JP2776141B2 - Frame for color picture tube - Google Patents

Frame for color picture tube

Info

Publication number
JP2776141B2
JP2776141B2 JP12153792A JP12153792A JP2776141B2 JP 2776141 B2 JP2776141 B2 JP 2776141B2 JP 12153792 A JP12153792 A JP 12153792A JP 12153792 A JP12153792 A JP 12153792A JP 2776141 B2 JP2776141 B2 JP 2776141B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frame
shadow mask
skirt
color picture
picture tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP12153792A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH05325817A (en
Inventor
務 伴野
良和 霜尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP12153792A priority Critical patent/JP2776141B2/en
Publication of JPH05325817A publication Critical patent/JPH05325817A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2776141B2 publication Critical patent/JP2776141B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はカラー受像管用フレーム
に関し、特にシャドウマスク型のカラー受像管用フレー
ムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a frame for a color picture tube, and more particularly to a frame for a color picture tube of a shadow mask type.

【0002】[0002]

【従来の技術】シャドウマスク型カラー受像管において
は、輝度を高くするために電子銃から高電流を流した時
に生じるシャドウマスクのドーミング現象により引き起
されるビームランディンブのずれによる色純度の劣化が
従来からの懸案事項となっており、各種の改善案が提案
されている。
2. Description of the Related Art In a shadow mask type color picture tube, color purity is deteriorated due to a beam landing deviation caused by a shadow mask doming phenomenon caused when a high current is supplied from an electron gun to increase luminance. Has been a concern in the past, and various improvements have been proposed.

【0003】それらの中で最も効果的と考えられる対策
は、熱膨張率の低いインバー材(36%Ni−Fe合
金)を用いたシャドウマスクを使う方法であるが、イン
バー材は従来の鉄材に比べて非常に高価であり、また、
その加工も難しくコストアップになってしまうために、
一部の高級機種に利用されているに過ぎない。
The most effective measure among them is to use a shadow mask using an invar material (36% Ni-Fe alloy) having a low coefficient of thermal expansion. Very expensive compared to
Because the processing is also difficult and costs increase,
It is only used for some high-end models.

【0004】ドーミングの生ずる経緯を図4及び図5を
用いて説明する。
[0004] The history of doming will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

【0005】シャドウマスク3の有孔面部への大量の電
子ビームの射突により熱が発生して有孔面部が温度上昇
し膨張しようとするが、電子ビームの当たらないシャド
ウマスク3のスカート部3Aは熱伝導で温度が上昇する
迄は膨張しないので、シャドウマスク3の有孔面部は初
期段階では周囲を抑えられたまま膨張することになり、
ドーム状にふくまれてしまう。その後、熱伝導によりシ
ャドウマスク3のスカート部3Aも温度上昇し膨張する
が、溶接点部はフレーム8の側壁部8Bに固定されてお
り、シャドウマスク3に比べて熱容量の大きいフレーム
8は温度は急には上昇しないのですぐには膨張はせず、
シャドウマスク3の溶接点はフレーム8に引っ張られ
る。また、熱伝導で温度上昇してもシャドウマスク3の
スカート部3Aは有孔面部に比べ温度は低いので、相変
わらす有孔面部を周囲から抑えている。そのため、ドー
ミングもすぐには解消せずフレーム8が一定温度に上昇
する迄ビームランディングは変化しつづける。この現象
は、サーマルドリフトと呼ばれている。
A large amount of electron beams impinge on the perforated surface of the shadow mask 3 to generate heat, causing the perforated surface to rise in temperature and expand. However, the skirt portion 3A of the shadow mask 3 not exposed to the electron beam. Does not expand until the temperature rises due to heat conduction, so the perforated surface of the shadow mask 3 expands with its surroundings suppressed in the initial stage,
It is included in a dome shape. Thereafter, the skirt portion 3A of the shadow mask 3 also rises in temperature due to heat conduction and expands. However, the welding point is fixed to the side wall portion 8B of the frame 8, and the frame 8 having a larger heat capacity than the shadow mask 3 has a lower temperature. Because it does not rise suddenly, it does not expand immediately,
The welding point of the shadow mask 3 is pulled by the frame 8. Even if the temperature rises due to heat conduction, the temperature of the skirt portion 3A of the shadow mask 3 is lower than that of the perforated surface portion, so that the perforated surface portion, which changes, is suppressed from the surroundings. Therefore, the doming does not disappear immediately, and the beam landing continues to change until the frame 8 rises to a certain temperature. This phenomenon is called thermal drift.

