiple pulse exposure.

【0004】この方法は、エキシマレーザの発振パルス
のエネルギーのバラツキがほぼ正規分布で近似できるた
め、n回パルス発振させて露光した後の積算エネルギー
のバラツキが1パルスのエネルギーのバラツキに対し
て、1/(n)1/2 になることを利用したものである。
すなわち、1パルスのエネルギーのバラツキをΔP/
P、必要な露光量制御精度をAとすると、それに必要な
露光パルス数Nは以下の関係で与えられる。
According to this method, the variation in the energy of the oscillating pulse of the excimer laser can be approximated by a normal distribution. 1 / (n) 1/2 is used.
That is, the variation in energy of one pulse is ΔP /
Assuming that P and required exposure amount control accuracy are A, the necessary number N of exposure pulses is given by the following relationship.

【0005】N≧{(ΔP/P)/A}2 たとえば、1パルスのエネルギのバラツキΔP/Pが1
5%(3σ)、必要な露光量制御精度Aが1.5%(3
σ)であれば、N≧100となり、この100回以上の
連続パルス発振で所望の精度を達成することができる。
N ≧ {(ΔP / P) / A} 2 For example, the energy variation ΔP / P of one pulse is 1
5% (3σ), and the required exposure amount control accuracy A is 1.5% (3σ).
If σ), then N ≧ 100, and the desired accuracy can be achieved with 100 or more continuous pulse oscillations.

【0006】ところで、ステッパは、露光とステージ移
動とを交互に繰り返す。このため、光源となるエキシマ
レーザの運転状態としては、必然的にいわゆるバースト
モードとなる。なお、バーストモードとは、レーザ光を
所定回数連続してパルス発振させた後、所定時間パルス
発振を休止させる運転を繰り返し行うことをいう。つま
り、短時間の連続パルス発振期間と短時間の発振休止期
間とを交互に繰り返すものである。
The stepper alternately repeats exposure and stage movement. For this reason, the operating state of the excimer laser as a light source is necessarily in a so-called burst mode. Note that the burst mode refers to repeating the operation of stopping the pulse oscillation for a predetermined time after continuously oscillating the laser beam for a predetermined number of times. That is, a short continuous pulse oscillation period and a short oscillation suspension period are alternately repeated.

【0007】ここに上述したように、エキシマレーザは
パルス放電励起ガスレーザであるため、常に一定の大き
さのパルスエネルギーで発振を続けることが困難であ
る。なお、この原因としては、放電されることによって
放電空間内にレーザガスの密度擾乱が発生し、次回の放
電を不均一に、また不安定にしたり、この不均一放電等
のため放電電極の表面において局所的な温度上昇が発生
し、さらに次回の放電を劣化させ放電を不均一で不安定
なものにするためである。特に、上記連続パルス発振期
間の初期においてその傾向が顕著であり、発振休止期間
経過後の最初のパルスでは、安定な放電が得られ比較的
高いパルスエネルギーが得られるが、その後は放電が劣
化し徐々にパルスエネルギーが低下するという、いわゆ
るスパイキング現象が現れる。この現象を図5のSに示
す。
As described above, since the excimer laser is a pulse discharge pumped gas laser, it is difficult to continuously oscillate at a constant pulse energy. As a cause of this, the density of the laser gas is disturbed in the discharge space due to the discharge, and the next discharge becomes non-uniform or unstable. This is because a local temperature rise occurs, and the next discharge is further deteriorated to make the discharge uneven and unstable. In particular, the tendency is remarkable at the beginning of the continuous pulse oscillation period, and in the first pulse after the lapse of the oscillation pause period, a stable discharge is obtained and a relatively high pulse energy is obtained, but thereafter, the discharge deteriorates. A so-called spiking phenomenon in which the pulse energy gradually decreases appears. This phenomenon is shown in FIG.

【0008】このようにバーストモード運転のエキシマ
レーザ装置では、前述した1パルス毎のエネルギのバラ
ツキが露光量制御の精度を低下させるとともに、スパイ
キング現象がさらにバラツキを著しく大きくし露光量制
御の精度をさらに低下させるという問題がある。
As described above, in the excimer laser apparatus in the burst mode operation, the above-described variation in energy for each pulse lowers the accuracy of the exposure amount control, and the spiking phenomenon further significantly increases the variation, thereby increasing the accuracy of the exposure amount control. Is further reduced.

【0009】しかも近年、ウエハに塗布する感光剤の感
度が向上しており、少ない連続パルス数での露光が可能
となっており、パルス数減少の傾向にある。
In recent years, the sensitivity of the photosensitive agent applied to the wafer has been improved, and exposure with a small number of continuous pulses has become possible, and the number of pulses tends to decrease.

【0010】しかし、パルス数が少なくなると、それに
応じてパルスエネルギーのバラツキが大きくなってしま
い、前述した複数パルス露光制御のみによっては露光量
制御の精度の維持が困難になる。このため、パルスエネ
ルギーのバラツキの改善、特にバーストモードにおける
スパイキング現象の影響を除去することが望まれてい
る。
However, when the number of pulses is reduced, the variation in pulse energy is correspondingly increased, and it becomes difficult to maintain the accuracy of the exposure amount control only by the above-described multiple pulse exposure control. For this reason, it is desired to improve the variation of the pulse energy, particularly to eliminate the influence of the spiking phenomenon in the burst mode.

【0011】そこで、放電電圧を大きくするにつれて発
振されるパルスのエネルギーが大きくなるという性質を
利用して、バーストモードにおける連続パルス発振の最
初のパルスの放電電圧を小さくし、以後パルスの放電電
圧を徐々に大きくしていくという具合に、放電電圧を各
パルスごとに変化させてスパイキング現象による初期の
エネルギー上昇を防止する制御、つまりスパイキング発
生防止制御に係る発明が本発明者等により提案されると
ともに特許出願され(特願平4−191056号等)、
すでに採用、実施されるに至っている。この発明によれ
ば、スパイキング現象の影響が除去されるので、露光量
制御の精度を、たとえ少ない連続パルス発振であっても
向上させることができる。
Therefore, utilizing the property that the energy of the pulse oscillated increases as the discharge voltage increases, the discharge voltage of the first pulse of the continuous pulse oscillation in the burst mode is reduced, and thereafter the discharge voltage of the pulse is reduced. The present inventors have proposed an invention relating to control for preventing the initial energy rise due to the spiking phenomenon by changing the discharge voltage for each pulse, that is, gradually increasing the discharge voltage, that is, the spiking occurrence prevention control. At the same time as a patent application (Japanese Patent Application No. 4-11056).
Already adopted and implemented. According to the present invention, since the influence of the spiking phenomenon is removed, the accuracy of the exposure control can be improved even with a small continuous pulse oscillation.

