JP2771067B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2771067B2
JP2771067B2 JP4048865A JP4886592A JP2771067B2 JP 2771067 B2 JP2771067 B2 JP 2771067B2 JP 4048865 A JP4048865 A JP 4048865A JP 4886592 A JP4886592 A JP 4886592A JP 2771067 B2 JP2771067 B2 JP 2771067B2
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造プロセスに
よって形成した回路を修正するために、レーザトリマ等
によって切断可能なヒューズを設けた半導体集積回路に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit provided with a fuse which can be cut by a laser trimmer or the like in order to correct a circuit formed by a semiconductor manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば半導体記憶装置では、多数形成さ
れるメモリセルの一部に欠陥が発生した場合に備え、行
デコーダに冗長デコーダを設けている。冗長デコーダ
は、内部に形成された複数のヒューズの一部をレーザト
リマによって切断することにより特定のアドレスを登録
することができる回路である。そして、この冗長デコー
ダは、登録したアドレスへのアクセスがあると、冗長ワ
ード線活性化信号をアクティブにし、行デコーダに本来
のワード線に代えて冗長ワード線を選択させるようにす
ることができる。従って、欠陥のあるメモリセルのアド
レスを冗長デコーダに登録しておけば、このアドレスへ
のアクセスを予め設けておいた冗長セルへのアクセスに
切り換えることができるので、メモリセルの一部の欠陥
のみによって半導体記憶装置全体が不良品となるのを防
止することができる。
2. Description of the Related Art For example, in a semiconductor memory device, a redundancy decoder is provided in a row decoder in case a defect occurs in a part of a large number of formed memory cells. The redundant decoder is a circuit capable of registering a specific address by cutting a part of a plurality of fuses formed therein by a laser trimmer. The redundant decoder activates the redundant word line activating signal when the registered address is accessed, and can cause the row decoder to select the redundant word line instead of the original word line. Therefore, if the address of the defective memory cell is registered in the redundant decoder, access to this address can be switched to access to the previously provided redundant cell. This can prevent the entire semiconductor memory device from becoming defective.

【0003】上記冗長デコーダの回路構成を図2に示
す。確定信号入力端子1には、内部行アドレス確定信号
が入力されるようになっている。この内部行アドレス確
定信号は、常時はLレベルであるが、内部的に行アドレ
スが確定するとHレベル(アクティブ)に切り替わる信
号である。また、6個のアドレス入力端子20〜25
は、行アドレスの各ビットが入力されるようになってい
る。
FIG. 2 shows a circuit configuration of the above-mentioned redundant decoder. An internal row address determination signal is input to the determination signal input terminal 1. This internal row address determination signal is a signal which is always at the L level but is switched to the H level (active) when the row address is determined internally. Furthermore, the six address input terminal 2 0-2 5, each bit of the row address are inputted.

【0004】上記内部行アドレス確定信号がLレベルの
間は、PチャンネルMOSFET3がONとなるので、
出力端子4からHレベルが出力される。また、内部行ア
ドレス確定信号がHレベルに切り替わった場合には、N
チャンネルMOSFET5がONとなる。そして、アド
レス入力端子20〜25に行アドレスが入力されると、N
チャンネルMOSFET60〜611の半数が必ずONと
なり、ヒューズ70〜711を介して出力線8がLレベル
となるので、インバータ9、10を介し出力端子4から
Lレベルが出力されることになる。従って、この冗長デ
コーダに行アドレスが登録されずヒューズ70〜711
全て接続されている状態では、内部行アドレス確定信号
がHレベルに切り替わった際に出力端子4から出力され
る冗長ワード線活性化信号がLレベル(非アクティブ)
となるので、図示しない行デコーダは、そのときの行ア
ドレスをそのままデコードしてワード線を選択すること
になる。
While the internal row address determination signal is at the L level, the P-channel MOSFET 3 is turned on.
The H level is output from the output terminal 4. When the internal row address determination signal is switched to H level, N
The channel MOSFET 5 turns ON. When the row address is input to the address input terminal 2 0 to 2 5, N
Channel MOSFET 6 0 to 6 11 half always ON next, the output line 8 via a fuse 7 0-7 11 becomes L level, the output terminal 4 via the inverter 9, 10 to the L level is output Become. Thus, in the state in which the redundant decoder in the row address 0 fuse 7 is not registered to 7 11 are all connected, the redundant word line internal row address determination signal is output from the output terminal 4 when switched to the H level Activation signal is L level (inactive)
Therefore, a row decoder (not shown) decodes the row address at that time and selects a word line.