【0006】この溶接点部での束縛を緩和する方法とし
て、図6に示すように、シャドウますく3のスカート部
3Aの溶接点4の左右等に深い切り込みを入れて舌片部
3Bを形成し、シャドウマスク3の有孔部がより自由に
膨張できるようにした例もある(特開昭49−7397
0号公報及び実開昭49−24218号公報参照)。し
かし、このシャドウマスク3のスカート部3Aの溶接点
4近傍に切り込みを入れるという方法は、即、シャドウ
マスク3の強度を弱くすることにつながり製造工程中や
製品になった後も急激な機械的ショックがシャドウマス
ク3に加わった時に変形し易いという欠点にもなってい
る。
As a method of alleviating the constraint at the welding point, as shown in FIG. 6, a deep cut is made on the left and right of the welding point 4 of the skirt 3A of the shadow frame 3 to form a tongue piece 3B. However, there is also an example in which the perforated portion of the shadow mask 3 can be more freely expanded (JP-A-49-7397).
0 and JP-A-49-24218). However, the method of making a cut in the vicinity of the welding point 4 of the skirt portion 3A of the shadow mask 3 immediately reduces the strength of the shadow mask 3, which leads to a sharp mechanical action during the manufacturing process or even after the product is manufactured. Another drawback is that the shock is easily deformed when applied to the shadow mask 3.

【0007】最近は図7に示すように、フレーム8の側
壁部8Bの内側にシャドウマスク3を組み込む構造のシ
ャドウマスクフレーム構体もある。この場合、シャドウ
マスク3のスカート部3Aとフレーム8の側壁部8Bと
の嵌合がきついとスカート部3Aの熱膨張時にフレーム
8の側壁部8Bに抑えられて自由に膨張できず、シャド
ウマスク3のドーミングは解消されない。
Recently, as shown in FIG. 7, there is a shadow mask frame structure having a structure in which the shadow mask 3 is incorporated inside the side wall portion 8B of the frame 8. In this case, when the skirt portion 3A of the shadow mask 3 is tightly fitted to the side wall portion 8B of the frame 8, the thermal expansion of the skirt portion 3A is suppressed by the side wall portion 8B of the frame 8 and the skirt portion 3A cannot expand freely. Doming is not eliminated.

