JP2765942B2 - Liquid crystalline polymer and epoxy compound used for its production - Google Patents

Liquid crystalline polymer and epoxy compound used for its production

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な液晶性ポリマー及びその製造に用い
られるモノマーであるエポキシ化合物に関するものであ
る。さらに詳しくいえば、本発明はオプトエレクトロニ
クス分野、特に電卓、時計などの表示素子、電子光学シ
ャッター、電子光学絞り、光変調器、光通信光路切換ス
イッチ、メモリー、液晶プリンターヘッド、焦点距離可
変レンズなどの種々の電子光学デバイスとして有用な、
室温付近でも強誘電性を示す上に、外的因子に対する応
答速度が速くて動画表示が可能であり、かつ大画面や屈
曲画面の表示素子として有利に使用しうる液晶性ポリマ
ー及びその製造に用いられるモノマーであるエポキシ化
合物に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel liquid crystalline polymer and an epoxy compound which is a monomer used for producing the same. More specifically, the present invention relates to the field of optoelectronics, in particular, display devices such as calculators and watches, electro-optical shutters, electro-optical apertures, optical modulators, optical communication optical path switching switches, memories, liquid crystal printer heads, focal length variable lenses, and the like. Useful as various electro-optical devices,
In addition to exhibiting ferroelectricity even at around room temperature, it has a high response speed to external factors, can display moving images, and can be used advantageously as a display element for large screens and curved screens, and is used for the production thereof. The present invention relates to an epoxy compound as a monomer to be obtained.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、低分子液晶を用いた表示素子は、電卓、時計な
どのデジタル表示に広く使用されている。これらの利用
分野では、通常、従来の低分子液晶は、間隔をミクロン
オーダーで制御した2枚のガラス基板の間に挟んで使用
されている。しかしながら、このような間隙の調整は大
型画面及び曲面画面では実現が不可能であった。この難
点を解決する1つの手段として、液晶を高分子化し、そ
れ自体を成形可能ならしめることが試みられている(J.
Polym.Sci.,Polym.Lett.,Ed.13,243(1975),Polym.Bul
l.,,309(1982)、特開昭55−21479号公報など)。
Conventionally, display devices using low-molecular liquid crystals have been widely used for digital displays such as calculators and watches. In these applications, the conventional low-molecular liquid crystal is usually used between two glass substrates whose interval is controlled on the order of microns. However, such a gap adjustment cannot be realized on a large screen or a curved screen. One way to solve this difficulty is to polymerize the liquid crystal so that it can be molded (J.
Polym.Sci., Polym.Lett., Ed. 13, 243 (1975), Polym.Bul
l, 6 , 309 (1982), JP-A-55-21479, etc.).

しかしながら、これらの液晶性ポリマーは、ポリマー
自体は室温では液晶としての性質を示さず、ガラス転移
温度以上で透明化温度未満の温度範囲で加熱して液晶化
しなければならないという欠点を有している。
However, these liquid crystalline polymers have the disadvantage that the polymers themselves do not exhibit liquid crystal properties at room temperature and must be heated to a liquid crystal temperature above the glass transition temperature and below the clearing temperature to form a liquid crystal. .

また、特開昭63−99204号公報において、ポリアクリ
レート系強誘電性液晶性ポリマーの合成が報告されてお
り、上記の液晶ポリマーよりも優れた性能を示すことが
明らかとなっている。しかしながら、これらの液晶性ポ
リマーにおいても、なお、応答速度、使用可能な温度範
囲に問題が残っている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-99204 reports the synthesis of a polyacrylate-based ferroelectric liquid crystal polymer, and it has been clarified that the polyacrylate exhibits higher performance than the above liquid crystal polymer. However, even with these liquid crystalline polymers, problems still remain in the response speed and the usable temperature range.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

本発明は、室温域を含む広い温度範囲で強誘電性を示
す上に、広い温度範囲で外的因子、特に電界に対し高速
に応答する液晶性ポリマーを提供することを目的とする
ものである。すなわち、本発明は、表示素子として用い
た場合、動画表示ならびに大画面及び屈曲画面の作製を
可能ならしめる新規な液晶性ポリマーを提供しようとす
るものである。
An object of the present invention is to provide a liquid crystalline polymer which exhibits ferroelectricity in a wide temperature range including a room temperature range and which responds rapidly to an external factor, particularly an electric field, in a wide temperature range. . That is, an object of the present invention is to provide a novel liquid crystalline polymer which enables display of moving images and production of large and curved screens when used as a display element.

本発明の第二の目的は、このような液晶性ポリマーの
製造に用いられるモノマーであるエポキシ化合物を提供
することにある。
A second object of the present invention is to provide an epoxy compound which is a monomer used for producing such a liquid crystalline polymer.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を
有するポリエーテル型ポリマーが室温付近で強誘電性を
示すことを見出し、本発明を完成するに至った。
The present inventors have conducted intensive studies, and as a result, have found that a polyether polymer having a specific structure exhibits ferroelectricity near room temperature, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記一般式からなる繰り返し単
位を有する液晶性ポリマーを提供するものである。
That is, the present invention provides a liquid crystalline polymer having a repeating unit represented by the following general formula.

(式中、kは2〜30の整数であり、 R1 であり、 Xは−COO−又は−OCO−であり、 R2は−COOR3、−OCOR3又は−OR3であり、 R3であり、 R4及びR5はそれぞれ−CH3、ハロゲン原子、又は−CNで
あり、 m及びnはそれぞれ0〜10の整数であり、ただしR4が−
CH3である場合にはnは0ではなく、 pは0又は1であり、 *のついたCは不斉炭素原子である。) 本発明の液晶性ポリマーの数平均分子量は、好ましく
は1,000〜400,000である。1,000未満であると、液晶性
ポリマーのフィルム、塗膜としての成形性に支障を生じ
る場合があり、一方、400,000を超えると応答速度が遅
いなどの好ましくない効果の現れることがある。そし
て、数平均分子量の特に好ましい範囲はR1の種類、kの
値、R3の光学純度などに依存するので一概に規定できな
いが、通常1,000〜200,000である。
(Where k is an integer of 2 to 30, R 1 is In, X is -COO- or -OCO-, R 2 is -COOR 3, a -OCOR 3 or -OR 3, R 3 is R 4 and R 5 are each —CH 3 , a halogen atom, or —CN; m and n are each an integer of 0 to 10, provided that R 4 is —
In the case of CH 3 , n is not 0, p is 0 or 1, and C marked with * is an asymmetric carbon atom. The number average molecular weight of the liquid crystalline polymer of the present invention is preferably 1,000 to 400,000. If it is less than 1,000, the formability as a liquid crystalline polymer film or coating film may be hindered. On the other hand, if it exceeds 400,000, undesired effects such as a slow response speed may appear. The particularly preferred range of number average molecular weight type of R 1, the value of k, can not generally be defined since it depends on the optical purity of R 3, it is usually 1,000 to 200,000.

kは2〜30の整数であり、より好ましくは4〜20の整
数である。m及びnはそれぞれ0〜10の整数であり、よ
り好ましくはそれぞれ0〜6の整数である。
k is an integer of 2 to 30, more preferably 4 to 20. m and n are each an integer of 0 to 10, more preferably 0 to 6.

以下に、本発明の液晶性ポリマーの一般的な合成方法
を示す。
Hereinafter, a general method for synthesizing the liquid crystalline polymer of the present invention will be described.

例えば、本発明の液晶性ポリマーは、請求項2に記載
された発明に係るエポキシ化合物を用いて合成すること
ができる。すなわち、本発明の液晶性ポリマーは、下記
一般式 (式中、k、X、R1、R2、R3、R4、R5、m、n、及びp
は、先に規定したと同じ意味を有する。)で示されるエ
ポキシ化合物であるモノマーを公知の方法で重合するこ
とにより得ることができる。
For example, the liquid crystalline polymer of the present invention can be synthesized using the epoxy compound according to the second aspect of the present invention. That is, the liquid crystalline polymer of the present invention has the following general formula: (Where k, X, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , m, n, and p
Has the same meaning as defined above. ) Can be obtained by polymerizing a monomer that is an epoxy compound represented by the formula (1) by a known method.

また、上記のモノマーであるエポキシ化合物は、例え
ば次のようにして得ることができる。
The epoxy compound as the above monomer can be obtained, for example, as follows.

(1) R1である場合 下記の反応式で示されるように、アリルアルコールと
α,ω−ジハロアルカン(I)をヘキサン等の溶媒に溶
解させ、50%水酸化ナトリウム水溶液、テトラブチルア
ンモニウムブロミド等の相間移動触媒を加え、エーテル
化を行い、ω−ハロアルキルアリルエーテル(II)を得
る。または、アリルアルコール、α,ω−ジハロアルカ
ン(I)をテトラヒドロフラン(THF)等の溶媒に溶解
させ水素化ナトリウムを加えてエーテル化を行いω−ハ
ロアルキルアリルエーテル(II)を得る。得られたω−
ハロアルキルアリルエーテル(II)と化合物(III)と
を炭酸カリウム等のアルカリの存在下、2−ブタノン等
の適当な溶媒中で反応させてアリルエーテル体(IV)を
得る。次いで、このアリルエーテル体(IV)をジクロロ
メタン等の適当な溶媒中で、m−クロロ過安息香酸等の
過酸でエポキシ化することにより、目的とするエポキシ
化合物(V)を得る。
(1) R 1 As shown in the following reaction formula, allyl alcohol and α, ω-dihaloalkane (I) are dissolved in a solvent such as hexane, and a 50% aqueous sodium hydroxide solution or a phase transfer catalyst such as tetrabutylammonium bromide is used. And etherification is performed to obtain ω-haloalkylallyl ether (II). Alternatively, ω-haloalkyl allyl ether (II) is obtained by dissolving allyl alcohol and α, ω-dihaloalkane (I) in a solvent such as tetrahydrofuran (THF) and adding sodium hydride to carry out etherification. Obtained ω-
Haloalkyl allyl ether (II) and compound (III) are reacted in a suitable solvent such as 2-butanone in the presence of an alkali such as potassium carbonate to obtain an allyl ether compound (IV). Then, the allyl ether compound (IV) is epoxidized with a peracid such as m-chloroperbenzoic acid in a suitable solvent such as dichloromethane to obtain the desired epoxy compound (V).

(式中、Yはハロゲンである。) α,ω−ジハロアルカン(I)としては、例えば1,4
−ジブロモブタン、1,6−ジブロモヘキサン、1,8−ジブ
ロモオクタン、1,10−ジヨードデカン、1,12−ジブロモ
ドデカン、1,14−ジブロモテトラデカンなどが好適に用
いられる。
(In the formula, Y is a halogen.) As α, ω-dihaloalkane (I), for example, 1,4
-Dibromobutane, 1,6-dibromohexane, 1,8-dibromooctane, 1,10-diiododecane, 1,12-dibromododecane, 1,14-dibromotetradecane and the like are preferably used.

ここで、上記化合物(III) は、下記の如くして合成することができる。Here, the compound (III) Can be synthesized as follows.

下記反応式に示す如く、4′−ヒドロキシビフェニル
−4−カルボン酸と光学活性アルコール(VI)とを、適
当な溶媒、例えばベンゼンなどの溶媒中において、エス
テル化触媒、例えば濃硫酸やp−トルエンスルホン酸な
どの存在下に、所望の温度で反応させることにより、こ
のエステル化合物(VII)を得る。
As shown in the following reaction formula, 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxylic acid and an optically active alcohol (VI) are converted into an esterification catalyst such as concentrated sulfuric acid or p-toluene in a suitable solvent such as benzene. The ester compound (VII) is obtained by reacting at a desired temperature in the presence of sulfonic acid or the like.