【0012】ここに本発明者等は、 (a) スパイキング現象の発生パターンが、バースト
モードにおける発振休止時間Tppが大きくなるほど顕著
になる (b) レーザガスの劣化に応じて所定の大きさのパル
スエネルギーを得るために必要な放電電圧が変化する、
いわゆるパワーロック電圧Vplによってスパイキング現
象の発生パターンが変化する 等を見いだし、これらに基づいて高精度なスパイキング
現象の除去を行う技術を上記特許出願において開示して
いる。この特許出願では、下記(1)式に示すように、
Tpp、Vplを変数とする関数Vi (Tpp、Vpl)を設定
して、発振順序iのパルスに対応する放電電圧V(i)
を、上記関数Vi (Tpp、Vpl)の関数値として求める
ようにしている。
Here, the present inventors have found that (a) the occurrence pattern of the spiking phenomenon becomes more prominent as the oscillation pause time Tpp in the burst mode increases, and (b) a pulse of a predetermined size in accordance with the deterioration of the laser gas. The discharge voltage required to obtain energy changes
The above-mentioned patent application discloses a technique in which the generation pattern of the spiking phenomenon is changed by the so-called power lock voltage Vpl, and a technique for removing the spiking phenomenon with high accuracy based on these is disclosed. In this patent application, as shown in the following equation (1),
A function Vi (Tpp, Vpl) having Tpp and Vpl as variables is set, and the discharge voltage V (i) corresponding to the pulse in the oscillation order i is set.
Is obtained as a function value of the function Vi (Tpp, Vpl).

【0013】V(i)=Vi (Tpp、Vpl) …(1) ただし、V(i):連続パルス発振のi番目のパルスの
放電電圧 Vi :連続パルス発振のi番目のパルスの放電電
圧を決定する関数式 Tpp :発振休止時間 Vpl :パワーロック電圧 そこで、変数Tpp、Vplの値が同一となっている連続パ
ルス(i=1、2、3…)を1組の放電電圧データ列、
つまり1つの電圧パターンテーブルとなし、テーブル単
位でメモリに記憶しておく。そして、連続パルス発振開
始と同時にテーブルの先頭から、つまりi=1、2、3
…の順序でレーザ電源に電圧データを送信して制御を行
うようにしている。
V (i) = Vi (Tpp, Vpl) (1) where V (i) is the discharge voltage of the i-th pulse of the continuous pulse oscillation. Vi: is the discharge voltage of the i-th pulse of the continuous pulse oscillation. Function formula to be determined Tpp: oscillation pause time Vpl: power lock voltage Then, a continuous pulse (i = 1, 2, 3,...) In which the values of the variables Tpp and Vpl are the same is set as a set of discharge voltage data strings,
That is, there is no single voltage pattern table, and the table is stored in the memory in table units. Then, simultaneously with the start of the continuous pulse oscillation, from the top of the table, that is, i = 1, 2, 3
.. Are controlled by transmitting voltage data to the laser power supply in the order of.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】上述した電圧パターン
テーブルは、所定の繰返し周波数、一般的には、レーザ
装置の最大繰返し周波数fに適合するように用意されて
いる。これは、エキシマレーザ装置において高繰返し発
振(〜1kHz )が可能となったためあらゆる繰返し周
波数に適合した電圧パターンテーブルを用意しようとす
ると、テーブルを記憶するメモリの記憶領域の消費量が
膨大になり、メモリの記憶容量の増加に伴ない制御装置
のコストが著しく上昇することになるためであり、これ
を避けるためである。
The above-mentioned voltage pattern table is prepared so as to be adapted to a predetermined repetition frequency, generally, the maximum repetition frequency f of the laser device. This is because high repetition oscillation (up to 1 kHz) has become possible in the excimer laser device, so that if a voltage pattern table suitable for any repetition frequency is prepared, the consumption of the storage area of the memory for storing the table becomes enormous. This is because the cost of the control device is significantly increased as the storage capacity of the memory is increased, and this is to avoid this.

【0015】したがって、従来にあっては最大繰返し周
波数fか、あるいはそのごく近傍の繰返し周波数で運転
される場合しかスパイキング発生防止制御が有効に作用
しないという問題が生じることになる。すなわち、たと
えば、最大繰返し周波数がf(=1kHz )であるとす
ると、T=1/fなる時間間隔Tごとに、対応する放電
電圧V(1)、V(2)、V(3)…が記憶されてい
る。したがって最大繰返し周波数fで運転されている場
合には、パルス発振のトリガ信号を受信するごとに放電
電圧V(1)、V(2)、V(3)…を順次読みだし、
レーザ電源にこれら電圧データを送信すれば、トリガ信
号受信間隔と時間間隔Tとが一致しているために制御が
正確に行われる。しかし、繰返し周波数が変化して最大
値fからずれてしまった場合には、トリガ信号を受信す
るごとに放電電圧V(1)、V(2)、V(3)…を順
次読みだし、レーザ電源にこれら電圧データを送信した
としても、実際のトリガ信号受信間隔と最大繰返し周波
数fに応じた時間間隔Tとが一致していないため、制御
が正確には行われなくなる。
Therefore, in the related art, there is a problem that the spiking occurrence prevention control effectively works only when the operation is performed at the maximum repetition frequency f or the repetition frequency very close to the maximum repetition frequency f. That is, for example, assuming that the maximum repetition frequency is f (= 1 kHz), the discharge voltages V (1), V (2), V (3)... It is remembered. Therefore, when the operation is performed at the maximum repetition frequency f, the discharge voltages V (1), V (2), V (3)...
When these voltage data are transmitted to the laser power supply, the trigger signal reception interval and the time interval T match, so that the control is performed accurately. However, when the repetition frequency changes and deviates from the maximum value f, the discharge voltages V (1), V (2), V (3)... Even if these voltage data are transmitted to the power supply, the actual trigger signal reception interval does not match the time interval T corresponding to the maximum repetition frequency f, so that the control is not performed accurately.