【0005】上記ヒューズ70〜711は、ヒューズ70
1とヒューズ72、73というように2本が1組となっ
て各組の2本がそれぞれ行アドレスの各ビットにおける
HレベルとLレベルに対応しているので、各組ごとにい
ずれか1本のヒューズ70〜71 1をそれぞれ切断するこ
とにより任意の行アドレスの登録を行うことができる。
そこで、レーザトリマにより6個のヒューズ71、72
4、76、79、711を切断したとすると、これに対応
する(0、1、1、1、0、0)の行アドレスが登録さ
れる。そして、この行アドレスがアドレス入力端子20
〜25に入力された場合には、ONとなるNチャンネル
MOSFET61、62、64、66、69、611に接続す
る全てのヒューズ71、72、74、76、79、711が切
断されているため、内部行アドレス確定信号がHレベル
に切り替わりNチャンネルMOSFET5がONとなっ
ても、出力線8のHレベルがNチャンネルMOSFET
11によって保持されるので、出力端子4からの冗長ワ
ード線活性化信号がHレベル(アクティブ)のままにな
る。従って、このように冗長ワード線活性化信号のHレ
ベルが維持される場合には、行デコーダがそのときの行
アドレスを無視して冗長ワード線を選択することにな
る。また、アドレス入力端子20〜25に上記以外の行ア
ドレスが入力された場合には、切断されていないヒュー
ズ70、73、75、77、78、710に接続するNチャン
ネルMOSFET60、63、65、67、68、610のい
ずれかが必ずONとなるので、冗長ワード線活性化信号
はLレベルとなり、行デコーダは、そのときの行アドレ
スをそのままデコードしてワード線を選択することにな
る。
[0005] The fuse 7 0-7 11, fuse 7 0,
Two sets, such as 7 1 and fuses 7 2 , 7 3 , form one set and the two sets in each set correspond to the H level and the L level in each bit of the row address. one fuses 7 0-7 1 1 can register an arbitrary row address by cutting respectively.
Therefore, six fuses 7 1 , 7 2 ,
Assuming that 7 4 , 7 6 , 7 9 , and 7 11 are cut off, the corresponding (0, 1, 1, 1, 0, 0) row address is registered. The row address is the address input terminal 2 0
When entered in to 2 5, N-channel MOSFET 6 1 becomes ON, 6 2, 6 4, 6 6, 6 9, 6 all fuses 7 connected to 11 1, 7 2, 7 4, 7 6 , 7 9 , and 7 11 are disconnected, so that the H level of the output line 8 remains at the N-channel MOSFET even if the internal row address determination signal is switched to the H level and the N-channel MOSFET 5 is turned on.
11, the redundant word line activating signal from the output terminal 4 remains at the H level (active). Therefore, when the H level of the redundant word line activating signal is maintained, the row decoder ignores the row address at that time and selects the redundant word line. Further, if the row address other than the above to the address input terminal 2 0-2 5 is input, a fuse 7 0 uncut, 7 3, 7 5, 7 7, 7 8, 7 N to connect to 10 channel MOSFET6 0, 6 3, 6 5 , 6 7, 6 8, since any of the 6 10 always becomes ON, the redundant word line activating signal becomes L level, the row decoder, as a row address at that time Decoding is performed to select a word line.

【0006】この結果、冗長デコーダは、行アドレスが
登録されている場合には、その行アドレスが入力された
ときだけ、内部行アドレス確定信号がHレベルに切り替
わった際の冗長ワード線活性化信号がアクティブになる
ので、これによって欠陥メモリセルの差し替えを行うこ
とができるようになる。
As a result, when a row address is registered, the redundant decoder activates the redundant word line activation signal when the internal row address determination signal switches to the H level only when the row address is input. Becomes active, so that defective memory cells can be replaced.

【0007】また、上記冗長デコーダにおけるヒューズ
0〜711の回路部分(図2の領域C)のチップ上にお
ける従来のレイアウトを図3に示す。
[0007] shows the conventional layout on the chip of the circuit portion of the fuse 7 0-7 11 in the redundant decoder (region in FIG. 2 C) in FIG.