【0008】また、スカート部3Aとフレーム8の側壁
部8Bの間に適当に間隔を取り、かつ、フレーム8の底
面部8Aの開口部をシャドウマスク3のスカート部3A
に電子ビームが射突する程度に広くした場合、シャドウ
マスクドーミング時にはシャドウマスク3のスカート部
3Aも膨張するので、ドーミングを軽減することが可能
である。但し、フレーム8の熱容量によりサーマルドリ
フト安定迄の時間は決まってしまい、このような構造に
よっても短縮はできない。しかも、フレーム8の側壁部
8B内にシャドウマスク3を入れ溶接により固定すると
いう方式は、フレーム8側壁部8Bの外側にシャドウマ
スク3をかぶる図5の方式に比べてやりにくく設備的に
も費用がかかる上、シャドウマスク3の有効孔部も狭く
なるという欠点がある。
An appropriate space is provided between the skirt portion 3A and the side wall portion 8B of the frame 8, and the opening of the bottom portion 8A of the frame 8 is made to correspond to the skirt portion 3A of the shadow mask 3.
If the electron beam is widened so as to impinge on it, the skirt portion 3A of the shadow mask 3 expands during shadow mask doming, so that doming can be reduced. However, the time required for the thermal drift to stabilize depends on the heat capacity of the frame 8, and such a structure cannot shorten the time. In addition, the method in which the shadow mask 3 is inserted into the side wall portion 8B of the frame 8 and fixed by welding is harder to perform than the method of FIG. However, there is a disadvantage that the effective hole of the shadow mask 3 is also narrowed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】図4に示す従来用いら
れているフレーム8にシャドウマスクをマスクスカート
部が側壁部8Bの外側になるようにかぶせたシャドウマ
スク構体の場合、シャドウマスクスカート部が大部分フ
レーム8の影になってしまうため、NTSC信号等オー
バースキャンの走査が行われても、オーバースキャンさ
れた電子ビームの大部分はフレーム8の側壁部8Bか底
面部8Aに射突してしまい、シャドウマスク有孔部の温
度上昇に比べてスカート部の温度上昇が遅く、ドーミン
グ量が大きくなるという問題点がある。
In the case of a shadow mask structure in which a shadow mask is placed on the frame 8 used in the related art shown in FIG. 4 so that the mask skirt portion is outside the side wall portion 8B, the shadow mask skirt portion is not provided. Since most of the shadows of the frame 8 are shadowed, even when an overscan such as an NTSC signal is performed, most of the overscanned electron beam collides with the side wall 8B or the bottom surface 8A of the frame 8. As a result, there is a problem that the temperature rise of the skirt portion is slower than that of the hole portion of the shadow mask, and the amount of doming increases.

【0010】また、従来型フレーム8は底面部8Aで不
要なビームをカットうるよう底面部8Aの開口を画面に
影がでない程度迄小さ目にしており、また、フレーム8
の側壁部8Bもシャドウマスク折曲部から2〜3mm程
度迄ぎりぎりに立上げてシャドウマスクの外力による変
形をできる限り防止する形状となっていた。このために
フレーム8の表面積が大きく熱容量も大きなものとなっ
ていた。現在は、カラー受像管製造工程の自動化が大幅
に進み、人手がマスク構体に触れるチャンスは以前に比
べて非常に減っているので必要以上にフレーム8を強化
してシャドウマスク構体を丈夫な物に作り上げる必然性
が減っており、フレーム8の軽量化、即ち、熱容量を減
らすことが可能となったがドーミングの軽減及びサーマ
ルドリフトの早期安定化が十分に行われていないという
問題点がある。
In the conventional frame 8, the opening of the bottom portion 8A is made small so that no shadow is formed on the screen so that unnecessary beams can be cut off at the bottom portion 8A.
The side wall portion 8B has a shape that rises up to about 2 to 3 mm from the bent portion of the shadow mask to prevent deformation of the shadow mask due to external force as much as possible. For this reason, the surface area of the frame 8 was large and the heat capacity was also large. At present, the automation of the color picture tube manufacturing process has been greatly advanced, and the chance that humans touch the mask structure has been greatly reduced compared to before, so the frame 8 has been strengthened more than necessary to make the shadow mask structure robust. Although the necessity of the fabrication is reduced, the weight of the frame 8 can be reduced, that is, the heat capacity can be reduced. However, there is a problem that the doming is not sufficiently reduced and the thermal drift is not sufficiently stabilized at an early stage.

【0011】本発明の目的は、ドーミングの軽減及びサ
ーマルドリフトの早期安定化が可能なカラー受像管用フ
レームを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a color picture tube frame capable of reducing doming and stabilizing thermal drift at an early stage.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、シャドウマス
クを保持するシャドウマスク型のカラー受像管用フレー
ムにおいて、 (1)底面部に管軸と平行に前記シャドウマスクを固定
する複数の突起を形成する。
According to the present invention, there is provided a frame for a color picture tube of a shadow mask type for holding a shadow mask. (1) A plurality of projections for fixing the shadow mask in parallel with the tube axis are formed on the bottom surface. I do.