【0016】本発明はこうした実状に鑑みてなされたも
のであり、たとえ繰返し周波数が変化するレーザ装置で
あっても、各繰返し周波数に適合したスパイキング発生
防止制御を低コストで行うことができる装置を提供する
ことをその目的としている。
The present invention has been made in view of such circumstances, and even if the repetition frequency is changed, a spike generation prevention control suitable for each repetition frequency can be performed at low cost. Its purpose is to provide.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明の主たる
発明では、レーザ光を所定回数連続してパルス発振させ
た後、所定時間パルス発振を休止させる運転を繰り返し
行うレーザ装置に適用され、充電電圧データに基づき前
記パルスのエネルギーが所定の大きさとなるように充電
電圧を制御するレーザ装置の出力制御装置において、レ
ーザ装置の運転開始前に、連続パルスの各パルスのエネ
ルギーの大きさを同一にする充電電圧データを、連続パ
ルス発振が開始されてからの経過時間に応じて、連続パ
ルス発振直前の休止時間の各大きさ毎に、予め記憶して
おくようにしている。
Accordingly, the main invention of the present invention is applied to a laser device which repeatedly performs an operation of pulsating laser light for a predetermined number of times and then stopping the pulse oscillation for a predetermined time. In the output control device of the laser device, which controls the charging voltage so that the energy of the pulse becomes a predetermined value based on the voltage data, before starting the operation of the laser device, the energy of each pulse of the continuous pulse is made the same. The charging voltage data to be stored is stored in advance for each magnitude of the pause time immediately before the continuous pulse oscillation according to the elapsed time from the start of the continuous pulse oscillation.

【0018】[0018]

【作用】すなわち、本発明者等が各種実験を行ったとこ
ろ、以下のことが明らかになった。
[Effects] That is, the present inventors conducted various experiments, and the following became clear.

【0019】すなわち、パワーロック電圧を固定し、種
々の繰返し周波数におけるスパイキング現象の発生パタ
ーンを測定した(連続パルス発振直前の発振休止時間は
同一とする)。すると、いずれの繰返し周波数において
も、図4に縦軸にパルスエネルギーEを、横軸に連続パ
ルス発振開始からの経過時間τをとって示すように、同
一の曲線が描かれるのがわかった。これは、パルスエネ
ルギーEの大きさと連続パルス発振開始からの経過時間
τとの間には繰返し周波数の大きさにはよらない相関が
あるということであり、たとえ、連続パルス発振の途中
で繰返し周波数が変化したとしても同図4に示す曲線は
変化せず、スパイキング現象の発生パターンは繰返し周
波数によらずに連続パルス発振の開始からの経過時間の
みに依存するということを示している。
That is, the power-lock voltage was fixed, and the occurrence patterns of spiking phenomena at various repetition frequencies were measured (the oscillation pause time immediately before continuous pulse oscillation was the same). Then, it was found that the same curve was drawn at any repetition frequency, with the pulse energy E on the vertical axis and the elapsed time τ from the start of continuous pulse oscillation on the horizontal axis in FIG. This means that there is a correlation between the magnitude of the pulse energy E and the elapsed time τ from the start of the continuous pulse oscillation regardless of the magnitude of the repetition frequency. 4 does not change, indicating that the pattern of occurrence of the spiking phenomenon depends only on the elapsed time from the start of continuous pulse oscillation without depending on the repetition frequency.

【0020】したがって、レーザ装置の運転開始前に、
連続パルスの各パルスのエネルギーの大きさを同一にす
る充電電圧データを連続パルス発振が開始されてからの
経過時間に応じて、連続パルス発振直前の休止時間の各
大きさ毎に、記憶しておけば、種々の繰返し周波数に応
じた充電電圧データを記憶しておく必要がなくなり、メ
モリ容量を小さくできる。そして、計時された上記経過
時間に対応する記憶充電電圧が得られるように充電電圧
を制御すれば、繰返し周波数が変化したとしても制御が
正確に行われることになる。また、連続パルス発振直前
の休止時間の各大きさ毎に、充電電圧データが記憶され
ているので、レーザ装置の運転中に、いかに休止時間の
大きさが変化しようとも、これに対応する充電電圧デー
タをもって正確に充電電圧が制御される。
Therefore, before starting operation of the laser device,
Charge voltage data that makes the magnitude of the energy of each pulse of the continuous pulse the same is stored for each magnitude of the pause time immediately before the continuous pulse oscillation in accordance with the elapsed time from the start of the continuous pulse oscillation. This eliminates the need to store charging voltage data corresponding to various repetition frequencies, and can reduce the memory capacity. If the charging voltage is controlled so as to obtain the stored charging voltage corresponding to the measured elapsed time, the control can be performed accurately even if the repetition frequency changes. Also, since the charging voltage data is stored for each magnitude of the pause time immediately before the continuous pulse oscillation, no matter how large the magnitude of the pause time changes during the operation of the laser device, the corresponding charging voltage data is stored. The charging voltage is accurately controlled with the data.

【0021】[0021]

【実施例】以下、図面を参照して本発明に係るレーザ装
置の出力制御装置の実施例について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an output control device for a laser device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0022】図1に示すように実施例装置は、大きくは
エキシマレーザ光Lを出力するエキシマレーザ装置1
と、エキシマレーザ装置1を光源とし、出力レーザ光L
により縮小投影露光を行うステッパ9とから構成されて
いる。
As shown in FIG. 1, the apparatus of the embodiment is an excimer laser apparatus 1 for outputting an excimer laser beam L.
And the output laser light L using the excimer laser device 1 as a light source.
And a stepper 9 for performing reduced projection exposure.