【0008】ヒューズ70 〜711は、コンタクト部12
0〜1211とコンタクト部130〜1311との間に形成さ
れた導電性のポリシリコン層による各配線パターンによ
って形成されている。また、一方のコンタクト部120
〜1211は、それぞれメタル配線140〜1411を介し
て図2におけるNチャンネルMOSFET60〜611
各ドレインに接続され、他方のコンタクト部130〜1
11は、全て出力線8に接続されている。さらに、この
ヒューズ70〜711におけるコンタクト部120〜1211
とコンタクト部130〜1311との間の中央部付近は、
メタル層によるガードリング15によって取り囲まれて
いる。そして、レーザトリマは、このガードリング15
内の図示Dに示す各領域にレーザスポットを照射するこ
とにより各ヒューズ70〜711を適宜切断するようにな
っている。
The fuses 70 to 711 are connected to the contact 12
Each of the wiring patterns is formed by a conductive polysilicon layer formed between 0 to 12 11 and the contact portions 13 0 to 13 11 . In addition, one contact portion 12 0
12 11 are respectively connected to the respective drains of the N-channel MOSFET 6 0 to 6 11 in FIG. 2 through the metal wiring 14 0-14 11, the other contact portion 13 0-1
All 3 11 are connected to the output line 8. Further, the contact portion 12 0-12 11 in the fuse 7 0-7 11
Near the center between the contact portions 13 0 to 13 11 ,
It is surrounded by a guard ring 15 made of a metal layer. Then, the laser trimmer is used for the guard ring 15
It is adapted to cut each fuse 7 0-7 11 appropriately by irradiating a laser spot on the area shown in the drawing D of the inner.

【0009】このため、図2の領域Cで示した従来のヒ
ューズ70〜711の回路部分は、図3に示したチップ上
において、ガードリング15と12個のコンタクト部1
0〜1311との周囲にある程度の幅を持たせた領域E
の範囲を占有することになる。
[0009] Therefore, the circuit portion of the conventional fuse 7 0-7 11 shown in region C of FIG. 2, on the chip shown in FIG. 3, the guard ring 15 and 12 of the contact portion 1
3 0-13 11 regions to have a certain width around the E
Will occupy the range.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のレイアウトでは、各ヒューズ70〜711の他端側が
それぞれガードリング15から引き出され12個のコン
タクト部130〜1311によって出力線8に接続される
ため、ヒューズ70〜711の回路部分がチップ上で占め
る領域Eが広くなりすぎ、半導体記憶装置の小型化の障
害になるという問題が発生していた。また、この問題
は、半導体記憶装置に限らず、複数のヒューズを形成し
た全ての半導体集積回路に共通するものである。
[SUMMARY OF THE INVENTION However, in the conventional layout, the output line 8 by the other end 12 is drawn out from the guard ring 15 respectively contact portions 13 0 to 13 11 for each fuse 7 0-7 11 to be connected, the circuit portion of the fuse 7 0-7 11 becomes too wide area E occupied on the chip, a problem that becomes an obstacle to miniaturization of the semiconductor memory device has occurred. This problem is not limited to the semiconductor memory device, but is common to all semiconductor integrated circuits in which a plurality of fuses are formed.

【0011】本発明は、上記事情に鑑み、一端側が各回
路に接続されたヒューズの他端側をガードリング内で共
通線に接続することにより、このヒューズの回路部分が
占有する領域を縮小することができる半導体集積回路を
提供することを目的としている。
In view of the above circumstances, the present invention reduces the area occupied by the circuit portion of the fuse by connecting the other end of the fuse having one end connected to each circuit to a common line in the guard ring. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit capable of performing the above.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
は、一端側が各回路に接続されると共に他端側が共通電
位となる複数のヒューズがガードリング内の領域に形成
された半導体集積回路において、共通電位となる共通線
が該ガードリング内の領域を通して形成されると共に、
該複数のヒューズの該他端側が該ガードリング内で該共
通線に一体接続されており、そのことにより上記目的が
達成される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit in which a plurality of fuses having one end connected to each circuit and the other end having a common potential are formed in a region within a guard ring. A common line serving as a common potential is formed through a region in the guard ring,
The other ends of the plurality of fuses are integrally connected to the common line in the guard ring, thereby achieving the above object.

【0013】[0013]

【作用】各ヒューズの一端側は、ガードリング外でそれ
ぞれコンタクト部を介して各回路に接続されることにな
る。また、これら各ヒューズの他端側は、ガードリング
内の領域で共通線に一体接続される。従って、この共通
線の一端をガードリング外に引き出して1個のコンタク
ト部を介して共通電位となる回路に接続すれば足りる。
このため、ヒューズの回路部分がガードリングとこの1
個のコンタクト部の周囲にある程度の幅を持たせた領域
を占有するだけで済むようになる。
One end of each fuse is connected to each circuit via a contact outside the guard ring. The other end of each of the fuses is integrally connected to a common line in a region within the guard ring. Therefore, it is sufficient to draw one end of this common line out of the guard ring and connect it to a circuit having a common potential via one contact portion.
For this reason, the circuit portion of the fuse is a guard ring and this 1
It is only necessary to occupy a region having a certain width around each of the contact portions.