【0013】(2)底面部の外周に亘って底面部と垂直
方向に補強用折曲げ部を設け、該補強用折曲げ部に管軸
と平行に前記シャドウマスクを固定する複数の突起を形
成する。
(2) A reinforcing bent portion is provided in the direction perpendicular to the bottom portion over the outer periphery of the bottom portion, and a plurality of projections for fixing the shadow mask in parallel with the tube axis are formed in the reinforcing bent portion. I do.

【0014】(3)前記シャドウマスクを固定する複数
の突起間にパネルに取付けるスプリング固定用突起を形
成する。
(3) A spring fixing projection to be attached to the panel is formed between the plurality of projections for fixing the shadow mask.

【0015】[0015]

【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0016】図1は本発明の第1の実施例にシャドウマ
スクを装着した斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a first embodiment of the present invention in which a shadow mask is mounted.

【0017】第1の実施例は、図1に示すように、フレ
ーム1の底面部1Aにシャドウマスク3のスカート部3
Aを溶接するための複数の突起2を底面部1Aと垂直に
立てている。底面部1Aの開口の大きさは電子ビームが
シャドウマスク3のスカート部3Aの大部分に射突する
が、スカート部3Aの下部をすり抜けることはない寸法
に設定する。これにより、NTSC信号等オーバースキ
ャンの走査が行われた時、シャドウマスク3のスカート
部3Aにも電子ビームが射突するのでシャドウマスク3
は有孔部面のみでなく、スカート部3Aも同時に温度上
昇が生じ有孔部面のみが部分的に膨張することはなく、
スカート部3Aも同時に膨張するのでドーミングは非常
に小さくなる。スカート部3Aが膨張しても溶接点4で
押さえられているのでスカート部3Aの弾性の範囲内で
シャドウマスク3の折曲部も膨張するが、有孔部面から
の伝導熱のみでスカート部3Aの温度が上昇するのと異
り直接電子ビームの射突も受けスカート部3Aの温度上
昇も従来より高くなるので、折曲部の膨張も大きくなり
結果としてドーミングによるビームランディングずれが
減少する。
In the first embodiment, as shown in FIG. 1, a skirt 3 of a shadow mask 3 is provided on the bottom 1A of the frame 1.
A plurality of protrusions 2 for welding A are set up perpendicular to the bottom surface 1A. The size of the opening in the bottom portion 1A is set to a size such that the electron beam collides with most of the skirt portion 3A of the shadow mask 3 but does not pass through the lower portion of the skirt portion 3A. Thus, when an overscan of an NTSC signal or the like is performed, the electron beam also impinges on the skirt portion 3A of the shadow mask 3, so that the shadow mask 3
Is not only the perforated surface, but also the skirt portion 3A simultaneously raises the temperature, and only the perforated surface does not partially expand.
Since the skirt 3A also expands at the same time, the doming becomes very small. Even if the skirt portion 3A expands, the bent portion of the shadow mask 3 expands within the elastic range of the skirt portion 3A because the skirt portion 3A is pressed by the welding point 4, but the skirt portion is only heated by the conduction heat from the perforated surface. Unlike the case where the temperature of 3A rises, both the direct electron beam bombardment and the temperature rise of the receiving skirt portion 3A become higher than before, so that the bending portion expands and as a result, the beam landing deviation due to doming decreases.

【0018】更に、フレーム1の熱容量が小さくなった
ので、サーマルドリフトの安定までの時間も従来に比べ
ほぼ重量に比例して小さくなる。この場合、フレーム1
をパネルに取付けるためのスプリングの溶接はフレーム
1の底面部1Aで行う。
Further, since the heat capacity of the frame 1 is reduced, the time required for stabilizing the thermal drift is reduced in proportion to the weight as compared with the conventional case. In this case, frame 1
The spring for attaching the frame to the panel is welded at the bottom 1A of the frame 1.

【0019】図2は本発明の第2の実施例の斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view of a second embodiment of the present invention.

