JP2772640B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP2772640B2
JP2772640B2 JP63106982A JP10698288A JP2772640B2 JP 2772640 B2 JP2772640 B2 JP 2772640B2 JP 63106982 A JP63106982 A JP 63106982A JP 10698288 A JP10698288 A JP 10698288A JP 2772640 B2 JP2772640 B2 JP 2772640B2
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宏之 山崎
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、歩留りの高い半導体記憶装置に関するも
のである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor memory device having a high yield.

[従来の技術] 近年、産業用および民生用機器のマイクロエレクトロ
ニクス化の要請に応えるため、LSI(大規模集積回路)
をさらに大規模化したVLSI(超大規模集積回路)が開発
され、商用に供されている。
[Prior art] In recent years, in order to respond to the demand for microelectronics of industrial and consumer equipment, LSI (Large Scale Integrated Circuit)
VLSIs (ultra large scale integrated circuits), which have been further scaled up, have been developed and are commercially available.

このようなVLSIでは、1つのシリコンチップ上に数百
万個の素子を集積する必要があり、そのため最小寸法約
1μmという微細な加工技術が用いられる。このため、
従来では問題とならなかった粒径1μm以下の異物や、
加工のための各種材料の残留物などがデバイスに悪影響
を与え、良品の取れ率すなわち歩留りが著しく低下され
る。
In such a VLSI, it is necessary to integrate millions of elements on one silicon chip, and therefore, a fine processing technology with a minimum dimension of about 1 μm is used. For this reason,
Foreign matter with a particle size of 1 μm or less, which was not a problem in the past,
Residues of various materials for processing adversely affect the device, and the yield of non-defective products, that is, the yield is significantly reduced.

そこで、この歩留りを向上させるために、一般に冗長
回路技術が採用されている。これは、同一のチップ上に
予備(スペア)のワード線またはビット線を設け、メモ
リセルアレイ内に欠陥セルがあるとき、この欠陥セルを
ワード線またはビット線単位で予備の線に置き換えると
いうものである。これにより、不良品として除かれるは
ずのチップの大部分がこのような冗長回路を採用するこ
とにより救済されるので、歩留りを大幅に改善すること
ができる。
Therefore, in order to improve the yield, a redundant circuit technology is generally adopted. In this method, a spare (spare) word line or bit line is provided on the same chip, and when there is a defective cell in the memory cell array, the defective cell is replaced with a spare line in word or bit line units. is there. As a result, most of the chips that should be removed as defectives are relieved by employing such a redundant circuit, so that the yield can be greatly improved.

第3図は、冗長回路を備える従来の1M(メガ)ビット
ダイナミックRAM(Random Access Memory)を示すブロ
ック図である。この図では簡単化のために冗長回路に関
する部分が省略されているが、これについては後で説明
する。
FIG. 3 is a block diagram showing a conventional 1M (mega) bit dynamic RAM (Random Access Memory) having a redundant circuit. In this figure, a portion relating to a redundant circuit is omitted for simplification, but this will be described later.

第3図を参照して、このダイナミックRAMは、4つの
ブロックに分割されたメモリアレイ1ないし4と、各メ
モリアレイ1ないし4に含まれるワード線を駆動するた
めの信号WDSを発生するワード線駆動信号発生回路51
と、ワード線駆動信号WDSをブーストするためのワード
線ブースト回路10とを含む。ワード線駆動信号発生回路
51はRASバッファ52を介して▲▼(行アドレスス
トローブ)信号を受けるように接続される。各メモリア
レイ1ないし4、たとえばメモリアレイ1は、行デコー
ダ1aと、センスアンプ1bと、列デコーダ1cとが接続され
る。
With reference to FIG. 3, the dynamic RAM is four and to memory arrays 1 are divided into blocks 4, word for generating a signal W DS for driving the word lines contained to 4 each memory no array 1 Line drive signal generation circuit 51
When, and a word line boost circuit 10 for boosting the word line drive signal W DS. Word line drive signal generation circuit
Reference numeral 51 is connected to receive a ▲ ▼ (row address strobe) signal via a RAS buffer 52. In each of the memory arrays 1 to 4, for example, the memory array 1, a row decoder 1a, a sense amplifier 1b, and a column decoder 1c are connected.

このダイナミックRAMは、4つのブロックのメモリア
レイ1ないし4に対して、ニブルモードと称される4ビ
ットの高速シリアルアクセスモードでアクセスされる。
In this dynamic RAM, four blocks of memory arrays 1 to 4 are accessed in a 4-bit high-speed serial access mode called a nibble mode.

次に、動作について説明する。 Next, the operation will be described.

一般に、ダイナミックRAMは行および列のアドレス信
号を時分割で端子A0ないしA9を介し受ける。まず、それ
ぞれのアドレス信号は、それぞれ▲▼信号および
▲▼(列アドレスストローブ)信号が下降するエ
ッジタイミングで入力される。次に、行アドレス信号に
より4つの行デコーダのうちの1つが選択され、ブース
トされたワード線駆動信号WDBによりワード線が活性化
される。一方、列アドレス信号により4つの列デコーダ
のうちの1つが選択され、ビット線が選択される。これ
により、たとえば、読出動作時にはメモリセルにストア
された信号がビット線に与えられる。
In general, a dynamic RAM receives row and column address signals in a time sharing manner through terminals A0 to A9. First, each address signal is input at the edge timing when the ▲ ▼ signal and ▲ ▼ (column address strobe) signal fall. Next, one of the four row decoders is selected by the row address signal, and the word line is activated by the boosted word line drive signal WDB . On the other hand, one of the four column decoders is selected by the column address signal, and the bit line is selected. Thereby, for example, a signal stored in a memory cell is applied to a bit line during a read operation.

第4図は、従来の1つのメモリセルの等価回路を示す
回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of one conventional memory cell.

第4図を参照して、メモリセルMCは、ワード線WLおよ
びビット線BLに接続されたスイッチング用のトランジス
タQMと、キャパシタCSとを含む。ハイレベル(1)また
はローレベル(0)の電圧をこのキャパシタCSに与える
ことにより、信号がストアされる。
Referring to Figure 4, the memory cell MC includes a transistor Q M for switching connected to the word line WL and bit line BL, and a capacitor C S. By applying a voltage of high level (1) or low (0) to the capacitor C S, the signal is stored.

