JP2768748B2 - Metal vapor laser equipment - Google Patents

Metal vapor laser equipment

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JP2768748B2
JP2768748B2 JP1203816A JP20381689A JP2768748B2 JP 2768748 B2 JP2768748 B2 JP 2768748B2 JP 1203816 A JP1203816 A JP 1203816A JP 20381689 A JP20381689 A JP 20381689A JP 2768748 B2 JP2768748 B2 JP 2768748B2
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thyratron
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修 岸川
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/031Metal vapour lasers, e.g. metal vapour generation

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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は金属蒸気レーザー装置に係り、特に金属蒸気
をレーザー媒体とし、この放電状態を良好にしてレーザ
ー発振出力,効率等を向上させた金属蒸気レーザー装置
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial application field) The present invention relates to a metal vapor laser device, and more particularly, to a laser medium using metal vapor as a laser medium to improve the discharge state and to improve laser oscillation output and efficiency. The present invention relates to a metal vapor laser device having improved characteristics.

(従来の技術) 第4図を参照しながら従来の金属蒸気レーザー装置の
構成を説明する。すなわち、発振管本体1の中心部には
耐熱性を有する放電管としてのレーザー管2が収容され
る。このレーザー管2の両端部には陽電極3および陰電
極4が対向して配設され、これらの電極3,4はそれぞれ
電極支持フランジ5,6によって支持され、この電極3,4間
に形成される放電空間7においてパルス二極放電が行な
われる。レーザー管2内の底部には金属蒸気を生成する
例えば銅粒などの金属蒸気源8が配置される。
(Prior Art) The configuration of a conventional metal vapor laser device will be described with reference to FIG. That is, a laser tube 2 as a heat-resistant discharge tube is accommodated in the center of the oscillation tube main body 1. A positive electrode 3 and a negative electrode 4 are disposed at both ends of the laser tube 2 so as to face each other. These electrodes 3 and 4 are supported by electrode support flanges 5 and 6, respectively, and are formed between the electrodes 3 and 4. A pulse bipolar discharge is performed in the discharge space 7 to be discharged. At the bottom of the laser tube 2 is disposed a metal vapor source 8 for producing metal vapor, such as copper particles.

またレーザー管2の外周にはアルミナファイバなどの
材料からなる断熱層9が形成され、その断熱層9を所定
位置に固定し保護するため、石英等で形成した保護管10
が断熱層9の外周に設けられている。保護管10と、その
外側に配設された外部真空容器11との間には真空断熱室
12が形成される。この真空断熱室12およびレーザー管2
内の放電空間7は排気装置13に接続されて、内部が真空
状態に維持される。
Further, a heat insulating layer 9 made of a material such as alumina fiber is formed on the outer periphery of the laser tube 2, and a protective tube 10 made of quartz or the like is used to fix and protect the heat insulating layer 9 at a predetermined position.
Is provided on the outer periphery of the heat insulating layer 9. A vacuum insulated chamber is provided between the protective tube 10 and an external vacuum vessel 11 disposed outside the protective tube.
12 is formed. This vacuum insulation chamber 12 and laser tube 2
The inside discharge space 7 is connected to an exhaust device 13 so that the inside is maintained in a vacuum state.

また、陽電極3と陰電極4とを絶縁し、良好な放電を
得るため、外部真空容器11と電極支持フランジ6との間
にセラミックまたはガラス等の絶縁材で形成したブレー
ク管14が介装されている。
A break tube 14 made of an insulating material such as ceramic or glass is interposed between the external vacuum vessel 11 and the electrode support flange 6 to insulate the positive electrode 3 and the negative electrode 4 and obtain a good discharge. Have been.

レーザー光を発振させる操作はまず排気装置13を作動
させて真空断熱室12および放電空間7内を排気し、続い
て、バッファガス供給源15から放電空間内7内にNe等の
バッファガスを導入し、内部を一定圧力に保持する。
The operation of oscillating laser light is as follows. First, the exhaust device 13 is operated to exhaust the inside of the vacuum insulation chamber 12 and the discharge space 7, and then, a buffer gas such as Ne is introduced into the discharge space 7 from the buffer gas supply source 15. And maintain the inside at a constant pressure.