【0023】レーザ装置1の発振器2は、レーザチャン
バ、光共振器等からなり、レーザチャンバ内にはKr、
F2 等からなるレーザガスが満たされている。そして、
レーザチャンバ内に配設された電極間で放電を行い、レ
ーザガスを励起させてレーザ発振を行う。発振されたレ
ーザ光は上記光共振器内で共振され、図示せぬフロント
ミラーから有効な発振レーザ光Lとして出力される。な
お、放電は所定のパルス幅をもって所定の間隔で行わ
れ、レーザ光Lが断続的に出力される。
The oscillator 2 of the laser device 1 comprises a laser chamber, an optical resonator and the like.
It is filled with a laser gas such as F2. And
Electric discharge is performed between electrodes provided in the laser chamber to excite a laser gas to perform laser oscillation. The oscillated laser light is resonated in the optical resonator, and is output as an effective oscillated laser light L from a front mirror (not shown). The discharge is performed at a predetermined interval with a predetermined pulse width, and the laser light L is output intermittently.

【0024】こうして発振器2から発振されたレーザ光
は、ビームスプリッタ3によって一部サンプリングさ
れ、レンズ4を介して出力モニタ5に入射される。この
出力モニタ5では、出力レーザ光Lの1パルス当たりの
エネルギー、つまりパルスエネルギーEが検出される。
The laser light thus oscillated from the oscillator 2 is partially sampled by the beam splitter 3 and is incident on the output monitor 5 via the lens 4. The output monitor 5 detects the energy per pulse of the output laser light L, that is, the pulse energy E.

【0025】出力モニタ5によって検出されたパルスエ
ネルギーEは、出力制御部6に加えられ、該出力制御部
6は、入力されたパルスエネルギーEに基づいて、後述
するように所望のパルスエネルギーEdが得られるよう
に、レーザ電源部8に電圧データを加える。この場合、
パワーロック制御が行われる。
The pulse energy E detected by the output monitor 5 is applied to an output control unit 6, and the output control unit 6 generates a desired pulse energy Ed based on the input pulse energy E as described later. Voltage data is applied to the laser power supply unit 8 so as to be obtained. in this case,
Power lock control is performed.

【0026】なお、パワーロック制御とは、レーザガス
が劣化し同じ放電電圧を与えてもパルスエネルギーEが
低下してしまうことを、劣化に応じて放電電圧を高くす
ることで防止する制御方法の一つである。一般的には、
発振された複数パルスのエネルギーを積算、平均化し、
所望のエネルギーEdと比較することによって次パルス
以降の放電電圧を決定するフィードバック制御である。
決定された放電電圧(所望のエネルギーEdを得るため
の放電電圧)をパワーロック電圧Vplと呼ぶ。なお、
「POWERLOK」は米国Questek社の登録商
標である。これに対してスパイキング発生防止制御は、
次に発振される1パルスのパルスエネルギーを予測し
て、放電電圧を発振前に決定する予測制御である。
The power lock control is a control method for preventing the pulse energy E from decreasing even when the laser gas is deteriorated and the same discharge voltage is applied, by increasing the discharge voltage in accordance with the deterioration. One. In general,
The energy of multiple oscillated pulses is integrated and averaged,
This is feedback control for determining the discharge voltage after the next pulse by comparing with the desired energy Ed.
The determined discharge voltage (discharge voltage for obtaining the desired energy Ed) is called a power lock voltage Vpl. In addition,
"POWERLOCK" is a registered trademark of Questek, USA. On the other hand, the spiking prevention control
This is prediction control in which the pulse energy of one pulse to be oscillated is predicted and the discharge voltage is determined before oscillation.

【0027】レーザ電源部8は、加えられた電圧データ
に応じて上記電極間に電位差Vを与え、上記放電を行
う。ここに、放電させるための電圧は、レーザ電源部8
内に配設された充電回路により一旦充電され、たとえば
サイラトロン等のスイッチ素子の動作により放電され
る。
The laser power supply unit 8 applies the potential difference V between the electrodes according to the applied voltage data, and performs the discharge. Here, the voltage for discharging is the laser power supply unit 8.
Is temporarily charged by a charging circuit disposed therein, and is discharged by the operation of a switch element such as a thyratron.

【0028】また、出力制御部6は、ステッパ9内のス
テッパ制御部10と信号線で接続されており、ステッパ
制御部10から送出されるトリガ信号Trを受信する。
出力制御部6はタイマを内臓しており、このタイマによ
って、送出されてくるトリガ信号Trの受信時刻間の時
間が逐次測定される。制御部7にも、出力モニタ5の検
出結果Eが加えられ、出力制御部6との間でデータの授
受が行われる。
The output controller 6 is connected to a stepper controller 10 in the stepper 9 via a signal line, and receives a trigger signal Tr sent from the stepper controller 10.
The output control unit 6 has a built-in timer, and the timer measures the time between reception times of the transmitted trigger signal Tr. The detection result E of the output monitor 5 is also added to the control unit 7, and data is exchanged with the output control unit 6.

【0029】ところで、実施例では、つぎに掲げる各事
項を考慮して連続パルスの各パルスに対応する放電電圧
Vを求めるようにしている。
In the embodiment, the discharge voltage V corresponding to each pulse of the continuous pulse is determined in consideration of the following items.

【0030】(a)パルス発振の休止時間Tpp バーストモードでエキシマレーザを運転する場合、連続
パルス発振の開始直後においてパルスエネルギーEが大
きくなる(以後徐々にエネルギーが小さくなる)スパイ
キング現象が現れる(図5のS参照)。そして、このス
パイキング現象は、バーストモードにおける発振休止時
間Tppが大きくなるほど顕著になることが本発明者等の
実験により明らかになっている。そして、また、パルス
エネルギーEは、レーザガスを励起させるための放電電
圧Vを大きくするにしたがって大きくなるという性質が
ある。
(A) Pause period of pulse oscillation Tpp When the excimer laser is operated in the burst mode, a spiking phenomenon appears in which the pulse energy E increases (the energy gradually decreases thereafter) immediately after the start of the continuous pulse oscillation ( (See S in FIG. 5). The experiment by the present inventors has revealed that the spiking phenomenon becomes more remarkable as the oscillation pause time Tpp in the burst mode becomes longer. Further, the pulse energy E has a property of increasing as the discharge voltage V for exciting the laser gas increases.