キャパシタCSの一方電極に或る一定レベルの電圧VCP
が与えられる。ワード線WLが活性化されるとトランジス
タQMがオンする。これにより、キャパシタCSにストアさ
れた電荷がフローティング状態にもたらされたビット線
BLに与えられる。ここで、ビット線BLの浮遊容量CBL
キャパシタCSの容量の10倍程度の大きさなので、ビット
線BLにはわずか数百mVの電位変化が現われる。
Voltage V CP of a certain level to one electrode of the capacitor C S
Is given. When the word line WL is activated transistor Q M is turned on. Accordingly, the bit line charge stored in the capacitor C S is brought to a floating state
Given to BL. Here, the stray capacitance C BL of the bit line BL because the 10 times the magnitude of the capacitance of the capacitor C S, appear only a few hundred mV of potential change in the bit line BL.

そこで、第3図に示されるように、この電位変化は、
センスアンプにより増幅された後、読出書込用のI/O線
に与えられる。また、この信号はプリアンプによりさら
に増幅される。
Therefore, as shown in FIG.
After being amplified by the sense amplifier, it is supplied to a read / write I / O line. This signal is further amplified by a preamplifier.

以上の一連の動作により、メモリアレイ1ないし4中
でそれぞれ指定されたメモリセルMC1ないしMC4の4ビッ
トの信号がI/O線を介して同時にプリアンプ21ないし24
に与えられる。
By the above series of operations, the 4-bit signals of the memory cells MC1 to MC4 specified in the memory arrays 1 to 4 are simultaneously transmitted to the preamplifiers 21 to 24 via the I / O lines.
Given to.

ニブルモードにおいて、ニブルデコーダ58はシフトレ
ジスタとして動作し、CAS信号のトグルにより4ビット
のこれらの信号を順次高速に出力バッファ57に転送す
る。一方、通常のモードでは、ニブルデコーダ58は、最
上位の行および列アドレス信号RA9およびCA9をデコード
するデコーダとして動作し、アドレス信号RA9およびCA9
に応答して4ビットの信号のうちから1ビットの信号が
出力バッファ57に転送される。
In the nibble mode, the nibble decoder 58 operates as a shift register, and sequentially transfers these 4-bit signals to the output buffer 57 at high speed by toggling of the CAS signal. On the other hand, in the normal mode, nibble decoder 58 operates as a decoder for decoding top row and column address signals RA9 and CA9, and sets address signals RA9 and CA9.
, A 1-bit signal of the 4-bit signal is transferred to the output buffer 57.

一方、書込動作では、逆に入力バッファ56を介して入
力された入力データがI/O線を経由してメモリセルMC1な
いしMC4に書込まれる。
On the other hand, in the write operation, the input data input via the input buffer 56 is written to the memory cells MC1 to MC4 via the I / O lines.

次に、ワード線ブースト回路について説明する。 Next, the word line boost circuit will be described.

再び第4図を参照して、ワード線WLが高レベルに変化
するとトランジスタQMがオンする。この高レベルが電源
電圧レベルVccであるとすると、トランジスタQMのしき
い値電圧VTHだけ高レベルの記憶レベルが失われる。こ
の損失率は通常20%程度であり、直ちに誤動作が起こる
わけではない。しかし、たとえば、電源電圧レベルが低
くなると、相対的に損失が大きくなり動作マージンが減
少するなどの問題が生じる。ワード線ブースト回路は、
この問題を解決するためのもので、ワード線の電圧レベ
ルを、電源電圧レベルVccにトランジスタQMのしきい値
電圧VTHを加えた値以上に昇圧するものである。
Referring to Figure 4 again, when the word line WL is changed to a high level, the transistor Q M is turned on. Assuming that this high level is the power supply voltage level Vcc, the storage level higher by the threshold voltage VTH of the transistor QM is lost. This loss rate is usually about 20%, and does not cause a malfunction immediately. However, for example, when the power supply voltage level is lowered, there is a problem that the loss is relatively increased and the operation margin is reduced. The word line boost circuit
The problem intended to solve, the voltage level of the word line is intended to boost the power supply voltage level Vcc over a value obtained by adding the threshold voltage V TH of the transistor Q M.

第5図は、従来のワード線ブースト回路の一例を示す
回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a conventional word line boost circuit.

第5図を参照して、このワード線ブースト回路10は、
ワード線駆動信号WDSを受けるように接続されたインバ
ータ41と、その出力に接続されたクロックトインバータ
42と、クロックトインバータ42の出力に接続された遅延
のためのインバータ43ないし46の直列接続と、ブースト
用のキャパシタCBとを含む。インバータ44および45が接
続されるノードNFはクロックトインバータ42のクロック
入力に接続される。なお、ノードNBはインバータ46の出
力を示し、WDBはブーストされたワード線駆動信号を示
す。
Referring to FIG. 5, this word line boost circuit 10
Inverter 41 connected to receive word line drive signal WDS , and a clocked inverter connected to its output
Includes a 42, a series connection of the inverter 43 to 46 for the connected delay the output of the clocked inverter 42, and a capacitor C B for the boost. Node N F of the inverter 44 and 45 are connected is connected to the clock input of the clocked inverter 42. Incidentally, the node N B denotes the output of the inverter 46, W DB denotes a boosted word line driving signal.

第6図は、第5図に示されたワード線ブースト回路の
動作を説明するためのタイミング図である。
FIG. 6 is a timing chart for explaining the operation of the word line boost circuit shown in FIG.

次に、第5図および第6図を参照して、このワード線
ブースト回路10の動作について説明する。
Next, the operation of the word line boost circuit 10 will be described with reference to FIG. 5 and FIG.

まず、時刻T0においてワード線駆動信号WDSが高レベ
ルに変化する。出力信号WDBは、インバータ41および42
により遅延して時刻T1において高レベルに変化する。さ
らに、ノードNFの電圧レベルVNFは、インバータ43およ
び44により遅延して時刻T2において高レベルに変化す
る。クロックトインバータ42はこの高レベルの電圧VNF
によりカットオフされ、クロックトインバータ42の出力
(このワード線ブースト回路10の出力)が電源電圧レベ
ルVccを有するフローティング状態にもたらされる。
First, the word line drive signal W DS is changed to the high level at time T 0. Output signal W DB is supplied to inverters 41 and 42
It changes to high level at time T 1 and delayed by. Further, the voltage level V NF node N F is changed to the high level at time T 2, delayed by the inverter 43 and 44. The clocked inverter 42 uses this high level voltage V NF
And the output of clocked inverter 42 (the output of word line boost circuit 10) is brought into a floating state having power supply voltage level Vcc.

この後、さらに、ノードNBの電圧レベルVNBがインバ
ータ45および46の遅延により時刻T3において高レベルに
変化する。これにより、出力信号WDBの電圧レベルはキ
ャパシタCBの容量結合により電源電圧レベルVccを越え
るレベルVcc+Vαに昇圧される。キャパシタCBの容量
値を適当に設定することにより、このVαをトランジス
タQMのしきい値電圧VTH以上にする。
Thereafter, further, the voltage level V NB Node N B is changed to the high level at time T 3 by the delay of the inverters 45 and 46. Accordingly, the voltage level of the output signal W DB is boosted to the level Vcc + V.alpha exceeding the power supply voltage level Vcc by the capacitive coupling of the capacitor C B. By setting the capacitance value of the capacitor C B appropriate, to the Vα equal to or higher than the threshold voltage V TH of the transistor Q M.