光学活性アルコール(VI)としては、例えば(+)−
2−メチルブタノール、(−)−2−メチルブタノー
ル、(+)−2−クロロブタノール、(−)−2−クロ
ロブタノール、(+)−2−メチルペンタノール、
(−)−2−メチルペンタノール、(+)−3−メチル
ペンタノール、(−)−3−メチルペンタノール、
(+)−4−メチルヘキサノール、(−)−4−メチル
ヘキサノール、(+)−2−クロロプロパノール、
(−)−2−クロロプロパノール、(+)−1−メチル
ヘプタノール、(−)−1−メチルヘプタノール、
(+)−6−メチルオクタノール、(−)−6−メチル
オクタノール、(+)−2−シアノブタノール、(−)
−2−シアノブタノール、(+)−2−ブタノール、
(−)−2−ブタノール、(+)−2−ペンタノール、
(−)−2−ペンタノール、(+)−2−オクタノー
ル、(−)−2−オクタノール、(+)−2−フルオロ
オクタノール、(−)−2−フルオロオクタノール、
(+)−2−フルオロヘキサノール、(−)−2−フル
オロヘキサノール、(+)−2−フルオロノナノール、
(−)−2−フルオロノナノール、(+)−2−クロロ
−3−メチルペンタノール、(−)−2−クロロ−3−
メチルペンタノールなどが用いられる。
Examples of the optically active alcohol (VI) include (+)-
2-methylbutanol, (-)-2-methylbutanol, (+)-2-chlorobutanol, (-)-2-chlorobutanol, (+)-2-methylpentanol,
(-)-2-methylpentanol, (+)-3-methylpentanol, (-)-3-methylpentanol,
(+)-4-methylhexanol, (-)-4-methylhexanol, (+)-2-chloropropanol,
(-)-2-chloropropanol, (+)-1-methylheptanol, (-)-1-methylheptanol,
(+)-6-methyloctanol, (-)-6-methyloctanol, (+)-2-cyanobutanol, (-)
-2-cyanobutanol, (+)-2-butanol,
(-)-2-butanol, (+)-2-pentanol,
(-)-2-pentanol, (+)-2-octanol, (-)-2-octanol, (+)-2-fluorooctanol, (-)-2-fluorooctanol,
(+)-2-fluorohexanol, (-)-2-fluorohexanol, (+)-2-fluorononanol,
(-)-2-fluorononanol, (+)-2-chloro-3-methylpentanol, (-)-2-chloro-3-
Methylpentanol or the like is used.

好ましくは、(−)−2−メチルブタノール、(+)
−2−ブタノール、(−)−2−ペンタノール、(−)
−2−オクタノール、(−)−2−フルオロオクタノー
ル、(−)−2−フルオロヘキサノール、及び(−)−
2−クロロ−3−メチルペンタノールが用いられる。
Preferably, (-)-2-methylbutanol, (+)
-2-butanol, (-)-2-pentanol, (-)
-2-octanol, (-)-2-fluorooctanol, (-)-2-fluorohexanol, and (-)-
2-Chloro-3-methylpentanol is used.

下記反応式に示す如く、ビフェニル−4、4′−ジオ
ールと光学活性カルボン酸(VIII)を反応させることに
より、このエステル化合物(IX)が得られる。
As shown in the following reaction formula, this ester compound (IX) can be obtained by reacting biphenyl-4,4'-diol with an optically active carboxylic acid (VIII).

光学活性カルボン酸(VIII)としては、例えば、
(+)−2−メチルブタン酸、(−)−2−メチルブタ
ン酸、(+)−2−クロロブタン酸、(−)−2−クロ
ロブタン酸、(+)−2−メチルペンタン酸、(−)−
2−メチルペンタン酸、(+)−3−メチルペンタン
酸、(−)−3−メチルペンタン酸、(+)−4−メチ
ルヘキサン酸、(−)−4−メチルヘキサン酸、(+)
−2−クロロプロパン酸、(−)−2−クロロプロパン
酸、(+)−6−メチルオクタン酸、(−)−6−メチ
ルオクタン酸、(+)−2−シアノブタン酸、(−)−
2−シアノブタン酸、(+)−2−フルオロオクタン
酸、(−)−2−フルオロオクタン酸、(+)−2−ク
ロロ−3−メチルペンタン酸、(−)−2−クロロ−3
−メチルペンタン酸などが用いられる。
As the optically active carboxylic acid (VIII), for example,
(+)-2-methylbutanoic acid, (-)-2-methylbutanoic acid, (+)-2-chlorobutanoic acid, (-)-2-chlorobutanoic acid, (+)-2-methylpentanoic acid, (-)-
2-methylpentanoic acid, (+)-3-methylpentanoic acid, (-)-3-methylpentanoic acid, (+)-4-methylhexanoic acid, (-)-4-methylhexanoic acid, (+)
-2-chloropropanoic acid, (-)-2-chloropropanoic acid, (+)-6-methyloctanoic acid, (-)-6-methyloctanoic acid, (+)-2-cyanobutanoic acid, (-)-
2-cyanobutanoic acid, (+)-2-fluorooctanoic acid, (−)-2-fluorooctanoic acid, (+)-2-chloro-3-methylpentanoic acid, (−)-2-chloro-3
-Methylpentanoic acid and the like are used.

下記の反応式で示されるように、前記光学活性アルコ
ール〔VI〕をトシル化し、これにビフェニル−4,4′−
ジオールを反応させてこのエーテル体(X)を得る。
As shown in the following reaction formula, the above-mentioned optically active alcohol [VI] is tosylated, and biphenyl-4,4'-
The ether compound (X) is obtained by reacting with a diol.

(2) R1である場合 下記反応式で示す如く、ω−ハロアルキルアリルエー
テル(II)とp−ヒドロキシ安息香酸エチルエステルと
を、アセトン等の適当な溶媒中で炭酸カリウム等のアル
カリの存在下で反応させ、エーテル体を得る。次いで、
このエーテル体におけるカルボキシル基の保護基を水酸
化カリウム水溶液、塩酸等により脱離させ、カルボン酸
体とする。このカルボン酸体に塩化チオニル等のハロゲ
ン化剤を加え、トルエン等の溶媒中で加熱し、酸ハライ
ドとする。次いで、この酸ハライドと前記化合物(II
I)とをトルエン等の溶媒中でピリジンの存在下に反応
させ、アリルエーテル体(XI)を得た後、ジクロロメタ
ン等の適当な溶媒中でm−クロロ過安息香酸等の過酸を
用いてエポキシ化することにより、目的とするエポキシ
化合物(XII)を得る。
(2) R 1 As shown in the following reaction formula, ω-haloalkyl allyl ether (II) and p-hydroxybenzoic acid ethyl ester are reacted in a suitable solvent such as acetone in the presence of an alkali such as potassium carbonate to form an ether. Get the body. Then
The protecting group of the carboxyl group in this ether compound is eliminated with an aqueous solution of potassium hydroxide, hydrochloric acid or the like to obtain a carboxylic acid compound. A halogenating agent such as thionyl chloride is added to the carboxylic acid compound, and the mixture is heated in a solvent such as toluene to obtain an acid halide. Next, the acid halide and the compound (II
I) is reacted with a solvent such as toluene in the presence of pyridine to obtain an allyl ether compound (XI), and then using a peracid such as m-chloroperbenzoic acid in a suitable solvent such as dichloromethane. Epoxidation gives the desired epoxy compound (XII).

(3) R1である場合 下記反応式で示す如く、ω−ハロアルキルアリルエー
テル(II)とハイドロキノンとを炭酸カリウム等のアル
カリの存在下で反応させ、エーテル体(XIII)を得る。
(3) R 1 As shown in the following reaction formula, the ω-haloalkyl allyl ether (II) is reacted with hydroquinone in the presence of an alkali such as potassium carbonate to obtain an ether compound (XIII).

下記化合物(XIV)を塩化チオニル等により酸クロリ
ド化する。得られた酸クロリドとエーテル体(XIII)と
をピリジンの存在下反応させ、アリルエーテル体(XV)
を得る。以後は(1)の場合と同様にエポキシ化を行
い、目的とするエポキシ化合物(XVI)を得る。
The following compound (XIV) is acid chlorided with thionyl chloride or the like. The obtained acid chloride is reacted with the ether form (XIII) in the presence of pyridine to give an allyl ether form (XV)
Get. Thereafter, epoxidation is carried out in the same manner as in (1) to obtain the desired epoxy compound (XVI).

ここで、上記化合物(XIV) は下記の如くして得られる。 Here, the compound (XIV) Is obtained as follows.

光学活性アルコール(VI)とビフェニル−4,4′−ジ
カルボン酸をトルエン等の溶媒中でエステル化触媒の存
在下反応させ、上記エステル体(XVII)を得る。
The optically active alcohol (VI) is reacted with biphenyl-4,4'-dicarboxylic acid in a solvent such as toluene in the presence of an esterification catalyst to obtain the ester (XVII).

光学活性カルボン酸(VIII)を塩化チオニル等により
酸クロリド化した後、4′−ヒドロキシビフェニル−4
−カルボン酸とピリジンの存在下反応させ、上記エステ
ル体(XVIII)を得る。
After optically active carboxylic acid (VIII) is acid chlorided with thionyl chloride or the like, 4'-hydroxybiphenyl-4
And reacting with carboxylic acid in the presence of pyridine to obtain the ester (XVIII).

4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸エチル
エステルと光学活性アルコール(VI)をトシル化して得
とを炭酸カリウム等の存在下反応させ、エーテル体を得
る。このエーテル体をアルカリ水溶液等と反応させ、保
護基のエステルを加水分解し、上記化合物(XIX)を得
る。
Obtained by tosylating 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxylic acid ethyl ester and optically active alcohol (VI). Is reacted in the presence of potassium carbonate or the like to obtain an ether compound. The ether compound is reacted with an aqueous alkali solution or the like to hydrolyze the ester of the protecting group to obtain the above compound (XIX).

(4) R1である場合 前記(2)のR1であるエポキシ化合物の合成法において、化合物(II
I) の代わりに化合物(XX) を用い、その他は同様にして反応させ、下記の目的とす
るエポキシ化合物(XXI)を得る。
(4) R 1 When R 1 in the above (2) is In the method for synthesizing an epoxy compound which is
I) Instead of compound (XX) And the other reactions are carried out in the same manner to obtain the following epoxy compound (XXI).

ここで、上記化合物(XX)は下記の如くして得られ
る。
Here, the compound (XX) is obtained as follows.

上記(1)における化合物(VII)の合成において、
4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸の代わり
にp−ヒドロキシ安息香酸を用いて、同様の反応を行
い、上記エステル体(XXII)を得る。
In the synthesis of compound (VII) in the above (1),
The same reaction is carried out by using p-hydroxybenzoic acid instead of 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxylic acid to obtain the above ester (XXII).

上記(1)における化合物(VIII)の合成において、
ビフェニル−4,4′−ジオールの代わりにハイドロキノ
ンを用いて、同様の反応を行い、上記エステル体(XXII
I)を得る。
In the synthesis of compound (VIII) in the above (1),
The same reaction was carried out using hydroquinone instead of biphenyl-4,4'-diol, and the above ester (XXII
I get.

上記(1)における化合物(X)の合成において、ビ
フェニル−4,4′−ジオールの代わりにハイドロキノン
を用いて、同様の反応を行い、上記エーテル体(XXIV)
を得る。
In the synthesis of compound (X) in the above (1), the same reaction is carried out using hydroquinone instead of biphenyl-4,4'-diol, and the above ether compound (XXIV)
Get.

(5) R1である場合 下記反応式で示す如く、上記(3)のR1であるエポキシ化合物の合成において、化合物(XIV) の代わりに化合物(XXV) を用いて同様の反応を行い、目的とする下記一般式のエ
ポキシ化合物(XXVI)を得る。
(5) R 1 As shown in the following reaction formula, R 1 in the above (3) is Compound (XIV) in the synthesis of the epoxy compound Instead of the compound (XXV) To obtain the desired epoxy compound (XXVI) of the following general formula.

ここで、上記化合物(XXV)は下記の如くして得られ
る。
Here, the compound (XXV) is obtained as follows.

上記(3)における化合物(XVII)の合成において、
ビフェニル−4,4′−ジカルボン酸の代わりにテレフタ
ル酸を用いて同様の反応を行い、上記エステル体(XXVI
I)を得る。
In the synthesis of compound (XVII) in the above (3),
The same reaction was carried out using terephthalic acid instead of biphenyl-4,4'-dicarboxylic acid, and the above ester product (XXVI
I get.

上記(3)における化合物(XVIII)の合成におい
て、4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸の代
わりにp−ヒドロキシ安息香酸を用いて同様の反応を行
い、上記エステル体(XXVIII)を得る。
In the synthesis of compound (XVIII) in the above (3), the same reaction is carried out using p-hydroxybenzoic acid instead of 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxylic acid to obtain the above ester (XXVIII).

上記(3)における化合物(XIV)の合成において、
4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸エチルエ
ステルの代わりにp−ヒドロキシ安息香酸エチルエステ
ルを用いて同様の反応を行い、上記エーテル体(XXIX)
を得る。
In the synthesis of compound (XIV) in the above (3),
The same reaction was carried out by using p-hydroxybenzoic acid ethyl ester instead of 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxylic acid ethyl ester, and the above ether (XXIX)
Get.