【0014】この結果、本発明によれば、ヒューズの他
端側が共通線を介して1個のコンタクト部により共通電
位の回路に接続されるので、このヒューズの回路部分が
チップ上で占有する領域を縮小することができるように
なる。
As a result, according to the present invention, since the other end of the fuse is connected to the circuit of the common potential by one contact portion via the common line, the area occupied by the circuit portion of the fuse on the chip Can be reduced.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明を実施例について説明する。The present invention will be described below with reference to examples.

【0016】図1は本発明の一実施例を示すものであっ
て、ヒューズの回路部分のチップ上におけるレイアウト
を示す図である。なお、図3に示した従来例と同様の機
能を有する構成部材には同じ番号を付記する。図2に示
した半導体記憶装置の冗長デコーダにおけるヒューズの
回路部分について説明する。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention and is a diagram showing a layout of a circuit portion of a fuse on a chip. Components having the same functions as those of the conventional example shown in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals. The circuit portion of the fuse in the redundant decoder of the semiconductor memory device shown in FIG. 2 will be described.

【0017】チップ上には、導電性のポリシリコン層に
よる1本の共通線16が形成されている。また、この共
通線16の両側辺からは、同じポリシリコン層の配線パ
ターンがそれぞれ6本ずつ両側に向けて引き出され、1
2本のヒューズ70 〜711を形成している。
One common line 16 is formed on the chip by a conductive polysilicon layer. Further, from both sides of the common line 16, six wiring patterns of the same polysilicon layer are respectively drawn out to both sides, and 1
Two fuses 70 to 711 are formed.

【0018】上記12本のヒューズ70〜711の一端側
は、それぞれ12個のコンタクト部120〜1211に接
続されている。コンタクト部120〜1211は、各ヒュ
ーズ70 〜711の一端側を図2におけるNチャンネルM
OSFET60〜611の各ドレインとつながるメタル配
線140〜1411に接続するためのものである。そし
て、このヒューズ70〜711の他端側は、上記のよう
に、同じポリシリコン層の配線パターンとして一体形成
された1本の共通線16に接続されることになる。この
共通線16の一端側は、1個のコンタクト部13に接続
されている。このコンタクト部13は、共通線16の一
端側を前記図2にも示した出力線8に接続するためのも
のである。
[0018] One end side of the 12 fuses 7 0-7 11 is connected to the twelve contact portions 12 0 to 12 11, respectively. Contact portion 12 0-12 11, N-channel M to one end side of each fuse 7 0-7 11 in FIG. 2
OSFET6 0 ~6 11 is for connecting to metal interconnect 14 0-14 11 connected with drains of. The other end of the fuse 7 0-7 11, as described above, will be connected to one common line 16 which is integrally formed as a wiring pattern of the same polysilicon layer. One end of the common line 16 is connected to one contact portion 13. The contact portion 13 is for connecting one end of the common line 16 to the output line 8 shown in FIG.

【0019】上記1本の共通線16と12本のヒューズ
0〜711との接続部付近は、1本のメタル層のパター
ンを方形環状に形成したガードリング15によって取り
囲まれている。従って、このガードリング15の外側で
コンタクト部120〜1211にそれぞれ一端側を接続さ
れた各ヒューズ70〜711は、他端側がガードリング1
5内の領域まで伸びて共通線16に接続されることにな
り、また、共通線16は、一端側がガードリング15の
外側まで伸びて、ここでコンタクト部13に接続される
ことになる。このガードリング15は、レーザトリマに
よって切断されるヒューズ70〜711を保護するための
ものであり、ヒューズ70〜711や共通線16のポリシ
リコン層との層間に図示しない絶縁層を介して形成され
ている。
The vicinity of the connecting portion between the fuse 7 0-7 11 of the single common line 16 and 12 is surrounded by a guard ring 15 forming a pattern of one metal layer to a square ring. Accordingly, the fuse 7 0-7 11 connected to one end of each of the contact portions 12 0-12 11 outside of the guard ring 15, the other end guard rings 1
The common line 16 extends to a region inside the common ring 16, and one end of the common line 16 extends to the outside of the guard ring 15, and is connected to the contact portion 13 here. The guard ring 15 is intended to protect the fuse 7 0-7 11 to be cut by the laser trimmer, an insulating layer (not shown) between the layers of the polysilicon layer of the fuse 7 0-7 11 and the common line 16 It is formed.