このようにして、ワード線駆動信号WDSがブーストさ
れ、ブーストされたワード線駆動信号WDBが得られるの
であるが、この信号WDBの高レベルは、電源から切り離
されてフローティング状態となった出力から出力されて
いる。
In this way, the word line drive signal WDS is boosted, and the boosted word line drive signal WDB is obtained.The high level of the signal WDB is disconnected from the power supply and becomes a floating state. Output from the output.

このブーストされたワード線駆動信号WDBが、第3図
に示されるように、4つの行デコーダを介してメモリア
レイ1ないし4に与えられ、それぞれにおいてワード線
WLを同時に活性化する。
The boosted word line drive signal WDB is applied to memory arrays 1 to 4 via four row decoders as shown in FIG.
Activate WL at the same time.

第7図は、従来の行デコーダの一例を示す概略の回路
図である。この図では、例として第3図の行デコーダ1a
が示される。
FIG. 7 is a schematic circuit diagram showing an example of a conventional row decoder. In this figure, as an example, the row decoder 1a of FIG.
Is shown.

第7図を参照して、この行デコーダ1aは、それぞれが
512行のうちの1行を活性化するための512個の単位行デ
コーダRDを含み、この図では、K番目の単位行デコーダ
RDKとそれに隣接するK+1番目の単位行デコーダRDK+1
とが示される。たとえばK番目の単位行デコーダRD
Kは、行アドレス信号RA0ないしRA8を受けるように接続
されたNANDゲート71と、その出力に接続されたインバー
タ72と、3つのNチャネルトランジスタQAK、QBKおよび
QCKとを含む。
Referring to FIG. 7, each of the row decoders 1a
It includes 512 unit row decoders RD for activating one of the 512 rows.
RD K and its adjacent (K + 1) th unit row decoder RD K + 1
Is shown. For example, the K-th unit row decoder RD
K comprises a NAND gate 71 connected to receive row address signals RA0 through RA8, an inverter 72 connected to its output, three N-channel transistors Q AK , Q BK and
Includes Q CK .

動作において、たとえばこの単位行デコーダRDKが選
択されたとき、行アドレス信号RA0ないしRA8がすべて高
レベルとなり、NANDゲート71は低レベルの信号を出力す
る。この信号は、インバータ72により反転されてトラン
ジスタQBKのゲートに与えられ、また、トランジスタQCK
のゲートにも与えられる。これにより、トランジスタQ
BKはオンし、ブーストされたワード線駆動信号WDBがこ
のトランジスタQBKを介してワード線WLKに与えられる。
In operation, for example when it is selected the unit row decoder RD K, to no row address signals RA0 becomes RA8 all high level, NAND gate 71 outputs a low level signal. This signal is inverted is supplied to the gate of the transistor Q BK by the inverter 72, also the transistor Q CK
Is also given to the gate. This allows the transistor Q
BK is turned on, a boosted word line driving signal W DB is applied to the word line WL K via the transistor Q BK.

一方、隣接する単位行デコーダRDK+1では、非選択状
態のためNANDゲートが高レベルの信号を出力し、したが
って、トランジスタQBK+1がオフし、トランジスタQCK+1
がオンする。これにより、ワード線WLK+1が低レベルに
もたらされる。
On the other hand, in the adjacent unit row decoder RD K + 1 , the NAND gate outputs a high-level signal because of the non-selection state, so that the transistor Q BK + 1 turns off and the transistor Q CK + 1
Turns on. This brings word line WL K + 1 to a low level.

次に、冗長回路について説明する。 Next, a redundant circuit will be described.

第8図は、従来のメモリアレイとそこに設けられた冗
長回路とを示す概念図である。
FIG. 8 is a conceptual diagram showing a conventional memory array and a redundant circuit provided therein.

第8図を参照して、ここでは冗長回路として、行デコ
ーダ1aの中に設けられた予備行デコーダ1asと、メモリ
アレイ1の中に設けられ予備のための複数のメモリセル
を有する予備行1sとが設けられている。一般には、さら
に予備列デコーダおよび予備列が備えられるが、この図
では省略されている。
Referring to FIG. 8, a spare row decoder 1as provided in row decoder 1a and a spare row 1s provided in memory array 1 and having a plurality of spare memory cells are provided here as redundant circuits. Are provided. Generally, a spare column decoder and a spare column are further provided, but are omitted in this figure.

冗長テストによりメモリアレイ1中の或るメモリセル
またはワード線に欠陥が発見された場合、そのワード線
を活性化するための単位行デコーダを常に不活性となる
ようにし、この不良の単位行デコーダを選択するアドレ
ス信号が与えられたとき、予備の行デコーダ1asが選択
されるようにプログラムする。一般に、このプログラム
はヒューズ素子を高電圧パルスまたはレーザ光線により
溶断することにより行なわれる。このようにして、欠陥
を含む行が予備行1sに置換され、不良品が良品として再
生される。
When a defect is found in a certain memory cell or word line in the memory array 1 by the redundancy test, a unit row decoder for activating the word line is always inactivated, and the defective unit row decoder , The spare row decoder 1as is programmed so as to be selected when an address signal for selecting. Generally, this program is performed by blowing the fuse element with a high voltage pulse or a laser beam. Thus, the row containing the defect is replaced with the spare row 1s, and the defective product is reproduced as a good product.

[発明が解決しようとする課題] 第9図は、第7図に示された行デコーダに異常がある
場合を示す回路図である。
[Problem to be Solved by the Invention] FIG. 9 is a circuit diagram showing a case where the row decoder shown in FIG. 7 has an abnormality.

第9図を参照して、この図では、異常の例として、隣
接する2本のワード線WLKおよびWLK+1が抵抗RSを有する
異物によりショートした場合が示される。これにより、
ブーストされたワード線駆動信号WDBが抵抗RSを介して
矢印で示される経路で接地に流れる。前述のように、こ
の信号WDBは出力がフローティング状態にもたらされた
ワード線ブースト回路から出力されているので、信号W
DBのレベルが低下し、このワード線WLKが不良となる。
Referring to FIG. 9, FIG. 9 shows, as an example of an abnormality, a case where adjacent two word lines WL K and WL K + 1 are short-circuited by a foreign substance having resistance R S. This allows
The boosted word line drive signal WDB flows to the ground via a resistor RS in a path indicated by an arrow. As described above, since this signal WDB is output from the word line boost circuit whose output is brought into a floating state, the signal WDB
Level DB decreases, the word line WL K becomes poor.