(6) R1である場合 上記(2)のR1であるエポキシ化合物の合成において、p−ヒドロキシ
安息香酸エチルエステルの代わりに4′−ヒドロキシビ
フェニル−4−カルボン酸エチルエステルを用い、化合
物(III) の代わりに前記化合物(XX) を用いて、同様の反応を行い、目的とする下記一般式の
エポキシ化合物(XXX)を得る。
(6) R 1 When R 1 in the above (2) is In the synthesis of the epoxy compound of formula (III), 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxylic acid ethyl ester is used instead of p-hydroxybenzoic acid ethyl ester, and the compound (III) In place of the above compound (XX) To obtain the desired epoxy compound (XXX) of the following general formula.

(7) R1である場合 上記(3)のR1であるエポキシ化合物の合成において、ハイドロキノン
のかわりにビフェニル−4,4′−ジオールを用い、化合
物(XIV) の代わりに前記化合物(XXV) を用いて同様の反応を行い、目的とする下記一般式のエ
ポキシ化合物(XXXI)を得る。
(7) R 1 If R 1 in (3) above is In the synthesis of an epoxy compound, biphenyl-4,4'-diol is used in place of hydroquinone, and compound (XIV) In place of the above compound (XXV) To obtain the desired epoxy compound (XXXI) of the following general formula.

本発明に係るモノマーであるエポキシ化合物の具体例
としては、例えば、下記の構造式で表されるものが挙げ
られる。
Specific examples of the epoxy compound which is a monomer according to the present invention include those represented by the following structural formula.

次に、このようにして得られた1種又は2種以上のモ
ノマーを重合して、本発明の液晶性ポリマーを合成する
が、この際重合方法として公知のカチオン重合法などを
採用することができる。
Next, one or more monomers thus obtained are polymerized to synthesize the liquid crystalline polymer of the present invention. At this time, a known cationic polymerization method or the like may be employed as the polymerization method. it can.

カチオン重合の触媒として、各種のものが知られてい
るが、硫酸、リン酸、過塩素酸のようなプロトン酸、三
フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化
第二スズのようなルイス酸、三フッ化ホウ素エーテラー
トなどが挙げられ、この中で塩化第二スズが好適に用い
られる。
Various catalysts are known as catalysts for cationic polymerization. Protonic acids such as sulfuric acid, phosphoric acid, and perchloric acid, boron trifluoride, aluminum chloride, titanium tetrachloride, and Lewis such as stannic chloride Acids, boron trifluoride etherate, etc., among which stannic chloride are preferably used.

また、有機アルミニウム錯体等を用いた配位重合を行
うことも可能である。この場合には、数平均分子量30,0
00以上の液晶性ポリマーが得られる。
It is also possible to carry out coordination polymerization using an organic aluminum complex or the like. In this case, the number average molecular weight is 30,0
A liquid crystalline polymer of 00 or more is obtained.

重合方法としては、塊状重合、スラリー重合、溶液重
合などの種々の方式が知られており、これらのいずれの
方式を用いてもよいが、溶液重合が好ましい。
Various polymerization methods such as bulk polymerization, slurry polymerization, and solution polymerization are known, and any of these methods may be used, but solution polymerization is preferred.

重合温度は、触媒の種類に依存し、一様ではないが、
通常、0〜30℃が適当である。
The polymerization temperature depends on the type of catalyst and is not uniform,
Usually, 0 to 30 ° C is appropriate.

重合時間は重合温度など他の要因によって異なるが、
通常数時間〜6日間である。
The polymerization time depends on other factors such as polymerization temperature,
Usually several hours to 6 days.

分子量の調節は、公知の分子量調節剤の添加及び/又
はモノマーに対する触媒の濃度の調節によって行うこと
ができる。
The molecular weight can be adjusted by adding a known molecular weight modifier and / or adjusting the concentration of the catalyst with respect to the monomer.

塊状重合方式においては、前記モノマーと開始剤とを
十分に混合し、その混合物を十分に脱気し、2枚の基
板、例えばガラス基板の間に導入し、加熱することによ
って、液晶性ポリマーを基板間に密着した状態で直接に
固定化することもできる。
In the bulk polymerization method, the monomer and the initiator are sufficiently mixed, the mixture is sufficiently degassed, and introduced between two substrates, for example, a glass substrate, and heated, whereby the liquid crystalline polymer is heated. It can also be directly fixed in a state of being in close contact between the substrates.

スラリー重合、溶液重合方式の場合の溶媒としては、
公知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもヘキサ
ン、ジクロロメタン、又はベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族系の溶媒が好適に用いられる。
As the solvent in the case of slurry polymerization or solution polymerization,
Known inert solvents can be used, and among them, hexane, dichloromethane, or aromatic solvents such as benzene, toluene, and xylene are preferably used.

また、重合反応及び前記エポキシ化の反応において
は、必須ではないが、アルゴン、窒素等の不活性ガスで
系を置換して行うことが好ましい。
In addition, in the polymerization reaction and the epoxidation reaction, it is preferable, but not essential, that the system be replaced with an inert gas such as argon or nitrogen.

このようにして得られた液晶性ポリマーは、公知の製
膜法、例えばキャスティング法、Tダイ用、インフレー
ション法、カレンダー法、延伸法などによってフィルム
に成形して用いることができる。フィルム状の液晶性ポ
リマーは、2枚の通常のガラス基板はもとより、大型の
ガラス基板、曲面状のガラス基板、ポリエステルフィル
ムなどの間に挟んで、液晶ディスプレー、電子光学シャ
ッター、電子光学絞りなどの種々のオプトエレクトロニ
クスの分野に利用することができる。
The liquid crystalline polymer thus obtained can be formed into a film by a known film forming method, for example, a casting method, a T-die, an inflation method, a calendar method, a stretching method, and the like. The liquid crystal polymer in the form of a film is sandwiched between two ordinary glass substrates, a large glass substrate, a curved glass substrate, a polyester film, etc., and is used for liquid crystal displays, electro-optical shutters, electro-optical diaphragms, etc. It can be used in various optoelectronic fields.

また、適当な溶媒に溶解したポリマー溶液をガラス基
板などの基板面に塗布し、溶媒を蒸発させることによっ
て、直接基板面上に密着した状態でフィルム化すること
もできる。
Alternatively, a polymer solution dissolved in an appropriate solvent is applied to a substrate surface such as a glass substrate, and the solvent is evaporated, whereby a film can be formed in a state directly adhered to the substrate surface.

本発明の液晶性ポリマーは、その相転移温度の測定か
ら、カイラルスメクチックC相液晶状態が、常温付近を
含む広い温度領域で実現することが確認された。また、
常温付近における電界に対する応答時間も、数ミリ秒と
極めて速いことが確認された。このことは、本発明の液
晶性ポリマーが室温を含む広い温度範囲での使用可能性
を有する極めて有用な素材であることを示している。
Measurement of the phase transition temperature of the liquid crystalline polymer of the present invention confirmed that the chiral smectic C phase liquid crystal state was realized in a wide temperature range including around normal temperature. Also,
It was also confirmed that the response time to an electric field near room temperature was extremely fast, several milliseconds. This indicates that the liquid crystalline polymer of the present invention is a very useful material having a possibility to be used in a wide temperature range including room temperature.

また、本発明の液晶性ポリマーにおいては、スメクチ
ック相液晶の性質と、成形容易であるという典型的なポ
リマーの性質とが結合しているので、インテグレーテッ
ドオプティクス、オプトエレクトロニクス、情報記憶の
分野に数多くの応用可能性がある。例えば、種々の形状
のディジタル表示ディスプレイなどの液晶ディスプレ
イ、電子光学シャッター、光通信用光路切換スイッチな
どの電子光学スイッチ、電子光学絞り、メモリー素子、
光変調器、液晶プリンターヘッド、焦点距離可変レンズ
などの種々の電子光学デバイスとして使用することがで
きる。
Further, in the liquid crystalline polymer of the present invention, since the properties of the smectic phase liquid crystal and the properties of a typical polymer that are easy to mold are combined, there are many applications in the fields of integrated optics, optoelectronics, and information storage. There is a possibility of application. For example, a liquid crystal display such as a digital display of various shapes, an electro-optical shutter, an electro-optical switch such as an optical path switch for optical communication, an electro-optical aperture, a memory element,
It can be used as various electronic optical devices such as a light modulator, a liquid crystal printer head, and a variable focal length lens.

なお、必要に応じて、本発明の液晶ポリマー同士の混
合、他のポリマーとの混合、低分子液晶との混合、安定
剤、可塑剤などを含めた種々の無機、有機、及び金属類
等の添加物の添加など、当業界においてよく知られてい
る数多くの処理方法により、改善することができる。
In addition, if necessary, the liquid crystal polymer of the present invention may be mixed with other polymers, mixed with other low-molecular liquid crystal, various inorganics, including stabilizers, plasticizers, etc. Improvements can be made by a number of processing methods well known in the art, such as the addition of additives.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明の範
囲はこれら実施例によりなんら限定されるものではな
い。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

なお、得られたポリマー及びエポキシ化合物の構造
は、NMR、IR、元素分析により確認し、また相転移温度
の測定及び相の確認は、それぞれDSC及び偏光顕微鏡に
より行った。(glass:ガラス状態、Cry:結晶状態、S:未
同定のスメクチック相、SmC:カイラルスメクチック
C相、SmA:スメクチックA相、N:ネマチック相、Ch:コ
レステリック相、Iso:等方相、相転移挙動の数字は、相
変化温度を℃で表したものである。) 電界応答速度及び自発分極値は次のようにして測定し
た。
The structures of the obtained polymer and epoxy compound were confirmed by NMR, IR, and elemental analysis, and the measurement of the phase transition temperature and the confirmation of the phase were performed by DSC and a polarizing microscope, respectively. (Glass: glassy state, Cry: crystalline state, S: unidentified smectic phase, SmC * : chiral smectic C phase, SmA: smectic A phase, N: nematic phase, Ch: cholesteric phase, Iso: isotropic phase, phase The numbers of the transition behavior represent the phase change temperature in ° C.) The electric field response speed and the spontaneous polarization value were measured as follows.

電界応答速度の測定 20×10mmのITO基板2枚の間にポリマーを挟み、スペ
ーサーで厚さを25μmに調整し、交流電場E=2×106V
/mをかけ、その際の透過光量の変化(0→90%)の応答
時間を測定した。
Measurement of electric field response speed A polymer is sandwiched between two 20 × 10 mm ITO substrates, the thickness is adjusted to 25 μm with a spacer, and an AC electric field E = 2 × 10 6 V
/ m, and the response time of the change in the amount of transmitted light (0 → 90%) at that time was measured.

自発分極値の測定 面積0.2cm2のITO円形透明電極付ガラス基板でポリマ
ーを挟持し、スペーサーで厚さを10μmに調整した。波
高値200Vの三角波状に変化する電圧を印加し、この時観
測される分極反転電流の信号から、自発分極値を求め
た。
Measurement of spontaneous polarization value The polymer was sandwiched between glass substrates with an ITO circular transparent electrode having an area of 0.2 cm 2 , and the thickness was adjusted to 10 μm with a spacer. A triangular waveform voltage with a peak value of 200 V was applied, and a spontaneous polarization value was obtained from the signal of the polarization reversal current observed at this time.