この状態で高電圧電源16、パルス回路17、パルスドラ
イブ電源18を起動すると、陽電極3と陰電極4との間に
パルス状高電圧が印加されて放電空間7において放電プ
ラズマが生起する。この放電プラズマ中の自由電子に浮
遊状態の金属蒸気が衝突して金属蒸気が励起され、励起
された金属蒸気が低エネルギー準位に遷移する際に所定
波長のレーザー光が発生する。放電空間7内で発生した
レーザー光はブリュースター窓19,20を通過し、更にレ
ーザー光共振器21を構成する出力ミラー22および全反射
ミラー23で反射する間にその振幅が増大し、出力ミラー
から発振する。
When the high voltage power supply 16, the pulse circuit 17, and the pulse drive power supply 18 are activated in this state, a pulsed high voltage is applied between the positive electrode 3 and the negative electrode 4, and discharge plasma is generated in the discharge space 7. The floating metal vapor collides with free electrons in the discharge plasma to excite the metal vapor, and when the excited metal vapor transitions to a low energy level, a laser beam of a predetermined wavelength is generated. The laser light generated in the discharge space 7 passes through the Brewster windows 19 and 20, and its amplitude increases while being reflected by the output mirror 22 and the total reflection mirror 23 constituting the laser light resonator 21. Oscillates from

また、レーザー管(放電管)2内に高電圧のパルス放
電を行なわせるための電気回路は高電圧電源16からの高
電圧を有効に供給するためのスイッチング素子である水
素封入サイラトロン24と、抵抗25,コンデンサ26,27,ダ
イオードD,コイルL等から構成されている。
An electric circuit for causing a high-voltage pulse discharge in the laser tube (discharge tube) 2 includes a hydrogen-filled thyratron 24 as a switching element for effectively supplying a high voltage from a high-voltage power supply 16, and a resistor. 25, capacitors 26 and 27, diode D, coil L and the like.

なお、水素供給機構28を有した水素封入サイラトロン
24は決められたパルスで点弧させるためのパルスドライ
ブ電源18と点弧の正常性を図るための水素濃度調整用リ
ザーバ電源29を有する。
A hydrogen-filled thyratron having a hydrogen supply mechanism 28
Numeral 24 has a pulse drive power supply 18 for firing with a predetermined pulse and a reservoir power supply 29 for adjusting hydrogen concentration for normality of firing.

このように構成された金属蒸気レーザー装置における
レーザー発振時の水素封入サイラトロン24の動作を説明
した図が第5図(a),(b),(c)である。この第
5図はパルス1周期について、サイラトロンのグリッド
電圧[第5図(a)],陽極電圧[第5図(b)],陰
極電流[第5図(c)]の時間経過に対する動作状態を
駆動期,転移期,定常期,回復期の四つに大別して示し
たものである。水素封入サイラトロン24の場合、この四
つの状態の時間的変動は、サイラトロン内に封入された
水素の濃度に依存する。このため水素濃度を適当に維持
するために、リザーバとしてチタニウム等の水素化物
と、これを加熱するヒータとをサイラトロン内部に設
け、ヒータを加熱することにより熱的平衡状態により水
素を放出する構造となっている。
FIGS. 5 (a), 5 (b) and 5 (c) illustrate the operation of the hydrogen-filled thyratron 24 during laser oscillation in the metal vapor laser device configured as described above. FIG. 5 shows the operation state of the thyratron with respect to one pulse period with respect to the lapse of time of the grid voltage [FIG. 5 (a)], the anode voltage [FIG. 5 (b)], and the cathode current [FIG. 5 (c)]. Are roughly divided into four phases: a driving phase, a metastatic phase, a stationary phase, and a recovery phase. In the case of the hydrogen-filled thyratron 24, the temporal fluctuation of these four states depends on the concentration of hydrogen sealed in the thyratron. Therefore, in order to appropriately maintain the hydrogen concentration, a hydride such as titanium and a heater for heating the hydride are provided inside the thyratron as a reservoir, and the heater is heated to release hydrogen in a thermal equilibrium state. Has become.