しかし、第3図に示されるように、この信号WDBは4
つの行デコーダを介して4本のワード線WLに同時に与え
られているので、たとえば、メモリアレイ1のワード線
だけがこのような不良を起こした場合でも、信号WDB
レベルが低下するので他のメモリアレイ2ないし4のワ
ード線も不良と判断される。すなわち、他のワード線に
は何ら欠陥がないにもかかわらず、これらは不良とみな
される。
However, as shown in FIG. 3, the signal W DB 4
Since four word lines WL are simultaneously applied to four word decoders via one row decoder, the level of signal WDB is reduced even if only the word line of memory array 1 causes such a defect. Are also determined to be defective. That is, these are regarded as defective even though the other word lines have no defect.

これにより、各メモリアレイ1ないし4に予備行デコ
ーダおよび予備行が1つずつしか設けられていない場合
には、これらのすべてがワード線の置換のために使用さ
れてしまい、メモリセルに欠陥が存在するときにはこれ
を救済することができないので歩留りが低下するという
課題があった。また、予備行デコーダおよび予備行が2
つずつ以上用意されている場合でも、前述したような見
かけ上の不良があるためこれらを有効に使用できないと
いう課題もある。
Thus, if only one spare row decoder and one spare row are provided in each of memory arrays 1 to 4, all of them are used for replacement of word lines, and there is a defect in memory cells. When it exists, there is a problem that the yield cannot be reduced because it cannot be remedied. Further, the spare row decoder and the spare row have two spare rows.
Even if more than one are prepared, there is also a problem that they cannot be used effectively because of the apparent defects described above.

この発明は、上記のような課題を解消するためになさ
れたもので、欠陥が存在しても有効に対策を施すことに
より高い歩留りが得られる半導体記憶装置を得ることを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and has as its object to provide a semiconductor memory device that can obtain a high yield by effectively taking measures even if a defect exists.

[課題を解決するための手段] 請求項(1)の発明に係る半導体記憶装置は、それぞ
れが複数のワード線に接続された複数のメモリセルを含
む複数のメモリセルアレイブロックと、外部から状態入
力手段を介して与えられた状態制御信号およびアドレス
入力手段を介して与えられたアドレス信号に応答してワ
ード線を駆動するための駆動電圧を発生する駆動電圧発
生手段と、複数のメモリセルアレイブロックのいずれに
駆動電圧を与えるのかを示すブロック選択信号を外部か
ら受けるブロック選択信号入力手段と、駆動電圧発生手
段と複数のメモリセルアレイブロックとの間に接続さ
れ、ブロック選択信号に応答して駆動電圧を複数のメモ
リセルアレイブロックのうちの1つに与える駆動電圧分
配手段とを含む。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor memory device according to the invention of claim (1) is provided with a plurality of memory cell array blocks each including a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines, and a state input from outside. A driving voltage generating means for generating a driving voltage for driving a word line in response to a state control signal provided through the means and an address signal provided through the address input means; A block selection signal input means for receiving a block selection signal indicating which drive voltage is to be applied from the outside, and a drive voltage generation means connected between the drive voltage generation means and the plurality of memory cell array blocks; Drive voltage distribution means for supplying one of the plurality of memory cell array blocks.

請求項(2)の発明に係る半導体記憶装置は、それぞ
れが複数のワード線に接続された複数のメモリセルを含
む複数のメモリセルアレイブロックと、外部から状態入
力手段を介して与えられた状態制御信号およびアドレス
入力手段を介して与えられたアドレス信号に応答してワ
ード線を駆動するための第1の駆動電圧を発生する駆動
電圧発生手段と、ワード線を駆動するための第2の駆動
電圧を出力する電源手段と、第1または第2の駆動電圧
のうちいずれをメモリセルアレイブロックに与えるのか
を選ぶ切替信号を外部から受ける切替信号入力手段と、
駆動電圧発生手段および電源手段ならびに複数のメモリ
セルアレイブロックの間に接続され、切替信号に応答し
て駆動電圧発生手段または電源手段のうちのいずれかを
複数のメモリセルアレイブロックに接続する切替手段と
を含む。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device, comprising: a plurality of memory cell array blocks each including a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines; and a state control provided from outside via state input means. Drive voltage generating means for generating a first drive voltage for driving a word line in response to a signal and an address signal provided via address input means, and a second drive voltage for driving the word line A switching signal inputting means for externally receiving a switching signal for selecting which of the first and second drive voltages is to be applied to the memory cell array block;
A drive voltage generation unit, a power supply unit, and a switching unit that is connected between the plurality of memory cell array blocks and connects one of the drive voltage generation unit and the power supply unit to the plurality of memory cell array blocks in response to a switching signal. Including.

[作用] 請求項(1)の発明における半導体記憶装置は、駆動
電圧分配手段が駆動電圧発生手段からの駆動電圧を複数
のメモリセルアレイブロックのうちのブロック選択信号
により選択されたメモリセルアレイブロックに与える。
これにより、不良が存在する箇所をメモリセルアレイブ
ロックごとに限定して知ることができる。したがって、
たとえば冗長回路を適用するなど、有効に対策を施すこ
とができる。
[Operation] In the semiconductor memory device according to the invention of claim (1), the drive voltage distribution means applies the drive voltage from the drive voltage generation means to the memory cell array block selected by the block selection signal among the plurality of memory cell array blocks. .
As a result, it is possible to know the location where the defect is present for each memory cell array block. Therefore,
Effective measures can be taken, for example, by applying a redundant circuit.

請求項(2)の発明における半導体記憶装置は、切替
手段が駆動電圧発生手段または電源手段のうち切替信号
により選ばれた方を複数のメモリセルアレイブロックに
接続する。また、切替手段は、電源手段と複数のメモリ
セルアレイブロックとが接続されたとき、状態信号およ
びアドレス信号に応答して第2の電圧を複数のメモリセ
ルアレイブロックに与える。これにより、メモリセルア
レイブロックのワード線が電源手段により駆動されるの
で、1つのメモリセルアレイブロックに存在する不良に
より引き起こされたワード線駆動電圧の低下が他のメモ
リセルアレイブロックに影響を与えることなく、不良が
存在する箇所をメモリセルアレイブロックごとに限定し
て知ることができる。したがって、たとえば冗長回路を
適用するなど、有効に対策を施すことができる。
In the semiconductor memory device according to the invention of claim (2), the switching means connects one of the driving voltage generating means or the power supply means selected by the switching signal to the plurality of memory cell array blocks. Further, when the power supply is connected to the plurality of memory cell array blocks, the switching means applies the second voltage to the plurality of memory cell array blocks in response to the state signal and the address signal. As a result, the word lines of the memory cell array block are driven by the power supply means, so that a drop in the word line drive voltage caused by a defect existing in one memory cell array block does not affect the other memory cell array blocks. The location where the defect exists can be known for each memory cell array block. Therefore, effective measures can be taken, for example, by applying a redundant circuit.