【0031】そこで、パルス発振の休止時間Tppを計時
し、つぎの連続パルスの各パルスのエネルギーEが同一
の所望の大きさEdとなるように、計時された休止時間
Tppに基づいて各パルスに対応する放電電圧Vの大きさ
を変化させる。すなわち、連続パルス発振の最初のパル
スは放電電圧Vを低くし、以後徐々に放電電圧Vを高く
するごとく、放電電圧を各パルス毎に変化させてスパイ
キング現象による初期のエネルギー上昇を防止する。し
かも、休止時間Tppに応じて放電電圧Vの変化度合いを
異ならせるようにする。この結果、常に各パルスのエネ
ルギーレベルが同一な値Edとなる。
Then, the pause time Tpp of the pulse oscillation is measured, and each pulse is measured based on the measured pause time Tpp so that the energy E of each pulse of the next continuous pulse becomes the same desired magnitude Ed. The magnitude of the corresponding discharge voltage V is changed. That is, as the discharge voltage V is lowered for the first pulse of the continuous pulse oscillation, and thereafter the discharge voltage V is gradually increased, the discharge voltage is changed for each pulse to prevent the initial energy increase due to the spiking phenomenon. Moreover, the degree of change of the discharge voltage V is made different according to the pause time Tpp. As a result, the energy level of each pulse always becomes the same value Ed.

【0032】(b)パワーロック電圧Vpl また、レーザ発振の運転時間が長くなり、レーザガスが
劣化してくるに応じてパルスエネルギーEが低下してし
まい、これを防止するために劣化に応じてパワーロック
電圧Vplを大きくするパワーロック制御が行われる。し
かし、パワーロック制御が行われると、スパイキング現
象の発生パターンが変化してしまうことが本発明者らの
実験によって明らかになった。すなわち、パワーロック
電圧Vplの大きさに応じてパルスエネルギーEが変化す
るとともに、スパイキング現象の影響が及ぶパルスの数
が変化すること等が明らかになった。そこで、パワーロ
ック電圧Vplに応じてパルスエネルギーEが所望の大き
さEdになるように放電電圧Vを変化させる必要があ
る。
(B) Power lock voltage Vpl In addition, the operation time of the laser oscillation becomes longer, and the pulse energy E decreases as the laser gas deteriorates. Power lock control for increasing the lock voltage Vpl is performed. However, experiments by the present inventors have revealed that when the power lock control is performed, the generation pattern of the spiking phenomenon changes. That is, it has been clarified that the pulse energy E changes according to the magnitude of the power lock voltage Vpl, and that the number of pulses affected by the spiking phenomenon changes. Therefore, it is necessary to change the discharge voltage V so that the pulse energy E becomes a desired magnitude Ed according to the power lock voltage Vpl.

【0033】(c)リアルタイム処理 ところで、またレーザ発振の繰返し周波数が高くなる
と、トリガ信号Tr の受信間隔を測定する一方で、出力
制御部6が、受信の都度各パルスに対応する放電電圧V
を計算し、これを逐次レーザ電源部8に出力する処理を
行うことが、時間的に困難となる。そこで、迅速な処理
を行い、リアルタイム処理を実現することが要求され
る。
(C) Real-time processing When the repetition frequency of the laser oscillation becomes high, the output interval of the trigger signal Tr is measured, and the output control unit 6 outputs the discharge voltage V corresponding to each pulse at each reception.
Is calculated, and it is difficult to perform a process of sequentially outputting the calculated values to the laser power supply unit 8. Therefore, it is required to perform quick processing and realize real-time processing.

【0034】そこで、実施例では、上記(a)〜(c)
を考慮して、各パルスのエネルギーEを同一の所望の大
きさEdにするための、連続パルス発振直前の発振休止
時間Tppおよびパワーロック電圧Vplに対応する放電電
圧Vを、連続パルス発振が開始されてからの時間のカウ
ント数iごとに求めておき、これを電圧データとして予
め所定のメモリに記憶しておくようにする。そして上記
メモリから逐次所要の電圧データを読み出し、レーザ電
源部8に出力することで処理を迅速に行うようにしてい
る。
Therefore, in the embodiment, the above (a) to (c)
In consideration of the above, the oscillation pause time Tpp immediately before continuous pulse oscillation and the discharge voltage V corresponding to the power lock voltage Vpl are set in order to make the energy E of each pulse the same desired value Ed, and continuous pulse oscillation starts. It is obtained for each count number i of the time since the completion, and this is stored in a predetermined memory in advance as voltage data. Then, required voltage data is sequentially read out from the memory and output to the laser power supply unit 8 so that the processing is quickly performed.

【0035】すなわち、図2は出力制御部6で実行され
る処理を示すフローチャートであり、同図2(a)に示
すように、起動と同時にメインルーチン内において、下
記(2)式に示すように、経過時間iのパルスに対応す
る放電電圧V(i)をTpp、Vpl、Tk (連続パルス発
振開始からの経過時間)を変数とする関数Vi (Tpp、
Vpl、Tk )として求め、これらを電圧パターンテーブ
ルとしてメモリに記憶しておく。この場合、変数Tpp、
Vplの値が同一となっている電圧データ列(i=1、
2、3…の順に並んでいる)が1組とされ、組単位でメ
モリに記憶される。
That is, FIG. 2 is a flowchart showing the processing executed by the output control section 6. As shown in FIG. 2 (a), in the main routine simultaneously with the start-up, as shown in the following equation (2): A function Vi (Tpp, Tpp, Tp, Vpl, Tk, which is the discharge voltage corresponding to the pulse with the elapsed time i, and Tk (the elapsed time from the start of the continuous pulse oscillation).
Vpl, Tk), and these are stored in a memory as a voltage pattern table. In this case, the variable Tpp,
A voltage data sequence having the same value of Vpl (i = 1,
Are arranged in the order of 2, 3,...), And are stored in the memory in units of sets.