(発明が解決しようとする課題) 通常、リザーバに印加する電圧は定格動作における値
としてメーカから提示されており、この値を基準に設定
する。このリザーバに印加する電圧が陽極電圧との関係
から不適当であった場合、第6図に示した如く、サイラ
トロンがスイッチング素子として機能せず、ひいてはサ
イラトロン自身を損傷し、レーザー発振停止状態をまね
くことがある。なお、第6図は縦軸に陽極電圧(kV)
を、横軸にリザーバ電圧(V)を示している。これは水
素自身が、サイラトロン内部の構造物に吸着されて、わ
ずかながらずつ消失していくことに起因する。このた
め、サイラトロンに印加される陽極電圧の程度及びサイ
ラトロンの使用時間によってその都度リザーバに印加す
る電圧を加減していく必要の課題がある。本発明は上記
課題を解決するためになされたものであり、レーザー出
力の長期安定性の維持,信頼性の向上,省力化などを図
った金属上記レーザー装置を提供することにある。
(Problem to be Solved by the Invention) Usually, the voltage applied to the reservoir is presented by the manufacturer as a value in rated operation, and is set based on this value. If the voltage applied to the reservoir is inappropriate due to the relationship with the anode voltage, as shown in FIG. 6, the thyratron does not function as a switching element, and eventually damages the thyratron itself, leading to a laser oscillation stop state. Sometimes. In FIG. 6, the vertical axis represents the anode voltage (kV).
And the horizontal axis indicates the reservoir voltage (V). This is because hydrogen itself is adsorbed by the structure inside the thyratron and disappears little by little. Therefore, there is a problem that it is necessary to adjust the voltage applied to the reservoir each time depending on the degree of the anode voltage applied to the thyratron and the usage time of the thyratron. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a metal-based laser device which is capable of maintaining long-term stability of laser output, improving reliability, and saving labor.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は金属蒸気を生成する金属蒸気源が配置された
放電管と、この放電管の外周囲に設けられた断熱材と、
前記放電管の両端に接続された一対の電極と、この一対
の電極を支持する電極支持フランジと、この電極支持フ
ランジに接続されたブリュスター管と、前記放電管内に
パルス放電を行なわせるためのスイッチング素子として
水素封入サイラトロン及びこれを駆動するためのパルス
ドライブ電源及び水素濃度調整用リザーバ電源と、前記
電極間に高電圧を印加するための高電圧電源とを有する
金属蒸気レーザー装置において、前記水素封入サイラト
ロンの陽極電圧及びグリッド電圧を読み取り、陽極電圧
降下時間及び陽極遅延時間の変動を判定するか、または
陽極電圧及び陰極電流を読み取り、内部損失の変化を判
定することにより、前記水素濃度調整用リザーバ電源に
供給する電圧を決定する自動設定器を設けたことを特徴
とする。
[Configuration of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention relates to a discharge tube in which a metal vapor source for generating metal vapor is arranged, a heat insulating material provided around the outer periphery of the discharge tube,
A pair of electrodes connected to both ends of the discharge tube, an electrode support flange supporting the pair of electrodes, a Brewster tube connected to the electrode support flange, and a pulse discharge in the discharge tube. In a metal vapor laser device having a hydrogen-filled thyratron as a switching element, a pulse drive power supply for driving the thyratron and a reservoir power supply for adjusting the hydrogen concentration, and a high-voltage power supply for applying a high voltage between the electrodes, By reading the anode voltage and grid voltage of the encapsulated thyratron and judging the fluctuation of the anode voltage fall time and the anode delay time, or by reading the anode voltage and the cathode current and judging the change in the internal loss, the hydrogen concentration adjustment is performed. An automatic setting device for determining a voltage to be supplied to the reservoir power supply is provided.

(作用) 本発明は水素封入サイラトロンに印加されるグリッド
電圧,陽極電圧波形を読取り、そのデータを波形読取装
置に伝送する。その伝送されてきたデータを以前のデー
タと比較し時間的変動の有無を判定装置でその結果をデ
ータとして送出する。この判定装置から送られてきたデ
ータをもとにリザーバ電圧を0.05〜0.2Vステップで設定
する自動設定器から構成され、リザーバ電圧を設定して
から判定装置によりその結果が判定されるまでに約数分
間の時間遅れを許容する。
(Operation) The present invention reads the grid voltage and anode voltage waveforms applied to the hydrogen-filled thyratron, and transmits the data to a waveform reader. The transmitted data is compared with previous data to determine the presence or absence of a temporal variation, and the result is transmitted as data by the determination device. It consists of an automatic setting device that sets the reservoir voltage in steps of 0.05 to 0.2 V based on the data sent from this determination device, and it takes about from the setting of the reservoir voltage to the determination of the result by the determination device. Allow a time delay of several minutes.