【0020】第2の実施例は図2に示すように、フレー
ム5の底面部5Aの周辺に爪状の突起2よりも背の低い
補強用折曲げ部5Bを形成し、フレーム5の強度アップ
を行う。これにより図1に示す第1の実施例のフレーム
1よりもビームランディングのばらつきを抑えることが
できる。
In the second embodiment, as shown in FIG. 2, a reinforcing bent portion 5B shorter than the claw-shaped projection 2 is formed around the bottom surface 5A of the frame 5 to increase the strength of the frame 5. I do. This makes it possible to suppress the variation in beam landing more than in the frame 1 of the first embodiment shown in FIG.

【0021】図3は本発明の第3の実施例の斜視図であ
る。
FIG. 3 is a perspective view of a third embodiment of the present invention.

【0022】第3の実施例は、図3に示すように、フレ
ーム6をパネルに取付けるためのスプリングを溶接する
スプリング溶接用突起7を図2に示す第2の実施例の突
起2間の補強用折曲げ部5Bに設ける。これにより、従
来から使用していたスプリングを用いることができ、第
1,第2の実施例の場合のようにフレーム底面部6Aに
スプリングを溶接する必要もなくなり、作業性が向上し
て全体としてコストダウンができる効果がある。
In the third embodiment, as shown in FIG. 3, a spring welding projection 7 for welding a spring for attaching the frame 6 to the panel is reinforced between the projections 2 of the second embodiment shown in FIG. It is provided in the bending part 5B for use. As a result, the spring used conventionally can be used, and it is not necessary to weld the spring to the frame bottom portion 6A as in the first and second embodiments. This has the effect of reducing costs.

【0023】なお、図1に示す第1の実施例の突起2間
の底面部1Aに垂直方向にスプリング溶接用突起7を設
けても同じ効果が得られる。
The same effect can be obtained by providing a spring welding projection 7 in the vertical direction on the bottom surface 1A between the projections 2 of the first embodiment shown in FIG.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、フレーム
を軽量化するとともにシャドウマスクのスカート部の大
部分にも電子ビームが射突する構造としたので、初期ド
ーミングによるビームランディングの変化が従来に比べ
小さくなるとともに、サーマルドソフトの安定時間も短
縮するという効果を有する。
As described above, the present invention has a structure in which the frame is made lighter and the electron beam collides with most of the skirt portion of the shadow mask. And has the effect of shortening the stabilization time of the thermal software.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例にシャドウマスクを装着
した斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a first embodiment of the present invention in which a shadow mask is mounted.

【図2】本発明の第2の実施例の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施例の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a third embodiment of the present invention.

【図4】従来のフレームの一例の斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of an example of a conventional frame.

【図5】従来のシャドウマスクとフレームの組合わせ構
造の一例の断面図である。
FIG. 5 is a sectional view of an example of a conventional combination structure of a shadow mask and a frame.

【図6】従来のフレームのマスク切欠きの一例を説明す
るシャドウマスクとフレームの組合わせ部の部分拡大断
面図である。
FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional view of a combination portion of a shadow mask and a frame for explaining an example of a mask cutout of a conventional frame.

【図7】従来のシャドウマスクとフレームの組合わせ構
造の他の例の断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view of another example of a conventional combination structure of a shadow mask and a frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,5,6,8 フレーム 1A,5A,6A,8A 底面部 2 突起 3 シャドウマスク 3A スカート部 3B 舌片部 4 溶接点 5B,6B 補強用折曲げ部 7 スプリング溶接用突起 8A 底面部 8B 側壁部 1, 5, 6, 8 Frame 1A, 5A, 6A, 8A Bottom part 2 Projection 3 Shadow mask 3A Skirt part 3B Tongue piece 4 Welding point 5B, 6B Reinforcing bent part 7 Spring welding projection 8A Bottom part 8B Side wall Department

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01J 29/07 H01J 29/02──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01J 29/07 H01J 29/02