【0036】 V(i)=V(Tpp、Vpl、Tk ) …(2) ただし、V(i):電圧パターンテーブルのi番目の電
圧データ V :電圧データを決定する関数式 Tpp :発振休止時間 Vpl :パワーロック電圧 Tk :連続パルス発振開始からの経過時間 ここに、電圧データV(1)、V(2)、V(3)…
は、レーザ装置の最大繰返し周波数をfとしたとき、1
/fなる周期以下の時間間隔Tstごとに記憶されてい
る。 (ス
テップ101) 出力制御部6では、トリガ信号Tr の受信のタイミング
と2種類のタイマ割込みのタイミングで所定の割込み処
理が行われる。すなわち、上記電圧パターンテーブル作
成、記憶処理を終了したならば、割込み受付状態にする
(ステップ102)。出力制御部6が割込み受付状態に
なると同時に、図2(b)のタイマ割込みルーチンAに
移行する。タイマ割込みルーチンAでは、前回トリガ信
号Tr が送られてきてから次回にトリガ信号Tr が送ら
れてくるまでの間、カウンタを順次カウントアップさ
せ、カウント数nを+1インクリメントさせる(ステッ
プ104)。
V (i) = V (Tpp, Vpl, Tk) (2) where V (i): the i-th voltage data in the voltage pattern table V: a functional expression for determining the voltage data Tpp: oscillation pause time Vpl: Power lock voltage Tk: Elapsed time from start of continuous pulse oscillation Here, voltage data V (1), V (2), V (3) ...
Is 1 when the maximum repetition frequency of the laser device is f.
It is stored for each time interval Tst equal to or less than the cycle of / f. (Step 101) The output control section 6 performs a predetermined interrupt process at the timing of receiving the trigger signal Tr and the timing of two types of timer interrupts. That is, when the above-described voltage pattern table creation and storage processing is completed, an interrupt acceptance state is set (step 102). At the same time as the output control unit 6 enters the interrupt accepting state, the process shifts to the timer interrupt routine A of FIG. In the timer interrupt routine A, the counter is sequentially incremented and the count number n is incremented by +1 until the next time the trigger signal Tr is sent after the previous trigger signal Tr is sent (step 104).

【0037】次回のトリガ信号Tr が受信されると、同
図(d)に示すトリガ割込みルーチンに移行される。こ
こでは、まずタイマ割込みルーチンAでのカウントアッ
プをやめて、その時点のカウント数nを時間に換算する
処理を行い、換算された時間を発振休止時間Tppとす
る。たとえば、タイマ割込みのインターバルが10ms
ecであり、カウント数nが15であれば、両者を乗算
することにより休止時間Tppが150msecとされる
(ステップ106)。
When the next trigger signal Tr is received, the process proceeds to the trigger interrupt routine shown in FIG. Here, first, the count-up in the timer interrupt routine A is stopped, the process of converting the count number n at that time into time is performed, and the converted time is set as the oscillation suspension time Tpp. For example, the timer interrupt interval is 10 ms
ec, and if the count number n is 15, the pause time Tpp is set to 150 msec by multiplying the two (step 106).

【0038】続いてタイマのカウント数nが零にリセッ
トされる(ステップ107)。つぎにステップ106で
得られた発振休止時間Tppが、所定の上限値Tul以上で
あるか否かが判断される。この上限値Tulが、それ以上
の時間ではスパイキング現象のパルスエネルギーEを変
化させる効果が一定であり、もはや発振休止時間には依
存しないものとして実験等により求められ、所定のメモ
リに記憶されておかれるものである(ステップ10
8)。また、ステップ106で得られた発振休止時間T
ppが、所定の下限値Tbs以上であるか否かが判断され
る。すなわち、パルス発振の時間間隔が十分に小さい
と、放電空間に直前のパルス発振による密度擾乱等の影
響が強く残っており、スパイキング現象は発生しない。
そこで、それよりも小さい時間では、スパイキング現象
が発生しない下限の時間Tbsが実験等により求められ、
所定のメモリに記憶されておかれる(ステップ11
0)。
Subsequently, the count n of the timer is reset to zero (step 107). Next, it is determined whether or not the oscillation suspension time Tpp obtained in step 106 is equal to or longer than a predetermined upper limit value Tul. When the upper limit value Tul is longer than this, the effect of changing the pulse energy E of the spiking phenomenon is constant, and is determined by experiments or the like as being no longer dependent on the oscillation pause time, and stored in a predetermined memory. (Step 10
8). Further, the oscillation suspension time T obtained in step 106
It is determined whether pp is greater than or equal to a predetermined lower limit value Tbs. That is, if the time interval between pulse oscillations is sufficiently small, the influence of density disturbance or the like due to the immediately preceding pulse oscillation remains strongly in the discharge space, and the spiking phenomenon does not occur.
Therefore, for a shorter time, the lower limit time Tbs at which the spiking phenomenon does not occur is determined by experiments or the like.
It is stored in a predetermined memory (step 11
0).

【0039】ここで、発振休止時間Tppが上限値Tul以
上であると判断されたならば(ステップ108の判断Y
ES)、Tpp=Tulとして(ステップ109)、図示せ
ぬ電圧データタイマカウンタのカウント数iを1にセッ
トする(ステップ111)。そして、この時点で、出力
制御部6は、次の連続パルス発振が始まったものと認識
し、図2(c)のタイマ割込みルーチンBにて、連続パ
ルス発振開始からの経過時間を測定する、上記電圧デー
タのタイマカウンタによる計時をスタートさせる。この
経過時間を計時するタイマカウンタは、タイマ割込みル
ーチンAのインクリメント間隔と異なり、(2)式の電
圧パターンテーブルを作成する際に設定された時間間隔
Tstと同一時間間隔でカウント数iが順次+1インクリ
メントされる(ステップ105)。
Here, if it is determined that the oscillation suspension time Tpp is equal to or greater than the upper limit value Tul (determination Y in step 108)
ES), Tpp = Tul (step 109), and the count i of a voltage data timer counter (not shown) is set to 1 (step 111). At this point, the output control unit 6 recognizes that the next continuous pulse oscillation has started, and measures the elapsed time from the start of the continuous pulse oscillation in the timer interrupt routine B of FIG. The timer starts counting the voltage data. The timer counter for counting the elapsed time differs from the increment interval of the timer interrupt routine A, and the count number i is sequentially increased by +1 at the same time interval Tst set when the voltage pattern table of the formula (2) is created. It is incremented (step 105).