実施例1 〔モノマーの合成〕 1. 6−ブロモヘキシルアリルエーテルの合成 アリルアルコール5.0g及び1,6−ジブロモヘキサン65g
をヘキサン80mlに溶解させた。そこへ、50%水酸化ナト
リウム水溶液110g及びテトラブチルアンモニウムブロミ
ド1.5gを加えて17時間還流させた。反応後、ヘキサン層
を集め、水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。次
いで、溶媒を減圧留去し、残渣をカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、目的とするω−ハロアルキルアリル
エーテル体12.6gを得た。(収率66%) 1. 4−(6−アリルオキシヘキシルオキシ)安息香
酸の合成 1.で得た6−ブロモヘキシルアリルエーテル6.0g、
p−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル4.4g、及び水酸
化カリウム2.0gをエタノール50mlに溶解させ、12時間還
流した。次いで、水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウ
ム6.0gを含む)150mlを加え、さらに12時間還流した。
反応後、塩酸を滴下し、pH=2とし、生じた沈殿を集め
た。得られた沈殿を十分に水で洗浄し、次いで減圧下で
加熱して乾燥させ、目的とするカルボン酸体6.5gを得
た。(収率87%) 1. 4−(6−アリルオキシヘキシルオキシ)安息香
酸4′−(2−メチルブチルオキシカルボニル)フェニ
ルエステルの合成 1.で得られたカルボン酸体2.8gにピリジン2滴を触
媒として加えた。そこへ、大過剰の塩化チオニル、すな
わち塩化チオニル20mlを溶媒を兼ねて加え、80℃にて4
時間撹拌した。反応後、過剰の塩化チオニルを減圧留去
し、酸クロリド体を得た。
Example 1 Synthesis of Monomer 1. Synthesis of 6-bromohexyl allyl ether 5.0 g of allyl alcohol and 65 g of 1,6-dibromohexane
Was dissolved in 80 ml of hexane. Thereto, 110 g of a 50% aqueous sodium hydroxide solution and 1.5 g of tetrabutylammonium bromide were added, and the mixture was refluxed for 17 hours. After the reaction, the hexane layer was collected, washed with water, and dried over magnesium sulfate. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by column chromatography to obtain 12.6 g of the target ω-haloalkylallyl ether compound. (Yield 66%) 1. Synthesis of 4- (6-allyloxyhexyloxy) benzoic acid 6.0 g of 6-bromohexyl allyl ether obtained in 1.
4.4 g of methyl p-hydroxybenzoate and 2.0 g of potassium hydroxide were dissolved in 50 ml of ethanol and refluxed for 12 hours. Subsequently, 150 ml of an aqueous potassium hydroxide solution (containing 6.0 g of potassium hydroxide) was added, and the mixture was further refluxed for 12 hours.
After the reaction, hydrochloric acid was added dropwise to adjust the pH to 2, and the resulting precipitate was collected. The obtained precipitate was sufficiently washed with water, and then dried by heating under reduced pressure to obtain 6.5 g of the desired carboxylic acid compound. (Yield 87%) 1. Synthesis of 4- (6-allyloxyhexyloxy) benzoic acid 4 '-(2-methylbutyloxycarbonyl) phenyl ester Two drops of pyridine were added to 2.8 g of the carboxylic acid obtained in 1. Was added as a catalyst. Thereto, a large excess of thionyl chloride, that is, 20 ml of thionyl chloride is added as a solvent, and the mixture is added
Stirred for hours. After the reaction, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure to obtain an acid chloride.

p−ヒドロキシ安息香酸2−メチルブチルエステル2.
2g及びピリジン1.0gを含むトルエン溶液を、上記の酸ク
ロリド体のトルエン溶液に滴下した。次いで、室温にて
1日反応を行った。反応後、水洗し、硫酸マグネシウム
上で乾燥させ、次いで溶媒を減圧留去した。残渣をカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、目的とするフェニ
ルベンゾエート体2.5gを得た。(収率53%) このフェニルベンゾエート体は室温で液晶状態を呈し
た。
p-hydroxybenzoic acid 2-methylbutyl ester 2.
A toluene solution containing 2 g and 1.0 g of pyridine was added dropwise to the toluene solution of the above acid chloride. Then, the reaction was performed at room temperature for one day. After the reaction, the mixture was washed with water, dried over magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography to obtain 2.5 g of the desired phenylbenzoate. (Yield: 53%) The phenylbenzoate derivative exhibited a liquid crystal state at room temperature.

1. エポキシ化 1.で得られたフェニルベンゾエート体2.5gをジクロ
ロメタンに溶解させ、系をアルゴン置換した。m−クロ
ロ過安息香酸1.0gを加えて室温で1日反応させた。反応
後、炭酸カリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥させ、溶媒を減圧留去し、上記の構造式で表され
るエポキシ化合物であるモノマー2.6gを得た。得られた
生成物につき、これ以上の精製は行わずに、次の反応に
用いた。
1. Epoxidation 2.5 g of the phenylbenzoate obtained in 1 was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. 1.0 g of m-chloroperbenzoic acid was added and reacted at room temperature for 1 day. After the reaction, the resultant was washed with an aqueous solution of potassium carbonate, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 2.6 g of a monomer which was an epoxy compound represented by the above structural formula. The obtained product was used for the next reaction without further purification.

このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第1図に示し、元素分析の結果を下記に示す。
FIG. 1 shows the NMR chart and the assignment of hydrogen of this epoxy compound, and the results of elemental analysis are shown below.

元素分析値 C(%) H(%) 計算値 69.40 7.49 実測値 70.9 7.6 〔重合〕 1.で得られたモノマー2.6gをジクロロメタンに溶解
させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二スズ20
μ(モノマーの3モル%)を加えた。室温で3日間重
合させた。反応後、反応液を濃縮し、カラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、目的とする下記式で表される繰
り返し単位を有するポリマー1.0gを得た。(収率38%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第
2図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第1表に示す。
Elemental analysis value C (%) H (%) Calculated value 69.40 7.49 Actual value 70.9 7.6 [Polymerization] 2.6 g of the monomer obtained in 1. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. There, stannic chloride 20
μ (3 mol% of monomer) was added. Polymerization was performed at room temperature for 3 days. After the reaction, the reaction solution was concentrated and purified by column chromatography to obtain 1.0 g of a desired polymer having a repeating unit represented by the following formula. (38% yield) FIG. 2 shows the NMR chart and the assignment of hydrogen of the obtained polymer, and Table 1 shows the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed.

実施例2 〔モノマーの合成〕 2. 4′−(6−アリルオキシヘキシルオキシ)ビフ
ェニル−4−カルボン酸2−メチルブチルエステルの合
成 実施例1の1.で得られた6−ブロモヘキシルアリル
エーテル6.6g、4−ヒドロキシビフェニル−4−カルボ
ン酸2−メチルブチルエステル8.5g、及び炭酸カリウム
4.2gを、2−ブタノン中で80℃で12時間加熱撹拌した。
反応後、無機物を濾過により除き、次いで溶媒を減圧留
去した。残渣をメタノールから再結晶し、目的とするビ
フェニル誘導体4.6gを得た。(収率36%) 2. エポキシ化 2.で得られたビフェニル誘導体2.5gをジクロロメタ
ンに溶解させ、系をアルゴン置換した。次いでm−クロ
ロ過安息香酸1.2gを加え、室温で2日間撹拌した。反応
後、反応液を炭酸カリウム2.5gを含む水溶液で洗浄し
た。次いで、硫酸マグネシウム上で乾燥させてから、溶
媒を減圧留去し、目的とする上記構造式で表されるエポ
キシ化合物であるモノマー2.0gを得た。(収率77%) 得られたモノマーは、室温で粘度の高い液体であっ
た。得られたモノマーにつき、これ以上の精製は行わず
に、次の反応に用いた。
Example 2 [Synthesis of monomer] 2. Synthesis of 4 '-(6-allyloxyhexyloxy) biphenyl-4-carboxylic acid 2-methylbutyl ester 6.6 g of 6-bromohexyl allyl ether obtained in 1. of Example 1, 4-hydroxybiphenyl- 8.5 g of 4-carboxylic acid 2-methylbutyl ester and potassium carbonate
4.2 g was heated and stirred in 2-butanone at 80 ° C. for 12 hours.
After the reaction, inorganic substances were removed by filtration, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was recrystallized from methanol to obtain 4.6 g of the desired biphenyl derivative. 2. Epoxidation 2.5 g of the biphenyl derivative obtained in 2. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. Then, 1.2 g of m-chloroperbenzoic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 days. After the reaction, the reaction solution was washed with an aqueous solution containing 2.5 g of potassium carbonate. Next, after drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 2.0 g of the desired monomer, which is the epoxy compound represented by the above structural formula. (Yield 77%) The obtained monomer was a liquid having a high viscosity at room temperature. The obtained monomer was used for the next reaction without further purification.

このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第3図に示し、元素分析の結果を下記に示す。
FIG. 3 shows the NMR chart and the assignment of hydrogen of this epoxy compound, and the results of elemental analysis are shown below.

元素分析値 C(%) H(%) 計算値 73.61 8.24 実測値 73.8 8.35 〔重合〕 2.で得られたモノマー2.0gをジクロロメタンに溶解
させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二スズ16
μ(モノマーの3モル%)を加えた。室温で4日間重
合させた。反応後、反応液を濃縮してから、メタノール
へ再沈殿させた。沈殿物を集め、カラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、目的とする下記式で表される繰り返
し単位を有するポリマー0.5gを得た。(収率25%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第
4図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第1表に示す。
Elemental analysis value C (%) H (%) Calculated value 73.61 8.24 Actual value 73.8 8.35 [Polymerization] 2.0 g of the monomer obtained in 2. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. There, stannic chloride 16
μ (3 mol% of monomer) was added. Polymerization was carried out at room temperature for 4 days. After the reaction, the reaction solution was concentrated and then reprecipitated in methanol. The precipitate was collected and purified by column chromatography to obtain 0.5 g of a desired polymer having a repeating unit represented by the following formula. (Yield 25%) FIG. 4 shows the NMR chart and the assignment of hydrogen of the obtained polymer, and Table 1 shows the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed.

実施例3 〔モノマーの合成〕 3. p−ヒドロキシ安息香酸2−フルオロオクチルエ
ステルの合成 p−アセトキシ安息香酸7.6gをナスフラスコにとり、
塩化チオニル20mlを加えた。次いで、80℃にて4時間加
熱撹拌した。反応後、過剰の塩化チオニルを減圧留去
し、酸クロリド体を得た。
Example 3 [Synthesis of monomer] 3. Synthesis of p-hydroxybenzoic acid 2-fluorooctyl ester Take 7.6 g of p-acetoxybenzoic acid into an eggplant flask,
20 ml of thionyl chloride were added. Next, the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 4 hours. After the reaction, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure to obtain an acid chloride.

(−)−2−フルオロ−1−オクタノール6.4g及びピ
リジン3.5gを含むトルエン溶液を上記の酸クロリド体の
トルエン溶液に滴下した。得られた混合物を室温で1日
撹拌した。次いで反応液を水洗し、硫酸マグネシウム上
で乾燥させてから、溶媒を減圧留去した。残渣をエーテ
ルに溶解させ、ベンジルアミン15mlを滴下した。次い
で、室温で3時間撹拌した。得られた反応液を希塩酸で
洗浄し、次いで水洗した後、硫酸マグネシウム上で乾燥
させた。溶媒を減圧留去し、残渣をカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、目的とするエステル体8.0gを得
た。(収率71%) 3. 4−〔4′−(6−アリルオキシヘキシルオキ
シ)ベンゾイルオキシ〕安息香酸2−フルオロオクチル
エステルの合成 4−(6−アリルオキシヘキシルオキシ)安息香酸1.
0gをナスフラスコにとり、塩化チオニル5mlを加え、80
℃に加熱し、3時間反応させた。反応後、過剰の塩化チ
オニルを減圧留去し、酸クロリド体を得た。
A toluene solution containing 6.4 g of (-)-2-fluoro-1-octanol and 3.5 g of pyridine was added dropwise to the toluene solution of the above acid chloride. The resulting mixture was stirred at room temperature for one day. Then, the reaction solution was washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was dissolved in ether, and 15 ml of benzylamine was added dropwise. Then, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The obtained reaction solution was washed with dilute hydrochloric acid, then with water, and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by column chromatography to obtain 8.0 g of the desired ester. (Yield 71%) 3. Synthesis of 4- [4 '-(6-allyloxyhexyloxy) benzoyloxy] benzoic acid 2-fluorooctyl ester 4- (6-allyloxyhexyloxy) benzoic acid 1.
Take 0 g in an eggplant flask, add 5 ml of thionyl chloride, and add
C. and reacted for 3 hours. After the reaction, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure to obtain an acid chloride.

p−ヒドロキシ安息香酸2−フルオロオクチルエステ
ル1.0g及びピリジン0.4gのトルエン溶液を上記酸クロリ
ド体のトルエン溶液に滴下した。得られた混合物を室温
で1日撹拌した。反応後、反応液を水洗し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、次いで溶媒を減圧留去した。残渣を
カラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とするフ
ェニルベンゾエート体0.8gを得た。(収率42%) 3. エポキシ化 2.で得られたフェニルベンゾエート体0.8gをジクロ
ロメタンに溶解させ、系をアルゴン置換した。次いでm
−クロロ過安息香酸0.3gを加え、室温で1日間撹拌し
た。反応後、反応液を炭酸カリウム水溶液で洗浄した。
次いで、硫酸マグネシウム上で乾燥させてから、溶媒を
減圧留去し、目的とする上記構造式で表されるエポキシ
化合物であるモノマー0.6gを得た。(収率75%) このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第5図に示し、元素分析の結果を下記に示す。
A toluene solution of 1.0 g of 2-fluorooctyl p-hydroxybenzoate and 0.4 g of pyridine was added dropwise to the toluene solution of the above acid chloride. The resulting mixture was stirred at room temperature for one day. After the reaction, the reaction solution was washed with water, dried over magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography to obtain the desired phenylbenzoate derivative (0.8 g). (Yield 42%) 3. Epoxidation 0.8 g of the phenylbenzoate derivative obtained in 2. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. Then m
0.3 g of chloroperbenzoic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day. After the reaction, the reaction solution was washed with an aqueous potassium carbonate solution.
Next, after drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 0.6 g of a desired monomer, which is an epoxy compound represented by the above structural formula. (Yield: 75%) The NMR chart and the assignment of hydrogen of this epoxy compound are shown in FIG. 5, and the results of elemental analysis are shown below.