本発明によれば、リザーバに印加する電圧をサイラト
ロンに印加された陽極電圧,グリッド電圧の時間的変動
をもとに自動的に設定できるため最適な状態で動作させ
ることができる。この結果、サイラトロンの損傷が防止
され、レーザ出力の長期安定性の維持および信頼性の向
上が図れる。また、繁雑な作業を自動化することにより
省力化できる。
According to the present invention, the voltage applied to the reservoir can be automatically set on the basis of the temporal variation of the anode voltage and the grid voltage applied to the thyratron, so that the operation can be performed in an optimum state. As a result, damage to the thyratron can be prevented, and long-term stability of laser output can be maintained and reliability can be improved. In addition, labor can be saved by automating complicated operations.

(実施例) 本発明に係る金属蒸気レーザー装置の一実施例を第1
図を参照して説明する。
(Embodiment) An embodiment of the metal vapor laser apparatus according to the present invention is the first
This will be described with reference to the drawings.

この実施例の金属蒸気レーザー装置においては、電気
回路系以外は第4図に示した従来のものと同様である。
したがって、図中第4図と同一部分には同一符号を付し
て重複する部分の説明を省略する。
The metal vapor laser device of this embodiment is the same as the conventional device shown in FIG. 4 except for the electric circuit system.
Therefore, in the figure, the same parts as those in FIG.

まず、水素封入サイラトロン24のリザーバ28に印加す
る電圧を、前記操作時に保存したデータを記憶装置30か
ら読み出し、判定装置31を介して自動設定器32により設
定する。この後、高電圧電源16により徐々に印加電圧を
増加させていく。高電圧電源16から印加された電圧はコ
イルLおよび充電コンデンサ27によって決まる時定数で
さらに高電圧となり充電コンデンサ27に充電される。こ
の状態で、パルスドライブ電源18から水素封入サイラト
ロン24のグリッドGに繰返し周波数kHでパルスが印加さ
れると、水素封入サイラトロン24は繰返し周波数に同期
して導通状態となり、充電コンデンサ27に蓄えられたエ
ネルギーが発振管本体1に印加され放電が始まる。この
時に水素封入サイラトロン24の陽極電圧,グリッド電圧
を図中記号の(A),(B)端子に接続した波形読取装
置33により読取り、そのデータを判定装置31に伝送す
る。判定装置31では、前回のデータを記憶装置30から読
出し、今回データと比較、その時間的変動を陽極電圧で
はその電圧降下時間(第5図(b)参照)、またグリッ
ド電圧では陽極遅延時間(第5図(a)参照)の差の有
無で判定する。この判定の結果をもとに、自動設定器32
に指令を出し、リザーバ印加電圧を0.05〜0.2Vの範囲で
変化させる。この場合、リザーバ印加電圧を変えて、水
素封入サイラトロンが定常な状態になるまでには約3分
間程度かかるため、波形読取装置33で読取ったデータは
約数分間後のデータを真の値として判定することにな
る。
First, the voltage applied to the reservoir 28 of the hydrogen-sealed thyratron 24 is read out from the storage device 30 by reading the data stored during the operation, and set by the automatic setting device 32 via the determination device 31. Thereafter, the applied voltage is gradually increased by the high voltage power supply 16. The voltage applied from the high voltage power supply 16 becomes a higher voltage with a time constant determined by the coil L and the charging capacitor 27, and the charging capacitor 27 is charged. In this state, when a pulse is applied from the pulse drive power supply 18 to the grid G of the hydrogen-filled thyratron 24 at the repetition frequency kH, the hydrogen-filled thyratron 24 becomes conductive in synchronization with the repetition frequency, and is stored in the charging capacitor 27. Energy is applied to the oscillation tube main body 1 and discharge starts. At this time, the anode voltage and the grid voltage of the hydrogen-filled thyratron 24 are read by a waveform reading device 33 connected to the (A) and (B) terminals in the figure, and the data is transmitted to the judging device 31. The determination device 31 reads the previous data from the storage device 30 and compares it with the current data. The temporal variation is determined by the voltage drop time (see FIG. 5B) for the anode voltage and the anode delay time (see FIG. 5B) for the grid voltage. The determination is made based on the presence or absence of the difference shown in FIG. 5 (a). Based on the result of this judgment, the automatic setting device 32
And the reservoir applied voltage is changed in the range of 0.05 to 0.2V. In this case, it takes about 3 minutes for the hydrogen-filled thyratron to reach a steady state by changing the voltage applied to the reservoir. Will do.