【0040】出力制御部6では、連続パルス発振が開始
されたと認識したら、現時点のパワーロック電圧Vpl、
連続パルス発振直前の発振休止時間Tpp=Tul、i=1
に対応する放電電圧V(i)がメモリから読み出され、
これがレーザ電源部8に出力され、放電が行われる。こ
の結果、連続パルス発振の最初のパルスはスパイキング
現象の影響が除去されたものにされ、所望のパルスエネ
ルギーEdが得られる。しかも、Tppが上限値Tul以上
では、Tppに応じた複数の放電電圧V(i)のデータを
記憶しておく必要はなく、一定値Tulに応じて一義的に
定まる放電電圧V(i)のデータのみをメモリに記憶し
ておけばよいので、記憶容量が少なくて済み、コスト低
減等が図られる(ステップ113)。
When the output control unit 6 recognizes that the continuous pulse oscillation has started, the current power lock voltage Vpl,
Oscillation pause time immediately before continuous pulse oscillation Tpp = Tul, i = 1
Is read from the memory, and the discharge voltage V (i) corresponding to
This is output to the laser power supply unit 8 and discharge is performed. As a result, the first pulse of the continuous pulse oscillation is made one in which the influence of the spiking phenomenon is removed, and a desired pulse energy Ed is obtained. Moreover, when Tpp is equal to or more than the upper limit value Tul, it is not necessary to store data of a plurality of discharge voltages V (i) corresponding to Tpp, and the discharge voltage V (i) is uniquely determined according to the constant value Tul. Since only the data needs to be stored in the memory, the storage capacity can be reduced and the cost can be reduced (step 113).

【0041】また、休止時間Tppが下限値Tbs以上で、
上限値Tulよりも小さい場合には(ステップ110の判
断YES)、連続パルス発振の最初のパルスよりあらた
めてスパイキング現象の影響を除去すべく、経過時間タ
イマカウンタのカウント数iを1にセットする(ステッ
プ111)。そしてステップ106で得られた連続パル
ス発振直前の発振休止時間Tpp、現時点のパワーロック
電圧Vpl、i=1に対応する放電電圧V(i)がメモリ
から読み出され、これがレーザ電源部8に出力され、放
電が行われる。この結果、連続パルス発振の最初のパル
スはスパイキング現象の影響が除去されたものにされ、
所望のパルスエネルギーEdが得られる(ステップ11
3)。
When the pause time Tpp is equal to or longer than the lower limit value Tbs,
If it is smaller than the upper limit value Tul (YES in step 110), the count i of the elapsed time timer counter is set to 1 in order to eliminate the effect of the spiking phenomenon again from the first pulse of the continuous pulse oscillation (step 110). Step 111). Then, the oscillation pause time Tpp immediately before the continuous pulse oscillation obtained in step 106, the current power lock voltage Vpl, and the discharge voltage V (i) corresponding to i = 1 are read out from the memory and output to the laser power supply unit 8. And discharge is performed. As a result, the first pulse of the continuous pulse oscillation has the effect of the spiking phenomenon removed,
A desired pulse energy Ed is obtained (step 11)
3).

【0042】また、休止時間Tppが下限値Tbsよりも小
さい場合には(ステップ110の判NO)、連続パルス
発振が継続されているものと判断し、連続パルス発振開
始からの経過時間を検出すべく経過時間を計時するタイ
マカウンタのカウント数iを読取り(ステップ11
2)、直前まで使用していた電圧パターンテーブルのi
番目の電圧データV(i)がメモリから読み出され、こ
れがレーザ電源部8に出力され、放電が行われる。この
結果、連続パルス発振のi番目のパルスはスパイキング
現象の影響が除去されたものにされ、所望のパルスエネ
ルギーEdが得られる(ステップ114)。
If the pause time Tpp is smaller than the lower limit value Tbs (NO in step 110), it is determined that continuous pulse oscillation is continuing, and the time elapsed from the start of continuous pulse oscillation is detected. The count i of the timer counter for measuring the elapsed time is read (step 11).
2), i of the voltage pattern table used immediately before
The third voltage data V (i) is read from the memory, output to the laser power supply unit 8, and discharge is performed. As a result, the i-th pulse of the continuous pulse oscillation is made the one in which the influence of the spiking phenomenon is removed, and the desired pulse energy Ed is obtained (step 114).

【0043】このように、実施例では、電圧計算式
(2)をTpp、Vpl、Tk を変数とした関数式としてお
り、図4を参照して前述したように、変数TppとVplが
決まればスパイキング現象の発生パターンを示す曲線が
一義的に定まる。換言すれば、変数TppとVplが決まれ
ば放電電圧の変化パターンも決まることになる。すなわ
ち、図3に放電電圧Vを縦軸に、連続パルス発振開始か
らの経過時間τを横軸にとって示すように、繰返し周波
数がいかなる値であっても、スパイキング発生防止制御
の電圧データは同図の曲線上に乗ることになる。このこ
とから、1組の(Tpp、Vpl)ごとに、経過時間Tk か
ら図3の電圧パターン曲線を求める計算式を用意してお
き、電圧データの計算を経過時間Tk のみを変数とする
下記関数式(3)を用いて行うような実施も可能であ
る。
As described above, in the embodiment, the voltage calculation formula (2) is a function formula using Tpp, Vpl, and Tk as variables. As described above with reference to FIG. 4, if the variables Tpp and Vpl are determined, The curve indicating the spike phenomenon occurrence pattern is uniquely determined. In other words, if the variables Tpp and Vpl are determined, the change pattern of the discharge voltage will also be determined. That is, as shown in FIG. 3 where the vertical axis indicates the discharge voltage V and the elapsed time τ from the start of the continuous pulse oscillation is the horizontal axis, the voltage data of the spiking prevention control is the same regardless of the repetition frequency. It will be on the curve in the figure. For this reason, a formula for calculating the voltage pattern curve of FIG. 3 from the elapsed time Tk is prepared for each set of (Tpp, Vpl), and the voltage data is calculated using the following function using only the elapsed time Tk as a variable. An implementation using equation (3) is also possible.