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 開口を有する底面部と、この底面部から
ほぼ垂直方向に伸びる側壁部とを有し、この側壁部にシ
ャドウマスクのスカート部を固定するカラー受像管用フ
レームにおいて、前記側壁部は、前記底面部からほぼ垂
直に伸びる複数の突起によって形成されており、前記突
起にシャドウマスクのスカート部を固定することを特徴
とするカラー受像管用フレーム。
1. A bottom portion having an opening, and from the bottom portion
And a side wall extending substantially vertically.
A color picture tube tube fixing the skirt of the shadow mask
In the frame, the side wall portion is substantially perpendicular to the bottom surface portion.
Formed by a plurality of projections extending straight,
The feature is that the skirt of the shadow mask is fixed at the beginning
For a color picture tube.
【請求項2】 開口を有する底面部とこの底面部からほ
ぼ垂直方向に伸びる側壁部とを有し、この側壁部にシャ
ドウマスクのスカート部を固定するカラー受像管用フレ
ームにおいて、前記側壁部は、前記底面部からほぼ垂直
に伸びる補強用折曲げ部と、この補強用折曲げ部に設け
た複数の突起とにより形成されており、前記突起にシャ
ドウマスクのスカート部を固定することを特徴とするカ
ラー受像管用フレーム。
2. A bottom portion having an opening and a distance from the bottom portion.
And a side wall extending vertically.
Frame for color picture tube to fix skirt of dough mask
Wherein the side wall portion is substantially perpendicular to the bottom surface portion.
And a reinforcing fold that extends
Formed by a plurality of projections,
The skirt of the dough mask is fixed.
Frame for color picture tube.
【請求項3】 前記シャドウマスクのスカート部を固定
する複数の突起間に、パネルにフレームを取付けるため
スプリング固定用突起を形成したことを特徴とする請
求項1または2記載のカラー受像管用フレーム。
3. A frame is mounted on a panel between a plurality of projections for fixing a skirt portion of the shadow mask.
Color picture tube frame according to claim 1 or 2, wherein the forming the spring fixing projections.
JP12153792A 1992-05-14 1992-05-14 Frame for color picture tube Expired - Lifetime JP2776141B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12153792A JP2776141B2 (en) 1992-05-14 1992-05-14 Frame for color picture tube

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12153792A JP2776141B2 (en) 1992-05-14 1992-05-14 Frame for color picture tube

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05325817A JPH05325817A (en) 1993-12-10
JP2776141B2 true JP2776141B2 (en) 1998-07-16

Family

ID=14813704

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12153792A Expired - Lifetime JP2776141B2 (en) 1992-05-14 1992-05-14 Frame for color picture tube

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2776141B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980022928A (en) * 1996-09-24 1998-07-06 손욱 Shadow Mask Support Frame
KR100544112B1 (en) * 1999-03-29 2006-01-23 삼성에스디아이 주식회사 Mask-frame assembley for cathod ray tube

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05325817A (en) 1993-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3526466B2 (en) Color picture tube
US6150760A (en) Cathode ray tube
JP2776141B2 (en) Frame for color picture tube
JP2820885B2 (en) Getter fixing device for cathode ray tube
KR100319085B1 (en) Hook spring of shadow mask frame assembly and color cathode ray tube using it
JP2703881B2 (en) Color picture tube
US5252889A (en) Color CRT with means for correcting mislanding of electron beams
KR20010102331A (en) A color cathode ray tube comprising a tension mask
US4524298A (en) Color cathode ray tube incorporating improved thermal compensation type aperture mask supporting means
JP2515819B2 (en) Shed mask structure
JPS63170834A (en) Color picture tube
JP2783539B2 (en) Color picture tube
JPS585306Y2 (en) color picture tube
JPS633418B2 (en)
KR950003511B1 (en) Spring supporting frame of crt
JP3430493B2 (en) Shadow mask structure
KR19980022928A (en) Shadow Mask Support Frame
JPH0850861A (en) Color cathode ray tube
JPS6331333Y2 (en)
KR870002197B1 (en) Shadow mask for colour-television
KR200235772Y1 (en) Spring for correcting thermal expansion of shadow mask
JP2793197B2 (en) Color picture tube
JP3476686B2 (en) Color picture tube
KR920002587Y1 (en) Hook spring and stud pin of crt
JPH0750136A (en) Cathode-ray tube

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19980331