[発明の実施例] 第1A図は、請求項(1)の発明の一実施例を示す1Mビ
ットダイナミックRAMを示すブロック図である。
[Embodiment of the Invention] FIG. 1A is a block diagram showing a 1-Mbit dynamic RAM according to an embodiment of the present invention.

第1A図を参照して、このダイナミックRAMと第3図に
示された従来のものとを比較して異なる点は、ワード線
ブースト回路10と各行デコーダとの間に分配回路80が設
けられ、外部にこれを制御するためのテスト信号発生回
路90が設けられていることである。すなわち、分配回路
80は、予備パッドを介して与えられたテスト信号発生回
路90からの制御信号φs、BS0およびBS1に応答して、ブ
ーストされたワード線駆動信号WDBを選択的に各行デコ
ーダに与える。
Referring to FIG. 1A, the difference between this dynamic RAM and the conventional one shown in FIG. 3 is that a distribution circuit 80 is provided between word line boost circuit 10 and each row decoder. That is, a test signal generation circuit 90 for controlling this is provided outside. That is, the distribution circuit
80 selectively supplies boosted word line drive signal WDB to each row decoder in response to control signals φs, BS0 and BS1 from test signal generation circuit 90 applied via the spare pad.

第2A図は、第1A図で使用される分配回路の一例を示す
回路図である。
FIG. 2A is a circuit diagram showing an example of the distribution circuit used in FIG. 1A.

第2A図を参照して、この分配回路は、ブロック選択信
号BS0およびBS1をデコードするためのデコーダ81と、切
替制御信号φsに応答してブーストされたワード線駆動
信号WDBを選択的に出力する切替回路82とを含む。デコ
ーダ81は、ANDゲート811ないし814と、インバータ815お
よび816とにより構成される。切替回路82は、たとえば
メモリアレイ1にワード線駆動信号WDB1を出力する部分
について、デコーダ81からの出力信号および切替制御信
号φsを受けるように接続されたNORゲート821と、その
出力に接続されたインバータ822と、これらの出力に接
続されたNチャネルトランジスタQ10,Q20およびQ30
を含む。また、切替制御信号φsを受けるように接続さ
れた信号線Lと電源Vccと間に抵抗820が接続されてい
る。
Referring to Figure 2A, the distribution circuit, selectively outputs a decoder 81 for decoding the block select signals BS0 and BS1, and in response to the switching control signal φs boosted word line driving signal W DB And a switching circuit 82 that performs switching. The decoder 81 includes AND gates 811 to 814 and inverters 815 and 816. Switching circuit 82 is, for example, connected to a NOR gate 821 connected to receive an output signal from decoder 81 and a switching control signal φs for a portion outputting word line drive signal WDB1 to memory array 1, and to an output thereof. Inverter 822 and N-channel transistors Q 10 , Q 20 and Q 30 connected to these outputs. Further, a resistor 820 is connected between the signal line L connected to receive the switching control signal φs and the power supply Vcc.

次に、動作について説明する。 Next, the operation will be described.

まず最初に、冗長テストなどのテスト動作において、
たとえば、メモリアレイ1にだけ高レベルのワード線駆
動信号WDB1を出力する場合について述べる。
First, in a test operation such as a redundancy test,
For example, a case where a high-level word line drive signal WDB1 is output only to memory array 1 will be described.

外部に設けられたテスト信号発生回路90から低レベル
のブロック選択信号BS0およびBS1と、低レベルの切替制
御信号φsとが与えられる。ANDゲート811は、信号BS0
およびBS1に応答して、高レベルの信号を出力する。一
方、他のANDゲート812ないし814は、低レベルの信号を
出力する。したがって、NORゲート821だけが、低レベル
の信号を出力し、他のNORゲートは、高レベルの信号を
出力する。
A low-level block selection signal BS0 and BS1 and a low-level switching control signal φs are supplied from a test signal generation circuit 90 provided outside. AND gate 811 outputs signal BS0
And outputs a high-level signal in response to BS1. On the other hand, the other AND gates 812 to 814 output low level signals. Therefore, only the NOR gate 821 outputs a low-level signal, and the other NOR gates output a high-level signal.

これにより、トランジスタQ10およびトランジスタQ21
ないしQ23がオンし、トランジスタQ20およびトランジス
タQ11ないしQ13はオフする。したがって、ブーストされ
たワード線駆動信号WDBはトランジスタQ10を介してワー
ド線駆動信号WDB1として出力される。一方、他のメモリ
アレイ2ないし4には接地レベルのワード線駆動信号W
DB2ないしWDB4が出力される。
Thus, the transistor Q 10 and the transistor Q 21
To Q 23 is turned on, to the transistors Q 20 and the transistor Q 11 Q 13 is turned off. Therefore, it boosted word line driving signal W DB are outputted as the word line drive signal W DB1 via the transistor Q 10. On the other hand, the other memory arrays 2 to 4 have the word line drive signal W at the ground level.
DB2 to W DB4 are output.

同様にして、ブロック選択信号BS0およびBS1のレベル
を適当に選択して与えることにより、他のワード線駆動
信号WDB2ないしWDB4のそれぞれについても、高レベルの
信号を出力することができる。
Similarly, by giving to select the level of the block select signals BS0 and BS1 appropriate, to the drive signal W no DB2 other word lines for each well of W DB4, it is possible to output a high level signal.

次に、このダイナミックRAMが通常の動作を行なうと
き、切替制御信号φsを外部から受ける端子(予備パッ
ド)が開放される。このとき、切替制御信号φsを受け
るべき信号線Lは、抵抗820を介して接続されている電
源Vccにより高レベルにプルアップされる。これによ
り、すべてのNORゲートは、ブロック選択信号BS0および
BS1のレベルにかかわらず高レベルの信号を出力し、ト
ランジスタQ10ないしQ13がオンする。したがって、ブー
ストされたワード線駆動信号WDBが、トランジスタQ10
いしQ13を介してそれぞれのワード線駆動信号WDB1ない
しWDB4として同時に出力される。
Next, when the dynamic RAM performs a normal operation, a terminal (spare pad) receiving the switching control signal φs from the outside is opened. At this time, the signal line L to receive the switching control signal φs is pulled up to a high level by the power supply Vcc connected via the resistor 820. As a result, all the NOR gates receive the block selection signal BS0 and
Regardless BS1 level and outputs a high level signal, to the transistors Q 10 Q 13 is turned on. Therefore, boosted word line driving signal W DB are to DB1 no respective word line drive signal W through Q 13 to the transistors Q 10 are outputted simultaneously as W DB4.