本実施例の場合、リザーバの印加電圧を変化させるタ
イミングに陽極遅延時間および陽極電圧降下時間の変動
の有無を用いた。これはサイラトロン自身の個性があ
り、同じタイプのものでも若干特性が異なることがある
からである。一つの入力信号での判定では正確さに欠け
ることが考えられ、本実施例のように二入力信号の結果
から判定すればより信頼性の高いレーザ装置を実現する
ことが可能となる。
In the case of the present embodiment, the presence or absence of the fluctuation of the anode delay time and the anode voltage fall time is used as the timing for changing the voltage applied to the reservoir. This is because thyratrons have their own characteristics, and the characteristics of the same type may be slightly different. It is conceivable that accuracy is low in the determination with one input signal, and a more reliable laser device can be realized by determining from the result of two input signals as in the present embodiment.

本発明は自動設定器32によってリザーバの印加電圧を
ステップ状に変え、この時のサイラトロンの状態を数分
間の遅れをもって波形読取装置33で読取り、これを判定
装置31で判定し、この結果をもとに指令を出すように構
成したものである。上記実施例では、この波形読取装置
33で読取る信号をグリッド電圧,陽極電圧としたが、こ
れらは陽極電圧,陰極電流であってもよい。
In the present invention, the voltage applied to the reservoir is changed in steps by the automatic setting device 32, the state of the thyratron at this time is read by the waveform reading device 33 with a delay of several minutes, and this is determined by the determining device 31, and the result is also determined. And a command is issued. In the above embodiment, the waveform reading device
The signals read at 33 are the grid voltage and the anode voltage, but these may be the anode voltage and the cathode current.

サイラトロンはその抵抗成分,インダクタンス成分に
よって内部での損失がある。この損失は第2図および第
3図に示した如く、陽極電圧の降下時間の増減により変
化する。
Thyratron has internal loss due to its resistance and inductance components. As shown in FIGS. 2 and 3, this loss changes depending on the increase or decrease of the fall time of the anode voltage.

第2図および第3図はサイラトロンのスイッチング時
の時間変化に対する陽極電圧、サイラトロン内部損失、
陰極電流の変化状態を示したものである。
2 and 3 show the anode voltage, the thyratron internal loss,
It shows a change state of the cathode current.

陰極電流はサイラトロンの外部に接続された要素によ
り決められるものであるが、陽極電圧はサイラトロンの
リザーバに印加される電圧によって増減することが判っ
ている。
While the cathodic current is determined by components connected externally to the thyratron, the anodic voltage has been found to increase and decrease with the voltage applied to the thyratron reservoir.

リザーバ印加電圧が適当な値でない場合、第3図に示
したように陽極電圧はその効果時間が延びる。
If the reservoir applied voltage is not an appropriate value, the effect time of the anode voltage is prolonged as shown in FIG.

このため、陽極電圧と陰極電流の積で決まるサイラト
ロン内部損失は増加することになり、この分サイラトロ
ンの発熱となり、サイラトロン自身の損傷を招く結果と
なる。
For this reason, the internal loss of the thyratron, which is determined by the product of the anode voltage and the cathode current, increases, resulting in heat generation of the thyratron and resulting in damage to the thyratron itself.

このため、この二信号を読取り、サイラトロン内部損
失を演算し、変化が認められたことを判定しリザーバ印
加電圧を変えるものであってもよい。この場合は、サイ
ラトロン内部損失を直接判定材料としており、サイラト
ロンの保護の面からは非常に有効であり、レーザー装置
の長期安定性を維持できる。
Therefore, the two signals may be read to calculate the internal loss of the thyratron, determine that a change has been recognized, and change the reservoir applied voltage. In this case, the internal loss of the thyratron is directly used as a judgment material, which is very effective from the viewpoint of protection of the thyratron, and can maintain the long-term stability of the laser device.