元素分析値 C(%) H(%) F(%) 計算値 68.36 7.59 3.49 実測値 69.1 7.7 3.5 〔重合〕 3.で得られたモノマー0.6gをジクロロメタンに溶解
させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二スズ4
μを加え、室温にて2日間重合させた。反応後、反応
液を濃縮してからカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とする下記式で表される繰り返し単位を有する
ポリマー0.4gを得た。(収率67%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第
6図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第1表に示す。
Elemental analysis value C (%) H (%) F (%) Calculated value 68.36 7.59 3.49 Actual value 69.1 7.7 3.5 [Polymerization] 0.6 g of the monomer obtained in 3. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. There, stannic chloride 4
was added, and the mixture was polymerized at room temperature for 2 days. After the reaction, the reaction solution was concentrated and then purified by column chromatography to obtain 0.4 g of a desired polymer having a repeating unit represented by the following formula. (67% yield) The NMR chart and the assignment of hydrogen of the obtained polymer are shown in FIG. 6, and the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed are shown in Table 1.

実施例4 〔モノマーの合成〕 4. 8−ブロモオクチルアリルエーテルの合成 アリルアルコール3.5gをTHF50mlに溶解させた。そこ
へ、60%水素化ナトリウム(水素化ナトリウムと鉱油と
の混合物であり、水素化ナトリウムの含有量が60重量%
のもの)2.5gを少しずつ加えた。室温で30分間撹拌して
から、1,8−ジブロモオクタン33g及びTHF100mlからなる
溶液を滴下した。滴下終了後、昇温し、12時間還流し
た。反応後、少量の水を加えて残存する水素化ナトリウ
ムを分解させた。次いで、THFを減圧留去してから、ジ
クロロメタンと水を加え、振り混ぜた。ジクロロメタン
層を集め、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。減圧濃縮
を行った後、残渣をカラムクロマトグラフィーにより精
製し、目的とするω−ハロアルキルアリルエーテル8.6g
を得た(収率57%) 4. 4−(8−アリルオキシオクチルオキシ)安息香
酸の合成 4.で得られた8−ブロモオクチルアリルエーテル7.
7gを実施例1の1.で用いた6−ブロモヘキシルアリル
エーテルの代わりに用い、実施例1の1.と同様の操作
を行い、目的とするカルボン酸体7.3gを得た。(収率80
%) 4. p−ヒドロキシ安息香酸2−フルオロヘキシルエ
ステルの合成 実施例3の3.で用いた(−)−2−フルオロ−1−
オクタノールの代わりに(−)−2−フルオロ−1−ヘ
キサノール4.0gを用い、実施例3の3.と同様の操作を
行い、目的生成物5.4gを得た。(収率74%) 4. 4−〔4′−(8−アリルオキシオクチルオキ
シ)ベンゾイルオキシ〕安息香酸2−フルオロヘキシル
エステルの合成 4.で得たカルボン酸体4.4g及び4.で得た化合物3.
6gを用いて、実施例3の3.と同様の操作を行い、目的
とするフェニルベンゾエート体4.2gを得た。(収率58
%) 4. エポキシ化 4.で得られたフェニルベンゾエート体4.1gをジクロ
ロメタンに溶解させ、系をアルゴン置換した。次いでm
−クロロ過安息香酸2.0gを加え、室温で1日間撹拌し
た。反応後、反応液を炭酸カリウム水溶液で洗浄した。
次いで、硫酸マグネシウム上で乾燥させてから、溶媒を
減圧留去し、目的とする上記構造式で表されるエポキシ
化合物であるモノマー4.1gを得た。(収率97%) このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第7図に示し、元素分析の結果及び相転移挙動を下記に
示す。
Example 4 Synthesis of Monomer 4. Synthesis of 8-bromooctyl allyl ether 3.5 g of allyl alcohol was dissolved in 50 ml of THF. There, 60% sodium hydride (a mixture of sodium hydride and mineral oil, the content of sodium hydride is 60% by weight
2.5 g) was added little by little. After stirring at room temperature for 30 minutes, a solution consisting of 33 g of 1,8-dibromooctane and 100 ml of THF was added dropwise. After the completion of the dropwise addition, the temperature was raised and the mixture was refluxed for 12 hours. After the reaction, a small amount of water was added to decompose the remaining sodium hydride. Next, THF was distilled off under reduced pressure, dichloromethane and water were added, and the mixture was shaken. The dichloromethane layer was collected and dried over magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, the residue was purified by column chromatography, and the target ω-haloalkyl allyl ether 8.6 g
(57% yield) 4. Synthesis of 4- (8-allyloxyoctyloxy) benzoic acid 8-bromooctylallyl ether obtained in 4.
7 g was used in place of 6-bromohexyl allyl ether used in 1. of Example 1, and the same operation as in 1. of Example 1 was performed to obtain 7.3 g of the desired carboxylic acid compound. (Yield 80
%) 4. Synthesis of p-hydroxybenzoic acid 2-fluorohexyl ester (-)-2-fluoro-1- used in 3. of Example 3
The same operation as in 3. of Example 3 was performed using 4.0 g of (-)-2-fluoro-1-hexanol instead of octanol to obtain 5.4 g of the desired product. (Yield: 74%) 4. Synthesis of 4- [4 '-(8-allyloxyoctyloxy) benzoyloxy] benzoic acid 2-fluorohexyl ester 4.4 g of the carboxylic acid obtained in 4. Compound 3.
The same operation as in 3. of Example 3 was performed using 6 g to obtain 4.2 g of the desired phenylbenzoate. (Yield 58
%) 4. Epoxidation 4.1 g of the phenylbenzoate derivative obtained in 4 was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. Then m
2.0 g of chloroperbenzoic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day. After the reaction, the reaction solution was washed with an aqueous potassium carbonate solution.
Next, after drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 4.1 g of a desired monomer, which is an epoxy compound represented by the above structural formula. (Yield 97%) The NMR chart and hydrogen assignment of this epoxy compound are shown in FIG. 7, and the results of elemental analysis and the phase transition behavior are shown below.

元素分析値 C(%) H(%) F(%) 計算値 68.36 7.59 3.49 実測値 68.2 7.6 3.45 相転移挙動 〔重合〕 4.で得られたモノマー2.0gをジクロロメタンに溶解
させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二スズ13
μを加え、室温にて3日間重合させた。反応後、反応
液を濃縮してからカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とする下記式で表される繰り返し単位を有する
ポリマー1.5gを得た。(収率75%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第
8図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第1表に示す。
Elemental analysis C (%) H (%) F (%) Calculated 68.36 7.59 3.49 Actual 68.2 7.6 3.45 Phase transition behavior [Polymerization] 2.0 g of the monomer obtained in 4 was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. There, stannic chloride 13
was added, and the mixture was polymerized at room temperature for 3 days. After the reaction, the reaction solution was concentrated and then purified by column chromatography to obtain 1.5 g of a desired polymer having a repeating unit represented by the following formula. (75% yield) FIG. 8 shows the NMR chart and the assignment of hydrogen of the obtained polymer, and Table 1 shows the number average molecular weight, the phase transition behavior, the spontaneous polarization value, and the electric field response speed.

実施例5 〔モノマーの合成〕 5. 4−(8−アリルオキシオクチルオキシ)−4′
−ヒドロキシビフェニルの合成 実施例4の4.と同様にして得た8−ブロモオクチル
アリルエーテル5.0g、4,4′−ジフェノール12g、及び水
酸化カリウム9.0gをエタノール中で20時間還流した。反
応後、無機物を熱濾過により除いた。エタノールを減圧
留去してから、残留物を水:アセトン混合溶媒に溶解さ
せた。得られた溶液に希塩酸を加え、pH=2とした。次
いでこの溶液を加熱してアセトンを蒸発させ、不溶物を
熱時濾過して集め、次いでエタノールから再結晶し、目
的とするビフェニル誘導体3.5gを得た(収率49%) 5. 4−(8−アリルオキシオクチルオキシ)−4′
−(2−クロロ−3−メチルペンタノイルオキシ)ビフ
ェニルの合成 5.で得たビフェニル誘導体1.5g及び2−クロロ−3
−メチルペンタン酸1.0gをジクロロメタンに溶解させ
た。得られた溶液にジシクロヘキシルカルボジイミド1.
3g及び4−ピロリジノピリジン0.1gを加え、室温で1日
撹拌した。反応後、不溶物を濾過によって除いてから水
洗した。硫酸マグネシウム上で乾燥させてから溶媒を減
圧留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーによって
精製し、目的とするビフェニル誘導体1.0gを得た。(収
率48%) 5. エポキシ化 5.で得られたビフェニル誘導体1.0gをジクロロメタ
ンに溶解させ、系をアルゴン置換した。次いでm−クロ
ロ過安息香酸0.5gを加え、室温で1日間撹拌した。反応
後、反応液を炭酸カリウム水溶液で洗浄し、さらに水洗
した。次いで、硫酸マグネシウム上で乾燥させてから、
溶媒を減圧留去し、目的とする上記構造式で表されるエ
ポキシ化合物であるモノマー0.8gを得た。(収率77%) このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第9図に示し、元素分析の結果を下記に示す。
Example 5 [Synthesis of monomer] 5. 4- (8-allyloxyoctyloxy) -4 '
Synthesis of -Hydroxybiphenyl 5.0 g of 8-bromooctyl allyl ether, 12 g of 4,4'-diphenol, and 9.0 g of potassium hydroxide obtained in the same manner as in 4. of Example 4 were refluxed in ethanol for 20 hours. After the reaction, the inorganic substances were removed by hot filtration. After the ethanol was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved in a water: acetone mixed solvent. Dilute hydrochloric acid was added to the resulting solution to adjust the pH to 2. The solution was then heated to evaporate the acetone, the insolubles were collected by filtration while hot, and then recrystallized from ethanol to give 3.5 g of the desired biphenyl derivative (49% yield). 8-allyloxyoctyloxy) -4 '
Synthesis of-(2-chloro-3-methylpentanoyloxy) biphenyl 1.5 g of the biphenyl derivative obtained in 5. and 2-chloro-3
-1.0 g of methylpentanoic acid was dissolved in dichloromethane. Dicyclohexylcarbodiimide 1.
3 g and 0.1 g of 4-pyrrolidinopyridine were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day. After the reaction, insolubles were removed by filtration and then washed with water. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography to obtain 1.0 g of the desired biphenyl derivative. (Yield 48%) 5. Epoxidation 1.0 g of the biphenyl derivative obtained in 5. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. Then, 0.5 g of m-chloroperbenzoic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day. After the reaction, the reaction solution was washed with an aqueous potassium carbonate solution, and further washed with water. Then, after drying over magnesium sulfate,
The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 0.8 g of the desired epoxy compound monomer represented by the above structural formula. (Yield 77%) The NMR chart and hydrogen assignment of this epoxy compound are shown in FIG. 9, and the results of elemental analysis are shown below.

元素分析値 C(%) H(%) Cl(%) 計算値 69.24 7.81 7.05 実測値 70.2 7.7 6.6 〔重合〕 5.で得られたモノマー0.8gをジクロロメタンに溶解
させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二スズ6
μを加え、室温にて2日間重合させた。反応後、反応
液を濃縮してからカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とする下記式で表される繰り返し単位を有する
ポリマー0.5gを得た。(収率63%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第1
0図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第1表に示す。
Elemental analysis value C (%) H (%) Cl (%) Calculated value 69.24 7.81 7.05 Actual value 70.2 7.7 6.6 [Polymerization] 0.8 g of the monomer obtained in 5. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. There, stannic chloride 6
was added, and the mixture was polymerized at room temperature for 2 days. After the reaction, the reaction solution was concentrated and then purified by column chromatography to obtain 0.5 g of a desired polymer having a repeating unit represented by the following formula. (63% yield) The NMR chart of the obtained polymer and the assignment of hydrogen
FIG. 0 shows the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed in Table 1.