このように、テスト動作において、メモリアレイ1な
いし4ごとに選択的にワード線駆動信号WDB1ないしWDB4
を与えることができるので、たとえば、第9図に示され
るようにワード線間に異物によるショートが発生した場
合でも、メモリアレイ1においてその不良が存在してい
ることを限定して知ることができ、実際に不良が存在す
るメモリアレイ1についてのみ予備行デコーダを使用で
きる。したがって、メモリアレイ2ないし4に設けられ
た予備行デコーダを、たとえば、メモリセルなどの他の
不良の救済にあてるなど、より有効に使うことができ、
歩留りを向上させることができる。
As described above, in the test operation, the word line drive signals W DB1 to W DB4 are selectively provided for each of the memory arrays 1 to 4.
Therefore, for example, even when a short circuit due to a foreign substance occurs between word lines as shown in FIG. 9, it is possible to limitly know that the defect exists in memory array 1. The spare row decoder can be used only for the memory array 1 in which a defect actually exists. Therefore, spare row decoders provided in memory arrays 2 to 4 can be used more effectively, for example, for repairing other defects such as memory cells.
The yield can be improved.

なお、上述したテスト動作においては、ニブルモード
による動作を行なうことができないが、たとえば冗長テ
ストにおいて、ニブルモードの動作を行なう必要がない
ので問題はない。
In the test operation described above, the operation in the nibble mode cannot be performed. However, there is no problem in performing the nibble mode operation in, for example, a redundancy test.

第1B図は、請求項(2)の発明の一実施例を示す1Mビ
ットダイナミックRAMを示すブロック図である。
FIG. 1B is a block diagram showing a 1-Mbit dynamic RAM according to an embodiment of the present invention.

第1B図を参照して、このダイナミックRAMと第3図に
示された従来のものとを比較して異なる点は、ワード線
ブースト回路15が、ワード線駆動信号WDSをブーストす
ることによって得られた信号と、外部電源により与えれ
た電圧信号VWLとを切替えて出力する機能を有すること
である。なお、外部にはテスト信号発生回路90が設けら
れ、そこから外部電圧信号VWLと切替制御信号S1とがダ
イナミックRAMに与えられる。
Referring to Figure 1B, obtained by different points compared with the ones the dynamic RAM and the conventional shown in Figure 3 is that the word line boosting circuit 15 boosts the word line drive signal W DS And a function of switching and outputting a given signal and a voltage signal VWL provided by an external power supply. Note that a test signal generation circuit 90 is provided outside, from which an external voltage signal VWL and a switching control signal S1 are supplied to the dynamic RAM.

第2B図は、第1B図に示されたダイナミックRAMにおい
て使用される切替機能を有するワード線ブースト回路の
一例を示す回路図である。
FIG. 2B is a circuit diagram showing an example of a word line boost circuit having a switching function used in the dynamic RAM shown in FIG. 1B.

第2B図を参照して、この切替機能を有するワード線ブ
ースト回路15は、第5図に示された従来のものと比較し
て、さらに、ワード線駆動信号WDSと外部電圧信号VWL
を切換えるように接続された切替スイッチSW1およびSW2
と、信号WDSに応答して外部電圧信号VWLを出力するよう
に接続されたNチャネルトランジスタQ1およびQ2とを含
む。
Referring to FIG. 2B, the word line boosting circuit 15 having the switching function further includes a word line driving signal WDS and an external voltage signal VWL in comparison with the conventional circuit shown in FIG. Switches SW1 and SW2 connected to switch between
If, and an N-channel transistor Q 1 and Q 2 connected as to output the external voltage signal V WL in response to a signal W DS.

第2C図は、第2B図に示された切替機能を有するワード
線ブースト回路の動作を説明するためのタイミング図で
ある。
FIG. 2C is a timing chart for explaining the operation of the word line boost circuit having the switching function shown in FIG. 2B.

次に、第2B図および第2C図を参照して、動作について
説明する。
Next, the operation will be described with reference to FIGS. 2B and 2C.

まず、通常の動作において、切替スイッチSW1が端子
a側に接続され、スイッチSW2は端子c側に接続され
る。したがって、このワード線ブースト回路15は、第5
図に示された従来のものと同様の動作を行なう。
First, in a normal operation, the switch SW1 is connected to the terminal a, and the switch SW2 is connected to the terminal c. Therefore, the word line boost circuit 15
The same operation as the conventional one shown in the figure is performed.

次に、冗長テストなどのテスト動作において、切替ス
イッチSW1およびSW2は、それぞれ切替制御信号S1に応答
して、端子b側および端子d側に接続される。また、ト
ランジスタQ2に外部電圧信号VWLが与えられる。
Next, in a test operation such as a redundancy test, the changeover switches SW1 and SW2 are connected to the terminals b and d in response to the switch control signal S1, respectively. The external voltage signal V WL is applied to the transistor Q 2.

時刻T0においてワード線駆動信号WDSが高レベルに変
化すると、ノードNAの電圧VNAは上昇しVcc−VTH2(VTH2
はトランジスタQ1のしきい値電圧とする)になる。ま
た、出力信号WDBは、インバータ41および42により遅延
して時刻T1において高レベルに変化する。さらに、ノー
ドNFの電圧レベルVNFは、インバータ43および44により
遅延して時刻T2において高レベルに変化する。クロック
トインバータ42は、この高レベル電圧VNFによりカット
オフされ、クロックトインバータ42の出力がフローティ
ング状態にもたらされる。
When the word line drive signal W DS is changed to the high level at time T 0, the node N voltage V NA of A rose Vcc-V TH2 (V TH2
Become is the threshold voltage of the transistor Q 1). The output signal W DB is changed to the high level at time T 1 is delayed by the inverter 41 and 42. Further, the voltage level V NF node N F is changed to the high level at time T 2, delayed by the inverter 43 and 44. Clocked inverter 42 is cut off by this high level voltage VNF , and the output of clocked inverter 42 is brought into a floating state.