【0044】V(i)=Vtv(Tk ) …(3) ただし、V(i):電圧パターンテーブルのi番目の電
圧データ Vtv :TppとVplの組合わせごとに用意された、電
圧データを決定する関数式 Tk :連続パルス発振開始からの経過時間 なお、実施例では、電圧データをTst≦1/fなるピッ
チTstで記憶しているが、連続パルス発振の繰返し周波
数の変化が、最大繰返し周波数fの近傍であるような場
合は、Tst=1/fとしても差し支えない。したがっ
て、この場合は従来技術における電圧データのピッチと
同じであり、従来の電圧パターンテーブルをそのまま用
いることができ、改良を低コストで行うことができる。
しかも、この場合には、従来技術では不可能であった繰
返し周波数が最大繰返し周波数fの整数分の1のときの
スパイキング発生防止制御を正確に行うことが可能とな
る。なお、実施例では、発振休止時間Tppおよびパワー
ロック電圧Vplを考慮した関数によって放電電圧Vを求
めるようにしているが、レーザチャンバ内にレーザガス
を新たに封入してからの経過時間等、スパイキング現象
の発生パターンに影響を与えるとされる種々のパラメー
タを変数とする関数によって放電電圧Vを求めるように
してもよい。
V (i) = Vtv (Tk) (3) where V (i): the i-th voltage data in the voltage pattern table Vtv: The voltage data prepared for each combination of Tpp and Vpl is determined. In the embodiment, the voltage data is stored at a pitch Tst such that Tst ≦ 1 / f, but the change in the repetition frequency of the continuous pulse oscillation is the maximum repetition frequency. In the case where f is near f, Tst = 1 / f may be set. Therefore, in this case, the pitch is the same as the pitch of the voltage data in the conventional technique, the conventional voltage pattern table can be used as it is, and the improvement can be performed at low cost.
Moreover, in this case, it is possible to accurately perform the spiking prevention control when the repetition frequency, which is impossible with the related art, is an integer fraction of the maximum repetition frequency f. In the embodiment, the discharge voltage V is obtained by a function in consideration of the oscillation pause time Tpp and the power lock voltage Vpl. However, spiking such as the elapsed time after newly filling the laser gas into the laser chamber is performed. The discharge voltage V may be obtained by a function using various parameters that are considered to affect the phenomenon occurrence pattern as variables.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
各繰返し周波数ごとにスパイキング発生防止制御用のデ
ータを記憶しておく必要がないので、メモリ容量が小さ
くてすむ等コスト低減が図られるとともに、繰返し周波
数が変化するレーザ装置であっても、各繰返し周波数に
適合したスパイキング発生防止制御が連続パルス発振開
始からの経過時間に応じて正確に行われることになり、
装置の信頼性をより向上させることができる。
As described above, according to the present invention,
Since it is not necessary to store spiking occurrence prevention control data for each repetition frequency, cost reduction can be achieved, such as a small memory capacity. Spiking occurrence prevention control suitable for the repetition frequency will be performed accurately according to the elapsed time from the start of continuous pulse oscillation,
The reliability of the device can be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は本発明に係るレーザ装置の出力制御装置
の実施例の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an embodiment of an output control device of a laser device according to the present invention.

【図2】図2は実施例の処理手順を示すフローチャート
である。
FIG. 2 is a flowchart illustrating a processing procedure according to the embodiment;

【図3】図3は連続パルス発振開始からの経過時間と放
電電圧との関係を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing a relationship between an elapsed time from the start of continuous pulse oscillation and a discharge voltage.

【図4】図4は連続パルス発振開始からの経過時間とパ
ルスエネルギーとの関係を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a relationship between an elapsed time from the start of continuous pulse oscillation and pulse energy.

【図5】図5はバーストモードとスパイキング現象を示
すために用いたグラフであり、時間に対するパルスエネ
ルギーの変化の様子を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph used to show a burst mode and a spiking phenomenon, and is a graph showing how the pulse energy changes with time.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ装置 6 出力制御部 10 ステッパ制御部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser apparatus 6 Output control part 10 Stepper control part

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 レーザ光を所定回数連続してパルス
発振させた後、所定時間パルス発振を休止させる運転を
繰り返し行うレーザ装置に適用され、充電電圧データに
基づき前記パルスのエネルギーが所定の大きさとなるよ
うに充電電圧を制御するレーザ装置の出力制御装置にお
いて、 レーザ装置の運転開始前に、連続パルスの各パルスのエ
ネルギーの大きさを同一にする充電電圧データを、連続
パルス発振が開始されてからの経過時間に応じて、連続
パルス発振直前の休止時間の各大きさ毎に、予め記憶し
ておくことを特徴とするレーザ装置の出力制御装置。
The present invention is applied to a laser device that repeatedly performs an operation of suspending pulse oscillation for a predetermined time after continuously oscillating a laser beam for a predetermined number of times, and based on charging voltage data, the energy of the pulse has a predetermined magnitude. In the output control device of the laser device for controlling the charging voltage so that the charging voltage data for making the magnitude of the energy of each pulse of the continuous pulse equal to each other before the operation of the laser device is started, the continuous pulse oscillation is started. An output control device for a laser device, which stores in advance for each magnitude of a pause time immediately before continuous pulse oscillation in accordance with an elapsed time from the laser beam.
【請求項2】 連続パルス発振の繰返し周波数の最
大値をfとしたとき、Tst≦1/fなる時間間隔Tstごと
に、充電電圧データが記憶されている請求項1記載のレ
ーザ装置の出力制御装置。
2. The output control of a laser device according to claim 1, wherein, when a maximum value of the repetition frequency of the continuous pulse oscillation is f, charging voltage data is stored at time intervals Tst such that Tst ≦ 1 / f. apparatus.
【請求項3】 レーザ装置の運転中に、連続パルス
発振が開始されてからの経過時間を計時し、この計時さ
れた経過時間に対応する記憶充電電圧データを読み出
し、この読み出された充電電圧が得られるように充電電
圧を制御するようにした請求項1または2記載のレーザ
装置の出力制御装置。
3. During operation of the laser device, an elapsed time from the start of continuous pulse oscillation is counted, and stored charging voltage data corresponding to the counted elapsed time is read out. 3. The output control device for a laser device according to claim 1, wherein the charging voltage is controlled so as to obtain the charging voltage.
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