[発明の効果] 本発明によれば、サイラトロンに印加される陽極電圧
の程度及びサイラトロンの使用時間にかかわらず、その
都度リザーバに印加する電圧を自動的に加減できる。し
たがって、レーザ出力の長期安定性の維持,信頼性の向
上,省力化等が図れた金属蒸気レーザ装置を提供でき
る。
[Effects of the Invention] According to the present invention, the voltage applied to the reservoir can be automatically adjusted each time regardless of the degree of the anode voltage applied to the thyratron and the usage time of the thyratron. Therefore, it is possible to provide a metal vapor laser device in which long-term stability of laser output is maintained, reliability is improved, labor is saved, and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明に係る金属蒸気レーザー装置の一実施例
を示す構成図、第2図および第3図はそれぞれ本発明の
他の実施例における作用効果を説明するための特性曲線
図、第4図は従来の金属蒸気レーザー装置を示す構成
図、第5図(a),(b),(c)は第4図におけるサ
イラトロンにパルス状に印加されるグリッド電圧,陽極
電圧,陰極電流の1周期分をそれぞれ示す波形図、第6
図は第4図におけるリザーバに印加可能な範囲を示す特
性図である。 1…発振管本体 2…レーザー管 3…陽電極 4…陰電極 5,6…電極支持フランジ 7…放電空間 8…金属蒸気源 9…断熱層 10…保護管 11…外部真空容器 12…真空断熱室 13…排気装置 14…ブレーク管 15…バッファガス供給源 16…高電圧電源 17…パルス回路 18…パルスドライブ電源 19,20…ブリュースタ窓 21…レーザー光共振器 22…出力ミラー 23…全反射ミラー 24…水素封入サイラトロン 25…抵抗 26,27…コンデンサ 28…水素供給機構 29…リザーバ電源 30…記憶装置 31…判定装置 32…自動設定器 33…波形読取装置
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a metal vapor laser device according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 are characteristic curve diagrams for explaining the operation and effect of another embodiment of the present invention. FIG. 4 is a block diagram showing a conventional metal vapor laser device, and FIGS. 5 (a), (b) and (c) show grid voltage, anode voltage and cathode current applied to the thyratron in pulse form in FIG. Waveform diagrams each showing one cycle, FIG.
The figure is a characteristic diagram showing the range that can be applied to the reservoir in FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Oscillation tube main body 2 ... Laser tube 3 ... Positive electrode 4 ... Negative electrode 5, 6 ... Electrode support flange 7 ... Discharge space 8 ... Metal vapor source 9 ... Heat insulation layer 10 ... Protection tube 11 ... External vacuum vessel 12 ... Vacuum heat insulation Chamber 13 Exhaust device 14 Break tube 15 Buffer gas supply 16 High voltage power supply 17 Pulse circuit 18 Pulse drive power supply 19,20 Brewster window 21 Laser light resonator 22 Output mirror 23 Total reflection Mirror 24… Hydrogen-filled thyratron 25… Resistor 26,27… Condenser 28… Hydrogen supply mechanism 29… Reservoir power supply 30… Storage device 31… Judgment device 32… Automatic setting device 33… Waveform reading device

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】金属蒸気を生成する金属蒸気源が配置され
た放電管と、この放電管の外周面に設けられた断熱材
と、前記放電管の両端に接続された一対の電極と、この
一対の電極を支持する電極支持フランジと、この電極支
持フランジに接続されたブリュスター管と、前記放電管
内にパルス放電を行わせるためのスイッチング素子とし
て水素封入サイラトロン及びこれを駆動するためのパル
スドライブ電源及び水素濃度調整用リザーバ電源と、前
記電極間に高電圧を印加するための高電圧電源とを有す
る金属蒸気レーザー装置において、前記水素封入サイラ
トロンの陽極電圧及びグリッド電圧を読み取り、陽極電
圧降下時間及び陽極遅延時間の変動を判定するか、また
は陽極電圧及び陰極電流を読み取り、内部損失の変化を
判定することにより、前記水素濃度調整用リザーバ電源
に供給する電圧を決定する自動設定器を設けたことを特
徴とする金属蒸気レーザー装置。
A discharge tube in which a metal vapor source for generating metal vapor is arranged; a heat insulating material provided on an outer peripheral surface of the discharge tube; a pair of electrodes connected to both ends of the discharge tube; An electrode support flange supporting a pair of electrodes, a Brewster tube connected to the electrode support flange, a hydrogen-filled thyratron as a switching element for causing pulse discharge in the discharge tube, and a pulse drive for driving the thyratron In a metal vapor laser device having a power supply and a reservoir power supply for adjusting hydrogen concentration and a high-voltage power supply for applying a high voltage between the electrodes, the anode voltage and grid voltage of the hydrogen-filled thyratron are read, and the anode voltage fall time And the change in the anode delay time or by reading the anode voltage and the cathode current to determine the change in internal loss Metal vapor laser apparatus characterized by comprising an automatic setting unit which determines the voltage supplied to the hydrogen concentration adjustment reservoir supply.
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