この後、さらに、ノードNBの電圧レベルVNBがインバ
ータ45および46の遅延により時刻T3において高レベルに
変化する。これにより、ノードNAの電圧レベルVNAがキ
ャパシタCBの容量結合によりVcc+Vβに昇圧される。
ここで、キャパシタCBと、ノードNAが接地との間に持つ
浮遊容量CNAとの比を適当に設定することにより、出力
信号WDBのレベルは、Vcc+Vβ≧VWL+WTH3(VTH3はト
ラジスタQ2のしきい値電圧とする)の関係を満たすこと
ができる。トランジスタQ2は、このとき完全にオンし、
出力信号WDBのレベルは外部電圧信号VWLのレベルにクラ
ンプされる。
Thereafter, further, the voltage level V NB Node N B is changed to the high level at time T 3 by the delay of the inverters 45 and 46. Accordingly, the voltage level V NA of the node N A is boosted to Vcc + V? Due to the capacitive coupling of the capacitor C B.
Here, the capacitor C B, by the node N A is suitably setting the ratio of the stray capacitance C NA with between the ground level of the output signal W DB is, Vcc + Vβ ≧ V WL + W TH3 (V TH3 it can satisfy the relation of the threshold voltage of Torajisuta Q 2). At this time, the transistor Q 2 is completely turned on,
Level of the output signal W DB is clamped at the level of the external voltage signal V WL.

低インピーダンスを持つ外部電源を使用することによ
り、たとえば、第9図に示されるようにワード線に異物
によるショートが発生した場合でも、ワード線駆動信号
WDBのレベルが極端に低下することを防ぐことができ
る。したがって、同時に選択された他のメモリアレイ2
ないし4のワード線は不良とみなされず、これらのメモ
リアレイ2ないし4に設けられた予備行デコーダを他の
メモリセルなどの不良の救済にあてるなど、より有効に
使用することができるので、歩留りを向上させることが
できる。
By using an external power supply having a low impedance, for example, even if a short circuit due to foreign matter occurs in the word line as shown in FIG.
Extremely low levels of W DB can be prevented. Therefore, another memory array 2 selected at the same time
No. to 4 word lines are not regarded as defective, and the spare row decoders provided in these memory arrays 2 to 4 can be used more effectively, such as for repairing defects of other memory cells, and so on, so that the yield is increased. Can be improved.

なお、以上に述べた2つの実施例では、制御信号は、
専用に設けられた予備パッドを介して外部から与えられ
ているが、これを外部から与えられる他の信号、たとえ
ば、RAS信号やCAS信号などの変化するタイミングを利用
して、内部で発生するような構成にしてもよい。
In the two embodiments described above, the control signal is:
It is provided externally via a dedicated pad provided exclusively, but it is generated internally using other externally applied signals, for example, changing timing of RAS signal and CAS signal. A configuration may be adopted.

あるいは、所定の電圧レベルが外部から与えられるべ
き端子にそのレベルとは異なる特定のレベルを持つ信号
を与え、これを検出して制御信号を内部で発生するよう
な構成にしてもよい。
Alternatively, a configuration may be adopted in which a signal having a specific level different from that level is applied to a terminal to which a predetermined voltage level is to be externally applied, and this is detected to generate a control signal internally.

また、これらの実施例ではNチャネル型メモリセルを
用いたダイナミック型半導体記憶装置について説明した
が、Pチャネル型メモリセルを用いたダイナミック型半
導体記憶装置についてもこれらの発明は適用できる。そ
の場合、ワード線ブースト回路として接地電位より低い
電位にブーストする回路を設ければよい。なお、その
際、接地レベルよりも低い電圧信号VWLを与える必要が
ある。
Further, in these embodiments, a dynamic semiconductor memory device using an N-channel memory cell has been described, but these inventions can also be applied to a dynamic semiconductor memory device using a P-channel memory cell. In that case, a circuit for boosting to a potential lower than the ground potential may be provided as a word line boost circuit. At this time, it is necessary to apply a voltage signal VWL lower than the ground level.

[発明の効果] 以上のように、請求項(1)の発明によれば、外部か
ら与えられたブロック選択信号に応答して駆動電圧発生
手段からの駆動電圧を複数のメモリセルアレイブロック
のうちの1つに与える駆動電圧分配手段を含むので、不
良が存在する箇所をメモリセルアレイブロックごとに限
定して知ることができ、例えば冗長回路を適用するな
ど、有効に対策を施すことにより、歩留りの高い半導体
記憶装置を得ることができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the invention of claim (1), the drive voltage from the drive voltage generating means in response to an externally applied block selection signal is output from the plurality of memory cell array blocks. Since the driving voltage distribution means for one is included, it is possible to know the location where the defect exists by limiting it for each memory cell array block. By taking effective measures such as applying a redundant circuit, a high yield can be obtained. A semiconductor memory device can be obtained.

また、請求項(2)の発明によれば、外部から与えら
れた切替信号に応答して通常の駆動電圧発生手段の代わ
りに電源手段を複数のメモリセルアレイブロックに接続
する切替手段を含むので、不良が存在する箇所をメモリ
セルアレイブロックごとに限定して知ることができ、た
とえば冗長回路を適用するなど、有効に対策を施すこと
により、歩留り高い半導体記憶装置を得ることができ
る。
According to the invention of claim (2), since switching means for connecting the power supply means to the plurality of memory cell array blocks in place of the normal drive voltage generation means in response to the switching signal given from the outside is included, It is possible to know the location where the defect exists for each memory cell array block, and it is possible to obtain a semiconductor memory device with a high yield by taking effective measures such as applying a redundant circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1A図は、請求項(1)の発明の一実施例を示す1Mビッ
トダイナミックRAMを示すブロック図である。第1B図
は、請求項(2)の発明の一実施例を示す1Mビットダイ
ナミックRAMを示すブロック図である。第2A図は、第1A
図に示されたダイナミックRAMで使用される分配回路の
一例を示す回路図である。第2B図は、第1B図に示された
ダイナミックRAMで使用される切替機能を有するワード
線ブースト回路の一例を示す回路図である。第2C図は、
第2B図に示された切替機能を有するワード線ブースト回
路の動作を説明するためのタイミング図である。第3図
は、従来の1MビットダイナミックRAMを示すブロック図
である。第4図は、従来のメモリセルの等価回路を示す
回路図である。第5図は、従来のワード線ブースト回路
の一例を示す回路図である。第6図は、第5図に示され
たワード線ブースト回路の動作を説明するためのタイミ
ング図である。第7図は、従来の行デコーダの一例を示
す概略の回路図である。第8図は、従来のメモリアレイ
とそこに設けられた冗長回路とを示す概念図である。第
9図は、第7図に示された行デコーダに異常がある場合
を示す回路図である。 図において、1ないし4はメモリアレイ、1aは行デコー
ダ、1bはセンスアンプ、1cは列デコーダ、1asは予備行
デコーダ、1sは予備行、10および15はワード線ブースト
回路、51はワード線駆動信号発生回路、80は分配回路、
81はデコーダ、82は切替回路、90はテスト信号発生回路
である。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
FIG. 1A is a block diagram showing a 1 Mbit dynamic RAM according to an embodiment of the present invention. FIG. 1B is a block diagram showing a 1-Mbit dynamic RAM according to an embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an example of a distribution circuit used in the dynamic RAM illustrated in FIG. FIG. 2B is a circuit diagram showing an example of a word line boost circuit having a switching function used in the dynamic RAM shown in FIG. 1B. Figure 2C
FIG. 3B is a timing chart for explaining the operation of the word line boost circuit having the switching function shown in FIG. 2B. FIG. 3 is a block diagram showing a conventional 1 Mbit dynamic RAM. FIG. 4 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of a conventional memory cell. FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a conventional word line boost circuit. FIG. 6 is a timing chart for explaining the operation of the word line boost circuit shown in FIG. FIG. 7 is a schematic circuit diagram showing an example of a conventional row decoder. FIG. 8 is a conceptual diagram showing a conventional memory array and a redundant circuit provided therein. FIG. 9 is a circuit diagram showing a case where the row decoder shown in FIG. 7 has an abnormality. In the figure, 1 to 4 are memory arrays, 1a is a row decoder, 1b is a sense amplifier, 1c is a column decoder, 1as is a spare row decoder, 1s is a spare row, 10 and 15 are word line boost circuits, and 51 is a word line drive. Signal generation circuit, 80 is a distribution circuit,
81 is a decoder, 82 is a switching circuit, and 90 is a test signal generation circuit. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 宏之 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電 機株式会社エル・エス・アイ研究所内 (56)参考文献 特開 平1−235099(JP,A) 特開 平1−264700(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11C 11/407──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Hiroyuki Yamazaki 4-1-1 Mizuhara, Itami-shi, Hyogo Mitsubishi Electric Corporation LSI Research Institute (56) References JP-A 1-235099 (JP, A JP-A-1-264700 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G11C 11/407