実施例6 〔モノマーの合成〕 6. 4′−〔4″−(8−アリルオキシオクチルオキ
シ)ベンゾイルオキシ〕ビフェニル−4−カルボン酸2
−メチルブチルエステルの合成 実施例4の4.で得られたカルボン酸体2.8g及び4′
−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸2−メチルブ
チルエステル2.6gを用いて実施例3の3.と同様の操作
を行い、目的とするビフェニルベンゾエート体3.0gを得
た。(収率58%) 6. エポキシ化 6.で得られたビフェニルベンゾエート体1.5gをジク
ロロメタンに溶解させ、系を窒素置換した。m−クロロ
過安息香酸0.6gを加え、室温で7時間撹拌した。反応
後、反応液を炭酸カリウム水溶液で洗浄した。硫酸マグ
ネシウム上で乾燥させてから、溶媒を減圧留去し、目的
とする上記の構造式で表されるエポキシ化合物であるモ
ノマー1.5gを得た。(収率97%) このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第11図に示し、元素分析の結果を下記に示す。
Example 6 [Synthesis of monomer] 6. 4 '-[4 "-(8-allyloxyoctyloxy) benzoyloxy] biphenyl-4-carboxylic acid 2
Synthesis of -Methylbutyl ester 2.8 g of the carboxylic acid compound obtained in 4. of Example 4 and 4 '
The same operation as in 3. of Example 3 was carried out using 2.6 g of 2-hydroxybutyl-carboxylic acid 2-methylbutyl ester to obtain 3.0 g of the desired biphenylbenzoate. 6. Epoxidation 1.5 g of the biphenylbenzoate obtained in 6. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with nitrogen. 0.6 g of m-chloroperbenzoic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. After the reaction, the reaction solution was washed with an aqueous potassium carbonate solution. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.5 g of the desired epoxy compound monomer represented by the above structural formula. (Yield 97%) The NMR chart and hydrogen assignment of this epoxy compound are shown in FIG. 11, and the results of elemental analysis are shown below.

元素分析値 C(%) H(%) 計算値 73.44 7.53 実測値 73.6 7.5 〔重合〕 6.で得られたモノマー1.5gをジクロロメタンに溶解
させ、系を窒素置換した。そこへ、塩化第二スズ15μ
を加え、室温にて30時間重合させた。反応後、反応液を
濃縮してからカラムクロマトグラフィーにより精製し、
目的とする下記式で表される繰り返し単位を有するポリ
マー0.9gを得た。(収率60%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第1
2図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第2表に示す。
Elemental analysis value C (%) H (%) Calculated value 73.44 7.53 Actual value 73.6 7.5 [Polymerization] 1.5 g of the monomer obtained in 6. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with nitrogen. There, stannic chloride 15μ
Was added and polymerized at room temperature for 30 hours. After the reaction, the reaction solution is concentrated and then purified by column chromatography.
0.9 g of the desired polymer having a repeating unit represented by the following formula was obtained. (60% yield) The NMR chart of the obtained polymer and the assignment of hydrogen
FIG. 2 shows the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed in Table 2.

実施例7 〔モノマーの合成〕 7. 10−ヨードデシルアリルエーテルの合成 アリルアルコール2.0g、60%水素化ナトリウム1.5g、
1,10−ジヨードデカン33.0gを用いて実施例4の4.と
同様の反応、操作を行ない、目的とするω−ハロアルキ
ルアリルエーテル8.2gを得た。(収率53%) 7. 4′−(10−アリルオキシデシルオキシ)ビフェ
ニル−4−カルボン酸の合成 7.で得られた10−ヨードデシルアリルエーテル8.2
g、4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸4.8
g、水酸化カリウム3.3g及び水5.0gをメタノール50ml中
で24時間還流して反応させた後、500mlの水を加えてか
ら塩酸を滴下し、pH=2とした。沈澱物を集め、減圧乾
燥した。粗生成物を酢酸から再結晶し、目的とするカル
ボン酸体4.3gを得た。(収率53%) 7. 4−ヒドロキシ安息香酸1−メチルブチルエステ
ルの合成 4−アセトキシ安息香酸5.7gにピリジン3滴を触媒と
して加えた。そこへ、トルエン50ml及び塩化チオニル10
mlからなる溶液を加え、80℃にて3時間撹拌した。反応
後、トルエン及び過剰の塩化チオニルを減圧留去し、酸
クロリド体を得た。
Example 7 [Synthesis of monomer] 7. Synthesis of 10-iododecyl allyl ether 2.0 g of allyl alcohol, 1.5 g of 60% sodium hydride,
The same reaction and operation as in 4. of Example 4 were carried out using 33.0 g of 1,10-diiododecane to obtain 8.2 g of the desired ω-haloalkyl allyl ether. (Yield 53%) 7. Synthesis of 4 '-(10-allyloxydecyloxy) biphenyl-4-carboxylic acid 10-iododecyl allyl ether obtained in 7.
g, 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxylic acid 4.8
g, 3.3 g of potassium hydroxide and 5.0 g of water were refluxed in 50 ml of methanol for 24 hours, and after adding 500 ml of water, hydrochloric acid was added dropwise to adjust the pH to 2. The precipitate was collected and dried under reduced pressure. The crude product was recrystallized from acetic acid to obtain 4.3 g of the desired carboxylic acid compound. (Yield 53%) 7. Synthesis of 4-hydroxybenzoic acid 1-methylbutyl ester To 5.7 g of 4-acetoxybenzoic acid, 3 drops of pyridine were added as a catalyst. There, toluene 50ml and thionyl chloride 10
A solution consisting of ml was added and stirred at 80 ° C. for 3 hours. After the reaction, toluene and excess thionyl chloride were distilled off under reduced pressure to obtain an acid chloride.

(R)−(−)−2−ペンタノール2.5g及びトリエチ
ルアミン3.4gを含むトルエン溶液に上記の酸クロリド体
のトルエン溶液を滴下し、室温で5時間撹拌した。反応
後、水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、溶媒を減
圧留去してエステル体を得た。
The toluene solution of the above acid chloride was added dropwise to a toluene solution containing 2.5 g of (R)-(−)-2-pentanol and 3.4 g of triethylamine, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. After the reaction, the mixture was washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain an ester.

上記エステル体をエーテルに溶解させ、ベンジルアミ
ン4.0gを加えた。室温で3時間撹拌して反応させた後、
希塩酸で洗い、水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥さ
せ、溶媒を減圧留去した。残渣をカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、目的とするエステル体4.8gを得た。
(収率73%) 7. 4″−(1−メチルブチルオキシカルボニル)フ
ェニル4′−(10−アリルオキシデシルオキシ)ビフェ
ニル−4−カルボキシレートの合成 7.で得られたカルボン酸体4.3gにピリジン3滴及び
塩化チオニル5.0gを加え、90℃にて4時間撹拌した。反
応後、過剰の塩化チオニルを減圧留去し、酸クロリド体
を得た。7.で得たエステル体2.2g及びピリジン0.9gを
含むトルエン溶液に上記酸クロリド体のトルエン溶液を
滴下し、室温で1日撹拌した。反応後、水洗し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をメ
タノールから再結晶し、目的とするフェニルビフェニル
カルボキシレート体5.4gを得た。(収率86%) 7. エポキシ化 7.で得られたフェニルビフェニルカルボキシレート
体2.7gをジクロロメタンに溶解させ、系をアルゴン置換
した。m−クロロ過安息香酸1.0gを加え、室温で7時間
撹拌した。反応後、反応液を炭酸カリウム水溶液で洗浄
した。硫酸マグネシウム上で乾燥させてから、溶媒を減
圧留去し、目的とする上記の構造式で表されるエポキシ
化合物であるモノマー2.5gを得た。(収率90%) このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第13図に示し、元素分析の結果を下記に示す。
The ester was dissolved in ether, and 4.0 g of benzylamine was added. After reacting by stirring at room temperature for 3 hours,
The extract was washed with diluted hydrochloric acid, washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography to obtain 4.8 g of the desired ester.
(Yield 73%) 7. Synthesis of 4 ″-(1-methylbutyloxycarbonyl) phenyl 4 ′-(10-allyloxydecyloxy) biphenyl-4-carboxylate 4.3 g of the carboxylic acid compound obtained in 7. Then, 3 drops of pyridine and 5.0 g of thionyl chloride were added thereto, and the mixture was stirred for 4 hours at 90 ° C. After the reaction, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure to obtain an acid chloride. The toluene solution of the above acid chloride was added dropwise to a toluene solution containing 0.9 g of pyridine and 0.9 g of pyridine, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day, washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The product was recrystallized from to give 5.4 g of the desired phenylbiphenylcarboxylate (86% yield) 7. Epoxidation 2.7 g of the phenylbiphenylcarboxylate obtained in 7. was dissolved in dichloromethane to form a system. Al After adding 1.0 g of m-chloroperbenzoic acid and stirring at room temperature for 7 hours, the reaction solution was washed with aqueous potassium carbonate solution, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. As a result, 2.5 g of the desired epoxy compound monomer represented by the above structural formula was obtained (yield: 90%). The NMR chart and hydrogen assignment of this epoxy compound are shown in FIG. Is shown below.

元素分析値 C(%) H(%) 計算値 74.00 7.84 実測値 74.2 7.8 〔重合〕 7.で得られたモノマー2.5gをジクロロメタンに溶解
させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二スズ24
μを加え、室温にて30時間重合させた。反応後、反応
液を濃縮してからカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とする下記式で表される繰り返し単位を有する
ポリマー2.1gを得た。(収率84%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第1
4図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第2表に示す。
Elemental analysis value C (%) H (%) Calculated value 74.00 7.84 Actual value 74.2 7.8 [Polymerization] 2.5 g of the monomer obtained in 7. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. There, stannic chloride 24
was added, and the mixture was polymerized at room temperature for 30 hours. After the reaction, the reaction solution was concentrated and then purified by column chromatography to obtain 2.1 g of a desired polymer having a repeating unit represented by the following formula. (Yield 84%) The NMR chart of the obtained polymer and the assignment of hydrogen
FIG. 4 shows the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed in Table 2.

実施例8 〔モノマーの合成〕 8. 4−〔4′−(8−アリルオキシオクチルオキ
シ)フェニル〕フェノールの合成 8−ブロモオクチルアリルエーテル7.0g、4,4′−ジ
フェノール11.0g及び水酸化カリウム8.0gをメタノール
中で20時間還流した。メタノールを減圧留去してからア
セトンを加え、塩酸を滴下した。不溶物を濾過によって
除いてから、溶媒を減圧留去した。残渣をエタノールか
ら再結晶し、目的とするフェノール体7.2gを得た。(収
率72%) 8. 4−(2−メチルブチルオキシ)安息香酸の合成 S−(−)−2−メチルブタノール10.0gをピリジン1
00mlに溶解させ氷冷した。そこへ、p−トルエンスルホ
ニルクロリド26.0gを加え、室温で6時間撹拌した。エ
ーテルを加え、水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、
溶媒を減圧留去して、トシル体を得た。
Example 8 [Synthesis of monomer] 8. Synthesis of 4- [4 '-(8-allyloxyoctyloxy) phenyl] phenol 7.0 g of 8-bromooctyl allyl ether, 11.0 g of 4,4'-diphenol and 8.0 g of potassium hydroxide were dissolved in methanol for 20 minutes. Refluxed for hours. After methanol was distilled off under reduced pressure, acetone was added, and hydrochloric acid was added dropwise. After removing insoluble matter by filtration, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was recrystallized from ethanol to obtain 7.2 g of the desired phenol compound. (Yield 72%) 8. Synthesis of 4- (2-methylbutyloxy) benzoic acid 10.0 g of S-(−)-2-methylbutanol was added to pyridine 1
It was dissolved in 00 ml and cooled on ice. Thereto, 26.0 g of p-toluenesulfonyl chloride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Add ether, wash with water, dry over magnesium sulfate,
The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a tosyl compound.