【0020】上記構成のヒューズ70〜711の回路部分
は、チップ上において、ガードリング15と1個のコン
タクト部13との周囲にある程度の幅を持たせた図示領
域Aの範囲を占有することになる。また、レーザトリマ
は、このガードリング15内の図示Bに示す各領域にレ
ーザスポットを照射することにより各ヒューズ70〜71
1を適宜切断するようになっている。即ち、ヒューズ
0、71とヒューズ72、73というように2本を1組と
して、各組ごとにいずれか1本のヒューズ70〜711
切断することにより行アドレスの登録を行うことにな
る。従って、図2における冗長デコーダのアドレス入力
端子20〜25にこの登録された行アドレスが入力される
と、内部行アドレス確定信号がHレベルに切り替わった
場合の出力端子4からの冗長ワード線活性化信号をHレ
ベル(アクティブ)とすることができる。この結果、本
実施例は、各ヒューズ70〜711の他端側が共通線16
を介して1個のコンタクト部13により出力線8に接続
されるので、このヒューズ70〜711の回路部分がチッ
プ上で占有する領域Aを図3に示した従来の領域Eより
も約3分の2の大きさに縮小することができる。
The circuit portion of the fuse 7 0-7 11 configured as described above, on the chip, occupying a range of regions illustrated A which gave a certain width around the guard ring 15 and one contact portion 13 Will be. Further, laser trimmer, each fuse 7 0-7 1 by irradiating a laser spot on the area shown in the drawing B of the guard ring 15
1 is appropriately cut. That is, as the fuse 7 0, 7 1 and the fuse 7 2, 7 one set of two and so 3, the registration of the row address by cutting one fuse 7 0-7 11 either for each set Will do. Therefore, when the registered row address to the address input terminal 2 0-2 5 of the redundancy decoders in FIG. 2 is input, the redundant word line from the output terminal 4 when the internal row address determination signal is switched to H level The activation signal can be at H level (active). As a result, the present embodiment, the other end of the fuse 7 0-7 11 common line 16
Since is connected to the output line 8 by a single contact portion 13 via the approximately than conventional region E shown a region A circuit portion of the fuse 7 0-7 11 occupies on the chip in FIG. 3 The size can be reduced to two thirds.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、レーザトリマ等によって切断されるヒューズ
の回路部分がチップ上で占有する領域を縮小することが
できるので、半導体集積回路の小型化に貢献することが
できるようになる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the area occupied on the chip by the circuit portion of the fuse cut by the laser trimmer or the like can be reduced, so that the size of the semiconductor integrated circuit can be reduced. Will be able to contribute to

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を示すものであって、冗長デ
コーダにおけるヒューズの回路部分のチップ上における
レイアウトを示す図である。
FIG. 1, showing an embodiment of the present invention, is a diagram showing a layout on a chip of a circuit portion of a fuse in a redundant decoder.

【図2】半導体記憶装置における冗長デコーダの構成を
示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant decoder in the semiconductor memory device.

【図3】従来例を示すものであって、冗長デコーダにお
けるヒューズの回路部分のチップ上におけるレイアウト
を示す図である。
FIG. 3 shows a conventional example, and is a diagram showing a layout on a chip of a circuit portion of a fuse in a redundant decoder.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

0〜711 ヒューズ 8 出力線 140〜1411 メタル配線 15 ガードリング 16 共通線7 0 to 7 11 Fuse 8 Output line 14 0 to 14 11 Metal wiring 15 Guard ring 16 Common line

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一端側が各回路に接続されると共に他端側
が共通電位となる複数のヒューズがガードリング内の領
域に形成された半導体集積回路において、 共通電位となる共通線が該ガードリング内の領域を通し
て形成されると共に、該複数のヒューズの該他端側が該
ガードリング内で該共通線に一体接続された半導体集積
回路。
In a semiconductor integrated circuit in which a plurality of fuses having one end connected to each circuit and the other end having a common potential are formed in a region within a guard ring, a common line having a common potential is formed within the guard ring. And the other end sides of the plurality of fuses are integrally connected to the common line in the guard ring.
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