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】それぞれが複数のワード線に接続された複
数のメモリセルを含む複数のメモリセルアレイブロック
を備えた半導体記憶装置であって、 外部から前記記憶装置の状態を制御するための状態制御
信号を受ける状態入力手段と、 外部から前記記憶装置をアドレッシングするためのアド
レス信号を受けるアドレス入力手段と、 前記状態入力手段からの状態信号および前記アドレス入
力手段からのアドレス信号に応答して、前記メモリセル
アレイブロックのワード線を駆動するための駆動電圧を
発生する駆動電圧発生手段と、 前記複数のメモリセルアレイブロックのいずれに前記駆
動電圧発生手段からの駆動電圧を与えるのかを示すため
のブロック選択信号を外部から受けるブロック選択信号
入力手段と、 通常モードかテストモードかを切替える切替信号を外部
から受ける切替信号入力手段と、 前記駆動電圧発生手段と前記複数のメモリセルアレイブ
ロックとの間に接続され、前記切替信号入力手段を介し
て外部から与えられた切替信号と前記ブロック選択信号
入力手段を介して外部から与えられたブロック選択信号
とに応答して、前記駆動電圧発生手段からの駆動電圧
を、テストモードのときは前記複数のメモリセルアレイ
ブロックのうちの1つに与えかつ通常モードのときはす
べてのメモリセルアレイブロックに与える駆動電圧分配
手段とを含む、半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising a plurality of memory cell array blocks each including a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines, wherein a state control for externally controlling a state of the storage device is provided. State input means for receiving a signal; address input means for receiving an address signal for externally addressing the storage device; responsive to a state signal from the state input means and an address signal from the address input means, Drive voltage generation means for generating a drive voltage for driving a word line of a memory cell array block; and a block selection signal for indicating to which of the plurality of memory cell array blocks the drive voltage from the drive voltage generation means is applied. Block selection signal input means for receiving the external A switching signal input unit for receiving a switching signal for switching from outside, a switching signal connected between the drive voltage generating unit and the plurality of memory cell array blocks, and a switching signal externally supplied through the switching signal input unit and the block. In response to a block selection signal externally applied through a selection signal input means, a drive voltage from the drive voltage generation means is applied to one of the plurality of memory cell array blocks in a test mode. And a drive voltage distributing means for applying to all the memory cell array blocks in the normal mode.
【請求項2】それぞれが複数のワード線に接続された複
数のメモリセルを含む複数のメモリセルアレイブロック
を備えた半導体記憶装置であって、 外部から前記記憶装置の状態を制御するための状態制御
信号を受ける状態入力手段と、 外部から前記記憶装置をアドレッシングするためのアド
レス信号を受けるアドレス入力手段と、 前記状態入力手段からの状態信号および前記アドレス入
力手段からのアドレス信号に応答して、前記メモリセル
アレイブロックのワード線を駆動するための第1の駆動
電圧を発生する駆動電圧発生手段と、 前記メモリセルアレイブロックのワード線を駆動するた
めの第2の駆動電圧を出力する電源手段と、 前記第1および第2の駆動電圧のうちいずれを前記複数
のメモリセルアレイブロックに与えるのかを選ぶ切替信
号を外部から受ける切替信号入力手段と、 前記駆動電圧発生手段および前記電源手段ならびに前記
複数のメモリセルアレイブロックの間に接続され、前記
切替信号入力手段を介して外部から与えられた切替信号
に応答して、前記駆動電圧発生手段または前記電源手段
のうちのいずれかを前記複数のメモリセルアレイブロッ
クに接続する切替手段とを含み、 前記切替手段は、前記電源手段と前記複数のメモリセル
アレイブロックとが接続されたとき、前記状態入力手段
からの状態信号および前記アドレス入力手段からのアド
レス信号に応答して、第2の電圧を前記複数のメモリセ
ルアレイブロックに与える、半導体記憶装置。
2. A semiconductor memory device having a plurality of memory cell array blocks each including a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines, wherein a state control for externally controlling a state of the storage device is provided. State input means for receiving a signal; address input means for receiving an address signal for externally addressing the storage device; responsive to a state signal from the state input means and an address signal from the address input means, A drive voltage generating means for generating a first drive voltage for driving a word line of the memory cell array block; a power supply means for outputting a second drive voltage for driving a word line of the memory cell array block; Which of the first and second drive voltages is applied to the plurality of memory cell array blocks is selected. A switching signal input unit for receiving a switching signal from the outside; a switching signal input unit connected between the drive voltage generation unit and the power supply unit and the plurality of memory cell array blocks; Responsively includes switching means for connecting any one of the drive voltage generating means or the power supply means to the plurality of memory cell array blocks, wherein the switching means comprises: the power supply means and the plurality of memory cell array blocks; And a second voltage is applied to the plurality of memory cell array blocks in response to a state signal from the state input unit and an address signal from the address input unit when is connected.
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