上記トシル体に、4−ヒドロキシ安息香酸17.0g及び
水酸化カリウム7.4gを加え、メタノール50ml中で14時間
還流した。水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム18.0
gを含む)を加えてさらに5時間還流した。水1を加
え、次いで塩酸を滴下してpH=2とした。生じた沈澱を
集め加熱乾燥し、目的とするカルボン酸体13.3gを得
た。(収率56%) 8. 4″−(8−アリルオキシオクチルオキシ)ビフ
ェニル−4′−イル4−(2メチルブチルオキシ)ベン
ゾエートの合成 8.で得られたカルボン酸体2.4gに塩化チオニル8.0g
を加え、80℃にて3時間加熱撹拌した。反応後、過剰の
塩化チオニルを減圧留去し、酸クロリド体を得た。
To the tosyl compound, 17.0 g of 4-hydroxybenzoic acid and 7.4 g of potassium hydroxide were added, and the mixture was refluxed for 14 hours in 50 ml of methanol. Potassium hydroxide aqueous solution (potassium hydroxide 18.0
g) and refluxed for an additional 5 hours. Water 1 was added and then hydrochloric acid was added dropwise to pH = 2. The resulting precipitate was collected and dried by heating to obtain 13.3 g of the desired carboxylic acid compound. (Yield 56%) 8. Synthesis of 4 ″-(8-allyloxyoctyloxy) biphenyl-4′-yl 4- (2-methylbutyloxy) benzoate 2.4 g of the carboxylic acid obtained in 8. was added to thionyl chloride. 8.0g
Was added and stirred at 80 ° C. for 3 hours. After the reaction, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure to obtain an acid chloride.

8.で得たフェノール体4.0g及びトリエチルアミン1.
3gのTHF溶液に上記酸クロリド体のTHF溶液を滴下し、室
温で1日撹拌した。次いでエーテルを加え水洗し、硫酸
マグネシウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣を
メタノールから再結晶し、目的とするエステル体5.0gを
得た。(収率80%) 8. エポキシ化 8.で得られたエステル体1.2gをジクロロメタンに溶
解させ、系をアルゴン置換した。次いでm−クロロ過安
息香酸0.5gを加え、室温で7時間撹拌した。反応後、反
応液を炭酸カリウム水溶液で洗浄した。硫酸マグネシウ
ム上で乾燥させてから、溶媒を減圧留去し、目的とする
上記の構造式で表されるエポキシ化合物であるモノマー
1.0gを得た。(収率81%) このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第15図に示し、元素分析の結果を下記に示す。
4.0 g of the phenol obtained in step 8 and triethylamine 1.
The THF solution of the above acid chloride was added dropwise to 3 g of the THF solution, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day. Then, ether was added, washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was recrystallized from methanol to obtain 5.0 g of the desired ester. (80% yield) 8. Epoxidation 1.2 g of the ester obtained in 8. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. Then, 0.5 g of m-chloroperbenzoic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. After the reaction, the reaction solution was washed with an aqueous potassium carbonate solution. After drying over magnesium sulfate, the solvent is distilled off under reduced pressure, and the desired monomer which is an epoxy compound represented by the above structural formula
1.0 g was obtained. (Yield 81%) The NMR chart and hydrogen assignment of this epoxy compound are shown in FIG. 15, and the results of elemental analysis are shown below.

元素分析値 C(%) H(%) 計算値 74.97 7.91 実測値 75.0 7.9 〔重合〕 8.で得られたモノマー1.0gをジクロロメタンに溶解
させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二スズ10
μを加え、室温にて30時間重合させた。反応後、反応
液を濃縮してからカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とする下記式で表される繰り返し単位を有する
ポリマー0.6gを得た。(収率60%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第1
6図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第2表に示す。
Elemental analysis value C (%) H (%) Calculated value 74.97 7.91 Actual value 75.0 7.9 [Polymerization] 1.0 g of the monomer obtained in 8. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with argon. There, stannic chloride 10
was added, and the mixture was polymerized at room temperature for 30 hours. After the reaction, the reaction solution was concentrated and purified by column chromatography to obtain 0.6 g of a desired polymer having a repeating unit represented by the following formula. (60% yield) The NMR chart of the obtained polymer and the assignment of hydrogen
FIG. 6 shows the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed in Table 2.

実施例9 〔モノマーの合成〕 9. 4−(2−フルオロヘキシルオキシ)フェノール
の合成 2−フルオロヘキサノール6.0gをピリジンに溶解さ
せ、そこへ、p−トルエンスルホニルクロリド10.0gを
加え、室温で10時間撹拌した。エーテルを加え、水洗
し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去して
トシル体を得た。
Example 9 [Synthesis of monomer] 9. Synthesis of 4- (2-fluorohexyloxy) phenol 6.0 g of 2-fluorohexanol was dissolved in pyridine, 10.0 g of p-toluenesulfonyl chloride was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 10 hours. Ether was added, washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a tosyl compound.

上記トシル体に、ヒドロキノン16.5g及び水酸化カリ
ウム10.0gを加え、メタノール中アルゴン雰囲気で16時
間還流した。塩酸を加え、不溶物を濾過により除き、溶
媒を減圧留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーに
より精製し、目的とするフェノール体7.6gを得た。(収
率72%) 9. 4−(8−アリルオキシオクチルオキシ)安息香
酸4′−(2−フルオロヘキシルオキシ)フェニルエス
テルの合成 4−(8−アリルオキシオクチルオキシ)安息香酸3.
3g、ピリジン3滴及び塩化チオニル8gを、80℃にて3時
間加熱撹拌した。反応後、過剰の塩化チオニルを減圧留
去し、酸クロリド体を得た。
16.5 g of hydroquinone and 10.0 g of potassium hydroxide were added to the tosyl compound, and the mixture was refluxed in methanol in an argon atmosphere for 16 hours. Hydrochloric acid was added, insolubles were removed by filtration, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography to obtain 7.6 g of the desired phenol compound. (Yield 72%) 9. Synthesis of 4- (8-allyloxyoctyloxy) benzoic acid 4 '-(2-fluorohexyloxy) phenyl ester 4- (8-allyloxyoctyloxy) benzoic acid 3.
3 g, 3 drops of pyridine and 8 g of thionyl chloride were heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours. After the reaction, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure to obtain an acid chloride.

9.で得たフェノール体1.9g及びトリエチルアミン1.
2gを含むトルエン溶液に上記酸クロリド体のトルエン溶
液を滴下し、室温で8時間撹拌した。次いで水洗し、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣
をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする
エステル体2.7gを得た。(収率60%) 9. エポキシ化 9.で得られたエステル体2.7gをジクロロメタンに溶
解させ、系を窒素置換した。次いでm−クロロ過安息香
酸1.2gを加え、室温で7時間撹拌した。反応後、反応液
を炭酸カリウム水溶液で洗浄した。硫酸マグネシウム上
で乾燥させてから、溶媒を減圧留去し、目的とする上記
の構造式で表されるエポキシ化合物であるモノマー2.4g
を得た。(収率86%) このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第17図に示し、元素分析の結果を下記に示す。
1.9 g of the phenol obtained in step 9 and triethylamine 1.
The toluene solution of the above acid chloride was added dropwise to a toluene solution containing 2 g, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. Then, it was washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography to obtain 2.7 g of the desired ester. (Yield 60%) 9. Epoxidation 2.7 g of the ester obtained in 9. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with nitrogen. Then, 1.2 g of m-chloroperbenzoic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. After the reaction, the reaction solution was washed with an aqueous potassium carbonate solution. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 2.4 g of a monomer, which is an epoxy compound represented by the above-mentioned structural formula of interest.
I got (Yield: 86%) The NMR chart and hydrogen assignment of this epoxy compound are shown in FIG. 17, and the results of elemental analysis are shown below.

元素分析値 C(%) H(%) F(%) 計算値 69.74 8.00 3.68 実測値 69.8 7.9 3.6 〔重合〕 9.で得られたモノマー2.0gをジクロロメタンに溶解
させ、系を窒素置換した。そこへ、塩化第二スズ23μ
を加え、室温にて30時間重合させた。反応後、反応液を
濃縮してからカラムクロマトグラフィーにより精製し、
目的とする下記式で表される繰り返し単位を有するポリ
マー1.8gを得た。(収率90%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第1
8図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第2表に示す。
Elemental analysis value C (%) H (%) F (%) Calculated value 69.74 8.00 3.68 Observed value 69.8 7.9 3.6 [Polymerization] 2.0 g of the monomer obtained in 9. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with nitrogen. There, stannic chloride 23μ
Was added and polymerized at room temperature for 30 hours. After the reaction, the reaction solution is concentrated and then purified by column chromatography.
1.8 g of the desired polymer having a repeating unit represented by the following formula was obtained. (Yield 90%) The NMR chart of the obtained polymer and the assignment of hydrogen
FIG. 8 shows the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed in Table 2.

実施例10 〔モノマーの合成〕 10. 4−(2−フルオロヘキシルオキシ)フェノー
ルの合成 2−フルオロオクタノール7.4gをピリジンに溶解さ
せ、そこへ、p−トルエンスルホニルクロリド10.0gを
加え、室温で10時間撹拌した。エーテルを加え、水洗
し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去して
トシル体を得た。
Example 10 Synthesis of Monomer 10. Synthesis of 4- (2-fluorohexyloxy) phenol 7.4 g of 2-fluorooctanol was dissolved in pyridine, 10.0 g of p-toluenesulfonyl chloride was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 10 hours. Ether was added, washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a tosyl compound.

上記トシル体と、ヒドロキノン16.5g及び水酸化カリ
ウム10.0gをメタノール中アルゴン雰囲気で16時間還流
した。塩酸を加え、不溶物を濾過により除き、溶媒を減
圧留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにより精
製し、目的とするフェノール体6.5gを得た。(収率54
%) 10. 4−(8−アリルオキシオクチルオキシ)安息
香酸4′−(2−フルオロオクチルオキシ)フェニルエ
ステルの合成 4−(8−アリルオキシオクチルオキシ)安息香酸5.
5g、ピリジン3滴、及び塩化チオニル7gを、80℃にて3
時間加熱撹拌した。反応後、過剰の塩化チオニルを減圧
留去し、酸クロリド体を得た。
The above tosyl compound, 16.5 g of hydroquinone and 10.0 g of potassium hydroxide were refluxed in methanol in an argon atmosphere for 16 hours. Hydrochloric acid was added, insolubles were removed by filtration, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography to obtain 6.5 g of the desired phenol compound. (Yield 54
%) 10. Synthesis of 4- (8-allyloxyoctyloxy) benzoic acid 4 '-(2-fluorooctyloxy) phenyl ester 4- (8-allyloxyoctyloxy) benzoic acid 5.
5 g, 3 drops of pyridine and 7 g of thionyl chloride at 80 ° C.
The mixture was heated and stirred for an hour. After the reaction, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure to obtain an acid chloride.

10.で得たフェノール体3.0g及びトリエチルアミン
2.0gを含むトルエン溶液に上記酸クロリド体のトルエン
溶液を滴下し、室温で8時間撹拌した。次いで水洗し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残
渣をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とす
るエステル体3.4gを得た。(収率51%) 10. エポキシ化 10.で得られたエステル体3.4gをジクロロメタンに
溶解させ、系を窒素置換した。次いでm−クロロ過安息
香酸1.6gを加え、室温で7時間撹拌した。反応後、反応
液を炭酸カリウム水溶液で洗浄した。硫酸マグネシウム
上で乾燥させてから、溶媒を減圧留去し、目的とする上
記の構造式で表されるエポキシ化合物であるモノマー3.
0gを得た。(収率86%) このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第19図に示し、元素分析の結果を下記に示す。
3.0 g of the phenol obtained in step 10 and triethylamine
The toluene solution of the above acid chloride was added dropwise to a toluene solution containing 2.0 g, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. Then wash with water,
After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography to obtain 3.4 g of the desired ester. (Yield 51%) 10. Epoxidation 3.4 g of the ester obtained in step 10 was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with nitrogen. Next, 1.6 g of m-chloroperbenzoic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. After the reaction, the reaction solution was washed with an aqueous potassium carbonate solution. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the desired monomer, an epoxy compound represented by the above structural formula, 3.
0 g was obtained. (Yield: 86%) The NMR chart and hydrogen assignment of this epoxy compound are shown in FIG. 19, and the results of elemental analysis are shown below.

元素分析値 C(%) H(%) F(%) 計算値 70.56 8.33 3.49 実測値 70.7 8.2 3.4 〔重合〕 10.で得られたモノマー3.0gをジクロロメタンに溶
解させ、系を窒素置換した。そこへ、塩化第二スズ30μ
を加え、室温にて30時間重合させた。反応後、反応液
を濃縮してからカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とする下記式で表される繰り返し単位を有する
ポリマー1.9gを得た。(収率63%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第2
0図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第2表に示す。
Elemental analysis value C (%) H (%) F (%) Calculated value 70.56 8.33 3.49 Actual value 70.7 8.2 3.4 [Polymerization] 3.0 g of the monomer obtained in 10. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with nitrogen. There, stannic chloride 30μ
Was added and polymerized at room temperature for 30 hours. After the reaction, the reaction solution was concentrated and purified by column chromatography to obtain 1.9 g of a desired polymer having a repeating unit represented by the following formula. (63% yield) The NMR chart of the obtained polymer and the assignment of hydrogen
FIG. 0 shows the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed in Table 2.

実施例11 〔モノマーの合成〕 11. 14−ブロモテトラデシルアリルエーテルの合成 アリルアルコール2.0g、60%水素化ナトリウム1.7g、
1,14−ジブロモテトラデカン30gを用いて、実施例4の
4.と同様の反応、操作を行い、目的とするω−ハロア
ルキルアリルエーテル7.9gを得た。(収率69%) 11. 4−(14−アリルオキシテトラデシルオキシ)
安息香酸の合成 11.で得たアリルエーテル体7.9g、p−ヒドロキシ
安息香酸メチルエステル3.6g及び水酸化カリウム1.6gを
用いて実施例1の1.と同様の反応、操作を行い、目的
とするカルボン酸体6.8gを得た。(収率74%) 11. 4−(14−アリルオキシテトラデシルオキシ)
安息香酸4′−(2−フルオロヘキシルオキシ)フェニ
ルエステルの合成 4−(14−アリルオキシテトラデシルオキシ)安息香
酸3.9g、ピリジン3滴及び塩化チオニル5.0gを、80℃に
て3時間加熱撹拌した。反応後、過剰の塩化チオニルを
減圧留去し、酸クロリド体を得た。
Example 11 (Synthesis of monomer) 11. Synthesis of 14-bromotetradecyl allyl ether 2.0 g of allyl alcohol, 1.7 g of 60% sodium hydride,
Using 30 g of 1,14-dibromotetradecane,
The same reaction and operation as in 4 were performed to obtain 7.9 g of the desired ω-haloalkyl allyl ether. (Yield 69%) 11. 4- (14-allyloxytetradecyloxy)
Synthesis of benzoic acid Using 7.9 g of the allyl ether compound obtained in 11., 3.6 g of p-hydroxybenzoic acid methyl ester and 1.6 g of potassium hydroxide, the same reaction and operation as in 1. of Example 1 were carried out, 6.8 g of the following carboxylic acid compound was obtained. (Yield 74%) 11. 4- (14-allyloxytetradecyloxy)
Synthesis of 4 '-(2-fluorohexyloxy) phenyl benzoate 4- (14-allyloxytetradecyloxy) benzoic acid (3.9 g), pyridine (3 drops) and thionyl chloride (5.0 g) were heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours. did. After the reaction, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure to obtain an acid chloride.

4−(2−フルオロヘキシルオキシ)フェノール2.4g
及びトリエチルアミン1.1gを含むトルエン溶液に上記酸
クロリド体のトルエン溶液に滴下し、室温で8時間撹拌
した。次いで水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶
媒を減圧留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーに
より精製し、目的とするエステル体3.5gを得た。(収率
58%) 11. エポキシ化 11.で得られたエステル体3.5gをジクロロメタンに
溶解させ、系を窒素置換した。次いでm−クロロ過安息
香酸1.2gを加え、室温で7時間撹拌した。反応後、反応
液を炭酸カリウム水溶液で洗浄した。硫酸マグネシウム
上で乾燥させてから、溶媒を減圧留去し、目的とする上
記の構造式で表されるエポキシ化合物であるモノマー3.
4gを得た。(収率95%) このエポキシ化合物のNMRチャート及び水素の帰属を
第21図に示し、元素分析の結果を下記に示す。
2.4 g of 4- (2-fluorohexyloxy) phenol
And the toluene solution of the above acid chloride compound was dropped into a toluene solution containing 1.1 g of triethylamine and stirred at room temperature for 8 hours. Then, it was washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography to obtain 3.5 g of the desired ester. (yield
58%) 11. Epoxidation 3.5 g of the ester obtained in 11 was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with nitrogen. Then, 1.2 g of m-chloroperbenzoic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. After the reaction, the reaction solution was washed with an aqueous potassium carbonate solution. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the desired monomer, an epoxy compound represented by the above structural formula, 3.
4 g were obtained. (Yield 95%) The NMR chart and hydrogen assignment of this epoxy compound are shown in FIG. 21, and the results of elemental analysis are shown below.

元素分析値 C(%) H(%) F(%) 計算値 73.97 8.89 3.16 実測値 74.0 8.9 3.0 〔重合〕 11.で得られたモノマー3.4gをジクロロメタンに溶
解させ、系を窒素置換した。そこへ、塩化第二スズ30μ
を加え、室温にて30時間重合させた。反応後、反応液
を濃縮してからカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とする下記式で表される繰り返し単位を有する
ポリマー1.8gを得た。(収率54%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第2
2図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第2表に示す。
Elemental analysis value C (%) H (%) F (%) Calculated value 73.97 8.89 3.16 Actual value 74.0 8.9 3.0 [Polymerization] 3.4 g of the monomer obtained in 11. was dissolved in dichloromethane, and the system was replaced with nitrogen. There, stannic chloride 30μ
Was added and polymerized at room temperature for 30 hours. After the reaction, the reaction solution was concentrated and then purified by column chromatography to obtain 1.8 g of a desired polymer having a repeating unit represented by the following formula. (54% yield) The NMR chart of the obtained polymer and the assignment of hydrogen
FIG. 2 shows the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed in Table 2.

実施例12 実施例1で合成したモノマー2.0gと実施例6で合成し
たモノマー3.6gとをジクロロエタンに溶解させ、系をア
ルゴン置換した。そこへ、3フッ化ホウ素(モノマーの
1モル%)を加え、室温にて8時間重合させた。反応
後、反応液を濃縮してからカラムクロマトグラフィーに
より精製し、目的とする下記式で表される繰り返し単位
を有する共重合体4.2gを得た(収率75%) 得られたポリマーのNMRチャート及び水素の帰属を第2
3図に、数平均分子量、相転移挙動、自発分極値、及び
電界応答速度を第2表に示す。
Example 12 2.0 g of the monomer synthesized in Example 1 and 3.6 g of the monomer synthesized in Example 6 were dissolved in dichloroethane, and the system was replaced with argon. Thereto, boron trifluoride (1 mol% of the monomer) was added, and polymerized at room temperature for 8 hours. After the reaction, the reaction solution was concentrated and then purified by column chromatography to obtain 4.2 g of a desired copolymer having a repeating unit represented by the following formula (yield: 75%). The NMR chart of the obtained polymer and the assignment of hydrogen
FIG. 3 shows the number average molecular weight, phase transition behavior, spontaneous polarization value, and electric field response speed in Table 2.

〔発明の効果〕 本発明によると、室温域を含む幅広い温度範囲でカイ
ラルスメクチックC相液晶状態を有し、しかも、光学表
示素子とした場合、外的因子に対する応答速度が著しく
速く、かつコントラスト比も高く、動画表示素子、大画
面、屈曲画面等にも好適に用いることができるなど、実
用上著しく優れた利点を有する液晶性ポリマーを提供す
ることができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, a chiral smectic C phase liquid crystal state is obtained in a wide temperature range including a room temperature range, and when an optical display device is used, the response speed to external factors is remarkably fast, and the contrast ratio is high. Therefore, it is possible to provide a liquid crystalline polymer having remarkably excellent practical advantages, for example, it can be suitably used for a moving image display element, a large screen, a curved screen, and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は実施例1で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第2図は実施例1で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第3図は実施例2で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第4図は実施例2で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第5図は実施例3で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第6図は実施例3で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第7図は実施例4で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第8図は実施例4で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第9図は実施例5で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第10図は実施例5で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第11図は実施例6で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第12図は実施例6で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第13図は実施例7で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第14図は実施例7で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第15図は実施例8で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第16図は実施例8で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第17図は実施例9で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第18図は実施例9で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第19図は実施例10で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第20図は実施例10で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第21図は実施例11で得られたエポキシ化合物のNMRチャ
ートであり、第22図は実施例11で得られた液晶性ポリマ
ーのNMRチャートである。 第23図は実施例12で得られた液晶性ポリマーのNMRチャ
ートである。
FIG. 1 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 1, and FIG. 2 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 1. FIG. 3 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 2, and FIG. 4 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 2. FIG. 5 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 3, and FIG. 6 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 3. FIG. 7 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 4, and FIG. 8 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 4. FIG. 9 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 5, and FIG. 10 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 5. FIG. 11 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 6, and FIG. 12 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 6. FIG. 13 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 7, and FIG. 14 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 7. FIG. 15 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 8, and FIG. 16 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 8. FIG. 17 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 9, and FIG. 18 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 9. FIG. 19 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 10, and FIG. 20 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 10. FIG. 21 is an NMR chart of the epoxy compound obtained in Example 11, and FIG. 22 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 11. FIG. 23 is an NMR chart of the liquid crystalline polymer obtained in Example 12.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−190208(JP,A) 特開 昭62−190223(JP,A) 特開 昭62−201419(JP,A) 特開 昭59−199649(JP,A) 特開 昭63−264629(JP,A) 特開 平1−156971(JP,A) 特開 平1−131234(JP,A) 特開 平1−284522(JP,A) 特開 昭63−113526(JP,A) 特開 平2−60924(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 65/00 - 65/48 C09K 19/00 - 19/60 REGISTRY(STN) CA(STN)Continuation of the front page (56) References JP-A-62-190208 (JP, A) JP-A-62-190223 (JP, A) JP-A-62-201419 (JP, A) JP-A-59-199649 (JP, A) JP-A-63-264629 (JP, A) JP-A-1-156971 (JP, A) JP-A-1-131234 (JP, A) JP-A-1-284522 (JP, A) 63-113526 (JP, A) JP-A-2-60924 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C08G 65/00-65/48 C09K 19/00-19 / 60 REGISTRY (STN) CA (STN)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】下記一般式からなる繰り返し単位を有する
液晶性ポリマー。 (式中、kは2〜30の整数であり、 R1 であり、 Xは−COO−又は−OCO−であり、 R2は−COOR3、−OCOR3又は−OR3であり、 R3であり R4及びR5はそれぞれ−CH3、ハロゲン原子又は−CNであ
り、 m及びnはそれぞれ0〜10の整数であり、ただしR4が−
CH3である場合にはnは0ではなく、 pは0又は1であり、 *のついたCは不斉炭素原子である。)
1. A liquid crystalline polymer having a repeating unit represented by the following general formula. (Where k is an integer of 2 to 30, R 1 is In, X is -COO- or -OCO-, R 2 is -COOR 3, a -OCOR 3 or -OR 3, R 3 is Wherein R 4 and R 5 are each —CH 3 , a halogen atom or —CN, m and n are each an integer of 0 to 10, provided that R 4 is-
In the case of CH 3 , n is not 0, p is 0 or 1, and C marked with * is an asymmetric carbon atom. )
【請求項2】下記一般式からなる構造を有するエポキシ
化合物。 (式中、kは2〜30の整数であり、 R1 であり、 Xは−COO−又は−OCO−であり、 R2は−COOR3、−OCOR3又は−OR3であり、 であり、 R4及びR5はそれぞれ−CH3、ハロゲン原子又は−CNであ
り、 m及びnはそれぞれ0〜10の整数であり、ただしR4が−
CH3である場合にはnは0ではなく、 pは0又は1であり、 *のついたCは不斉炭素原子である。)
2. An epoxy compound having a structure represented by the following general formula. (Where k is an integer of 2 to 30, R 1 is In, X is -COO- or -OCO-, R 2 is -COOR 3, a -OCOR 3 or -OR 3, R 4 and R 5 are each —CH 3 , a halogen atom or —CN, m and n are each an integer of 0 to 10, provided that R 4 is —
In the case of CH 3 , n is not 0, p is 0 or 1, and C marked with * is an asymmetric carbon atom. )
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